JPS58174939A - 画像形成材料 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明に、予め着色された染料筒たは顔料含有マスク層
の上に感光層を設け、この感光層に儂様露光を与えた後
に、表面を水処理することにより高コントラストのii
i像を形成し得るjg&形成材料に関する。
の上に感光層を設け、この感光層に儂様露光を与えた後
に、表面を水処理することにより高コントラストのii
i像を形成し得るjg&形成材料に関する。
従来、平版部ixm稿として用いられる非銀塩感光材料
のうち、染料やIIA@に含む感光性樹脂層を用いるタ
イプとしては、養開昭52−62427号、l!Ij5
2−2520号公報等に開示されているものがある。
のうち、染料やIIA@に含む感光性樹脂層を用いるタ
イプとしては、養開昭52−62427号、l!Ij5
2−2520号公報等に開示されているものがある。
この方法では、高濃匿のjIll!を慢ようとして、感
光性樹脂層中の染料や顔料を増やすと、染料や#i科が
感光性樹脂の感光を促す活性光mt−吸収する逢めに、
かえって感at社下をきたしてしまう。
光性樹脂層中の染料や顔料を増やすと、染料や#i科が
感光性樹脂の感光を促す活性光mt−吸収する逢めに、
かえって感at社下をきたしてしまう。
ま念、感光性樹脂層でレリーフIj僧を形成する及び/
またはレリーフ画像形成後に染色するタイプとしては、
特開昭49−22929号、同49−22930号公報
[!$8示されているものがある。
またはレリーフ画像形成後に染色するタイプとしては、
特開昭49−22929号、同49−22930号公報
[!$8示されているものがある。
この方法では、染料を含有する特別の!i!色浴色環処
理l!になること、さらに適度な濃度に仕上げるために
は染色条件を注意深くコントロールする必要がある。
理l!になること、さらに適度な濃度に仕上げるために
は染色条件を注意深くコントロールする必要がある。
また、予めマスク層を設け、その上に感光性樹脂層を設
けるタイプとしては、特開昭48−6.5927号、四
50−139720号公報に記載されているものがある
。
けるタイプとしては、特開昭48−6.5927号、四
50−139720号公報に記載されているものがある
。
この方法では、金属状のマスク層を用いる方法で、像様
露光を与えた後から、画像を形成するために1丁なう金
属層のエツチングには、特殊な酸か、アルカリが必要で
あるため、処理液安定性や公害上、労働衛生上の問題が
あり、好ましくない。
露光を与えた後から、画像を形成するために1丁なう金
属層のエツチングには、特殊な酸か、アルカリが必要で
あるため、処理液安定性や公害上、労働衛生上の問題が
あり、好ましくない。
−万、特開昭47−16124号、同52−89916
号公報には高分子バインダー中に染料や#i料金混合あ
るいは分散したマスク層上に感光性mk層を設ける方法
が開示されている。
号公報には高分子バインダー中に染料や#i料金混合あ
るいは分散したマスク層上に感光性mk層を設ける方法
が開示されている。
この方法によると感光層を現像するKは、やはり脣定○
有機溶媒やアルカリを必要とし、公害上、労働衛生上の
間層があり、好ましくない。
有機溶媒やアルカリを必要とし、公害上、労働衛生上の
間層があり、好ましくない。
そこで本発明者等は、先に水軟化性高分子化合物を含有
する感光層を有する水で現像可能なiii*形成材形成
材層昭56−119332号等として提案した。この画
像形成材料について本発明者等は研究を続けたところ現
g1に際し、長時間を要するという難点を有することが
判った。
する感光層を有する水で現像可能なiii*形成材形成
材層昭56−119332号等として提案した。この画
像形成材料について本発明者等は研究を続けたところ現
g1に際し、長時間を要するという難点を有することが
判った。
本発明者等は以上の事実を踏まえて鋭意研究を重ね念結
果、感光層に水不溶性粒子状分散物を用いることにより
、水で現像可能であり、しかも非常に短時間で3J!儂
できることを見出し、本発明に到達し念ものである。
果、感光層に水不溶性粒子状分散物を用いることにより
、水で現像可能であり、しかも非常に短時間で3J!儂
できることを見出し、本発明に到達し念ものである。
即ち、本発明の目的は、水により短時間で現像可能であ
り、しかも感光層の皮III強健が高く、優れた皮喚形
成総を有して、その皮@には、ピンホールが少なく、高
濃跋で高コントラストのj像が安定して得られるjg1
形成材料を提供することにめる。
り、しかも感光層の皮III強健が高く、優れた皮喚形
成総を有して、その皮@には、ピンホールが少なく、高
濃跋で高コントラストのj像が安定して得られるjg1
形成材料を提供することにめる。
かかる本発明の目的は、支持体上に支持体に近い側から
(1)着色マスク層、(b)エチレン性不飽和化合物、
光重合開始鋼及び水不溶性粒子状分数物を相互に溶解な
いし分散してなる感光性組成物を塗設してなる層を有す
ることを特徴とするii*形成材料によって達成される
。
(1)着色マスク層、(b)エチレン性不飽和化合物、
光重合開始鋼及び水不溶性粒子状分数物を相互に溶解な
いし分散してなる感光性組成物を塗設してなる層を有す
ることを特徴とするii*形成材料によって達成される
。
本発明の好ましい実織態様に従えに1上記水不溶性□粒
子状分赦物がラテックス状高分子化合物であり、前配水
不溶性粒子状分散物が有機溶開会敵性であり、前記エチ
レン性不飽和化合物及び光重合開始鋼が有機溶剤可溶性
である感光性組成物を塗設してなる層であって、前記着
色マスク層が水軟化性高分子化合物を含むこと、ま九前
記着色マスク層が着色銅としてカーボンブラックを含有
することである。
子状分赦物がラテックス状高分子化合物であり、前配水
不溶性粒子状分散物が有機溶開会敵性であり、前記エチ
レン性不飽和化合物及び光重合開始鋼が有機溶剤可溶性
である感光性組成物を塗設してなる層であって、前記着
色マスク層が水軟化性高分子化合物を含むこと、ま九前
記着色マスク層が着色銅としてカーボンブラックを含有
することである。
以下、本発明について説明する。
先ず、本発明の411成のうち水不溶性粒子状分散物(
以下、粒子状分散物と林する。)Kついて説明する。
以下、粒子状分散物と林する。)Kついて説明する。
本発明の粒子状分散物とは水不溶性であり、所望の溶媒
中において溶解、凝集、沈降が生じることなく数時間以
上安定な状態を保っていることのできる分散物である。
中において溶解、凝集、沈降が生じることなく数時間以
上安定な状態を保っていることのできる分散物である。
本発明に有用な粒子状分散物は所望の溶媒中において溶
解、凝集、沈降が生じなければ、特に分数物の種類には
限定されない。
解、凝集、沈降が生じなければ、特に分数物の種類には
限定されない。
またこれらの粒子状分散物は単独で用いてもよいし、2
′Ia以上併用して用いることもできる。
′Ia以上併用して用いることもできる。
このような粒子状分数物の例としては、ポリアクリル酸
エステルまたはそのコポリマー、ポリアクリロニトリル
またはそのコポリマー、ポリスチレンfたはそのコポリ
マー、ポリエチレンまたはそのコポリマー、ポリ塩化ビ
ニルまたはそのコポリマー、ポリ塩化ビニリデンま念ハ
そのコポリマー、ポリ酢酸ビニルまたはそのコポリマー
、レゾール樹脂またはそのコポリマー、アイオノマー樹
脂、ポリメチルメタクリレートまたはそのコポリマー、
ポリブタジェンまたはそのコポリマーなどのラテックス
状高分子化合物を挙げることができる。
エステルまたはそのコポリマー、ポリアクリロニトリル
またはそのコポリマー、ポリスチレンfたはそのコポリ
マー、ポリエチレンまたはそのコポリマー、ポリ塩化ビ
ニルまたはそのコポリマー、ポリ塩化ビニリデンま念ハ
そのコポリマー、ポリ酢酸ビニルまたはそのコポリマー
、レゾール樹脂またはそのコポリマー、アイオノマー樹
脂、ポリメチルメタクリレートまたはそのコポリマー、
ポリブタジェンまたはそのコポリマーなどのラテックス
状高分子化合物を挙げることができる。
また、これらのラテックス状高分子化合物は主鎖または
儒IIK極性基を有するモノマーとのコボ−8O5R、
−NO2、−coNり、 %om、 −CN 、 −c
t 、−sr 、 −r 、 −F 、@s@ 、yR N\R(上記一般式にゝ7て・Rは水 素原子又はアルキル基又は縦素環基を表わす。)等が挙
げられる。特に好ましいのFi4級窒素p子又#i4級
リン原子を有する七ツマ−とのコポリマーである。この
うち、主鎖中に4級窒累原子を含で表わされる、いわゆ
るアイオネン型のモノマ一単位を含むものがToり、ま
た、tla@c4級窒素原子を含む代表例としては、一
般式■ で表わされるメタクリロキンアルキルアンモニウムのモ
ノマ一単位を含むものや、一般装置で表わされるビニル
ベンジルアンモニウムの七ツマ一単位を含むものや、さ
らにこのベンジルアンモニウムのモノマ一単位がアミド
基を介して結合し友型のもので特開昭55−22766
号公報に記載の下記一般式■ −[’−CI(2−CH→− 曹 で表わされるものがある。
儒IIK極性基を有するモノマーとのコボ−8O5R、
−NO2、−coNり、 %om、 −CN 、 −c
t 、−sr 、 −r 、 −F 、@s@ 、yR N\R(上記一般式にゝ7て・Rは水 素原子又はアルキル基又は縦素環基を表わす。)等が挙
げられる。特に好ましいのFi4級窒素p子又#i4級
リン原子を有する七ツマ−とのコポリマーである。この
うち、主鎖中に4級窒累原子を含で表わされる、いわゆ
るアイオネン型のモノマ一単位を含むものがToり、ま
た、tla@c4級窒素原子を含む代表例としては、一
般式■ で表わされるメタクリロキンアルキルアンモニウムのモ
ノマ一単位を含むものや、一般装置で表わされるビニル
ベンジルアンモニウムの七ツマ一単位を含むものや、さ
らにこのベンジルアンモニウムのモノマ一単位がアミド
基を介して結合し友型のもので特開昭55−22766
号公報に記載の下記一般式■ −[’−CI(2−CH→− 曹 で表わされるものがある。
一万、4級リン原子を主鎖に含むモノマ一単位の例は下
記−絞、tV 基 で示されるものがあるし、貴職に含む力は下記一般式■ H5 一←CH2−C→− oHX。
記−絞、tV 基 で示されるものがあるし、貴職に含む力は下記一般式■ H5 一←CH2−C→− oHX。
で示されるもの等が挙げられる。
上記一般式■〜■の各・において、Pで表わされる7ニ
オンの具体例としては、例えば、ハロケンイオン、硫酸
イオン、りン酸イオン、スルホン酸イオン、酢酸イオン
等が挙げられるし、” yR′で表わされるアルキル基
としては、例え屯 メチル、エチル、プロピル、イップ
テル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、デフル等の各基
が挙けられ、また綾嵩櫃基としては、flえば、アリー
ル、アルアルキル、シクロアルキル、例えば、ベンジル
、フェニル、p−メチルベンジル、シクロヘキシル、ン
クロペンテル等の各基が挙げられる。そして、上記各一
般式中、?又はP” [結合する、Rで表わされたア
ルキル基又は脚素環基は、互いに同しでも、異っていて
もよい。
オンの具体例としては、例えば、ハロケンイオン、硫酸
イオン、りン酸イオン、スルホン酸イオン、酢酸イオン
等が挙げられるし、” yR′で表わされるアルキル基
としては、例え屯 メチル、エチル、プロピル、イップ
テル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、デフル等の各基
が挙けられ、また綾嵩櫃基としては、flえば、アリー
ル、アルアルキル、シクロアルキル、例えば、ベンジル
、フェニル、p−メチルベンジル、シクロヘキシル、ン
クロペンテル等の各基が挙げられる。そして、上記各一
般式中、?又はP” [結合する、Rで表わされたア
ルキル基又は脚素環基は、互いに同しでも、異っていて
もよい。
これらのラテックス状高分子化合物はエマルジョン重合
によって得ることができる。ま九合成されたポリマーを
後にラテックス化することによっても得ることができる
。ま念油溶性のエチレン性不飽和化合物、光重合開始@
fD使用を可能ならしめるため、これらのラテックスは
有機溶MK分教されていることが望ましい。さらにこれ
らのラテックスは有機溶剤に対する安定性を高めるため
粒子内で分子間架橋されていることが好ましい。
によって得ることができる。ま九合成されたポリマーを
後にラテックス化することによっても得ることができる
。ま念油溶性のエチレン性不飽和化合物、光重合開始@
fD使用を可能ならしめるため、これらのラテックスは
有機溶MK分教されていることが望ましい。さらにこれ
らのラテックスは有機溶剤に対する安定性を高めるため
粒子内で分子間架橋されていることが好ましい。
すなわち好ましい実總態様としては、粒子状分散物がポ
リアクリル酸エステルまたはそのコポリマー、ポリスチ
レンまたはそのコポリマー、ポリエチレンf7tはその
コポリマー、ポリ塩化どニル筐たはそのコポリマー、ポ
リ塩化ビニリデンま念はそのコポリマー、ポリ酢酸ビニ
ルま之はそのコポリマーのラテックスであり、好ましく
はそれらのラテックスが下記の一般式で表わされる極性
基を有する七ツマ−と■コポリマーでありさらに好まし
くはそれらのラテックスが主Sま念Fi@114Fc
4級窒l!原子または4級リン原子を有しさらに好まし
くFi教子内で分子間架橋されており、特に好ましくは
分散媒として有機溶剤を用いていることである。
リアクリル酸エステルまたはそのコポリマー、ポリスチ
レンまたはそのコポリマー、ポリエチレンf7tはその
コポリマー、ポリ塩化どニル筐たはそのコポリマー、ポ
リ塩化ビニリデンま念はそのコポリマー、ポリ酢酸ビニ
ルま之はそのコポリマーのラテックスであり、好ましく
はそれらのラテックスが下記の一般式で表わされる極性
基を有する七ツマ−と■コポリマーでありさらに好まし
くはそれらのラテックスが主Sま念Fi@114Fc
4級窒l!原子または4級リン原子を有しさらに好まし
くFi教子内で分子間架橋されており、特に好ましくは
分散媒として有機溶剤を用いていることである。
本発明の粒子状分散物としては、その他に無機系の充填
剤分数物や低置子のエマルジョンも用いることができる
。好適な無機充填銅分散物としてはコロイダルンリ鵞や
アルミナゾルのような実質□、的に透v!Aな粒子が挙
げられる。また好適な低分子エマルジョントシてはワッ
クスエマルジョンのような撥水性の高いエマルジョンが
挙げられる。これらの無機充填剤分数物や低分子エマル
ジョンも有機溶剤を分散媒として用いであることが望ま
しい。
剤分数物や低置子のエマルジョンも用いることができる
。好適な無機充填銅分散物としてはコロイダルンリ鵞や
アルミナゾルのような実質□、的に透v!Aな粒子が挙
げられる。また好適な低分子エマルジョントシてはワッ
クスエマルジョンのような撥水性の高いエマルジョンが
挙げられる。これらの無機充填剤分数物や低分子エマル
ジョンも有機溶剤を分散媒として用いであることが望ま
しい。
