NO762006L - - Google Patents

Description

Fotofølsomme sammensetninger.

Foreliggende oppfinnelse angår generelt strålingsfølsomme strukturer, mer spesielt en fotofølsom, enlaget filmstruktur som egner seg for fremstilling av vannbearbeidbare trykkeplater og lignende grafiske elementer.

Det er kjent mange forskjellige fotofølsomme systemer for fremstilling av litografiske plater. Diazoforbindelser er ofte brukt som den fotofølsomme komponent i slike systemer. Diazoforbindelsene kan bearbeides slik at de får flere egenskaper som.gjør at de med fordel kan brukes for fremstilling av grafiske elementer, f.eks. kan de fremstilles med lave omkostninger, ha lang lagringstid, de har god vannoppløselighet og god fotofølsomhet. Imidlertid blir diazoforbindelsenes mottagelighet for trykksverte i vesentlig grad redusert ved kontakt med vann, og holdbarheten av diazoharpikser er relativt lav. For å unngå dette problem har man prøvd å bruke lakkbaserte fremkallere, eller ved å belegge diazoforbinde.lsen med en ultrafiolett trans-mitterende lakk eller et annet materiale. Dette gir vanligvis gode resultater, men resulterer på den annen side i at man taper evnen til enkel vannbearbeiding av diazoforbindelses-■ platene, og i visse tilfeller er det ønskelig eller nødven-

dig med øket eksponeringstid. Videre mangler diazoforbindelser tilstrekkelig bindestyrke til glatte overflater og det har derfor følgelig vært nødvendig å bruke kornede substrater for å øke den mekaniske binding av disse fotofølsomme belegg, for å kunne oppnå de forønskede lange trykketider.

Andre kjente fotofølsomme systemer bruker fotopolymerer som både har høy og god mottagelighet for trykksverte og lang varighet. Disse systemer krever imidlertid vanligvis at man må ha spesielle oppløsningsmidler for å fremkalle platene, hvorved man øker systemets kompleksi-tet sammenlignet med enkel vannfremkallingssysterner, og i tillegg får -man uønskede avfallsproblemer.

For å unngå de ovennevnte problemer har man nå funnet en ny fotofølsom filmstruktur som har enestående og meget ønskelige egenskaper.

Foreliggende oppfinnelse angår således en enlaget filmstruktur som innbefatter en første fase dispergert i en matrise sammensatt av en annen fase. Den første fase er et fotofølsomt materiale som blir forandret med hensyn til oppløselighet i et utvalgt oppløsningsmiddel ved eksponering overfor lys. Den annen fase er sammensatt av et materiale som ikke er fotofølsomt og ikke oppløselig i nevnte oppløsningsmiddel.

Man har funnet at en slik fotofølsom sammensetning kan gjøres selektivt permeabel ved billedvis eksponering overfor lys. Deretter kan filmsammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse brukes for en rekke formål hvor det er nødvendig eller ønskelig med selektiv permeabilitet overfor væsker.

Det er følgelig en hensikt ved foreliggende oppfinnelse å tilveiebringe en fotofølsom struktur som kan gjøre selektivt permeabel overfor væsker ved eksponering overfor lys.

Det er videre en hensikt ved foreliggende oppfinnelse å tilveiebringe en fotofølsom struktur hvor den relative mengde av det aktive fotofølsomme materiale er en mindre del av strukturens masse og volum, hvorved man får betydelige fordeler med hensyn til fremstilling og omkostninger.

Det er videre en hensikt ved foreliggende oppfinnelse å tilveiebringe fotofølsomme filmstrukturer som kan fremkalles ved hjelp av vann etter eksponering overfor lys, uten at man bruker organiske eller uorganiske oppløs-ningsmidler. '

Det er videre en hensikt ved foreliggende oppfinnelse å tilveiebringe en fotofølsom, enlaget film sammensetning som kan brukes ved fremstilling av litografiske eller offsettrykkeplater.

Det er videre en hensikt ved foreliggende oppfinnelse å tilveiebringe litografiske trykkplater hvor trykksverte mottageligheten og holdbarheten av billed-områdene er relativt uavhengig av eksponering og frem-kal le rma te r i alet .

