PL357706A1 - Sposób wytwarzania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal - Google Patents
Sposób wytwarzania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego galInfo
- Publication number
- PL357706A1 PL357706A1 PL02357706A PL35770602A PL357706A1 PL 357706 A1 PL357706 A1 PL 357706A1 PL 02357706 A PL02357706 A PL 02357706A PL 35770602 A PL35770602 A PL 35770602A PL 357706 A1 PL357706 A1 PL 357706A1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- sub
- gallium
- voluminal
- mono
- production
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B7/00—Single-crystal growth from solutions using solvents which are liquid at normal temperature, e.g. aqueous solutions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Przedmiotem wynalazku jest sposób otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal w środowisku nadkrytycznego rozpuszczalnika amoniakalnego z dodatkiem mineralizatora, polegający na tym, że w autoklawie w środowisku nadkrytycznego rozpuszczalnika amoniakalnego, zawierającego co najmniej jony metalu alkalicznego (I grupa IUPAC 1989) i jony metalu ziem alkalicznych (II grupa IUPAC 1989), rozpuszcza się materiał źródłowy zwierający gal i prowadzi się krystalizację azotku zawierającego gal , mającego korzystnie wzór ogólny Al<sub>x</sub>Ga<sub>1-x</sub>N, gdzie 0<$E<<=>x<$E<<>1, z nadkrytycznego roztworu na powierzchni zarodka w temperaturze wyższej i/lub ciśnieniu niższym niż dla rozpuszczania materiału źródłowego . Stosunek molowy metalu ziem alkalicznych do wprowadzanego wraz z nim metalu alkalicznego wynosi od 1:500 do 1:5, korzystniej od 1:100 do 1:20.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL357706A PL221055B1 (pl) | 2002-12-11 | 2002-12-11 | Sposób wytwarzania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal |
| AU2003285766A AU2003285766A1 (en) | 2002-12-11 | 2003-12-11 | Process for obtaining bulk-crystalline gallium-containing nitride |
| JP2004558480A JP2006509707A (ja) | 2002-12-11 | 2003-12-11 | ガリウム含有窒化物のバルク単結晶を得るための改良されたプロセス |
| PL379548A PL225430B1 (pl) | 2002-12-11 | 2003-12-11 | Mineralizator do zastosowania w sposobie otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal w nadkrytycznym rozpuszczalniku amoniakalnym |
| PCT/JP2003/015903 WO2004053208A1 (en) | 2002-12-11 | 2003-12-11 | Process for obtaining bulk-crystalline gallium-containing nitride |
| US10/538,349 US7314517B2 (en) | 2002-12-11 | 2003-12-11 | Process for obtaining bulk mono-crystalline gallium-containing nitride |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL357706A PL221055B1 (pl) | 2002-12-11 | 2002-12-11 | Sposób wytwarzania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL357706A1 true PL357706A1 (pl) | 2004-06-14 |
| PL221055B1 PL221055B1 (pl) | 2016-02-29 |
Family
ID=32733406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL357706A PL221055B1 (pl) | 2002-12-11 | 2002-12-11 | Sposób wytwarzania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL221055B1 (pl) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014191126A1 (en) | 2013-05-30 | 2014-12-04 | Ammono S.A. | Method for obtaining monocrystalline gallium-containing nitride and monocrystalline gallium-containing nitride obtained by this method |
| WO2016038099A1 (en) | 2014-09-11 | 2016-03-17 | Ammono S.A. W Upadlosci Likwidacyjnej | A method for producing monocrystalline gallium containing nitride and monocrystalline gallium containing nitride, prepared with this method |
-
2002
- 2002-12-11 PL PL357706A patent/PL221055B1/pl unknown
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014191126A1 (en) | 2013-05-30 | 2014-12-04 | Ammono S.A. | Method for obtaining monocrystalline gallium-containing nitride and monocrystalline gallium-containing nitride obtained by this method |
| WO2016038099A1 (en) | 2014-09-11 | 2016-03-17 | Ammono S.A. W Upadlosci Likwidacyjnej | A method for producing monocrystalline gallium containing nitride and monocrystalline gallium containing nitride, prepared with this method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL221055B1 (pl) | 2016-02-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Fukuda et al. | Prospects for the ammonothermal growth of large GaN crystal | |
| Wang et al. | Ammonothermal growth of GaN crystals in alkaline solutions | |
| TW393786B (en) | Method for manufacturing an epitaxial chip | |
| US7252712B2 (en) | Process and apparatus for obtaining bulk monocrystalline gallium-containing nitride | |
| US7098487B2 (en) | Gallium nitride crystal and method of making same | |
| PL371405A1 (pl) | Sposób wytwarzania objętościowych monokryształów metodą wzrostu na zarodku | |
| TW200306945A (en) | Bulk single crystal production facility employing supercritical ammonia | |
| EP1538241A3 (en) | Group III nitride crystal, method of its manufacturing, and equipment for manufacturing group III nitride crystal | |
| FR2826016B1 (fr) | Compose a base d'un alcalino-terreux, de soufre et d'aluminium, de gallium ou d'indium, son procede de preparation et son utilisation comme luminophore | |
| Le et al. | Systematic studies of the epitaxial growth of single-crystal ZnO nanorods on GaN using hydrothermal synthesis | |
| US20070215887A1 (en) | Gallium nitride crystal and method of making same | |
| HUP0401882A1 (hu) | Nitrid-egykristálytömb | |
| EP1215311A3 (en) | Manufacturing method of silicon carbide single crystals | |
| CN107587190A (zh) | 一种制备GaN衬底材料的方法 | |
| EP0966047A3 (en) | GaN single crystal substrate and method of producing same | |
| PL375580A1 (pl) | Monokrystaliczne podłoże luminoforowe, sposób jego wytwarzania oraz azotkowe urządzenie półprzewodnikowe wykorzystujące to podłoże | |
| CN101378104A (zh) | 半导体异质衬底及其生长方法 | |
| PL357697A1 (pl) | Sposób otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal | |
| Hashimoto et al. | Growth of gallium nitride via fluid transport in supercritical ammonia | |
| PL357706A1 (pl) | Sposób wytwarzania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal | |
| Uedono et al. | Vacancy-type defects in bulk GaN grown by the Na-flux method probed using positron annihilation | |
| BRPI0407194A (pt) | processo para controlar a inversão de um fluido de perfuração e processo para controlar a umectabilidade de uma crosta de lodo | |
| JP2003206198A (ja) | Iii族窒化物結晶成長方法およびiii族窒化物結晶成長装置 | |
| JP2007290921A (ja) | 窒化物単結晶の製造方法、窒化物単結晶、およびデバイス | |
| PL357695A1 (pl) | Sposób otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal |