JPS643834B2 - - Google Patents
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- JPS643834B2 JPS643834B2 JP13477584A JP13477584A JPS643834B2 JP S643834 B2 JPS643834 B2 JP S643834B2 JP 13477584 A JP13477584 A JP 13477584A JP 13477584 A JP13477584 A JP 13477584A JP S643834 B2 JPS643834 B2 JP S643834B2
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- mortar
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Landscapes
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、モルタル層表面に凹凸状の浮彫模様
を形成する方法に関するものである。
を形成する方法に関するものである。
〔産業上の利用分野〕
浮彫模様を有する材料は、建築関係の外装及び
内装用をはじめとして、その他さまざまな分野に
おいて幅広く利用されている。
内装用をはじめとして、その他さまざまな分野に
おいて幅広く利用されている。
従来、モルタル層表面へ浮彫模様を形成する方
法の代表的なものとしては、(1)こて、へらによる
方法、(2)ローラーによる方法、(3)吹付による方
法、(4)エンボツシングによる方法、(5)ブラストに
よる方法等が知られている。
法の代表的なものとしては、(1)こて、へらによる
方法、(2)ローラーによる方法、(3)吹付による方
法、(4)エンボツシングによる方法、(5)ブラストに
よる方法等が知られている。
しかして、(1)の方法は、しつくい壁の仕上げ工
法として発展してきたものであり、細かな浮彫模
様を形成することは非常に難しく、熟練を要する
ものであつた。
法として発展してきたものであり、細かな浮彫模
様を形成することは非常に難しく、熟練を要する
ものであつた。
また、(2)の方法は、パターンローラーを押印し
て凹凸を形成させるものであるため、単純な繰返
し模様の形成には適した方法であるが、複雑、微
細な模様の形成には適さないものであつた。
て凹凸を形成させるものであるため、単純な繰返
し模様の形成には適した方法であるが、複雑、微
細な模様の形成には適さないものであつた。
さらに、(3)の方法は、吹付ガンによりランダム
な凹凸模様を形成するには適した方法であるが、
例えば図柄、文字等の特定模様を形成することが
出来ないという欠点を有するものであつた。
な凹凸模様を形成するには適した方法であるが、
例えば図柄、文字等の特定模様を形成することが
出来ないという欠点を有するものであつた。
また、(4)の方法は、一応工場における大量生産
に適した方法であるが、個々の製品にそれぞれ異
なつた模様を付すには不適当な方法であつた。
に適した方法であるが、個々の製品にそれぞれ異
なつた模様を付すには不適当な方法であつた。
(5)の方法は、モルタル層上を部分的にマスク
し、マスクされていない個所をブラスト処理する
ことにより削り、凹凸状の浮彫模様を形成するも
のである。しかし、この方法は、ブラスト処理の
際に、粉塵及び騒音等が発生するために作業環境
の悪化、すなわち作業場の周囲への悪影響も大き
く、加えて作業時間も長く、しかも危険をも伴う
等の各種欠点を有するものであつた。
し、マスクされていない個所をブラスト処理する
ことにより削り、凹凸状の浮彫模様を形成するも
のである。しかし、この方法は、ブラスト処理の
際に、粉塵及び騒音等が発生するために作業環境
の悪化、すなわち作業場の周囲への悪影響も大き
く、加えて作業時間も長く、しかも危険をも伴う
等の各種欠点を有するものであつた。
さらに、従来コンクリートパネルにモルタルを
塗布する際に、モルタルとコンクリートの密着性
を向上させる目的で、コンクリート表面を凹凸状
にする手段として、次のような方法が知られてい
る。すなわち、型枠にあらかじめ部分的にセメン
ト硬化遅延剤を塗布し、次いでコンクリートを型
枠内に流し込み、養生し、次いで洗い出しを行な
う凹凸状のコンクリートパネルを製造する方法で
ある。
