JPS641852B2

JPS641852B2 -

Info

Publication number: JPS641852B2
Application number: JP58075311A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Kawai
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1983-04-28
Filing date: 1983-04-28
Publication date: 1989-01-12
Also published as: JPS59200793A

Description

【発明の詳細な説明】 AlあるいはAl合金のアノード皮膜を生成し、
皮膜の微細孔中に、電気化学的に磁性金属あるい
は合金を析出して充填すると、この皮膜は独特な
磁性膜としての性質を示すことが見出されてい
る。（日本特許No.843639（特公昭51−15597号）お
よび846018（特公昭51−21562号））たとえば、Al材の表面に硫酸電解浴中でアノ
ード皮膜を生成し、次いでCo−Ni合金（Co約50
％）を析出すると、磁気異方性は水平方向を示す
が、その他の場合、Ni、Co、Fe、Ni−Fe、Co
−Feの金属および合金の場合には、垂直磁気異
方性を示すことが知られている。

一方、磁性皮膜の保磁力は比較的高く、大凡
1KQeにも達していることが多い。この値はアノ
ード処理の電解液の種類、あるいは析出金属の種
類によつても異なつている。一般的には、微細孔
の直径の大きいリン酸あるいはしゆう酸皮膜の場
合には、直径の小さい硫酸皮膜よりも保磁力は小
さい。

残留磁化の大きさは、微細孔中に析出した磁性
金属の量に、ほゞ比例することが認められている
が、微細孔の有孔率の大きいアノード皮膜が高い
値を示している。硫酸皮膜は約８〜10％の有孔率
を示して小さいが、磁気モーメントの高いFeを
析出すると、残留磁気は約100emu／c.c.にもなる
ことが可能になつている。

この様なアノード磁性皮膜は、機械的および化
学的性質に優れている。すなわち、磁気ヘツドの
摺動に対する耐磨耗性に強く、且つ、雰囲気に安
定していることも特徴と考えられる。

さて、高密度磁気記録においては、垂直異方性
を有する磁性膜は、その磁化モードに適した垂直
用磁気ヘツドが利用される。現在、推奨されてい
るヘツドは、単極磁気ヘツドと言われているもの
で、主極と副極とのペアーからなり、垂直磁性膜
の両面からはさみ込む構造になつている。

しかし、この磁気ヘツドは磁性膜の表裏を同時
に利用するので、従来使用している水平磁気異方
性膜とリング型磁気ヘツドとの組み合わせの様
に、磁性膜の両面を別々に利用することはできな
い。

その後、単極磁気ヘツドに対し、垂直磁性膜の
片面のみを利用して、信号の記録および再生を可
能にした磁気ヘツドが提案されている。すなわ
ち、隣接する平行の垂直磁区の底端部に、高透磁
率を有する金属あるいは合金を配置し、磁気回路
を形成すると、磁化モードはＵ字型となり、磁性
膜の表面の片側のみで磁気ヘツドを利用すること
ができる。そして、磁気ヘツドの構造として、逆
Ｕ字型あるいはＭ型の磁気ヘツドなどが開発され
高密度記録が可能になつている。この場合、利用
される高透磁率金属は、水平磁気異方性を有し、
且つ、保磁力の小さい特性を有しているものであ
る。

現在、実用に供されている垂直磁性膜は、大部
分がCo−Cr系の合金であり、耐熱性のプラスチ
ツクスフイルムあるいはAl板の上に、スパツタ
ーあるいはメツキなどで作成されている。そし
て、組み合わせとなる高透磁率金属としては、
Ni、Fe−Ni系合金などが、同様な方法で加工さ
れている。

さて、Alのアノード磁性皮膜は、垂直磁気異
方性を有しているので、高密度磁気記録が可能に
なつている。そして、素地材料としてAl箔を利
用し、ポリエチレン、ポリエステルフイルムなど
とラミネートすることにより、可撓性の材料が得
られるので、テープ、フロツピーデイスクえの応
用が開かれている。更に、高透磁率金属を中間層
として加工すると、Ｕ字型磁気モードを有する磁
性膜を作成することもできる。

一般に、Alのアノード磁性皮膜を、金属塩浴
中に浸漬して対極との間に交流あるいは直流を用
いて電解すると、それらの金属が微細孔の底部に
還元析出し、順次、微細孔を充填し、入口迄析出
してくる。更に、電解を続けると微細孔の外側に
溢れ出し、皮膜の表面に一様に析出してくるのが
認められる。

この時に用いる２次電解浴組成および条件は、
良好な金属層を得るのに適当でないので、別に、
磁性金属を析出するための電気メツキあるいは化
学メツキ法を用いて、この析出層の上に、良質な
金属層をメツキすることが良い。

