PL191732B1 - Kompozycja disiarczku dimetylu (DMDS) o zamaskowanej woni i sposób wytwarzania kompozycji disiarczku dimetylu o zamaskowanej woni - Google Patents
Kompozycja disiarczku dimetylu (DMDS) o zamaskowanej woni i sposób wytwarzania kompozycji disiarczku dimetylu o zamaskowanej woniInfo
- Publication number
- PL191732B1 PL191732B1 PL334700A PL33470099A PL191732B1 PL 191732 B1 PL191732 B1 PL 191732B1 PL 334700 A PL334700 A PL 334700A PL 33470099 A PL33470099 A PL 33470099A PL 191732 B1 PL191732 B1 PL 191732B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- ppm
- phthalate
- composition
- ortho
- masking agent
- Prior art date
Links
- WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N dimethyl disulfide Chemical compound CSSC WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 120
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 41
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 63
- QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N Dimethyl sulfide Chemical compound CSC QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 19
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- CBOQJANXLMLOSS-UHFFFAOYSA-N ethyl vanillin Chemical compound CCOC1=CC(C=O)=CC=C1O CBOQJANXLMLOSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N vanillin Chemical compound COC1=CC(C=O)=CC=C1O MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 claims description 12
- FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N vanillin Natural products COC1=CC(O)=CC(C=O)=C1 FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 235000012141 vanillin Nutrition 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 11
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-ethyl ester Natural products CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 10
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 9
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 claims description 8
- PQLMXFQTAMDXIZ-UHFFFAOYSA-N isoamyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OCCC(C)C PQLMXFQTAMDXIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- MBZKQDXXFMITAC-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OCC(C)CC MBZKQDXXFMITAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229940073505 ethyl vanillin Drugs 0.000 claims description 7
- 229940094941 isoamyl butyrate Drugs 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- BMTAFVWTTFSTOG-UHFFFAOYSA-N Butylate Chemical compound CCSC(=O)N(CC(C)C)CC(C)C BMTAFVWTTFSTOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 claims 1
- 239000008194 pharmaceutical composition Substances 0.000 claims 1
- 235000019645 odor Nutrition 0.000 description 23
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 8
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 5
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 5
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 4
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 3
- 240000002234 Allium sativum Species 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 2
- 235000004611 garlic Nutrition 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- NOOLISFMXDJSKH-UTLUCORTSA-N (+)-Neomenthol Chemical compound CC(C)[C@@H]1CC[C@@H](C)C[C@@H]1O NOOLISFMXDJSKH-UTLUCORTSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000005979 Citrus limon Nutrition 0.000 description 1
- 244000131522 Citrus pyriformis Species 0.000 description 1
- NOOLISFMXDJSKH-UHFFFAOYSA-N DL-menthol Natural products CC(C)C1CCC(C)CC1O NOOLISFMXDJSKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 206010028813 Nausea Diseases 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000009499 Vanilla fragrans Nutrition 0.000 description 1
- 244000263375 Vanilla tahitensis Species 0.000 description 1
- 235000012036 Vanilla tahitensis Nutrition 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004939 coking Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 229940041616 menthol Drugs 0.000 description 1
- 230000008693 nausea Effects 0.000 description 1
- 150000008116 organic polysulfides Chemical class 0.000 description 1
- HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N propyl butyrate Chemical compound CCCOC(=O)CCC HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000003352 sequestering agent Substances 0.000 description 1
- 238000004230 steam cracking Methods 0.000 description 1
- 150000003463 sulfur Chemical class 0.000 description 1
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 description 1
- DKZBBWMURDFHNE-UHFFFAOYSA-N trans-coniferylaldehyde Natural products COC1=CC(C=CC=O)=CC=C1O DKZBBWMURDFHNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/26—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C321/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C321/12—Sulfides, hydropolysulfides, or polysulfides having thio groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C321/14—Sulfides, hydropolysulfides, or polysulfides having thio groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
- Fats And Perfumes (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
1. Kompozycja disiarczku dimetylu (DMDS) o zamaskowanej woni, znamienna tym, ze zawiera wa- gowo co najmniej 95% DMDS, poni zej 500 ppm merkaptanu metylowego, poni zej 100 ppm siarczku dimety- lowego i do 1% co najmniej jednego srodka maskuj acego wo n, wybranego z grupy sk ladaj acej si e z waniliny, etylowaniliny i estrów o wzorze ogólnym 1 R 1 CO 2 R 2 (1) w którym R 1 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy lub rozga leziony rodnik w eglowodorowy zawieraj acy od 1 do 4 atomów w egla, a R 2 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy, rozga leziony lub cykliczny rodnik w eglowodorowy zawieraj acy od 2 do 8 atomów w egla. 10. Sposób wytwarzania kompozycji disiarczku dimetylu o zamaskowanej woni, znamienny tym, ze w etapie (a) usuwa si e zanieczyszczenia lotne z surowego disiarczku dimetylu do zawarto sci wagowej mer- kaptanu metylowego poni zej 500 ppm, korzystnie poni zej 200 ppm i zawarto sci siarczku dimetylu poni zej 100 ppm, korzystnie poni zej 50 ppm, a nast epnie w etapie (b) dodaje si e do tak oczyszczonego disiarczku dimetylu co najmniej jeden srodek maskuj acy wo n w ilo sci do 1% wagowego w stosunku do ca lej kompozycji, wybrany z grupy sk ladaj acej si e z waniliny, etylowaniliny i estrów o wzorze ogólnym 1 R 1 CO 2 R 2 (1) w którym R 1 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy lub rozga leziony rodnik w eglowodorowy zawieraj acy od 1 do 4 atomów w egla, a R 2 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy, rozga leziony lub cykliczny rodnik w eglowodorowy zawieraj acy od 2 do 8 atomów w egla. PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem niniejszego wynalazku jest kompozycja na bazie disiarczku dimetylu (DMDS) o zamaskowanej woni i sposób wytwarzania takiej kompozycji.
