PL194304B1 - Roztwór wodny do elektrolitycznego strącania stopów cyna-cynk i zastosowanie tego roztworu - Google Patents

Roztwór wodny do elektrolitycznego strącania stopów cyna-cynk i zastosowanie tego roztworu

Info

Publication number
PL194304B1
PL194304B1 PL99348755A PL34875599A PL194304B1 PL 194304 B1 PL194304 B1 PL 194304B1 PL 99348755 A PL99348755 A PL 99348755A PL 34875599 A PL34875599 A PL 34875599A PL 194304 B1 PL194304 B1 PL 194304B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
solution according
c2h4o
group
formula
tin
Prior art date
Application number
PL99348755A
Other languages
English (en)
Other versions
PL348755A1 (en
Inventor
Manfred Jordan
Gernot Strube
Original Assignee
Schloetter Fa Dr Ing Max
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schloetter Fa Dr Ing Max filed Critical Schloetter Fa Dr Ing Max
Publication of PL348755A1 publication Critical patent/PL348755A1/xx
Publication of PL194304B1 publication Critical patent/PL194304B1/pl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/60—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of tin

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

1. Roztwór wodny do elektrolitycznego stracania stopów cyna-cynk, który zawiera a) jony Zn(II) w ilosci 5-50 g/l; b) jony Sn(II) w ilosci 0,5-5 g/l; c) alifatyczne kwasy hydroksykarboksylowe i/lub kwasy aminokarboksylowe w ilosci 30-200 g/l; znamienny tym, ze obejmuje on nastepujace skladniki: d) anionowe substancje powierzchniowo czynne, wybrane sposród alifatycznych i aromatycznych sulfonianów, w ilosci 5-30 g/l; e) niejonowe substancje powierzchniowo czynne o wzorze (III) R-O-(C 2 H 4 O) n H (III), w którym R oznacza rodnik alkilowy, arylowy, alkiloarylowy, a n stanowi liczbe 1-100, w ilosci 0-10 g/l. PL PL PL

