JPS642263Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は回転ヘツド形VTRに使用されるビデ
オヘツドを基板上に配設して構成される磁気ヘツ
ド装置に関するものである。

従来例の構成とその問題点 回転ヘツド形VTRにおいて、高速再生、低速
再生、静止画再生等の特殊再生機能を有する場
合、特殊再生画像の画質を良くするため、第１図
で示される構成よりなる磁気ヘツド装置が使用さ
れることが多い。第１図において、１は２個のビ
デオヘツド２，３を配設するための基板で、アル
ミ、真鍮等の金属或いはアルミナ等のセラミツク
スよりできている。４，５は前記ビデオヘツド
２，３に設けた巻線、６はこの巻線４，５の端子
板で、ビデオヘツド貼付面Ａとは反対側の面Ｂ上
の基板１に配設される。第１図で示される磁気ヘ
ツド装置は第２図の如く、回転シリンダ９の１つ
の回転平面Ｃ上に取付けられる。８は磁気ヘツド
装置を前記回転シリンダ９上に取付けるために基
板１に形成した取付孔、７は回転シリンダ９上で
のビデオヘツド２，３の相対高さを調節可能にす
るために基板１に形成した切込溝である。このよ
うな構成よりなる従来例では、例えば基板１を金
属で構成する場合、回転シリンダ９への取付面と
なる面Ａはうねりや凹凸の少ない平面にすること
が要求される。しかるに金属の場合、基板１の外
周部１０や取付孔８の円周部１１にばり等が出や
すく、回転シリンダ９上に磁気ヘツド装置を取付
けたとき、ビデオヘツド２，３の位置関係の精度
が出にくいという欠点がある。第３図は回転シリ
ンダ９上に磁気ヘツド装置を取付けた部分の拡大
図である。磁気ヘツド装置の基板１はビス１３に
より回転シリンダ９上に取付けられ、ビデオヘツ
ド２及び３の相対高さの調節はビス１４により第
１図ａの基板１上のイ又はロの部分を押し下げる
ことにより行なわれる。この場合基板１が金属の
場合、一方のヘツドを前記ビス１４により押し下
げると、他方のヘツドも同時に若干量動いてしま
うという欠点を有していた。又、基板１をセラミ
ツクスで構成した場合には、前記ビス１４により
一方のヘツドを移動させると、第４図に示す如く
切込溝７と取付孔８の間にクラツク１５が発生
し、基板１が破壊されることが多い。更に従来例
での共通した欠点としては基板１とビデオヘツド
２又は３とは接着剤で固定されるのであるが、両
者の間に存在する接着剤の層厚が不均一で、２個
のビデオヘツド２，３の相対高さの精度が出しに
くくなるという欠点も有している。

考案の目的 本考案は上記従来の欠点を解消するもので、２
個のビデオヘツドの位置関係を精度良く構成し
得、組立て容易な磁気ヘツド装置を提供すること
を目的とする。

考案の構成 上記目的を達成するため、本考案の磁気ヘツド
装置は、セラミツクス等の焼結体で構成される基
板の一部に切込溝を有し、又この切込溝の略中心
線上に取付用の孔を有し、前記切込溝と取付用孔
との間の基板の一部をその周囲の厚さより薄く構
成し、前記切込溝の両側に夫々ビデオヘツドを配
設してなるものである。

実施例の説明 以下、本考案の実施例について、図面に基づい
て説明する。

先ず第１実施例を示す第５図ａ，ｂに基づき説
明する。２１はアルミナ等の焼結体で構成される
基板で、切込溝２２の中心線２３上もしくはその
近傍に取付孔２４の中心を有し、且つ取付孔２４
と切込溝２２の間の基板２１の一部分の厚さを薄
くする。２５がその薄肉部である。この場合ヘツ
ド取付面Ａとは反対側の面Ｂを凹にし、且つ凹部
は切込溝２２と取付孔２４の両方にかかるように
設けることが望ましい。このような構成により、
前記第３図に示すビス１４により一方のヘツドの
高さを調節したとき、第４図で示したようなクラ
ツクの発生は極めて少なくなり、且つ他方のヘツ
ドの位置ずれもなくなつた。

次に第２実施例を示す第６図ａ，ｂに基づき説
明する。第２実施例では切込溝２２と取付孔２４
の間に横方向に凹状の薄肉部２６を設け、且つ薄
肉部２６の一部が切込溝２２の一部にかかるよう
に構成したものである。