塗布する際に、モルタルとコンクリートの密着性
を向上させる目的で、コンクリート表面を凹凸状
にする手段として、次のような方法が知られてい
る。すなわち、型枠にあらかじめ部分的にセメン
ト硬化遅延剤を塗布し、次いでコンクリートを型
枠内に流し込み、養生し、次いで洗い出しを行な
う凹凸状のコンクリートパネルを製造する方法で
ある。
ところで、この方法は型枠を必要とし、しかも
任意の基材に適用できるものではなかつた。さら
に、得られた凹凸は、シヤープな(輪郭のはつき
りした)、かつ彫りの深い凹凸模様ではなかつた。
それ故、この方法は、美観を目的とした浮彫模様
の形成手段としては不適当なものであつた。
任意の基材に適用できるものではなかつた。さら
に、得られた凹凸は、シヤープな(輪郭のはつき
りした)、かつ彫りの深い凹凸模様ではなかつた。
それ故、この方法は、美観を目的とした浮彫模様
の形成手段としては不適当なものであつた。
本発明者らは、以上の如き浮彫模様の分野にお
ける現状に鑑み、任意の基材上に、鮮明でランダ
ム模様でない任意の凹凸状の浮彫模様を、熟練を
要することなく簡単に形成する方法につき鋭意検
討した結果、本発明に到つたのである。
ける現状に鑑み、任意の基材上に、鮮明でランダ
ム模様でない任意の凹凸状の浮彫模様を、熟練を
要することなく簡単に形成する方法につき鋭意検
討した結果、本発明に到つたのである。
すなわち本発明は、
(i) 基材上にモルタルを塗布し、モルタル層を形
成する工程、 (ii) 該モルタル層が未硬化の間に、自然硬化型塗
料を該モルタル層表面に部分的に、模様状に塗
布し、乾燥させる工程、 (iii) 該モルタル層表面にセメント硬化遅延剤溶液
を塗布する工程、 (iv) 該モルタル層を養生する工程、及び (v) モルタル層の養生の後、塗料塗膜を施してい
ない個所のモルタル層を洗浄除去する工程、 の諸工程からなる、深い凹凸を有する浮彫模様の
形成方法に関するものである。
成する工程、 (ii) 該モルタル層が未硬化の間に、自然硬化型塗
料を該モルタル層表面に部分的に、模様状に塗
布し、乾燥させる工程、 (iii) 該モルタル層表面にセメント硬化遅延剤溶液
を塗布する工程、 (iv) 該モルタル層を養生する工程、及び (v) モルタル層の養生の後、塗料塗膜を施してい
ない個所のモルタル層を洗浄除去する工程、 の諸工程からなる、深い凹凸を有する浮彫模様の
形成方法に関するものである。
本発明においては、モルタル層が未硬化の間
に、塗料塗膜を施していないモルタル層に、セメ
ント硬化遅延剤溶液を含浸する。したがつて、硬
化遅延剤を含浸した個所は、硬化が遅延し、養生
後であつても洗浄により容易に除去できる。一
方、塗料塗膜の下のモルタル層は、塗膜によつて
保護され、かつセメント硬化遅延剤溶液を含浸し
ておらず、養生により硬化しているので除去され
ることはない。それ故本発明の方法は、塗料塗膜
の模様に応じてシヤープな形状で、深い凹凸を有
する浮彫模様を、モルタル層表面に形成できると
いう特長を有するものである。
に、塗料塗膜を施していないモルタル層に、セメ
ント硬化遅延剤溶液を含浸する。したがつて、硬
化遅延剤を含浸した個所は、硬化が遅延し、養生
後であつても洗浄により容易に除去できる。一
方、塗料塗膜の下のモルタル層は、塗膜によつて
保護され、かつセメント硬化遅延剤溶液を含浸し
ておらず、養生により硬化しているので除去され
ることはない。それ故本発明の方法は、塗料塗膜
の模様に応じてシヤープな形状で、深い凹凸を有
する浮彫模様を、モルタル層表面に形成できると
いう特長を有するものである。
また、本発明においては、モルタル層の厚さ及
びセメント硬化遅延剤の含浸及び除去の程度を、
適当にコントロールすることにより、浅い凹凸を
有するものは勿論のこと、深い凹凸を有するもの
まで、所望の深さの凹凸を有する浮彫模様が自由
に形成できるという特長を有する。さらに本発明
の方法は、浮彫模様がモルタル層からなるもので
あるため、非常に安価にしかも深い凹凸を有する
浮彫模様を形成することができるという特長を有
する。
びセメント硬化遅延剤の含浸及び除去の程度を、
適当にコントロールすることにより、浅い凹凸を
有するものは勿論のこと、深い凹凸を有するもの
まで、所望の深さの凹凸を有する浮彫模様が自由
に形成できるという特長を有する。さらに本発明
の方法は、浮彫模様がモルタル層からなるもので
あるため、非常に安価にしかも深い凹凸を有する
浮彫模様を形成することができるという特長を有
する。
以下、本発明の凹凸を有する浮彫模様の形成方
法につき、さらに具体的に説明する。
法につき、さらに具体的に説明する。
まず本発明において使用する基材としては、公
知のモルタルを密着できるあらゆる基材が適用で
きる。例えば、鉄、アルミニウム、ステンレス等
の金属、ガラス、タイル、陶磁器、コンクリー
ト、レンガ、石材、木材、プラスチツクあるいは
これらの積層体等を挙げることができる。その表
面は必ずしも平面である必要はなく、例えば曲面
であつてもよい。これら基材には、必要に応じて
粗面にしたり、着色したり、プライマーを施した
り等の下地処理を施すこともできる。
知のモルタルを密着できるあらゆる基材が適用で
きる。例えば、鉄、アルミニウム、ステンレス等
の金属、ガラス、タイル、陶磁器、コンクリー
ト、レンガ、石材、木材、プラスチツクあるいは
これらの積層体等を挙げることができる。その表
面は必ずしも平面である必要はなく、例えば曲面
であつてもよい。これら基材には、必要に応じて
粗面にしたり、着色したり、プライマーを施した
り等の下地処理を施すこともできる。
本発明においては、第一工程として、前記のよ
うな基材上にモルタルを、コテ、ヘラ、スプレー
等の通常用いられる手段により塗布し、モルタル
層を形成する。該モルタル層の厚さは、特に制限
はない。しかし凹凸の彫りの深さに応じ、実用上
約1〜20mmにすることが好ましい。
うな基材上にモルタルを、コテ、ヘラ、スプレー
等の通常用いられる手段により塗布し、モルタル
層を形成する。該モルタル層の厚さは、特に制限
はない。しかし凹凸の彫りの深さに応じ、実用上
約1〜20mmにすることが好ましい。
本発明で使用するモルタルは、従来から一般に
使用されているものがそのまま適用出来る。すな
わちセメント、砂等の骨材及び水からなるもので
あり、必要に応じさらに着色顔料、各種添加剤等
を配合したものである。またアクリル樹脂系エマ
ルジヨン、酢酸ビニル樹脂系エマルジヨン、エポ
キシ樹脂系エマルジヨン、スチレンブタジエン樹
脂系エマルジヨン等を配合した、いわゆる樹脂モ
ルタルも本発明において使用出来る。
使用されているものがそのまま適用出来る。すな
わちセメント、砂等の骨材及び水からなるもので
あり、必要に応じさらに着色顔料、各種添加剤等
を配合したものである。またアクリル樹脂系エマ
ルジヨン、酢酸ビニル樹脂系エマルジヨン、エポ
キシ樹脂系エマルジヨン、スチレンブタジエン樹
脂系エマルジヨン等を配合した、いわゆる樹脂モ
ルタルも本発明において使用出来る。
本発明においてはモルタル層は、同一色のモル
タルを使用する以外に、色の異なるモルタルを複
数回塗り重ねることもできる。このように色の異
なる複数のモルタル層を形成することにより、後
述する洗浄除去工程において、モルタル層を洗浄
除去する際の各場所の除去程度、すなわち凹部の
深さを加減することにより、深さに応じて多色の
変化のある凹凸浮彫模様を形成することが可能と
なる。
タルを使用する以外に、色の異なるモルタルを複
数回塗り重ねることもできる。このように色の異
なる複数のモルタル層を形成することにより、後
述する洗浄除去工程において、モルタル層を洗浄
除去する際の各場所の除去程度、すなわち凹部の
深さを加減することにより、深さに応じて多色の
変化のある凹凸浮彫模様を形成することが可能と
なる。
このようにして形成したモルタル層の未硬化の
間に、好ましくはモルタル層表面の遊離水が消失
し、指で軽く押して変形しない程度になつた時点
で、自然硬化型塗料を、モルタル層表面に部分的
(すなわち全面ではない)に、模様状に(所望の
模様を形成するように)塗布し、塗料塗膜を形成
する。塗料を模様状に塗布する方法としては、例
えば、塗料業界で通常利用されているシルクスク
リーンを使用する方法、及びモルタル層表面を模
様状にマスクした後に塗料を塗布する方法等を挙
げることができる。しかし、これらに限定される
ものではない。
間に、好ましくはモルタル層表面の遊離水が消失
し、指で軽く押して変形しない程度になつた時点
で、自然硬化型塗料を、モルタル層表面に部分的
(すなわち全面ではない)に、模様状に(所望の
模様を形成するように)塗布し、塗料塗膜を形成
する。塗料を模様状に塗布する方法としては、例
えば、塗料業界で通常利用されているシルクスク
リーンを使用する方法、及びモルタル層表面を模