Description

Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest roztwór wodny do strącania stopów cyna-cynk i zastosowanie tego roztworu, a zwłaszcza kąpiel do powlekania galwanicznego, która przy łatwym prowadzeniu kąpieli umożliwia strącanie stopów cyna-cynk z bezcyjankowego roztworu cyna (II)-cynk (II).
Produkty, które powleka się stopem cyna-cynk drogą powlekania galwanicznego, odznaczają się znakomitą odpornością na korozję. Szczególnie odporność wobec cieczy hydraulicznej i wodnych roztworów soli pozwala na to, że tak powleczone produkty wydają się być interesujące dla przemysłu samochodowego. Również w przemyśle radiofonicznym, elektrotechnicznym i budowlanym stosuje się produkty powlekane stopami cyna-cynk ze względu na ich odporność na korozję i na ich znakomitą lutowność.
Dotychczas rozpowszechnione kąpiele do powlekania galwanicznego zawierały cynę o stopniu utlenienia +IV oraz jony cyjankowe. Tego rodzaju kąpiele do powlekania galwanicznego mają jednak tę wadę, że w celu strącenia jonów cyny (IV) potrzebny jest wyższy nakład energetyczny niż w celu strącenia jonów cyny (II). Do tego prowadzenie kąpieli obejmuje tę trudność, że w przypadku rozpuszczenia anody, która korzystnie składa się również ze stopu cyna-cynk, przez utworzenie błonki za pomocą polaryzacji musi się sprzyjać tworzeniu jonów cyny (IV). Ponadto grubość i skład strąconego stopu cyna-cynk są zależne od gęstości prądu, a tym samym od geometrii podłoża. Także toksyczność jonów cyjankowych utrudnia wykorzystanie przemysłowe.
Zgodnie z opisem EP 0 663 460 znana jest kąpiel do powlekania galwanicznego, która pozwala na strącanie cyny z roztworu dwuwartościowej cyny. Zmniejszono także zależność szybkości i składu strącania cyna-cynk od gęstości prądu. Zaproponowane w tym opisie, amfoteryczne substancje powierzchniowo czynne prowadzą jednakże do tego, że prowadzenie kąpieli, tak jak poprzednio, pozostaje limitujące i musi być nastawione bardzo dokładnie oraz strzeżone, żeby ograniczyć ciemne i zakłócone wtrącenia.
Zadaniem niniejszego wynalazku jest opracowanie roztworu kąpieli do powlekania galwanicznego, który nie zawiera cyjanku, który umożliwia małe przy strącaniu zużycie energii dzięki strącaniu cyny z roztworu zawierającego jony cyny (II) i którego prowadzenie kąpieli poprzez szeroki zakres swobodnie wybieralnych parametrów jest nie limitujące i umożliwia strącenia bezbłędne i wolne od przebarwień.
Osiąga się ten cel za pomocą roztworu wodnego do elektrolitycznego strącania stopów cynacynk, który zawiera
a) jony Zn(II) w ilości 5-50 g/l;
b) jony Sn(II) w ilości 0,5-5 g/l;
c) alifatyczne kwasy hydroksykarboksylowe i/lub kwasy aminokarboksylowe w ilości 30-200 g/l jako substancje kompleksotwórcze; wyróżniającego się według wynalazku tym, że obejmuje on następujące składniki:
d) anionowe substancje powierzchniowo czynne, wybrane spośród alifatycznych i aromatycznych sulfonianów, w ilości 5-30 g/l;
e) niejonowe substancje powierzchniowo czynne o wzorze (III)
R-O-(C2H4O)nH (III), w którym R oznacza rodnik alkilowy, arylowy, alkiloarylowy, a n stanowi liczbę 1-100, w ilości 0-10 g/l; jako polepszacze uziarnienia.
Korzystnie roztwór według wynalazku dodatkowo zawiera też aromatyczne aldehydy i/lub aromatyczne ketony jako substancje połyskotwórcze.
Roztwór według wynalazku korzystnie zawiera aromatyczne aldehydy i/lub aromatyczne ketony o wzorze (I)
AR-R-CO-R' (I), w którym AR może być fenylem, naftylem; R może być grupą CH2, CH=CH a R' może być wodorem, C1-3-alkilem.
Roztwór według wynalazku może zawierać aromatyczne aldehydy o wzorze (II)
PL 194 304 B1
w którym X oznacza H, CH3, OCH3, Cl, Br.
Specjalnym, korzystnym związkiem o wzorze (II) jest o-Cl-benzaldehyd.