Disiarczek dimetylu (DMDS) ma silną i agresywną, cuchnącą woń, związaną częściowo z obecnością silnie cuchnących zanieczyszczeń, a w części z czosnkowym i eterowym odorem właściwym DMDS. Ten silny odór przeszkadza zwiększaniu zastosowań produktu, takich jak siarkowanie katalizatorów lub jako dodatek obciążający do krakingu parowego. W porównaniu z innymi produktami stosowanymi do tych celów, takimi jak polisiarczki tert-alkilowe, DMDS posiada liczne zalety, zwłaszcza wysoką zawartość siarki (68%) i niekoksujące produkty rozpadu (CH4, H2S). Ponadto w zastosowaniach tych DMDS zapewnia generalnie lepszą skuteczność niż inne produkty, takie jak polisiarczki tert-alkilowe. Jednakże posługiwanie się i manipulowanie tymi innymi produktami jest łatwiejsze niż DMDS ze względu na to, że mają one znacznie niższe poziomy zapachu.
Spośród metod syntezy DMDS szczególnie efektywną i ekonomiczną metodą jest utlenianie merkaptanu metylowego siarką, zgodnie z następującą reakcją:
katalizator
2CH3SH + S -► CH3SSCH3 + H2S
Utlenianiu merkaptanu metylowego siarką, które jest katalizowane środkami zasadowymi nieorganicznymi lub organicznymi, homogennymi lub heterogennymi, prowadzonemu w warunkach procesu ciągłego lub okresowego, towarzyszy uwalnianie siarkowodoru i polisiarczków dimetylowych (CH3SXCH3) o rzędzie siarki x powyżej 2. W europejskim opisie patentowym nr 0446109 ujawniono sposób wytwarzania DMDS tą metodą z wysokimi wydajnościami przy ograniczonej produkcji DMPS (polisiarczki dimetylowe o rzędzie siarki powyżej 2. Proces prowadzony tym sposobem ten obejmuje dwie strefy reakcji, przedzielone pośrednią strefą odgazowania, po której następuje strefa destylacji. Jakkolwiek sposób ten charakteryzuje się dobrą sprawnością pod względem wydajności i selektywności dla DMDS, to okazało się, że powstają w nim ilości merkaptanu metylowego, które nie są zaniedbywalne (około 4000 ppm) i bardzo mała ilość siarczku dimetylowego (około 300 ppm), pochodzącego z merkaptanu metylowego użytego lub wytwarzanego podczas syntezy DMDS i pozostawionego w produkcie końcowym. Te lotne zanieczyszczenia nadają DMDS bardzo nieprzyjemną i agresywną woń. Ta silna woń jest uważana za istotną przyczynę kłopotów podczas manipulacji tym produktem przez użytkowników.
W celu zamaskowania odoru polisiarczków organicznych opis patentowy USA nr 5559271 zaleca dodawanie do nich pewnych ilości produktu maskującego, takiego jak na przykład w szczególności wanilina lub etylowanilina. Jakkolwiek podany tamże wzór ogólny obejmuje DMDS, to celem wynalazku ujawnionego w tym opisie jest szczególnie obróbka ciężkich polisiarczków, takich jak na przykład pentasiarczek di-t-nonylu. Zastosowanie tej metody do DMDS nie zapewnia zamaskowania jego powodującej nudności i silnie nieprzyjemnej woni.
Obecnie stwierdzono, że w szczególnym przypadku DMDS, dodanie środka maskującego woń jest skuteczne tylko wtedy, jeśli DMDS ma zmniejszoną zawartość lotnych zanieczyszczeń o silnej woni, takich jak merkaptan metylowy i siarczek dimetylowy, a korzystnie zawiera poniżej 200 ppm wagowo merkaptanu metylowego i poniżej 50 ppm wagowo siarczku dimerylu. Stwierdzono także, że najbardziej skutecznymi środkami maskującymi woń nie są środki wymienione w wyżej powołanym opisie patentowym USA, ale środki wybrane spośród estrów odpowiadających niżej podanemu wzorowi ogólnemu 1, w którym R1 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy lub rozgałęziony rodnik zawierający od 1 do 4 atomów węgla, a R2 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy, rozgałęziony lub cykliczny rodnik zawierający od 2 do 8 atomów węgla.
Przedmiotem wynalazku jest zatem kompozycja disiarczku dimerylu (DMDS), charakteryzująca się tym, że zawiera wagowo co najmniej 95% disiarczku dimetylu, poniżej 500 ppm merkaptanu metylowego (MM), poniżej 100 ppm siarczku dimetylu i do 1% co najmniej jednego środka maskującego woń, wybranego z grupy składającej się z waniliny, etylowaniliny i estrów o wzorze ogólnym 1:
R1CO2R2 (1)
PL 191 732 B1 1 w którym R1 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy lub rozgałęziony rodnik wę glowodorowy zawierający od 1 do 4 atomów węgla, a R2 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy, rozgałęziony lub cykliczny rodnik węglowodorowy zawierający od 2 do 8 atomów węgla.