Det er videre en hensikt ved foreliggende oppfinnelse å.tilveiebringe et enestående fotoresistent materiale.

Det er videre en hensikt ved foreliggende oppfinnelse å tilveiebringe en fotofølsom filmsammensetning som har høy bindestyrke til en rekke overflater.

De nye trekk ved foreliggende oppfinnelse fremgår av de etterfølgende krav. Oppfinnelsen som sådan, dens hensikter og fordeler kan imidlertid lettest forstås med henvisning til den etterfølgende beskrivelse og de ved-lagte tegninger, hvor figurene 1, 2 og 3 er forstørrede tverrsnitt som hver illustrerer mikrostrukturen under forskjellige utviklingstrinn, i det fotofølsomme system ifølge foreliggende oppfinnelse. Det skal imidlertid bemerkes at disse skjematiske skisser kun tjener til å illustrere strukturen og mekanismen ved foreliggende oppfinnelse og tegningene begrenser således ikke oppfinnelsen.

Den fotofølsomme enlagede filmsammensetning ifølge foreliggende oppfinnelse består av en første fase dispergert i en matrise sammensatt av en annen fase.

Den første fase er fotofølsom og kan for-andre oppløselighet med hensyn til et gitt oppløsningsmiddel. Den annen fase er ikke fotofølsom og velges slik at den er relativt uoppløselig for oppløsningsmidlet for den første fase. Når man således beskriver en såkalt "tofaset struktur" så angår dette det brukte oppløsningsmiddel. Dette betyr at oppløsningsmidlet må selektivt kunne virke enten på den eksponerte eller ueksponerte fotofølsomme "første fase", men må være realtivt passiv i forhold til matrisen i nevnte "andre fase". Den fotofølsomme.enlagede filmsammensetning ifølge foreliggende oppfinnelse, kan best beskrives som et gitter støpt av en emulsjon-dispersjon. Flere mikrostrukturutform-ninger eller gittere kan' dannes av disse emulsjons-disper-sjoner, og disse er hver for seg beskrevet idet de hver for seg har forskjellige fordeler.

En av disse mikrostrukturer som inngår i foreliggende oppfinnelse er illustrert skjematisk på fig. 1. Dette gitter er støpt av en dispersjon bestående av belagte kuler eller meget nær kuler, og er vist som et belegg på

et egnet substrat. I dette system er således den fotoføl-somme første fase angitt som et belegg på nevnte andre fase eller matrisemateriale.

Det beleggmateriale som velges må kunne fukte og belegge den andre fase, og dette beleggmateriale er opp-løselig i det utvalgte oppløsningsmiddel, mens nevnte andre fase er uoppløselig i dette oppløsningsmiddel. Etter aktinisk eksponering vil imidlertid den første fase også bli uoppløselig. Etter en billedmessig eksponering av det foto-følsomme materiale og ved en anvendelse av et utvalgt opp-løsningsmiddel, vil således de ueksponerte arealer av gitteret kunne fuktes og mettes av oppløsningsmidlet på grunn av at nevnte første fase fremdeles er uoppløselig i disse områder. Denne gjennomfuktnirig eller metning av gitteret gjør at man fysisk kan fjerne både det første og andre fasemateriale fra substratet ved børsting, strykning eller lignende.

Fuktbarheten og spredningskarakteristikken for substratet med vann samt kapillærtrykket ved interfasen mellom gitteret og substratet antar man hjelper under denne "fremkalling" prosess og gir derfor ytterligere systemkontroll.

En annen mikrostruktur ifølge foreliggende oppfinnelse illustreres skjematisk på fig. 2. I dette gittersystem er hulrommet mellom kulene av nevnte andre fase fylt med en første fase av fotofølsomt materiale. Den tette pak-king av kulene, slik det er vist på fig. 2, resulterer i et tomvolum på ca. 25%, når kulene i alt vesentlig har lik størrelse. Dette teoretiske hulrom er uavhengig av selve kulestørrelsen, sålenge man opprettholder kulenes ensartethet. Som vist på tegningen, kan hulrommet i matrisen fylles med

en rekke fotofølsomme materialer, såsom en sølv-halogenid/

gelatin, dikromatert kolloider, fotopolymerer, diazo-kol-loidsysterner og lignende.

