JPS642890B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS642890B2 JPS642890B2 JP17302282A JP17302282A JPS642890B2 JP S642890 B2 JPS642890 B2 JP S642890B2 JP 17302282 A JP17302282 A JP 17302282A JP 17302282 A JP17302282 A JP 17302282A JP S642890 B2 JPS642890 B2 JP S642890B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- analysis
- spark
- sparks
- data
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/66—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light electrically excited, e.g. electroluminescence
- G01N21/67—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light electrically excited, e.g. electroluminescence using electric arcs or discharges
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は目視によらずに試料分析点の傷あるい
はピンホールなどの分析上不都合な欠陥部位を回
避することができる発光分光分析装置に関するも
のである。 従来火花放電を用いた固体試料の発光分光分析
においては、試料面の分析位置を目視によつて検
査し発光分析上不具合なきずとか割れのような欠
陥のない点を選択して分析を行つていたので、金
属工業等における生産工程での分析操作の完全自
動化が困難であるという問題があつた。本発明は
上記の問題を解消するもので、分析点の位置を連
続的または断続的に移動して分光分析を行い、得
られた複数個の分析値から予め設定された変動範
囲内のデータを選別することにより欠陥部分にお
いて得られた分析データの除去を行うことにより
多数の試料の分析を自動化することを目的とする
ものである。 以下実施例に基づいて本発明を詳述する。第１
図は本発明装置の一実施例をブロツク図で示した
もので、試料移動装置１は試料２を試料面を一定
に保つたまま平行に移動或は回転させるものであ
り、３は試料面に対向して設置されたスパーク電
極である。４はスパーク電極３と試料２との間に
高電圧の繰返しパルスを発生させるための発光制
御装置である。スパーク放電により発生した光は
分光器５で分散され、各分析元素の代表輝線波長
位置に設けられた複数個の光電子倍増管６によつ
て検出される。７は積分器、８はアナログマルチ
プレクサ、９はＡ／Ｄ変換器、１０はCPU、１
１は記憶素子である。 まず試料２が試料移動装置１によつて断続的に
移動する場合について説明すると、試料２は断続
的に移動しながら複数箇所（ｎ＝５〜20）の分析
位置で停止し、各分析装置で発光制御装置４によ
り複数回（200回程度）の高電圧パルスがスパー
ク電極３と試料２との間に印加される。複数回の
スパーク放電によつて各光電子倍増管６から出力
される光電流はそれぞれ積分器７で積分され、ア
ナログマルチプレクサ８を介して順次Ａ／Ｄ変換
器９によりデイジタル値に変換されたのち記憶素
子１１に格納される。次に試料移動装置によつて
分析位置を移動したのち上記と同様な動作が繰返
される。別表はこのようにして得られたｎ個の分
析位置における分析データを示したもので、鉄を
モニタ元素とし、炭素、燐およびアルミニウムを
分析元素としたデータ例である。各元素の輝線強
度を示すｎ個のデータの平均値がCPU１０によ
つて計算され、各元素毎に予め設定され記憶素子
１１に保持されていた係数％を上記平均値に掛け
て各元素の輝線強度の上限値および下限値を求め
て、この上下限範囲外のデータは欠陥部分のデー
タとしてこれを除外する。この場合、或る元素に
おいて範囲外のデータが検出されたら、その回に
おける各元素のデータを除去する。別表の実施例
では第１番目、第４番目、第７番目および第９番
目のデータが除外される。こうして選別された各
分析元素とモニタ元素との強度比を各回毎に求
め、その平均値を測定値とするのである。 次に試料２が連続的に移動する場合について説
明すると、この場合には発光制御装置４によつて
スパーク電極３に連続的に高電圧パルスが印加さ
れ、一定のスパーク放電回数（例えば200回）毎
に積分器７の出力がＡ／Ｄ変換器９に読み込まれ
ると共に積分器７に充電された電荷が放電されリ
セツトされる。その後のデータの処理は断続的な
移動の場合と全く同様に行われる。 本発明は上述のように構成されたもので、従来
のように試料面の欠陥を目視で検査して分析位置
を選択する代りに、試料を移動させて欠陥箇所も
含めて複数個の分析位置でデータの採集を行い、
予め設定されている変動範囲を越えたデータを除
外することによつて、結果的に試料分析面の欠陥
を避けた分析データを採取するものであるから、
従来自動化が困難とされていた試料面の欠陥の検
出が可能となる上に、複数回の分析データの平均
値を用いるので分析精度も向上するという利点が
ある。 【表】
はピンホールなどの分析上不都合な欠陥部位を回
避することができる発光分光分析装置に関するも
のである。 従来火花放電を用いた固体試料の発光分光分析
においては、試料面の分析位置を目視によつて検
査し発光分析上不具合なきずとか割れのような欠
陥のない点を選択して分析を行つていたので、金
属工業等における生産工程での分析操作の完全自
動化が困難であるという問題があつた。本発明は
上記の問題を解消するもので、分析点の位置を連
続的または断続的に移動して分光分析を行い、得
られた複数個の分析値から予め設定された変動範
囲内のデータを選別することにより欠陥部分にお
いて得られた分析データの除去を行うことにより
多数の試料の分析を自動化することを目的とする
ものである。 以下実施例に基づいて本発明を詳述する。第１
図は本発明装置の一実施例をブロツク図で示した
もので、試料移動装置１は試料２を試料面を一定
に保つたまま平行に移動或は回転させるものであ
り、３は試料面に対向して設置されたスパーク電
極である。４はスパーク電極３と試料２との間に
高電圧の繰返しパルスを発生させるための発光制
御装置である。スパーク放電により発生した光は
分光器５で分散され、各分析元素の代表輝線波長
位置に設けられた複数個の光電子倍増管６によつ
て検出される。７は積分器、８はアナログマルチ
プレクサ、９はＡ／Ｄ変換器、１０はCPU、１
１は記憶素子である。 まず試料２が試料移動装置１によつて断続的に
移動する場合について説明すると、試料２は断続
的に移動しながら複数箇所（ｎ＝５〜20）の分析
位置で停止し、各分析装置で発光制御装置４によ
り複数回（200回程度）の高電圧パルスがスパー
ク電極３と試料２との間に印加される。複数回の
スパーク放電によつて各光電子倍増管６から出力
される光電流はそれぞれ積分器７で積分され、ア
ナログマルチプレクサ８を介して順次Ａ／Ｄ変換
器９によりデイジタル値に変換されたのち記憶素
子１１に格納される。次に試料移動装置によつて
分析位置を移動したのち上記と同様な動作が繰返
される。別表はこのようにして得られたｎ個の分
析位置における分析データを示したもので、鉄を
モニタ元素とし、炭素、燐およびアルミニウムを
分析元素としたデータ例である。各元素の輝線強
度を示すｎ個のデータの平均値がCPU１０によ
つて計算され、各元素毎に予め設定され記憶素子
１１に保持されていた係数％を上記平均値に掛け
て各元素の輝線強度の上限値および下限値を求め
て、この上下限範囲外のデータは欠陥部分のデー
タとしてこれを除外する。この場合、或る元素に
おいて範囲外のデータが検出されたら、その回に
おける各元素のデータを除去する。別表の実施例
では第１番目、第４番目、第７番目および第９番
目のデータが除外される。こうして選別された各
分析元素とモニタ元素との強度比を各回毎に求
め、その平均値を測定値とするのである。 次に試料２が連続的に移動する場合について説
明すると、この場合には発光制御装置４によつて
スパーク電極３に連続的に高電圧パルスが印加さ
れ、一定のスパーク放電回数（例えば200回）毎
に積分器７の出力がＡ／Ｄ変換器９に読み込まれ
ると共に積分器７に充電された電荷が放電されリ
セツトされる。その後のデータの処理は断続的な
移動の場合と全く同様に行われる。 本発明は上述のように構成されたもので、従来
のように試料面の欠陥を目視で検査して分析位置
を選択する代りに、試料を移動させて欠陥箇所も
含めて複数個の分析位置でデータの採集を行い、
予め設定されている変動範囲を越えたデータを除
外することによつて、結果的に試料分析面の欠陥
を避けた分析データを採取するものであるから、
従来自動化が困難とされていた試料面の欠陥の検
出が可能となる上に、複数回の分析データの平均
値を用いるので分析精度も向上するという利点が
ある。 【表】
図は本発明の一実施例装置の概略ブロツク図で
ある。 １……試料移動装置、２……試料、３……スパ
ーク電極、５……分光器、６……光電子倍増管、
７……積分器、８……アナログマルチプレクサ、
９……Ａ／Ｄ変換器、１０……CPU、１１……
記憶素子。
ある。 １……試料移動装置、２……試料、３……スパ
ーク電極、５……分光器、６……光電子倍増管、
７……積分器、８……アナログマルチプレクサ、
９……Ａ／Ｄ変換器、１０……CPU、１１……
記憶素子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 試料を移動させスパーク電極と対向する試料
面の分析位置を順次移動せしめる手段と、高電圧
パルスを上記スパーク電極に印加せしめる手段
と、上記分析位置で毎スパーク毎に発生した光を
分光し所定波長毎に得られる光電流を所定スパー
ク回数ずつ積分して所定スパーク回数毎に分析デ
ータを得る手段と、上記各分析データが予め定め
られた変動範囲内に入るかどうかを選別し範囲外
のものを除外して平均化する演算手段とを具えた
ことを特徴とする発光分光分析装置。 ２ 試料を連続的に平行移動させスパーク電極と
対向する試料面の分析位置を連続的に移動せしめ
るようにした特許請求の範囲第１項記載の発光分
光分析装置。 ３ 試料を断続的に移動させ、試料が停止してい
る間に所定回数のスパークを行わせるようにした
特許請求の範囲第１項記載の発光分光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17302282A JPS5961759A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 発光分光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17302282A JPS5961759A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 発光分光分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5961759A JPS5961759A (ja) | 1984-04-09 |
| JPS642890B2 true JPS642890B2 (ja) | 1989-01-19 |
Family
ID=15952751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17302282A Granted JPS5961759A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 発光分光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5961759A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2722852B2 (ja) * | 1991-04-08 | 1998-03-09 | 住友金属工業株式会社 | 発光分光分析方法及び発光分光分析装置 |
| US7187444B2 (en) | 2001-11-12 | 2007-03-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Measuring method and apparatus using attenuation in total internal reflection |
| KR101027260B1 (ko) * | 2008-12-23 | 2011-04-06 | 주식회사 포스코 | 불연속 스파크형 슬라브 단면 개재물의 맵 획득시스템 및 획득방법 |
| KR101027278B1 (ko) * | 2008-12-23 | 2011-04-06 | 주식회사 포스코 | 연속 스파크형 슬라브 단면 개재물의 맵 획득시스템 및 획득방법 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5347034B2 (ja) * | 1973-09-07 | 1978-12-18 |
-
1982
- 1982-09-30 JP JP17302282A patent/JPS5961759A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5961759A (ja) | 1984-04-09 |
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