KR960001902A - 주사형 노광 장치 - Google Patents
주사형 노광 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960001902A KR960001902A KR1019950016562A KR19950016562A KR960001902A KR 960001902 A KR960001902 A KR 960001902A KR 1019950016562 A KR1019950016562 A KR 1019950016562A KR 19950016562 A KR19950016562 A KR 19950016562A KR 960001902 A KR960001902 A KR 960001902A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- stage
- mask
- speed
- command signal
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
마스크를 소정의 주사방향으로 이동시키는 마스크 스테이지와, 그의 마스크상의 패턴 이미지에서 노광되는 기판을 소정의 주사방향으로 이동시키는 기판 스테이지와, 주사 노광중 그의 마스크 스테이지와 그의 기판 스테이지와의 속도차에 따른 신호가 가산되는 소정의 속도지령 신호에 의거하여, 그의 마스크 스테이지와 그의 기판 스테이지의 주사속도를 제어하는 속도제어기와, 그의 속도지령 신호로부터 소정의 주파수 성분을 제거한 필터부재로 구성되는 주사형 노광 장치에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예에 의한 주사형 투영노광장치의 구성의 일례를 도시한 도면.
Claims (7)
- 마스크를 소정의 주사방향으로 이동시키는 마스크 스테이지; 상기 마스크상의 패턴상으로 노광되는 기판을 소정의 주사방향으로 이동시키는 기판스테이지; 주사노광 중 상기 마스크 스테이지와 상기 기판 스테이지와의 속도차에 대응한 신호가 가산되는 소정의 속도지령 신호에 따라서, 상기 마스크 스테이지와 상기 기판 스테이지의 주사속도를 제어하는 속도제어기 및 상기 속도지령신호로부터 소정의 주파수 성분을 제외하는 필터부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 필터부재는 상기 속도지령신호로부터 상기 마스크 스테이지와 상기 기판 스테이지의 적어도 일부의 기계공진 주파수 성분을 제외하는 노치필터 또는 밴드 일리미네이트필터인 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 속도제어기는 상기 마스크 스테이지와 상기 기판 스테이지와의 적어도 한쪽의 목표 주사속도에 대응하는 속도지령신호를 발생하는 속도설정 장치와, 상기 속도지령신호에 상기 마스크 스테이지와 상기 기판 스테이지와의 속도차에 대응한 신호를 가산하는 회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 마스크를 소정의 주사방향으로 이동시키는 마스크 스테이지; 상기 마스크상의 패턴상으로 노광되는 기판을 소정의 주사방향으로 이동시키는 기판 스테이지; 상기 마스크 스테이지와 기판 스테이지의 하나에 설치되고, 상기 1개의 스테이지에 대하여 상대적으로 이동하는 미세작동 스테이지; 주사노광중 상기 마스크 스테이지와 상기 기판 스테이지와의 속도차에 대응한 신호가 가산되는 소정의 속도지령신호에 따라서, 상기 미세작동 스테이지의 속도를 제어하는 장치 및 상기 속도 지령 신호로부터 소정의 주파수 성분을 제외하는 필터부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 제어장치는 상기 마스크 스테이지와 상기 기판 스테이지와의 위치적 편차에 대응한 속도지령신호를 발생하는 회로와, 상기 속도지령신호에 상기 마스크 스테이지와 상기 기판 스테이지와의 속도차에 대응한 신호를 가산하는 회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 필터부재는 상기 속도지령신호로부터 상기 미세작동 스테이지의 기계공진 주파수 성분을 제외하는 노치필터 또는 밴드 일리네이트필터인 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.