Roztwór według wynalazku korzystnie wykazuje odczyn o wartości pH=2-8, zwłaszcza pH=3-5. Roztwór według wynalazku jony Sn(II) i Zn(II) korzystnie zawiera jako chlorki, siarczany lub alkilosulfoniany i ewentualnie dodatkowo zawiera on zwiększające jego przewodnictwo sole odpowiednich anionów, takie jak NH4Cl i/lub NH4(CH3SO3).
Jako kwasy karboksylowe roztwór według wynalazku korzystnie kwas cytrynowy lub jego sole litowcowe.
Roztwór według wynalazku korzystnie może dodatkowo zawierać niejonowe substancje powierzchniowo czynne o wzorze (IV)
R'-S-(C2H4O)nH (IV), i/lub o wzorze (V)
RN[(C2H4O)nH]2 (V), w których R' oznacza C1-3-alkil lub grupę -(C2H4O)nH; R oznacza C5-20-alkil, a n jest liczbą 1-100, szczególnie korzystnie liczbą 6-15. Szczególnie korzystnymi są związki H(C2H4O)n-S-(C2H4O)nH o n=8-12 i C12H25-N[(C2H4O)nH]2 o n=15-25.
Roztwór według wynalazku korzystnie zawiera sulfoniany alifatyczne lub aromatyczne jako anionowe substancje powierzchniowo czynne, obejmujące jeden lub wiele związków o wzorach (VI) -(IX):
a')
gdzie R oznacza C3-12-alkil, X oznacza H, grupę -SO3M, M oznacza Na, K, NH4;
b')
R'-O-(C2H4O)n-R-SO3M (VII), gdzie R' oznacza C3-12-alkil, R oznacza C2-5-alkil, M oznacza Na, K, NH4;
c')
gdzie R' oznacza H, C1-5-alkil, grupę O-(C2H4O)n-X albo grupę
PL 194 304 B1
a X oznacza grupę SO3M, w której M stanowi Na, K, NH4; d')
gdzie R' oznacza H, C1-5-alkil, grupę O-(C2H4O)n-X albo grupę
a X oznacza grupę SO3M, w której M stanowi Na,K, NH4, i n oznacza liczbę 0-100, korzystnie 6-15. Szczególnie korzystnym wyborem z powyższego szeregu są anionowe substancje powierzchniowo czynne według następujących wzorów (X)-(XIII)
C12H25-O-(C2H4)n-C3H6SO3K (XI),
wykazujących n=8-14.
PL 194 304 B1
Również może roztwór według wynalazku dodatkowo zawierać aromatyczne i/lub heterocykliczne kwasy karboksylowe lub ich sole litowcowe.
Itak roztwór według wynalazku korzystnie zawiera kwasy karboksylowe o wzorze (XIV) R-COOM (XIV), w którym R oznacza
a M oznacza H, Na, K, NH4.
Korzystnymi są stężenia poszczególnych składników w obrębie następujących zakresów:
jony cynku (II) 5 g/l do 50g/l
szczególnie korzystnie 20 g/l do 25 g/l
jony cyny (II) 0,5 g/l do 5 g/l
szczególnie korzystnie 1 g/l do 3 g/l
alifatyczne kwasy karboksylowe 30 g/l do 200 g/l
szczególnie korzystnie 60 g/l do 140 g/l
niejonowe substancje powierzchniowo czynne
-o wzorze III 0 g/l do 10 g/l
szczególnie korzystnie 0g/l do 2 g/l
-o wzorze (IV) lub (V) 0g/l do 10 g/l
szczególnie korzystnie 0g/l do 2 g/l
anionowe substancje powierzchniowo czynne 5 g/l do 30 g/l
szczególnie korzystnie 10 g/ldo 15 g/l
aromatyczne aldehydy i/lub
aromatyczne ketony 0g/l do 0,5 g/l
szczególnie korzystnie 0g/l do 0,2 g/l
aromatyczne i/lub heterocykliczne kwasy
karboksylowe lub ich sole litowcowe 0,5 g/ldo 10 g/l
szczególnie korzystnie 1 g/l do 3 g/l
sole zwiększające przewodnictwo 10 g/ldo 150 g/l
szczególnie korzystnie 30 g/ldo 70 g/l.
Dalszym przedmiotem wynalazku jest zastosowanie omówionego wyżej, wodnego roztworu do strącania powłok cyna-cynk.
Korzystnie stosuje się ten roztwór do strącania powłok cyna-cynk o zawartości 10-50% wagowych cynku.
Podany niżej przykład wykonania objaśnia bliżej wynalazek. Wytwarza się wodny roztwór z następujących składników:
kwas cytrynowy 100 g/l
NH4Cl 50 g/l
NH4OH, 25% 90 g/l
H3BO3 30 g/l
Sn2+ jako Sn(CH3SO3)2 3 g/l
ZnCl2 33 g/l
g/l
PL 194 304 B1
C12H25-O-(C2H4O)n-C3H6SO3K g/l
g/l
g/l benzoesan sodowy 2 g/l kwas nikotynowy 0,1 g/l o-Cl-benzaldehyd 0,05 g/l
Za pomocą tego roztworu w niżej podanych warunkach na powierzchni podłoża osadza się stop cynowo-cynkowy o grubości 10 μm, o jasnoszarym zabarwieniu i o zawartości 30% cynku.
I = 1 A/dm2 t = 20 minut
T = 40°C .
Powyższy rezultat dowodzi, że za pomocą wodnego roztworu według wynalazku przy małym zużyciu energii można bez stosowania jonów cyjankowych osadzać stopy cynowo-cynkowe o jednorodnej grubości i składzie i o równomiernym jasnym zabarwieniu.

