SE443792B - Sett att kondensera en hydrolyserbar silan samt silankomposition innehallande en oniumkatalysator for anvendning dervid - Google Patents
Sett att kondensera en hydrolyserbar silan samt silankomposition innehallande en oniumkatalysator for anvendning dervidInfo
- Publication number
- SE443792B SE443792B SE7801068A SE7801068A SE443792B SE 443792 B SE443792 B SE 443792B SE 7801068 A SE7801068 A SE 7801068A SE 7801068 A SE7801068 A SE 7801068A SE 443792 B SE443792 B SE 443792B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- formula
- less
- silane
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 53
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 29
- -1 tetrafluoroborate Chemical compound 0.000 claims description 53
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 41
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 23
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 15
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 13
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 13
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 5
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical group [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 4
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011574 phosphorus Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 claims description 4
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 2
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 claims 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 24
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 21
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 20
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 6
- RSJLWBUYLGJOBD-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 RSJLWBUYLGJOBD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 5
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 239000006120 scratch resistant coating Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 3
- ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfanium;chloride Chemical group [Cl-].C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- WQIRVUAXANLUPO-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;iodide Chemical group [I-].C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 WQIRVUAXANLUPO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARUIMKUOHIINGI-UHFFFAOYSA-N trifluoro(methylsulfonyl)methane Chemical compound CS(=O)(=O)C(F)(F)F ARUIMKUOHIINGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical group CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- WTXHGAFWRPOUJI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxyethyl)oxirane Chemical compound CCCOCCC1CO1 WTXHGAFWRPOUJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SURWYRGVICLUBJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=C(OC)C3=CC(CC)=CC=C3C(OC)=C21 SURWYRGVICLUBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001541 3-thienyl group Chemical group S1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001875 Ebonite Polymers 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229920004142 LEXAN™ Polymers 0.000 description 1
- 239000004418 Lexan Substances 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIYNIOYNNFXGFN-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol;7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylic acid Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1.C1C(C(=O)O)CCC2OC21.C1C(C(=O)O)CCC2OC21 NIYNIOYNNFXGFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229920005565 cyclic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFCHYERDRQUCGJ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[SiH](OC)CCCOCC1CO1 NFCHYERDRQUCGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 125000000532 dioxanyl group Chemical group 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical class NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000003701 inert diluent Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- RLJWTAURUFQFJP-UHFFFAOYSA-N propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O RLJWTAURUFQFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006100 radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005958 tetrahydrothienyl group Chemical group 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N tetraisopropyl titanate Substances CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZTZKHGFJXUQOA-UHFFFAOYSA-N tetrakis(4-chlorophenyl)phosphanium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1[P+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)(C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=C(Cl)C=C1 NZTZKHGFJXUQOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBOFWVRRMVGXIG-UHFFFAOYSA-N trifluoro(trifluoromethylsulfonylmethylsulfonyl)methane Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)CS(=O)(=O)C(F)(F)F QBOFWVRRMVGXIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMJFYMAHEGJHFH-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VMJFYMAHEGJHFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
- C08G77/08—Preparatory processes characterised by the catalysts used
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
7801068-5 , 2 Uttrycket hydrokarbyl avser i detta sammanhang grupper, som erhålles då väte avlägsnas från ett kolvätes kolatomer, varvid innefattas sådana kolväten, som innehåller en eller flera hetero- atomer, som utgöres av syre, svavel och/eller kväve. Typiska hydrokarbylgrupper är aromatiska grupper, som innehåller 1 till 10 kolatomer (t ex fenyl, naftyl och bensotienyl) och alifatiska grupper, som innehåller l till 18 kolatomer. De alifatiska grupperna kan vara linjära, grenade eller cykliska (t ex metyl, etyl, isopro- pyl, propyl, cyklohexyl, oktyl, dodecyl, oktadecyl, etoxietyl, etoxietoxietyl, tioetoxietyl, tetrahydrofuryl, tetrahydrotienyl, dioxanyl, etc). Hydrokarbylgruppen kan vara substituerad med en icke basisk funktionell eller icke-funktfanell grupp, såsom halo- gen, alkoxi, epoxi, fenoxi, cyano, vinyl, allyl, akryloxi, meta- kryloxi och liknande. R kan exempelvis vara CH2=CR'-COO(CH2)n (vari R betecknar H eller CH3 och n betecknar O eller l-8).
Typiska klasser av polymeriserbara silaner är de hydrolyser- bara silaner, som faller inom den allmänna formeln,såsom silaner, silanoler, siloxaner, alkoxisilaner, aryloxisilaner, acyloxisilaner, haloalkylsilaner, haloarylsilaner, etc. Det är allmänt känt inom silankondensationsområdet att nästan vilken som helst funktionell grupp kan införas i sidokedjan i en alkyl- eller arylsubstituerad silan utan att silanens funktionalitet under kondensationen på- verkas, varför en detaljerad beskrivning av fungerande substituenter är onödig. u_ Specifika föreningar, som faller inom den vida klassen av polymeriserbara silaner är exempelvis 3 7801068-5 (CH3)3SiOCH3 CH3Si(OCH3)3 CH3Si(OC6Hl3)3 (CH3)2Si(OC2H5)CH=CH2 OC(CH3)2 (CH3)2Si OC(CH3)2 CH3Si(C6H5)(OC2H5)2 H3C(CH Si(OCH 2)3 3)3 H c=c(cH3)coo(cH2)3sicH3(oc2H5)¿ 2 H3C-CH2-O-CH2-CH2-SiCH3(OC2H Si(OCH )2 3)4 (cH2=cH-cH2)2si(ocH3)2 Det är också känt att polymerer med minst en nedhängande eller terminal polymeriserbar silangrupp kan härdas enligt olika metoder. Exempel på härdbara silyl-substituerade polymerer av denna typ är de polymeriserbara silanterminerade polyuretaner, som beskrives i US PS 3 632 557 (särskilt spalt 5, rad 57 till spalt 6, rad 6) och friradikalpolymeriserade polymerer av olefi- niskt omättade silaner och deras sampolymerer med andra sampoly- meriserbara olefiniskt omättade monomerer såsom beskrives i US PS 3 449 293; 3 453 230; 3 542 585 och 3 706 697.
Olika metoder är kända för reglering av kondensations- eller hydrolysreaktionen. Många olika katalysatorsystem för kondensation av silaner är också kända. Var och en av de olika metoderna och katalysatorerna ger sitt eget speciella bidrag till reaktionsför- utsättningarna och produktens egenskaper. Sålunda gynnar exempel- vis starka syror bildning av lågmolekylära cykliska polymerenheter, silanoler stabiliseras i nästan neutrala lösningar och kondenseras företrädesvis till siloxaner i närvaro av starka baser, Lewis-syra- katalysatorer av metallsalter, såsom tenn(II)klorid kräver värme och hydrolyserbara metallestrar härdar vid rumstemperatur. Kombina- tioner av katalysatorerna och reaktionsbetingelserna kan utnyttjas för att reglera dessa variabler till den mest önskade balansen för en speciell avsedd användning. 7801068-3 _ 4 1 föreliggande uppfinning inbogripes ett nytt katalysator- system för hydrolyserbara silaner, vilket system katalyserar sila- nernas kondensationsreaktion. Dessa katalysatorer är lagrings- stabila då de vattenfritt blandas med silanen och aktiveras genom infallande strålning i närvaro av katalytiska mängder fukt (luft- fuktighet är t ex tillräcklig). Katalysatorerna är snabbverkande katalysatorer och ger polymerer med utmärkta egenskaper.
Närmare bestämt avser uppfinningen lagringsstabila vattenfria kompositioner av en hydrolyserbar silan och en oniumkatalysator och ett förfarande för kondensation av hydrolyserbara silaner i närvaro av oniumkatalysatorer.
En oniumkatalysator, som kan användas vid utövandet av upp- finningen, är en aromatisk (vilket inbegriper diaromatisk, triaro- matisk och tetraaromatisk likaväl som monoaromatisk) organisk addukt med formeln I vari R2 betecknar en fenylgrupp, en naftylgrupp, en tienyl- grupp, en pyranylgrupp, en furanylgrupp eller en pyrazolyl- 9fUPPf Rl betecknar alkyl eller alkenyl, A betecknar kväve, fosfor, svavel eller jod, Y betecknar en anjon, n betecknar ett positivt heltal av minst 2 upp till valensen för A plus l, a betecknar O eller ett positivt heltal upp till valensen för A minus l och n+a är lika med valensen för A plus l. - Då dessa oniumkata- lysatorer beskrives kommer för enkelhetens skull atomen som be- tecknas med A, som ger huvudnomenklaturen för addukten (t ex fos- for i fosfonium, svavel i sulfonium, jod i jodonium etc) att kallas den nominativa atomen. - Då den nominativa atomen utgöres av halo- gen mäste föreningen vara åtminstone diaromatisk. Uttrycket aroma- tisk avser i beskrivningen av grupperna på katalysatorerna fenyl, naftyl, tienyl, pyranyl, furanyl och pyrazolyl.