Ved å bruke dette gittersystem så vil en billedmessig eksponering i de eksponerte områder gi en effektiv binding av det andre fasematerialet, mens ueksponerte områder forblir vannoppløselige og vil følgelig kunne gi den forønskede gjennommetning og etterfølgende fremkalling.

En annen struktur som kan brukes i foreliggende oppfinnelse er vist på fig. 3. I dette system er nevnte fotofølsomme første fasemateriale dispergert inne i et gitter eller system av kuler med varierende diameter.

Som nevnt ovenfor vil en matrise av endimen-sjonale kuler ha hulrom på ca. 25%. Ved å bruke kuler av varierende diameter får man redusert dette hulrom, hvorved man kan bruke mindre mengder av det første fasemateriale under fremstilling av den fotofølsomme struktur. Dette kan selvsagt være megetønskelig for å kunne redusere omkost-ningene og for å kunne la de fysiske og kjemiske egenskaper i den annen fase dominere hele den fotofølsomme strukturs ; egenskaper.

Det fotofølsomme materiale som kan brukes i foreliggende oppfinnelse innbefatter enhver fotofølsom for-bindelse, hvor en eksponering overfor elektromagnetisk stråling frembringer en forandring med hensyn til oppløselig-heten i et gitt oppløsningsmiddel. Den fotofølsomme for-bindelse må velges slik at den er kjemisk forenlig med matriseemulsjonen, slik at en blanding gir et makroskopisk tofaset gittersystem. Fotofølsomme forbindelser som kan brukes i foreliggende oppfinnelse innbefatter aromatiske diazoforbindelser, lysfølsomme fargestoffer, azoforbindelser, dikromater, fotopolymerer og sølvhalogenid-gelatinsystemer. Andre materialer som kan brukes som nevnte første fase er beskrevet bl.a. i U.S. patent nr. 2.063.631 og 2.679.478 og i boken Light Sensitive Systems, av J. Kosar, utgitt av John Wiley & Sons (1965). Spesielt foretrukne materialer som kan brukes i nevnte første fase innbefatter kondensasjonsprodukter av karbony-lf orbindelser, såsom formaldehyd eller paraformaldehyd, og en diazoforbindelse såsom 4-diazo-1, 1'-difenylamin. Slike kondensasjonsprodukter er til gjengelig under varemerket Diazo No4 og Diazo No. 4L. fra Fairmont Chemical Co., Newark, New Jersey.

Den annen fase i den fotofølsomme struktur ifølge foreliggende oppfinnelse er et matrisemateriale hvori første fase er dispergert. Matrisematerialet er hovedkompo-nenten av strukturen og velges slik at den passer til de fysiske egenskaper man ønsker i sluttproduktet. Disse egenskaper innbefatter bl.a.: holdbarhet eller fysisk seighet, evnen til å feste seg på substrater, vannavstøtningsevne (og følgelig trykksvertemottagelig), permeabilitet, oppløs-ningsmiddelresistent, partikkelstørrelse, viskositet, inn-hold av faste stoffer, varmeisolerende egenskaper, film-dannende egenskaper og molekylvekt;

Noen av de homopolymerer eller sampolymerer som i en emulsjons-dispersjonsform som kan brukes for fremstilling av matrisestrukturen ifølge foreliggende oppfinnelse innbefatter bl.a. akryliske, kopolymerer av sampolymerer av acetat og. etylen, sampolymerer av styren og akrylater, polyvinylacetater, samt sampolymerer av vinylacetat og akrylater. Hver av disse kan brukes med eller uten be-skyttende kolloider, fuktende midler, mykningsmidler eller andre modifiserende forbindelser.