Claims (13)

1. Roztwór wodny do elektrolitycznego strącania stopów cyna-cynk, który zawiera
a) jony Zn(II) w ilości 5-50 g/l;
b) jony Sn(II) w ilości 0,5-5 g/l;
c) alifatyczne kwasy hydroksykarboksylowe i/lub kwasy aminokarboksylowe w ilości 30-200 g/l; znamienny tym, że obejmuje on następujące składniki:
d) anionowe substancje powierzchniowo czynne, wybrane spośród alifatycznych i aromatycznych sulfonianów, w ilości 5-30 g/l;
e) niejonowe substancje powierzchniowo czynne o wzorze (III)
R-O-(C2H4O)nH (III), w którym R oznacza rodnik alkilowy, arylowy, alkiloarylowy, a n stanowi liczbę 1-100, w ilości 0-10 g/l.
2. Roztwór według zastrz. 1, znamienny tym, że dodatkowo zawiera też aromatyczne aldehydy i/lub aromatyczne ketony.
3. Roztwór według zastrz. 2, znamienny tym, że zawiera aromatyczne aldehydy i/lub aromatyczne ketony o wzorze (I)
AR-R-CO-R' (I) , w którym AR może być fenylem, naftylem; R może być grupą CH2,
CH=CH a R' może być wodorem, C1-3-alkilem.
4. Roztwór według zastrz. 2, znamienny tym, że zawiera aromatyczne aldehydy o wzorze (II)
PL 194 304 B1 w którym X oznacza H, CH3, OCH3, Cl, Br.
5. Roztwór według zastrz. 1, znamienny tym, że roztwór ten wykazuje wartość pH=2-8, zwłaszcza pH=3-5.
6. Roztwór według zastrz.1, znamienny tym, że jony Sn(II) i Zn(II) zawiera on jako chlorki, siarczany lub alkilosulfoniany i ewentualnie dodatkowo zawiera on zwiększające jego przewodnictwo sole odpowiednich anionów.
7. Roztwór według zastrz. 1, znamienny tym, że jako kwasy karboksylowe zawiera on kwas cytrynowy lub jego sole litowcowe.
8. Roztwór według zastrz. 1, znamienny tym, że dodatkowo zawiera niejonowe substancje powierzchniowo czynne o wzorze (IV)
R'-S-(C2H4O)nH (IV), i/lub o wzorze (V)
RN[(C2H4O)nH]2 (V), w których R' oznacza C1-3-alkil lub grupę -(C2H4O)nH; R oznacza C5-20-alkil, a n jest liczbą 1-100.
9. Roztwór według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera anionowe substancje powierzchniowo czynne, które obejmują jeden lub wiele związków o wzorach (VI)-(IX):
a') gdzie R oznacza 3-12-alkil, X oznacza H, grupę -SO3M, M oznacza Na,K, NH4;
b')
R'-O-(C2H4O)n-R-SO3M (VII), gdzie R' oznacza C3-12alkil, R oznacza C2-5-alkil, M oznacza Na, K, NH4;
c') gdzie R' oznacza H, C1-5-alkil, grupę O-(C2H4O)n-X albo grupę
PL 194 304 B1 a X oznacza grupę SO3M, w której M stanowi Na, K, NH4; d') gdzie R' oznacza H, C1-5-alkil, grupę O-(C2H4O)n-X albo grupę a X oznacza grupę SO3M, w której M stanowi Na, K, NH4, i n oznacza liczbę 0-100, korzystnie 6-15.
10. Roztwór według zastrz. 1, znamienny tym, że dodatkowo zawiera aromatyczne i/lub heterocykliczne kwasy karboksylowe lub ich sole litowcowe.
11. Roztwór według zastrzeżenia 10, znamienny tym, że zawiera kwasy karboksylowe o wzorze (XIV)
R-COOM (XIV), w którym R oznacza a M oznacza H, Na, K, NH4.
12. Zastosowanie wodnego roztworu, określonego w zastrz. 1, do strącania powłok cyna-cynk.
13. Zastosowanie wodnego roztworu według zastrz. 12, znamienne tym, że stosuje się ten roztwór do strącania powłok cyna-cynk o zawartości 10-50% wagowych cynku.
PL99348755A 1998-11-12 1999-11-12 Roztwór wodny do elektrolitycznego strącania stopów cyna-cynk i zastosowanie tego roztworu PL194304B1 (pl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19852219A DE19852219C1 (de) 1998-11-12 1998-11-12 Wäßrige Lösung zur elektrolytischen Abscheidung von Zinn-Zink-Legierungen und Verwendung der Lösung
PCT/EP1999/008724 WO2000029645A2 (de) 1998-11-12 1999-11-12 Wässrige lösung zur elektrolytischen abscheidung von zinn-zink-legierungen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL348755A1 PL348755A1 (en) 2002-06-03
PL194304B1 true PL194304B1 (pl) 2007-05-31

Family

ID=7887579

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL99348755A PL194304B1 (pl) 1998-11-12 1999-11-12 Roztwór wodny do elektrolitycznego strącania stopów cyna-cynk i zastosowanie tego roztworu

Country Status (11)

Country Link
US (1) US6770185B2 (pl)
EP (1) EP1137825B1 (pl)
JP (1) JP4355987B2 (pl)
KR (1) KR20010086017A (pl)
CN (1) CN1195904C (pl)
AT (1) ATE223979T1 (pl)
AU (1) AU1775200A (pl)
CZ (1) CZ296310B6 (pl)
DE (2) DE19852219C1 (pl)
PL (1) PL194304B1 (pl)
WO (1) WO2000029645A2 (pl)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1325175B1 (de) 2000-09-20 2005-05-04 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Elektrolyt und verfahren zur abscheidung von zinn-kupfer-legierungsschichten
ES2415979T3 (es) * 2007-09-27 2013-07-29 Chemetall Gmbh Método para producir un material metálico tratado superficialmente, y método para producir un artículo metálico revestido
CN102443827A (zh) * 2011-12-19 2012-05-09 张家港舒马克电梯安装维修服务有限公司镀锌分公司 一种Sn-Zn合金电镀液
CN102634827B (zh) * 2012-05-07 2015-04-08 东莞市闻誉实业有限公司 一种锡-锌合金电镀方法
CN106498453B (zh) * 2016-09-14 2018-08-28 湖北大学 一种镀锡、锡合金的光亮剂及其制备方法和应用
JP2021116473A (ja) * 2020-01-27 2021-08-10 三菱マテリアル株式会社 錫又は錫合金電解めっき液、バンプの形成方法、及び回路基板の製造方法
CN115003863A (zh) * 2020-01-27 2022-09-02 三菱综合材料株式会社 锡或锡合金电镀液、凸点的形成方法及电路基板的制造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE415577B (sv) * 1977-09-15 1980-10-13 Magnusson H H Produkter Sett och elektrolyt for att fobereda en stalyta for lackering
GB2013241B (en) * 1977-11-16 1982-03-24 Dipsol Chem Electroplating bath for depositing tin or tin alloy with brightness
AU8521691A (en) * 1990-08-31 1992-03-30 Barry, Beresford Thomas Kingcome Electroplating
DE4034304A1 (de) * 1990-10-29 1992-04-30 Henkel Kgaa Elektrolytzusatzmittel fuer ein faerbebad zur aluminiumeinfaerbung und verfahren zur einfaerbung von aluminium
GB2266894A (en) * 1992-05-15 1993-11-17 Zinex Corp Modified tin brightener for tin-zinc alloy electroplating bath
JP3279353B2 (ja) * 1992-09-25 2002-04-30 ディップソール株式会社 錫−亜鉛合金電気めっき浴
DE4446329A1 (de) * 1994-12-23 1996-06-27 Basf Ag Salze aromatischer Hydroxylverbindungen und deren Verwendung als Glanzbildner
JP3609565B2 (ja) * 1996-12-09 2005-01-12 株式会社大和化成研究所 錫−亜鉛合金めっき浴
JP3816241B2 (ja) * 1998-07-14 2006-08-30 株式会社大和化成研究所 金属を還元析出させるための水溶液

Also Published As

Publication number Publication date
US20020046954A1 (en) 2002-04-25
EP1137825A2 (de) 2001-10-04
JP4355987B2 (ja) 2009-11-04
AU1775200A (en) 2000-06-05
PL348755A1 (en) 2002-06-03
CN1195904C (zh) 2005-04-06
EP1137825B1 (de) 2002-09-11
JP2002530528A (ja) 2002-09-17
CZ20011633A3 (cs) 2001-12-12
CZ296310B6 (cs) 2006-02-15
DE19852219C1 (de) 2000-05-11
ATE223979T1 (de) 2002-09-15
US6770185B2 (en) 2004-08-03
WO2000029645A3 (de) 2000-09-14
KR20010086017A (ko) 2001-09-07
DE59902696D1 (de) 2002-10-17
WO2000029645A2 (de) 2000-05-25
CN1321205A (zh) 2001-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5302278A (en) Cyanide-free plating solutions for monovalent metals
US3905878A (en) Electrolyte for and method of bright electroplating of tin-lead alloy
EP0150439B1 (en) An acid bath for electrodeposition of gold or gold alloys, an electroplating method and the use of said bath
US4384930A (en) Electroplating baths, additives therefor and methods for the electrodeposition of metals
DE69808497T2 (de) Cyanidfreie, monovalente kupferelektrobeschichtungslösung
US6165342A (en) Cyanide-free electroplating bath for the deposition of gold and gold alloys
US4687557A (en) Gold alloys and galvanic bath for the electrolytic deposit thereof
JP4675626B2 (ja) ブロンズ電析法及び電解質
JP2011520037A (ja) 改良された銅−錫電解液及び青銅層の析出方法
IE41858B1 (en) Improvements in or relating to the electrodeposition of nole metal alloys
PL194304B1 (pl) Roztwór wodny do elektrolitycznego strącania stopów cyna-cynk i zastosowanie tego roztworu
JP2013534276A (ja) 銅−錫合金層を沈着する電解質および方法
JP2013534276A5 (pl)
US4129482A (en) Electroplating iron group metal alloys
EP0397663B1 (en) Electrodeposition of tin-bismuth alloys
JPS609116B2 (ja) パラジウム及びパラジウム合金の電着方法
JP3920983B2 (ja) 銀又は銀合金酸性電気めっき浴
US4366036A (en) Additive and alkaline zinc electroplating bath and process using same
JPH09170094A (ja) 錫−銀合金酸性めっき浴
EP0384679A1 (en) Electrolytic deposition of gold-containing alloys
AU632464B2 (en) A method, bath and cell for the electrodeposition of tin-bismuth alloys
SU1048001A1 (ru) Электролит дл осаждени блест щих покрытий сплавом и на основе серебра
JPS59211587A (ja) めっき浴組成物

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 20091112