様状にマスクした後に塗料を塗布する方法等を挙
げることができる。しかし、これらに限定される
ものではない。
なお、本発明で使用する自然硬化型塗料は、セ
メント硬化遅延剤溶液を通過させない被膜を形成
するものであれば、従来から一般に使用されてい
る自然硬化型塗料がそのまま使用出来る。具体的
には、代表的なものとして、油性塗料、硝化綿ラ
ツカー、アクリルラツカー、アルキツド樹脂系塗
料、塩化ビニル樹脂系塗料、アクリル樹脂系塗
料、ウレタン樹脂系塗料、エポキシ樹脂系塗料、
塩化ゴム系塗料等の溶剤型塗料、酢酸ビニル樹脂
系エマルジヨン塗料、アクリル樹脂系エマルジヨ
ン塗料等の水系塗料等が挙げられる。
メント硬化遅延剤溶液を通過させない被膜を形成
するものであれば、従来から一般に使用されてい
る自然硬化型塗料がそのまま使用出来る。具体的
には、代表的なものとして、油性塗料、硝化綿ラ
ツカー、アクリルラツカー、アルキツド樹脂系塗
料、塩化ビニル樹脂系塗料、アクリル樹脂系塗
料、ウレタン樹脂系塗料、エポキシ樹脂系塗料、
塩化ゴム系塗料等の溶剤型塗料、酢酸ビニル樹脂
系エマルジヨン塗料、アクリル樹脂系エマルジヨ
ン塗料等の水系塗料等が挙げられる。
次いで、塗料塗膜を乾燥する。ただし、本発明
における塗料塗膜が乾燥した状態とは、必ずしも
該塗料塗膜が完全に硬化した状態を意味するもの
ではない。例えば、セメント硬化遅延剤溶液を塗
布したときに、該溶液が塗料塗膜によつて遮断さ
れ、該塗膜の下のモルタル層に含浸しない程度に
硬化した状態であればよい。この場合、塗料塗膜
は、最終製品に必ずしも残存していなくともよ
く、セメント硬化遅延剤溶液が、塗料塗膜の下の
モルタル層に含浸するのを防止する機能を持つて
いればよいのである。
における塗料塗膜が乾燥した状態とは、必ずしも
該塗料塗膜が完全に硬化した状態を意味するもの
ではない。例えば、セメント硬化遅延剤溶液を塗
布したときに、該溶液が塗料塗膜によつて遮断さ
れ、該塗膜の下のモルタル層に含浸しない程度に
硬化した状態であればよい。この場合、塗料塗膜
は、最終製品に必ずしも残存していなくともよ
く、セメント硬化遅延剤溶液が、塗料塗膜の下の
モルタル層に含浸するのを防止する機能を持つて
いればよいのである。
次いでモルタル層表面に、セメント硬化遅延剤
溶液を塗布する。該溶液は、塗料塗膜の下のモル
タル層には含浸することはない。したがつて、塗
料塗膜を施していない個所のモルタル層にのみセ
メント硬化遅延剤溶液を含浸させることができ
る。
溶液を塗布する。該溶液は、塗料塗膜の下のモル
タル層には含浸することはない。したがつて、塗
料塗膜を施していない個所のモルタル層にのみセ
メント硬化遅延剤溶液を含浸させることができ
る。
またセメント硬化遅延剤溶液の粘度、塗布量を
調節することにより、凹凸の深さを自由に変える
ことができる。すなわち、例えばセメント硬化遅
延剤の粘度を低くし、及び/又は塗布量を多くす
ることにより、セメント硬化遅延剤をより深く含
浸することができるため、凹凸の深さを大きくす
ることができる。
調節することにより、凹凸の深さを自由に変える
ことができる。すなわち、例えばセメント硬化遅
延剤の粘度を低くし、及び/又は塗布量を多くす
ることにより、セメント硬化遅延剤をより深く含
浸することができるため、凹凸の深さを大きくす
ることができる。
本発明において使用するセメント硬化遅延剤溶
液の粘度は、モルタル層への浸透性等を考慮する
と104ポイズ(20℃において)以下であることが
好ましい。該粘度範囲のセメント硬化遅延剤溶液
を使用することによつて、よりシヤープな凹部を
形成することができる。
液の粘度は、モルタル層への浸透性等を考慮する
と104ポイズ(20℃において)以下であることが
好ましい。該粘度範囲のセメント硬化遅延剤溶液
を使用することによつて、よりシヤープな凹部を
形成することができる。
本発明においてセメント硬化遅延剤溶液として
は、従来から一般に使用されているものがそのま
ま使用可能である。具体的には、例えばリン酸二
水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン
酸ナトリウム、四ホウ酸ナトリウム、糖類、酢酸
カルシウム、オキシカルボン酸塩、リグニンスル
フオン酸塩、アルコール等が代表的なものとして
あげられる。なお、固体のものについては、水溶
液として使用する。
は、従来から一般に使用されているものがそのま