Ifølge en foretrukken utførelse av foreliggende oppfinnelse kan den fotofølsomme filmstrukturen fremstilles ved støping, enten som en selvbærende film eller på et passende substrat, en emulsjon inneholdende vann, en egnet diazoforbindelse, og en PVA- krylatemulsjon. Ved tørk-ing vil den resulterende film bestå av en polymerisk matrise hvor diazoforbindelsen er pålagt PVA-akrylatkulene og/eller fyller hulrommet mellom disse. Denne matrise vil danne en vannuoppløselig film,, mens diazof orbindelsen bare blir vann-uoppløselig ved eksponering overfor lys.

Et meget viktig anvendelsesområde for den foreliggende oppfinnelse er fremstillingen av litografiske plater for offsettrykking. Offsettrykkeplater kan fremstilles ved å bruke et hydrofilisk substrat, såsom silikert aluminium eller lignende samt en sammensetning ifølge fore-

liggende oppfinnelse støpt eller strøket på som en film på

dens overflate. Den forannevnte sampolymermatrise av vinylacetat og et langkjedet akrylat gir en fleksibel, en ikke-reemulgerbar film med høy vannavstøtningsevne. Overraskende vil en tilsetning av diazoharpiksen i mellomrommene mellom denne polymeriske matrise resultere i at man kan vaske tynne lag av sammensetningen vekk fra substratet etter en billedmessig eksponering overfor lys. De områder av filmen som er blitt eksponert overfor lys blir ikke fjernét fra substratet under denne vaske eller skrubbeprosess, mens de deler av filmen som ikke er blitt eksponert overfor lys lett kan fjernes. Videre vil de lyseksponerte områder ha de forønskede trykksverte-mottagelighetsegenskaper og effek-

tiv binding, selv til ikke-porøse overflater, såsom silikert, ukornet aluminium.

Man antar at den billedmessige lyseksponering resulterer i en selektiv permeabilitet overfor gitt opp-løsningsmiddel. Når man f.eks. har en diazo-PVA-akrylat-matrisesammensetning, så vil en eksponering overfor lys gjøre at diazoforbindelsen blir uoppløselig i de deler av filmen som er blitt eksponert overfor lys, slik at hele filmen på disse områder blir upermeabel overfor vann. Diazoforbindelsen vil på den annen side i de deler av filmen som ikke er blirr eksponert overfor lys, forbli vannoppløselig hvorved man får en vanngjennomtrengelig PVA/akrylatmatrise. Denne gjennom-rengelighet for vann skaper høye indre spen-ninger som gjør at filmen spaltes av eller rett og slett gjør at bindeevnen svikter. Den fotofølsomme filmsammensetning ifølge foreliggende oppfinnelse gjøres således selektivt permeabel overfor vann ved en eksponering fra et lysbilde.

Når man bruker en fotofølsom struktur av den type som her er beskrevet på et hydrofilisk substrat ved fremstillingen av litografiske trykkeplater, så vil de deler av sammensetningen som ikke er eksponert overfor lys lett kunne fjernes- under vannfremkallingstrinnet. Når denne vann-uoppløselige matrise lar seg fjerne fra substratet antar man at dette delvis skyldes at-vannet påvirker interfasen mellom matrisen og substratet, slik dette er nevnt ovenfor, og vannet kan nå denne interfase på grunn av at de ikke eksponerte deler av filmen er permeable overfor vann. Ettersom PVA-akrylat-sampolymermatrisen er hydrofob (og oleofilisk), så vil foto-følsomme filmsammensetninger ifølge foreliggende oppfin-

nelse være ideelt egnet for bruk under litografiske offset-trykkeprosesser. Ettersom nevnte matrisematerialer ikke er lys følsomme og ikke påvirkes av lyseksponeringeh og selve fremkallingen, kan de således velges slik at man får opti-

male egenskaper med hensyn til trykksvertemottagelighet, holdbarhet, og bindende egenskaper i de resulterende plater. Hvis f.eks. stor holdbarhet er ønskelig, så vil en enkel oppvarming av den fremkalte plate resultere i at kulene smelter sammen, og dette gir en langt bedre holdbarhet.

