PL357695A1 - Sposób otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal - Google Patents

Sposób otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal

Info

Publication number
PL357695A1
PL357695A1 PL02357695A PL35769502A PL357695A1 PL 357695 A1 PL357695 A1 PL 357695A1 PL 02357695 A PL02357695 A PL 02357695A PL 35769502 A PL35769502 A PL 35769502A PL 357695 A1 PL357695 A1 PL 357695A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
gallium
sub
obtaining
sodium
voluminal
Prior art date
Application number
PL02357695A
Other languages
English (en)
Other versions
PL232211B1 (pl
Inventor
Robert Dwiliński
Roman Doradziński
Jerzy Garczyński
Leszek P. Sierzputowski
Yasuo Kanbara
Original Assignee
Ammono Sp.Z O.O.
Nichia Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ammono Sp.Z O.O., Nichia Corporation filed Critical Ammono Sp.Z O.O.
Priority to PL357695A priority Critical patent/PL232211B1/pl
Priority to AU2003285766A priority patent/AU2003285766A1/en
Priority to JP2004558480A priority patent/JP2006509707A/ja
Priority to PL379548A priority patent/PL225430B1/pl
Priority to PCT/JP2003/015903 priority patent/WO2004053208A1/en
Priority to US10/538,349 priority patent/US7314517B2/en
Publication of PL357695A1 publication Critical patent/PL357695A1/pl
Publication of PL232211B1 publication Critical patent/PL232211B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B7/00Single-crystal growth from solutions using solvents which are liquid at normal temperature, e.g. aqueous solutions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

W jednym z rozwiązań przedmiotem wynalazku jest sposób otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal w środowisku nadkrytycznego rozpuszczalnika amoniakalnego z dodatkiem mineralizatora, polegający na tym, że w autoklawie wytwarza się nadkrytyczny rozpuszczalnik amoniakalny, zawierający co najmniej dwa rodzaje jonów metali alkalicznych (I grupa IUPAC 1989), korzystnie jony sodu i innego metalu alkalicznego, rozpuszcza się w tym rozpuszczalniku materiał źródłowy zawierający gal i prowadzi się krystalizację azotku zawierającego gal z nadkrytycznego roztworu na powierzchni zarodka w temperaturze wyższej i/lub ciśnieniu niższym niż dla rozpuszczania materiału źródłowego. Korzystnie jako mineralizator stosuje się sód w połączeniu z innymi metalami alkalicznymi, w stosunku molowym jonów sodu do innego metalu od 1:10 do 10:1. Sposobem według wynalazku otrzymuje się korzystnie azotek zawierający gal o wzorze ogólnym Al<sub>x</sub>Ga<sub>1-x</sub>N, gdzie 0<$E<<=>x<$E<<=>1.
PL357695A 2002-12-11 2002-12-11 Sposób otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal w środowisku nadkrytycznego rozpuszczalnika amoniakalnego PL232211B1 (pl)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL357695A PL232211B1 (pl) 2002-12-11 2002-12-11 Sposób otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal w środowisku nadkrytycznego rozpuszczalnika amoniakalnego
AU2003285766A AU2003285766A1 (en) 2002-12-11 2003-12-11 Process for obtaining bulk-crystalline gallium-containing nitride
JP2004558480A JP2006509707A (ja) 2002-12-11 2003-12-11 ガリウム含有窒化物のバルク単結晶を得るための改良されたプロセス
PL379548A PL225430B1 (pl) 2002-12-11 2003-12-11 Mineralizator do zastosowania w sposobie otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal w nadkrytycznym rozpuszczalniku amoniakalnym
PCT/JP2003/015903 WO2004053208A1 (en) 2002-12-11 2003-12-11 Process for obtaining bulk-crystalline gallium-containing nitride
US10/538,349 US7314517B2 (en) 2002-12-11 2003-12-11 Process for obtaining bulk mono-crystalline gallium-containing nitride

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL357695A PL232211B1 (pl) 2002-12-11 2002-12-11 Sposób otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal w środowisku nadkrytycznego rozpuszczalnika amoniakalnego

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL357695A1 true PL357695A1 (pl) 2004-06-14
PL232211B1 PL232211B1 (pl) 2019-05-31

Family

ID=32733395

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL357695A PL232211B1 (pl) 2002-12-11 2002-12-11 Sposób otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal w środowisku nadkrytycznego rozpuszczalnika amoniakalnego

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL232211B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL232211B1 (pl) 2019-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Wang et al. Ammonothermal growth of GaN crystals in alkaline solutions
Morishita et al. Promoted nitrogen dissolution due to the addition of Li or Ca to Ga-Na melt; some effects of additives on the growth of GaN single crystals using the sodium flux method
Wang et al. Ammonothermal synthesis of III-nitride crystals
Purdy Ammonothermal synthesis of cubic gallium nitride
FR2826016B1 (fr) Compose a base d&#39;un alcalino-terreux, de soufre et d&#39;aluminium, de gallium ou d&#39;indium, son procede de preparation et son utilisation comme luminophore
Fukuda et al. Prospects for the ammonothermal growth of large GaN crystal
JP2002293696A (ja) GaN単結晶の製造方法
EP1111663A3 (en) GaN-based compound semiconductor device and method of producing the same
WO2003083187A8 (en) High pressure high temperature growth of crystalline group iii metal nitrides
PL371405A1 (pl) Sposób wytwarzania objętościowych monokryształów metodą wzrostu na zarodku
TW200515488A (en) Group III nitride crystal, method of its manufacture, and equipment for manufacturing group III nitride crystal
HUP0401882A1 (hu) Nitrid-egykristálytömb
MXPA01002392A (es) Metodos y composiciones acidificadas para reducir la corrosion en las superficies de metal y la precipitacion del sulfuro.
TW200741044A (en) Semiconductor substrate, electronic device, optical device, and production methods therefor
Hashimoto et al. Growth of gallium nitride via fluid transport in supercritical ammonia
PL357697A1 (pl) Sposób otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal
WO2007075886A3 (en) Non-spherical semiconductor nanocrystals and methods of making them
EP1666645A4 (en) SILICON CARBIDE PRODUCT, PRODUCTION METHOD AND METHOD FOR CLEANING A SILICON CARBIDE PRODUCT
BRPI0407194A (pt) processo para controlar a inversão de um fluido de perfuração e processo para controlar a umectabilidade de uma crosta de lodo
DK0607426T3 (da) Fremgangsmåde til fremstilling af højviskose jordolieprodukter og viderepumpning af disse
PL357695A1 (pl) Sposób otrzymywania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal
JP2007290921A (ja) 窒化物単結晶の製造方法、窒化物単結晶、およびデバイス
PL357706A1 (pl) Sposób wytwarzania objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal
PL357696A1 (pl) Sposób wytwarzania podłoża standaryzowanego warstwą epitaksjalną ( podłoża typu template), z objętościowego monokrystalicznego azotku zawierającego gal, o powierzchni pod epitaksję o wysokiej jakościstrukturalnej
DE10313315A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines III-V-Verbundhalbleiters