NO122094B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- NO122094B NO122094B NO298268A NO298268A NO122094B NO 122094 B NO122094 B NO 122094B NO 298268 A NO298268 A NO 298268A NO 298268 A NO298268 A NO 298268A NO 122094 B NO122094 B NO 122094B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- silicon dioxide
- boron oxide
- temperature
- borosilicate glass
- alkali
- Prior art date
Links
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 claims description 36
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 25
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 22
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 229910021486 amorphous silicon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 claims description 2
- WYXIGTJNYDDFFH-UHFFFAOYSA-Q triazanium;borate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]B([O-])[O-] WYXIGTJNYDDFFH-UHFFFAOYSA-Q 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 75
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 32
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 29
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 7
- AUTNMGCKBXKHNV-UHFFFAOYSA-P diazanium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound [NH4+].[NH4+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 AUTNMGCKBXKHNV-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 6
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 239000011872 intimate mixture Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ONVOAGRVBFOWSS-UHFFFAOYSA-N [B]=O.[Si](=O)=O Chemical compound [B]=O.[Si](=O)=O ONVOAGRVBFOWSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229940075614 colloidal silicon dioxide Drugs 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTRAYOBSWCVTIN-UHFFFAOYSA-N OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N Chemical compound OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N.N OTRAYOBSWCVTIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006004 Quartz sand Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 alkali metal cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- QZNWNKFWDJRMLV-UHFFFAOYSA-N azane;2-hydroxy-4-[(4-hydroxy-1,3,2,4-dioxadiboretan-2-yl)oxy]-1,3,2,4-dioxadiboretane;tetrahydrate Chemical compound N.N.O.O.O.O.O1B(O)OB1OB1OB(O)O1 QZNWNKFWDJRMLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- MOWNZPNSYMGTMD-UHFFFAOYSA-N oxidoboron Chemical group O=[B] MOWNZPNSYMGTMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- APSPVJKFJYTCTN-UHFFFAOYSA-N tetramethylazanium;silicate Chemical compound C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C.[O-][Si]([O-])([O-])[O-] APSPVJKFJYTCTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000476 thermogenic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/02—Pretreated ingredients
- C03C1/026—Pelletisation or prereacting of powdered raw materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/08—Doped silica-based glasses containing boron or halide
- C03C2201/10—Doped silica-based glasses containing boron or halide containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/10—Melting processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
Fremgangsmåte ved fremstilling av borsilikatglass i
det vesentlige fritt for alkali- og jordalkalimetaller.
Oppfinnelsen angår fremstilling av borsilikatglass i det vesentlige fritt for alkali- og jordalkalimetaller. Slike glass-typer ligner på kvartsglass med hensyn til flere verdifulle egenskaper, og i motsetning til smeltet kvartsglass krystalliserer de ikke hurtig til crystobalitt ved en temperatur over 1200°C. Disse glass har meget lave varmeutvidelseskoeffisienter hvilket medforer hoyere motstandsevne overfor varmesjokk og god anvendbarhet for laboratorieapparatur, brente slitasjegjenstander, emner for tele-skopspeil og forseglingsglass for molybden og Covar. Disse glass har også en god motstandsevne overfor elektrisitet, atmosfærisk påvirkning, kjemisk påvirkning og varme og har ved en temperatur over deres likvidustemperaturer optimal viskositet for anvendelse ved fremstilling av glassfibre.
Hittil er fremstilling av borsilikatglass i det vesentlige frie for alkali- og jordalkalimetaller som regel blitt utfort ved å utlute alkali- eller jordalkalimetallet fra et alkali- eller jordalkalimetallborsilikat. Dette utfores ved f.eks. å anvende vann inneholdende en sterk mineralsyre. Denne utlutning gjor at dette er en meget omstendelig og kostbar fremgangsmåte. Den er imidlertid blitt anvendt fordi det ikke har vært kjent noen fremgangsmåte ved hvilken alkali- og jordalkalimetallfritt borsilikatglass kan oppnåes direkte fra siliciumdioxyd og boroxyd. Det er ikke praktisk bare å oppvarme et vanlig siliciumdioxydpulver, som den findelte kvartsand som anvendes av glassfremstillere, med boroxyd i fravær av et flussmiddel da størsteparten, om ikke alt, boroxyd sublimerer og unnviker fra reaksjonsblandingen for det er nådd en temperatur ved hvilken noen vesentlig reaksjon inntreffer.