Ved dessuten å gjøre et passende valg av matrisematerialet, dets tykkelse samt et egnet valg av substrat, er det mulig å skape både hydrofobe og hydrofile egenskaper i filmsammensetningen, som er relativt uavhengig av de man finner i substratet. Etter en billedmessig eksponering vil den fotofølsomme fase av filmen i slike tilfelle beholde sin oppløselighet i de ueksponerte områder, slik at man kan oppnå en porøs overflate ved utlutning med et utvalgt oppløsningsmiddel. Ved å fremkalle filmen uten skrubbing eller børsting, vil således matrisematerialet i alt vesent-

lig beholde sin strukturelle enhetlighet over hele substratet. De ueksponerte , porøse deler kan deretter mekanisk fuktes

med vann, mens de eksponerte områder er ikke-porøse og har følgelig hydrofobe egenskaper. Denne forskjell med hensyn til "fuktbarhet" på filmens overflate er meget godt egnet for litografisk trykking og gjør det mulig for fabrikanten å velge ethvert billig substratmateriale som måtte være egnet.

Anvendbarheten av de fotofølsomme enlagede filmstrukturer ifølge foreliggende oppfinnelse er ovenfor beskrevet med hensyn til fremstillingen av litografisk offsettrykkeplater. Det er imidlertid underforstått, at oppfinnelsen ikke er begrenset til dette ene område. De fotoføl-somme filmsubstrukturer ifølge foreliggende oppfinnelse kan brukes for andre formål, hvor det er ønskelig med selektiv permeabilitet overfor en gitt væske eller oppløsningsmiddel. Således kan fotofølsomme strukturer i følge foreliggende oppfinnelse støpes som en selvbærende film og etterpå ekspo-neres overfor et lysbilde og fremkalles uten å ødelegge matrisens struktur. På denne måten vil man oppnå en struktur som er selektivt permeabel overfor visse væsker.

En slik struktur kan sa brukes for en rekke formål som å påføre mønstre eller bilder på en underliggende overflate ved hjelp av trykksverte eller lignende, som er istand til å gjennomtrenge strukturen.

.Foreliggende fotofølsomme struktur kan selvsagt også brukes for tallrike fotoresistente formål. Matrisematerialet må selvsagt velges og tilpasses til det passende miljø. Man kan således lett finne spesielle emulsjons/dispersjonssystemer som gir resistens overfor syrer eller baser eller med en nødvendig og ønskelig dielektrisk konstant. Så snart man har funnet et passende system kan

man tilsette en forenlig fotofølsom fase, og man oppnår den forønskede struktur.

Det tør være innlysende at den fofofølsomme struktur ifølge foreliggende oppfinnelse vil være lettere å fremkalle hvis man har høyere konsentrasjon av den første fase. På den annen side er det ønskelig å holde konsentra-sjonen av den første fase i visse tilfeller på et minimum, fordi det andre fasematerialet gir bedret holdbarhet, binde-egenskaper og trykkeegenskaper, som utgjør en viktig del av foreliggende oppfinnelse. De relative mengder mellom første og andre fase vil følgelig være avhengig av de egenskaper man ønsker i en gitt fotofølsom struktur. Som et eksempel kan man imidlertid nevne at det diazomateriale som ble brukt i eksempel III kan variere i mengder fra. 0,03

til 10 vekt-%, uten at man i særlig grad påvirker sluttproduktet.

Tykkelsen av den fotofølsomme filmen påvirker også fremkallingen av strukturen, ettersom oppløs-ningsmidlet må gjennomtrenge en større avstand for å nå substratet når man bruker tykkere filmer. Man har generelt funnet at man oppnår gode resultater, når man bruker fotofølsom-me filmer hvis tykkelse varierer fra 0,5 til 25 mikron.

Imidlertid vil partikkelstørrelsen i matrisematerialet og

den type av gitterstruktur man bruker påvirke de tykkelses-grenser som kan brukes for et gitt formål.