Dessa oniummaterial är redan kända. Sålunda visar de belgiska patentskrifterna 833 472; 828 668; 828 669 och 828 670 användning av vissa oniumföreningar såsom katjoniska polymerisationskataly- satorer för vissa monomerer, såsom cykliska organokiselföreningar, vinylhartser, cykliska etrar, cykliska estrar, cykliska sulfider, 7801068-3 LI! epoxihartser, fenoliska hartser, polyaminer, laktoner, styren, urea/formaldehyd- och melamin/formaldehydhartser. Den enda värdefullauppgifteni.dessapatentskrifter vad beträffar kiselhal- tiga polymerer synes ges i den belgiska patentskriften 828 670, där cykliska organiska kiselföreningar polymeriseras genom en ringöppnande katalytisk inverkan, som i mycket påminner om det sätt, på vilket epoxihartser polymeriseras. Ingen katalys för silankonden- sation såsom den beskrives i föreliggande uppfinning visas. Andra organogrupper bundna till den nominativa atomen i grupp Va eller VIa kan utgöras av samma aromatiska grupp eller en substituerad eller osubstituerad alkyl- eller cykloalkylgrupp. De organiska grupperna kan också vara direkt bundna till varandra via en bindning, en metylengrupp, en -CO-grupp, en S02-grupp, ett syre, ett svavel eller liknande. En-eller flera av organogrupperna kan dela två atomer i ett kondenserat ringsystem.
Särskilda klasser av hydrolyserbara silaner, som kan användas i kompositionerna enligt uppfinningen, är sådana med den allmänna formeln: Rm_4SiXm, R2[O-CO-NH-R3-NH-CO-Y-R5-Si(OR6)3]p Och 14 #1 i- CH2 _ CHZ _ C82 rsi+oR6>3 s t vari R, X, och m har angivna betydelser och O-'JU R2 betecknar en flervärd grupp, som är en återstod, som härrör från avlägsnandet av p-hydroxylgrupper från en polyhydroxiförening med en molekylvikt från 200 till 6000, p är ett heltal från 1 till 6.
R3 betecknar en tvâvärd alkylengrupp med l till 18 kolatomer eller en tvåvärd aromatisk grupp med 6 till 18 kolatomer och utgör alkyl- delen eller den aromatiska delen av diisocyanatförening vid avlägs- nandet av isocyanatgrupperna. R3 kan exempelvis vara alifatisk, cykloalifatisk, aralifatisk eller aromatisk. Y betecknar en två- värd brygga, som utgöres av -0-, -S-, eller -NR4- vari R4 betecknar väte eller lågalkyl med l till 6 kolatomer. R5 betecknar en två- värd kolvätegrupp eller en tvåvärd kolväteetergrupp med 1 till 18 7801068-3 kolatomer och R6 betecknar lågalkyl med l till 6 kolatomer eller fenyl, vari RI4 betecknar väte eller metyl, Q betecknar alkylen med upp till 4 kolatomer och A betecknar väte, metyl, klor, alkoxikarbonyl med 2 till 18 kolatomer, fenyl och/eller nitril och minst en A-grupp betecknar väte, metyl eller klor. s har värdet minst l och summan av s och t uppgår till cirka 2 till 40, och r betecknar 0 eller l.
De föredragna hydrolyserbara kiselhaltiga föreningarna ut- göres av epoxiterminerade silaner med den allmänna formeln: o o / s . 7 8 . 7 Hzcšbnæn a-q-snoR )3 och En æä-snoa 03 vari R8 betecknar en icke-hydrolyserbar tvåvärd kolvätegrupp (ali- fatisk, aromatisk, eller alifatisk och aromatisk) innehållande mindre än 20 kolatomer, eller en tvåvärd grupp med mindre än 20 kol- atomer sammansatt av C-, H-, N-, S- och 0-atomer (dessa atomer är de enda atomer, som kan förekomma i en tvåvärd grupps skelett) var- vid åtminstone de sista föreligger i form av eterbindningar. Två heteroatomer kan ej befinna sig intill varandra i den tvåvärda kol- vätegruppens skelett. Denna beskrivningen definierar tvåvärda kol- vätegrupper för hydrolyserbara epoxiterminerade silaner för genom- förandet av föreliggande uppfinning. Värdet på q är 0 eller l och R7 är en alifatisk kolvätegrupp med mindre än 10 kolatomer, en acylgrupp med mindre än 10 kolatomer eller en grupp med formeln (CH2CH2O)kZ, vari k betecknar ett heltal på minst l, och Z beteck- nar en alifatisk kolvätegrupp med minst 10 kolatomer eller väte.
Lämpliga hydrolyserbara epoxiterminerade silaner för använd- ning i kompositioner_enligt uppfinningen är en silan av angiven formeln, vari R8 betecknar en godtycklig tvâvärd kolvätegrupp, så- som metylen, etylen, dekalen, fenylen, cyklohexylen, cyklopentylen, metylcyklohexylen, 2-etylbutylen och allen, eller en etergrupp, 2 2 2 72*, (CHÉ-CH20)2-CH2-CH2-, 1 ' O-CH -CH2- och -CH20-(CH2)3-, R kan utgoras av en godtycklig alifatisk kolvätegrupp med mindre än 10 kolatomer, såsom metyl, etyl, isopro- pyl, butyl, vinyl, alkyl eller en godtycklig acylgrupp med mindre än 10 kolatomer, såsom formyl, acetyl, propionyl, eller en god- tycklig grupp med formeln (CH2CH2O)kZ , vari k betecknar ett helt tal på minst l, t ex 2, 5 eller 8, och Z betecknar väte eller en såsom -CH CH -0-CH -CH 2 v 7801068-3 betecknar väte eller en alifatisk kolvätegrupp med mindre än lO kolatomer, såsom metyl, etyl, isopropyl, butyl, vinyl och allyl.
Därtill kan material, som kan sampolymeriseras med silaner (eller i fallet med epoxiterminerade silaner, med epoxigrupper) tillsättas till de reaktionsbenägna kompositionerna. Konventionella tillsatser, såsom fyllmedel, färgämnen, flytningsreglerande medel, förtjockningsmedel, strålningsabsorptionsmedel (t ex UV-absorbe- rande medel för ökning av katalysatorernas strålningskänslighet), sådana tillsatsmedel som man vet är önskvärda i silan- eller siloxankompositioner kan användas inom ramen för föreliggande upp- finning. De lämpligaste epoxiterminerade silanerna är de, som kan återges med formlen: -cH+R9)u-o-Rl° 2/ x) CH -Si(OR')3 vari R9 och Rlø oberoende av varandra betecknar alkylengrupper med upp till 4 kolatomer, R' betecknar en alkylgrupp med upp till 6 kolatomer och u betecknar O eller l.
Närvaro av katalytiska mängder fukt har visat sig nödvändig för att initiera kondensationen av silaner enligt uppfinningen.
Luftfuktighet är vanligen tillräcklig men vatten kan tillsättas till systemet om så önskas eller om polymerisationen måste genom- föras i frånvaro av luft på grund av någon speciell;användning.
Exempel på lämpliga oniumsalter är men begränsas ej till: A. Oniumsalter med en katjon ur grupp Va i periodiska systemet. 4-acetofenyltrifenylammoniumklorid Difenylmetylammoniumtetrafluoroborat Tetra(4-klorofenyl)fosfoniumjodid Tetrafenylfosfoniumjodid Tetrafenylfosfoniumhexafluorofosfat (4-bromofenyl)trifenylfosfoniumhexafluorofosfat Di-(1-naftyl)dimetylammoniumtetrafluoroborat Tri-(3-tienyl)metylammoniumtetrafluoroborat Difenacyldimetylammoniumhexafluorofosfat Exempel på dessa föreningar och andra oniumsalter och fram- ställningen därav beskrives i den belgiska patentskriften 828 668. nwz-Iwnxnsu-:fí J 7801068-3 8 B. Oniumsalter med en katjon ur grupp VIa i periodiska systemet.
Trifenylsulfoniumhexafluoroantimonat 4-klorofenyldifenylsulfoniumtetrafluoroborat Trifenylsulfoniumjodid 4-cyanofenyldifenylsulfoniumjodid Trifenylsulfoniumsulfat 2-nitrofenylfenylmetylsulfoniumsulfat Trifenvlsulfoniumacetat Trifenylsulfoniumtrikloroacetat Exempel på dessa och andra oniumsalter med en katjon från grupp VIa i periodiska systemet och framställning av dessa före- ningar ges i de belgiska patentskrifterna 828 670 och 833 472.
C. Öniumsalter med en katjon ur grupp VIIa i periodiska systemet.
Difenyljodoniumjodid 4-klorofenylfenyljodoniumjodid Difenyljodoniumklorid 4-trifluorometylfenylfenyljodoniumtetrafluoroborat Difenyljodoniumsulfat Di(4-metoxifenyl)jodoniumklorid Difenyljodoniumtrikloroacetat 4-metylfenylfenyljodoniumtetrafluoroborat l-(2-karboetoxinaftyl)fenyljodoniumklorid 2,2'-difenyljodoniumhexafluorofosfat Exempel på dessa föreningar och andra haloniumsalter och fram- ställningen av dessa föreningar beskrives i de belgiska patent- skrifterna 828 669 och 845 746.