- 마스크를 소정의 주사방향으로 이동시키는 마스크 스테이지; 상기 마스크상의 패턴상으로 노광되는 기판을 소정의 주사방향으로 이동시키는 기판 스테이지; 주사노광 중 상기 마스크 스테이지와 상기 기판 스테이지와의 위치적 편차에 대응한 신호를 이용하여 소정의 속도지령신호를 조정하는 제1의 귀환부재 및 상기 주사노광 중 상기 마스크 스테이지와 상기 기판 스테이지와의 속도차에 대응한 신호를 상기 속도지령신호에 가산하는 제2의 귀환부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP94-135615 | 1994-06-17 | ||
| JP6135615A JPH088159A (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 走査型露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960001902A true KR960001902A (ko) | 1996-01-26 |
Family
ID=15155954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950016562A Withdrawn KR960001902A (ko) | 1994-06-17 | 1995-06-17 | 주사형 노광 장치 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH088159A (ko) |
| KR (1) | KR960001902A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100337596B1 (ko) * | 1998-07-17 | 2002-05-23 | 히로시 오우라 | 다중 컬럼의 대전 입자 빔 리소그라피 시스템 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100483982B1 (ko) * | 1996-06-07 | 2005-08-10 | 가부시키가이샤 니콘 | 진동절연장치및노광장치 |
| US6646715B1 (en) | 1997-01-14 | 2003-11-11 | Nikon Corporation | Scanning exposure apparatus and method with run-up distance control |
| DE10121857B4 (de) | 2000-05-09 | 2006-03-23 | Nagatanien Co., Ltd. | Biskuitkuchen-Vormischung und Teig zur Zubereitung von Biskuitkuchen |
| JP2006203113A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-03 | Nikon Corp | ステージ装置、ステージ制御方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 |
| US7468782B2 (en) * | 2005-04-25 | 2008-12-23 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, position quantity controller and control method with feedforward signal |
| US7352149B2 (en) * | 2006-08-29 | 2008-04-01 | Asml Netherlands B.V. | Method for controlling the position of a movable object, a positioning system, and a lithographic apparatus |
| US8852751B2 (en) | 2009-09-25 | 2014-10-07 | Hamilton Sundstrand Corporation | Wear resistant device and process therefor |
| WO2013161858A1 (ja) * | 2012-04-24 | 2013-10-31 | 株式会社ニコン | 制御装置、ステージ装置、露光装置、及び制御方法 |
| WO2013160082A1 (en) * | 2012-04-27 | 2013-10-31 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
| CN104541208B (zh) * | 2012-07-09 | 2019-01-22 | 株式会社尼康 | 驱动系统和驱动方法、以及曝光装置和曝光方法 |
| JP7023121B2 (ja) * | 2018-01-15 | 2022-02-21 | 倉敷化工株式会社 | アクティブ除振装置 |
| JP7737252B2 (ja) * | 2021-07-13 | 2025-09-10 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
-
1994
- 1994-06-17 JP JP6135615A patent/JPH088159A/ja not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-06-17 KR KR1019950016562A patent/KR960001902A/ko not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100337596B1 (ko) * | 1998-07-17 | 2002-05-23 | 히로시 오우라 | 다중 컬럼의 대전 입자 빔 리소그라피 시스템 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH088159A (ja) | 1996-01-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR960001902A (ko) | 주사형 노광 장치 | |
| US4810941A (en) | Control system for a servomotor | |
| KR970072026A (ko) | 주사형 노광 장치 | |
| KR960038498A (ko) | 노광장치 | |
| KR920013645A (ko) | 투영노광방법 | |
| KR970067585A (ko) | 결상특성의 측정방법 및 투영노광방법 | |
| SE0200547D0 (sv) | An image forming method and apparatus | |
| TW374936B (en) | Exposure apparatus | |
| KR970022572A (ko) | 투영노광장치 | |
| KR960015755A (ko) | 주사형 광노출장치 | |
| KR100276796B1 (ko) | 주사노광장치 및 이를 이용한 디바이스제조방법 | |
| KR970007499A (ko) | 스테이지 구동 제어 장치 및 스테이지 구동 제어 방법 | |
| EP0844530A3 (en) | Reduction of pattern noise in scanning lithographic system illuminators | |
| EP1653280A1 (en) | Pattern exposing system and pattern exposing method | |
| KR960018770A (ko) | 투영노광방법 및 장치 | |
| KR960035159A (ko) | 노광 방법 및 장치 | |
| KR910013435A (ko) | 전자빔노광방법 및 그 장치 | |
| US5838443A (en) | Exposure apparatus implementing priority speed setting arrangement | |
| JPS6197830A (ja) | 露光装置 | |
| KR950006961A (ko) | 노광량 제어 장치 | |
| JP2868274B2 (ja) | 走査型露光装置 | |
| KR960032583A (ko) | 주사노광방법 및 장치 | |
| KR101817875B1 (ko) | 노광장치 | |
| KR970077111A (ko) | 투영 노광 장치 | |
| CN101203808A (zh) | 图像增强技术 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 19950617 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| PC1203 | Withdrawal of no request for examination | ||
| WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |