NO842265L - Roterbar paasprutingskatode - Google Patents
Roterbar paasprutingskatodeInfo
- Publication number
- NO842265L NO842265L NO842265A NO842265A NO842265L NO 842265 L NO842265 L NO 842265L NO 842265 A NO842265 A NO 842265A NO 842265 A NO842265 A NO 842265A NO 842265 L NO842265 L NO 842265L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- tubular element
- cathode
- flap
- accordance
- rotatable
- Prior art date
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 42
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 14
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 8
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 3
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Medicines Containing Plant Substances (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
Description
Den foreliggende oppfinnelse vedrører et katodisk påsprutingsapparat, nærmere bestemt en roterbar magnetronkatode.
I US-patentskrift 4.356.073 er en roterbar katode montert
i et evakuerbart beleggingskammer og omfatter et langstrakt sylinderrørformet element roterbart om sin lengdeakse og forsynt med et sjikt av det ønskete beleggsmateriale, som skal påsprutes på stort sett plane underlag mens de beveger seg gjennom beleggingskammeret, påført direkte på deres ytre overflate.
Det er også angitt i patentskriftet at det ved å påføre ulike beleggsmaterialer på forskjellige partier eller segmenter av den ytre overflate av det roterbare rørformete element kan et spesielt, utvalgt beleggsmateriale bringes i påsprutingsposisjon. På denne måte er det mulig å påsprute ulike beleggsmaterialer på underlagene fra en enkelt kilde.
Denne påsprutingsmetode til påspruting av ulike beleggsmaterialer fra den samme klaff (target) har imidlertid visse bestemte begrensninger. Når således et spesielt parti eller seg-ment av beleggsmaterialet er oppbrukt, må katoden fjernes fra beleggingskammeret, dens overflate rengjøres og et nytt beleggsmateriale påføres, hvilket er kostbart og tidkrevende. Under denne periode stiger arbeidskostnadene, samtidig med at katoden taper produktivitet. Det foreligger også risiko for at det nye beleggsmaterialet når det er påført vil overlappe tilstøtende, avvikende beleggsmaterialer. Rengjøringen av katoden er nødvendig på grunn av at beleggsmaterialet ikke tæres regelmessig bort og noe materiale blir igjen etter tømmingen.
Et formål med den foreliggende oppfinnelse er å frembringe en forbedret roterbar magnetronkatode for påspruting av ulike beleggsmaterialer, hvor det oppbrukte beleggsmateriale lett og hurtig kan erstattes med nytt beleggsmateriale av den samme eller en annen type.
Et annet formål med oppfinnelsen er å skaffe til veie en roterbar magnetronkatode som omfatter et langstrakt sylinderrør-formet element med et antall av individuelle klaffstrimler (target strips) borttakbart festet til nevnte rørformete element, hvilke klaffstrimler strekker seg i det rørformete elements aksialretning og er anordnet parallelt i avstand fra hverandre rundt dettes periferi.
Et annet formål med oppfinnelsen er å skaffe til veie en roterbar magnetronkatode montert i det rørformete element, og organ for å rotere det rørformete element for å bringe den eller de utvalgte klaffstrimler i påsprutingsposisjon like overfor magnetorgan.
Et ytterligere formål med oppfinnelsen er å skaffe til veie et magnetronkatode-påsprutingsapparat, hvor en roterbar katode av ovennevnte type er montert i et evakuerbart beleggingskammer, og hvor det i beleggingskammeret er anordnet organ for å transportere stort sett plane underlag, som skal belegges, forbi den eller de klaffstrimler som befinner seg i påsprutingsposisjon, for å motta materialet som påsprutes fra samme.
Oppfinnelsen vil bli nærmere forklart i det etterfølgende under henvisning til de medfølgende tegninger, hvor: Fig. 1 viser et vertikalt lengdesnitt gjennom et beleggingskammer og viser i sideriss en magnetronkatode, som er konstruert i overensstemmelse med den foreliggende oppfinnelse, montert i kammeret. Fig. 2 viser et enderiss av beleggingskammeret og katoden. Fig. 3 viser et tverrsnitt gjennom katoden tatt stort sett etter linjen 3-3 i fig. 1.