Den mängd latent fotokatalytiskt oniumsalt, som användes i fotopolymeriserbara kompositioner enligt uppfinningen,är ej kritiskt utan kan uppgå cirka 0,0l till cirka 10 vikt% av den polymeriser- bara silanen och företrädesvis uppgår mängden till 0,5 till 5 vikt% av den totala vikten kondenserbar silankompostion. Användningen av större mängder oniumsalter ger vanligen ej ökad polymerisation och användningen av mindre mängder har en tendens att sänka omfatt- ningen av polymerisationen.
Kompositionerna enligt uppfinningen framställes genom att man blandar oniumsaltet med den hydrolyserbara kiselhaltiga före- 7801068-3 ningen tills en lösning bildats. Eftersom många oniumsalter har begränsad löslighet i den kiselhaltiga föreningen är det ofta lämpligt att först lösa oniumsaltet i ett flytande spädningsmedel, _som är inert för kompositionens komponenter och sedan blanda denna lösning i den kiselhaltiga föreningen. Lämpliga inerta spädnings- medel är alkoholer, såsom etanol, estrar, såsom etylacetat, etrar, såsom dietylester, halogenkolväten, såsom dikloretan och nitriler, såsom acetonitril. På grund av lagringsstabiliteten måste dessa lösningsmedel och lösningar vara vattenfria.
Kompositionen enligt uppfinningen kan användas för framställ- ning av beläggningar för olika underlag, men oljor, tillslutande material, tätningsmaterial och gummin kan också framställas av kompositionen enligt uppfinningen och de är särskilt användbara, där sådana material måste framställas in situ genom bestrålning.
Kompositionen enligt uppfinningen kan anbringas på underlag genom sprutning, borstning, doppning, rullmålning, sköljlackering eller någon av de metoder, som användes vid kommersiella beläggnings- förfaranden. I Kompositionerna enligt uppfinningen kan innehålla vissa till- satser för att ändra den polymeriserade eller härdade produktens egenskaper. Sålunda kan man tillsätta färgämnen, pigment, mjuk- ningsmedel, fyllmedel och liknande så länge som dessa material ej förhindrar att kompositionen är tillräckligt genomtränglig för strålning, som aktiverar det fotokatalytiska oniumsaltet.
Fotopolymerisation och härdning av kompositionerna enligt uppfinningen sker då kompositionen exponeras för en strålnings- källa, som utsänder aktinisk strålning vid våglängder inom spek- trums ultravioletta och synliga område, där fotckatalysatorn har absorptionstoppar. Lämpliga strålningskällor är kvicksilverlampor, xenonlampor, lampor med kolljus och lampornæd wdïramtråd, solljus, etc. Exponeringen kan ske under mindre än l s upp till 10 min eller mera beroende på mängderna av det speciella hydrolyserbara silan- materialet och det fotokatalytiska oniumsaltet, som användes, och på strålningskällan, avståndet från källan och tjockleken hos det material, som skall polymeriseras. Kompositionen kan också polyme- riseras genom att den utsättes för bestrålning med elektronstrâlar.
Doserfrånndndreänl.megarad till 10 megarad eller mera är vanligen nödvändiga för att man skall få polymerisation eller härdning. Med bestrâlning med elektronstrålar kan mycket fyllmedelshaltiga kom- positioner effektivt härdas med större hastighet än vad som är 7801068-3 möjligt med aktinisk strålning.
Polymerisationen eller härdningen av kompositionen är en kedjereaktion, dvs då en gång nedbrytning av det fotokatalytiska oniumsaltet initieratsgenom exponering för strålning fortgår poly- merisationen eller härdningen och kommer att fortsätta också efter avslutad bestrålnigg. Användning av värmeenergi under eller efter exponeringen för strålningen accelererar polymerisationen eller härdningen i hög grad.
De föredragna latenta fotokatalytiska oniumsalterna, som an-' vändes med de föredragna hydrolyserbara epoxiterminerade silanerna, är av två typer, nämligen aromatiska jodonium- och aromatiska sulfoniumsalter av halogeninnehållande komplexa anjoner och hög- fluorerade alifatiska sulfon- och sulfonylprotonsyror.
De aromatiska jodoniumsalterna har formlerna: 2 Ar Ar -J vari Arl och Arz är aromatiska grupper med 4 till 20 kolatomer och de utgöres av fenyl, naftyl, tienyl, furanyl och/eller pyra- zolylgrupper; W utgöres av Ö, š, š=O, è=O, 0=š=O och/eller Rll-D, vari Rll betecknar aryl med Å till'2O kolatomer eller acyl med ' 2 till 20 kolatomer (såsom fenyl, acyl, bensoyl, etc); en bindning kol-till-kol; eller Rlz-C-RI3, vari RI2 och Rl3 betecknar väte, alkylgrupper med l till 4 kolatomer eller alkenylgrupper med 2 till 4 kolatomer; och b betecknar O eller 1; och Q betecknar en halogen- innehållande komplex anjon, som utgöres av tetrafluoroborat, hexa- fluorofosfat, hexafluoroarsenat, hexakloroantimonat eller hexafluorc antimonat; en fluoroalifatisk sulfonsyra, en bis(fluoroalifatiska sulfonyl)metan; eller en bis(fluoroalñäüisk sulfonyl)imid. Fluoro- alifatiska sulfonsyror, -metaner och -imider och framställningen därav beskrives i«US PS 4 049 861. Föredragna föreningar ur denna grupp är sådana vari n=O. Vidare föredrages material med Arl och Ar; betecknande fenyl.
De aromatiska sulfoniumsalterna har formlerna: ' l. 7801068-3 11 Arl Arl (w) .
Ar s® QS och Ar2_____s® og | I Rl Rl vari Arl och Arz kan vara lika eller olika och utgöras av aroma- tiska grupper (såsom definierats ovan för aromatiska jodoniumsal-_ ter) och Rl, W och Q har samma betydelse som tidigare angivits.- 2 och Rl Föredragna föreningar inom denna klass är sådana, vari Ar betecknar fenyl.
Lämpliga exempel på föredragna aromatiska oniumsaltfotokata- lysatorer är: difenyljodoniumtetrafluoroborat difenyljodoniumhexafluorofosfat difenyljodoniumhexafluoroarsenat difenyljodoniumhexakloroantimonat difenyljodoniumhexafluoroantimonat difenyljodoniumbis(trifluorometylsulfonyl)metan Andra föredragna aromatiska oniumsaltfotokatalysatorer är motsvarande trifenylsulfoniumsalter. Andra föredragna salter upp- räknas i den belgiska patentskriften 845 746 och dessa innefattar trifenylsulfoniumhexafluorofosfat, tritolylsulfoniumhexafluoro- fosfat, metyldifenylsulfoniumtetrafluoroborat, etc.
De aromatiska jodoniumsaltfotokatalysatorer, som kan användas i de fotopolymeriserbara kompositionerna enligt uppfinningen, är i sig själva fotosensitiva endast inom UV-området. De kan emeller- tid sensibiliseras nära UV-området och spektrums synliga område med sensibiliserande medel, som är kända för fotolyserbara jodonium- föreningar enligt vad som framgår av US PS 3 729 3l3. Exempel på sådana sensibiliserande medel är aminotriarylmetanfärgämnen och färgade aromatiska polycykliska kolväten.
De aromatiska sulfoniumsaltfotokatalysatorerna är också van- ligen endast sensitiva i UV-området. Också dessa sensibiliseras nära UV-området och spektrumssynliga område genom aromatiska ter- tiera aminer och aromatiska polycykliska föreningar med minst tre- kondenserade bensenringar och med joniseringsenergi på minst 7,9 ev beräknat enligt F. A, Matsens metod (J. Chem. Physics gi, 602, (1956).
De föredragna kompositionerna enligt uppfinningen, vilka kom- nnnIu-aï-wa--v y-_-«-.-~._.__f-w 7801068-3 12 positioner innehåller hydrolyserbara epoxiterminerade silaner och och ett aromatiskt jodonium- eller sulfoniumsalt med en anjon av ett halogeninnehållande komplex, eller högfluorerade alifatiska sulfon- eller sulfonylprotonsyror såsom fotokatalysatorer kan också innehålla upp till 50 vikt% eller mera av en sammonomer, som kan polymeriseras katjoniskt, såsom styren, metylstyren, vinylamider och vinyletrar. De lämpligaste katjoniskt polymeriserade sammono- mererna är emellertid epoxiföreningar, såsom l,4-butandioldiglyci- _ dyleter, diglycidyletern av bisfenyl A, 3,4-epoxicyklohexylmetyl-. 3,4-epoxicyklohexankarboxylat och 1,4-bis(2,3-epoxipropoxi)butan.
I följande exempel, vilka är avsedda att belysa föreliggande uppfinning, avser alla delar viktdelar och alla procenttal avser viktprocent såvida ej annat angivits.
EXEMPEL l 100 delar dimetyldimetoxisilan försattes med l del difenyl- jodoniumklorid. Den vattenfria blandningen omrördes för upplösning av katalysatorn och därefter exponerades ett 5 mm tjock; skikt i närvaro av luftfuktighet för strålningrmuilampa med kvicksilverånga på ett avstånd av 17,5 cm. Efter ungefär l min hade blandningen polymeriserat till ett visköst material med en viskositet på cirka l 000 000 CP.