これら本発明(用いられる粒子状分散物の粒径は10m
μ〜1μの範囲が好ましい。粒径が1#より大きいと最
終的Vr−得られる画像の解像力が愚〈なり、ま九粒径
が10m#より小さな粒子は実冨上調整が困難である。
μ〜1μの範囲が好ましい。粒径が1#より大きいと最
終的Vr−得られる画像の解像力が愚〈なり、ま九粒径
が10m#より小さな粒子は実冨上調整が困難である。
本発明のエチレン性不飽和化合物Lモノマー、プレポリ
マーすなわち二量体、二量体、四量体およびオリゴマー
(分子量i o、o o o以下の重合物又は重縮金物
)、それらの混合物並びにそれらの共重合体等を包含す
る。
マーすなわち二量体、二量体、四量体およびオリゴマー
(分子量i o、o o o以下の重合物又は重縮金物
)、それらの混合物並びにそれらの共重合体等を包含す
る。
本発明に用いられるエチレン性不飽和化合物としては、
多価アルコールのアクリル酸エステル及びメタクリル酸
エステルが適当であり、エチレングリコール、トリエチ
レングリコール、テトラエチレングリコール、70ピレ
ングリコール、トリメゾロールプロパン、ペンタエリス
リトール、ネオペンチルグリコール等のアクリル酸、メ
タアクリル酸エステルを例として挙げ得る。
多価アルコールのアクリル酸エステル及びメタクリル酸
エステルが適当であり、エチレングリコール、トリエチ
レングリコール、テトラエチレングリコール、70ピレ
ングリコール、トリメゾロールプロパン、ペンタエリス
リトール、ネオペンチルグリコール等のアクリル酸、メ
タアクリル酸エステルを例として挙げ得る。
ビスフェノールAから変性誘導されたアクリル酸、メタ
アクリル酸エステル例えにとスフエノールA−エピクロ
ルヒドリン系エポキシ*trプレポリマーとアクリル酸
あるいはメタアクリル酸との反応94物、ビスフェノー
ルAの1ルキレンオキシド付加体あるいはその水素添加
物のアクリル酸、メタアクリル酸エステル等も使用し得
る。
アクリル酸エステル例えにとスフエノールA−エピクロ
ルヒドリン系エポキシ*trプレポリマーとアクリル酸
あるいはメタアクリル酸との反応94物、ビスフェノー
ルAの1ルキレンオキシド付加体あるいはその水素添加
物のアクリル酸、メタアクリル酸エステル等も使用し得
る。
これらのエステル系とは別にメチレンビスアクリルアミ
ド、メチレンビスメタアクリルアミド釜びにエチレンジ
アミン、プロピレンジアミン、プテレンジアミン、ペン
タメチレンジアミン等の7アミンのビスアクリルまたけ
ビスメタアク+フルアミドも有用である。
ド、メチレンビスメタアクリルアミド釜びにエチレンジ
アミン、プロピレンジアミン、プテレンジアミン、ペン
タメチレンジアミン等の7アミンのビスアクリルまたけ
ビスメタアク+フルアミドも有用である。
また、ジオールモノアクリレートもしくはジオールモノ
メタアクリレートとジイン71ネートとの反応生成物、
トリアクリルホルマールまた[トリアリル/アメレート
等も適している。
メタアクリレートとジイン71ネートとの反応生成物、
トリアクリルホルマールまた[トリアリル/アメレート
等も適している。
これらのモノマー性化合物とは別に1側鎖に7クリロ1
ルオキ7基、メタアクリロイルオキ7基を含む線状高分
子化合物、fIIjCばグリンジルメタアクリレートの
開環共重合物、ダリシゾルメタTクリレートのビニル共
重合物のアクリル酸、メタクリル酸付加反応物等も使用
可能である。
ルオキ7基、メタアクリロイルオキ7基を含む線状高分
子化合物、fIIjCばグリンジルメタアクリレートの
開環共重合物、ダリシゾルメタTクリレートのビニル共
重合物のアクリル酸、メタクリル酸付加反応物等も使用
可能である。
本発明のエチレン性不飽和化合物としては水溶性のもの
も使用可能であるが、光感度及び画像の耐水性の点から
水不溶性Oものが好ましい。%に光感度の面においてペ
ンタエリスリトールテトラアクリレートおよびトリメチ
ロールプロパントリアクリレートが好ましいモノマーで
、使用可能でめる。
も使用可能であるが、光感度及び画像の耐水性の点から
水不溶性Oものが好ましい。%に光感度の面においてペ
ンタエリスリトールテトラアクリレートおよびトリメチ
ロールプロパントリアクリレートが好ましいモノマーで
、使用可能でめる。
本発Fj)4に用いられる光重4合開始嗣としてはいエ
チレン性不飽和化合物と併用するのに有効な一般に公知
のもので、久の化合物が含まれるがこれに限定されるも
のではない。
チレン性不飽和化合物と併用するのに有効な一般に公知
のもので、久の化合物が含まれるがこれに限定されるも
のではない。
具体例としては、アンロイン;ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエー
テル等のアンロイン鍔導体;臭化デンル、塩化デシル、
デンルアミン等;ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベ
ンジルおよびベンゾイル7クロプタノン等のケトン:ミ
ヒラーのケトン、シェドキンアセトフェノン、およびハ
ロゲン化アセト−及びベンゾフェノン等の置換ベンゾフ
ェノン;チオキサントン、クロルチオキサントン、1ン
プロビルナオキサ7トン、ジイノグロビルチオキサント
ン、メチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、
キノン及びベンゾキノン、アントラキノンと2エナント
レンキノンのような多核Jjlljtキノン:クロルγ
ントラキノン、メチルアントラ午ノン、オクタメチルア
ントラ争ノン、ナフトキノン、ジクロナフトキノン等の
置換多am、tキノン;ノ・ロゲン化脂訪族、脂環族及
び芳香族膨化水素及びそれらの混合物などで、但し、ノ
・ロゲンは塩業、臭素、弗素、沃票であり、@えは七ノ
ー及びポリクロロベンゼン、モノ及びポリブロモベンゼ
ン、モノー及ヒポリクロロキンレン、七ノー及ヒポリプ
ロモキンレン、ジクロロ無水マレインfl、1−(クロ
ロ−2−メチル)ナフタレン、2.4−ジメチルベンゼ
ン塩化モルホニル、1−ブロモ−3−(m−フェノキン
フェノキ7)ベンゼン、2−プロモエナルメチルエーテ
ル、無水クロレンデイン酸及びその対応エステル、塩化
クロロメチルナフチル、クロロメチルナフタレン、ブロ
モメチルフェナントレン、シΦヨードメチルアントラセ
ン、ヘキサクロロシクロペンタジェン、ヘキサクロロベ
ンゼン、オクタクロロシクロペンテン及びそれらの化合
物、ロフィン二量体、及びN−メチル−2−ベンゾイル
メチレン−β−ナフトチアゾール、N−エチル−2−(
2−テノイル)メチレン−β−ナフトチアゾール九代表
される複素環化合物がある。本発明の光重合開始剤とし
てに水溶性のものも使用可能であるが、光感度、耐水性
の点力・ら水不溶性のものが好ましい。
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエー
テル等のアンロイン鍔導体;臭化デンル、塩化デシル、
デンルアミン等;ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベ
ンジルおよびベンゾイル7クロプタノン等のケトン:ミ
ヒラーのケトン、シェドキンアセトフェノン、およびハ
ロゲン化アセト−及びベンゾフェノン等の置換ベンゾフ
ェノン;チオキサントン、クロルチオキサントン、1ン
プロビルナオキサ7トン、ジイノグロビルチオキサント
ン、メチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、
キノン及びベンゾキノン、アントラキノンと2エナント
レンキノンのような多核Jjlljtキノン:クロルγ
ントラキノン、メチルアントラ午ノン、オクタメチルア
ントラ争ノン、ナフトキノン、ジクロナフトキノン等の
置換多am、tキノン;ノ・ロゲン化脂訪族、脂環族及
び芳香族膨化水素及びそれらの混合物などで、但し、ノ
・ロゲンは塩業、臭素、弗素、沃票であり、@えは七ノ
ー及びポリクロロベンゼン、モノ及びポリブロモベンゼ
ン、モノー及ヒポリクロロキンレン、七ノー及ヒポリプ
ロモキンレン、ジクロロ無水マレインfl、1−(クロ
ロ−2−メチル)ナフタレン、2.4−ジメチルベンゼ
ン塩化モルホニル、1−ブロモ−3−(m−フェノキン
フェノキ7)ベンゼン、2−プロモエナルメチルエーテ
ル、無水クロレンデイン酸及びその対応エステル、塩化
クロロメチルナフチル、クロロメチルナフタレン、ブロ
モメチルフェナントレン、シΦヨードメチルアントラセ
ン、ヘキサクロロシクロペンタジェン、ヘキサクロロベ
ンゼン、オクタクロロシクロペンテン及びそれらの化合
物、ロフィン二量体、及びN−メチル−2−ベンゾイル
メチレン−β−ナフトチアゾール、N−エチル−2−(
2−テノイル)メチレン−β−ナフトチアゾール九代表
される複素環化合物がある。本発明の光重合開始剤とし
てに水溶性のものも使用可能であるが、光感度、耐水性
の点力・ら水不溶性のものが好ましい。
本発明の粒子状分散物等全含有する光重合感光層用組成
物への添加物として所望により、熱重合禁止鋼、aJw
I嗣、現像促進剤及び接着性改良嗣などの各種添加剤を
含有させることができる。
物への添加物として所望により、熱重合禁止鋼、aJw
I嗣、現像促進剤及び接着性改良嗣などの各種添加剤を
含有させることができる。
熱重合禁止鋼の具体例としては、例屑はパラメトキンフ
ェノール、ヒドロキノン、アルキルもしくにアリール置
換ヒドロキノン、t−ブチルカテコール、ピロガロール
、塩化第1銅、フェノチアジン、フロラニール、ナフチ
ルアミン、β−ナフトール、2.6−ジーt−ブチル−
p−クーレゾール、ビリジン、ニトロベンゼン、ジニト
ロベンゼン、p−トルイジン、メチレンブルー、有機酸
鋼(例えば酢酸銅など)などがある。
ェノール、ヒドロキノン、アルキルもしくにアリール置
換ヒドロキノン、t−ブチルカテコール、ピロガロール
、塩化第1銅、フェノチアジン、フロラニール、ナフチ
ルアミン、β−ナフトール、2.6−ジーt−ブチル−
p−クーレゾール、ビリジン、ニトロベンゼン、ジニト
ロベンゼン、p−トルイジン、メチレンブルー、有機酸
鋼(例えば酢酸銅など)などがある。
司m嗣としては、ジエチルフタレート、ジエチルフタレ
ート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、
ジオクチルフタレート、オクテルカグリル7タレート、
シシダロへキンルフメレート、ジトリテンルフタレ〜ト
、プナルベンジルフタレート、ジアリールフタレート、
ジアリールフタレートなどのフタル酸エステル類、ジメ
チルグリコールフタレート、メチルフタリルエチルグリ
プレート、メチルフタリルエチルグリプレート、ブチル
フタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコール
シカグリル酸エステルなどのグリコールエステル類、ト
リクレジルフォスフェート、トリフェニルフォスフェー
トなどのリン酸エステル類、ンイソプテルアジベート、
ジオクチルアジペート、ジメテルセバクート、ジブチル
セパケート、ジオクチルアゼレート、ジプチルマレ−ド
ナどの脂肪族二塩基酸エステル類、クエン酸トリエチル
、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル
などがある。
ート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、
ジオクチルフタレート、オクテルカグリル7タレート、
シシダロへキンルフメレート、ジトリテンルフタレ〜ト
、プナルベンジルフタレート、ジアリールフタレート、
ジアリールフタレートなどのフタル酸エステル類、ジメ
チルグリコールフタレート、メチルフタリルエチルグリ
プレート、メチルフタリルエチルグリプレート、ブチル
フタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコール
シカグリル酸エステルなどのグリコールエステル類、ト
リクレジルフォスフェート、トリフェニルフォスフェー
トなどのリン酸エステル類、ンイソプテルアジベート、
ジオクチルアジペート、ジメテルセバクート、ジブチル
セパケート、ジオクチルアゼレート、ジプチルマレ−ド
ナどの脂肪族二塩基酸エステル類、クエン酸トリエチル
、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル
などがある。
本発明の粒子状分数物を含む感光層に用いるエチレン性
不飽和化合物の添加量は、光重合感光層用組成物中、固
型分の20〜90重量優、好ましくは40〜70重を憾
である。史r1光重合開始削添加量に、エチレン性不飽
和化合物に対して約1.0重量鳴〜約100]1ji暢
、好ましくは約10憲量憾〜約50重量釜の範囲である
。更に、必要に応じて添加される熱重合禁止剤の添加量
は、光重合感光層用組成物100重量部に対して0.0
01〜5重量部が望ましい。なお、感光層の膜厚として
は、0.1 u m 〜7 a m、好ましく FiO
,5/J m 〜4txmがよい。
不飽和化合物の添加量は、光重合感光層用組成物中、固
型分の20〜90重量優、好ましくは40〜70重を憾
である。史r1光重合開始削添加量に、エチレン性不飽
和化合物に対して約1.0重量鳴〜約100]1ji暢
、好ましくは約10憲量憾〜約50重量釜の範囲である
。更に、必要に応じて添加される熱重合禁止剤の添加量
は、光重合感光層用組成物100重量部に対して0.0
01〜5重量部が望ましい。なお、感光層の膜厚として
は、0.1 u m 〜7 a m、好ましく FiO
,5/J m 〜4txmがよい。
次に本発明の着色マスク層について説明する。
この着色マスク層の機能は、感光層が溶媒により溶解除
去され之領坂て同一の溶媒によシ溶解除去あるいは擦シ
除去されて着色画像を形成する層となっている。該着色
ij嘗形成層は着色剤としての染料、顔料が結合剤中に
分散、混合あるいけ溶解して形成されており、染料は紫
外線吸収剤その他の染料(%開昭47−16124号公
報に記載のもの等)、及び顔料は有機顔料、無機顔料(
顔料便覧二日本顔料技術協会編及び上記特許に記載のも
の等)から適宜選択して用いられる。
去され之領坂て同一の溶媒によシ溶解除去あるいは擦シ
除去されて着色画像を形成する層となっている。該着色
ij嘗形成層は着色剤としての染料、顔料が結合剤中に
分散、混合あるいけ溶解して形成されており、染料は紫
外線吸収剤その他の染料(%開昭47−16124号公
報に記載のもの等)、及び顔料は有機顔料、無機顔料(
顔料便覧二日本顔料技術協会編及び上記特許に記載のも
の等)から適宜選択して用いられる。
本発明の画gII形−−科を平版印刷用原稿として用い
る場合には、%にカーボンブラックを着色剤として用い
るのが好ましい。これはカーボンブラックのカバリング
パワーが高いので、同−ea1に得るための膜厚が薄く
出来、jtII再現性が良好であることによる。
る場合には、%にカーボンブラックを着色剤として用い
るのが好ましい。これはカーボンブラックのカバリング
パワーが高いので、同−ea1に得るための膜厚が薄く
出来、jtII再現性が良好であることによる。
本発明の着色マスク層に用いる結合剤としてd也々の高
分子171;m1IIIIlが用いられるが、水溶性ま
たは水軟化性高分子化合物であればいずれも用いること
ができる。水溶性高分子化合物としては、例えばカゼイ
ン、アルブミン、ゼラチン、アラビアガム等の天然性高
分子化合物、例えばメチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、ヒドロキ7エテルセルロース、ヒドロキ
シプロピルメチルセルロースなどの水溶性セルロースエ
ーテル、例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポ
リアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリソジウ
ムーL−グルタメート、水溶性ポリビニルブチラール、
ポリビニルアルコール、ビニルアルコールとマレイン酸
との共重合体、ビニルアルコールとアクリルアミド共重
合体、ビニルピロリドンと酢酸ビニルとの共重合体、(
メタ)アクリル散エステルと(メタ)アクリル酸の共重
合体、アシル化ゼラチン(例えばフタル化ゼラチン、マ
レイン化ゼラチン)の合成水溶性高分子化合物が含まれ
、これらは単独もしくFi2a以上併用して使用される
。
分子171;m1IIIIlが用いられるが、水溶性ま
たは水軟化性高分子化合物であればいずれも用いること
ができる。水溶性高分子化合物としては、例えばカゼイ
ン、アルブミン、ゼラチン、アラビアガム等の天然性高
分子化合物、例えばメチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、ヒドロキ7エテルセルロース、ヒドロキ
シプロピルメチルセルロースなどの水溶性セルロースエ
ーテル、例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポ
リアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリソジウ
ムーL−グルタメート、水溶性ポリビニルブチラール、
ポリビニルアルコール、ビニルアルコールとマレイン酸
との共重合体、ビニルアルコールとアクリルアミド共重
合体、ビニルピロリドンと酢酸ビニルとの共重合体、(
メタ)アクリル散エステルと(メタ)アクリル酸の共重
合体、アシル化ゼラチン(例えばフタル化ゼラチン、マ
レイン化ゼラチン)の合成水溶性高分子化合物が含まれ
、これらは単独もしくFi2a以上併用して使用される
。
本発明の着色マスク層結合嗣としては水軟化性高分子化
合物がよシ好ましい。水軟化性高分子化合物とはそのヤ
ング率が水の存在下で低下する化合物で、その水分率が
相対湿#80幅(25℃)で1゜5暢〜30esである
高分子化合物が好ましい。
合物がよシ好ましい。水軟化性高分子化合物とはそのヤ
ング率が水の存在下で低下する化合物で、その水分率が
相対湿#80幅(25℃)で1゜5暢〜30esである
高分子化合物が好ましい。
好ましい水軟化性高分子化合物の仇としてはメチルセル
ロース、エチルセルロース、ブチルセルロース、ヒドロ
キシエナルセルロース、カルボキンメチルセルロース、
ンアノエナルセルロース、セルロースアセテート、セル
ロースト′υアセテート、セルロースアセテートブチレ
ート、セルロースアセテートフタレート、ヒドロキ7プ
ロビルメテルセルロースフタレート、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロースへキサヒドロフタレート、ポリアク
リル故エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリビニ
ルブチラール、ポリメチルビニルケトン、ナイロ′/6
6、ポリアミド、ボ1ノビニルメトキシアセタール、ポ
リ酢酸ビニル、エポキシ参詣、ポリウレタン等がある。
ロース、エチルセルロース、ブチルセルロース、ヒドロ
キシエナルセルロース、カルボキンメチルセルロース、
ンアノエナルセルロース、セルロースアセテート、セル
ロースト′υアセテート、セルロースアセテートブチレ
ート、セルロースアセテートフタレート、ヒドロキ7プ
ロビルメテルセルロースフタレート、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロースへキサヒドロフタレート、ポリアク
リル故エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリビニ
ルブチラール、ポリメチルビニルケトン、ナイロ′/6
6、ポリアミド、ボ1ノビニルメトキシアセタール、ポ
リ酢酸ビニル、エポキシ参詣、ポリウレタン等がある。
この他に、側鎖にカルボキン基を有する附加重合体、例
えばメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、勢分エステル化マレイン酸共重合体、
マレイン酸共重合体、クロトン酸共重合体等がある。
えばメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、勢分エステル化マレイン酸共重合体、
マレイン酸共重合体、クロトン酸共重合体等がある。
側鎖に水酸基、カルバモイル基、ジメチルアミノ基を有
する附加重合体毛同様に用いられ、例えばビニルアルコ
ール共重合体、ビニルアリールアル”:’−ル共1&体
、メチレンジエチルマロネート共重合体(還元物)、無
水マレイン酸共重合体(還元物)、アクリルアミド共重
合体、メタクリルアミド共重合体、N、N−ジメチルア
ミノメチルメタクリレート共重合体、N、N−ジメチル
アミノエテル7 り13 レ−)共重合体、N、N−ジ
メチルアミノエテルメタクリレート共重合体IP+があ
る。
する附加重合体毛同様に用いられ、例えばビニルアルコ
ール共重合体、ビニルアリールアル”:’−ル共1&体
、メチレンジエチルマロネート共重合体(還元物)、無
水マレイン酸共重合体(還元物)、アクリルアミド共重
合体、メタクリルアミド共重合体、N、N−ジメチルア
ミノメチルメタクリレート共重合体、N、N−ジメチル
アミノエテル7 り13 レ−)共重合体、N、N−ジ
メチルアミノエテルメタクリレート共重合体IP+があ
る。
この伽にビニルピロリドン共重合体等電有用である。上
記共重合体におりるカルボキン基、水酸基、カルバモイ
ル基、ジメチルアミノ基のモル比率は、その他の共重合
体成分の糧類によって異なシ、前述した水軟化性の定義
の範囲において決められる。かかる高分子化合物は単独
4しくに2種以上併用して使用される。
記共重合体におりるカルボキン基、水酸基、カルバモイ
ル基、ジメチルアミノ基のモル比率は、その他の共重合
体成分の糧類によって異なシ、前述した水軟化性の定義
の範囲において決められる。かかる高分子化合物は単独
4しくに2種以上併用して使用される。
本発明に用いるマスク層の着色剤/結合剤の比率に、目
標とする光学濃度とマスク層の水に対する除去性を考慮
して同業者に公知の方法によシ定めることができる。特
に結合削として水軟化性高分子化合物を用い、着色剤と
して顔料を用いる場合Fi着色嗣/結合剤の比は1.0
/2.0以上であることが望ましい。
標とする光学濃度とマスク層の水に対する除去性を考慮
して同業者に公知の方法によシ定めることができる。特
に結合削として水軟化性高分子化合物を用い、着色剤と
して顔料を用いる場合Fi着色嗣/結合剤の比は1.0
/2.0以上であることが望ましい。
本発明のマスク層及び粒子状分散物からなる感光層を―
設させる支持体としては、寸度的に安定な板状物が好適
に使用できる。かかる支持体としては、紙、プラスチッ
クス(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レンなど)がラミネートされ之紙、アルミニウム、亜鉛
、銅などの金属板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸・
酪酸セルロース、硝酸セルロース、ボ11エチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ボ+7グロ
ビレン、ポリカーボネート、ポリとニルアセタールなど
のようなプラスチックスのフィルムなどがある。これら
の支持体の中で、ポリエチレンテレフタレート、ポリプ
ロピレン、ポリエチレンがラミネートされた紙、または
アルミニウム板が好ましい。
設させる支持体としては、寸度的に安定な板状物が好適
に使用できる。かかる支持体としては、紙、プラスチッ
クス(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レンなど)がラミネートされ之紙、アルミニウム、亜鉛
、銅などの金属板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸・
酪酸セルロース、硝酸セルロース、ボ11エチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ボ+7グロ
ビレン、ポリカーボネート、ポリとニルアセタールなど
のようなプラスチックスのフィルムなどがある。これら
の支持体の中で、ポリエチレンテレフタレート、ポリプ
ロピレン、ポリエチレンがラミネートされた紙、または
アルミニウム板が好ましい。
支持体は必要に応じ表面処理される。例えばアルミニウ
ム板は砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸
カリウム、リン酸塩等の水浴液への浸漬処理、あるいは
−極酸化処理などの1又に2以上の組合せによる表面処
理がなされていることが好ましい。
ム板は砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸
カリウム、リン酸塩等の水浴液への浸漬処理、あるいは
−極酸化処理などの1又に2以上の組合せによる表面処
理がなされていることが好ましい。
プラスチックの表面を有する支持体の場合にに、化学的
処理、放電処理、火焔処理、紫外線処理、高鳩波グロー
放電処理、活性プラズマ処理などの1又は2以上の組合
せによる表面処理がされていることが好ましい。
処理、放電処理、火焔処理、紫外線処理、高鳩波グロー
放電処理、活性プラズマ処理などの1又は2以上の組合
せによる表面処理がされていることが好ましい。
本発明においては、マスク層の接着性改良のため、支持
体に下塗層を設けても良い。下塗層として適当な台am
脂としては、アクリル酸エステル樹脂、塩化ビニ1】デ
ン樹脂、塩化ビニリデン−アクリロニトリル−イタコン
酸共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン
酸共重合樹脂、アクリル酸アミド又にメタク11ル酸ア
ミド誘導体とアクIJル酸又はメタクリル酸のアルキル
ニスアル、m肪酸ビニルエステル、スチレン又はアク1
70ニトリルとの共重合樹脂、フタル酸又はイソフタル
酸とグリコール拳とのコポリエステル樹脂、グリシジル
アクリレート又はグリシジルアクリレートの重合体又は
共重合体などかあシ、またゼラチンも下塗層成分として
有効である。
体に下塗層を設けても良い。下塗層として適当な台am
脂としては、アクリル酸エステル樹脂、塩化ビニ1】デ
ン樹脂、塩化ビニリデン−アクリロニトリル−イタコン
酸共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン
酸共重合樹脂、アクリル酸アミド又にメタク11ル酸ア
ミド誘導体とアクIJル酸又はメタクリル酸のアルキル
ニスアル、m肪酸ビニルエステル、スチレン又はアク1
70ニトリルとの共重合樹脂、フタル酸又はイソフタル
酸とグリコール拳とのコポリエステル樹脂、グリシジル
アクリレート又はグリシジルアクリレートの重合体又は
共重合体などかあシ、またゼラチンも下塗層成分として
有効である。
下塗層を形成するための成分は上記の他にも多数の合成
樹脂が知られており、父、−布液の調製方法や塗布方法
については、本発明−bXl!4する写真材料製造工業
界でに絢知の技術なので適宜それらを応用することがで
きる。−IJCは上述したごとき合成樹脂を水1九は有
機溶媒によって溶液またにラテックス状となし、これt
ギーサー勿布、口−ル塗布、エアーナイフ塗布、スプレ
ー塗布などの塗布方法によって上記支持体上Km布する
。
樹脂が知られており、父、−布液の調製方法や塗布方法
については、本発明−bXl!4する写真材料製造工業
界でに絢知の技術なので適宜それらを応用することがで
きる。−IJCは上述したごとき合成樹脂を水1九は有
機溶媒によって溶液またにラテックス状となし、これt
ギーサー勿布、口−ル塗布、エアーナイフ塗布、スプレ
ー塗布などの塗布方法によって上記支持体上Km布する
。
また本発明の粒子状分散物を含む感光層が酸素の影響に
よって起る重合阻害の防止あるいは感光層表−の傷つき
防止、さらに真空密着性改良などのために本発明におい
ては現儂時に溶解もしくは膨潤するオーバーコート層を
設けることができる。
よって起る重合阻害の防止あるいは感光層表−の傷つき
防止、さらに真空密着性改良などのために本発明におい
ては現儂時に溶解もしくは膨潤するオーバーコート層を
設けることができる。
このオーバーコート層は、機械的にマット化されたもの
、あるいはマット剤が含有される樹脂層であってもよい
。マット剤としては二酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チタン
、酸化ジルコニウム、ガラス粒子、アルミナ、でん粉、
重合体粒子(たとえばポリメチルメタアクリレート、ポ
リスチレン、フェノール樹脂などの粒子)および米ai
l特許!!2,701.245号、同IK2,992,
101号各明細書に記載されているマット剤が含まれる
。これらは二種以上併用することもできる。マット剤を
含有するオーバーコート層に使用される樹脂は適宜選択
サレル。具体的に例えばアラビアゴム、ニカワ、ゼラチ
ン、カゼイン、セルローズ1m(念とえはビスコース、
メチルセルローズ、エチルセルローズ、ヒドロキシエチ
ルセルローズ、ヒドロキンプロピルメチルセルローズ、
カルボキンメチルセルローズ等)、でん粉W4(例えば
可溶性でん粉、変性でん粉等)、ポリビニルアルコール
、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピ
ロリドン、ポリアミド等がある。これらは二種以上併用
することもできる。
、あるいはマット剤が含有される樹脂層であってもよい
。マット剤としては二酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チタン
、酸化ジルコニウム、ガラス粒子、アルミナ、でん粉、
重合体粒子(たとえばポリメチルメタアクリレート、ポ
リスチレン、フェノール樹脂などの粒子)および米ai
l特許!!2,701.245号、同IK2,992,
101号各明細書に記載されているマット剤が含まれる
。これらは二種以上併用することもできる。マット剤を
含有するオーバーコート層に使用される樹脂は適宜選択