ま使用可能である。具体的には、例えばリン酸二
水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン
酸ナトリウム、四ホウ酸ナトリウム、糖類、酢酸
カルシウム、オキシカルボン酸塩、リグニンスル
フオン酸塩、アルコール等が代表的なものとして
あげられる。なお、固体のものについては、水溶
液として使用する。
また、セメント硬化遅延剤溶液は、ポリビニル
アルコール、メチルセルロース、アルギン酸ソー
ダ、ベントナイト等の増粘剤を添加する等の手段
により、所望の粘度に調整することができる。
アルコール、メチルセルロース、アルギン酸ソー
ダ、ベントナイト等の増粘剤を添加する等の手段
により、所望の粘度に調整することができる。
本発明においては、セメント硬化遅延剤溶液を
適用後、モルタル層を一定時間養生させる。養生
方法としては、通常モルタルの養生方法として知
られている自然養生法、水蒸気養生法、加圧養生
法等が採用出来る。
適用後、モルタル層を一定時間養生させる。養生
方法としては、通常モルタルの養生方法として知
られている自然養生法、水蒸気養生法、加圧養生
法等が採用出来る。
養生のための時間は、後述する洗浄除去工程に
おいて、セメント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸し
していない個所(すなわち、塗料塗膜を施した個
所)のモルタル層は除去されない程度に硬化し、
かつセメント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸した個
所(すなわち、塗料塗膜を施していない個所)の
モルタル層は未硬化であるか、もしくは比較的容
易に除去できる程度に半硬化するに要する時間と
する。具体的には、例えば自然養生法の場合、常
温(例えば20℃)で約8〜50時間とすることが好
ましい。
おいて、セメント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸し
していない個所(すなわち、塗料塗膜を施した個
所)のモルタル層は除去されない程度に硬化し、
かつセメント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸した個
所(すなわち、塗料塗膜を施していない個所)の
モルタル層は未硬化であるか、もしくは比較的容
易に除去できる程度に半硬化するに要する時間と
する。具体的には、例えば自然養生法の場合、常
温(例えば20℃)で約8〜50時間とすることが好
ましい。
モルタル層を養生させた後、水あるいは水に洗
剤等を添加した洗浄液を用い、かつ回転ブラシで
擦る方法、あるいは該洗浄液を高圧噴射する方法
等の手段により、セメント硬化遅延剤溶液を塗
布、含浸した個所のモルタル層を除去する。
剤等を添加した洗浄液を用い、かつ回転ブラシで
擦る方法、あるいは該洗浄液を高圧噴射する方法
等の手段により、セメント硬化遅延剤溶液を塗
布、含浸した個所のモルタル層を除去する。
このようにして得られたモルタル層は、前記塗
料塗膜により形成した模様に対応した凹凸模様を
形成するものであつた。
料塗膜により形成した模様に対応した凹凸模様を
形成するものであつた。
本発明に於いてはさらに必要に応じ、色彩を付
与したり、光沢度を調整したりすることができ
る。さらに耐侯性、耐水性、耐薬品性等を付する
ために、全面もしくは凹部(又は凸部)に別の着
色塗膜を施したり、全面にクリヤーもしくはカラ
ークリヤー等の塗膜を施したり、あるいは研磨す
ることもできる。
与したり、光沢度を調整したりすることができ
る。さらに耐侯性、耐水性、耐薬品性等を付する
ために、全面もしくは凹部(又は凸部)に別の着
色塗膜を施したり、全面にクリヤーもしくはカラ
ークリヤー等の塗膜を施したり、あるいは研磨す
ることもできる。
以上、記載したように本発明の方法により、任
意の深さの、深い凹凸を有する、浮彫模様を、簡
単に、かつ安価に得ることが可能である。また、
塗料塗膜により形成した模様に対応した凹凸を有
する塗料塗膜を形成できるため、塗料塗膜の模様
を色々と変化させることにより、所望の凹凸模様
を簡単に得ることができるという特長を有する。
意の深さの、深い凹凸を有する、浮彫模様を、簡
単に、かつ安価に得ることが可能である。また、
塗料塗膜により形成した模様に対応した凹凸を有
する塗料塗膜を形成できるため、塗料塗膜の模様
を色々と変化させることにより、所望の凹凸模様
を簡単に得ることができるという特長を有する。
また、本発明の方法により得られた凹凸模様を
形成したモルタル層を有するものは、建材、装飾
品等に利用でき、工場あるいは現場においても製
造できる特長を有している。
形成したモルタル層を有するものは、建材、装飾
品等に利用でき、工場あるいは現場においても製
造できる特長を有している。
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。
する。
なお、実施例中「部」、「%」は重量基準であ
る。
る。
実施例 1
周囲に木製枠をもうけた石綿スレート板(900
×1800×10mm)表面に、ポルトランドセメント25
部、シリカ粉55部、減水剤0.3部及び水20部から
なるモルタルを、コテにて塗布し、3mm厚の平滑
なモルタル層を形成した。20℃で1時間放置し、
表面の水が消失し、指で軽く押して変形しないこ
とを確認した後、図柄を描いたシルクスクリーン
(注1)をモルタル層表面に密着させた。
×1800×10mm)表面に、ポルトランドセメント25
部、シリカ粉55部、減水剤0.3部及び水20部から
なるモルタルを、コテにて塗布し、3mm厚の平滑
なモルタル層を形成した。20℃で1時間放置し、
表面の水が消失し、指で軽く押して変形しないこ
とを確認した後、図柄を描いたシルクスクリーン
(注1)をモルタル層表面に密着させた。
(注1) 〔台板の上に紫外線硬化型樹脂溶液を
200g/m2塗布し90メツシユのポリエステル製
紗を張り付けた。この紗の上に図柄を描いたポ
ジフイルムを重ね、ロールにて気泡を追い出し
ながら紗とフイルムを密着させた。次いで紫外
線を照射し、フイルムの透明部に位置する紫外
線硬化型樹脂を硬化させ、未硬化樹脂を溶剤で
洗い落としシルクスクリーンを作成した。〕 次いで、アクリル樹脂系塗料〔「ビルデイング」
(大日本塗料社製商品名)〕をシルクスクリーン上
にドクターブレードにて塗布(100g/m2)した。
200g/m2塗布し90メツシユのポリエステル製
紗を張り付けた。この紗の上に図柄を描いたポ
ジフイルムを重ね、ロールにて気泡を追い出し
ながら紗とフイルムを密着させた。次いで紫外
線を照射し、フイルムの透明部に位置する紫外
線硬化型樹脂を硬化させ、未硬化樹脂を溶剤で
洗い落としシルクスクリーンを作成した。〕 次いで、アクリル樹脂系塗料〔「ビルデイング」
(大日本塗料社製商品名)〕をシルクスクリーン上
にドクターブレードにて塗布(100g/m2)した。
次いで、シルクスクリーンを取り除き、20℃で
30分間塗膜を乾燥させた後、塗膜を施していない
露出したモルタル層表面に、リン酸三ナトリウム
60部、フタロシアニンブルー1部及び水89部から
なるセメント硬化遅延剤溶液を、スプレーにて塗
布(300g/m2)した。
30分間塗膜を乾燥させた後、塗膜を施していない
露出したモルタル層表面に、リン酸三ナトリウム
60部、フタロシアニンブルー1部及び水89部から
なるセメント硬化遅延剤溶液を、スプレーにて塗
布(300g/m2)した。
該塗布の後、モルタル層を温度20℃、相対湿度
75%の雰囲気中で1日養生させた。
75%の雰囲気中で1日養生させた。
次いで、水を注ぎ(30/分)ながら5分/m2
の割合で、回転(250rpm)するナイロン糸(径
0.6mm)を束ねた円型ブラシ(φ100mm)で擦り、
セメント硬化遅延剤溶液を含浸させた個所のモル
タル層を除去した。
の割合で、回転(250rpm)するナイロン糸(径
0.6mm)を束ねた円型ブラシ(φ100mm)で擦り、
セメント硬化遅延剤溶液を含浸させた個所のモル
タル層を除去した。
得られた表面には、シルクスクリーンの図柄に
対応した、、平均深さ約1.5mmのシヤープな模様状
凹凸が形成できた。
対応した、、平均深さ約1.5mmのシヤープな模様状
凹凸が形成できた。
次いでモルタル層全面にアクリル樹脂系エマル
ジヨンシーラーを施した後、白色アクリル樹脂系
エマルジヨン塗料を塗布、乾燥した。
ジヨンシーラーを施した後、白色アクリル樹脂系
エマルジヨン塗料を塗布、乾燥した。
このようにして得られたモルタル層表面には、
きわめて浮彫り感のある、浮彫模様が得られた。
きわめて浮彫り感のある、浮彫模様が得られた。
実施例 2
石綿スレート板表面に、ポルトランドセメント
30部、シリカ粉25部、酢酸ビニル樹脂系エマルジ
ヨン(NV50%)8部、メチルセルロース系増粘
剤1部、減水剤0.3部及び水25部からなるモルタ
ルをコテにて塗布し、10mm厚の平滑なモルタル層
を形成した。20℃で1時間放置し、表面の水が消
失し、指で軽く押して変形しないことを確認した
後、図柄を描いたシルクスクリーンをモルタル層
表面に密着させた。
30部、シリカ粉25部、酢酸ビニル樹脂系エマルジ
ヨン(NV50%)8部、メチルセルロース系増粘
剤1部、減水剤0.3部及び水25部からなるモルタ
ルをコテにて塗布し、10mm厚の平滑なモルタル層
を形成した。20℃で1時間放置し、表面の水が消
失し、指で軽く押して変形しないことを確認した
後、図柄を描いたシルクスクリーンをモルタル層
表面に密着させた。
次いで、アルキツド樹脂系塗料〔「ハイメル」
(大日本塗料社製商品名)〕を、シルクスクリーン
上にドクターブレードにて塗布(100g/m2)し
た。
(大日本塗料社製商品名)〕を、シルクスクリーン
上にドクターブレードにて塗布(100g/m2)し
た。
次いでシルクスクリーンを取り除き、20℃で30
分間塗膜を乾燥させた後、モルタル層表面に、四
ホウ酸ナトリウム4部、フタロシアニンブルー1
部及び水100部からなるセメント硬化遅延剤溶液
を、スプレーにて塗布(500g/m2)した。
分間塗膜を乾燥させた後、モルタル層表面に、四
ホウ酸ナトリウム4部、フタロシアニンブルー1
部及び水100部からなるセメント硬化遅延剤溶液
を、スプレーにて塗布(500g/m2)した。
次いでモルタル層を、温度20℃、相対湿度75%
の雰囲気中で1日養生させた。
の雰囲気中で1日養生させた。
該養生の後、実施例1と同様にして、セメント
硬化遅延剤溶液を含浸させた個所のモルタル層を
洗浄除去した。
硬化遅延剤溶液を含浸させた個所のモルタル層を
洗浄除去した。
得られた表面には、シルクスクリーンの図柄に
対応した、平均深さ約3mmのシヤープな模様状凹
凸が形成できた。
対応した、平均深さ約3mmのシヤープな模様状凹
凸が形成できた。
次いで、モルタル層全面に緑色ウレタン樹脂系
塗料をスプレーにて塗布、乾燥した後、凸部のみ
に赤色ウレタン樹脂系塗料をゴムローラにて塗
布、乾燥し、さらに全面にクリヤーウレタン樹脂
系塗料をスプレーにて塗布、乾燥した。
塗料をスプレーにて塗布、乾燥した後、凸部のみ
に赤色ウレタン樹脂系塗料をゴムローラにて塗
布、乾燥し、さらに全面にクリヤーウレタン樹脂
系塗料をスプレーにて塗布、乾燥した。
このようにして得られたモルタル層表面には、
凸部が緑色の、きわめて浮彫り感のある浮彫模様
が得られた。
凸部が緑色の、きわめて浮彫り感のある浮彫模様
が得られた。
実施例 3
石綿スレート板表面に白色ポルトランドセメン
ト30部、シリカ粉20部、ルチル型チタン白5部、
アクリル樹脂系エマルジヨン(NV50%)7部、
メチルセルロース系増粘剤1部、減水剤0.5部及
び水25部からなる白色モルタルを5mm厚に塗布し
た。次いで、前記白色モルタル中のルチル型チタ
ン白5部の代りにナフトールレツド1部を配合し
たモルタルを、2mm厚に塗重ねた。
ト30部、シリカ粉20部、ルチル型チタン白5部、
アクリル樹脂系エマルジヨン(NV50%)7部、
メチルセルロース系増粘剤1部、減水剤0.5部及
び水25部からなる白色モルタルを5mm厚に塗布し
た。次いで、前記白色モルタル中のルチル型チタ
ン白5部の代りにナフトールレツド1部を配合し
たモルタルを、2mm厚に塗重ねた。
20℃で1時間放置し、表面の水が消失し、指で
軽く押して変形しないことを確認した後、図柄を
描いたシルクスクリーンをモルタル層表面に密着
させた。
軽く押して変形しないことを確認した後、図柄を
描いたシルクスクリーンをモルタル層表面に密着
させた。
次いで、水性アルキツド樹脂塗料〔「サンデー
オール」(サンデーペイント社製商品名)〕を、シ
ルクスクリーン上にドクターブレードにて塗布
(100g/m2)した。
オール」(サンデーペイント社製商品名)〕を、シ
ルクスクリーン上にドクターブレードにて塗布
(100g/m2)した。
該塗布の後、シルクスクリーンを取り除き、20
℃で30分間塗膜を乾燥した後、モルタル層表面に
リン酸水素ナトリウム10部、フタロシアニンブル
ー1部、メチルセルロース系増粘剤1部及び水88
部からなるセメント硬化遅延剤溶液を、スプレー
にて塗布(800g/m2)した。
℃で30分間塗膜を乾燥した後、モルタル層表面に
リン酸水素ナトリウム10部、フタロシアニンブル
ー1部、メチルセルロース系増粘剤1部及び水88
部からなるセメント硬化遅延剤溶液を、スプレー
にて塗布(800g/m2)した。
次いでモルタル層を、温度20℃、相対湿度75%
の雰囲気中で1日養生させた。
の雰囲気中で1日養生させた。
該養生の後、実施例1と同様にして、セメント
硬化遅延剤溶液を含浸させた個所のモルタル層を
洗浄除去した。
硬化遅延剤溶液を含浸させた個所のモルタル層を
洗浄除去した。
得られた表面には、シルクスクリーンの図柄に
対応した平均深さ約3.5mmのシヤープな模様状凹
凸が形成できた。
対応した平均深さ約3.5mmのシヤープな模様状凹
凸が形成できた。
次いで、モルタル層全面にクリヤーウレタン樹
脂系塗料を塗布、乾燥した。
脂系塗料を塗布、乾燥した。
このようにして得られたモルタル層表面には、
凸部が赤色、凹部が白色のきわめて浮彫り感のあ
る浮彫模様が得られた。
凸部が赤色、凹部が白色のきわめて浮彫り感のあ
る浮彫模様が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (i) 基材上にモルタルを塗布し、モルタル層
を形成する工程、 (ii) 自然硬化型塗料による塗膜を該モルタル層表
面に部分的に、模様状に形成する工程、 (iii) 該モルタル層表面にセメント硬化遅延剤溶液
を適用する工程、 (iv) 該モルタル層を養生する工程、及び (v) モルタル層の養生の後、塗料塗膜を施してい
ない個所のモルタル層を除去する工程、 の諸工程からなる、深い凹凸を有する浮彫模様の
形成法。 2 自然硬化型塗料の模様を、シルクスクリーン
印刷の手法により形成することを特徴とする、特
許請求の範囲第1項記載の浮彫模様の形成法。 3 モルタル層が、色の異なる複数のモルタル層
から構成されていることを特徴とする、特許請求
の範囲第1項又は第2項記載の浮彫模様の形成
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13477584A JPS6114185A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 浮彫模様の形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13477584A JPS6114185A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 浮彫模様の形成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6114185A JPS6114185A (ja) | 1986-01-22 |
| JPS643834B2 true JPS643834B2 (ja) | 1989-01-23 |
Family
ID=15136269
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13477584A Granted JPS6114185A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 浮彫模様の形成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6114185A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04505811A (ja) * | 1987-12-31 | 1992-10-08 | ドルゴフ,ユージーン | 改良されたビデオディスプレイシステム |
-
1984
- 1984-06-29 JP JP13477584A patent/JPS6114185A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04505811A (ja) * | 1987-12-31 | 1992-10-08 | ドルゴフ,ユージーン | 改良されたビデオディスプレイシステム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6114185A (ja) | 1986-01-22 |
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