Do wytworzenia DMDS o zmniejszonej zawartości zanieczyszczeń lotnych, takich jak MM i DMS, można zastosować dowolną metodę znaną specjalistom. Jednakże w przypadku DMDS o wysokiej zawartoś ci MM i DMS szczególnie korzystna metoda polega na odp ę dzaniu substancji lekkich przez destylację. Zaletą, tej metody jest łączne usuwanie MM i DMS, podczas gdy metody zwykle stosowane do osłabiania woni, generalnie oparte na usuwaniu resztkowych merkaptanów przez specyficzną reakcję merkaptanowej grupy funkcyjnej ze środkiem usuwającym, takim jak zasada lub tlenek alkilenu w obecności zasady, nie mają wpływu na DMS obecny w DMDS.
DMDS po takim usunięciu substancji lekkich przez destylację, który korzystnie zawiera poniżej 200 ppm MM i poniżej 50 ppm DMS, stosuje się do wytwarzania kompozycji według wynalazku przez zwykłe dodanie co najmniej jednego środka maskującego woń.
Zatem przedmiotem wynalazku jest także sposób wytwarzania kompozycji disiarczku dimetylu o zamaskowanej woni, polegający na tym, że:
- w etapie (a) usuwa się zanieczyszczenia lotne z surowego disiarczku dimetylu do zawartoś ci wagowej merkaptanu metylowego poniżej 500 ppm, korzystnie poniżej 200 ppm i zawartości siarczku dimetylu poniżej 100 ppm, korzystnie poniżej 50 ppm, a następnie
- w etapie (b) dodaje się do tak oczyszczonego disiarczku dimetylu co najmniej jeden ś rodek maskujący woń w ilości do 1% wagowego w stosunku do całej kompozycji, wybrany z grupy składającej się z waniliny, etylowaniliny i estrów o wzorze ogólnym 1
R1CO2R2 (1) 1 w którym R1 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy lub rozgałęziony rodnik wę glowodorowy zawierający od 1 do 4 atomów węgla, a R2 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy, rozgałęziony lub cykliczny rodnik węglowodorowy zawierający od 2 do 8 atomów węgła.
Korzystnie w etapie (a) zanieczyszczenia lotne usuwa się przez odpędzanie na drodze destylacji. Ponieważ jedną z głównych zalet DMDS w jego zastosowaniach jest jego wysoka zawartość siarki (68%), nadmiernie wysoka zawartość środka maskującego woń w kompozycji spowodowałaby obniżenie tego miana siarki i zmniejszenie zalet tego produktu w jego głównych zastosowaniach. Maksymalna zawartość środka/ów maskujących woń jest zatem, ustawiona na 1%, ale korzystna zawartość wynosi od 0,1 do 0,5%, a zwłaszcza około 0,2%.
Jako ilustrujące i nieograniczające przykłady estrów o ogólnym wzorze 1 można wymienić octan butylu, octan izoamylu, octan benzylu, maślan etylu, maślan propylu, maślan butylu, maślan 2-metylobutylu lub maślan izoamylu. Szczególnie korzystne są octan izoamylu, maślan 2-metylobutylu, maślan izoamylu, octan benzylu i mieszaniny tych związków. Estry o wzorze 1 mogą być ewentualnie stosowane w połączeniu z orto-ftalanami o wzorze ogólnym 2:
w którym symbole R3 i R4, które są takie same lub różne, oznaczają niezależnie od siebie ewentualnie nienasycony, liniowy, rozgałęziony lub cykliczny rodnik zawierający od 1 do 8 atomów węgla. Jako nieograniczający przykład związku o wzorze 2 można w szczególności wymienić orto-ftalan dietylu.
Jest oczywiste dla specjalisty, że ewentualne uzupełnienie do bilansu 100% kompozycji stanowią zanieczyszczenia DMPS, to jest polisiarczki di-metylowe CH3SXCH3, o x wyższym niż 2, pochodzące z surowego disiarczku dimetylu jako pozostałość z etapu syntezy.
PL 191 732 B1
Typowa kompozycja według wynalazku zawiera wagowo:
octan izoamylu: 0,1% orto-ftalan dietylu 0,1%
DMDS po usunięciu składników lotnych 99,8%
Inna typowa kompozycja według wynalazku zawiera wagowo:
octan izoamylu: 0,05% maślan 2-metylobutylu 0,03% octan benzylu 0,02% orto-ftalan dietylu 0,1% DMDS po usunięciu składników lotnych 99,8%
Poniższe przykłady ilustrują wynalazek.
P r z y k ł a d 1
Synteza disiarczku dimetylu sposobem ujawnionym w opisie patentowym EP 0446109.
a) Aparatura: Załączona figura 1 jest schematem użytej instalacji, w której połączono dwa reaktory (reaktor podstawowy 1 i reaktor wykańczający 3). Reaktor podstawowy jest reaktorem z mieszaniem, a reaktor wykańczający jest reaktorem rurowym ze złożem stacjonarnym. Między tymi dwoma reaktorami umieszczono system odgazowania, składający się ze zbiornika z podwójnym płaszczem 2, wyposażonego w mieszadło i zamontowaną na szczycie chłodzoną kolumnę, umożliwiająca skondensowanie merkaptanu metylowego, który może być unoszony z siarkowodorem, po czym jego usunięcie. Instalację tę uzupełnia pompa, umieszczona między wylotem odgazowywacza 2 a wlotem do reaktora wykańczającego 3, która umożliwia zasilanie tego reaktora produktem ciekłym z odgazowywacza. Kolumna odgazowująca 4 służy do całkowitego usunięcia H2S rozpuszczonego w cieczy opuszczającej reaktor 3. Kolumna destylacyjna 5 umożliwia separację większości nadmiaru merkaptanu metylowego w celu jego recyklizacji poprzez przewód 22 do reaktora 1. Kolumna 6 umożliwia separację resztek polisiarczków dimetylowych (DMPS) w celu ich recyklizacji do reaktora 3 lub reaktora 1.