De fotofølsomme strukturer ifølge foreliggende oppfinnelse har også langt bedre lysfølsomhet sammenlignet med tidligere kjente systemer. Således kan fotoføl-somme trykkeplater slik de er beskrevet her,"aktiveres"

ved en aktinisk eksponering som er fra 3-5 ganger raskere enn for vanlige diazoplater. Denne forbedrede fotofølsomhet gir ytterligere fordeler. Ettersom fremkallingseffektivi-teten i betydelig grad påvirkes av fuktbarheten og perme-abiliteten på filmoverflaten, så vil en kort aktinisk eksponering bare påvirke overflaten eller nær overflaten, og dette vil gi en effektiv selektiv inntrengning og fremkalling. En slik kort eksponering kan dessuten være fordelaktig i de tilfeller hvor man etterpå bruker varme etter fremkallingen, ettersom den ferdige strukturs trykksvertemottagelighet og holdbarhet i slike tilfeller ikke påvirkes ved eksponeringen.

De etterfølgende eksempler illustrerer foreliggende oppfinnelse.

EKSEMPEL I

100 ml av Rhoplex AC-388 (en akrylisk emulsjons-væske som er tilgjengelig fra Rohm&Haas, Philadelphia, Pa.), 10 ml vann og 2 g Diazo 4L ble blandet i ca. 5 minutter.

Denne blanding ble så tilsatt en valsebelegger og pålagt

et børstet kornet aluminiumsubstrat slik at man fikk en tørr film med en tykkelse på ca. 5 mikron. Lufttørking skjedde i løpet av 2 minutter. Den sensitiverte plate ble plasert i vakuumkontakt med en filmnegativ og eksponert i 15 sekunder fra en 2 KW Xenonlampe. Etter eksponering ble platen fremkalt med vanlig vann fra springen og gummibelagt. Platen ble så plasert i en offsettpresse hvor man brukte vanlige oppløs-ninger og trykksverter. Man kunne oppnå inntil 80.000

kopier av høy kvalitet med minimal svekkelse av bildet.

EKSEMPEL II

100 ml Elvace 1875 (en vannbasert acetat/etylen-sampolymer-emulsjon som er"tilgjengelig fra DuPont, Wilmington,

Delaware) 5 ml vann og 1 g Diazo (et lysfølsomt materiale tilgjengelig fra Graf-Com Co., Easton, Maryland), ble blandet i ca. 2 minutten i en vanlig blander. Blandingen ble så strøket utover et børstet, kornet aluminiumsubstrat og tørket til en filmtykkelse på ca. 2 mikron. Lu'fttørking skjedde i løpet av 1 minutt. Den sensitiverte plate ble så plasert i vakuumkontakt med et filmnegativ og eksponert i ca. 30 sekunder fra en 2 Kw Xenon lampe. Etter eksponeringen ble platen fremkalt med vanlig vann og belagt med gummi på vanlig måte. PLaten ble så montert i en offsetpresse (f.eks. 1250 Adressograph/Multigraph) og under'trykkingen brukte man en vanlig alkalisk oppløsning og en vanlig trykksverte. Man fikk fremstilt flere tusen kopier.

EKSEMPEL III

100 ml Gelva TS 100 (en vannbasert polyvinyl acetat/langkjedet akrylat sampolymeremulsjon som er tilgjengelig fra Monsanto Corp., Newport Beach, Cal.) 10 ml vann, og 4 g Diazo 4L ble blandet . Blandingen ble påført en ukornet, silikert aluminiumsplate og tørket til en tyk-. keise på ca. 5 mikron. Lufttørking skjedde i løpet av 2 minutter. Den sensitiverte plate ble så plasert i vakuumkontakt med et filmnegativ og eksponert i 5 sekunder overfor en 3 KW kvikksølvdamplampe. Etter eksponering ble platen fremkalt med vanlig vann. Etter fremkalling ble platen plasert i en offsetpresse og trykking skjedde ved hjelp av vanlige materialer. Man fikk fremstilt seks tusen kopier av høy kvalitet, uten at bildet tilsynelatende var slitt.

EKSEMPEL IV

100 ml Gelva TS 30 og 100 ml Gelva S 52 (begge vannbaserte polyvinylacetatemulsjoner tilgjengelig fra Monsanto Corp., Newport Beach, Cal.) og 2 g Diazo ble blandet i ca. 2 minutter. Blandingen ble påført en børstet, kornet aluminiumplate og tørket til en filmtykkelse på ca. 10 mikron. To sensitiverte plater fremstilt som ovenfor ble så plasert

i vakuumkontakt med et filmnegativ og.eksponert i 60 sekunder ved hjelp av en 3 Kw Xenonl,ampe. Etter eksponering ble platene fremkalt med vanlig vann og så belagt med gummi.