すなわち、高透磁率を有する金属あるいは合金
を、微細孔中の磁性金属あるいは合金と連結した
構造でコーテイングすることになるので、Ｕ字型
磁気モードを有するアノード磁性皮膜を得ること
ができる。

この皮膜は、皮膜の下にAl素地が残存してい
るので、このAlのみを化学的に溶解除去すると、
アノード磁性皮膜の底部が表面に露出し、磁気ヘ
ツドとの摺動面として利用することになる。

更に、反対の金属メツキ面は、他の材料、たと
えば、ポリエステルフイルムと接着してラミネー
トしても良いし、Al合金板と接着してソリツド
な磁気材料として利用することもできる。更に
は、ポリエステルフイルムの両面にアノード磁性
皮膜を接着すると、表裏の二面を使用できる磁性
膜が作成される。

以下、実施例を述べる。

実施例１純度99.9％、厚さ約20μｍのAl箔の表面を脱脂
後、濃度150ｇ／の硫酸浴中で、温度20℃、電
流密度1.5A／ｄm²の条件で、厚さ約10μｍのアノ
ード皮膜を生成した。次に、濃度が硫酸コバルト
５ｇ／、硫酸ニツケル35ｇ／、硼酸30ｇ／
、グリセリン20ｇ／、温度25℃、PH６の電解
浴中に、アノード皮膜を浸漬し、対極として炭素
板、交流（50Hz）を用いて、電圧15Vで電解し
た。

約20分間処理すると、Co−Ni合金は微細孔を
充填し、且つ、表面全体に一様に薄く析出した。

引き続き、濃度が硫酸ニツケル200ｇ／、塩
化ニツケル40ｇ／、硼酸30ｇ／、温度50℃、
PH５の電解浴中に、アノード皮膜を浸漬し、対極
としてNi板、電流密度1.5A／ｄm²で、約１分間
電解した。その結果、アノード皮膜の表面には
Niメツキが施された。

次に、このNiメツキ上にポリウレタン系接着
剤を塗布し、厚さ約20μｍのポリエステルフイル
ムを接着した。約100℃で乾燥後、プラスチツク
スとAl箔のラミネート箔を作成した。

最後に、このフイルムを、約30℃に加温した臭
素メタノール液中に浸漬し、Alを化学的に溶解
除去した。

この磁性膜は、垂直方向には保磁力が約
800Qe、残留磁気が約50emu／c.c.磁気的性質を
示すと同時に、可撓性を有するので、フロツピー
テイスク用として適当な磁性材料と考えられる。

実施例２前項と同じ材質で、厚さ約10μｍのAl箔を使用
し、脱脂後、濃度が硫酸150ｇ／、リン酸300
ｇ／の電解浴中で、温度20℃、電流密度
1.5A／ｄm²で、厚さ約6μｍのアノード皮膜を生
成した。次いで、濃度が硫酸コバルト50ｇ／、
硼酸30ｇ／、グリセリン20ｇ／、温度25℃、
PH5.5の電解浴中にアノード皮膜を浸漬し、前項
と同様に交流電解を施した。

約20分位すると、コバルトが表面に一様に析出
するのが見出された。

続いて、濃度が硫酸ニツケル40ｇ／、クエン
酸ソーダ25ｇ／、次亜リン酸ソーダ20ｇ／、
酢酸ソーダ15ｇ／、塩化アンモン５ｇ／、温
度60℃、PH5.5の化学メツキ浴中に、アノード皮
膜を約10分間浸漬して、Niの化学メツキを施し
た。

この様にして作成した２枚の皮膜のNiメツキ
面にポリウレタン系の接着剤を塗布し、厚さ約
20μｍのポリエステルフイルムの両面に接着し
た。

最後に、充分乾燥したフイルムを、約30℃に加
温した臭素メタノール溶液中に浸漬して、表面の
Al分を溶解除去した。

この磁性膜は、垂直方向に保磁力は約800Qe、
残留磁気は80emu／c.c.を示し、フレキシブルな
両面磁性材料として利用することができる。

Claims

【特許請求の範囲】１垂直磁気異方性を有するAlのアノード磁性
皮膜上に、高透磁率金属をコーテイングして二層
とすることを特徴とする磁性記録材料。２アノード磁性皮膜とは、AlあるいはAl合金
上に、常法により成長型のアノード皮膜を生成
し、続いて磁性金属あるいは合金を電気化学的に
皮膜の微細孔中に析出充填し、更に皮膜の表面に
一様に析出させ、垂直磁気異方性を有し、高保磁
力を示す磁性膜を作成する特許請求範囲１項記載
の方法。３高透磁率金属とは、水平磁気異方性を有し、
低保磁力を示す、Ni、Co、Feおよびそれらを主
成分とする合金で、アノード磁性皮膜の表面に、
電気メツキあるいは化学メツキを施して、表面を
一様にコーテイングする特許請求範囲１項記載の
方法。