JPS60100450A - 半導体ウエーハ装着及び切断装置 - Google Patents
半導体ウエーハ装着及び切断装置Info
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- JPS60100450A JPS60100450A JP58207496A JP20749683A JPS60100450A JP S60100450 A JPS60100450 A JP S60100450A JP 58207496 A JP58207496 A JP 58207496A JP 20749683 A JP20749683 A JP 20749683A JP S60100450 A JPS60100450 A JP S60100450A
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- Y10T225/30—Breaking or tearing apparatus
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
- Dicing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体ウェーハをフレームに装着し、次いで
フレームに装着されたウェーハを所要通9に切断するた
めの半導体ウェーハ装着及び切断システムに関する。
フレームに装着されたウェーハを所要通9に切断するた
めの半導体ウェーハ装着及び切断システムに関する。
周知の如く、半導体デバイスの製造においては、半導体
ウェーハの表面に多数の回路パターン金施す。かかる回
路パターンは、一般に、格子状に配列された多数の直線
状領域(通常、ストリートと称されている)によって区
画された多数の矩形領域の各々に施される。次いで、上
記回路パターンの各々が所要通りのものであるか否かを
検査する所謂ブロービング工程が遂行される。しかる後
に、ウェーハを上記直線状領域に沿って切断し、上記矩
形領域を個々に分離する(個々に分離された矩形領域は
、通常、チップと称されている)切断工程が遂行される
。そして更に、個々に分離された上記矩形領域を基板乃
至パッケージに固定する所謂ダイ−ボンディング等の工
程が遂行される。
ウェーハの表面に多数の回路パターン金施す。かかる回
路パターンは、一般に、格子状に配列された多数の直線
状領域(通常、ストリートと称されている)によって区
画された多数の矩形領域の各々に施される。次いで、上
記回路パターンの各々が所要通りのものであるか否かを
検査する所謂ブロービング工程が遂行される。しかる後
に、ウェーハを上記直線状領域に沿って切断し、上記矩
形領域を個々に分離する(個々に分離された矩形領域は
、通常、チップと称されている)切断工程が遂行される
。そして更に、個々に分離された上記矩形領域を基板乃
至パッケージに固定する所謂ダイ−ボンディング等の工
程が遂行される。
上記切断工程においては、一般に、ウェーッ1の切断に
先立ってウェーッ1をフレームに装着する。
先立ってウェーッ1をフレームに装着する。
かかるフレームは通常ウェーハよシも大きい面積を有す
る開口を有し、かかる開口内にウェーッ・を位置せしめ
て、フレームとウェーッ1に跨って両者の裏面にテープ
を貼着することによって、ウェーハをフレームに装着す
る。しかる後に、ウェーッ)と上記直線状領域に沿って
切断する。かかる切断は、上記テープを切断することな
くウェーッ・のみを切断し、それ故に、ウェーッーは上
記矩形領域の各々に分離せしめられるが、上記矩形領域
の各々は、別個に分散されることなく、上記テープによ
って切断前の位置に保持される、 而して、上述した通9の半導体デ/くイスの製造工程の
遂行においては、種々の特性のウェーッ・が任意に送給
されてもこれに適切に対処し得るように、各工程におい
て実際に処理すべきウェーッ\の特性を的確に認識して
各工程の遂行を制御することが重要である。例えば、上
記切断工程におけるウェーハの切断においては、ウェー
ッ・自体の寸法及び回路パターンの寸法(従って上記直
線状領域の間隔)等の特性全的確に認識することが重要
でおる。また、上記ダイ・ボンディング工程においては
、一般に、上述した特性に加えて、回路ノくターンの種
類(そして寸だ上記ブロービング工程における結果)を
的確に認識することが重要である。
る開口を有し、かかる開口内にウェーッ・を位置せしめ
て、フレームとウェーッ1に跨って両者の裏面にテープ
を貼着することによって、ウェーハをフレームに装着す
る。しかる後に、ウェーッ)と上記直線状領域に沿って
切断する。かかる切断は、上記テープを切断することな
くウェーッ・のみを切断し、それ故に、ウェーッーは上
記矩形領域の各々に分離せしめられるが、上記矩形領域
の各々は、別個に分散されることなく、上記テープによ
って切断前の位置に保持される、 而して、上述した通9の半導体デ/くイスの製造工程の
遂行においては、種々の特性のウェーッ・が任意に送給
されてもこれに適切に対処し得るように、各工程におい
て実際に処理すべきウェーッ\の特性を的確に認識して
各工程の遂行を制御することが重要である。例えば、上
記切断工程におけるウェーハの切断においては、ウェー
ッ・自体の寸法及び回路パターンの寸法(従って上記直
線状領域の間隔)等の特性全的確に認識することが重要
でおる。また、上記ダイ・ボンディング工程においては
、一般に、上述した特性に加えて、回路ノくターンの種
類(そして寸だ上記ブロービング工程における結果)を
的確に認識することが重要である。
かような事実に鑑み、当業者には周知の如く、ウェーハ
の表面には、一般に、上記回路ノくターンに加えて、ウ
ェーッーの特性を示す表示(ウェーッ・自体及び施され
た回路パターンの特性と共に、製造番号をも含む場合が
多い)も施されている。従って、かかる表示を適切に検
出することができれば、ウェーハの特性を的確に認識す
ることができる。
の表面には、一般に、上記回路ノくターンに加えて、ウ
ェーッーの特性を示す表示(ウェーッ・自体及び施され
た回路パターンの特性と共に、製造番号をも含む場合が
多い)も施されている。従って、かかる表示を適切に検
出することができれば、ウェーハの特性を的確に認識す
ることができる。
しかしながら、上記表示の検出に関して次の事実が注目
されねばならない。即ち、ウェーハの無駄に消費される
部分を最小限度にせしめる等の見地から、上記表示はウ
ェーハの比較的小さい特定の部分に比較的高密度で施さ
れているが、上述したウェーハの切断の際には上記表示
が施されている特定の部分も切断されて2個又はそれ以
上の部分に分離される等に起因して、ウェーハの切断の
後においては、上記表示の適切な検出が不可能乃至著し
く困難になる。従って、上記切断工程の後においては、
ウェーハの特性を的確に認識することが不可能乃至著し
く困難でオシ、これによって、ウェーハ製造の自動化及
び高能率化等が著しく阻害されていた。
されねばならない。即ち、ウェーハの無駄に消費される
部分を最小限度にせしめる等の見地から、上記表示はウ
ェーハの比較的小さい特定の部分に比較的高密度で施さ
れているが、上述したウェーハの切断の際には上記表示
が施されている特定の部分も切断されて2個又はそれ以
上の部分に分離される等に起因して、ウェーハの切断の
後においては、上記表示の適切な検出が不可能乃至著し
く困難になる。従って、上記切断工程の後においては、
ウェーハの特性を的確に認識することが不可能乃至著し
く困難でオシ、これによって、ウェーハ製造の自動化及