Liknande resultat erhölls då difenyljodoniumkloriden ersattes med difenyljodoniumjodid, difenyljodoniumhexafluorofosfat, trifenyl- sulfoniumklorid, trifenylsulfoniumhexafluoroantimonat och trifenyl- sulfoniumbis(trifluorometylsulfonyl)metan. _ De angivna försöken upprepades för varje katalysator med foto- katalysatormängder från 0,05 till 5 vikt% och liknande resultat erhölls. Prov på var och en av de opolymeriserade vattenfria kom- positionerna vid lagring i frånvaro av fukt och ljus förblev opoly- meriserade i minst 2 månader.
EXEMPEL 2 100 delar fenyltrietoxisilan försattes med 2,5 delar difenyl- jodoniumklorid och 0,25 delar 2-etyl-9,l0-dimetoxiantrancen. Kompo- sitionen lagrades i en tät tillsluten brun flaska. Efter minst 2 månader var kompositionen alltjämt flytande. Kompositionen an- bringades såsom beläggning på polyetylentereftalat och exponerades för en sollampa (275 W) på ett avstånd av 12,7 cm. vr ungefär 1 h erhölls en spröd film. Liknande resultat erhölls då difenyl- jodoniumjodid, difenyljodoniumhexafluorofosfat, trifenylsulfonium- klorid, trifenylsulfoniumhexafluoro-antimonat och trifenylsulfonium- 7801068-3 13 ;. bis(trifluorometylsulfonyl)metan användes i stället för difenyl- jodoniumklorid.
EXEMPEL 3 En trialkoxisilyl-terminerad polymer framställdes genom att man tillsammans bringade att reagera polyoxipropylenglykol (mole- kylvikt 3000), toluendiisocyanat och Y-amino-propyltrietoxisilan. 100 delar av denna polymer försattes med l del difenyljodoniumklorid och 0,2 delar av 2-etyl-9,l0-dimetoxiantrancen i 15 ml etylacetat.
Blandningen omrördes sedan till allt material var fullständigt 1 dispergerat. Blandningen pressades sedan in i ett rör, som kan tryckas ihop, och inneslöts däri. Efter 2 veckor pressades en tunn pärla av materialet ur röret och exponerades för en sollampa i ungefär 5 min, varvid det härdades till ett hårt gummimaterial.
Då försöket upprepades med trifenylsulfoniumbromid i stället för difenyljodoniumklorid kunde materialet pressas ur tuben t o m efter 3 månader och härdas genom exponering för en sollampa i ungefär 5 min.
EXEMPEL 4 Exempel 2 upprepades med vinyltrietoxisilan i stället för fenyltrietoxisilan; Efter 2 min exponering för en sollampa hade en koherent film bildats, vilken film kunde dras av från under- laget såsom en självbärande film. Då blandningen anbringats såsom beläggning på polyetylentereftalat grundat med polyvinylidenklorid erhölls en klibbigt_yidhäftande film som hade vattenfrånstötande egenskaper. b Då exemplet upprepades med di(4-tolyl)jodoniumhexafluorfosfat såsom katalysator härdade den täckande blandningen också på ungefär 2 min.
EXEMPEL 5 En oligomer med nedhängande trimetoxisilangrupper framställdes genom att man i ett oljebad vid 80°C uppvärmde blandning av 87,3 delar Y-metakryloxipropyltrimetoxisilan, 12,7 delar 3-merkapto- propandiol-l,2 och 0,500 delar azobisisobutyronitril. Blandningen utvecklades snabbt värme till 84,500 då den avlägsnades från olje- badet och fick svalna. En oligomer med nedhängande trimetoxisilan- grupper och viktmedelmolekylvikten cirka 900 erhölls.
En beläggningskomposition framställdes genom att man upplöste 100 g av den ovan beskrivna oligomeren i 100 g' torrt aceton och tillsatte 5,0 g difenyljodoniumhexafluorofosfat och 0,5 g 2-kloro- 7801068-3 14 tioxanton. Blandningen anbringades sedan i ett 5 Pm tjockt skikt på cellulosaacetatbutyrat och acetonet fick avdunsta. Beläggningen exponerades sedan i 5 min för en sollampa, varefter beläggningen uppvisade betydande beständighet mot skrapning med stålull.
EXEMPEL 6 En trimetoxisilanterminerad polyalkyleneter framställdes genom att man blandade l mol polyoxietylendiol med molekylvikten cirka 400 med 2 mol Y-isocyanatpropyltrimetoxisilan och omrörde blandningen under väsentligen vattenfria betingelser i ungefär 2 h vid cirka ÉOO 40 delar av produkten försattes med 360 delar aceton, l del difenyl- jodoniumhexafluorofosfat och 0,1 delar 2-etyl-9,l0-dimetoxiantrancen Blandningen omrördes tills den dispergerades och anbringades i ett cirka 5 um tjockt skikt på en glasplatta och exponerades för en sollampa i 5 min. Plattan sköldes med vatten och torkades. Då plat- 'tan utsattes för ångorna från ett ångbad bildades ingen slöja på den belagda ytan. T o m när plattan sköljts upprepades gånger med vatten blev beläggningens anti-slöjbildande egenskaper kvar.
EXEMPEL 7 1,5 g 3-(2,3-epoxipropoxi)propyltrimetoxisilan försattes med 0,05 g difenyljodoniumhexafluorofosfat och den erhållna lösningen angbringades på ett lämpligt underlag såsom 100 Pm grundad poly- ester. Beläggningen exponerades för UV-lampa i 4 min. Den erhållna beläggningen utsattes för nötning i enlighet med ASTM D968 och den erhållna nötningen mättes enligt ASTM Dl003. En procentuell ökning på 4 % (A-ljusdiffusion) erhölls. initial ljusdiffusion - slutlig ljusdiffusion X løo initial ljusdiffusion A H = Beläggningen hade också utmärkt beständighet mot nötning med ståluli. i Dessa värden är gynnsamma vid jämförelse med ljusdiffusions- värden för kommersiellt tillgängliga beläggningsmaterial. Poly- ester (polyetylentereftalat) har en ljusdiffusion på 78 %, akrylatf hartser 60 %, Lexan 77 % och ABCITE AR 22 %. Nötningsbeständiga 'beläggningar enligt US PS 4 049 861 av samma monomer, som använts i detta exempel, uppvisar också ljusdiffusionsvärden under 10 %.
Den utomordentliga nötningshållfastheten, som erhålles enligt uppfinningen är överraskande mot bakgrund av den allmänna svårig- heten att finna tillfredsställande katalysatorer för härdning av epoxiterminerade silaner och härdningssnabbheten med katalysatorer enligt föreliggande uppfinning. 7801068-3 EXEMPEL 8 Då 3-(2,3-epoxipropoxi)propyltrimetoxisilan i exempel 7 er- sattes med ett förkondensat av denna silan (framställd genom upp- värmning av en lösning av 16,5 g av silanen i 16,5 g etanol och 8,0 g vatten innehållande l droppe 0,1 N saltsyra vid 80oC för av- lägsnande av alkoholen erhölls en ljusdiffusionsökning på endast 1,3 %. Beläggningen hade utomordentlig hållfasthet mot nötning med stålull.
EXEMPEL 9 Då exempel 7 upprepades med 2(3,4-epoxicyklohexyl)etyltrimet- oxisilan i 1,5 g isopropanol i stället för 3-(2,3-epoxipropoxi)- propyltrimetoxisilan erhölls en repningshållfast beläggning med en procentuell ljusdiffusion på 7,0 %. Beläggningen hade utomor- dentlig hâllfasthet mot nötning med stålull.
EXEMPEL lO Exempel 8 upprepades i en serie försök, i vilka följande katalysatorer användes i stället för difenyljodoniumhexafluorfos- fat. Ljusdiffusionsökningen (A-ljusdiffusion) för varje katalysa- tor ges också.
Katalysator A-ljusdiffusion» a. Difenyljodoniumhexafluoroantimonat 2,9 % b. Difenyljodoniumtetrafluoroborat » 13,7 % c. Difenyljodoniumhexafluorofosfat 1,3 % Trifenylsulfoniumhexafluoroantimonat 2,8 % e. Trifenylsulfoniumhexafluorofosfat l,3 % Prov från varje experiment uppvisade också hållfasthet mot' nötning med stålull.
EXEMPEL ll En lösning av 2 delar förkondensat framställt såsom beskrivits i exempel 8, l del tetraetoxisilan och 0,1 del difenyljodonium- hexafluorofosfat i 3 delar isopropanol anbringades på ett 100 Pm polyesterark och exponerades för en UV-lampa (140 W) i 30 s. Den erhållna beläggningen visade sig ha ett värde på A-ljusdiffusionen på 2,0 vid testning enligt ASTM D968 och DlOO3.
EXEMPEL 12 .
En lösning framställdes genom att man blandade 5 g av ett förkon- densat av 3-(2,3-epoxipropoxi)propyldimetoxisilan (framställt såsom beskrivits i exempel 8), 5 g förkondensat av tetraetoxisilan (fram- 7801068-3 16 ställt genom uppvärmning till återloppskokning av en blandning av 16,5 g tetraetoxisilan, 16,5 g etanol och 8,0 g vatten innehållande l droppe 0,1 N HCl vid 80°C för avlägsnande av etanol), 1,65 g isopropanol och 0,2 g difenyljodoniumhexafluorofosfat. Lösningen anbringades på ett grundmâlat ark av polymetylmetakrylat genom sköljlackering och bestrålades med en UV-lampa i 5 min. En nötnings- hâllfast beläggning erhålls med ett värde på A-ljusdiffusionen på 4,5.