Ved foreliggende fremgangsmåte fåes borsilikatglass i det vesentlige fritt for alkali- og jordalkalimetaller ved å omsette siliciumdioxyd og boroxyd i fravær av et flussmiddel hvorved den hittil nødvendige utlutning elimineres.
Det foretrekkes ofte at borsilikatglass skal foreligge som et fint pulver. Dette er f.eks.1 tilfellet ved fremstilling av formede gjenstander ved kaldpressing av pulveret og sintring av den sammen-pressede gjenstand til en gjenstand med hoy styrke og tetthet. Slike pulvere er også nyttige som trykkoverforingsmidler ved hoye temperaturer. Foreliggende fremgangsmåte muliggjor fremstilling av pulverformet borsilikatglass direkte uten at det er nodvendig med noen pulverisering.
Oppfinnelsen angår således en fremgangsmåte ved fremstilling av borsilikatglass i det vesentlige fritt for alkali- og jordalkalimetaller , ved oppvarming av en i det vesentlige homogen blanding bestående av 83 - 99 vekt% kolloidalt, findelt, amorft siliciumdioxyd med en partikkelstorrelse under 0,5 M °g 1-17 vekt$, beregnet som boroxyd, av boroxyd, borsyre eller ammoniumborat,
og fremgangsmåten er særpreget ved at blandingen oppyarmes til en temperatur av 500-800°C for direkte fremstilling av.et borsilikatglasspulver eller til en temperatur av 800-900°C for fremstilling av lett knusbare borsilikatglasskorn eller -klumper.
Uttrykket "kolloidalt findelt, amorft siliciumdioxyd" som anvendt heri, er ment å betegne partikler av amorft siliciumdioxyd med en partikkeldiameter av under 0,5 M og lag av amorft siliciumdioxyd med en tykkelse av under 0,5 M. Forekomst av kolloidalt, amorft siliciumdioxyd kan lett fastslåes ved vanlig undersokelse av dispergerte, findelte pulvere med et elektronmikroskop.
Uttrykket "borsilikatglass i det vesentlige fritt for alkali-og jordalkalimetaller" er ment å betegne borsilikatglass inneholdende ikke over 0,05 vekt% alkali- og jordalkalimetaller. Glasset inneholder fortrinnsvis under 0,02 vekt$ av disse metaller. Nærvær av alkalimetaller bor spesielt unngåes da de meget sterkt bevirker en uonsket avglassing av glasset ved forhoyede temperaturer.
Foreliggende fremgangsmåte er basert på den oppdagelse at intime blandinger av boroxyd og kolloidalt findelt, amorft siliciumdioxyd kan oppvarmes til temperaturer ved hvilke siliciumdioxydet og boroxydet danner borsilikatglass uten noe vesentlig tap av boroxyd fra reaksjonsblandingen på grunn av sublimering.
Mengden av boroxyd i disse blandinger kan variere fra ca. 1 til 17 vekt$. Boroxydmengder vesentlig under ca. 1% er ikke tilstrekkelig effektive som flussmiddel til at det fåes borsilikater med en nyttig viskositet ved en senere oppvarming til et temperaturområde rundt 1600°C. Med andre ord vil for en bor.oxydmengde av under ca. 1% borsilikatet få egenskaper som sterkt nærmer seg egen-skapene til amorft siliciumdioxyd. På den annen side vil boroxydmengder over 17$ være Vanskelige å omsette fullstendig selv med kolloidalt siliciumdioxyd. Dessuten ville mykningstemperaturen til slike borsilikatglass reduseres så meget at glassene ikke ville medfore spesielle fordeler med hensyn til temperaturmotstandsevne sammenlignet med vanlige alkali- eller jordålkaliborsilikatglass.