び高能率化等が著しく阻害されていた。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであシ、その主
目的は、ウェーハの切断の後においても、容易且つ的確
にウェーッ・の特性全認識することを可能にし、かくし
てウェーハ製造の自動化及び高能率化等の実現を可能に
することである。
目的は、ウェーハの切断の後においても、容易且つ的確
にウェーッ・の特性全認識することを可能にし、かくし
てウェーハ製造の自動化及び高能率化等の実現を可能に
することである。
本発明者は、鋭意検討の結果、ウェーッ・の切断工程に
使用されるところの、ウェーッ・をフレームに装着し、
次いでフレームに装着されたウェーッ・を所要通シに切
断するための半導体ウェーッ・装着及び切断システムに
おいて、フY−ムに施された又は施される識別表示とフ
レームに装着された又は装着前れるウェーッ・の特性と
の相対関係を確立し、かかる相互関係を記憶するように
なせば、それ以後においては、フレームの識別表示全検
出することによってウェーハの特性を容易且つ適確に認
識することができ、上記主目的を達成することができる
ことを見出した。
使用されるところの、ウェーッ・をフレームに装着し、
次いでフレームに装着されたウェーッ・を所要通シに切
断するための半導体ウェーッ・装着及び切断システムに
おいて、フY−ムに施された又は施される識別表示とフ
レームに装着された又は装着前れるウェーッ・の特性と
の相対関係を確立し、かかる相互関係を記憶するように
なせば、それ以後においては、フレームの識別表示全検
出することによってウェーハの特性を容易且つ適確に認
識することができ、上記主目的を達成することができる
ことを見出した。
即ち、本発明によれば、半導体ウェー71をフレームに
装着するためのウェーハ装着装置と、該ウェーハ装着装
置から送出される該フレーム及びこれに装着された該ウ
ェーハを受取シ該つエーノ\を所要通シに切断するウェ
ーハ切断装置とを含む、半導体ウェーハ装着及び切断シ
ステムにおいて:該フレームに施された又は施される識
別表示と該フレームに装着された又は装着される該ウェ
ーハの特性との相対関係を示す相対関係信号全生成する
相対関係信号生成手段と、 該相対関係信号生成手段が生成する該相対関係信号を記
憶する記憶手段と、 を具備することを特徴とする半導体ウェーハ装着及び切
断システムが提供される。
装着するためのウェーハ装着装置と、該ウェーハ装着装
置から送出される該フレーム及びこれに装着された該ウ
ェーハを受取シ該つエーノ\を所要通シに切断するウェ
ーハ切断装置とを含む、半導体ウェーハ装着及び切断シ
ステムにおいて:該フレームに施された又は施される識
別表示と該フレームに装着された又は装着される該ウェ
ーハの特性との相対関係を示す相対関係信号全生成する
相対関係信号生成手段と、 該相対関係信号生成手段が生成する該相対関係信号を記
憶する記憶手段と、 を具備することを特徴とする半導体ウェーハ装着及び切
断システムが提供される。
フレームの識別表示は、所望ならばフレームにウェーハ
を装着する際或いはその前又は後にフレームに施すこと
もできるが、予めフレームに施しておくのが好ましい。
を装着する際或いはその前又は後にフレームに施すこと
もできるが、予めフレームに施しておくのが好ましい。
そして、上記ウェーッ・切断装置によってウェーハが切
断される前に、ウェーハの特性を検出してこれに対応し
た特性信号を生成するウェー7・検出手段と、フレーム
の上記識別表示を検出してこれに対応した識別表示信号
を生成するフレーム検出手段とが政けられており、上記
相対関係信号生成手段は、上記特性信号と上記識別表示
信号とに基いて上記相対関係信号全生成するように構成
されているのが好ましい。
断される前に、ウェーハの特性を検出してこれに対応し
た特性信号を生成するウェー7・検出手段と、フレーム
の上記識別表示を検出してこれに対応した識別表示信号
を生成するフレーム検出手段とが政けられており、上記
相対関係信号生成手段は、上記特性信号と上記識別表示
信号とに基いて上記相対関係信号全生成するように構成
されているのが好ましい。
以下、本発明に従って構成された半導体ウェーハ装着及
び切断システムの一具体例について、添付図面を参照し
て詳細に説明する。
び切断システムの一具体例について、添付図面を参照し
て詳細に説明する。
第1図を参照して説明すると、・全体を番号2で示す本
発明に従って構成された図示の半導体ウェーハ装着及び
切断システムは、1台のウェーI・装着装置4と、2台
のウェーッー切断装置6A及び6Bと、システム制御手
段8とを含んでいる。ウェーハ装着装置4は、後に詳述
する如く、半導体ウェーハをフレームに装着する。フレ
ーム及びこれに装着されたウェーハは、搬送手段10に
よってウェーハ装着装置4から分岐点12に搬送され、
そして更に、搬送手段14によってウェーハ切断装置6
Aに或いは搬送手段16によってウェーハ切断装置6B
に搬送される。ウェーハ切断装置6A及び6Bの各々は
、後に詳述する如く、ウェーハを所要通シに切断する。
発明に従って構成された図示の半導体ウェーハ装着及び
切断システムは、1台のウェーI・装着装置4と、2台
のウェーッー切断装置6A及び6Bと、システム制御手
段8とを含んでいる。ウェーハ装着装置4は、後に詳述
する如く、半導体ウェーハをフレームに装着する。フレ
ーム及びこれに装着されたウェーハは、搬送手段10に
よってウェーハ装着装置4から分岐点12に搬送され、
そして更に、搬送手段14によってウェーハ切断装置6
Aに或いは搬送手段16によってウェーハ切断装置6B
に搬送される。ウェーハ切断装置6A及び6Bの各々は
、後に詳述する如く、ウェーハを所要通シに切断する。
フレーム及びこれに装着されたウェーハは、更に、ウェ
ーハ切断装置6人及び6Bから夫々搬送手段18及び2
0によって搬出されて、適宜のウェーハ収集域(図示し
ていない)或いはウェーハに次の所要処理(例えばダイ
・ボンディング)を施す処理手段(図示していない)に
送られる。マイクロプロセッサから構成することができ
るシステム制御手段8は、ウェーハ装着装置4の作動と
ウェーッー切断装置6A及び6Bの作動とを相互に所要
通シに胸連せしめると共に、搬送手段10,14,16
,18及び20の作動を所要通シに制御する。
ーハ切断装置6人及び6Bから夫々搬送手段18及び2
0によって搬出されて、適宜のウェーハ収集域(図示し
ていない)或いはウェーハに次の所要処理(例えばダイ
・ボンディング)を施す処理手段(図示していない)に
送られる。マイクロプロセッサから構成することができ
るシステム制御手段8は、ウェーハ装着装置4の作動と
ウェーッー切断装置6A及び6Bの作動とを相互に所要
通シに胸連せしめると共に、搬送手段10,14,16
,18及び20の作動を所要通シに制御する。
図示のウェーハ装着装置4は、ウェーッ・域22、フレ
ーム域24及び装着作業域26全備えている。
ーム域24及び装着作業域26全備えている。
ウェーハ域22には、自動的に又は手動によシ装填され
た複数枚のウェーッ・が存在し、フレーム域24には、
自動的に又は手動により装填された複数枚のフレームが
存在する。ウェーッ・装着装置4はマイクロプロセッサ
から構成することができる制御手段28も備えておシ、
ウェーッ・装填装置4自体の作動はこの制御手段28に
よって制御される。かようなウェーハ装着装置4におい
ては、フレーム域24から順次に1枚のフレームが装着
作業域26に供給されると共に、これに対応してウェー
ハ域22から順次に1枚のウェーッ\が装着作業域26
に供給され、そして装着作業域26においてウェーハが
フレームに所要の通シに装着される。第2図は、ウェー
ハ域22から装着作業域26に供給されるウェーッ・W
の一例を図示している。
た複数枚のウェーッ・が存在し、フレーム域24には、
自動的に又は手動により装填された複数枚のフレームが
存在する。ウェーッ・装着装置4はマイクロプロセッサ
から構成することができる制御手段28も備えておシ、
ウェーッ・装填装置4自体の作動はこの制御手段28に
よって制御される。かようなウェーハ装着装置4におい
ては、フレーム域24から順次に1枚のフレームが装着
作業域26に供給されると共に、これに対応してウェー
ハ域22から順次に1枚のウェーッ\が装着作業域26
に供給され、そして装着作業域26においてウェーハが
フレームに所要の通シに装着される。第2図は、ウェー
ハ域22から装着作業域26に供給されるウェーッ・W
の一例を図示している。
一般ニオリエンテーションフラットと称されている直線
状縁部30を除いて実質上円板形状であるウェーハWの
表面には、格子状に配列された多数の直線状領域(ス)
Q −) ) 32が存在し、かかる多数の直線状領
域32によって多数の矩形領域34が区画されている。
状縁部30を除いて実質上円板形状であるウェーハWの
表面には、格子状に配列された多数の直線状領域(ス)
Q −) ) 32が存在し、かかる多数の直線状領
域32によって多数の矩形領域34が区画されている。
そして、かかる多数の矩形領域34の各々には、所要の
回路パターンが施されている。加えて、図示のウェーッ
ーWにおいては、上記直線状縁部30に隣接して比較的
小さい表示領域36が存在し、かかる表示領域36には
、ウェーハWの特性を示す表示38が施されている。
回路パターンが施されている。加えて、図示のウェーッ
ーWにおいては、上記直線状縁部30に隣接して比較的
小さい表示領域36が存在し、かかる表示領域36には
、ウェーハWの特性を示す表示38が施されている。
かかる表示38は、一般に、ウェー/’W自体の寸法及
び/又は施されている回路パターンの程類、寸法(従っ
て上記直線状領域32の間隔)等の特性と共に、連続製
造番号を示している。表示38自体は、例えば数字、文
字或いはその仙の符号でよい。一方、第3図は、フレー
ム域24から装着作業域26に供給されるフレームFの
一例を図示している。図示のフレームFは、略方形の外
形を有する板状体から構成されている。かかるフレーム
Fの中央部には、上述したウェーッSWよりも大きい面
積を有する円形の開口40が形成されている。また、フ
レームFの周縁には、フレームFの搬送及び位置付けに
利用され得る柚りの切欠き42が形成されている。ウェ
ーハ装着装置4の上記装着作業域26においては、第4
図に図示する如く、フレームFの開口40内にウェーッ
SWが位置付けられる。そして、フレームFとウェーッ
ーw とKl?つてフレームFとウェーハWとの裏面に
テープTが貼着され、かくしてウェーッ・Wがフレーム
Fに装着される。かようなウェーハ装着方式に代えて、
例えば、フレーム域24においてフレームFの裏面に予
めテープTを貼着しておき、装着作業域26においてフ
レームFの開口40(この開口40にはテープTが存在
している)内にウェーハWを位置付けることによってウ
ェーハWの裏面にもテープTを貼着せしめるウェーハ装
着方式を採用することもできる。上述した通シのウェー
ハ装着装置4自体の構成及び作用は、本発明に従って構
成された半導体ウェーハ装着及び切断システム2の新規
な特徴を構成するものではなく、不発明に従って構成さ
れた半導体ウェーハ装着及び切断システム2においては
、種々の形態のウェーハ装着装置4を採用することがで
き、それ故に、ウェーハ装着装置4自体の構成及び作用
についての詳細な説明は、本明細書においては省略する
。
び/又は施されている回路パターンの程類、寸法(従っ
て上記直線状領域32の間隔)等の特性と共に、連続製
造番号を示している。表示38自体は、例えば数字、文
字或いはその仙の符号でよい。一方、第3図は、フレー
ム域24から装着作業域26に供給されるフレームFの
一例を図示している。図示のフレームFは、略方形の外
形を有する板状体から構成されている。かかるフレーム
Fの中央部には、上述したウェーッSWよりも大きい面
積を有する円形の開口40が形成されている。また、フ
レームFの周縁には、フレームFの搬送及び位置付けに
利用され得る柚りの切欠き42が形成されている。ウェ
ーハ装着装置4の上記装着作業域26においては、第4
図に図示する如く、フレームFの開口40内にウェーッ
SWが位置付けられる。そして、フレームFとウェーッ
ーw とKl?つてフレームFとウェーハWとの裏面に
テープTが貼着され、かくしてウェーッ・Wがフレーム
Fに装着される。かようなウェーハ装着方式に代えて、
例えば、フレーム域24においてフレームFの裏面に予
めテープTを貼着しておき、装着作業域26においてフ
レームFの開口40(この開口40にはテープTが存在
している)内にウェーハWを位置付けることによってウ
ェーハWの裏面にもテープTを貼着せしめるウェーハ装
着方式を採用することもできる。上述した通シのウェー
ハ装着装置4自体の構成及び作用は、本発明に従って構
成された半導体ウェーハ装着及び切断システム2の新規
な特徴を構成するものではなく、不発明に従って構成さ
れた半導体ウェーハ装着及び切断システム2においては
、種々の形態のウェーハ装着装置4を採用することがで
き、それ故に、ウェーハ装着装置4自体の構成及び作用
についての詳細な説明は、本明細書においては省略する
。
而して、本発明に従って構成された図示の半導体ウェー
ハ装着及び切断システム2においては、上記ウェーハ装
着装置4のフレーム域24に装填されるフレームFには
、第3図及び第4図に図示する如く、識別表示44が予
め施されている。がかる識別表示44は、使用されるフ
レームFに順次に付される通し番号を示すものでよく、
例えば、フレームFの表面に付されたバーコードでよい
。
ハ装着及び切断システム2においては、上記ウェーハ装
着装置4のフレーム域24に装填されるフレームFには
、第3図及び第4図に図示する如く、識別表示44が予
め施されている。がかる識別表示44は、使用されるフ
レームFに順次に付される通し番号を示すものでよく、
例えば、フレームFの表面に付されたバーコードでよい
。
容易に理解される如く、フレームFに識別表示44を施
すことによって、フレームFに装着されるウェーハWが
悪影響を受けることはなく、そしてまたフレームFには
識別表示44を施すことができる充分に大きな部位が存
在し、それ故に、特に制限を受けることなく充分容易に
且つ確実に検出することができる識別表示44をフレー
ムFに施すことができる。
すことによって、フレームFに装着されるウェーハWが
悪影響を受けることはなく、そしてまたフレームFには
識別表示44を施すことができる充分に大きな部位が存
在し、それ故に、特に制限を受けることなく充分容易に
且つ確実に検出することができる識別表示44をフレー
ムFに施すことができる。
本発明に従って構成された図示の半導体ウェーハ装着及
び切断システム2においては、上記ウェ−ハ装着装置4
のウェーッル域22に関連せしめてウェーハ検出手段4
6が設けられている。このウェーハ検出手段46は、ウ
ェーッ・域22に存在するウェーハWのうちの次に装着
作業域26に供給されるウェーハWにおける上記表示3
8(第2図)を検出して、上記表示38に対応した、従
ってウェーハWの特性に対応した特性信号を生成し、か
かる特性信号をウェーハ装着装置4に内蔵されている上
記制御手段28に供給する。かようなウェーハ検出手段
46は、それ自体は周知の光学的検出器から構成するこ
とができる。
び切断システム2においては、上記ウェ−ハ装着装置4
のウェーッル域22に関連せしめてウェーハ検出手段4
6が設けられている。このウェーハ検出手段46は、ウ
ェーッ・域22に存在するウェーハWのうちの次に装着
作業域26に供給されるウェーハWにおける上記表示3
8(第2図)を検出して、上記表示38に対応した、従
ってウェーハWの特性に対応した特性信号を生成し、か
かる特性信号をウェーハ装着装置4に内蔵されている上
記制御手段28に供給する。かようなウェーハ検出手段
46は、それ自体は周知の光学的検出器から構成するこ
とができる。
本発明に従って構成された図示の半導体ウェーハ装着及
び切断システム2においては、更に、上記分岐点12に
関連せしめてフレーム検出手段48が設けられている。
び切断システム2においては、更に、上記分岐点12に
関連せしめてフレーム検出手段48が設けられている。
このフレーム検出手段48は、上記搬送手段10によっ
て分岐点12に搬送されたフレームF及びこれに装着さ
れたウェーッSWのうちのフレームFに施されている上
記識別表示44を検出して、上記識別表示44に対応し
た識別表示信号を生成し、かかる識別表示信号をウェー
ッ・装着装置4に内蔵されている上記制御手段28に供
給する。かかるフレーム検出器48は、上記識別表示4
4がバーコードである場合には、それ自体は周知の光学
的バーコード検出器から構成することができる。
て分岐点12に搬送されたフレームF及びこれに装着さ
れたウェーッSWのうちのフレームFに施されている上
記識別表示44を検出して、上記識別表示44に対応し
た識別表示信号を生成し、かかる識別表示信号をウェー
ッ・装着装置4に内蔵されている上記制御手段28に供
給する。かかるフレーム検出器48は、上記識別表示4
4がバーコードである場合には、それ自体は周知の光学
的バーコード検出器から構成することができる。
上記ウェーハ検出手段46が生成する特性信号と上記フ
レーム検出手段48が生成する識別表示信号とは、上述
した如く、ウェーッー装着装置4に内蔵されている制御
手段28に供給され、そして制御手段28は、上記特性
信号と上記識別表示信号とに基いて、フレームFの識別
表示44とこのフレームFに装着されたウェーッーWの
表示38、即ちウェーハWの特性との相対関係を示す相
対関係信号を生成する。従って、図示の具体例において
は、制御手段28は、ウェーハ装着装置4の作動を制御
する制御手段として機能すると共に、ウェーハ検出手段
46から供給される特性信号とフレーム検出手段48か
ら供給され為識別表示信号とを所要通シに関連せしめて
(即ち特定のウェーハWの特性信号とこの特定のウェー
ハWが装着されるフレームFI:l)識別表示信号とを
関連せしめて)両者の相対関係を示す相対関係信号を生
成する相対関係信号生成手段としても機能する。制御手
段28が生成する上記相対関係信号は、システム制御手
段8に内蔵されている記憶手段50に供給され、そこに
記憶される。かくして、記憶手段50には、ウェーハ装
着装置4の装着作業域26において次々に組合せられる
ところのフレームFの識別表示44とウェーハWの!性
との相対関係リストが記憶される。
レーム検出手段48が生成する識別表示信号とは、上述
した如く、ウェーッー装着装置4に内蔵されている制御
手段28に供給され、そして制御手段28は、上記特性
信号と上記識別表示信号とに基いて、フレームFの識別
表示44とこのフレームFに装着されたウェーッーWの
表示38、即ちウェーハWの特性との相対関係を示す相
対関係信号を生成する。従って、図示の具体例において
は、制御手段28は、ウェーハ装着装置4の作動を制御
する制御手段として機能すると共に、ウェーハ検出手段
46から供給される特性信号とフレーム検出手段48か
ら供給され為識別表示信号とを所要通シに関連せしめて
(即ち特定のウェーハWの特性信号とこの特定のウェー
ハWが装着されるフレームFI:l)識別表示信号とを
関連せしめて)両者の相対関係を示す相対関係信号を生
成する相対関係信号生成手段としても機能する。制御手
段28が生成する上記相対関係信号は、システム制御手
段8に内蔵されている記憶手段50に供給され、そこに
記憶される。かくして、記憶手段50には、ウェーハ装
着装置4の装着作業域26において次々に組合せられる
ところのフレームFの識別表示44とウェーハWの!性
との相対関係リストが記憶される。
上述した如く、ウェーハ装着装置4から搬送手段10に
よって分岐点12に搬送されたフレームF及びこれに装
着されたウェーッSWは、システム制御手段8の制御に
応じて、更に、搬送手段14によってウェーハ切断装置
6Aに搬入され或いは搬送手段16によってウェーハ切
断装置6BK搬入される。ウェーハ切断装置6A及び6
Bの各々は、受取ったフレームF及びこれに装着された
ウェーハWにおけるウェーハWを、上記直線状領域32
に沿って切断し、かくして矩形領域34の各々に分離す
る(第2図)。しかしながら、チーブTは切断されず、
従ってウェーハWは矩形領域34ρ各々に分離せしめら
れるが、矩形領域34の各々は、別個に分散されること
なく、チーブTによって切断前の位置に保持される。ウ
ェーッ・切断装置6A及び6B自体は、例えは回転ダイ
ヤモンドブレードでよい切断手段(図示していない)を
具備した公知の形態のものでよい。図示のウェー/−切
断装置6A及び6Bの各々は夫々、マイクロプロセッサ
から構成することができる制御手段52A及び52Bも
備えておシ、ウェーハ切断後a6h。
よって分岐点12に搬送されたフレームF及びこれに装
着されたウェーッSWは、システム制御手段8の制御に
応じて、更に、搬送手段14によってウェーハ切断装置
6Aに搬入され或いは搬送手段16によってウェーハ切
断装置6BK搬入される。ウェーハ切断装置6A及び6
Bの各々は、受取ったフレームF及びこれに装着された
ウェーハWにおけるウェーハWを、上記直線状領域32
に沿って切断し、かくして矩形領域34の各々に分離す
る(第2図)。しかしながら、チーブTは切断されず、
従ってウェーハWは矩形領域34ρ各々に分離せしめら
れるが、矩形領域34の各々は、別個に分散されること
なく、チーブTによって切断前の位置に保持される。ウ
ェーッ・切断装置6A及び6B自体は、例えは回転ダイ
ヤモンドブレードでよい切断手段(図示していない)を
具備した公知の形態のものでよい。図示のウェー/−切
断装置6A及び6Bの各々は夫々、マイクロプロセッサ
から構成することができる制御手段52A及び52Bも
備えておシ、ウェーハ切断後a6h。
及び6Bの各々自体の作動は、夫々1制御手段52A及
び52Bによって制御される。而して、ウェーハ切断装
置6A及び6Bの作動は、切断すべきウェーハWの特性
に応じて制御されることが重要である。例えば、ウェー
ハWの特性の相異はウェーハWの寸法及び/又は回路パ
ターンの寸法(従って、上記直線状領域320間隔)の
相異を含み、従って、ウェーハ切断装置6A及び6Bに
おける切断手段とウェーハWとの相対的位置付は等がウ
ェーハWの特性に応じて適切に遂行されねばならない。
び52Bによって制御される。而して、ウェーハ切断装
置6A及び6Bの作動は、切断すべきウェーハWの特性
に応じて制御されることが重要である。例えば、ウェー
ハWの特性の相異はウェーハWの寸法及び/又は回路パ