EXEMEL 13 Exempel 7 upprepadesnmnïbeläggningskompositionen försattes med 0,4 g tetraisopropyltitanat. Efter exponering för bestrålning med UV-lampa erhölls en beläggning med beständighet mot nötning med sand och stålull.
EXEMPEL 14 _ Effekten av fotokatalysatorkoncentrationen åskådliggöres genom att följande katalysatorkoncentrationer tillsattes till tetraetoxisilan, att materialet anbringades på glas och att be- läggningen bestrâlades i 5 min med en UV-lampa (140 W) på ett av- stånd av cirka 20 cm. a. 0,0 % ø2I+ PFš Ingen polymerisation b. 0,05 % " spröd, hård beläggning c. 0,5 % " " d. 1,0 s; " -- e. 2,0 % “ " f- 0,0 % ø3S+SbFš _ Ingen polymerisation 9- 0,05 % " Spröd, hård beläggning h. 0,5 % " " i. 1,0 % " '- j. 2,0 % ß n EXEMPEL 15 Effektiviteten hos andra oniumsalter vad beträffar katalytisk verkan på fotopolymerisation av hydrolyserbara kiselhaltiga före- ningar belyses genom att man tillsätter l,0 vikt% av följande oniumsalter till tetraetoxisilan, att man anbringar materialet på glas och bestrâlar den erhållna beläggningen med en UV-lampa (140 W) på ett avstånd av cirka 20 cm och antecknar den tid, som erfordras för bildning av en klibbfri yta. 7801068-3 17 Fotokatalzsator Vrid till xlibbfritt tillstånd a. ø2(CH3)2&fPFš O _ 15 min + -(1) b. ø4P PF6 C. ø3s+c1'(2) 2 h d. ø21+c1'(2) 16 n (l) I lösning. (2) Plus 0,2 vikt% 2-etyl-9,l0-dimetoxiantracen.
EXBMPEL 16 För att visa en komposition enligt uppfinningen, vilken kom- position kan användas för att ge en repningshållfast beläggning på fotografisk film blandades 40 delar 1,4-bis(3,4-epoxipropoxi)butan, 60 delar 3-(2,3-epoxipropoxi)propyltrimetoxisilan och l del difenyl- jodoniumhexafluorofosfat och lagrades i ett ljust tätt kärl, där blandningen kunde hållas opolymeriserad i minst 3 månader. Remsor av framkallad 35 mm fotografisk film (både triacetat och polyester) belades kontinuerligt med ett cirka 100 Pm tjockt skikt av kompo- sitionen och exponerades i 6 s för strålning med en UV-lampa (140 W) varvid en repningshållfast beläggning på varje remsa erhölls vilken beläggning hade ett A-ljusdiffusions-värde på 8 till 10 %.
Skydd för fotografiska material innefattande mikrofiche, kopio: diapositiv, etc erhålles ej endast genom att emulsionsskiktens yta täckes utan särskilt då det är fråga om transparanta material såsom mikrofilmer och diabilder, förbättrar en täckning av baksidan eller basaufiümensvaraktighet och hållfasthet mot repning.
EXEMPEL 17 4 g av ett förkondensat (genom kondensation av silangrupper) av 3-(2,3-epoxipropoxi)propyltrimetoxisilan försattes med 0,2 g (CH3)3C6H5N+Cl- och 0,02 g 2-klorotioxanton och 2 g etanol för att underlätta upplösningen. Denna lösning anbringades på 100 Pm grund- målad polyester. Beläggningen exponerades för en UV-lampa (140 W) i 60 min, varefter kompositionen hade härdat till en hård nötnings- hållfast beläggning. Ett pïov av den täckta filmen, som fick stelna exponerad endast för fluoroserande rumsbelysning blev klibbfritt efter 12 h men var ej nötningshållfast vid denna tidpunkt.
Claims (13)
1. l. Sätt att kondensera en hydrolyserbar silan, k ä n n e- C 8 C k n 8 t av äfit en komposition innefattande a) minst en hydrolyserbar silan med formeln XmSiR4_m vari X betecknar en hydrolyserbar grupp eller väte, R betecknar en hydrokarbylgrupp och m betecknar 2, 3 eller 4, och b) en organisk aromatisk oniumkatalysator med formeln 2 + - (R )n-A Y l <>a vari R2 betecknar en fenylgrupp, en naftylgrupp, en tienyl- grupp, en pyranylgrupp, en furanylgrupp eller en pyrazolyl- grupp: * Rl betecknar alkyl eller alkenyl, A betecknar kväve, fosfor, svavel eller jod, Y betecknar en anjon, n betecknar ett positivt heltal av minst 2 upp till valensen för A plus l, a betecknar 0 eller ett positivt heltal upp till valensen för A minus l och n+a är lika med valensen för A plus l, i närvaro av en katalytisk mängd Håo, bestrålas med - tillräcklig strålningsintensitet för aktivering av onium- katalysatorn och initiering av kondcnsationsreaktionen.
2. Sätt enligt krav l, k ä n n e t e c k n a t av att den organiska aromatiska oniumkatalysatorn är en difenyl-, trifenyl- eller tetrafenylorganisk addukt.
3. Sätt enligt krav l eller 2, k ä n n e t e c k n a t av att den hydrolyserbara silanen har formeln 0 n c/-\ca<128§-s' (od 7 h 11 o ' 8 - 7 2 q 1 R )3 oc /e er (R +š-51(0R )3 8 vari R betecknar en icke-hydrolyserbar tvåvärd kolvätegrupp med mindre än 20 kolatomer eller en tvàvärd grupp med mindre än 20 kolatomer, vars skelett är sammansatt av endast C-, Ä 7801068-3 \ N-, S- och 0-atomer, varvid 2 heteroatomer ej är intilliggande inom de tvàvärda gruppernas skelett, q betecknar 0 eller l och R7 betecknar en alifatisk kolvätegrupp med mindre än 10 kolatomer, en acylgrupp med mindre än 10 kolatomer eller en grupp med formeln (CH2CH2O)kZ, vari k betecknar ett heltal på minst 1, och Z betecknar en alifatisk kolvätegrupp med mindre än 10 kolatomer eller väte.
4. Sätt enligt krav l eller 2, k ä n n e t e c k n a t av att den hydrolyserbara silanen har formeln: 9 1 caz-cufn )u-o-R °-s1(0n')3 O vari R9 och Rlo oberoende av varandra betecknar alkylengrupper med upp till 4 kolatomer, R' betecknar en alkylgrupp med upp till 6 kolatomer och u betecknar 0 eller l.
5. Sätt enligt ett eller flera av kraven l-4, k ä n n e- t e c k n a t av att R betecknar CH2=CR'COO(CH2)r-, vari R betecknar H eller CH3 och r betecknar 0 eller l-8 och m be- tecknar 3.
6. vattenfri, lagringsstabil, polymeriserbar silankomposition för användning vid sätt att kondensera en hydrolyserbar silan, k H n n e t e c k n a d av att den innefattar a) minst en hydro- lyserbar silan med formeln xms1R4_m vari X betecknar en hydrolyserbar grupp eller väte, R betecknar en hydrokarbylgrupp och m betecknar 2, 3 eller 4, och b) en organisk aromatisk oniumkatalysator med formeln h (R p, vari R2 betecknar en fenylgrupp, en naftylgrupp, en tienyl- grupp, en pyranylgrupp, en furanylgrupp eller en pyrazolyl- 9fUPPf 'r R1 betecknar alkyl eller alkenyl, A betecknar kväve, fosfor, svavel eller jod, Y betecknar en anjon, n betecknar ett positivt heltal av minst 2 upp till valensen för A plus l, 7801068-3 å, . , \ a betecknar 0 eller ett positivt heltal upp till valensen för A minus l och n+a är lika med valensen för A plus l.
7. Polymeriserbar komposition enligt krav 6, k ä n n e- t e c k n a d av att anjonen utgöres av tetrafluoroborat, hexafluorofosfat, hexafluoroarsenat, hexakloroantimonat, bis(perfluoroalkylsulfonyl)metan, jodid, bromid, klorid, fluorid, sulfat, acetat och/eller trikloroacetat.
8. Polymeriserbar komposition enligt krav 6, vari a beteck- nar 0 och R2 betecknar fenyl.
9. Polymeriserbar komposition enligt krav 8, k ä n n e- t e c k n a d av att Rl betecknar alkyl.
10. Polymeriserbar komposition enligt ett eller flera av kraven 6-9, k ä n n e t e c k n a d av att silanen har formeln: /O\a 7 ° 9 7 HZC-CH+R +š-Si(0R )3 och/eller vari Ra betecknar en icke-hydrolyserbar tvàvärd kolvätegrupp med mindre än 20 kolatomer eller en tvàvärd grupp med mindre än 20 kolatomer, vars skelett är sammansatt av endast C-, N-, S- och 0-atomer, varvid 2 heteroatomer ej ligger intill varandra inom de tvàvärda gruppernas skelett, q betecknar 0 eller 1 och R7 betecknar en alifatisk kolvätegrupp med mindre än 10 kolatomer, en acylgrupp med mindre än 10 kolatomer, en grupp med formeln (CH2CH20)kZ, vari k betecknar ett heltal på minst l och Z betecknar en alifatisk kolvätegrupp med mindre än l0 kolatomer eller väte.