De ved foreliggende fremgangsmåte anvendte blandinger av boroxyd og kolloidalt findelt, amorft siliciumdioxyd kan fremstilles ved en hvilken som helst fremgangsmåte som vil sikre en intim kontakt mellom boroxydet og det kolloidalt findelte, amorfe siliciumdioxyd i molekylær eller kolloidal målestokk. En av bestand-delene kan f.eks. foreligge som partikler i en vandig suspensjon mens den annen bestanddel kan være tilstede i en opplosning i molekylær tilstand. I dette tilfelle kan materialet i opplosning i virkeligheten belegge de faste partikler av den annen bestanddel ved torking.
Begge bestanddeler kan også være tilstede som partikler og sammenblandes ved a suspenderes i en væske eller i torr tilstand ved å anvende en kraftig blanding. De kolloidale siliciumdioxyd-partikler kan i virkeligheten danne tynne lag eller belegg rundt boroxydpartiklene hvorved fåes en hurtig reaksjon ved lave temperaturer på grunn av de store overflateområder til de to materi-aler som befinner seg i kontakt med hverandre. Egnede siliciumdioxyd-boroxydblandinger kan også fremstilles ved å erstatte siliciumdioxydet og/eller boroxydet ved de straks ovenfor beskrevne fremgangsmåter med én eller flere forbindelser som kan spaltes termisk til siliciumdioxyd eller boroxyd og til et eller flere flyktige biprodukter. De erholdte blandinger kan varmebehand-les for fremstilling av siliciumdioxyd-boroxydblandingene. Denne varmebehandling kan utfores lenge for den påtenkte anvendelse av blandingene eller den kan utfores under oppvarming til de temperaturer som anvendes ved foreliggende fremgangsmåte. Slike varmspaltbare forbindelser vil i det etterfølgende bli betegnet som "kilder".
Som nevnt skal borsilikatglassene fremstilt ved foreliggende fremgangsmåte inneholde en samlet mengde av ikke over 0,05 vekt%, fortrinnsvis ikke over 0,02 vekt%, alkali- og jordalkalimetaller. Siliciumdioxydet, boroxydet og kilder for disse som anvendes ved foreliggende fremgangsmåte, må derfor selvfolgelig ikke inneholde, mer enn disse prosentuelle mengder av alkali- og jordalkalimetaller.
Kolloidalt findelt, amorft siliciumdioxyd og kilder for dette er kommersielt tilgjengelig eller de kan fremstilles på en hvilken som helst vanlig måte. Et foretrukket siliciumdioxyd markedsfores som et meget findelt, hvitt pulver under varemerket "Are Silica" 800. Dette materiale består av partikler med en gjennomsnittlig partikkelstorrelse av 15 m/Li og med et partikkelstorrelsesområde av 8 - 28 m\ x. De adskilte partikler koalesceres til agglomerater med en gjennomsnittsstbrrelse av 3 M og et storrelsesområde av 0,7-12 fj,. Ved å oppslemmes i destillert vann med ammoniakk ved en pH av ca. 9 og kraftig omrbring i et elektrisk blandeapparat, som en Waring Blendor, brytes agglomeratene ned til mindre agglomerater
og adskilte partikler. Overflateområdet til "Are Silica" 800 er 185 m<2>/g. Vekttapet ved 120°C er 0,^ -1,2 vekt$, og forbrennings-tapet ved 1000°C er 1,0 - 3,8 vekt$. Innholdet av Si02 i dette materiale på torr basis er 99,6 %, og natriuminnholdet er h7 ppm, kaliuminnholdet 89 ppm og lithiuminnholdet 2 ppm.
Et annet egnet siliciumdioxyd for fremstilling av de ved foreliggende fremgangsmåte anvendte blandinger er et meget findelt, termogent siliciumdioxydprodukt fremstilt ved forbrenning av sili-ciumtetraklorid. Dette produkt markedsføres under varemerket "Cab-O-Sil" M5. Materialet har en gjennomsnittlig enkeltpartikkeldia-meter av ca. 15 mM. Disse partikler koalesceres til agglomerater med en gjennomsnittlig diameter av 100 - 200 m/i. Dette materiales spesifike overflateareal er ca. 200 m /g, og materialet er i det vesentlige fritt for natrium, kalium og lithium. Da dette produkt er meget lett og voluminost, er det mindre praktisk å anvende dette produkt for produksjon i storre målestokk enn å anvende det tid-ligere nevnte, foretrukne siliciumdioxyd.
Et annet egnet siliciumdioxyd kan fåes ved en lengere maling
i kulemolle av et 325 mesh amorft siliciumdioxydmateriale som markedsføres under varemerket "Glasrock". Dette materiale kan males i en stålmolle med utluftning og med stålkuler og destillert vann som malemiddel. Ved å vaske produktet med syre og destillert vann for å fjerne eventuelt forurensende stål, peptisering av det vaskede produkt med ammoniakk og ekstraksjon av fraksjonen med en finere partikkelstorrelse enn 250 imi ved sedimentering fåes et siliciumdioxydprodukt med en gjennomsnittlig partikkeldiameter av 35 m/i. Dette produkt har vist seg å ha en meget ujevn partikkel-storrelsesfordeling ennskjønt praktisk talt alle partikler har en diameter av under 500 m/Lt.
En siliciumdioxydkilde som er anvendelig- ved fremstilling av varmspaltbare blandinger, utgjøres av avløpet som fåes ved å bringe en kommersiell, fortynnet opplosning av et alkalimetallsilikat i kontakt med en hydrogenionbytter inntil alkalimetallet er blitt i det vesentlige fullstendig fjernet fra oppløsningen. Det oppnådde produkt er en ustabil opplosning av kiselsyre som er til-bøyelig til å danne dimerer, trimerer, polymerer og geler dersom den får henstå i en tid av fra 5 minutter til flere timer avhengig av oppløsningens konsentrasjon. Oppløsningen anvendes derfor for gelering ved fortynning og blanding med boroxyd eller en boroxydkilde, eller opplosningen stabiliseres for senere anvendelse ved tilsetning til opplosningen av en sterk, flyktig base, som tetra-methylammoniumhydroxyd, inntil det fåes en pH av ca. 12 under dannelse av tetramethylammoniumsilikat. Når denne opplosning torkes og oppvarmes, fjernes tetramethylammoniumhydroxydet sammen med vannet.
Den foretrukne boroxydkilde er ammoniumborat. For blanding
med siliciumdioxyd eller en siliciumdioxydkilde fremstilles en opplosning av ammoniumborat ved å suspendere ren , natriumfri borsyre i destillert vann og ved tilsetning av konsentrert ammoniakk til suspensjonen under omroring inntil borsyren er blitt fullstendig opplost. Av andre boroxydkilder kan nevnes den vandige opplosning av ammoniumborat som fåes ved å opplose krystaller av ren-set ammoniumpentaborat eller ammoniumtetraborat i destillert vann. Natriumfri borsyre er en annen boroxydkilde som kan anvendes. For optimal blanding med siliciumdioxydet eller en siliciumdioxydkilde opploses borsyren på forhånd i destillert vann.
Boroxyd eller borsyre kan pulveriseres eller males i kulemolle med amorft siliciumdioxyd for oppnåelse av en meget intim blanding som ved oppvarming gir en intim blanding av boroxyd og amorft siliciumdioxyd egent for omsetning under dannelse av bor-silikat.
Ved utforelse av foreliggende fremgangsmåte bor blandingen
av siliciumdioxyd og boroxyd oppvarmes langsomt for å bevirke en reaksjon mellom siliciumdioxydet og boroxydet for boroxydet blir tilboyelig til å fordampe. Sluttemperaturen kan variere fra 500
til 900°C. Varmebehandlingstiden kan variere fra 1 minutt ved den ovre ende av dette temperaturområde og helt inntil 200 timer ved den nedre ende av dette område. Jo hoyere temperaturen er, jo hur-tigere vil selvfølgelig reaksjonen være, men samtidig vil boroxydet være mer tilboyelig til å sublimere. Det er som regel ikke nodvendig med en behandlingstid av over 200 timer. Når boroxydkilder og siliciumdioxyd anvendes, foretrekkes det å benytte en forholds-vis langsom oppvarmingshastighet av fra ca. 50 til ca. 200°C pr. time under 500°C for å sikre en fullstendig avdrivning av fuktighets-damper, ammoniakk og lignende. Over 500°C kan hoyere oppvarmings-hastigheter av 350 - 500°C pr. time anvendes.