En plate ble så plasert i en konveksjonsovn som var satt på

ca. 120°C i 2 minutter. Sammenligning mellom de to plater viste at man fikk til langt bedre holdbarhet og bedre trykksvertemottagelighet på den oppvarmede platen. Begge plater gir imidlerfid høykvalitetskopier. Ca. 50.000 kopier ble oppnådd med den uoppvarmede plate, mens man oppnådde over 200.000 kopier med den oppvarmede plate.

EKSEMPEL V

100 ml Gelva TS 100, 50 ml vann og lg Diazo 4L ble blandet i ca. 1 minutt. Blandingen ble så pålagt et telurbelagt mylarsubstrat og tørket til en filmtykkelse på ca. 2 mikron. Lufttørking skjedde i løpet av 1 minutt. Den sensitiverte plate ble så plasert i vakuumkontakt med et filmnegativ og eksponert i 10 sekunder ved hjelp av en 3KW kvikksølvdamplampe. Etter eksponeringen ble platen fremkalt i en vandig oppløsning av NaOCL og NaOH uten børsting eller vasking. inspeksjon av platen viser at telluret var blitt etset av oppløsningen i de ueksponerte områder mens filmbelegget på platen var intakt. Man fikk således ingen fjerning men snarere en selektiv permeabilitet.

EKSEMPEL VI

50 ml Gelva TS 100, 50 ml vann og 2 g.Diazo ble blandet i ca. 2 minutter. Blandingen ble så påført et kornet, ikke-silikatbelagt aluminiumsubstrat og tørket til en filmtykkelse på ca. 2 mikron. Lufttørking skjedde i løpet av 2 minutter. Den sensitiverte plate ble så plasert i vakuumkontakt med et filmnegativ og eksponert i 30 sekunder ved hjelp av en 2 KW Xenonlampe. Etter eksponering ble platen fremkalt ved hjelp av vann som rant over platen. Ingen børsting eller strykning ble brukt, og belegget forble intakt. Platen ble så prøvet for forskjellig fukting og ved hjelp av forskjellige trykksverter ved fukting med en vanlig oppløsning og påstrykning av trykksverte ved hjelp

av en bomullsdott. Man fikk selektive bilder av trykksverten og dette bekrefter det faktum at de ueksponerte områder er gjort vannfuktbare på grunn av at man har utlutet diazofor-

bindelsen og dette gir en porøsitet.

EKSEMPEL VII

50 ml TS 30 og 50 ml TS9 8 (begge polyvinylacetat vannbaserte emulsjoner fra Monsanto Corp., Newport Beach, cal.) og 2 g Diazo 4L ble blandet i ca. 2 minutter.

'Blandingen ble så pålagt både en fin og en noe grovere kornet amluminiumsplate. Filmene ble tørket i luft i ca. 3 minutter til en tykkelse på ca. 8 mikron. De sensitiverte plater ble så plasert i vakuumkontakt med et filmnegativ og eksponert i 90 sekunder ved hjelp av en 3 KW Xenonlampe. Etter eksponeringen ble platene fremkalt ved hjelp av vanlig vann og forsiktig vasking og så gummibelagt. Begge plater ble varme-behandlet ved 120°C i 2 minutter og så plasert på en vanlig litografisk presse. Selv etter trykking av 150.000 kopier kunne man ikke observere noen slitasje av bildet på noen av platene.

Det er underforstått at man lett kan utføre forskjellige forandringer og modifikasjoner av oppfinnelsen uten at man derved forlater oppfinnelsens intensjon. Således kan man lett utføre mange variasjoner av de gitterstrukturer som er beskrevet ovenfor uten at man derved forlater oppfinnelsen som sådan. Dessuten kan passive filmmaterialer som en tredje fase tilsettes for å bedre lagringstiden for å gi bedre farge eller for å gi spesielle foto, magnetiske eller elektriske egenskaper.

