KR20070119663A - 스테인리스강 전해판 - Google Patents

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KR20070119663A
KR20070119663A KR1020077022643A KR20077022643A KR20070119663A KR 20070119663 A KR20070119663 A KR 20070119663A KR 1020077022643 A KR1020077022643 A KR 1020077022643A KR 20077022643 A KR20077022643 A KR 20077022643A KR 20070119663 A KR20070119663 A KR 20070119663A
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Abstract

본 발명은, 금속 음극의 전해정제용으로 적합한 실질적으로 영구적인 스테인리스강 음극판(1)을 제공하며, 상기 음극은 니켈 함량이 낮은 이중 강 또는 낮은 "304'급 강으로 구성되고, 전극 위치의 가동중 접착성은 음극 표면의 품질을 여러 가지로 변경함으로써 얻어진다. 본 발명은 또한, 전해판 상의 피착물의 바람직한 가동중 접착성이 후속 취급시 제거되는 금속 피착물이 제거되는 것을 막을 정도로 강하지 않도록, 상기 이중 또는 304급 음극판을 제조하는 방법을 제공한다.
전해판, 스테인리스강, 304급 강, 이중 강, 접착 특성, 전해정제, 전기채취

Description

스테인리스강 전해판{STAINLESS STEEL ELECTROLYTIC PLATES}
관련 출원
본 PCT 국제출원은 2005년 3월 9일자로 출원된 오스트레일리아 특허 가출원 제2005901127호를 우선권으로 주장하며, 상기 출원은 원용되어 본 명세서에 포함된다. 2005년 11월 16일자로 출원된 미국 특허출원 제11/281,686호도 AU 2005901127호의 혜택을 청구한다.
기술 분야
본 발명은 전해판(electrolytic plate)에 관한 것으로, 특히 금속의 전해 방식 회수 용도에 적합한 실질적으로 영구적인 음극판에 관한 것이다.
본 발명은 1차적으로, 구리 음극의 전해채취(electrowinning) 용도에 적합한 실질적으로 영구적인 스테인리스강 음극판로서 개발되었다. 전착(electrodeposition)의 운전상 접착은 음극의 표면 마감(surface finish) 특성에 의해 강화되며; 본 개발 내용은 이하에서 이 응용을 참조하여 설명된다. 그러나, 본 발명은 이러한 특정 사용 분야에 한정되지 않는다.
본 명세서 전반에 걸친 종래 기술에 대한 모든 논의는 그러한 종래 기술이 널리 알려져 있다거나 그 분야에서 일반적 상식의 일부를 형성한다는 것을 시인하 는 것으로 간주되어서는 안된다.
구리의 전해정제(electrorefining)는 구리 약 99.7%인 불순물 함유 양극으로부터 전해 방식으로 구리를 용해시킨 다음, 용해된 구리를 순수한 형태로 음극 표면에 선택적으로 도금하는 공정을 포함한다. 이 반응은 실질적으로 황산구리와 황산의 혼합물인 전해질이 담겨 있는 셀(cell)에서 일어난다.
금속의 전해정제를 위한 공정 및 장치에는 여러 가지가 있다. 구리의 전해채취에 있어서, 현재 산업상 최선의 실행은 "영구적" 스테인리스강 음극판의 제조 및 이용을 지향한다. 그러한 실행은 오스트레일리아 퀸즈랜드의 Mount Isa Mines의 Jim Perry 등의 원천 논문(및 특허)에 주로 기초한다. 그러한 기술은 통상적으로 산업 전반에 걸쳐 ISA PROCESS® 기술로 알려져 있다.
ISA PROCESS® 기술(ISA PROCESS 2000TM이라고도 함)은 Mount Isa Mines Limited의 상표로서, 오스트레일리아, 오스트리아, 벨기에, 카나다, 칠레, 중국, 사이프러스, 이집트, 영국, 독일, 인도, 인도네시아, 이란, 일본, 미얀마, 멕시코, 페루, 러시아, 남아프리카, 스페인, 스웨덴, 태국 및 미국에서 면허되어 있다.
이 프로세스에서, 스테인리스강 음극 모판(mother plate)은 구리 양극을 구비한 전해조에 침지된다. 전류를 인가하면 정제되지 않은 베이스 금속이 양극으로부터 전해조 속으로 용해되어 들어가서 모판의 음극 블레이드 상에 정제된 형태로 피착(deposit)된다. 전해질 방식으로 피착된 구리는 이어서 1차로 음극판의 굴곡(flexing)에 의해 블레이드로부터 벗겨져서 구리 피착물(deposit)의 적어도 일부 가 분리된 다음, 구리의 나머지는 블레이드로부터 웨지 스트리핑(wedge stripping) 또는 가스 블라스팅(gas blasting)된다.
상기 스트리핑은 강판과 구리의 상부 에지에 피착된 구리 사이에 삽입된 나이프형 블레이드 또는 칼날형 웨지를 이용하여 실행된다. 이와는 달리, 스트리핑은 구리가 피착된 음극을 해머링 스테이션(hammering station)으로 통과시킴으로써 실행될 수 있는데, 해머링 스테이션에서는 피착된 구리가 양면으로부터 상측 에지 근방에서 심하게 두들겨진다. 이에 따라 구리의 상측 에지가 이완되고, 이어서 강과 이완된 구리의 상측 에지 사이의 좁은 공간으로 하나 이상의 기류를 주입시킴으로써 스트리핑은 마무리 처리된다. 그러나, 스트리핑은 본 출원인에 의해 개발되고 오스트레일리아 특허 AU 712,612호로 특허등록된 굴곡 장치(flexion apparatus) 또는 그와 관련된 방법(미국 특허 US 4,840,710호)에 의해 보다 바람직하게 실행된다.
음극 모판은 일반적으로 스테인리스강 블레이드 및 음극을 전해조 내에 고정하고 지지하기 위해 상기 블레이드의 상부 에지에 연결된 현수 봉(hanger bar)으로 구성된다.
ISA PROCESS®는 실제 섹션을 형성하도록 직렬로 배열된 다중 셀의 시스템을 활용한다. 상기 셀에서, 전극, 양극 구리 및 음극은 병렬로 연결되어 있다.
ISA PROCESS®의 대안으로서, 또 다른 방법은 구리가 전착되는 음극 기판으로서 순도가 더 높은 구리로 된 개시자 시트(starter sheet)를 사용하는 것이다. 개시자 시트는 특수한 전해 셀에서 경질 압연된(hard-rolled) 구리 또는 티타늄 블랭크(blank) 상에 구리를 24시간 전착시킴으로써 제조된다.
개시자 시트의 제조는 상기 시트의 세척 단계, 직선화 단계 및 경질화 단계를 포함한다. 이어서 시트는 압연된 구리 현수 봉으로부터 구리 스트립의 부착된 루프(loop)에 의해 매달린다.
ISA PROCESS®와 종래의 개시자 시트 기술 사이의 근본적 차이는, ISA PROCESS®가 재사용 불가능한 구리 개시자 시트 대신에 '영구적' 재사용 가능형 음극 블랭크를 사용한다는 점이다.
상기 기술의 핵심 요소는 ISA PROCESS® 음극판의 고유한 설계이다. 상기 판 자체는 "316L" 스테인리스강으로 제조되고, 스테인리스강의 직사각형 중공 섹션 현수 봉에 용접된다. 현수 봉은 전기 전도도 및 내부식성 위해 도금된 구리로 둘러싸여 있다.
스테인리스강은 매우 낮은 탄소 레벨(연강에 비해) 및 다양한 레벨의 크롬을 함유하는 철계 금속이다. 크롬은 산소와 결합하여 산화에 견디는 접착성 표면막을 형성한다. ISA PROCESS® 음극판의 316L 스테인리스강은 다음과 같은 대략적 조성을 갖는다: ＜0.03% 탄소, 16-18.5% 크롬, 10-14% 니켈, 2-3% 몰리브덴, ＜2% 망간, ＜1% 실리콘, ＜0.045% 인, ＜0.03% 황, 및 나머지 함량의 철.
오스테나이트 316L은 표준 몰리브덴 함유 등급이다. 몰리브덴은 316L에 탁 월한 전반적 내식성, 특히 산성 환경에서의 점 부식(pitting) 및 틈새 부식(crevice corrosion)에 대한 높은 내성을 부여한다.
그러나, 적절한 강의 선택이 그 자체로 성공을 보장하는 것은 아니다. 음극판의 바람직한 표면 접착 특성은, 구리가 강으로부터 저절로 박리되거나 약화되는 것을 방지하도록 강판과 강판에 피착된 구리 사이의 충분한 부착 점착성을 제공하는 것이다.
이를 위해 316L 스테인리스강에는 "2B' 표면 마감처리가 제공된다. 2B 마감처리는 냉간 압연, 연화 및 스케일 제거에 이어서 폴리싱된 롤을 가볍게 사용한 최종 압연에 의해 제조된 중간 밝기의 흐리고 은회색인 반투명 표면(semi-bright surface)이다. 결과는 "스킨패스-롤드(skinpass-rolled)" 또는 "2B"("B"=bright)라 지칭되고, 표면 조도(Ra) 지수가 0.1 내지 0.5 ㎛인 반투명 회색 표면이다. 2B 강은 종종, 청결 상태를 유지하는 것이 용이한 표면이 요구될 경우 식품 산업에서 사용되는 프로세스 장치로 사용된다.
표면의 평활도 및 반사율은 해당 재료가 압연됨에 따라 더욱 얇은 치수로 향상시킨다. 요구되는 게이지(gauge) 및 최종 어닐(anneal)의 감소를 실현하기 위해 실행되어야 하는 모든 어닐링은 매우 정밀하게 제어되는 불활성 분위기에서 실현된다. 따라서, 표면의 산화 또는 스케일은 실질적으로 발생되지 않으며, 부가적인 산세척(pickling) 및 부동화(passivating)가 필요하지 않다.
ISA PROCESS® 에서 사용되는 바와 같이, 2B-마감처리 316L 강 블레이드는 두께가 3.25mm이며, 중공의 스테인리스강 섹션 현수 봉에 용접되어 있다(국제특허 공개공보 WO 03/062497호; 미국특허 공개공보 US 2005126906호). 전기 전도도를 향상시키기 위해, 현수 봉은 2.5mm 두께의 전기도금된 구리 코팅으로 둘러싸여 있다. 구리 음극가 에지 주위에서 성장하는 것을 방지하기 위해 수직 에지(오스트레일리아 특허 AU 646,450호)는 플라스틱 에지 스트립(국제특허 출원번호 PCT/AU00/00668호)으로 표시되어 있다. 저면 에지는 박막의 왁스로 표시되어 있는데, 상기 왁스는 플레이트를 둘러싸는 구리를 보호하면서도, 다른 경우에 음극 구리를 오염시킬 수 있는 낙하 양극 슬라임(anode slime)이 포집되는 돌출부(ledge)를 제공하지 않는다.
개시자 시트의 제조 및 변경은 갈수록 비용이 증가되기 때문에, 이러한 수단으로 가동되는 정제설비는 일반적으로 양극 사이클당 2개의 음극 사이클로 가동된다. 즉, 초기 시트 음극은 각각 일반적으로 제거되기 전에 12일 내지 14일 동안 금속 구리로 도금되고, 이어서 제2 개시자 시트가 양극들 사이에 삽입된다. 따라서, 양극 사이클은 일반적으로 24일 내지 28일 수준이다. 음극 사이클의 종료 시점에서 양극 스크랩이 제거되고, 세척되어 추가적 전해정제 사이클을 위해 용융시키고 양극에 재주조 주입하기 위한 주조 설비에 반송된다.
ISA PROCESS® 음극 기술이 5일 내지 14일에 걸친 가변적인 음극 에이지를 수용할 수 있지만, 7일 음극 사이클이 일반적으로 이상적인 것으로 간주되는바, 주간 단위 작업 스케줄 및 더 짧은 작업 주일에 맞기 때문이다.
더 짧은 사이클은 음극 품질에 많은 이점을 가진다. 스트리핑되었을 때, 단일 음극판은 2개의 순수 음극 구리의 단일 시트를 생성한다. 이 음극 기술은 구리 탱크 하우스의 전극 취급 시스템에서 주된 발전을 가져왔다. 스테인리스강 음극판은 다른 박층 개시자 시트에 비해 스테인리스강 음극판의 직선성(straightness) 및 수직성(verticality)에 있어서 정밀도를 제공한다. 영구적 스테인리스강 음극은 전기분해시 음극 피착물에 낙하하는 슬라임 및 기타 불순물이 포착될 기회가 적다. 간단히 말하면, 영구적 스테인리스강 음극을 사용함으로써 프로세스 효율을 높일 수 있으며, 그렇지 않은 경우에는 개시자 시트를 사용하여 그러한 효율을 얻을 수 없다.
또한, 상기 스테인리스강 음극을 사용함으로써 단락이 덜 발생되고 그에 따라 구리의 작은 마디(nodulation)이 적게 형성되기 때문에 현재의 효율이 향상된다. 개시자 시트 루프를 배제함으로써 음극 품질도 향상되었다.
미세 와이어 인발기(fine wire drawer)에 의해 이전보다 훨씬 엄격한 요구(LME 등급 A를 능가)가 구리봉 제조자에게 부과됨에 따라 음극의 화학적 품질이 매우 중요하다. 그러한 품질 요구는 반드시 구리 생산 소스 - 음극 구리 정제 자체에서 출발해야 한다.
ISA PROCESS®의 주된 이점이 정제자에게 제공됨에도 불구하고, 보다 일관성 있고 높은 품질의 제품을 얻는 최종 사용자에게 실질적인 2차 혜택이 생겼다. 정제의 강도는 영구적 스테인리스강 음극의 이점으로 인해 크게 증가되었다. 양극/ 음극 쌍 사이의 전극 내 갭이 감소될 수 있고, 그 결과 셀의 단위 길이당 전기분해용 활성 면적이 증가된다.
따라서, 전기분해용 전류 밀도가 증가될 수 있으며, 오늘날 ISA PROCESS® 정제설비는 약 330 A/㎡으로 가동되는 반면, 종래의 개시자 시트 정제설비는 전형적으로 240 A/㎡으로 가동된다.
정제 조작에서 프로세스 내(in-process) 구리 재고(inventory)는 중요한 고려사항이다. 그와 함께, 앞에 언급된 다양한 ISA PROCESS 효율은 프로세스 내 구리를 12% 수준으로 감소시킬 수 있으며, 이는 매우 유의적 결과이다.
발명의 목적
본 발명의 목적은, 종래 기술의 단점 중 적어도 하나를 극복하거나 개선하는 것, 또는 유용한 대안을 제공하는 것이다.
바람직한 실시 형태에서 본 발명의 목적은, 구리 음극의 전해정제 및/또는 전기채취에 사용하기에 적합한 실질적으로 영구적인 이중(duplex) 및/또는 304급(Grade 304) 스테인리스강 음극판을 제공하는 것이다.
또 다른 바람직한 실시 형태에서 본 발명의 또 다른 목적은, 금속이 전착되고 접착되는 데 적합한 이중 강(duplex steel) 전해판의 제조 방법, 및 금속이 전착되고 접착되는 데 적합한 304급 강 전해판의 제조 방법을 제공하는 것이다.
발명의 개시
본 발명의 제1 태양에 따르면, 금속의 전착에 사용되는 기판으로 적합한 전해판으로서, 적어도 부분적으로 이중 스테인리스강으로 이루어지는 전해판이 제공된다.
바람직하게, 상기 이중 스테인리스강은 316L 스테인리스강에 비해 니켈 및/또는 몰리브덴의 함량이 낮다. 바람직하게는, 상기 이중 강은 대략적으로, 22∼26% Cr; 4∼7% Ni; 0∼3% Mo; 및 0.1∼0.3% N을 포함하는 조성을 실질적으로 특징으로 한다. 대안적으로, 상기 이중 강은 대략적으로, 1.5% Ni; 21.5% Cr; 5% Mn; 및 0.2% N을 포함하는 조성을 실질적으로 특징으로 한다.
일 실시예에서, 상기 전해판은 개시자 시트 음극 블랭크(starter sheet cathode blank)로서 사용하기에 적합하다.
본 발명의 제2 태양에 따르면, 금속의 전착에 사용되는 기판으로 적합한 전해판으로서, 적어도 부분적으로 "304급" 강으로 이루어지는 전해판이 제공된다.
일 실시예에서, 상기 전해판은 실질적으로 영구적 및/또는 재사용 가능한, 예를 들면 음극 모판이다.
바람직하게, 상기 304급 강은 대략적으로, ＜0.8% C; 17.5∼20% Cr; 8∼11% Ni; ＜2% Mn; ＜1% Si; ＜0.045% P; ＜0.03% S; 나머지 Fe를 포함하는 조성을 실질적으로 특징으로 한다.
또 다른 실시예에서, 상기 304급 스테인리스강은 2B 마감처리(finish)되어 제조된다.
제1 및 제2 태양의 실시예에서, 상기 전해판의 표면(들)은 소정의 접착 특성이 상기 판에 부여되도록 변형된다. 여기서 "소정의 접착 특성"이라 함은, 금속을 전착시키고자 하는 표면이 피착물의 가동중 접착(operational adherence) 및 후속되는 취급을 가능하게 하는 데 필요한 접착력을 생성하도록 변형된 표면 조도를 가지며, 상기 접착력은 변형된 표면으로부터 피착물의 기계적 분리를 방지할 만큼의 불충분한 강도를 가짐을 의미하는 것으로 이해해야 한다.
바람직한 실시예에서, 상기 전해판은 음극이고, 상기 전착은 전해정제 또는 전기채취에 의한 구리의 전착이다.
또 다른 실시예에서, 버핑된 표면(buffed surface) 마감처리가 상기 전해판에 소정의 접착 특성을 부여한다. 바람직하게, 상기 버핑된 표면 마감처리는, 전착된 금속의 가동중 접착 및 후속되는 취급을 가능하게 하는 데 필요한 접착력을 생성하되 변형된 표면으로부터 전착된 금속의 기계적 분리를 방지하기에 불충분한 접착력을 생성하도록 변형된 표면 조도를 가진 도금 표면이다.
일 실시예에서, 상기 버핑된 마감처리는, 전형적으로 약 0.6∼2.5㎛ 범위의 표면 조도(Ra)에 의해 한정된다.
특히 바람직한 실시예에서, 상기 버핑된 마감처리는, 전형적으로 약 0.6∼1.2㎛ 범위의 표면 조도(Ra)에 의해 한정된다.
바람직하게, 상기 버핑된 마감처리는 리니싱 기구(linishing tool), 앵글 그라인더(angle grinder), 전기 또는 공기 구동 샌딩 머신(sanding machine)과 같은 장치 또는 이들의 조합에 의해 적용될 수 있다.
또 다른 실시예에서, 하나 이상의 캐비티(cavity)가 상기 전해판의 표면 내에 형성되고, 그 결과 상기 전해판에 소정의 접착 특성이 부여된다.
일 실시예에서, 상기 캐비티 중 적어도 일부는 상기 전해판의 깊이를 통해 완전히 연장되는 반면, 다른 실시예에서 상기 캐비티 중 적어도 일부는 상기 전해판의 깊이를 통해 부분적으로만 연장된다.
또 다른 실시예에서, 상기 캐비티들은 상기 전착된 금속의 상부 피착 라인(upper deposition line)으로부터 이격되어 있어서, 최상부 캐비티의 상부에 있는 피착된 금속은 제거하기에 비교적 용이하고, 상기 최상부 캐비티 레벨 또는 그 하부 레벨에 있는 피착된 금속은 제거하기에 비교적 어렵다.
바람직하게, 상기 캐비티들은 상기 전해판의 상부로부터 실질적으로 15∼20cm 이격되어 위치함으로써, 비교적 용이하게 제거되는 상부 금속 부분 및 비교적 어렵게 제거되는 하부 금속 부분의 형성을 촉진한다.
일 실시예에서, 상기 전착된 금속은 우선 상기 상부 금속 부분과 상기 전해판 사이로 밀고 들어가는(wedging) 굴곡 장치에 의해 제거될 수 있다.
또 다른 실시예에서, 하나 이상의 홈 부분(groove portion)이 상기 전해질의 표면 내에 형성됨으로써, 상기 전해판에 소정의 접착 특성이 부여된다. 상기 홈 부분은 상기 전해판의 표면 상에 실질적으로 임의의 형상 또는 임의의 배향(orientation)을 가질 수 있지만, 상기 분리 장치가 위에서부터 바닥까지 전착된 금속을 스트리핑한다는 사실과 결부된 V자 홈 제한(V-groove limitation)으로 인해 수평이 아닌 것이 바람직하다.
또 다른 실시예에서, 하나 이상의 돌출 부분(ledge portion)이 상기 전해판의 표면 상에 위치함으로써, 상기 전해판에 소정의 접착 특성이 부여된다. 상기 돌출 부분은 상기 전해판의 표면 상에 실질적으로 임의의 형상 또는 임의의 배향을 가질 수 있다. 실질적으로 수평인 돌출 부분(들)은 더 큰 가동중 접착력을 제공하여 더 많은 양극 슬러지가 그 위에 축적되는 교환(trade-off)을 수반함으로써 전착의 순도가 손상된다.
또 다른 실시예에서, 상기 전해판의 표면이 에칭됨으로써, 상기 전해판에 소정의 접착 특성이 부여된다. 바람직하게, 상기 에칭은 전기화학적 수단에 의해 실행된다.
또 다른 실시예에서, 상기 전해판은 절제된 코너 기술(cropped corner technology) 및/또는 V자 홈 기술을 포함함으로써, 표면의 전착물의 스트리핑을 촉진한다.
본 발명의 제3 태양에 따르면, 상기 제1 태양 및/또는 제2 태양에 따른 전해판 상에 금속을 전착하는 방법이 제공된다.
본 발명의 제4 태양에 따르면, 전착용으로 적합한 이중 강 전해판을 제조하고 그 표면에 금속의 접착력을 생성하는 방법으로서,
전해방식의 금속 피착물의 가동중 접착 및 후속되는 취급을 가능하게 하는 데 필요한 접착력을 생성하도록, 변형된 표면 조도를 가진 도금 표면을 얻기 위해 상기 이중 강 전해판의 표면을 변형하는 단계를 포함하고,
상기 접착력은 상기 변형된 표면으로부터 상기 전착된 금속의 기계적 분리를 방지할 만큼의 불충분한 강도를 가지는 것을 특징으로 하는 방법이 제공된다.
본 발명의 제5 태양에 따르면, 상기 제4 태양에 따른 방법에 의해 제조된 이중 스테인리스강 전해판이 제공된다.
본 발명의 제6 태양에 따르면, 전착용으로 적합한 304급 강 전해판을 제조하고 그 표면에 금속의 접착력을 생성하는 방법으로서,
전해방식의 금속 피착물의 가동중 접착 및 후속되는 취급을 가능하게 하는 데 필요한 접착력을 생성하도록, 변형된 표면 조도를 가진 도금 표면을 얻기 위해 상기 304급 강 전해판의 표면을 변형하는 단계를 포함하고,
상기 접착력은 상기 변형된 표면으로부터 상기 전착된 금속의 기계적 분리를 방지할 만큼의 불충분한 강도를 가지는 것을 특징으로 하는 방법이 제공된다.
본 발명의 제7 태양에 따르면, 상기 제6 태양에 따른 방법에 의해 제조된 304급 강 전해판이 제공된다.
앞에서 언급한 이점에도 불구하고, 예측할 수 없는(그리고 현재 급상승하고 있는) 니켈과 몰리브덴 양자의 가격은 산업 표준인 음극판으로서의 316L 스테인리스강의 경제적 사용에 대해 점증하는 압박을 가해왔다.
현재 사용되는 재사용 가능형 음극 기술은 그와 관련된 원재료의 터무니 없이 비싼 가격의 문제를 안고 있다. 따라서, 재사용 가능형 음극의 이용 범위는 좁다. 놀랍게 발견된 사실은 새로운 재료와 관리된 표면 마감처리를 조합하면 음극 제조에 활용되는 원재료의 양과 비용을 모두 절약할 수 있다는 것이다. 실현되는 비용 절감은 그 여파로 재사용 가능형 음극 시장의 범위를 증대시킬 수 있으며, 다른 금속의 전착 분야로 이를 확장하는 잠재력이 있을 수 있다.
실용적 대안이 되는 "영구적" 음극판의 개발에 대한 기회는 존재한다. 불행하게도, 그러한 재료는 적어도 부분적으로 아래와 같은 특성을 동시에 나타내는 음극판을 제공하는 이중적 문제로 인해 용이하게 등장하고 있지 않다:
1. 강산성인 H2SO4/CuSO4 매질에서의 충분한 내식성; 및
2. 전극 취급 기계에 대해 도금된 전극의 안전한 수송을 가능하게 하는, 구리 피착물의 충분한 접촉 접착성, 여기서 접착력은 음극 블레이드에 화학적 또는 물리적 손상을 입치지 않고 피착물의 물리적 수단에 의해 용이하게 분리될 수 있어야 한다.
따라서, 경제적으로 보다 실용적인 음극판을 제조하기 위해서는 상기 특징을 나타내는 다른 재료가 필요하다. 비-오스테나이트강(non-austenitic steel)의 사용뿐 아니라 니켈 저함유 오스테나이트 스테인리스강의 사용이 고려되었다. 그러나, 적합한 마감처리에서 활용가능하다면, 니켈 저함유 이중 강의 사용이 실용적인 대안의 음극판이라고 생각되었다.
가장 널리 사용되는 형태의 스테인리스강은 '오스테나이트' 스테인리스강이다. "완전 오스테나이트성" 강 구조는 7% 이상의 니켈 함량을 가지며, 이러한 함량은 연성(ductility), 넓은 범위의 사용 온도, 비-자성(non-magnetic property) 및 양호한 용접성을 부여한다. 오스테나이트 스테인리스강의 응용 범위는 가정용품, 용기, 산업 배관 및 탱크류, 건축 외관 및 건설 구조물 등을 포함한다.
'페라이트(ferritic)' 스테인리스강은 연강과 비슷한 성질을 갖지만 내식성은 더 양호하다, 이러한 강의 가장 통상적인 것은 12∼17%의 크롬을 함유하며, 사용량의 12%는 대부분 구조적 용도에 사용되고 17%는 가정용품, 보일러, 세척기 및 실내 건축물에 사용된다.
'이중' 강은 거의 동일한 비율의 2상 구조(two-phase structure), 오스테나이트 및 페라이트를 가진다. 이중 구조는 강도 및 연성 양자를 제공한다. 이중 강은 대부분 석유화학, 제지, 펄프 및 조선 산업에서 사용된다. 이러한 페라이트/오스테나이트 상태를 얻기 위해 다양한 합금 원소의 조합이 이용될 수 있다. 가장 통상적인 이중 강의 조성은 다음과 같은 범위 내이다: 22∼26% Cr; 4∼7% Ni; 0∼3% Mo; 오스테나이트의 안정화를 위한 소량의 질소(0.1∼0.3%). 하나의 적합한 상업적 이중 스테인리스강은 약 1.5% Ni; 21.5% Cr; 5% Mn; 및 0.2% N을 함유한다.
앞에서 언급한 바와 같이, 전해정제 산업 내에서 일반적으로 용인되는 지식은 전착된 금속이 충분히 접착되어야 할 경우에는 음극판에 대해 2B 마감처리가 필요하다는 사실이다. 활용 가능한 이중 스테인리스강의 일부는 전해정제 산업의 요건에 합치되는 내식성을 나타내지만, 이들 재료는 2B 마감처리에서는 활용될 수 없다.
제조에 의해서는 이중 강에 대해 2B 마감처리가 실행될 수 없으므로, 이중 강의 접착 특성을 모방하기 위해 실용적 대안, 즉 이중 강의 표면을 버핑(buffing) 및/또는 브러싱(brushing)함으로써 "2B형" 마감처리를 생성하는 것이 강구되었다.
2B 마감처리를 요구하는 용인된 지식과는 대조적으로, 출원인은 놀랍게도 이중 강이 "그 자체로" 구리의 전기채취용 음극판에 사용될 경우에 음극판에 대한 피착물의 가동중 접착이 허용 가능하게 신속하여 필요한 추가 취급이 가능하게 된다는 사실을 발견했다.
그러나, 이중 강 음극판의 효력을 넓히기 위해 본 발명의 범위 내에서 두 가지 추가적 변형이 개발되었다.
첫째로, 돌출부, 홈 및/또는 홀과 같은 "물리적 록크(lock)"를 음극의 표면에 적용할 수 있다. 돌출부 및/또는 홈은 하나 이상의 음극의 표면에 가로질러 수평형, 수직형, 경사지거나 이들의 임의의 조합일 수 있다. 선택적으로, 돌출부(들) 및/또는 홈(들)은 음극의 전면 및 후면 모두의 다리 부분(foot portion)의 폭을 가로질러 실질적으로 수평으로 배치될 수 있다. 돌출부(들) 및/또는 홈(들)은 중력에 의해 고체 피착물이 맞대어 미끄러져 떨어질 수 없는 표면을 제공함으로써 전기채취된 구리 피착물의 "와인딩 오프(winding off)"를 방지하는 역할을 한다. 그러나, 실질적으로 수평인 돌출부는, 양극 슬러지가 축적될 수 있고 실질적으로 수평인 홈이 음극 표면 상에 V자 홈 한계를 부여하는 표면을 제공하는, 전술한 문제를 안고 있다.
바람직하게는, 홈(들)은 실질적으로 판의 길이를 따라 실질적으로 수직으로 배치된다. 이는 위에서부터 바닥까지 가동하는 ISA PROCESS® 굴곡 제거 장치의 정상적 가동 모드로부터 일어난다. 홈을 수평으로 설치하면, 얻어지는 V자 홈 제한은 표면으로부터 제거된 전착 금속이 홈 주위에서 부서질 수 있다.
마찬가지로, 음극판의 표면(들) 상에 하나 이상의 홀을 설치하면 홀 내부에 구리가 도금될 수 있고, 그에 따라 음극에 대해 더 양호한 접착성이 제공된다. 홀(들)은 판의 깊이/폭을 통해 완전히 또는 부분적으로 연장될 수 있으며, 최상부 홀 위에 상측 도금 부분 및 최상부 홀의 레벨 및 그 하부에 더 낮은 도금 부분의 전착이 가능하도록 판의 상부로부터 15∼20cm에 위치하는 것이 바람직하다.
상부 도금 부분은, 판에 대한 접착이 천공되지 않은 판에 비해 강화되지 않기 때문에 비교적 용이하게 제거될 것이다. 그러나, 하부 도금 부분은, 하나 이상의 캐비티 내부의 금속 도금에 의해 생기는 더 큰 가동중 접착성이 가동중 접착을 강화시키기 때문에 상대적으로 제거하기 어려울 것이다. 따라서, 전해판의 표면 상 위에서부터 바닥까지 가동되는 제거 장치는 상부 도금 부분과 전해판 자체 사이로 밀려 들어가서 그 후 하부 도금 부분의 제거를 더욱 용이하게 한다.
전해판은 고정되고 구리 피착물을 제거하는 제1 단계에서 굴곡된다. 홀 내부에 형성된 피착물 및 그에 따라 제공된 접착성은 기계에 의해 파괴될 수 있는 것이 바람직하다. 따라서, 홀의 최적 크기/수/배치/깊이는 스케일, 음극 사이클 길이 및 정제되는 금속에 따라 변동될 수 있다.
더 양호한 가동중 접착성을 제공하는 제2 수단은 음극 표면을 전기화학적으로 에칭하여 전기채취된 구리 피착물이 더 양호하게 접착할 수 있는 에칭 표면을 생성하는 것이다. 그러나, 그러한 전기화학적 에칭은, 실질적으로 평탄한 구리 시트가 여전히 그로부터 제조될 수 있도록 스테인리스강의 실질적인 수직성을 유지해야 한다.
이중 강 음극판의 분명한 이점은 비용 측면에 있다. 이중 강은 일반적으로 316L 강보다 저렴하다. 또한, 이중 강은 음극판에 현재 사용되는 316L 강보다 훨씬 강하며, 이는 이중 음극판이 본질적인 기능성을 손상하지 않고 더 얇게 제조될 수 있다고 예견할 수 있음을 의미한다. 판은 음극 표면으로부터 전착물의 분리형 굴곡을 충분히 견딜 수 있도록 강해야 한다. 316L 음극판은 전형적으로 3.25mm 수준의 두께로 되어 있지만, 이중 강은 원칙적으로 약 1mm 두께의 음극판을 유지하기에 충분히 강하다. 그러나, 음극판의 표면(들) 상에 돌출부, 홈 및/또는 홀의 선택적인 배치는 그러한 음극판이 바람직하게 2.0∼2.25mm 수준의 두께로 되어 있는 것이 바람직함을 의미한다. 이와는 무관하게, 현행 가격에서, 2.25mm 두께의 이중 스테인리스강 음극은 3.25mm 두께의 316L 음극판과 기능면에서 동등한 부가적으로 뚜렷한 비용 절약을 나타낸다. 산업 규모 전해정제의 경제적 효율 측면에서 이러한 절약의 의미는 과소평가할 수 없다.
이중 스테인리스강에 대한 또 다른 시장은 개시자 시트로서의 시장이다. 개시자 시트 기술은 앞에서 설명하였는바, 적합한 이중 강 개시자 시트를 획득하는 이점은 비용 및 공정 효율 양측면에서 입증된다.
본 발명의 범위 내 추가적 개발은 음극판으로서 저급의 "304" 강을 사용하는 것이다. 304급 강은 전형적으로 다음 조성을 가진다: ＜0.8% C; 17.5∼20% Cr; 8∼11% Ni; ＜2% Mn; ＜1% Si; ＜0.045% P; ＜0.03% S; 및 나머지 함량의 Fe.
304급은 가장 다목적이고 널리 사용되는 스테인리스강이다. 304급의 안정된 오스테나이트 구조는 중간 어닐링을 행하지 않고도 매우 깊은 드로잉을 가능하게 하며, 이에 따라 이 등급의 강이 싱크, 중공 물품 및 스튜 냄비와 같은 드로잉된 스테인리스 부품의 제조에서 대종을 이루게 되었다. 304급은 산업 분야, 건축 분야 및 수송 분야에서 응용되는 다양한 구성 요소로 용이하게 브레이크(brake) 성형 또는 압연(roll) 성형된다. 오스테나이트 구조도 304급에 우수한 인성(toughness)을 부여한다.
그러나 304급 강은 음극판으로서 효과를 내기에는 부식에 대해 너무 취약한 것으로 생각된다는 불명예를 가진다. 304급 강은 따뜻한 염화물 환경에서 점 부식 및 틈새 부식을 초래하며; 염화물 함량이 주변 온도에서 약 200mg/L인 식수에 대해 60℃에서는 150mg/L로 감소시킴으로써 내구성인 것으로 간주된다. 이러한 이유에서, 304급 강은 잠재적인 실질적으로 영구적 음극판으로서는 대체로 무시되었다.
그러나, 304급 강은 2B 마감처리로 제조될 수 있으며, 본 발명자들은 304 강으로부터 3.0∼3.25mm의 두께로 만들어진 2B 마감처리 음극판이 구리의 전기채취에 사용될 때 예상 밖으로 효과적이라는 놀라운 사실을 발견했다.
본 발명자들은 전기채취된 구리 피착물의 충분한 가동중 접착력을 생성하면서도, 오늘날 종래기술이 된 ISA PROCESS® 음극 스트리핑 기계에 의한 피착물의 용이한 분리를 가능하게 하는 데 적합한 버핑 또는 리니싱된 마감 처리를 개발했다.
스페인리스강은 음극 형태로 조립되기 전 또는 후에 "버핑"될 수 있다. 따라서, 각각의 경우마다 사용되는 장치는 다르다. 원리는 금속의 연마 또는 폴리싱용으로 활용할 수 있는 상업적 기구 중 하나를 이용하는 것이다. 이러한 기구는 리니싱 기구, 앵글 그라인더(angle grinder), 전기 또는 공압 구동식 샌딩 머신(sanding machine) 등일 수 있다. 의도하는 음극 디자인의 도금 표면의 올바른 마감처리를 얻기 위해서는 버핑 매체의 선택 및 사용되는 장치의 속도 선택이 중요하다.
본 발명의 범위 내에서 예견할 수 있는 또 다른 개발은, 이중 및/또는 304급 음극판(들)에 대해 절제된 코너 음극 기술을 적용하는 것이다. 절제된 코너 음극 기술은 본 출원인의 국제특허 출원 PCT/AU2004/000565호에 개시되어 있다. 음극 블레이드의 측면 테두리 및 하부 테두리는, 코너 에지 부분이 저부 에지의 대향하는 단부들 사이에서 연장되고, 그 단부를 각각의 측면 에지에 연결하는 상태로 각각의 하부 및 측면 테두리의 쇼트(short)를 종결시킨다.
또한, 본 발명의 이중 및/또는 304급 음극판은 V자 홈 기술과 결부시켜 사용할 수 있다고 생각된다. 음극판의 저부 에지 및/또는 코너 에지 부분은 음극 블레이드로부터 구리를 2개의 분리된 시트로 분리하는 것을 보조하도록, V자 홈과 같은 홈을 포함한다.
이하에서, 오로지 예시를 목적으로 하는 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전해판의 정면도로서, 전착물의 가동중 접착성을 증가시키기 위한 상기 전해판의 정면 표면 내에 복수의 캐비티를 나타낸다.
도 2는 도 1의 선분 2-2에 따른 단면도로서, 캐비티가 전해판의 깊이 전체에 걸쳐 연장되어 있는 것을 나타낸다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 전해판의 정면도로서, 실질적으로 전해판의 폭을 가로질러 연장되는 수평 홈 부분을 나타낸다.
도 4는 도 3의 선분 4-4를 따른 단면도로서, 홈 부분이 형성될 수 있는 상대적 깊이를 나타낸다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 전해판의 정면도로서, 실질적으로 전해판의 다리 부분의 폭을 가로질러 연장되는 수평 돌출 부분을 나타낸다.
도 6은 도 5에 도시된 전해판의 측면도로서, 전해판의 전후 양면으로 연장되는 돌출 부분을 나타낸다.
도 7은 절제된 코너 기술을 이용하여 도 1 및 도 2에 도시된 실시예를 결합시킨 본 발명의 특히 바람직한 실시예의 정면도이다.
도 8은 V자 홈 기술을 결합시킨 본 발명의 또 다른 특히 바람직한 실시예의 다리 부분의 확대된 측면도이다.
도 9는 본 발명에 따르 제조된 테스트 판의 사진이다.
도면을 참조하면, 금속(2)의 전착용 기판으로서 적합한 전해판(1)은 이중 스테인리스강 또는 304급 강으로 이루어진다.
이중 스테인리스강 전해판이 요구되는 경우, 적절한 강은 316L 스테인리스강에 비해 니켈 및/또는 몰리브덴 함량이 낮은 강이며, 상기 판은 개시자 시트 음극 블랭크로서의 용도에 적합하다.
304급 강 전해판이 요구되는 경우, 전해판은 실질적으로 영구적 및/또는 재사용 가능형이다. 특히 바람직한 실시예에서, 304급 강은 2B 마감처리되어 제조된다.
이중 강 또는 304급 강 중 어느 하나로 충분한 경우, 전해판(1)의 표면(들)은 "소정의 접착 특성"을 상기 판에 부여하도록 변형된다. 이 말은 금속(2)을 전착시키고자 하는 전해판(1)의 표면에 대해 전착된 금속(2)의 가동중 접착 및 후속되는 취급을 가능하게 하는 데 필요한 접착력을 생성하도록 표면 조도를 변형시키되, 상기 접착력은 변형된 표면(3)으로부터 전착물(2)의 기계적 분리를 방지할 만큼 불충분하게 강한 것을 의미한다.
특히 바람직한 실시예에서, 전해판(1)은 음극이고, 전착된 금속(2)은 전기채취된 구리이다.
추구하는 소정의 접착 특성을 음극(1)에 부여하는 하나의 수단은 버핑 표면 마감처리에 의한 것이다. 버핑 표면 마감처리는 전기채취된 구리 피착물(2)의 가동중 접착 및 후속되는 취급을 가능하게 하는 데 필요한 접착력을 생성하도록 표면 조도를 변형시키되, 상기 접착력은 변형된 표면(3)으로부터 전착된 구리의 기계적 분리를 방지할 만큼 불충분한 도금 표면(3)이다. 버핑된 마감처리는 전형적으로 약 0.6∼2.5㎛ 범위 내, 보다 바람직하게는 약 0.6∼1.2㎛ 범위 내인 표면 조도(Ra)로 정의된다. 버핑된 마감처리에는 리니싱 기구, 앵글 그라인더, 전동식 또는 공 압 구동식 샌딩 머신과 같은 장치 또는 이들의 조합이 적용될 수 있다.
구체적으로, 또 다른 바람직한 실시예를 개략적으로 나타내는 첨부 도면 중 도 1 및 2를 참조하면, 판(1)의 표면(3) 내에 하나 이상의 캐비티(4)가 형성되고, 그 결과 판에 대해 소정의 접착 특성이 부여된다. 그러한 캐비티의 물리적 치수 및 특성은 두 측면 사이의 브리지(bridge) 또는 조인트(joint)를 효과적으로 회피하도록 선택된다.
캐비티는 판의 깊이를 통해 완전히 연장되거나(도 2), 또는 판의 깊이를 통해 부분적으로만 연장될 수 있다. 캐비티(4)는 전착된 금속(2)의 상부 피착 라인(5)으로부터 이격되어 있음으로써, 최상부 캐비티(4) 위에 피착된 금속은 비교적 제거하기 용이하고, 상기 최상부 캐비티 레벨에 또는 그 아래에 피착된 금속은 비교적 제거하기 어렵다. 캐비티(4)는 판(1)의 상부(6)로부터 실질적으로 15∼20cm 지점에 위치하며, 그 결과 비교적 용이하게 제거되는 상부 금속 부분(7) 및 비교적 어렵게 제거되는 하부 금속 부분(8)의 형성을 촉진한다. 전착된 금속(2)은 우선 상부 금속 부분(7)과 도금 표면(3) 사이로 밀고 들어가는 굴곡 장치(9)에 의해 제거될 수 있다.
구체적으로, 또 다른 바람직한 실시예를 개략적으로 나타내는 첨부 도면 중 도 3 및 4를 참조하면, 판(1)의 표면(3) 내에 하나 이상의 홈 부분(10)이 형성되고, 그 결과 판에 대해 소정의 접착 특성이 부여된다. 홈 부분은 실질적으로 상기 판의 표면 상에 임의의 형상 또는 임의의 배향을 가질 수 있다. 그러나, 실질적으로 수평인 홈 부분은 도금 표면(3) 상에 고유의 V자 홈 제한을 부여한다.
구체적으로, 또 다른 바람직한 실시예를 개략적으로 나타내는 첨부 도면 중 도 5 및 6을 참조하면, 판(1)의 표면(3) 내에 하나 이상의 돌출 부분(11)이 형성되고, 그 결과 판에 대해 소정의 접착 특성이 부여된다. 돌출 부분은 실질적으로 상기 판의 표면 상에 임의의 형상 또는 임의의 배향을 가질 수 있다.
또 다른 바람직한 실시예에서, 소정의 접착 특성은 전기화학적 에칭에 의해 판 표면(3) 상에 부여된다.
구체적으로, 또 다른 바람직한 실시예를 개략적으로 나타내는 도 7을 참조하면, 전해판(1)은 절제된 코너(12) 기술과 결합될 수 있다.
구체적으로, 또 다른 바람직한 실시예를 개략적으로 나타내는 도 8을 참조하면, 전해판(1)은 V자 홈(13) 기술과 결합될 수 있다.
사용시, 음극(1)에 피착된 전기채취된 구리(2)는 앞에서 설명한 바와 같은 본 발명의 하나 이상의 실시예에 따른 하나 이상의 표면 변형에 의해 전해판과 분리되지 않도록 방지된다.
또한, 전착용으로 적합한 이중 스테인리스강 또는 304급 강 전해판(1)을 제조하고 그 표면에 금속(2)의 접착력을 생성하는 방법으로서, 전해방식의 금속 피착물(2)의 가동중 접착 및 후속되는 취급을 가능하게 하는 데 필요한 접착력을 생성하도록, 변형된 표면 조도를 가진 도금 표면(3)을 얻기 위해 상기 전해판(1)의 표면(3)을 변형하는 단계를 포함하고, 상기 접착력은 상기 변형된 표면(3)으로부터 상기 전착된 금속(2)의 기계적 분리를 방지할 만큼의 불충분한 강도를 가지는 것을 특징으로 하는 방법이 제공된다.
예시된 본 발명은 구리 음극의 전해정제 및/또는 전기채취용으로 적합한 실질적으로 영구적인 이중 및/또는 304급 스테인리스강 음극판을 제공함을 이해할 것이다.
본 발명은 특정한 실시예를 참조하여 설명되었지만, 당업자라면 본 발명이 여러 가지 다른 형태로 구현될 수 있음을 이해할 것이다.
문맥상 명백히 다르게 요구되지 않는 한, 본 명세서 전체 및 청구의 범위를 통해, '포함하다', '포함하는' 등의 표현은 배타적 의미 또는 총망라된 의미가 아닌 포괄적 의미; 즉, "포함하되 이에 한정되지 않는다"는 의미로 해석되어야 한다
청구의 범위 전반에 걸쳐 사용된 용어로서 "소정의 접착 특성"이라 함은, 전착하고자 하는 전해판의 표면의 조도가, 전착물의 가동중 접착 및 후속되는 취급을 가능하게 하는 데 필요한 접착력을 생성하도록 변형되고, 상기 접착력은 상기 변형된 표면으로부터 상기 전착된 금속의 기계적 분리를 방지할 만큼의 불충분한 강도를 가지는 것을 의미하는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (35)

  1. 금속의 전착(electrodeposition)용 기판으로서 적합한 전해판(electrolytic plate)으로서,
    적어도 부분적으로 이중(duplex) 스테인리스강으로 구성되는 전해판.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 이중 스테인리스강은 316L 스테인리스강에 비해 니켈 및/또는 몰리브덴의 함량이 낮은 것을 특징으로 하는 전해판.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 이중 강은 대략적으로, 22∼26% Cr; 4∼7% Ni; 0∼3% Mo; 및 0.1∼0.3% N을 포함하는 조성을 실질적으로 가지는 것을 특징으로 하는 전해판.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 이중 강은 대략적으로, 1.5% Ni; 21.5% Cr; 5% Mn; 및 0.2% N을 포함하는 조성을 실질적으로 가지는 것을 특징으로 하는 전해판.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전해판은 개시자 시트 음극 블랭크(starter sheet cathode blank)로서 사용하기에 적합한 것을 특징으로 하는 전해판.
  6. 금속의 전착에 사용되는 기판으로 적합한 전해판으로서,
    적어도 부분적으로 "304급(Grade 304)" 강으로 구성되는 전해판.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 전해판은 실질적으로 영구적 및/또는 재사용 가능한 것임을 특징으로 하는 전해판.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서,
    상기 304급 강은 대략적으로, ＜0.8% C; 17.5∼20% Cr; 8∼11% Ni; ＜2% Mn; ＜1% Si; ＜0.045% P; 및 ＜0.03% S를 포함하는 조성을 실질적으로 가지는 것을 특징으로 하는 전해판.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 조성의 나머지는 Fe를 포함하는 것을 특징으로 하는 전해판.
  10. 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 304급 강은 "2B" 마감처리(finish)되어 제조되는 것을 특징으로 하는 전해판.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전해판의 표면 중 하나 이상은, 상기 전해판 상에 소정의 접착 특성이 부여되도록 변형되는 것을 특징으로 하는 전해판.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전해판은 음극이고, 상기 전착은 전해정제(electrorefining) 또는 전기채취(electrowinning)에 의한 구리의 전착인 것을 특징으로 하는 전해판.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 소정의 접착 특성은 버핑된 표면 마감처리(buffed surface finish)에 의해 상기 전해판에 부여되는 것을 특징으로 하는 전해판.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 버핑된 표면 마감처리는, 전착된 금속의 가동중 접착(operational adherence) 및 후속되는 취급을 가능하게 하는 데 필요한 접착력을 생성하되, 변형된 표면으로부터 상기 전착된 금속의 기계적 분리를 방지하기에 불충분한 접착력을 생성하도록 변형된 표면 조도를 가진 도금 표면인 것을 특징으로 하는 전해판.
  15. 제13항 또는 제14항에 있어서,
    상기 버핑된 마감처리는, 전형적으로 약 0.6∼2.5㎛ 범위의 표면 조도(Ra)에 의해 한정되는 것을 특징으로 하는 전해판.
  16. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 버핑된 마감처리는, 전형적으로 약 0.6∼1.2㎛ 범위의 표면 조도(Ra)에 의해 한정되는 것을 특징으로 하는 전해판.
  17. 제13항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 버핑된 마감처리는 리니싱 기구(linishing tool), 앵글 그라인더(angle grinder), 전기/공압 구동 샌딩 머신(sanding machine)과 같은 장치 또는 이들의 조합에 의해 적용될 수 있는 것을 특징으로 하는 전해판.
  18. 제11항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
    하나 이상의 캐비티가 상기 전해판의 표면 내에 형성되고, 그 결과 상기 전해판에 소정의 접착 특성이 부여되는 것을 특징으로 하는 전해판.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 캐비티 중 적어도 일부는 상기 전해판의 깊이를 통해 완전히 연장되는 것을 특징으로 하는 전해판.
  20. 제18항에 있어서,
    상기 캐비티 중 적어도 일부는 상기 전해판의 깊이를 통해 부분적으로만 연장되는 것을 특징으로 하는 전해판.
  21. 제18항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 캐비티는 상기 전착된 금속의 상부 피착 라인(deposition line)으로부터 이격되어 있어서, 최상부 캐비티의 위에 있는 피착된 금속은 제거하기에 비교적 용이하고, 상기 최상부 캐비티 레벨에 있거나 또는 그보다 낮은 레벨에 있는 피착된 금속은 제거하기에 비교적 어려운 것을 특징으로 하는 전해판.
  22. 제18항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 캐비티는 상기 전해판의 상부로부터 실질적으로 15∼20cm 이격되어 위치함으로써, 비교적 용이하게 제거되는 상부 금속 부분 및 비교적 어렵게 제거되는 하부 금속 부분의 형성을 촉진하는 것을 특징으로 하는 전해판.
  23. 제22항에 있어서,
    상기 전착된 금속은 상기 상부 금속 부분과 상기 전해판 사이로 밀고 들어가는(wedging) 굴곡 장치(flexion apparatus)에 의해 제거될 수 있는 것을 특징으로 하는 전해판.
  24. 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
    하나 이상의 홈 부분(groove portion)이 상기 전해질의 표면 내에 형성됨으로써, 상기 전해판에 소정의 접착 특성이 부여되는 것을 특징으로 하는 전해판.
  25. 제24항에 있어서,
    상기 홈 부분은 실질적으로 상기 전해판의 표면 상에 임의의 형상 또는 임의의 배향(orientation)을 가질 수 있는 것을 특징으로 하는 전해판.
  26. 제1항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서,
    하나 이상의 돌출 부분(ledge portion)이 상기 전해판의 표면 상에 위치하고, 그 결과 상기 전해판에 소정의 접착 특성이 부여되는 것을 특징으로 하는 전해판.
  27. 제26항에 있어서,
    상기 돌출 부분은 실질적으로 상기 전해판의 표면 상에 임의의 형상 또는 임의의 배향을 가질 수 있는 것을 특징으로 하는 전해판.
  28. 제1항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전해판의 표면이 에칭되고, 그 결과 상기 전해판에 소정의 접착 특성이 부여되는 것을 특징으로 하는 전해판.
  29. 제28항에 있어서,
    상기 에칭이 전기화학적 수단에 의해 실행되는 것을 특징으로 하는 전해판.
  30. 제1항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전해판이 절제된 코너 기술(cropped corner technology)을 포함하는 것을 특징으로 하는 전해판.
  31. 제1항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전해판이 V자 홈 기술(V-groove technology)을 포함하는 것을 특징으로 하는 전해판.
  32. 전착용으로 적합한 이중 강 전해판을 제조하고 그 표면에 금속의 접착력을 생성하는 방법으로서,
    전해방식의 금속 피착물(deposit)의 가동중 접착 및 후속되는 취급을 가능하게 하는 데 필요한 접착력을 생성하도록, 변형된 표면 조도를 가진 도금 표면을 얻기 위해 상기 이중 강 전해판의 표면을 변형하는 단계를 포함하고,
    상기 접착력은 상기 변형된 표면으로부터 상기 전착된 금속의 기계적 분리를 방지할 만큼의 불충분한 강도를 가지는 것을 특징으로 하는 방법.
  33. 제32항에 따른 방법에 의해 제조되는 이중 강 전해판.
  34. 전착용으로 적합한 304급 강 전해판을 제조하고 그 표면에 금속의 접착력을 생성하는 방법으로서,
    전해방식의 금속 피착물의 가동중 접착 및 후속되는 취급을 가능하게 하는 데 필요한 접착력을 생성하도록, 변형된 표면 조도를 가진 도금 표면을 얻기 위해 상기 304급 강 전해판의 표면을 변형하는 단계를 포함하고,
    상기 접착력은 상기 변형된 표면으로부터 상기 전착된 금속의 기계적 분리를 방지할 만큼의 불충분한 강도를 가지는 것을 특징으로 하는 방법.
  35. 제34항에 따른 방법에 의해 제조되는 304급 강 전해판.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012053668A1 (ko) * 2010-10-18 2012-04-26 Kim Sung Yong 전극구조
KR101159306B1 (ko) * 2009-08-04 2012-06-25 김성수 전극구조

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003902095A0 (en) * 2003-05-01 2003-05-22 Mount Isa Mines Limited Cathode plate
US7807028B2 (en) 2005-03-09 2010-10-05 Xstrata Queensland Limited Stainless steel electrolytic plates
US20080078754A1 (en) * 2006-09-28 2008-04-03 Peter Hosemann Method of welding aluminum alloy steels
FI121996B (fi) * 2007-02-13 2011-07-15 Outotec Oyj Menetelmä katodilevyn valmistamiseksi ja katodilevy
RU2346087C1 (ru) * 2007-04-05 2009-02-10 ОАО "Корпорация ВСМПО-АВИСМА" Катод для получения меди
US8337679B2 (en) 2007-08-24 2012-12-25 Epcm Services Ltd. Electrolytic cathode assemblies and methods of manufacturing and using same
AT505877B1 (de) 2007-10-05 2010-04-15 Vae Eisenbahnsysteme Gmbh Zwischenstück und verfahren zum verbinden von manganstahlformkörpern mit regelschienen
CN102149854A (zh) * 2008-09-09 2011-08-10 斯提奥摩有限公司 阴极和阴极形成方法
FI121238B (fi) * 2008-10-01 2010-08-31 Outotec Oyj Kestokatodi
US8052851B1 (en) 2009-01-23 2011-11-08 Steen Enterprises, LLC Protective edging for a cathode of an electroplating system
EP2630275A4 (en) 2010-10-18 2014-05-28 Epcm Services Ltd ELECTROLYTIC CATHODE ASSEMBLY WITH A HOLLOW HANGING RAIL
CN102242379A (zh) * 2011-06-15 2011-11-16 兰州银丰石化通用机械设备制造有限公司 一种用于生产电解镍的不锈钢不溶阴极板
FI20110210A7 (fi) * 2011-06-23 2012-12-24 Outotec Oyj Kestokatodi ja menetelmä kestokatodin pinnan käsittelemiseksi
CN104073843A (zh) * 2011-10-13 2014-10-01 金川集团有限公司 一种电积、电解镍的阴极板
CN104073842A (zh) * 2011-10-13 2014-10-01 金川集团有限公司 一种电积、电解镍的阴极板
DE102012204299A1 (de) * 2012-03-19 2013-09-19 Robert Bosch Gmbh Magnetischer Aktor, Ventil, sowie Verwendung eines Materials bei magnetischen Aktoren
SE536468C2 (sv) * 2012-04-11 2013-11-26 Haakan Rosen Marint skrov samt marin farkost
BR112014026603A2 (pt) * 2012-04-23 2017-06-27 Chemetics Inc catodo de aço inoxidável com superfície modifcada para eletrolisador
CN103343358A (zh) * 2013-07-31 2013-10-09 周兆怡 一种用于氢氧发生器的电解极片
FI125980B (en) * 2013-12-18 2016-05-13 Outotec Finland Oy A method of servicing used permanent cathode plates
FI128294B (en) * 2015-01-27 2020-02-28 Outokumpu Oy A process for preparing a sheet material for an electrochemical process
CN105483757A (zh) * 2015-12-03 2016-04-13 平顶山市信瑞达石墨制造有限公司 一种碳素电解板的加工工艺及使用该工艺的碳素电解板
FI128729B (en) * 2015-12-22 2020-11-13 Outotec Finland Oy ELECTROD MODULE, ELECTRICITY REACTOR, AND WATER TREATMENT DEVICE
SI3510183T1 (sl) 2016-09-09 2024-05-31 Glencore Technology Pty Limited Izboljšave obešalnih drogov
CN106435649B (zh) * 2016-11-07 2018-10-12 杨丹虹 电解精炼永久阴极板竖边用暗扣式装配并可修复的包边条
CN106756604B (zh) * 2016-11-16 2018-07-31 重庆大学 一种基于pso-svr的高抗腐蚀非标不锈钢及其制备方法
ES2755502R1 (es) * 2018-10-17 2020-04-23 Rectificados Lemar S L Procedimiento y sistema para el mantenimiento de catodos permanentes
JP7166215B2 (ja) * 2019-03-29 2022-11-07 Ｊｘ金属株式会社 コバルト用電極板の表面加工方法、コバルトの電解精製方法および、電気コバルトの製造方法
KR102846754B1 (ko) 2024-12-10 2025-08-14 한국지역난방기술 (주) 보일러용 전극봉 및 그 제조 방법

Family Cites Families (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2646396A (en) 1949-03-17 1953-07-21 Reginald S Dean Method of making electroformed articles
CA910844A (en) 1970-01-14 1972-09-26 The International Nickel Company Of Canada Electrolytic refining and winning of copper
JPS4916644Y1 (ko) * 1970-06-15 1974-04-26
JPS5110827B2 (ko) 1972-06-07 1976-04-07
CA1036536A (en) 1974-02-08 1978-08-15 Aubrey S. Gendron Electrodeposition of thick nickel deposits on permanent cathode blanks
GB1573449A (en) * 1976-04-01 1980-08-20 Falconbridge Nickel Mines Ltd Reusable electrolysis cathode
AU506521B1 (en) * 1979-02-05 1980-01-10 M.I.M. Technology Marketing Limited Cathode with stainless steel - copper clad hanger bar
US4186074A (en) * 1979-02-09 1980-01-29 Copper Refineries Pty. Limited Cathode for use in the electrolytic refining of copper
JPS5950189A (ja) * 1982-09-17 1984-03-23 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 電解用種板剥離装置
JPS6026619A (ja) * 1983-07-22 1985-02-09 Nippon Kokan Kk <Nkk> オ−ステナイト系ステンレス厚鋼板の製造方法
US4612069A (en) * 1984-08-06 1986-09-16 Sandusky Foundry & Machine Company Pitting resistant duplex stainless steel alloy
DE3434278A1 (de) * 1984-09-19 1986-04-17 Norddeutsche Affinerie AG, 2000 Hamburg Stromzufuehrende aufhaengevorrichtung fuer kathoden
JPS61163841A (ja) 1985-01-16 1986-07-24 三菱重工業株式会社 セラミツクライニング製品の製造法
CA1258654A (en) * 1986-04-22 1989-08-22 Donald L. Ball Method for the removal of monovalent ions from znso.sub.4 electrolyte by electrodialysis
JPS6369163A (ja) 1986-09-10 1988-03-29 菱星電装株式会社 回路配線部材の製造方法
JPH0230450Y2 (ko) * 1986-10-25 1990-08-16
AU594208B2 (en) 1986-11-04 1990-03-01 Mount Isa Mines Limited A method of stripping electrolytically deposited copper from a cathode
JP2781563B2 (ja) 1988-07-15 1998-07-30 豊田工機株式会社 工作物位置決め装置
AU646450B2 (en) 1991-04-23 1994-02-24 Copper Refineries Pty Ltd Edge strip
US5254225A (en) * 1991-08-29 1993-10-19 Union Oil Company Of California Recovery of metallic compounds from geothermal brine
JPH05255884A (ja) * 1992-03-10 1993-10-05 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 銅電解用ステンレス製陰極板の補修方法
JPH05306485A (ja) * 1992-04-28 1993-11-19 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 銅電解用ステンレス製母板
JP3208927B2 (ja) * 1993-05-26 2001-09-17 住友金属鉱山株式会社 非鉄金属の電解精製方法
US5492609A (en) 1994-10-21 1996-02-20 T. A. Caid Industries, Inc. Cathode for electrolytic refining of copper
JPH08222191A (ja) * 1995-02-10 1996-08-30 Seiko Instr Inc 電気化学セル
AU712612B2 (en) 1996-04-15 1999-11-11 Copper Refineries Pty Ltd An apparatus for stripping electrolytically deposited metal from a cathode
JPH1053890A (ja) * 1996-08-08 1998-02-24 Nippon Steel Corp 溶融塩中での耐食性と電気伝導性に優れた溶融塩電気分解電極用ステンレス鋼
FI104432B (fi) * 1997-08-11 2000-01-31 Outokumpu Oy Emälevyn pidike
JP3990483B2 (ja) * 1997-09-24 2007-10-10 松田産業株式会社 金電解回収装置
US5919343A (en) 1997-12-15 1999-07-06 Customer Metal Fabrication, Inc. Cathode blank for copper plating
JPH11323565A (ja) 1998-05-08 1999-11-26 Koei Kogyo Kk 無電解ニッケルメッキの前処理法
TW444060B (en) * 1998-06-05 2001-07-01 Kawasaki Steel Co Stainless steel product having excellent antimicrobial activity and method for production thereof
FI108048B (fi) * 1999-06-10 2001-11-15 Outokumpu Oy Laite elektrolyyttisessä puhdistuksessa syntyneen saostuman irrottamiseksi
AUPQ106799A0 (en) * 1999-06-18 1999-07-08 Copper Refineries Pty Ltd Method and apparatus for electro-deposition of metal
BR9906021A (pt) 1999-12-30 2001-09-25 Opp Petroquimica S A Catodo para uso em células eletrolìticas e aplicação do mesmo
SE0000678L (sv) * 2000-03-02 2001-04-30 Sandvik Ab Duplext rostfritt stål
JP2001329346A (ja) * 2000-05-16 2001-11-27 Kitz Corp 二相ステンレス鋼とその製造方法
US6485621B2 (en) * 2001-03-08 2002-11-26 Noranda Inc. Cathode
CN1201028C (zh) * 2001-04-27 2005-05-11 浦项产业科学研究院 具有优越热加工性能的高锰二联不锈钢及其制造方法
SE524951C2 (sv) 2001-09-02 2004-10-26 Sandvik Ab Användning av en duplex rostfri stållegering
US6551420B1 (en) 2001-10-16 2003-04-22 Ati Properties, Inc. Duplex stainless steel
RU2280707C2 (ru) * 2001-10-30 2006-07-27 Эй Ти Ай Пропертиз, Инк. Дуплексная нержавеющая сталь, способ ее получения и промышленное изделие, изготовленное из этой стали (варианты)
AUPS015902A0 (en) 2002-01-25 2002-02-14 Mount Isa Mines Limited Hanger bar
JP3716372B2 (ja) * 2002-02-05 2005-11-16 住友金属工業株式会社 尿素製造プラント用二相ステンレス鋼、溶接材料、尿素製造プラントおよびその機器
AUPS212802A0 (en) * 2002-05-03 2002-06-06 Mount Isa Mines Limited Reducing power consumption in electro-refining or electro- winning of metal
US7014036B2 (en) * 2002-11-27 2006-03-21 Falconbridge Limited Cathode linear conveyer assembly
US7003868B2 (en) 2003-02-26 2006-02-28 T.A. Caid Industries Inc. Coated stainless-steel/copper weld for electroplating cathode
AU2003902048A0 (en) * 2003-04-29 2003-05-15 M.I.M. Holdings Limited Method & apparatus for cathode plate production
AU2003902095A0 (en) * 2003-05-01 2003-05-22 Mount Isa Mines Limited Cathode plate
JP4184869B2 (ja) 2003-05-29 2008-11-19 日本冶金工業株式会社 高耐食二相ステンレス鋼
JP2005105346A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Nippon Steel Corp 耐食性・靭性の優れた二相ステンレス鋼の製造方法
KR20060074400A (ko) * 2004-12-27 2006-07-03 주식회사 포스코 니켈 절감형 고내식성 2상 스테인리스강
US7807028B2 (en) 2005-03-09 2010-10-05 Xstrata Queensland Limited Stainless steel electrolytic plates
JP4640637B2 (ja) * 2005-03-28 2011-03-02 Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 カソード板ｖグルーブの管理方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101159306B1 (ko) * 2009-08-04 2012-06-25 김성수 전극구조
WO2012053668A1 (ko) * 2010-10-18 2012-04-26 Kim Sung Yong 전극구조

Also Published As

Publication number Publication date
US7807029B2 (en) 2010-10-05
TR201816250T4 (tr) 2018-11-21
JP2008533296A (ja) 2008-08-21
EA200701927A1 (ru) 2008-04-28
EP2886680A1 (en) 2015-06-24
ES2694143T3 (es) 2018-12-18
BRPI0607476B1 (pt) 2018-03-06
EP1866461A4 (en) 2009-02-11
DK2886680T3 (en) 2018-11-26
WO2006094355A1 (en) 2006-09-14
US20100314255A1 (en) 2010-12-16
EP1866461A1 (en) 2007-12-19
ES2557294T3 (es) 2016-01-25
PL2886680T3 (pl) 2019-05-31
JP6128771B2 (ja) 2017-05-17
US8133366B2 (en) 2012-03-13
ZA200707954B (en) 2009-05-27
JP2012211397A (ja) 2012-11-01
KR101395168B1 (ko) 2014-05-21
PT2886680T (pt) 2018-11-16
US20060201586A1 (en) 2006-09-14
EA011667B1 (ru) 2009-04-28
CN101166850A (zh) 2008-04-23
BRPI0607476A2 (pt) 2009-09-08
EP1866461B1 (en) 2015-10-07
EG26443A (en) 2013-11-06
JP5430147B2 (ja) 2014-02-26
AP2007004158A0 (en) 2007-10-31
US20080095655A1 (en) 2008-04-24
AP2293A (en) 2011-10-31
CA2600645A1 (en) 2006-09-14
CN103726076A (zh) 2014-04-16
EP2886680B1 (en) 2018-08-01
PL1866461T3 (pl) 2016-03-31
MX2007011014A (es) 2008-02-25
CA2600645C (en) 2013-04-30
US7807028B2 (en) 2010-10-05

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