Lave sluttemperaturef, d.v.s. mellom 500 og 800°C, gir et
mykt til kornet pulver mens hoyere sluttemperaturer av 800-900°C i alminnelighet gir granulater eller agglomererte glassmasser avhengig av den boroxydmengde som er tilstede. De pulvere som fåes ved anvendelse av lave temperaturer, er tilstrekkelig myke til å kunne siktes direkte.
Eksempel 1
100 g "Are Silica" 800, et kolloidalt findelt, amorft siliciumdioxydpulver bestående av enkeltpartikler med en gjennomsnittlig diameter av 15 mu, koalescert til agglomerater med en gjennomsnittlig diameter av 3 /x, et spesifikt overflateareal av 185 m /g og inneholdende i det vesentlige intet natrium, ble langsomt satt til 900 ml destillert vann i den 3,785 liters rustfrie stålbeholder til et Waring Blendor elektrisk blandeapparat som roterte med 10.000 omdreininger pr. minutt. Etter avsluttet tilsetning ble blandingen fortsatt i 1 minutt. 19,7 g borsyre opplost i 150 ml destillert vann inneholdende 10_ ml konsentrert ammoniakk ble langsomt satt til suspensjonen av siliciumdioxyd mens innholdet i blandeapparatet ble kontinuerlig omrort.
Den erholdte tykke suspensjon ble heldt over på et plastbrett og ble torket over natten under en infrarod lampe. De oppnådde klumper ble overfort til en siliciumdioxyddigel og oppvarmet i en elektrisk ovn til 150°C med en hastighet av 50°C pr. time. Denne temperatur ble opprettholdt i 2 timer, og oppvarmingen ble så gjen-opptatt med en hastighet av 50°C pr. time inntil det ble nådd en temperatur av 900°C. Denne temperatur ble opprettholdt i 2h timer. Under oppvarmingen ble vann og ammoniakk avgitt. Et elektronmikro-skopfotografi av blandingen etter oppvarming til 150°C viste en jevn blanding av de koalescerte partikler av kolloidalt findelt siliciumdioxyd og hydratisert boroxyd. Den vanlige fremgangsmåte for torrplassering av findelte pulvere i et elektronmikroskop ble anvendt.
De etter oppvarming til 900°C oppnådde klumper ble knust i en agatmorter med en agatpistill inntil . alle partikler passerte en 20 mesh sikt av rustfritt stål. Det således oppnådde pulver inneholdt k2 % silicium, 55 % oxygen og 3$bor. Intet boroxyd kunne fjernes fra pulveret ved å utlute pulveret med vann ved værelsetemperatur.
Eksempel 2
Eksempel 1 ble gjentatt, bortsett fra at borsyreopplosningen
ble erstattet med en opplosning av ammoniumtetraborat fremstilt ved tilsetning av 1,89 g ammoniumtetraborattetrahydrat til 30 ml destillert vann ved en temperatur av 60°C og omroring inntil det ble oppnådd en fullstendig opplosning av saltet. 99 g "Are Silica" 800 ble anvendt.
Det etter oppvarming til 900°C ved pulverisering oppnådde pulver inneholdt h6 ,25 % silicium, 0,36 % bor og 53,<*>+5 % oxygen. Intet boroxyd kunne fjernes fra pulveret ved å utlute pulveret med vann ved værelsetemperatur.