更に第３実施例を示す第７図に基づき説明する
と、第３実施例ではヘ字状に凹状の薄肉部２７を
設け、且つ薄肉部２７の一部が切込溝２２の一部
にかかるように構成したものである。第６図、第
７図に示す実施例においても第５図に示す実施例
と同様な効果が得られた。

次に基板２１上に配設されるビデオヘツドの位
置精度を出すための実施例を第８図に示す。第８
図はビデオヘツドが配設される基板２１の一部分
〔第５図のニ部分〕の拡大図である。本実施例で
は基板とビデオヘツドの間に介在する接着剤の厚
さを均一にし、それにより同一基板上に配設され
る２個のビデオヘツド間の相対的な位置精度を出
そうとするもので、そのため第８図においては基
板２１上のビデオヘツド配設部分のＡ面に溝２
８，２９を設ける。溝２８，２９は基板２１上で
交差し、その角度θは90゜以下が望ましい。ビデ
オヘツドは二点鎖線２０で示される位置に配置さ
れ、溝２８，２９は少なくともその一部がビデオ
ヘツドに接する位置に設けられる。又２本の溝２
８，２９の交点はビデオヘツドが配設される二点
鎖線３０の内部でも良いが、その場合は可能な限
り二点鎖線３０上に近い方が良い。最も望ましい
のは二点鎖線３０の外側で、できるだけ二点鎖線
３０に近い部分である。第８図の構成よりなる基
板２１上の二点鎖線３０の位置に適当な押圧力を
加えた状態でビデオヘツドを置き、斜線３１で示
される２本の溝２８，２９の交点近傍にエポキシ
系樹脂接着剤を少量つけて電気炉の中で120゜前後
に加熱したところ、接着剤は溝２８，２９に沿つ
て表面張力の作用で浸み込み、基板２１とビデオ
ヘツドとの間に極めて均一で薄い接着層を形成す
ることができた。従来の方法では３〜5μｍの接
着層の厚みむらがあつたが、本実施例の構成では
１〜2μｍの厚みむらに押えることができた。尚、
溝２８，２９の深さについてはあまり浅くても又
深すぎても効果は少なく、実験的には50μｍ以
上、0.5mm以内が適当であることが実験的に明ら
かになつた。以上のように第８図の構成により接
着層の厚みが均一になり、２個のビデオヘツドの
高さ精度の狂いも少なくなつたため、前記第３図
に示すビス１４での調整量も少なくなり、この点
からもクラツクの発生は少なくなつた。尚溝２
８，２９は他方のビデオヘツドが配設される基板
部分にも設けることは言うまでもない。

考案の効果 以上のように本考案は、２個のビデオヘツドを
同一基板上に配し、且つこの２個のビデオヘツド
間の相対的位置精度が要求される磁気ヘツド装置
において、焼結体から成る基板を用いることによ
り、従来の真鍮等の金属基板に比べコストが大幅
に低減し、且つ重量も減少し、VTRの軽量化に
有効である。又、２個のビデオヘツド間の相対位
置の精度が出しやすくなり、回転シリンダ組立時
における調整が容易になる。又薄肉部は基板の焼
結前に金型等で簡単に形成でき、金属基板でこの
ような加工を行なうことに比べ、焼結体基板を用
いることで極めて容易に実施できる。

【図面の簡単な説明】

第１図ａ，ｂは従来の磁気ヘツド装置の平面図
及び側面図、第２図は同断面図、第３図は第２図
のハ部拡大図、第４図は従来例におけるクラツク
の発生状態を示す説明図、第５図ａ，ｂは本考案
の第１実施例を示す平面図及び側断面図、第６図
ａ，ｂは本考案の第２実施例を示す平面図及び側
断面図、第７図は本考案の第３実施例を示す平面
図、第８図は更に本考案の他の実施例を示す拡大
図である。 ２１……基板、２２……切込溝、２４……取付
孔、２５，２６，２７……薄肉部、２８，２９…
…溝。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ セラミツクス等の焼結体で構成される基板の
   一部に切込溝を有し、又この切込溝の略中心線
   上に取付用の孔を有し、前記切込溝と取付用孔
   との間の基板の一部をその周囲の厚さより薄く
   構成し、前記切込溝の両側に夫々ビデオヘツド
   を配設してなる磁気ヘツド装置。 ２ ビデオヘツドを配設する部分の基板上に深さ
   が50μｍ以上で、且つ90゜以下の角度で交わる少
   なくとも２本の溝を有する実用新案登録請求の
   範囲第１項記載の磁気ヘツド装置。