11. Polymeriserbar komposition enligt ett eller flera av kraven 6-9, k ä n n e t e c k n a d av att silanen har formeln 10 9 CH2-CHfR )u“O-R -Si(OR')3 0, i? names-s \ vari R9 och Rlo oberoende av varandra betecknar alkylengrupper med upp till 4 kolatomer, R' betecknar en alkylgrupp med upp till 6 kolatomer och u betecknar 0 eller l.
12. Polymeriserbar komposition enligt krav 6, k ä n n e- t e c k n a d av att då A betecknar jod maste den organo- atomiska katjonen vara åtminstone diaromatisk.
13. Polymeriserbar komposition enligt ett eller flera av kraven 6-12, k ä n n e t e c k n a d av att R betecknar CH2=CR"COO(CH2)r, vari R" betecknar H eller CH3 och r beteck- nar 0 eller l-8 och m betecknar 3. _, _ ___ ,,_._,,_,_....~..-.- -qp-:qnp -.._ .-.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/764,817 US4101513A (en) | 1977-02-02 | 1977-02-02 | Catalyst for condensation of hydrolyzable silanes and storage stable compositions thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SE7801068L SE7801068L (sv) | 1978-08-03 |
| SE443792B true SE443792B (sv) | 1986-03-10 |
Family
ID=25071871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SE7801068A SE443792B (sv) | 1977-02-02 | 1978-01-30 | Sett att kondensera en hydrolyserbar silan samt silankomposition innehallande en oniumkatalysator for anvendning dervid |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4101513A (sv) |
| JP (1) | JPS5397098A (sv) |
| AU (1) | AU505454B2 (sv) |
| BE (1) | BE863547A (sv) |
| BR (1) | BR7800619A (sv) |
| CA (1) | CA1113639A (sv) |
| CH (1) | CH658461A5 (sv) |
| DE (1) | DE2804283C2 (sv) |
| FR (1) | FR2379575A1 (sv) |
| GB (1) | GB1572760A (sv) |
| IT (1) | IT1104149B (sv) |
| MX (1) | MX147159A (sv) |
| NL (1) | NL184785C (sv) |
| NZ (1) | NZ186365A (sv) |
| SE (1) | SE443792B (sv) |
| ZA (1) | ZA78622B (sv) |
Families Citing this family (122)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4293606A (en) * | 1978-03-13 | 1981-10-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Low friction, abrasion resistant coating for transparent film |
| US4343855A (en) * | 1978-10-30 | 1982-08-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Transfer film |
| US4401537A (en) * | 1978-12-26 | 1983-08-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Liquid crystal display and photopolymerizable sealant therefor |
| US4297401A (en) * | 1978-12-26 | 1981-10-27 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Liquid crystal display and photopolymerizable sealant therefor |
| US4299938A (en) * | 1979-06-19 | 1981-11-10 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerizable and thermally polymerizable compositions |
| US4286047A (en) * | 1979-07-25 | 1981-08-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Pressure-sensitive adhesive susceptible to ultraviolet light-induced detackification |
| US4421904A (en) * | 1979-08-03 | 1983-12-20 | General Electric Company | Ultraviolet curable silicone coating compositions |
| US4279717A (en) * | 1979-08-03 | 1981-07-21 | General Electric Company | Ultraviolet curable epoxy silicone coating compositions |
| ZA807425B (en) * | 1979-12-26 | 1982-02-24 | Gen Electric | Radiation curable organopolysiloxanes |
| US4304806A (en) * | 1980-02-01 | 1981-12-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Information carrying discs |
| USRE31533E (en) * | 1980-02-01 | 1984-03-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Information carrying discs |
| US4296158A (en) * | 1980-02-01 | 1981-10-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Information carrying discs |
| US4374077A (en) * | 1980-02-01 | 1983-02-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process for making information carrying discs |
| US4339567A (en) * | 1980-03-07 | 1982-07-13 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerization by means of sulphoxonium salts |
| JPS6365115B2 (sv) * | 1980-03-11 | 1988-12-14 | ||
| US4337107A (en) * | 1980-06-16 | 1982-06-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasion-resistant transfer laminating sheet material |
| US4383025A (en) * | 1980-07-10 | 1983-05-10 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerization by means of sulfoxonium salts |
| US4348462A (en) * | 1980-07-11 | 1982-09-07 | General Electric Company | Abrasion resistant ultraviolet light curable hard coating compositions |
| US4337303A (en) * | 1980-08-11 | 1982-06-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Transfer, encapsulating, and fixing of toner images |
| US4398014A (en) * | 1980-11-04 | 1983-08-09 | Ciba-Geigy Corporation | Sulfoxonium salts and their use as polymerization catalysts |
| US4455205A (en) * | 1981-06-01 | 1984-06-19 | General Electric Company | UV Curable polysiloxane from colloidal silica, methacryloyl silane, diacrylate, resorcinol monobenzoate and photoinitiator |
| US4348533A (en) * | 1981-10-13 | 1982-09-07 | Dow Corning Corporation | Preparation of linear polydimethylsiloxanes |
| US4940762A (en) * | 1981-11-09 | 1990-07-10 | Pilkington Visioncare, Inc. | Oxygen permeable lens with hydrolyzable silicon group |
| US4581184A (en) * | 1981-11-09 | 1986-04-08 | Precision-Cosmet Co., Inc. | Oxygen permeable lens |
| US4486504A (en) * | 1982-03-19 | 1984-12-04 | General Electric Company | Solventless, ultraviolet radiation-curable silicone coating compositions |
| US4532185A (en) * | 1982-03-31 | 1985-07-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antistatic films |
| US4463114A (en) * | 1982-03-31 | 1984-07-31 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antistatic films |
| US4426431A (en) | 1982-09-22 | 1984-01-17 | Eastman Kodak Company | Radiation-curable compositions for restorative and/or protective treatment of photographic elements |
| US4673354A (en) * | 1985-10-01 | 1987-06-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stable silanol priming solution for use in dentistry |
| US5204219A (en) * | 1987-07-30 | 1993-04-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photographic element with novel subbing layer |
| US4975300A (en) * | 1987-12-31 | 1990-12-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for curing an organic coating using condensation heating and radiation energy |
| US5134191A (en) * | 1989-02-17 | 1992-07-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hard coating compositions and plastic optical articles |
| US5360834A (en) * | 1989-08-01 | 1994-11-01 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. | Process for photoinitiated control of inorganic network formation in the sol-gel process |
| US5077083A (en) * | 1989-12-04 | 1991-12-31 | Dow Corning Corporation | Epoxy-silanol functional UV curable polymers |
| US5057550A (en) * | 1989-12-04 | 1991-10-15 | Dow Corning Corporation | Epoxy-silanol functional uv curable polymers |
| EP0431564B1 (en) * | 1989-12-05 | 1996-04-10 | Konica Corporation | Photographic-image-bearing recording member. |
| EP0544842A4 (en) * | 1991-01-04 | 1993-07-21 | James V. Crivello | Electron beam curable epoxy compositions |
| US5559163A (en) * | 1991-01-28 | 1996-09-24 | The Sherwin-Williams Company | UV curable coatings having improved weatherability |
| DE4116014A1 (de) * | 1991-05-16 | 1992-11-26 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von organo(poly)siloxanen |
| JPH0592670A (ja) * | 1991-10-03 | 1993-04-16 | Konica Corp | 感熱転写記録用受像シート、画像保護材料、画像保護方法、及び画像記録体 |
| US5262232A (en) * | 1992-01-22 | 1993-11-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Vibration damping constructions using acrylate-containing damping materials |
| TW268969B (sv) * | 1992-10-02 | 1996-01-21 | Minnesota Mining & Mfg | |
| GB9220986D0 (en) * | 1992-10-06 | 1992-11-18 | Ciba Geigy Ag | Chemical composition |
| US5385955A (en) * | 1992-11-05 | 1995-01-31 | Essilor Of America, Inc. | Organosilane coating composition for ophthalmic lens |
| US5877229A (en) * | 1995-07-26 | 1999-03-02 | Lockheed Martin Energy Systems, Inc. | High energy electron beam curing of epoxy resin systems incorporating cationic photoinitiators |
| US5998549A (en) | 1996-05-31 | 1999-12-07 | 3M Innovative Properties Company | Durable, low surface energy compounds and articles, apparatuses, and methods for using the same |
| US6254954B1 (en) | 1997-02-28 | 2001-07-03 | 3M Innovative Properties Company | Pressure-sensitive adhesive tape |
| AU6461998A (en) * | 1997-03-14 | 1998-09-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Cure-on-demand, moisture-curable compositions having reactive silane functionality |
| EP0918062B1 (en) * | 1997-04-21 | 2004-02-18 | Asahi Glass Company Ltd. | Room temperature setting compositions |
| US5980992A (en) * | 1997-10-03 | 1999-11-09 | 3M Innovative Properties Company | Fluorochemical treatments to provide low-energy surfaces |
| US6080816A (en) * | 1997-11-10 | 2000-06-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coatings that contain reactive silicon oligomers |
| TW482817B (en) * | 1998-06-18 | 2002-04-11 | Jsr Corp | Photosetting compositions and photoset articles |
| JP2000182410A (ja) * | 1998-12-17 | 2000-06-30 | Koito Mfg Co Ltd | 車両用灯具 |
| US6431735B2 (en) * | 1999-06-17 | 2002-08-13 | Valeo Sylvania L L.C. | Vehicle headlamp, lamp lens and method for producing a lamp lens |
| US6150430A (en) * | 1999-07-06 | 2000-11-21 | Transitions Optical, Inc. | Process for adhering a photochromic coating to a polymeric substrate |
| US6461419B1 (en) * | 1999-11-01 | 2002-10-08 | 3M Innovative Properties Company | Curable inkjet printable ink compositions |
| US6706403B1 (en) | 2000-05-12 | 2004-03-16 | 3M Innovative Properties Company | Rigid substrate lamination adhesive |
| US6514574B1 (en) | 2000-06-29 | 2003-02-04 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Process for making an abrasion resistant coating onto an organic glass substrate |
| WO2002083764A1 (en) | 2001-04-09 | 2002-10-24 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Photoreactive composition |
| JP2006089667A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Kimoto & Co Ltd | 粘接着剤、およびこれを用いた粘接着シート |
| US7329716B2 (en) * | 2005-04-18 | 2008-02-12 | Yazaki Corporation | Siloxane oligomers by phase transfer catalysis |
| US7514482B2 (en) * | 2005-07-25 | 2009-04-07 | The Walman Optical Company | Optical coating composition |
| GB2444053A (en) * | 2006-11-23 | 2008-05-28 | Eques Coatings | Hybrid UV-curable resins |
| DE102007023932A1 (de) * | 2007-05-23 | 2008-11-27 | Wacker Chemie Ag | Phosphorverbindungen aufweisende vernetzbare Massen |
| US7891636B2 (en) * | 2007-08-27 | 2011-02-22 | 3M Innovative Properties Company | Silicone mold and use thereof |
| TWI450043B (zh) * | 2008-03-11 | 2014-08-21 | 3M Innovative Properties Co | 具備保護層之光工具 |
| WO2009141774A1 (en) * | 2008-05-20 | 2009-11-26 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Aqueous curable imprintable medium and patterned layer forming method |
| FR2940307B1 (fr) * | 2008-12-22 | 2011-02-25 | Nexans | Composition reticulable comprenant un polymere greffe silane et un compose latent |
| DE102009019493B4 (de) | 2009-05-04 | 2013-02-07 | Bayer Materialscience Aktiengesellschaft | Polar lösliche UV-Absorber |
| DE102009020938A1 (de) | 2009-05-12 | 2010-11-18 | Bayer Materialscience Ag | Witterungsstabile Mehrschichtsysteme |
| WO2011011167A2 (en) | 2009-07-21 | 2011-01-27 | 3M Innovative Properties Company | Curable composition, method of coating a phototool, and coated phototool |
| US8420281B2 (en) | 2009-09-16 | 2013-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Epoxy-functionalized perfluoropolyether polyurethanes |
| WO2011034845A1 (en) | 2009-09-16 | 2011-03-24 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated coating and phototools made therewith |
| EP2478033A1 (en) | 2009-09-16 | 2012-07-25 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated coating and phototools made therewith |
| DE102009042307A1 (de) | 2009-09-19 | 2011-05-12 | Bayer Materialscience Ag | Kombination zweier Triazin UV Absorber für Lack auf PC |
| DE102009058200A1 (de) | 2009-12-15 | 2011-06-16 | Bayer Materialscience Ag | Polymer-Zusammensetzung mit Wärme-absorbierenden Eigenschaften und hoher Stabilität |
| WO2011089138A1 (de) | 2010-01-22 | 2011-07-28 | Bayer Materialscience Ag | Flammgeschützte artikel mit hoher transmission |
| ITRM20100225A1 (it) | 2010-05-10 | 2011-11-10 | Bayer Materialscience Ag | Composizione di polimeri con caratteristiche di assorbimento del calore e migliorate caratteristiche di colore. |
| ITRM20100228A1 (it) | 2010-05-10 | 2011-11-10 | Bayer Materialscience Ag | Composizione polimerica con caratteristiche di assorbimento del calore e migliorate caratteristiche di colore. |
| ITRM20100227A1 (it) | 2010-05-10 | 2011-11-10 | Bayer Materialscience Ag | Composizione polimerica con caratteristiche di assorbimento di calore ad alta stabilità. |
| ITRM20100226A1 (it) | 2010-05-10 | 2011-11-10 | Bayer Materialscience Ag | Composizioni stabilizzanti. |
| EP2447236A1 (de) | 2010-10-12 | 2012-05-02 | Bayer MaterialScience AG | Spezielle UV-Absorber für härtbare UV-Schutz Beschichtungen |
| JP6000962B2 (ja) | 2010-10-25 | 2016-10-05 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトCovestro Deutschland Ag | 低いエネルギー透過を有するプラスチックの多層構造体 |
| DE102010042939A1 (de) | 2010-10-26 | 2012-04-26 | Bayer Materialscience Aktiengesellschaft | Fugenlose Heckklappe |
| IT1403380B1 (it) | 2010-12-17 | 2013-10-17 | Bayer Materialscience Ag | Composizione di polimeri con caratteristiche di assorbimento di calore ad alta stabilità agli agenti atmosferici. |
| ITRM20100667A1 (it) | 2010-12-17 | 2012-06-18 | Bayer Materialscience Ag | Composizione di polimeri con caratteristiche di assorbimento di calore ad alta stabilità agli agenti atmosferici. |
| ITRM20100670A1 (it) | 2010-12-17 | 2012-06-18 | Bayer Materialscience Ag | Colorante organico e composizioni polimeriche colorate ad alta stabilità agli agenti atmosferici. |
| ITRM20100668A1 (it) | 2010-12-17 | 2012-06-18 | Bayer Materialscience Ag | Substrato-led a colorazione stabile. |
| EP2500009A1 (en) | 2011-03-17 | 2012-09-19 | 3M Innovative Properties Company | Dental ceramic article, process of production and use thereof |
| EP2543695A1 (de) | 2011-07-08 | 2013-01-09 | Bayer MaterialScience AG | Matte, flammgeschützte Artikel mit hoher Transmission |
| EP2768895B1 (de) | 2011-10-18 | 2015-12-30 | Covestro Deutschland AG | Polymer-zusammensetzung mit wärme-absorbierenden eigenschaften |
| KR20140091005A (ko) | 2011-10-19 | 2014-07-18 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 하드코트 조성물 |
| EP2785795B1 (de) | 2011-11-30 | 2017-06-07 | Covestro Deutschland AG | Mehrschichtkörper aus polycarbonat mit tiefenglanzeffekt |
| CN105837845B (zh) | 2011-11-30 | 2019-12-20 | 拜耳知识产权有限责任公司 | 由聚碳酸酯制成的带有深色光泽效果的多层制品 |
| JP2013124366A (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-24 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 積層体および硬化方法 |
| WO2013171582A1 (en) | 2012-05-16 | 2013-11-21 | Université De Haute-Alsace | Radiation curable composition, and method for preparing a hybrid sol-gel layer on a surface of a substrate using said composition |
| CA2873337C (en) | 2012-05-16 | 2021-07-20 | Universite De Haute-Alsace | Radiation radically and cationically curable composition, and method for preparing a hybrid sol-gel layer on a surface of a substrate using said composition. |
| EP2700455A1 (de) | 2012-08-23 | 2014-02-26 | Bayer MaterialScience AG | Nasslackapplikation auf Kunststoffsubstraten mit Plasmahärtung |
| JP2016503083A (ja) | 2012-12-20 | 2016-02-01 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフトBayer MaterialScience AG | IR−反射性顔料を含む、弱く(Subduedly)着色されたポリカーボナート成形化合物 |
| ITRM20120656A1 (it) | 2012-12-20 | 2014-06-21 | Bayer Materialscience Ag | Articolo multistrato a base di policarbonato con forte resistenza agli agenti atmosferici. |
| EP2945480B1 (de) | 2013-01-18 | 2018-07-25 | Covestro Deutschland AG | Vogelschutzverglasung |