サレル。具体的に例えばアラビアゴム、ニカワ、ゼラチ
ン、カゼイン、セルローズ1m(念とえはビスコース、
メチルセルローズ、エチルセルローズ、ヒドロキシエチ
ルセルローズ、ヒドロキンプロピルメチルセルローズ、
カルボキンメチルセルローズ等)、でん粉W4(例えば
可溶性でん粉、変性でん粉等)、ポリビニルアルコール
、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピ
ロリドン、ポリアミド等がある。これらは二種以上併用
することもできる。
次に、本発BA[係る画像形成材料の製造法の具体例を
示すと、一般Kに、マスク層結W嗣にアセトン、メタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、ンクロヘキサノン、β−ヒドロキシエチル
メチルエーテル(メチルセロソルブ)、β−アセトキン
エテルメチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、
ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスポンアミド、
テトラヒドロフラン、クロルベンゼン、トリエチレング
リコールなどの溶媒に可溶性である。そこで上記の溶媒
(JIL81浴媒又112種以上の有機溶媒を含む混合
溶媒)から適当なものを選択し、この中に溶解せしめて
マスク層Ias液を調整する。
示すと、一般Kに、マスク層結W嗣にアセトン、メタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、ンクロヘキサノン、β−ヒドロキシエチル
メチルエーテル(メチルセロソルブ)、β−アセトキン
エテルメチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、
ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスポンアミド、
テトラヒドロフラン、クロルベンゼン、トリエチレング
リコールなどの溶媒に可溶性である。そこで上記の溶媒
(JIL81浴媒又112種以上の有機溶媒を含む混合
溶媒)から適当なものを選択し、この中に溶解せしめて
マスク層Ias液を調整する。
このようにしてl!IIlされるマスクN塗布液は、従
来から公知の各種の塗布技術に適用されるような粘[[
11i!Iされる。
来から公知の各種の塗布技術に適用されるような粘[[
11i!Iされる。
膜力、感光層の場合は水また#′i種々の有機溶剤を分
散媒とする粒子状分散物を水fたは所望の有機g剤にて
希釈し適当な粘1とし、これさエチレン性不飽和化合物
および光重合開始剤とを混合し均一な簡布液をvI4整
する。この場合、油溶性のエチレン性不飽和化合物及び
油溶性光重合開始剤の使用を可能ならしめるため溶媒と
して有機溶剤を用いることが望ましい。好適に用いられ
る有機溶剤トしてはアセトン、メタノール、エタノール
、イソブチルアルコール、ノルマルブチルアルコール、
インプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール
、メチルエテルケトン、メチルイソブチルケトン、ンク
ロヘキサノン、β−ヒドロキシエチルメチルエーテル(
メチルセロソルブ)、β−アセトキシエチルメチルエー
テル、メチルセロソルブアセテート、ジメチルホルムア
ミド、ヘキサメチルホスホンアミド、テトラヒドロフラ
ン、クロルベンゼン、メチレンクロライド、クロロホル
ム、トリエチレングリコール、トルエン、トリクレン勢
が挙げられる。
散媒とする粒子状分散物を水fたは所望の有機g剤にて
希釈し適当な粘1とし、これさエチレン性不飽和化合物
および光重合開始剤とを混合し均一な簡布液をvI4整
する。この場合、油溶性のエチレン性不飽和化合物及び
油溶性光重合開始剤の使用を可能ならしめるため溶媒と
して有機溶剤を用いることが望ましい。好適に用いられ
る有機溶剤トしてはアセトン、メタノール、エタノール
、イソブチルアルコール、ノルマルブチルアルコール、
インプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール
、メチルエテルケトン、メチルイソブチルケトン、ンク
ロヘキサノン、β−ヒドロキシエチルメチルエーテル(
メチルセロソルブ)、β−アセトキシエチルメチルエー
テル、メチルセロソルブアセテート、ジメチルホルムア
ミド、ヘキサメチルホスホンアミド、テトラヒドロフラ
ン、クロルベンゼン、メチレンクロライド、クロロホル
ム、トリエチレングリコール、トルエン、トリクレン勢
が挙げられる。
このように調製された塗布液は公知のホヮイラーm布、
ティラグ塗布、カーテン塗布、ロール塗布、スプレー塗
布、エアーナイフ塗布、ドクターナイフ−布などの塗布
方法のうちから選択された方法によって、支持体上KI
!I布される。
ティラグ塗布、カーテン塗布、ロール塗布、スプレー塗
布、エアーナイフ塗布、ドクターナイフ−布などの塗布
方法のうちから選択された方法によって、支持体上KI
!I布される。
次に、本発明の作用効果について述べると、本発明のj
像形成材料を用いるj*形成方法は、上記のようにして
作られたIii像形成材料を、普ず活性光線で像露光す
る。光源としては、例えば@高圧水銀灯、タングステン
ランプ、水銀灯、キセノンランプ、CRT光源、レーザ
ー光源など各種の光源が用層られる。
像形成材料を用いるj*形成方法は、上記のようにして
作られたIii像形成材料を、普ず活性光線で像露光す
る。光源としては、例えば@高圧水銀灯、タングステン
ランプ、水銀灯、キセノンランプ、CRT光源、レーザ
ー光源など各種の光源が用層られる。
紫外111等活性光線で像露光された感光層では、元1
台による架橋反応が進行して、水に対して不溶化する。
台による架橋反応が進行して、水に対して不溶化する。
光照射#3/Ii接着強化されているので、露光後の画
像形成材料は水中に浸漬し、水現愉した場合、画像未露
光部は容&に、等ぐラビング・IIシ現像される。この
とき、感光層の未露光部とその部分に当る下層のマスク
層が除去され、ポジーネガのフィルム画像が形成される
。
像形成材料は水中に浸漬し、水現愉した場合、画像未露
光部は容&に、等ぐラビング・IIシ現像される。この
とき、感光層の未露光部とその部分に当る下層のマスク
層が除去され、ポジーネガのフィルム画像が形成される
。
以下に本発明の実施例を記すが、本発明の実織態atは
以下の記rlltKm定されるものではない。
以下の記rlltKm定されるものではない。
実$lii例I
HさlOO100aポリエチレンテレフタレートフィル
ムの片#lJK下紀l11mの塗布液を乾燥後の濃厚が
約1.5Bになるように塗布し、乾燥せしめて着色マス
ク層を形成した。
ムの片#lJK下紀l11mの塗布液を乾燥後の濃厚が
約1.5Bになるように塗布し、乾燥せしめて着色マス
ク層を形成した。
(〜 着色マスク層
この着色マスク層上に下記本発明の感光液〔A〕、比較
感光液CB) 、 〔C)を乾燥後の濃厚が各々1.5
Bmになるように塗布した。
感光液CB) 、 〔C)を乾燥後の濃厚が各々1.5
Bmになるように塗布した。
(b) 感光液〔A〕(本発明)
H5
(C)感光液〔B〕(比較感光t)
<d)IiiA−it液〔C〕(比較感光液)さらにこ
の上に下記の組成のオーバーコート液をljI厚約2.
5 a zaになるように塗布して画像形成材料の試料
囚、 (A’) 、 (C)t−慢是。。
の上に下記の組成のオーバーコート液をljI厚約2.