b) Procedura: Ciekły merkaptan metylowy (MM) wprowadza się do reaktora 1 pod ciśnieniem poprzez przewód 11 z szybkością przepływu 960 g/h. Ciekłą siarkę wprowadza się do reaktora 1 przewodem 10 z szybkością przepływu 160 g/h (stosunek molowy MM/S = 4). Reaktor 1 (objętość reakcyjna: 300 ml) zawiera 20 g suchej żywicy Amberlyst A21. Ciśnienie robocze względne utrzymuje się na wartości 5,5 barów (5,5x105 Pa), a temperaturę na 40°C. Mieszanina reakcyjna na wylocie reaktora 1 ma następujący skład wagowy, z wyłączeniem nadmiaru merkaptanu metylowego i z wyłączeniem H2S: DMDS 85%, DMPS 15%. Tę mieszaninę reakcyjną transportuje się następnie do obróbki w odgazowywaczu 2 poprzez przewód 14. Po obróbce mieszaninę pozbawioną H2S transportuje się przewodem 17 do reaktora wykańczającego 3, który zawiera wsad 94 g suchej żywicy A21. Ciśnienie robocze względne utrzymuje się na wartości 5,5 barów (5,5x105 Pa), a temperaturę na 40°C. Mieszanina reakcyjna na wylocie reaktora 3 ma następujący skład wagowy, z wyłączeniem nadmiaru merkaptanu metylowego i z wyłączeniem H2S: DMDS 98,5%, DMPS 1,5%. Tę mieszaninę reakcyjną transportuje się następnie do obróbki w odgazowywaczu 4 poprzez przewód 18 w celu usunięcia H2S utworzonego w reaktorze 3 podczas retrodegradacji polisiarczków dimetylowych merkaptanem metylowym z wytworzeniem DMDS.
Na wylocie kolumny odgazowującej 4 mieszanina jest wprowadzana poprzez przewód 21 do pierwszej kolumny destylacyjnej 5 w celu usunięcia zasadniczo całego nadmiaru merkaptanu metylowego. Ten merkaptan metylowy można zawracać przewodem 22 do miejsca wprowadzania reagentów do reaktora 1. Na wylocie kolumny 5 mieszanina jest transportowana przewodem 23 do drugiej kolumny destylacyjnej 6, gdzie na szczycie kolumny usuwane są DMPS poprzez przewód 25 w celu ewentualnego zawrócenia do reaktora 3, albo przez przewód 26 w celu ewentualnego zawrócenia do reaktora 1.
DMDS, zebrany na końcu na szczycie kolumny 6 poprzez przewód 24, i oznaczony jako A0 dla celów testu olfaktorycznego opisanego w poniższych przykładach, ma następujący skład wagowy: DMDS: 99,3%
DMPS: 3000 ppm
MM: 4000 ppm
DMS: 300 ppm
P r z y k ł a d 2
Oczyszczanie disiarczku dimetylu wytworzonego sposobem ujawnionym w opisie patentowym nr EP 0446109.
PL 191 732 B1
Procedura syntetyczna jest taka sama jak opisana w przykładzie 1, poza tym, że DMDS opuszczający kolumnę 6 przewodem 24 jest wprowadzany do trzeciej kolumny destylacyjnej (patrz schemat na załączonej figurze 2), gdzie zanieczyszczenia lotne, takie jak merkaptan metylowy i siarczek dimetylowy, są usuwane na szczycie kolumny przewodem 27. DMDS, zebrany na końcu na szczycie kolumny poprzez przewód 28, ma następujący skład wagowy:
DMDS: 99,7%
DMPS: 3000 ppm
MM: < 100 ppm
DMS: <50 ppm
Ten oczyszczony DMDS, określany dalej jako B0, oraz próbkę DMDS oznaczoną A0o, sporządzoną w przykładzie 1, poddano testowi olfaktorycznemu. 8 Osób poproszonych o udział w teście jednoznacznie uznało znaczną poprawę zapachu próbki DMDS oznaczonej jako B0 w porównaniu z próbką A0, ale wszyscy uznali takż e, ż e w próbce B0 pozostał zapach czosnkowy i eterowy.
P r z y k ł a d 3
Do 100 g DMDS Bo otrzymanego w przykładzie 2 dodano 2000 ppm wagowo waniliny (4-hydroksy-3-metoksybenzaldehydu). Całkowite rozpuszczenie waniliny zanotowano po jednej godzinie w 25°C. Tak otrzymaną próbkę oznaczono jako B1.
P r z y k ł a d 4
Wanilinę użytą w przykładzie 3 zastąpiono 2000 ppm wagowo etylowaniliny (3-etoksy-4-hydroksywaniliny). Jej rozpuszczenie zanotowano po jednej godzinie w 25°C. Tak otrzymaną próbkę oznaczono jako B2.
Przykłady 5 i 6 ilustrują wytwarzanie korzystnych kompozycji na bazie DMDS o woni zamaskowanej.
P r z y k ł a d 5
2000 ppm wagowo mieszaniny o składzie 50% wagowych octanu izoamylu i 50% wagowych orto-ftalanu dietylu dodano do 100 g DMDS B0 wytworzonego w przykładzie 2. Ponieważ mieszanina ta jest ciekła, rozpuszczenie w 25°C nastąpiło natychmiast. Tak otrzymaną próbkę oznaczono jako B3.
P r z y k ł a d 6
Mieszaninę użytą w przykładzie 5 zastąpiono przez 2000 ppm mieszaniny o następującym
| składzie wagowym: | |
| octan izoamylu: | 25% |
| orto-ftalan dietylu: | 50% |
| maślan 2-metylobutylu: | 15% |
| octan benzylu: | 10% |
Rozpuszczenie tej mieszaniny w B0 w 25°C nastąpiło natychmiast. Tak otrzymaną próbkę oznaczono jako B4.
Próbki B0 B1 B2 B3 i B4 poddano porównawczemu testowi olfaktorycznemu, przeprowadzonemu przez zespół 8 osób wymienionych w przykładzie 2. Osoby te poproszono o przypisanie próbkom ocen w skali od 0 do 5, zgodnie z ich preferencjami odnośnie woni. Ocena 0 odpowiadała najmniej preferowanej woni, ocena 5 woni najbardziej preferowanej, a oceny 1, 2, 3 i 4 klasyfikowano jako poziomy pośrednie. Wyniki przedstawiono w poniższej tabeli.
| Próbka Osoba | B0 | B1 | B2 | Ba | B4 |
| 1 | 0 | 2 | 3 | 4 | 5 |
| 2 | 1 | 2 | 4 | 3 | 5 |
| 3 | 0 | 3 | 2 | 4 | 5 |
| 4 | 0 | 2 | 3 | 4 | 5 |
| 5 | 0 | 3 | 2 | 4 | 5 |
| 6 | 0 | 2 | 3 | 4 | 5 |
| 7 | 1 | 2 | 4 | 3 | 5 |
| 8 | 1 | 2 | 3 | 5 | 4 |
| Ocena na 40 | 3/40 | 18/40 | 24/40 | 31/40 | 39/40 |
PL 191 732 B1
Można zauważyć, że woń kompozycji B1, B2, B3 i B4 jest zawsze preferowana w stosunku do B0, oraz że ocena uzyskana dla B4 jest bardzo bliska do maksymalnej możliwej (40). Członkowie zespołu określili ponadto, że preferują „owocową nutę kompozycji B3 i B4 w stosunku do „waniliowoczosnkowej nuty kompozycji B1 i B2.
Porównawcze przykłady 7 do 11 ilustrują potrzebę usuwania większości lotnych zanieczyszczeń z DMDS dla uzyskania znaczącego efektu maskowania woni.
P r z y k ł a d 7
Przykład 3 powtórzono (środek maskujący: wanilina), zastępując 100 g DMDS B0 przez 100 g DMDS A0 nie poddawanego odpędzaniu składników lotnych, wytworzonego w przykładzie 1. Uzyskaną próbkę oznaczono jako A1.
Członków zespołu porównało woń A1 z wonią B0 i wszyscy preferowali woń B0 (DMDS oczyszczony z jego zanieczyszczeń lotnych i bez środka maskującego) od woni kompozycji A1, na bazie nieczyszczonego DMDS i waniliny.
P r z y k ł a d 8
Powtórzono procedurę z przykładu 7, zastępując wanilinę etylowaniliną. 8 Osób z zespołu preferowało woń próbki B0 w porównaniu z wonią tak uzyskanej próbki A2.
P r z y k ł a d 9
Powtórzono procedurę z przykładu 7, zastępując wanilinę mentolem. 8 Osób z zespołu preferowało woń próbki B0 w porównaniu z wonią tak uzyskanej próbki A3.
P r z y k ł a d 10
Powtórzono procedurę z przykładu 7, zastępując wanilinę mieszaniną maskującą wskazaną w przykładzie 5. Uzyskaną próbkę oznaczono jako A4. 8 Osób z zespołu preferowa ło woń próbki B0 w porównaniu z wonią próbki A4.
P r z y k ł a d 11
Powtórzono procedurę z przykładu 7, zastępując wanilinę mieszaniną maskującą wskazaną w przykładzie 6. Uzyskaną próbkę oznaczono jako A5. 8 Osób z zespołu preferowa ło woń próbki B0 w porównaniu z wonią próbki A5.
Claims (18)
- Zastrzeżenia patentowe1. Kompozycja disiarczku dimetylu (DMDS) o zamaskowanej woni, znamienna tym, że zawiera wagowo co najmniej 95% DMDS, poniżej 500 ppm merkaptanu metylowego, poniżej 100 ppm siarczku dimetylowego i do 1% co najmniej jednego środka maskującego woń, wybranego z grupy składającej się z waniliny, etylowaniliny i estrów o wzorze ogólnym 1R1CO2R2 (1) 1 w którym R1 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy lub rozgałęziony rodnik węglowodorowy zawierający od 1 do 4 atomów węgla, a R2 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy, rozgałęziony lub cykliczny rodnik węglowodorowy zawierający od 2 do 8 atomów węgla.
- 2. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że zawiera poniżej 200 ppm merkaptanu metylowego i poniżej 50 ppm siarczku dimetylowego.
- 3. Kompozycja według zastrz. 1 albo 2, znamienna tym, że zawiera od 0,1 do 0,5% co najmniej jednego środka maskującego woń, zwłaszcza 0,2%.
- 4. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że środek maskujący woń jest wybrany spośród estrów o wzorze (1).
- 5. Kompozycja według zastrz. 4, znamienna tym, że środek maskujący woń jest wybrany z grupy składającej się z octanu izoamylu, maś lanu 2-merylobutylu, maślanu izoamylu, octanu benzylu i mieszanin tych związków.