| CN107111004B (zh) | 2014-12-30 | 2020-01-03 | 依视路国际公司 | 用于获得改善的耐磨性的可uv固化的涂层组合物 |
| CN107001673A (zh) | 2014-12-30 | 2017-08-01 | 埃西勒国际通用光学公司 | 用溅射涂层改善粘附性的组合物和方法 |
| US11198795B2 (en) | 2015-02-17 | 2021-12-14 | The Walman Optical Company | Glycidyl ether based optical coating compositions |
| US9856394B2 (en) | 2015-03-19 | 2018-01-02 | Mark Alan Litman | Dye-tintable, abrasion resistant coating for ophthalmic lenses and method of application |
| US20180319944A1 (en) | 2015-11-11 | 2018-11-08 | 3M Innovative Properties Company | Multilayer construction including barrier layer and sealing layer |
| CN109789753A (zh) | 2016-09-27 | 2019-05-21 | 科思创德国股份有限公司 | 用于机动车辆的挡风玻璃 |
| JP7163287B2 (ja) | 2016-11-17 | 2022-10-31 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフト | 熱管理用ポリカーボネートの不透明多層体 |
| CN109963710B (zh) | 2016-11-17 | 2021-12-17 | 科思创德国股份有限公司 | 用于热管理的透明多层体 |
| EP3395875B2 (de) | 2017-04-24 | 2023-01-25 | Covestro Deutschland AG | Laserstrahl-durchlässiges substratmaterial für sensoranwendungen |
| EP3658613A1 (de) | 2017-07-24 | 2020-06-03 | Covestro Deutschland AG | Led-beleuchtungselemente mit formteilen aus transluzenten polycarbonat-zusammensetzungen mit tiefenglanzeffekt |
| US11028286B2 (en) * | 2017-07-31 | 2021-06-08 | Dow Silicones Corporation | Dual curable silicone compositions |
| US11168223B2 (en) | 2017-09-28 | 2021-11-09 | Sdc Technologies, Inc. | Photochromic article |
| KR102744687B1 (ko) | 2017-12-21 | 2024-12-23 | 코베스트로 도이칠란트 아게 | 다층체 및 LiDAR 센서를 포함하는 장치 |
| US12104045B2 (en) | 2018-05-29 | 2024-10-01 | Covestro Intellectual Property Gmbh & Co. Kg | Opaque multi-layer body made of polycarbonate and having weathering stability |
| DE202020101945U1 (de) | 2019-09-30 | 2021-01-15 | Covestro Deutschland Ag | LED-Beleuchtungselemente auf Basis von Mehrschichtkörpern mit Massivsteinoptik |
| DE202020101944U1 (de) | 2019-09-30 | 2021-01-15 | Covestro Deutschland Ag | LED-Beleuchtungselemente auf Basis von Mehrschichtkörpern mit Steinoptik |
| CN114502662A (zh) | 2019-10-03 | 2022-05-13 | 3M创新有限公司 | 采用自由基介导固化的有机硅弹性体 |
| EP4045842A1 (en) | 2019-10-15 | 2022-08-24 | Covestro LLC | Three part headlamp assembly |
| EP4069793A1 (en) | 2019-12-05 | 2022-10-12 | PPG Industries Ohio Inc. | Curable compositions |
| EP3919943A1 (en) | 2020-06-03 | 2021-12-08 | Essilor International | Curable coating composition |
| JP2023178859A (ja) * | 2022-06-06 | 2023-12-18 | 株式会社レゾナック | 有機エレクトロニクス材料及び有機エレクトロニクス素子 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2883366A (en) * | 1954-12-10 | 1959-04-21 | Gen Electric | Quaternary phosphonium compounds as polymerization catalysts for siloxanes |
| US2906734A (en) * | 1957-09-23 | 1959-09-29 | Dow Corning | Fast curing organosiloxane resins |
| GB966059A (sv) * | 1961-09-05 | 1900-01-01 | ||
| US3445426A (en) * | 1966-08-22 | 1969-05-20 | Dow Corning | Pentavalent silane and tetravalent boron catecholates as polymerization catalysts |
| DE1745526B2 (de) * | 1967-03-16 | 1980-04-10 | Union Carbide Corp., New York, N.Y. (V.St.A.) | Verfahren zur Herstellung vulkanisierbarer, unter wasserfreien Bedingungen beständiger Polymerisate |
| GB1222357A (en) * | 1967-04-12 | 1971-02-10 | Midland Silicones Ltd | Improvements in or relating to siloxane resins |
| US3627722A (en) * | 1970-05-28 | 1971-12-14 | Minnesota Mining & Mfg | Polyurethane sealant containing trialkyloxysilane end groups |
| JPS5124399B2 (sv) * | 1973-03-19 | 1976-07-23 | ||
| AU497960B2 (en) * | 1974-04-11 | 1979-01-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable compositions |
| GB1516511A (en) * | 1974-05-02 | 1978-07-05 | Gen Electric | Curable epoxide compositions |
| GB1512982A (en) * | 1974-05-02 | 1978-06-01 | Gen Electric | Salts |
| GB1516351A (en) * | 1974-05-02 | 1978-07-05 | Gen Electric | Curable epoxide compositions |
| GB1526923A (en) * | 1974-09-18 | 1978-10-04 | Ici Ltd | Photopolymerisable compositions |
| US4008261A (en) * | 1975-01-02 | 1977-02-15 | Dow Corning Corporation | Method of preparing phosphonium siloxanes and products thereof |
| CA1091380A (en) * | 1975-03-07 | 1980-12-09 | Mark W. Siefken | Polymerization of silanes |
| US4256828A (en) * | 1975-09-02 | 1981-03-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials |
-
1977
- 1977-02-02 US US05/764,817 patent/US4101513A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-12-29 CA CA294,094A patent/CA1113639A/en not_active Expired
-
1978
- 1978-01-30 SE SE7801068A patent/SE443792B/sv not_active IP Right Cessation
- 1978-01-30 NL NLAANVRAGE7801049,A patent/NL184785C/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-02-01 DE DE2804283A patent/DE2804283C2/de not_active Expired
- 1978-02-01 CH CH1116/78A patent/CH658461A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-02-01 NZ NZ186365A patent/NZ186365A/xx unknown
- 1978-02-01 JP JP1038378A patent/JPS5397098A/ja active Granted
- 1978-02-01 AU AU32905/78A patent/AU505454B2/en not_active Expired
- 1978-02-01 ZA ZA00780622A patent/ZA78622B/xx unknown
- 1978-02-01 IT IT47870/78A patent/IT1104149B/it active
- 1978-02-01 GB GB4084/78A patent/GB1572760A/en not_active Expired
- 1978-02-01 BR BR7800619A patent/BR7800619A/pt unknown
- 1978-02-01 BE BE184815A patent/BE863547A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-02-01 FR FR7802742A patent/FR2379575A1/fr active Granted
- 1978-02-02 MX MX172294A patent/MX147159A/es unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL184785C (nl) | 1989-11-01 |
| AU505454B2 (en) | 1979-11-22 |
| JPS5529101B2 (sv) | 1980-08-01 |
| JPS5397098A (en) | 1978-08-24 |
| AU3290578A (en) | 1979-08-09 |
| IT7847870A0 (it) | 1978-02-01 |
| ZA78622B (en) | 1978-12-27 |
| DE2804283A1 (de) | 1978-08-10 |
| NL7801049A (nl) | 1978-08-04 |
| CH658461A5 (de) | 1986-11-14 |
| DE2804283C2 (de) | 1984-11-15 |
| GB1572760A (en) | 1980-08-06 |
| MX147159A (es) | 1982-10-19 |
| US4101513A (en) | 1978-07-18 |
| IT1104149B (it) | 1985-10-14 |
| BR7800619A (pt) | 1978-12-05 |
| FR2379575B1 (sv) | 1980-05-16 |
| BE863547A (fr) | 1978-08-01 |
| NL184785B (nl) | 1989-06-01 |
| NZ186365A (en) | 1980-03-05 |
| FR2379575A1 (fr) | 1978-09-01 |
| SE7801068L (sv) | 1978-08-03 |
| CA1113639A (en) | 1981-12-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SE443792B (sv) | Sett att kondensera en hydrolyserbar silan samt silankomposition innehallande en oniumkatalysator for anvendning dervid | |
| CA2224441C (en) | Photogeneration of amines from .alpha.-aminoacetophenones | |
| KR950008287B1 (ko) | 티타노센 및 그의 용도 | |
| JP4675461B2 (ja) | 界面活性光開始剤 | |
| ES2537108T3 (es) | Composición de fotoiniciador que incluye un estabilizador de amina estéricamente impedido | |
| GB2156834A (en) | Polysilane positive photoresist materials and methods for their use | |
| JPH01258689A (ja) | シラン官能化化合物 | |
| MXPA02010226A (es) | Recubrimientos resistentes al rayado. | |
| JPWO2015053397A1 (ja) | 光カチオン硬化性塗料組成物及び塗膜形成方法、その塗装物品 | |
| JPH0237923B2 (sv) | ||
| EP0175473B1 (en) | Abrasion resistant coatings | |
| JP2009256293A (ja) | フルオレン骨格を有するケイ素化合物 | |
| JP5297079B2 (ja) | フルオレン骨格を有するケイ素化合物およびその重合性組成物 | |
| JPH0196145A (ja) | 低重合ベンジルケタール及び光開始剤としてのそれらの使用方法 | |
| EP0127813B1 (en) | Water-repellent resistant, abrasion resistant coatings | |
| US4619949A (en) | Abrasion resistant coatings | |
| JPS6365115B2 (sv) | ||
| JP2005517055A (ja) | 界面活性シロキサン光開始剤 | |
| TWI832858B (zh) | 活性能量線硬化性組成物 | |
| CA1109589A (en) | Ultraviolet radiation protective, abrasion resistant, bloom resistant coatings | |
| JPH08208832A (ja) | プラスチック被覆用活性エネルギー線硬化型組成物 | |
| JP2005343978A (ja) | 低屈折率樹脂組成物およびその塗膜 | |
| EP0734405A1 (en) | Photocurable composition | |
| JPH0653803B2 (ja) | 高硬度樹脂の製造方法 | |
| Wendling et al. | Irradiation of polyacrylate compositions in air |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| NAL | Patent in force |
Ref document number: 7801068-3 Format of ref document f/p: F |
|
| NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 7801068-3 Format of ref document f/p: F |