Claims (18)

1. Fotofølsom, enlaget filmstruktur, karakterisert ved å bestå av et første fasemateriale dispergert med et annet fasematrisemateriale, hvor nevnte første fase er et fotofø lsomt materiale hvis oppløselighet med hensyn til et gitt opplø sningsmiddel forandres ved eksponering overfor elektromagnetisk bestråling, og hvor nevnte andre fase er et materiale som i alt vesentlig er uoppløselig i nevnte oppløsningsmiddel.

2. Fotofølsom, struktur ifølge krav 1, karakterisert ved at nevnte første fase er valgt fra gruppen bestående av diazoforbindelser, fotopolymerer, lys-følsomme fargestoffer, azoforbindelser, dikromater og sølv- halogenid gelatinsysterner.

3. Fotofølsom struktur ifølge krav 1, . karakterisert ved at første fase er et kondensasjonsprodukt av en karbonylforbindelse og en diazoforbindelse.

4. Fotofølsom struktur ifølge krav 1, karakterisert ved at nevnte første fase er et kon-densas jonsprodukt av en karbonylforbindelse og 4-diazo-l, 1'-difenylamin.

5. Fotofølsom struktur ifølge krav 1, karakterisert ved at nevnte andre fase er støpt fra en polymerisk emulsjon-dispersjon.

6. Fotofølsom struktur ifølge krav 5, karakterisert ved at det polymeriske materiale i nevnte emulsjon-dispersjon er valgt fra gruppen bestående av poly-akryliske forbindelser, sampolymerer av acetat og etylen, sampolymerer av styren og akrylateri <p> olyvinylacetater og sampolymerer av vinylacetat og akrylater.

7. Fotofølsom struktur ifølge krav 1, karakterisert ved at nevnte første fase er en vann-oppløselig diazoforbindelse som gjøres vannuoppløselig ved aktinisk eksponering og hvor nevnte andre fase er støpt fra en vannbasert polymerisk emulsjon-dispersjon.

8. Fotofølsom struktur ifølge krav 7, karakterisert ved at nevnte andre fase er støpt fra en akrylisk emulsjon-dispersjon.

9. Fotofølsom struktur ifølge krav 7, karakterisert ved at nevnte andre fase er støpt fra en acetat/etylen sampolymer emulsjon-dispersjon.

10. Fotofølsom struktur ifølge krav 7, karakterisert ved at nevnte andre fase er støpt fra en polyvinyl acetat/langkjedet akrylisk sampolymer emulsjon-dispersjon.

11. Fotofølsom struktur ifølge krav 7, karakterisert ved at nevnte andre fase er støpt fra en polyvinylacetat emulsjon-dispersjon.

12. Fotofølsom trykkeplate, karakterisert ved å bestå av et substrat som på minst en side er belagt med en fotofølsom, enlaget filmstruktur ifølge krav 1.

13. Vannfremkallbar trykkeplate, karakterisert ved å bestå av et substrat som på minst en side er belagt med en fotofølsom, enlaget filmsammensetning ifølge krav 7.

14. Trykkeplate ifølge krav 13, karakterisert ved at platen etter aktinisk eksponering og vannfremkailing oppvarmes for å gi et sammensmeltet matrisemateriale. som utgjøt nevnte andre fase.

15. Trykkeplate ifølge krav 13, karakterisert ved at nevnte fotofølsomme struktur har en tykkelse varierende fra 0,5 til 25 mikron.

16.. Fotofølsom litografisk trykkeplate , karakterisert ved å bestå av en fotofølsom filmstruktur ifølge krav 1, på et substratlag, og hvor nevnte andre fase av matrisematerialet i alt vesentlig beholder sin struktur på hele substratet, og hvor nevnte filmstruktur etter billedvis aktinisk eksponering har en selektiv vann-fuktbarhet i forhold til denne eksponering.

17. Fotoresister , karakterisert ved å bestå av et substratlag som på minst en side er belagt med en fotofølsom enlaget filmstruktur ifølge krav 1.

18. Vannfremkallbar fotoresister, karakterisert ved å bestå av et substratlag som på minst en overflate er belagt med en fotofølsom, enlaget filmstruktur ifølge krav 7.