Eksempel 3
Et 325 mesh amorft siliciumdioxydpulver som markedsfores under varemerket "Glasrock" med et spesifikt overflateareal av 2,5 m 2/g og inneholdende bare 25 ppm natrium, ble kulemollet i 1 uke i en stålmolle med utlufting og stålkuler under anvendelse av destillert vann som malemiddel. Det malte pulver ble forst vasket med saltsyre og så med vann for å fjerne eventuelle metallforurensninger som skrev seg fra mollen. Pulveret ble så peptisert med ammoniakk og ,fikk
bunnsette for å fjerne fraksjonen med storre partikler enn 500 mfi. Denne finfraksjon hadde et spesifikt overflateareal av 77 m /g hvilket tilsvarte en gjennomsnittlig partikkeldiameter av 35 m/i. 86 g av dette kolloidalt findelte siliciumdioxyd ble suspen-dert i 900 ml destillert vann som beskrevet i eksempel 1. 2<1>+,9 g borsyre og 15 ml konsentrert ammoniumhydroxyd i 200 ml vann ble så satt til siliciumdioxydsuspensjonen under kontinuerlig vandig omroring i det elektriske blandeapparat. Den erholdte suspensjon ble så torket som beskrevet i eksempel 1.
De oppnådde klumper ble overfort til en siliciumdioxyddigel.
Blandingen ble oppvarmet i en elektrisk ovn til 150°C med en hastighet av 50°C pr., time. Denne temperatur ble opprettholdt i 2 timer, og temperaturen ble så oket til 900°C med en hastighet av 200°C pr. time. Denne temperatur ble opprettholdt i 12 timer.
Det etter pulverisering oppnådde pulver inneholdt h0, l % silicium, 55,5 % oxygen og k, h % bor. Intet boroxyd kunne fjernes fra pulveret ved å utlute dette med vann ved værelsetemperatur.
Eksempel h
Eksempel 1 ble gjentatt, bortsett fra at det ble anvendt
^300 g av et 2% kiselsyreavlop fremstilt ved å bringe en kommersielt tilgjengelig, fortynnet opplosning av et alkalimetallsilikat i kontakt med en hydrogBnionebytter inntil alkalimetallkationene var blitt i det vesentlige fullstendig fjernet fra opplosningen. Borsyreopplosningen anvendt i eksempel 1 ble erstattet med en opplosning av 2^,9 g borsyre i 600 ml vann. Det tbrkede materiale ble
oppvarmet i en elektrisk ovn til 150°C med en hastighet av 50°C pr. time. Denne temperatur hie opprettholdt i 2 timer, og temperaturen ble så oket til 700°C med en hastighet av 350°C pr. time. Denne temperatur ble opprettholdt i 1 time. Det ble direkte oppnådd et findelt pulver inneholdende ho % silicium, 56 % oxygen og h % bor, og det var ikke nodvendig med noen pulverisering.
Eksempel 5
Eksempel 1 ble gjentatt, bortsett fra at 83 g "Are Silica" 800'ble anvendt sammen med 30,2 g borsyre, og sluttemperaturen ble oket fra 150°C til 500°C med en hastighet av 50°C pr. time og holdt ved maksimumstemperaturen i 100 timer.