- 6. Kompozycja według zastrz. 4 albo 5, znamienna tym, że zawiera ester o wzorze (1) w połączeniu z orto-ftalanem o ogólnym wzorze 2PL 191 732 B1 w którym symbole R3 i R4, które s ą takie same lub różne, oznaczają ewentualnie nienasycony, liniowy, rozgałęziony lub cykliczny rodnik węglowodorowy zawierający od 1 do 8 atomów węgla.
- 7. Kompozycja według zastrz. 6, znamienna tym, że jako orto-ftalan zawiera orto-ftalan dietylu.
- 8. Kompozycja według zastrz. 7, znamienna tym, że zawiera 0,1% octanu izoamylu i 0,1% orto-ftalanu dietylu.
- 9. Kompozycja według zastrz. 7, znamienna tym, że zawiera 0,05% octanu izoamylu, 0,03% maślanu 2-metylobutylu, 0,02% octanu benzylu i 0,1% orto-ftalanu dietylu.
- 10. Sposób wytwarzania kompozycji disiarczku dimetylu o zamaskowanej woni, znamienny tym, że w etapie (a) usuwa się zanieczyszczenia lotne z surowego disiarczku dimetylu do zawartości wagowej merkaptanu metylowego poniżej 500 ppm, korzystnie poniżej 200 ppm i zawartości siarczku dimetylu poniżej 100 ppm, korzystnie poniżej 50 ppm, a następnie w etapie (b) dodaje się do tak oczyszczonego disiarczku dimetylu co najmniej jeden środek maskujący woń w ilości do 1% wagowego w stosunku do całej kompozycji, wybrany z grupy składającej się z waniliny, etylowaniliny i estrów o wzorze ogólnym 1R1CO2R2 (1) 1 w którym R1 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy lub rozgałęziony rodnik węglowodorowy zawierający od 1 do 4 atomów węgla, a R2 oznacza ewentualnie nienasycony, liniowy, rozgałęziony lub cykliczny rodnik węglowodorowy zawierający od 2 do 8 atomów węgla.
- 11. Sposób według zastrz. 10, znamienny tym, że w etapie (a) zanieczyszczenia lotne usuwa się przez odpędzanie na drodze destylacji.
- 12. Sposób według zastrz. 10 albo 11, znamienny tym, że stosuje się od 0,1 do 0,5% co najmniej jednego środka maskującego woń, zwłaszcza 0,2%.
- 13. Sposób według zastrz. 10 albo 11, znamienny tym, że stosuje się środek maskujący woń wybrany z estrów o wzorze ogólnym 1.
- 14. Sposób według zastrz. 13, znamienny tym, że stosuje się środek maskujący woń wybrany z grupy składającej się z octanu izoamylu, maślanu 2-metylobutylu, maślanu izoamylu, octanu benzylu i mieszanin tych związków.
- 15. Sposób według zastrz. 13, znamienny tym, że stosuje się ester o wzorze 1 w połączeniu z orto-ftalanem o ogólnym wzorze 2 w którym symbole R3 i R4, które s ą takie same lub różne, oznaczają ewentualnie nienasycony, liniowy, rozgałęziony lub cykliczny rodnik węglowodorowy zawierający od 1 do 8 atomów węgla.
- 16. Sposób według zastrz. 15, znamienny tym, że jako orto-ftalan stosuje się orto-ftalan dietylu.
- 17. Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że stosuje się 0,1% octanu izoamylu i 0,1% orto-ftalanu dietylu.
- 18. Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że stosuje się 0,05% octanu izoamylu, 0,03% maślanu 2-metylobutylu, 0,02% octanu benzylu i 0,1% orto-ftalanu dietylu.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9809864A FR2781795B1 (fr) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | Compositions a base de dimethyldisulfure a odeur masquee |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL334700A1 PL334700A1 (en) | 2000-02-14 |
| PL191732B1 true PL191732B1 (pl) | 2006-06-30 |
Family
ID=9529276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL334700A PL191732B1 (pl) | 1998-07-31 | 1999-07-30 | Kompozycja disiarczku dimetylu (DMDS) o zamaskowanej woni i sposób wytwarzania kompozycji disiarczku dimetylu o zamaskowanej woni |
Country Status (32)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US20010005766A1 (pl) |
| EP (1) | EP0976726B1 (pl) |
| JP (1) | JP4394201B2 (pl) |
| KR (1) | KR100609276B1 (pl) |
| CN (1) | CN1160325C (pl) |
| AR (1) | AR024507A1 (pl) |
| AT (1) | ATE241597T1 (pl) |
| AU (1) | AU764075B2 (pl) |
| BR (1) | BR9902938B1 (pl) |
| CA (1) | CA2277895C (pl) |
| CO (1) | CO5231229A1 (pl) |
| DE (1) | DE69908252T2 (pl) |
| DK (1) | DK0976726T3 (pl) |
| EG (1) | EG22544A (pl) |
| ES (1) | ES2200481T3 (pl) |
| FR (1) | FR2781795B1 (pl) |
| GC (1) | GC0000106A (pl) |
| HU (1) | HU224221B1 (pl) |
| ID (1) | ID23475A (pl) |
| MY (1) | MY121424A (pl) |
| NO (1) | NO313669B1 (pl) |
| NZ (1) | NZ336950A (pl) |
| PL (1) | PL191732B1 (pl) |
| PT (1) | PT976726E (pl) |
| RO (1) | RO120406B1 (pl) |
| RU (1) | RU2219168C2 (pl) |
| SG (1) | SG93838A1 (pl) |
| SK (1) | SK283797B6 (pl) |
| TR (1) | TR199901835A3 (pl) |
| TW (1) | TWI224092B (pl) |
| UA (1) | UA64738C2 (pl) |
| ZA (1) | ZA994890B (pl) |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6572847B2 (en) | 2000-03-31 | 2003-06-03 | The Lubrizol Corporation | Elimination of odors from lubricants by use of a combination of thiazoles and odor masks |
| WO2001074141A2 (en) * | 2000-03-31 | 2001-10-11 | The Lubrizol Corporation | Elimination of odors from lubricants by use of a combination of thiazoles and odor masks |
| US6362374B1 (en) | 2000-05-01 | 2002-03-26 | The Lubrizol Corporation | Composition of and method for polysulfides having a reduced odor level |
| JP2006246855A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Pokka Corp | 高品質な飲料・食品の製造方法 |
| US8480797B2 (en) | 2005-09-12 | 2013-07-09 | Abela Pharmaceuticals, Inc. | Activated carbon systems for facilitating use of dimethyl sulfoxide (DMSO) by removal of same, related compounds, or associated odors |
| WO2007033082A2 (en) | 2005-09-12 | 2007-03-22 | Abela Pharmaceuticals, Inc. | Compositions comprising dimethyl sulfoxide (dmso) |
| US8435224B2 (en) | 2005-09-12 | 2013-05-07 | Abela Pharmaceuticals, Inc. | Materials for facilitating administration of dimethyl sulfoxide (DMSO) and related compounds |
| AU2006291134C1 (en) | 2005-09-12 | 2013-08-15 | Abela Pharmaceuticals, Inc. | Systems for removing dimethyl sulfoxide (DMSO) or related compounds, or odors associated with same |
| FR2910348B1 (fr) * | 2006-12-22 | 2012-05-18 | Arkema France | Agent de sulfuration de catalyseur d'hydrotraitement et son utilisation pour la presulfuration in-situ et ex-situ |
| JP2009067767A (ja) * | 2006-12-28 | 2009-04-02 | Takeda Chem Ind Ltd | 戻り臭除去方法 |
| US8331685B2 (en) | 2008-05-28 | 2012-12-11 | Apple Inc. | Defining a border for an image |
| ES2727702T3 (es) | 2008-07-15 | 2019-10-18 | Callery Llc | Procedimiento para purificar sulfuros de dialquilo |
| FR2935142B1 (fr) * | 2008-08-20 | 2010-11-19 | Arkema France | Dimethyldisulfure issu au moins partiellement de matieres renouvellables |
| BRPI0921494A2 (pt) | 2008-11-03 | 2018-10-30 | Prad Reasearch And Development Ltd | método de planejamento de uma operação de amostragem para uma formação subterrãnea, método de contolar uma operação de amostragem de formação subterrânea, método de controlar uma operação de perfuração para uma formação subterrãnea, e método de realizar uma amostragem durante a operação de perfuração. |
| CN101606533B (zh) * | 2009-07-27 | 2012-05-02 | 山东美罗福农化有限公司 | 一种土壤熏蒸剂组合物及其应用 |
| FR2948661B1 (fr) * | 2009-07-31 | 2011-07-29 | Arkema France | Composition a base de sulfure organique a odeur masquee |
| US9839609B2 (en) | 2009-10-30 | 2017-12-12 | Abela Pharmaceuticals, Inc. | Dimethyl sulfoxide (DMSO) and methylsulfonylmethane (MSM) formulations to treat osteoarthritis |
| FR2962441A1 (fr) * | 2010-07-08 | 2012-01-13 | Arkema France | Agents raft a odeur amelioree et polymeres a odeur amelioree obtenus a l'aide de ces agents |
| FR2965562B1 (fr) | 2010-09-30 | 2013-03-01 | Arkema France | Procede de preparation de disulfures de dialkyle |
| CN102816093B (zh) * | 2012-08-14 | 2014-05-28 | 张怀有 | 甲硫醇氧化法生产二甲基二硫的方法 |
| FR3023287B1 (fr) | 2014-07-04 | 2016-07-22 | Arkema France | Procede de preparation de methylmercaptan |
| FR3023288B1 (fr) | 2014-07-04 | 2016-07-15 | Arkema France | Procede de preparation de disulfure de dimethyle |
| FR3041636B1 (fr) | 2015-09-30 | 2018-11-16 | Arkema France | Procede de production de mercaptans par hydrogenolyse enzymatique de disulfures a l'aide d'hydrogene |
| US11118098B2 (en) | 2018-06-27 | 2021-09-14 | Exxonmobil Upstream Research Company | Solvent mixtures for dissolving elemental sulfur, methods of utilizing the solvent mixtures, and methods of forming the solvent mixtures |
| US20240034923A1 (en) * | 2020-12-09 | 2024-02-01 | ExxonMobil Technology and Engineering Company | Odor management for disulfide solvents and surfaces contacted therewith |
| FR3122877B1 (fr) * | 2021-05-11 | 2024-05-10 | Arkema France | Procédé de co-production de méthylmercaptan et de diméthyldisulfure à partir d’oxydes de carbone |
| FR3122876B1 (fr) | 2021-05-11 | 2024-03-08 | Arkema France | Procédé de co-production d’alkylmercaptan et de dialkyldisulfure à partir d’alcool |
| CN114057783B (zh) * | 2021-12-23 | 2023-07-14 | 山东海科创新研究院有限公司 | 一种双草酸硼酸锂的制备方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3647481A (en) | 1969-06-13 | 1972-03-07 | Int Flavors & Fragrances Inc | Method of making aliphatic di- and trisulfide flavoring materials |
| US3764709A (en) | 1971-07-13 | 1973-10-09 | Mc Cormick & Co Inc | Synthetic onion oil composition |
| US4355183A (en) | 1979-08-08 | 1982-10-19 | Phillips Petroleum Company | Decolorization treatment |
| FR2659079A1 (fr) * | 1990-03-05 | 1991-09-06 | Elf Aquitaine | Procede pour la fabrication de disulfures organiques. |
| US5218147A (en) * | 1992-02-10 | 1993-06-08 | Phillips Petroleum Company | Stable polysulfides and process therefor |
| JP3138059B2 (ja) * | 1992-05-27 | 2001-02-26 | 花王株式会社 | 水性組成物 |
| US5559271A (en) * | 1995-07-26 | 1996-09-24 | Phillips Petroleum Company | Organic polysulfide compositions having reduced odor |
| FR2774376B1 (fr) | 1998-02-03 | 2000-03-17 | Elf Aquitaine Exploration Prod | Production de polysulfures organiques stabilises et desodorises |
| US6362374B1 (en) * | 2000-05-01 | 2002-03-26 | The Lubrizol Corporation | Composition of and method for polysulfides having a reduced odor level |
-
1998
- 1998-07-31 FR FR9809864A patent/FR2781795B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-06-23 ES ES99401561T patent/ES2200481T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-23 DE DE69908252T patent/DE69908252T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-23 DK DK99401561T patent/DK0976726T3/da active
- 1999-06-23 EP EP99401561A patent/EP0976726B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-23 AT AT99401561T patent/ATE241597T1/de active
- 1999-06-23 PT PT99401561T patent/PT976726E/pt unknown
- 1999-07-07 JP JP19296999A patent/JP4394201B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-08 RO RO99-00784A patent/RO120406B1/ro unknown
- 1999-07-12 US US09/350,994 patent/US20010005766A1/en not_active Abandoned
- 1999-07-19 CA CA002277895A patent/CA2277895C/fr not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-23 BR BRPI9902938-3A patent/BR9902938B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-07-27 NO NO19993642A patent/NO313669B1/no not_active IP Right Cessation
- 1999-07-28 SK SK1018-99A patent/SK283797B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-07-28 NZ NZ336950A patent/NZ336950A/xx not_active IP Right Cessation
- 1999-07-28 AU AU42345/99A patent/AU764075B2/en not_active Expired
- 1999-07-28 GC GCP1999219 patent/GC0000106A/xx active
- 1999-07-28 UA UA99074359A patent/UA64738C2/uk unknown
- 1999-07-28 RU RU99116306/04A patent/RU2219168C2/ru active
- 1999-07-29 EG EG93699A patent/EG22544A/xx active
- 1999-07-29 KR KR1019990031033A patent/KR100609276B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-29 SG SG9903708A patent/SG93838A1/en unknown
- 1999-07-29 ZA ZA9904890A patent/ZA994890B/xx unknown
- 1999-07-30 CN CNB991118367A patent/CN1160325C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-30 ID IDP990721D patent/ID23475A/id unknown
- 1999-07-30 MY MYPI99003257A patent/MY121424A/en unknown
- 1999-07-30 CO CO99048309A patent/CO5231229A1/es not_active Application Discontinuation
- 1999-07-30 TW TW088113013A patent/TWI224092B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-07-30 HU HU9902626A patent/HU224221B1/hu active IP Right Grant
- 1999-07-30 TR TR1999/01835A patent/TR199901835A3/tr unknown
- 1999-07-30 AR ARP990103829A patent/AR024507A1/es active IP Right Grant
- 1999-07-30 PL PL334700A patent/PL191732B1/pl unknown
-
2002
- 2002-01-14 US US10/043,282 patent/US6743951B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-01-14 US US10/043,281 patent/US6639110B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL191732B1 (pl) | Kompozycja disiarczku dimetylu (DMDS) o zamaskowanej woni i sposób wytwarzania kompozycji disiarczku dimetylu o zamaskowanej woni | |
| US10807947B2 (en) | Controlled catalytic oxidation of MEROX process by-products in integrated refinery process | |
| RU2501788C2 (ru) | Композиция на основе органического сульфида с замаскированным запахом | |
| US5559271A (en) | Organic polysulfide compositions having reduced odor | |
| US5206439A (en) | Preparation of high purity polysulfides | |
| HISKEY et al. | A Synthesis of Unsymmetrical Aliphatic Disulfides1 | |
| AU1471299A (en) | Production of stabilized and deodorized organic polysulphides | |
| CN103108862B (zh) | 用于制备二烷基二硫醚的方法 | |
| MXPA99006998A (en) | Dimethylsulphide composition with masked odour | |
| CZ258599A3 (cs) | Prostředek založený na dimethyldísulfídu s maskovaným zápachem | |
| EP0511888B1 (fr) | Nouveaux composés carboxyliques (poly)sulfures, leur préparation et leur utilisation notamment comme additifs pour huiles lubrifiantes | |
| EP1044965A4 (en) | PROCESS FOR THE PREPARATION OF AROMATIC SULPHIDE COMPOUNDS | |
| BE657941A (pl) | ||
| WO2020005711A1 (en) | Process of producing polysulfides crude product composition | |
| FR2549045A1 (fr) | Derives phenyliques du 2,4-dimethyl-2-hexene |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RECP | Rectifications of patent specification |