5 a zaになるように塗布して画像形成材料の試料
囚、 (A’) 、 (C)t−慢是。。
上記3種類のii*形成材料の各試料を網点原稿と重ね
て3KWメタルノ・ライドランプによυ80国の距離か
らlθ秒関露光し、次に20℃の水中に浸漬し軽く擦す
って現像した。この結果を下記第1表に示した。
て3KWメタルノ・ライドランプによυ80国の距離か
らlθ秒関露光し、次に20℃の水中に浸漬し軽く擦す
って現像した。この結果を下記第1表に示した。
第1表から明らかなように、本発明に係る画像形成材料
はl1ii像特性が極めて良好で、しかも蝮時間で現像
がE’Twp、であることがわかる。
はl1ii像特性が極めて良好で、しかも蝮時間で現像
がE’Twp、であることがわかる。
実施例2
ゼラチン下塗層が設けられ念厚さ100μのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの片面に、下記組成の塗布液
を乾燥後の襖厚が約1.5#になるようl1cI!I布
し、乾燥せしめて着色マスク層倉形成した。
ンテレフタレートフィルムの片面に、下記組成の塗布液
を乾燥後の襖厚が約1.5#になるようl1cI!I布
し、乾燥せしめて着色マスク層倉形成した。
(a) 51F色マスク層
この着色マスク層の上に下記の感光液を乾燥後の積厚が
1,5#になるように@布した。
1,5#になるように@布した。
さらに実#1if111と同様にオーバーコート層を設
は本発明の試料を作成した。
は本発明の試料を作成した。
この本発明の試料について露光時間を30秒とした以外
に実m*iと同様に露光と現像を行ったところ、現像時
閏約15秒で鮮明な黒色j像が得られた。
に実m*iと同様に露光と現像を行ったところ、現像時
閏約15秒で鮮明な黒色j像が得られた。
実施例3
塩化ビニリデンam下塗層が設けられた100pのポリ
エチレンテレ7タレートフイルムの片面に実−flll
と同様にして着色マスク層を設けた。
エチレンテレ7タレートフイルムの片面に実−flll
と同様にして着色マスク層を設けた。
この着色マスク層の上に1下記の感光液を乾燥鏝ノ積厚
、#1.5IIJCiるよう[111@した。
、#1.5IIJCiるよう[111@した。
こO本発明の試料について露光時間を1分とした以外は
実−例1と同様Ell光と現像を行ったところ、現像時
間約30秒で鮮明な黒色i!i像が得られた。
実−例1と同様Ell光と現像を行ったところ、現像時
間約30秒で鮮明な黒色i!i像が得られた。
実施例4
感光層塗布液として下記を用い友ほかは実施例3と同様
にして本発明の試料を作成した。
にして本発明の試料を作成した。
この本発明の試料について実施例1と全く同様KII光
と現像を行ったところ、現像時間30秒で鮮明な黒色i
i*が得られ九〇 実alimfl15 上記混合1120gをエマルゲン935(花王アトラス
製)3憾水溶液30gに加えポモゲナイザ−(AM−8
,日本精機製作所製)テ15,000rpruで分赦し
分散液[A)t−得た。
と現像を行ったところ、現像時間30秒で鮮明な黒色i
i*が得られ九〇 実alimfl15 上記混合1120gをエマルゲン935(花王アトラス
製)3憾水溶液30gに加えポモゲナイザ−(AM−8
,日本精機製作所製)テ15,000rpruで分赦し
分散液[A)t−得た。
次に感光層−4iItとして下記を用いた外は実線fI
3と四橡にして本発明の試料を作成した。
3と四橡にして本発明の試料を作成した。
この本発明の試料について火織例2と同様に露光と3J
!儂を行ったところ鮮明な黒色ii像が得られた。
!儂を行ったところ鮮明な黒色ii像が得られた。
特許出鳳人 小西六写真工業株式会社代理人弁理士
坂 口 信 昭 ()1か1名) 「−続補 11冊 占(自発) +Y+和58年5月2311 特真庁長官若杉和大殿 1 を件の表示 昭和57年特許願第41690号 2 発明の名称 画像形成材料 3 補正をする者 負性との関係 出願人 名 称 (127)小四六写真下業株式会社4代理人
〒105 6 補正により増加する発明の数 7 補正の対象 明細占(発明の詳細な説明の欄) 補+T’の内容(特願昭57−41690)明細占につ
いて次の通り補止する。
坂 口 信 昭 ()1か1名) 「−続補 11冊 占(自発) +Y+和58年5月2311 特真庁長官若杉和大殿 1 を件の表示 昭和57年特許願第41690号 2 発明の名称 画像形成材料 3 補正をする者 負性との関係 出願人 名 称 (127)小四六写真下業株式会社4代理人
〒105 6 補正により増加する発明の数 7 補正の対象 明細占(発明の詳細な説明の欄) 補+T’の内容(特願昭57−41690)明細占につ
いて次の通り補止する。
l 第13頁第6行に「アルミナゾル」とあるを「コロ
イダルアルミナ」と補正する。
イダルアルミナ」と補正する。
2 第15頁第4〜5行に「ジオールモノメタアクリレ
ート」とあるを[ジオールモノメタアクリレート」 と
補1丁する。
ート」とあるを[ジオールモノメタアクリレート」 と
補1丁する。
3 第32頁丁から第3行、第33頁第6行、同第13
行、第36頁第5行、第37頁最下行及び第38頁第9
行に「ジメチル安息香酸イソアミル」とあるをそれぞれ
[ジメチルアミノ安、e1香酸インアミル」と補止する
。
行、第36頁第5行、第37頁最下行及び第38頁第9
行に「ジメチル安息香酸イソアミル」とあるをそれぞれ
[ジメチルアミノ安、e1香酸インアミル」と補止する
。
以 1゜
Claims (5)
- (1)支持体上に、支持体に近い備から(a)着色マス
ク層、(b)エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及
び水不溶性粒子状分散物を相互に溶解ないし分数してな
る感光性組成物を塗設してなる層を有することt−特徴
とする水洩g1可能な画像形成材料。 - (2)上記水不溶性粒子状分数物がラテックス状高分子
化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の画像形成材料。 - (3)上記水不溶性粒子状分数物が有機#l嗣分数性で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項
記載の画像形成材料。 - (4) 上記エチレン性不飽和化合物及び光重合開始
剤が有機溶鋼可溶性であることを特徴とする特許請求の
範囲m1項起重cojll形成材料。 - (5)#配着色マスク層が水軟化性高分子化合物を含む
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のWiI宙
形酸形成材 料6) 前記着色マスク層が着色剤としてカーボング
ラツクを含有することを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載のji画像形成材料
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4169082A JPS58174939A (ja) | 1982-03-18 | 1982-03-18 | 画像形成材料 |
| US06/474,023 US4542088A (en) | 1982-03-18 | 1983-03-10 | Photopolymerizable compositions and image-forming materials using said compositions |
| DE8383301450T DE3366376D1 (en) | 1982-03-18 | 1983-03-16 | Photopolymerizable compositions and image-forming materials using said compositions |
| EP83301450A EP0089802B2 (en) | 1982-03-18 | 1983-03-16 | Photopolymerizable compositions and image-forming materials using said compositions |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4169082A JPS58174939A (ja) | 1982-03-18 | 1982-03-18 | 画像形成材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58174939A true JPS58174939A (ja) | 1983-10-14 |
| JPH0215056B2 JPH0215056B2 (ja) | 1990-04-10 |
Family
ID=12615417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4169082A Granted JPS58174939A (ja) | 1982-03-18 | 1982-03-18 | 画像形成材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58174939A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6093427A (ja) * | 1983-10-28 | 1985-05-25 | Nippon Kayaku Co Ltd | 感光性樹脂の硬化方法 |
| JPS6370841A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-03-31 | Kimoto & Co Ltd | 非銀塩画像形成材料 |
| JPH0288604A (ja) * | 1988-09-26 | 1990-03-28 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 光硬化性組成物 |
| JPH0566561A (ja) * | 1991-09-10 | 1993-03-19 | Futaba Corp | 感光性組成物及び基板の製造方法 |
| JPH06295062A (ja) * | 1993-10-01 | 1994-10-21 | Kimoto & Co Ltd | 製版用感光材料 |
| JP2007171406A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS522520A (en) * | 1975-06-19 | 1977-01-10 | Napp Systems Inc | Photosensitive composition |
| JPS5289916A (en) * | 1976-01-23 | 1977-07-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image formation and material therefor |
| JPS53137248A (en) * | 1977-03-22 | 1978-11-30 | Du Pont | Acrylic resin dispersion |
-
1982
- 1982-03-18 JP JP4169082A patent/JPS58174939A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS522520A (en) * | 1975-06-19 | 1977-01-10 | Napp Systems Inc | Photosensitive composition |
| JPS5289916A (en) * | 1976-01-23 | 1977-07-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image formation and material therefor |
| JPS53137248A (en) * | 1977-03-22 | 1978-11-30 | Du Pont | Acrylic resin dispersion |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6093427A (ja) * | 1983-10-28 | 1985-05-25 | Nippon Kayaku Co Ltd | 感光性樹脂の硬化方法 |
| JPS6370841A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-03-31 | Kimoto & Co Ltd | 非銀塩画像形成材料 |
| JPH0288604A (ja) * | 1988-09-26 | 1990-03-28 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 光硬化性組成物 |
| JPH0566561A (ja) * | 1991-09-10 | 1993-03-19 | Futaba Corp | 感光性組成物及び基板の製造方法 |
| JPH06295062A (ja) * | 1993-10-01 | 1994-10-21 | Kimoto & Co Ltd | 製版用感光材料 |
| JP2007171406A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0215056B2 (ja) | 1990-04-10 |
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