På tegningene er katodeaggregatet i sin helhet betegnet med henvisningstall 10. Det er montert horisontalt i et evakuerbart beleggingskammer 11. Beleggingskammeret er stort sett rek-tangulært og er satt sammen av en bunnvegg 12, en øvre vegg 13, motsatte endevegger 14 og 15 samt sidevegger (ikke vist). Den nedre og øvre vegg 12 og 13 er på hensiktsmessig måte forbundet med endeveggene 14 og 15 ved hermetiske pakninger, henholdsvis 16 og 17. Sideveggene er på liknende måte lufttett forbundet med den øvre og nedre vegg samt med endeveggene. Det er anordnet en vakuumpumpe 18 for å evakuere beleggingskammeret 11 inntil det oppnår det ønskete trykk. Er det ønskelig å sprøyte inn gas-ser i kammeret, kan dette gjøres gjennom en rørledning 19 som
styres av en ventil 20.
Katodeaggregatet 10 omfatter et langstrakt, sylinderrør-formet element 21 montert i beleggingskammeret 11 og i det nedre parti av hvilket er montert magnetorgan 22. Det rørformete element 21 består av et passende ikke-magnetisk materiale såsom eksempelvis messing eller rustfritt stål og har en diameter, veggtykkelse og lengde som kreves for den operasjon som skal utføres. Det rørformete element 21 er lukket ved sine motsatte ender ved hjelp av en indre og en ytre endevegg, henholdsvis 23 og 24. Den indre endevegg 23 er lagret ved hjelp av en vuggetapp 25 som opptas i en lagerbukk 26 festet til beleggingskammerets endevegg 14 ved hjelp av maskinskruer eller liknende 26a. Det rørformete element er ved sin ytre ende lagret i en bøssing 27 i beleggingskammerets 11 endevegg 15. Tetningsmuffer 28 og 29 omslutter det rørformete element 21 og er festet til beleggingskammerets endevegg 15 ved hjelp av skruer 30.
Som angitt ovenfor, har det vært vanlig å påføre beleggsmaterialet direkte til det rørformete elements ytre overflate.
I overensstemmelse med denne oppfinnelse er det imidlertid anordnet en flerhet av individuelle klaffstrimler 31, hvor hver strimmel på sin ytterflate er påført et ønsket beleggsmateriale 32 som skal påsprutes. Klaffstrimlene kan ha en hvilken som helst foretrukket bredde og strekke seg i lengderetningen av det rør-formete element i det vesentlige over dettes lengde. Klaffstrimlene er anordnet parallelt i avstand fra hverandre rundt peri-ferien av det rørformete element.
Klaffstrimlene 31 er borttakbart festet til det rørformete element ved hjelp av klemstaver 33 plassert mellom tilstøtende klaffstrimler og fastgjort til det rørformete element med maskinskruer 33a. Klaffstrimlene opptas i fordypninger 34 i det rør-formete element og er langs motsatte sidekanter forsynt med flen-ser 35, hvorved klemstavene 33 er i inngrep, for å holde dem sikkert på plass. Det vil således være innlysende at når beleggsmaterialet på en hvilken som helst klaffstrimmel har blitt oppbrukt, kan strimmelen lett fjernes ved å skrue løs skruene 33a og erstattes av en ny strimmel med nytt beleggsmateriale på en lett og hurtig måte. Beleggingsapparatets drift kan deretter gjenopptas, mens den fjærende strimmel kan rengjøres og påføres nytt beleggsmateriale. På denne måte kan det oppnås en betydelig besparelse når det gjelder tid og kostnader knyttet til driften
av apparatet.
For å sørge for den nødvendige kjøling av katodeaggregatet under drift, er det anordnet en kjølemiddelledning 36, som også er fremstilt av et passende ikke-magnetisk materiale og strekker seg i lengderetningen inne i det nedre parti av det rørformete element 21 og hvorfra magnetorganene 22 er opphengt ved hjelp av hengestropper 27. De indre ender av ledningen 36 er forsynt med en vuggetapp 38 lagret i det rørformete elements endevegg 23.
Det ytre endeparti av kjølemiddelledningen strekker seg gjennom en åpning i endeveggen 24 av det rørformete element 21 og er lukket med en hette 39. Et kjølemedium såsom vann ledes inn i den ytre ende av kjølemiddelledningen 3 6 gjennom et rør 40 og strømmer ut fra samme gjennom åpninger 41 i ledningen. Etter å ha sirkulert gjennom katoden, mates kjølemediet ut fra denne gjennom et rør 42 og over i en beholder eller liknende 43 .
Kjølemiddelledningen 36 fastholdes i en fiksert posisjon, og for dette formål er det anordnet en låsestang 44, som ved sin nedre ende er festet til kjølemiddelledningen og ved sin øvre ende til beleggingskammerets øvre vegg 13 ved hjelp av en stang 45, som passerer gjennom låsestangen 44 og er skrudd inn i beleggingskammerets øvre vegg 13.
Magnetorganene 22 omfatter en rekke U-formete permanentmagneter 45 anordnet i to rette parallelle rader A og B, som strekker seg i lengderetningen inne i det rørformete element 21. Magnetene i de to rader er plassert under en vinkel med hverandre slik som vist i fig. 3 og er festet til kjølemiddellednin-gen ved hjelp av de forannevnte hengestropper 37.
Magnetene 45 strekker seg aksialt over det vesentlige av det rørformete elements lengde og over en begrenset avstand i dettes periferiretning. De ytre ben 4 6 av magnetene i hver av radene av magneter A og B ligger an mot et langsgående, forholds-vis smalt bånd eller strimmel 47 av et passende magnetisk materiale, såsom varmvalset bløtt stål, mens de indre ben 48 av magnetene ligger an mot en liknende magnetisk strimmel eller bånd 49 anbrakt parallelt med strimlene 47.
Magnetene 45 er festet til de magnetiske bånd eller strimler 47 og 49 ved hjelp av skruer, henholdsvis 50 og 51. Den nedre flate 52 av magnetstrimlene 47 og 49 er utformet for å passe til krumningen av innerflaten av de rørformete elementer og er plassert i umiddelbar nærhet av samme. Magnetene er fortrinnsvis anbrakt slik at deres nordpoler står i inngrep med de ytre magnetiske strimler 47 og sydpolene står i inngrep med magnetstrimlene 49. Det skal imidlertid forstås at de viste U-formete permanentmagneter kan erstattes av andre slags permanentmagneter eller til og med av elektromagneter.
Ved å dreie det rørformete element 21 kan den eller de ønskete klaffstrimler bringes i posisjon like overfor magnetene, nemlig i påsprutingsstilling. Rotasjonen, dreiningen eller skift-ningen av det rørformete element kan etter ønske utføres enten automatisk eller manuelt, eksempelvis ved hjelp av en betjenings-spak 53 festet til en ringformet muffe 54, som i sin tur er festet til endeveggen 24 av det rørformete element 21 ved hjelp av skruer 55.
Når det benyttes en rekke U-formete magneter som vist i fig. 3, er det å foretrekke å betrakte klaffstrimlene som tre par a-b, c-d og e-f, hvor hvert par inneholder * et innbyrdes avvikende beleggsmateriale. Hver gang det rørformete element for-flyttes (dreies) vil således ett par klaffstrimler bli brakt i påsprutingsposisjon i forhold til magnetene. Oppfinnelsen omfatter imidlertid et annet arrangement av magneter som vil til-late påspruting fra bare én klaffstrimmel om gangen.
Et katodepotensial som er tilstrekkelig for å iverksette påspruting tilføres det rørformete element 21 fra en likestrøms-kilde (ikke vist) gjennom en elektrisk kontakt 56 koplet til kilden og som har rullende eller glidende kontakt med det rør-formete element. Apparatet kan være jordet på en hvilken som helst passende måte.
De stort sett plane underlag S som skal belegges understøt-tes på og transporteres gjennom beleggingskammeret 10 under katodeaggregatet 11 ved hjelp av et transportorgan innbefattende ruller 57 og 58 fastkilet til en horisontal aksel 59, som er lagret i lagerbukker 60 og 61, som støtter seg på beleggingskammerets nedre vegg.
Claims (11)
1. Roterbar påsprutingskatode (10), omfattende et langstrakt sylinderrørformet element (21) og organ for å rotere det rørfor-mete element, karakterisert ved at klafforgan (31) forsynt med beleggsmateriale som skal påsprutes er borttakbart festet til det rørformete element (21).
2. Roterbar påsprutingskatode i samsvar med krav 1, karakterisert ved at nevnte klafforgan omfatter en flerhet av individuelle klaffstrimler eller -bånd (31).
3. Roterbar påsprutingskatode i samsvar med krav 2, karakterisert ved at klaffstrimlene (31) strekker seg i det rørformete elements (21) lengderetning og er anbrakt parallelt i avstand fra hverandre omkring dettes periferi.
4. Roterbar påsprutingskatode i samsvar med krav 1, karakterisert ved at nevnte klafforgan omfatter en flerhet av individuelle klaffstrimler (31) som strekker seg i det rørformete elements (21) lengderetning og er anbrakt parallelt i avstand fra hverandre rundt dettes omkrets, idet det finnes organ for borttakbar fastgjøring av klaffstrimlene til det rørformete element.
5. Roterbar påsprutingskatode i samsvar med krav 4, karakterisert ved at nevnte fastgjøringsorgan omfatter klemorgan (33) innskutt mellom tilstøtende klaffstrimler (31) og i inngrep med samme.
6. Roterbar påsprutingskatode i samsvar med krav 5, karakterisert ved at nevnte klemorgan omfatter klemstaver (33) anbrakt mellom nærliggende klaffstrimler og som har partier, som overlapper og ligger an mot klaffstrimlene,
samt innbefatter organ (33a) for å feste klemstavene (33) til det rørformete element (21).
7. Roterbar påsprutingskatode i samsvar med krav 3 eller 4, karakterisert ved at den innbefatter organ (36) for innvendig kjøling av det rørformete element.
8. Roterbar påsprutingskatode i samsvar med krav 1 eller 3, karakterisert ved at den innbefatter magnetorgan (22) montert i det rørformete element.
9. Roterbar påsprutingskatode i samsvar med krav 3, karakterisert ved at den innbefatter magnetorgan (22) montert i det rørformete element (21) og som strekker seg i dettes lengderetning.
10. Roterbar påsprutingskatode i samsvar med krav 6, karakterisert ved at den innbefatter en rekke permanentmagneter montert i det rørformete element og som strekker seg i dettes lengderetning.
11. Magnetronkatode-påsprutingsapparat, omfattende et evakuerbart beleggingskammer (11) og den roterbare katode (10) som angitt i krav 1, karakterisert ved at katoden (10) innbefatter et langstrakt sylinderrørformet element (21) montert horisontalt i kammeret (11), magnetorgan (22) montert i det rørformete element (21), en flerhet av individuelle klaffstrimler (31) forsynt med beleggsmateriale som skal påsprutes og som strekker seg i det rørformete elements (21) lengderetning samt er anbrakt parallelt i avstand fra hverandre rundt dettes periferi, organ (33) for borttakbar fastgjøring av klaffstrimlene til det rørformete element, organ for å rotere det rørformete element omkring dets lengdeakse for å bringe utvalgte klaffstrimler i påsprutingsposisjon like overfor nevnte magnetorgan (22), og organ for å understøtte og transportere underlag som skal belegges horisontalt gjennom beleggingskammeret og under nevnte magnetorgan.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/523,928 US4443318A (en) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | Cathodic sputtering apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO842265L true NO842265L (no) | 1985-02-18 |
Family
ID=24087006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO842265A NO842265L (no) | 1983-08-17 | 1984-06-06 | Roterbar paasprutingskatode |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4443318A (no) |
| EP (1) | EP0134559A3 (no) |
| JP (2) | JPS6059067A (no) |
| AU (1) | AU575056B2 (no) |
| BR (1) | BR8404043A (no) |
| CA (1) | CA1230079A (no) |
| DK (1) | DK393384A (no) |
| HU (1) | HU191712B (no) |
| IT (1) | IT1174633B (no) |
| NO (1) | NO842265L (no) |
Families Citing this family (68)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3580953D1 (de) * | 1984-08-31 | 1991-01-31 | Anelva Corp | Entladungsvorrichtung. |
| FR2596920A1 (fr) * | 1986-04-03 | 1987-10-09 | Saint Roch Sa Glaceries | Cathode de pulverisation |
| US4834860A (en) * | 1987-07-01 | 1989-05-30 | The Boc Group, Inc. | Magnetron sputtering targets |
| US4904362A (en) * | 1987-07-24 | 1990-02-27 | Miba Gleitlager Aktiengesellschaft | Bar-shaped magnetron or sputter cathode arrangement |
| US5047131A (en) * | 1989-11-08 | 1991-09-10 | The Boc Group, Inc. | Method for coating substrates with silicon based compounds |
| US5096562A (en) * | 1989-11-08 | 1992-03-17 | The Boc Group, Inc. | Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating |
| BE1003701A3 (fr) * | 1990-06-08 | 1992-05-26 | Saint Roch Glaceries | Cathode rotative. |
| US5427665A (en) * | 1990-07-11 | 1995-06-27 | Leybold Aktiengesellschaft | Process and apparatus for reactive coating of a substrate |
| WO1992002659A1 (en) * | 1990-08-10 | 1992-02-20 | Viratec Thin Films, Inc. | Shielding for arc suppression in rotating magnetron sputtering systems |
| US5200049A (en) * | 1990-08-10 | 1993-04-06 | Viratec Thin Films, Inc. | Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons |
| FR2667616B1 (fr) * | 1990-10-05 | 1993-01-15 | Aerospatiale | Procede et installation de metallisation en continu d'une meche de fibres etalee. |
| US5100527A (en) * | 1990-10-18 | 1992-03-31 | Viratec Thin Films, Inc. | Rotating magnetron incorporating a removable cathode |
| US5108574A (en) * | 1991-01-29 | 1992-04-28 | The Boc Group, Inc. | Cylindrical magnetron shield structure |
| US5262032A (en) * | 1991-05-28 | 1993-11-16 | Leybold Aktiengesellschaft | Sputtering apparatus with rotating target and target cooling |
| US5211824A (en) * | 1991-10-31 | 1993-05-18 | Siemens Solar Industries L.P. | Method and apparatus for sputtering of a liquid |
| JPH08506855A (ja) * | 1993-01-15 | 1996-07-23 | ザ ビーオーシー グループ インコーポレイテッド | 円筒形マグネトロンのシールド構造 |
| US5405517A (en) * | 1993-12-06 | 1995-04-11 | Curtis M. Lampkin | Magnetron sputtering method and apparatus for compound thin films |
| US5620577A (en) * | 1993-12-30 | 1997-04-15 | Viratec Thin Films, Inc. | Spring-loaded mount for a rotatable sputtering cathode |
| US5567289A (en) * | 1993-12-30 | 1996-10-22 | Viratec Thin Films, Inc. | Rotating floating magnetron dark-space shield and cone end |
| DE4418906B4 (de) * | 1994-05-31 | 2004-03-25 | Unaxis Deutschland Holding Gmbh | Verfahren zum Beschichten eines Substrates und Beschichtungsanlage zu seiner Durchführung |
| US5571393A (en) * | 1994-08-24 | 1996-11-05 | Viratec Thin Films, Inc. | Magnet housing for a sputtering cathode |
| US5445721A (en) * | 1994-08-25 | 1995-08-29 | The Boc Group, Inc. | Rotatable magnetron including a replacement target structure |
| FR2725073B1 (fr) | 1994-09-22 | 1996-12-20 | Saint Gobain Vitrage | Cathode rotative de pulverisation cathodique a plusieurs cibles |
| US5527439A (en) * | 1995-01-23 | 1996-06-18 | The Boc Group, Inc. | Cylindrical magnetron shield structure |
| DE19543375A1 (de) * | 1995-11-21 | 1997-05-22 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten mittels Magnetronzerstäuben |
| FR2745010B1 (fr) * | 1996-02-20 | 1998-06-12 | Serole Michelle Paparone | Cible de pulverisation cathodique de forme tubulaire ou derivee, faite de plusieurs plaques longitudinales et sa methode de fabrication |
| US6217716B1 (en) | 1998-05-06 | 2001-04-17 | Novellus Systems, Inc. | Apparatus and method for improving target erosion in hollow cathode magnetron sputter source |
| DE19830223C1 (de) * | 1998-07-07 | 1999-11-04 | Techno Coat Oberflaechentechni | Vorrichtung und Verfahren zum mehrlagigen PVD - Beschichten von Substraten |
| US6436252B1 (en) | 2000-04-07 | 2002-08-20 | Surface Engineered Products Corp. | Method and apparatus for magnetron sputtering |
| US6409897B1 (en) | 2000-09-20 | 2002-06-25 | Poco Graphite, Inc. | Rotatable sputter target |
| US7399385B2 (en) * | 2001-06-14 | 2008-07-15 | Tru Vue, Inc. | Alternating current rotatable sputter cathode |
| EP1336985A1 (de) * | 2002-02-19 | 2003-08-20 | Singulus Technologies AG | Zerstäubungskathode und Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten eines Substrates mit mehreren Schichten |
| US20030173217A1 (en) * | 2002-03-14 | 2003-09-18 | Sputtering Components, Inc. | High-power ion sputtering magnetron |
| DE10213043B4 (de) * | 2002-03-22 | 2008-10-30 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Rohrmagnetron und seine Verwendung |
| WO2004005574A2 (en) * | 2002-07-02 | 2004-01-15 | Academy Precision Materials A Division Of Academy Corporation | Rotary target and method for onsite mechanical assembly of rotary target |
| US20050051422A1 (en) | 2003-02-21 | 2005-03-10 | Rietzel James G. | Cylindrical magnetron with self cleaning target |
| US20050276381A1 (en) * | 2003-07-02 | 2005-12-15 | Academy Corporation | Rotary target locking ring assembly |
| JP2009513818A (ja) * | 2003-07-04 | 2009-04-02 | ベーカート・アドヴァンスト・コーティングス | 回転管状スパッタターゲット組立体 |
| US20050224343A1 (en) * | 2004-04-08 | 2005-10-13 | Richard Newcomb | Power coupling for high-power sputtering |
| WO2005108646A2 (en) * | 2004-04-29 | 2005-11-17 | Academy Corporation | Rotary target locking ring assembly |
| US20060049043A1 (en) * | 2004-08-17 | 2006-03-09 | Matuska Neal W | Magnetron assembly |
| US20060065524A1 (en) * | 2004-09-30 | 2006-03-30 | Richard Newcomb | Non-bonded rotatable targets for sputtering |
| PL1799876T3 (pl) * | 2004-10-18 | 2009-07-31 | Bekaert Advanced Coatings | Płaski blok końcowy do podtrzymywania obrotowego targetu do napylania |
| US20060096855A1 (en) * | 2004-11-05 | 2006-05-11 | Richard Newcomb | Cathode arrangement for atomizing a rotatable target pipe |
| EP1856303B1 (en) * | 2005-03-11 | 2009-01-07 | Bekaert Advanced Coatings | Single, right-angled end-block |
| US20060278524A1 (en) * | 2005-06-14 | 2006-12-14 | Stowell Michael W | System and method for modulating power signals to control sputtering |
| US20060278521A1 (en) * | 2005-06-14 | 2006-12-14 | Stowell Michael W | System and method for controlling ion density and energy using modulated power signals |
| US20070089982A1 (en) * | 2005-10-24 | 2007-04-26 | Hendryk Richert | Sputtering target and method/apparatus for cooling the target |
| US20070095281A1 (en) * | 2005-11-01 | 2007-05-03 | Stowell Michael W | System and method for power function ramping of microwave liner discharge sources |
| US7842355B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-11-30 | Applied Materials, Inc. | System and method for modulation of power and power related functions of PECVD discharge sources to achieve new film properties |
| US20070158187A1 (en) * | 2006-01-12 | 2007-07-12 | Wagner Andrew V | Cathode for a vacuum sputtering system |
| JP5080573B2 (ja) * | 2006-06-19 | 2012-11-21 | ソレラス・アドヴァンスト・コーティングス・ナムローゼ・フェンノートシャップ | スパッタリング設備のエンドブロック用のインサート部品 |
| DE102007049735B4 (de) * | 2006-10-17 | 2012-03-29 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Versorgungsendblock für ein Rohrmagnetron |
| US8236152B2 (en) * | 2006-11-24 | 2012-08-07 | Ascentool International Ltd. | Deposition system |
| US8152975B2 (en) * | 2007-03-30 | 2012-04-10 | Ascentool International | Deposition system with improved material utilization |
| DE102008039211B4 (de) * | 2008-05-07 | 2011-08-25 | VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH, 01324 | Rohrtarget mit Endblock zur Kühlmittelversorgung |
| DE202008018196U1 (de) | 2008-08-26 | 2012-02-02 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Versorgungsendblock |
| DE102008039664A1 (de) | 2008-08-26 | 2010-05-12 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Versorgungsendblock |
| US8182662B2 (en) * | 2009-03-27 | 2012-05-22 | Sputtering Components, Inc. | Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus |
| DE102009033546B4 (de) | 2009-07-16 | 2014-07-17 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Versorgungsendblock für ein rotierendes Magnetron |
| TW201207139A (en) * | 2010-06-23 | 2012-02-16 | Tosoh Smd Inc | Bimetallic rotary target |
| US20120048725A1 (en) * | 2011-06-24 | 2012-03-01 | Primestar Solar, Inc. | Non-bonded rotary semiconducting targets and methods of their sputtering |
| GB201200574D0 (en) * | 2012-01-13 | 2012-02-29 | Gencoa Ltd | In-vacuum rotational device |
| KR102097852B1 (ko) * | 2012-01-31 | 2020-04-06 | 제이엑스금속주식회사 | 스퍼터링 타겟 조립체 |
| US20140110246A1 (en) * | 2012-10-18 | 2014-04-24 | Primestar Solar, Inc. | Methods for depositing a homogeneous film via sputtering from an inhomogeneous target |
| US9368330B2 (en) | 2014-05-02 | 2016-06-14 | Bh5773 Ltd | Sputtering targets and methods |
| JP2023024280A (ja) * | 2021-08-04 | 2023-02-16 | エフ・ハー・エル・アンラーゲンバウ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 多連スパッタリングターゲット |
| TW202500780A (zh) | 2023-06-22 | 2025-01-01 | 德商Fhr設備製造有限公司 | 真空塗佈系統及以增加的塗佈率塗佈基板之方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3829373A (en) * | 1973-01-12 | 1974-08-13 | Coulter Information Systems | Thin film deposition apparatus using segmented target means |
| JPS51117933A (en) * | 1975-04-10 | 1976-10-16 | Tokuda Seisakusho | Spattering apparatus |
| JPS5266837A (en) * | 1975-10-27 | 1977-06-02 | Nichiden Varian Kk | Spattering device |
| MX145314A (es) * | 1975-12-17 | 1982-01-27 | Coulter Systems Corp | Mejoras a un aparato chisporroteador para producir pelicula electrofotografica |
| US4204936A (en) * | 1979-03-29 | 1980-05-27 | The Perkin-Elmer Corporation | Method and apparatus for attaching a target to the cathode of a sputtering system |
| EP0046154B1 (en) * | 1980-08-08 | 1984-11-28 | Battelle Development Corporation | Apparatus for coating substrates by high-rate cathodic sputtering, as well as sputtering cathode for such apparatus |
| US4290877A (en) * | 1980-09-08 | 1981-09-22 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior | Sputtering apparatus for coating elongated tubes and strips |
| US4356073A (en) * | 1981-02-12 | 1982-10-26 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
| JPS588768U (ja) * | 1981-07-10 | 1983-01-20 | セイコー精機株式会社 | 気体圧縮機 |
| US4376025A (en) * | 1982-06-14 | 1983-03-08 | Battelle Development Corporation | Cylindrical cathode for magnetically-enhanced sputtering |
| US4417968A (en) * | 1983-03-21 | 1983-11-29 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
-
1983
- 1983-08-17 US US06/523,928 patent/US4443318A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-06-06 NO NO842265A patent/NO842265L/no unknown
- 1984-06-07 AU AU29194/84A patent/AU575056B2/en not_active Ceased
- 1984-07-19 CA CA000459260A patent/CA1230079A/en not_active Expired
- 1984-08-02 IT IT22206/84A patent/IT1174633B/it active
- 1984-08-13 BR BR8404043A patent/BR8404043A/pt unknown
- 1984-08-16 JP JP59170976A patent/JPS6059067A/ja active Pending
- 1984-08-16 HU HU843109A patent/HU191712B/hu not_active IP Right Cessation
- 1984-08-16 EP EP84109747A patent/EP0134559A3/en not_active Withdrawn
- 1984-08-16 DK DK393384A patent/DK393384A/da not_active Application Discontinuation
-
1989
- 1989-05-01 JP JP1989051949U patent/JPH0232684Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4443318A (en) | 1984-04-17 |
| AU575056B2 (en) | 1988-07-21 |
| AU2919484A (en) | 1985-02-21 |
| CA1230079A (en) | 1987-12-08 |
| EP0134559A2 (en) | 1985-03-20 |
| JPH0232684Y2 (no) | 1990-09-04 |
| HUT35723A (en) | 1985-07-29 |
| IT1174633B (it) | 1987-07-01 |
| IT8422206A0 (it) | 1984-08-02 |
| EP0134559A3 (en) | 1987-01-07 |
| DK393384D0 (da) | 1984-08-16 |
| DK393384A (da) | 1985-02-18 |
| HU191712B (en) | 1987-03-30 |
| JPS6059067A (ja) | 1985-04-05 |
| JPH01164758U (no) | 1989-11-17 |
| BR8404043A (pt) | 1985-07-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NO842265L (no) | Roterbar paasprutingskatode | |
| US4356073A (en) | Magnetron cathode sputtering apparatus | |
| FI76123B (fi) | Magnetronkatod-foerstoftningsanordning. | |
| US4422916A (en) | Magnetron cathode sputtering apparatus | |
| AU574723B2 (en) | Rotatable sputtering apparatus | |
| US5228963A (en) | Hollow-cathode magnetron and method of making thin films | |
| JPH04289167A (ja) | マグネトロン陰極による基板への成膜装置 | |
| US20040074770A1 (en) | Rotary target | |
| RU2221080C2 (ru) | Устройство для нанесения вакуумным способом покрытия на подшипники скольжения | |
| AU1190600A (en) | Apparatus and method for coating objects through pvd | |
| DK444979A (da) | Apparat til i det mindste delvis fjernelse af vedhaefgtnde vaeske fra og eller jaevnfordeling af vaeske over genstandes overflader | |
| US9809876B2 (en) | Endblock for rotatable target with electrical connection between collector and rotor at pressure less than atmospheric pressure | |
| US20060137968A1 (en) | Oscillating shielded cylindrical target assemblies and their methods of use | |
| US2579575A (en) | Metal cleaning and pickling machine and conveyer system therefor | |
| AU6140594A (en) | Process for coating the internal surface of hydrothermosanitary pipes, particulary made of aluminium, with resinous products and pipes obtained therewith | |
| DK126995A (da) | Roterende varmetransmissionslegeme med systemer til afskrabning af fordamperfladen, udviklet til inddampnings- og tørringsprocesser | |
| US5111022A (en) | Cooling system for electron beam gun and method | |
| MX2007006332A (es) | Proceso de servicios de acabado textil continuo e instalacion que emplea el proceso. | |
| GB891633A (en) | Method of and apparatus for continuous coating of elongated articles | |
| US20070125304A1 (en) | Transport rollers | |
| DE3102021C2 (de) | Vorrichtung zum galvanischen Abscheiden von Aluminium | |
| CN112206547A (zh) | 一种物料浓缩用刮板降膜蒸发器 | |
| AU2020213608B2 (en) | Turning station | |
| Matthews | Hull University investigates plasma immersion techniques | |
| CS261213B2 (cs) | Způsob napravování tenkých vrstev a zařízení k provádění tohoto způsobu |