Produktet var et skjort borsilikatglasspulver inneholdende 83$
Si02 og 17 % B20y
Claims (1)
- Fremgangsmåte ved fremstilling av borsilikatglass i det vesentlige fritt for alkali- og jordalkalimetaller, ved oppvarming av en i det vesentlige homogen blanding bestående av 83 - 99 vekt% kolloidalt, findelt, amorft siliciumdioxyd med en partikkelstor-reise under 0,5 (i og 1-17 vekt$, beregnet som boroxyd, av boroxyd, borsyre eller ammoniumborat, karakterisert ved at blandingen oppvarmes til en temperatur av 500 - 800°C for direkte fremstilling av et borsilikatglasspulver eller til en temperatur av 800-900°C for fremstilling av lett knusbare borsilikatglasskorn eller -klumper.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US65704267A | 1967-07-31 | 1967-07-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO122094B true NO122094B (no) | 1971-05-18 |
Family
ID=24635618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO298268A NO122094B (no) | 1967-07-31 | 1968-07-30 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| BE (1) | BE718870A (no) |
| CH (1) | CH534641A (no) |
| CS (1) | CS160638B2 (no) |
| DE (1) | DE1771897A1 (no) |
| DK (1) | DK126496B (no) |
| FR (1) | FR1575238A (no) |
| GB (1) | GB1213372A (no) |
| LU (1) | LU56599A1 (no) |
| NL (1) | NL6810787A (no) |
| NO (1) | NO122094B (no) |
| SE (1) | SE339291B (no) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4419115A (en) * | 1981-07-31 | 1983-12-06 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Fabrication of sintered high-silica glasses |
-
1968
- 1968-07-26 DE DE19681771897 patent/DE1771897A1/de active Pending
- 1968-07-29 GB GB3615268A patent/GB1213372A/en not_active Expired
- 1968-07-29 LU LU56599D patent/LU56599A1/xx unknown
- 1968-07-29 CH CH1131568A patent/CH534641A/de not_active IP Right Cessation
- 1968-07-30 FR FR1575238D patent/FR1575238A/fr not_active Expired
- 1968-07-30 NO NO298268A patent/NO122094B/no unknown
- 1968-07-30 SE SE1032868A patent/SE339291B/xx unknown
- 1968-07-30 NL NL6810787A patent/NL6810787A/xx unknown
- 1968-07-30 CS CS552768A patent/CS160638B2/cs unknown
- 1968-07-30 DK DK367768A patent/DK126496B/da unknown
- 1968-07-31 BE BE718870D patent/BE718870A/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BE718870A (no) | 1968-12-31 |
| DE1771897A1 (de) | 1972-02-03 |
| CS160638B2 (no) | 1975-03-28 |
| NL6810787A (no) | 1969-02-04 |
| SE339291B (no) | 1971-10-04 |
| GB1213372A (en) | 1970-11-25 |
| LU56599A1 (no) | 1968-10-31 |
| FR1575238A (no) | 1969-07-18 |
| CH534641A (de) | 1973-03-15 |
| DK126496B (da) | 1973-07-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0335875B1 (en) | Vitreous silica | |
| US9302926B2 (en) | Process for producing granules, method for producing molten glass and method for producing glass product | |
| US4826521A (en) | Method of manufacturing articles of extremely pure synthetic particulate silicon dioxide | |
| NO167549B (no) | Fremgangsmaate for separering av hydrokarbongasser. | |
| US4243422A (en) | Granular quartz glass product | |
| JPS61295242A (ja) | ガラス質ビ−ズの製造法 | |
| Hémono et al. | Processing of transparent glass-ceramics by nanocrystallisation of LaF3 | |
| US3762936A (en) | Manufacture of borosilicate glass powder essentially free of alkali and alkaline earth metals | |
| JP2839725B2 (ja) | 高純度結晶質シリカの製造方法 | |
| Inocente et al. | Lithium aluminium silicate–based low–coefficient of thermal expansion materials obtained by colloidal and low–temperature approaches | |
| NO140468B (no) | Analogifremgangsmaate til fremstilling av 2-(fenoksyalkyltio)s-nitroimidazolforbindelser | |
| JPH04154613A (ja) | 高純度合成シリカ粉 | |
| JP3121733B2 (ja) | 高純度合成クリストバライト粉、その製造方法及びシリカガラス | |
| JPH01126238A (ja) | 石英ガラス炉芯管 | |
| US3065089A (en) | Manufacture of glass | |
| JPH0640763A (ja) | 高度結晶質品の製造方法 | |
| JPH0582331B2 (no) | ||
| Kaz'mina et al. | Prospects for use of finely disperse quartz sands in production of foam-glass crystalline materials | |
| JPH0517172B2 (no) | ||
| JPH0457604B2 (no) | ||
| JPH0264027A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JPH038708A (ja) | シリカ原料の製造方法 | |
| JPH04500659A (ja) | 非顔料性二酸化チタン粉末 | |
| JPH05163013A (ja) | 高純度結晶質シリカの製造方法 | |
| JPH09295826A (ja) | 高純度透明シリカガラスの製造方法 |