ターンの寸法(従って、上記直線状領域320間隔)の
相異を含み、従って、ウェーハ切断装置6A及び6Bに
おける切断手段とウェーハWとの相対的位置付は等がウ
ェーハWの特性に応じて適切に遂行されねばならない。
図示の半導体ウェーッ・装着及び切断システム2におい
ては、システム制御手段8は、フレームF及びこれに装
着されたウェー/SWf分岐点12からウェーハ切断後
[6A又は6Bのいずれに搬入するかを制御すると共に
、ウェーハ切断装置6A又は6Bに搬入されるフレーム
F及びこれに装着されたウェーハWにおけるウェーハW
の%性に関する情報を記憶手段50から抽出して、ウェ
ーハ切断後置6A又は6Bの制御手段52A又は52B
に送給する。かくして、制御手段52A又は52Bは、
システム制御手段8から送給される上記ウェーハWの特
性に関する情報に基いて、ウェーハ切断装置6A又は6
Bの作動を切断すべきウェーハWの特性に応じて所要通
シに制御する。尚、ウェーハ切断装置6A及び6B自体
の構成及び作用は、本発明に従って構成された半導体ウ
ェーハ装着及び切断システムの新規な特徴を構成するも
のではなく、本発明に従って構成された半導体ウェーハ
装着及び切断システムにおいては、植々の形態のウェー
ハ切断装置6人及び6Bを採用することができ、それ故
に、ウェーハ切断装置6A及び6B自体の構成及び作用
についてめ詳細な説明は、本明細書においては省略する
。
ては、システム制御手段8は、フレームF及びこれに装
着されたウェー/SWf分岐点12からウェーハ切断後
[6A又は6Bのいずれに搬入するかを制御すると共に
、ウェーハ切断装置6A又は6Bに搬入されるフレーム
F及びこれに装着されたウェーハWにおけるウェーハW
の%性に関する情報を記憶手段50から抽出して、ウェ
ーハ切断後置6A又は6Bの制御手段52A又は52B
に送給する。かくして、制御手段52A又は52Bは、
システム制御手段8から送給される上記ウェーハWの特
性に関する情報に基いて、ウェーハ切断装置6A又は6
Bの作動を切断すべきウェーハWの特性に応じて所要通
シに制御する。尚、ウェーハ切断装置6A及び6B自体
の構成及び作用は、本発明に従って構成された半導体ウ
ェーハ装着及び切断システムの新規な特徴を構成するも
のではなく、本発明に従って構成された半導体ウェーハ
装着及び切断システムにおいては、植々の形態のウェー
ハ切断装置6人及び6Bを採用することができ、それ故
に、ウェーハ切断装置6A及び6B自体の構成及び作用
についてめ詳細な説明は、本明細書においては省略する
。
既に言及した如く、ウェーッ・切断後R6A及び6Bに
おいてウェーハWが所要通シに切断されたところのフレ
ームF及びこれに装着されたウェーハWは、夫々、搬送
手段18及び20によってウェーハ切断装置6A及び6
Bから搬出され、次いで、一旦適宜の収集域(図示して
いない)に収集された後に或いは直接的に、ウェー/%
Wに次の所要処理(例えばダイ・ボンディング)を加え
る処理手段(図示していない)に搬入される。而して、
かかる処理手段においても、容易に理解される如く、フ
レームF及びこれに装着されたウェーハWにおけるウェ
ーハWの特性に応じて処理手段の作動を適切に制御する
ことが必要である。然るに、第2図を参照することによ
って容易に理解される如く、ウェーハ切断装置6人又は
6BにおいてウェーハWを直線状領域32に沿って切断
すると、通常、ウェーハWの表示領域36が複数個の部
分に分離ソれ、かかる事実等に起因して、ウェーハWを
所要通シに切断した後においては、ウェーハWの表示領
域36の表示38を検出してウェーハWの特性を認識す
ることが不可能乃至著しく困難である。
おいてウェーハWが所要通シに切断されたところのフレ
ームF及びこれに装着されたウェーハWは、夫々、搬送
手段18及び20によってウェーハ切断装置6A及び6
Bから搬出され、次いで、一旦適宜の収集域(図示して
いない)に収集された後に或いは直接的に、ウェー/%
Wに次の所要処理(例えばダイ・ボンディング)を加え
る処理手段(図示していない)に搬入される。而して、
かかる処理手段においても、容易に理解される如く、フ
レームF及びこれに装着されたウェーハWにおけるウェ
ーハWの特性に応じて処理手段の作動を適切に制御する
ことが必要である。然るに、第2図を参照することによ
って容易に理解される如く、ウェーハ切断装置6人又は
6BにおいてウェーハWを直線状領域32に沿って切断
すると、通常、ウェーハWの表示領域36が複数個の部
分に分離ソれ、かかる事実等に起因して、ウェーハWを
所要通シに切断した後においては、ウェーハWの表示領
域36の表示38を検出してウェーハWの特性を認識す
ることが不可能乃至著しく困難である。
而して、本発明に従って構成された図示の半導体ウェー
ハ装着及び切断システム2においては、ウェーハ切断装
置6A及び6Bにおいて切断されることがないフレーム
Fに識別表示44が施されていると共に、システム制御
手段8の記憶手段5゜にフレームFの識別表示44とこ
のフレームFに装着されたウェーハWの表示38(Ji
’DちウェーハWの特性)との相対関係リストが記憶さ
れている。
ハ装着及び切断システム2においては、ウェーハ切断装
置6A及び6Bにおいて切断されることがないフレーム
Fに識別表示44が施されていると共に、システム制御
手段8の記憶手段5゜にフレームFの識別表示44とこ
のフレームFに装着されたウェーハWの表示38(Ji
’DちウェーハWの特性)との相対関係リストが記憶さ
れている。
それ故に、ウェーハWの切断後における上記処理手段で
の処理の際には、フレームFの識別表示44を検出する
と共に、かかる検出に応じて記憶手段50における相対
関係リストを読出すことによって、処理すべきウェーハ
Wの特性を的確に認識することができ、従って上記処理
手段の作動を処理すべきウェーハWの特性に応じて適切
に制御することができる。システム制御手段8の記憶手
段50に記憶されている上記相対関係リストは、例えば
、半導体ウェーハ装着及び切断工程を含む半導体製造工
程の全体を管理及び制御するホストコンピュータ54に
よって読出して、上記処理手段に付設されている制御手
段(図示していない)に送給することができる。半導体
ウェーハ装着及び切断工程に先立って、ウェーハWの矩
形領域34(第2図)に施されている回路パターンの検
査、即ち所謂ブロービング工程が遂行される場合には、
かかるブロービング工程の結果(即ち、特定のウェーハ
Wにおける複数個の回路パターンの各々の合否)もホス
トコンピュータ54によって読出し、必要に応じて、シ
ステム制御手段8の記憶手段50から読出される上記相
対関係リストに関連せしめて、ホストコンピュータから
上記処理手段に付設されている上記制御手段に送給する
ことができる。
の処理の際には、フレームFの識別表示44を検出する
と共に、かかる検出に応じて記憶手段50における相対
関係リストを読出すことによって、処理すべきウェーハ
Wの特性を的確に認識することができ、従って上記処理
手段の作動を処理すべきウェーハWの特性に応じて適切
に制御することができる。システム制御手段8の記憶手
段50に記憶されている上記相対関係リストは、例えば
、半導体ウェーハ装着及び切断工程を含む半導体製造工
程の全体を管理及び制御するホストコンピュータ54に
よって読出して、上記処理手段に付設されている制御手
段(図示していない)に送給することができる。半導体
ウェーハ装着及び切断工程に先立って、ウェーハWの矩
形領域34(第2図)に施されている回路パターンの検
査、即ち所謂ブロービング工程が遂行される場合には、
かかるブロービング工程の結果(即ち、特定のウェーハ
Wにおける複数個の回路パターンの各々の合否)もホス
トコンピュータ54によって読出し、必要に応じて、シ
ステム制御手段8の記憶手段50から読出される上記相
対関係リストに関連せしめて、ホストコンピュータから
上記処理手段に付設されている上記制御手段に送給する
ことができる。
以上、添付図面を参照して本発明に従って構成された半
導体ウェーハ装着及び切断システムの−具体例について
詳細に説明したが、本発明はかかる具体例に限定される
ものではなく、本発明の範囲を逸脱することなく種々の
変形乃至修正が53能である。
導体ウェーハ装着及び切断システムの−具体例について
詳細に説明したが、本発明はかかる具体例に限定される
ものではなく、本発明の範囲を逸脱することなく種々の
変形乃至修正が53能である。
例えば、上述した具体例においては、ウェーハ装着装置
4のウェーハ域22にてウェーッ・Wの表示38をウェ
ーハ検出手段46によって検出しているが、ウェーハ切
断装置6A又は6BによってウェーハWが切断される前
の任意の時点、例えはフレームF及びこれに装着された
ウェーッ・Wがウェーハ装着装置4から搬出されて分岐
点12に到着した時等、にてウェーハWの表示38を検
出してもよい。
4のウェーハ域22にてウェーッ・Wの表示38をウェ
ーハ検出手段46によって検出しているが、ウェーハ切
断装置6A又は6BによってウェーハWが切断される前
の任意の時点、例えはフレームF及びこれに装着された
ウェーッ・Wがウェーハ装着装置4から搬出されて分岐
点12に到着した時等、にてウェーハWの表示38を検
出してもよい。
また、上述した具体例においては、分岐点、12にてフ
レームFの識別表示44をフレーム検出手段48によっ
て検出しているが、他の適宜の時点、例えばウェーハ装
着装置4のフレーム域24(従って、フレームFにウェ
ーハWが装着される前)等にてフレームFの識別表示4
4を検出することもで7きる。
レームFの識別表示44をフレーム検出手段48によっ
て検出しているが、他の適宜の時点、例えばウェーハ装
着装置4のフレーム域24(従って、フレームFにウェ
ーハWが装着される前)等にてフレームFの識別表示4
4を検出することもで7きる。
更に、上述した具体例においては、予め識別表示44が
施されているフレームFe使用し、フレームFの識別表
示44を検出することによってフレームFの識別表示4
4とフレームFに装着されたウェーハWの特性との相対
関係を確立しているが、所望ならば、フレームFの識別
表示とフレームFに装着されたウェーハWの特性との相
対関係を確立する際(例えばフレームFにウェーハWを
装着する際或いはその前文は後)に、適宜の識別表示形
成装置によってフレームFに識別表示を施すこともでき
る。
施されているフレームFe使用し、フレームFの識別表
示44を検出することによってフレームFの識別表示4
4とフレームFに装着されたウェーハWの特性との相対
関係を確立しているが、所望ならば、フレームFの識別
表示とフレームFに装着されたウェーハWの特性との相
対関係を確立する際(例えばフレームFにウェーハWを
装着する際或いはその前文は後)に、適宜の識別表示形
成装置によってフレームFに識別表示を施すこともでき
る。
更にまた、上述した具体例においては、ウェーハ検出手
段46によってウェーハWの表示38を検出することに
よってウェーハWの特性を認識し、これに基いてフレー
ムFの識別表示44とフレームFに装着されたウェーハ
Wの特性との相対関係を確立しているが、例えば、特定
の特性のウェーハWが一群としてウェーハ装着装置4に
装填され、次いで別個の特定の特性のウェーハWが一群
としてウェーハ装着装置4に装填される場合等であって
、ウェーハ装着装置4の装填されるウェーハWの特性を
予め操作員が認識している場合には、ウェーハWの表示
38を検出することなく、操作員がウェーハWの特性を
直接的に制御手段28に入力し、かくしてフレームFの
識別表示44とフレームFに装着されたウェーハWの特
性との相対関係を確立することもできる。また、ウェー
ッ・装着装置4に装填されるウェーハWの特性に関する
情報が、例えばホストコンピュータ54に予め入力され
ている場合には、ウェーハWL:D@性に関する情報を
ホストコンピュータ54から制御手段28に送給して、
フレームFの識別表示44とフレームFに装着されたウ
ェーハWの特性との相対関係を確立することができる。
段46によってウェーハWの表示38を検出することに
よってウェーハWの特性を認識し、これに基いてフレー
ムFの識別表示44とフレームFに装着されたウェーハ
Wの特性との相対関係を確立しているが、例えば、特定
の特性のウェーハWが一群としてウェーハ装着装置4に
装填され、次いで別個の特定の特性のウェーハWが一群
としてウェーハ装着装置4に装填される場合等であって
、ウェーハ装着装置4の装填されるウェーハWの特性を
予め操作員が認識している場合には、ウェーハWの表示
38を検出することなく、操作員がウェーハWの特性を
直接的に制御手段28に入力し、かくしてフレームFの
識別表示44とフレームFに装着されたウェーハWの特
性との相対関係を確立することもできる。また、ウェー
ッ・装着装置4に装填されるウェーハWの特性に関する
情報が、例えばホストコンピュータ54に予め入力され
ている場合には、ウェーハWL:D@性に関する情報を
ホストコンピュータ54から制御手段28に送給して、
フレームFの識別表示44とフレームFに装着されたウ
ェーハWの特性との相対関係を確立することができる。
第1図は、本発明に従って構成された半導体ウェーハ装
着及び切断システムの一具体例を図式的に示す簡略図。 第2図は、半導体ウェーハの一例を示す平面図。 第3図は、フレームの一例を示す平面図。 第4図は、テープを使用して第2図の半導体ウェーハを
第3図のフレームに装着した状態を示す平面図。 2・・・ウェーハ装着及び切断システム4・・・ウェー
ハ装着装置 6A及び6B・・・ウェーハ切断装置 8・・・システム制御手段 28・・ニウエーハ装着装置に内蔵された即]御手段(
相対関係信号生成手段) 38・・・ウェーハにおける表示 44・・・フレームにおける識別表示 46・・・ウェーハ検出手段 48・・・フレーム検出手段 50・・・記憶手段 52A及び52B・・・ウェーハ切断装置に内蔵された
制御手段 W・°・ウェーハ F・・・フレーム T・・・テープ
着及び切断システムの一具体例を図式的に示す簡略図。 第2図は、半導体ウェーハの一例を示す平面図。 第3図は、フレームの一例を示す平面図。 第4図は、テープを使用して第2図の半導体ウェーハを
第3図のフレームに装着した状態を示す平面図。 2・・・ウェーハ装着及び切断システム4・・・ウェー
ハ装着装置 6A及び6B・・・ウェーハ切断装置 8・・・システム制御手段 28・・ニウエーハ装着装置に内蔵された即]御手段(
相対関係信号生成手段) 38・・・ウェーハにおける表示 44・・・フレームにおける識別表示 46・・・ウェーハ検出手段 48・・・フレーム検出手段 50・・・記憶手段 52A及び52B・・・ウェーハ切断装置に内蔵された
制御手段 W・°・ウェーハ F・・・フレーム T・・・テープ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、半導体ウェーハ全フレームに装着するためのウェー
ハ装着装置と、該ウェーハ装着装置から送出される該フ
レーム及びこれに装着された該ウェーハを受取シ該ウェ
ーハを所要通シに切断するウェーハ切断装置とを含む、
半導体ウェーハ装着及び切断システムにおいて; 該フレームに施された又は施される識別表示と該フレー
ムに装着された又は装着される該ウェーハの特性との相
対関係を示す相対関係信号を生成する相対関係信号生成
手段と、 該相対関係信号生成手段が生成する該相対関係信号を記
憶する記憶手段と、 を具備することを特徴とする半導体ウェーハ装着及び切
断システム。 2、該ウェーハ切断装置によって該ウェーッ・が切断さ
れる前に、該ウェーハの鈑特性を検出して該特性に対応
した特性信号を生成するウェーハ検出手段が設けられて
おり、 該相対関係信号生成手段は、少なくとも該ウェーハ検出
手段が生成する該特性信号に基いて該相対関係信号を特
徴する特許請求の範囲第1項記載の半導体ウェーハ装着
及び切断システム。 3、該フレームには予め該識別表示が施されており、 該フレームの該職別表示を検出して該識別表示に対応し
た識別衣下情号を生成するフレーム検出手段が設けられ
ており、 該相対関係信号生成手段&礼少なくとも該フレーム検出
手段が生成する該鰯ut4示信号に基いて、該相対関係
個号を特徴する特許請求の範囲第1項又は第2項記載の
半導体ウェーハ装着及び切断システム。 4、該フレームの該識別表示はバーコードである、特許
請求の範囲第3項記載の半導体ウェーハ装着及び切断シ
ステム。 5、該ウェーハ装着装置は、咳フレームに該ウェーハを
装着する装着作業域、該装着作業域に供給すべき該フレ
ームが装填される7レーム域、及び該装着作業域に供給
すべき該ウェーハが装填されるウェーハ域を含み、 該ウェーハ検出手段は、核ウェーハが該ウェーハ域にあ
る時に該ウェーハの該特性を特徴する特許請求の範囲第
2項記載の半導体ウェーハ装着及び切断システム。 6、該ウェーハ検出手段は、該フレーム及びこれに装着
された該ウェーハが該ウェーハ装着装置から送出された
後で且つ該ウェーハ切断装置に受取られる前に、該ウェ
ーハの該特性を特徴する特許請求の範囲第2項記載の半
導体ウェーハ装着及び切断システム。 7、該フレーム検出手段は、該フレーム及びこれに装着
された該ウェーハが該ウェーハ装着装置かう送出された
後で且つ該ウェーハ切断装置に受取られる前に、該フレ
ームの該識別表示を特徴する特許請求の範囲第3項又は
第4項記載の半導体ウェーハ装着及び切断システム。 8、該ウェーハ装着装置は、該フレームに該ウェーハ全
装着する装着作業域、該装着作業域に供給すべき該フレ
ームが装填されるフレーム域、及び該装着作業域に供給
すべき該ウェーハが装填されるウェーハ域を含み、 該フレーム検出手段は、該フレームが該ウェーハ装着装
置の該フレーム域にある時に該フレームの該識別表示を
特徴する特許請求の範囲第3項又は第4項記載の半導体
ウェーハ装着及び切断システム。 9、 該フレームには、該ウェーハよシ大きい面積を有
する開口が形成されておシ、 該ウェーハ装着装置は、該開口内に該ウェーハを位置せ
しめ、該フレーム及び該ウェーハに跨って該フレーム及
び該ウェーハの裏面にテープを貼着せしめることによっ
て、該フレームに該ウェーハ全装着する、特許請求の範
囲第1項から第8項までのいずれかに記載の半導体ウェ
ーハ装着及び切断システム。 JO1該ウェーハの表面には、格子状に配列された複数
個の直線状領域によって区画された複数個の矩形領域の
各々に施された回路パターンが存在し、 該ウェーハ切断装置は、該直線状領域に沿って該ウェー
ハを切断して該矩形領域の各々に分離する、特許請求の
範囲第1項から第9項までのいずれかに記載の半導体ウ
ェーハ装着及び切断システム。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58207496A JPS60100450A (ja) | 1983-11-07 | 1983-11-07 | 半導体ウエーハ装着及び切断装置 |
| US06/791,488 US4696712A (en) | 1983-11-07 | 1985-10-25 | Semiconductor wafer mounting and cutting system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58207496A JPS60100450A (ja) | 1983-11-07 | 1983-11-07 | 半導体ウエーハ装着及び切断装置 |
Publications (2)
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|---|---|
| JPS60100450A true JPS60100450A (ja) | 1985-06-04 |
| JPS6412094B2 JPS6412094B2 (ja) | 1989-02-28 |
Family
ID=16540675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58207496A Granted JPS60100450A (ja) | 1983-11-07 | 1983-11-07 | 半導体ウエーハ装着及び切断装置 |
Country Status (2)
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63318393A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-27 | 日本ベルボン精機工業株式会社 | 三脚 |
| JPS6457646U (ja) * | 1987-10-01 | 1989-04-10 | ||
| JPH01222905A (ja) * | 1988-03-02 | 1989-09-06 | Hitachi Ltd | ウエハ分割一貫装置 |
| JPH097977A (ja) * | 1995-06-26 | 1997-01-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | ダイシング装置及びダイシングシステム |
| JPH1197322A (ja) * | 1997-09-16 | 1999-04-09 | Fujitsu Ltd | データ管理方法、データ管理装置、及び、搭載台 |
| JP2015227272A (ja) * | 2014-06-02 | 2015-12-17 | 日本電気硝子株式会社 | 分相ガラス及びこれを用いた複合基板 |
| JP2018114575A (ja) * | 2017-01-17 | 2018-07-26 | 株式会社ディスコ | ドレッシングボード、切削ブレードのドレッシング方法及び切削装置 |
| CN114999958A (zh) * | 2022-05-27 | 2022-09-02 | 颀中科技(苏州)有限公司 | 用于去除卷带芯片的芯片剔除装置 |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6443458A (en) * | 1987-08-11 | 1989-02-15 | Nitto Denko Corp | Stick cutter for tacky tape with respect to thin board |
| US4907065A (en) * | 1988-03-01 | 1990-03-06 | Lsi Logic Corporation | Integrated circuit chip sealing assembly |
| US4875955A (en) * | 1988-08-31 | 1989-10-24 | Mazda Motor Manufacturing (Usa) Corporation | Method and apparatus for preventing installation in an automobile body of a glass window panel having overcured adhesive thereon |
| DE3931495C2 (de) * | 1989-09-21 | 1997-06-26 | Itt Ind Gmbh Deutsche | Verfahren zur "fließenden" Feinklassifizierung von Kapazitätsdioden |
| JP3173052B2 (ja) * | 1990-12-12 | 2001-06-04 | 株式会社ディスコ | 半導体ウェーハのダイシング方法 |
| JPH05121543A (ja) * | 1991-08-09 | 1993-05-18 | Teikoku Seiki Kk | ウエハーマウンタのウエハー支持方法、その装置及びその装置を備えるウエハーマウンタ |
| JP3888754B2 (ja) * | 1997-12-08 | 2007-03-07 | 日東電工株式会社 | 半導体ウエハの自動貼付け装置 |
| KR100387526B1 (ko) * | 2001-02-07 | 2003-06-18 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조장비의 웨이퍼 감지 오동작 방지장치 |
| AT502233B1 (de) * | 2001-06-07 | 2007-04-15 | Thallner Erich | Vorrichtung zum lösen eines trägers von einer halbleiterscheibe |
| JP3809353B2 (ja) * | 2001-08-02 | 2006-08-16 | キヤノン株式会社 | Id付き加工物の製造方法 |
| KR100720420B1 (ko) * | 2002-03-25 | 2007-05-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자용 합착 장치의 동작 제어 방법 및 그 장치 |
| US7281535B2 (en) * | 2004-02-23 | 2007-10-16 | Towa Intercon Technology, Inc. | Saw singulation |
| JP4841262B2 (ja) * | 2006-02-13 | 2011-12-21 | 株式会社東京精密 | ウェーハ処理装置 |
| JP4693696B2 (ja) * | 2006-06-05 | 2011-06-01 | 株式会社東京精密 | ワーク処理装置 |
| EP1873812A1 (en) * | 2006-06-26 | 2008-01-02 | Axalto SA | Wafer frame |
| DE102014118833A1 (de) * | 2014-12-17 | 2016-06-23 | Mechatronic Systemtechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Vorausrichten eines flachen Substrats |
| KR20220164857A (ko) * | 2021-06-04 | 2022-12-14 | 로체 시스템즈(주) | 카세트 반송 시스템 및 카세트 위치 자동 티칭 방법 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3811182A (en) * | 1972-03-31 | 1974-05-21 | Ibm | Object handling fixture, system, and process |
| US4296542A (en) * | 1980-07-11 | 1981-10-27 | Presco, Inc. | Control of small parts in a manufacturing operation |
| US4485553A (en) * | 1983-06-27 | 1984-12-04 | Teletype Corporation | Method for manufacturing an integrated circuit device |
-
1983
- 1983-11-07 JP JP58207496A patent/JPS60100450A/ja active Granted
-
1985
- 1985-10-25 US US06/791,488 patent/US4696712A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63318393A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-27 | 日本ベルボン精機工業株式会社 | 三脚 |
| JPS6457646U (ja) * | 1987-10-01 | 1989-04-10 | ||
| JPH01222905A (ja) * | 1988-03-02 | 1989-09-06 | Hitachi Ltd | ウエハ分割一貫装置 |
| JPH097977A (ja) * | 1995-06-26 | 1997-01-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | ダイシング装置及びダイシングシステム |
| JPH1197322A (ja) * | 1997-09-16 | 1999-04-09 | Fujitsu Ltd | データ管理方法、データ管理装置、及び、搭載台 |
| JP2015227272A (ja) * | 2014-06-02 | 2015-12-17 | 日本電気硝子株式会社 | 分相ガラス及びこれを用いた複合基板 |
| JP2018114575A (ja) * | 2017-01-17 | 2018-07-26 | 株式会社ディスコ | ドレッシングボード、切削ブレードのドレッシング方法及び切削装置 |
| CN108327102A (zh) * | 2017-01-17 | 2018-07-27 | 株式会社迪思科 | 修整板、切削刀具的修整方法和切削装置 |
| CN108327102B (zh) * | 2017-01-17 | 2021-09-14 | 株式会社迪思科 | 修整板、切削刀具的修整方法和切削装置 |
| CN114999958A (zh) * | 2022-05-27 | 2022-09-02 | 颀中科技(苏州)有限公司 | 用于去除卷带芯片的芯片剔除装置 |
| CN114999958B (zh) * | 2022-05-27 | 2024-05-03 | 颀中科技(苏州)有限公司 | 用于去除卷带芯片的芯片剔除装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| US4696712A (en) | 1987-09-29 |
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