SE511139C2 - Plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter - Google Patents
Plasmabearbetningsapparat med vridbara magneterInfo
- Publication number
- SE511139C2 SE511139C2 SE9704260A SE9704260A SE511139C2 SE 511139 C2 SE511139 C2 SE 511139C2 SE 9704260 A SE9704260 A SE 9704260A SE 9704260 A SE9704260 A SE 9704260A SE 511139 C2 SE511139 C2 SE 511139C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- permanent magnet
- rotatable
- plasma processing
- magnetic
- plasma
- Prior art date
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 92
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims abstract description 27
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims abstract description 24
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 7
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 claims description 36
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 22
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 15
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910001172 neodymium magnet Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000010584 magnetic trap Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 1
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3266—Magnetic control means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32055—Arc discharge
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
511 '159 2 volymer. På grund av reducerade rekombinationsförluster leder den magnetiska inneslutningen till högre plasmatätheter jämfört med fall utan magnetiska hjälpmedel. Vid låga gastryck där kollisioner mellan partiklar är mindre frekventa och är fria medelvägländen för partiklar ofta längre än reaktorkammarens dimensioner. Partiklar kan fä hög energi från genererande fält och väggrekombinationshastigheten kan överväga jonisering. Ett sådant plasma kan inte upprätthållas utan extra magnetisk inneslutning.
Ett magnetfält kan dessutom utnyttjas som en aktiv komponent i olika mekanismer för plasmagenerering, Till exempel i elektron- och joncyklotron- resonanser (ECR, ICR), där magnetisk induktion B hänför sig både till generatorfrekvensen u) och elektron- eller jonmassan: B = to mai/ qai.
Ytterligare exempel är hybridresonanser, Landaudämpningsunderstödd plasmauppvärmning, osv. Både den magnetiska induktionen och det magnetiska flödets form kan optimeras samtidigt så att den resonanta alstringen av högdensitetsplasmat kan kombineras med dess inneslutning inom en definierad volym.
Flera olika typer av magnetiska inneslutningar (plasmatraps) för radio- frekventa (RF) glödurladdningar som utnyttjar statiska magnetfält genererade genom induktionsspolar patenterades av A.S. Penfold and J .A. Thornton (US Patent No. 4,1 16,794, 26-09-1978). Patentet introducerar olika arrangemang med magnetiska induktionsspolar optimerade för olika RF-elektrodgeometrier.
Målsättningen med denna optimering är att maximera urladdningsinne- slutningen och att hålla plasmat vid liv ner till låga gastryck i urladdnings- kammaren. Alla spolarrangemangen som yrkas är statiska i både tid och rum.
Det är också möjligt att "flytta" magnetfältet i rymden, antingen genom att flytta induktionsspolen själv eller genom att stegvis koppla in strömmen till på varandra följande induktionsspolar i en uppsättning av spolar. Till exempel 511 139 3 användes magnetfält med rörliga induktionsspolar vid ECR-urladdningar (R.
I-lytry et al., J. Vac: Sci. Technol., 1993). Det periodiska ersättandet av magnetfältet i ett statiskt system med elrnagneter genom successiv förflyttning av genereringsströmmen i respektive spolar rapporterades i ett system med en induktiv RF-urladdning av M. Murata et al. (Vacuum 1997). Dessa magnet- fältsrörelser är baserade på rumslig omflyttning (utbyte) av de magnetiska organen utan ändring av magnetiska flödeslinjers form eller fältgeometrin.
I allmänhet är skapandet av en lämplig form av magnetfält med hjälp av induktionsspolar omöjligt om man kräver en hög magnetisk induktion i små volymer eller inom begränsade områden. Beträffande dessa problem blev året 1984 ett “genombrott”, på grund av upptäckten av kraftiga perrnanentrnag- neter baserade på ternära interrnetalliska samrnansättningar, t.ex. Nd-Fe-B (se t.ex. boken “Ferromagnetic materials” av E.P. Wohlfarth och K.H.J.
Buschow, North-Holland, 1988, kapitel 1, Fig.l sid. 4 samt sid. 7). Denna typ av magneter kan tillhandahålla ett mycket kraftigt magnetfält (mer än 0,1 Tesla vid magnetytan). I många praktiska fall ersätter dessa magneter med stor framgång induktionsspolar och de tillåter magnetfältstillämpningar med mycket väldefinierade fonner i utvalda utrymmen. Den viktigaste möjligheten är bildandet av starka lokala magnetfält med en lämplig utformning av magnetiska fältlinjer, vilket år praktiskt omöjligt med induktionsspolar.
Ett lokalt magnetfält användes i en apparat för alstring av en linjär båg- urladdning för plasmabearbetning (LAD - Linear Arc Discharge) av L. Bárdos och H. Baránková (Svensk patentpublikation SE 503 141, Nov. 1994), i synnerhet för plasmaprocesser på fasta substratytor. I denna apparat är ett par elektrodplattor, placerade mittemot varandra och kopplade till samma pol på generatorn, placerade i ett magnetiskt fält som skapas av magneter för att utveckla linjära värmezoner på elektrodplattorna mellan vilka en bågurladdning alstras. Elektrodplattoma bildar en planparallell hålkatod, negativ i förhållande till det omgivande plasmat, som representerar en virtuell anod. Värmezonerna utbildas på grund av ett jonbombardemang av plattornas 511 139 4 ytor vid hålkatodurladdningen mellan plattorna. Magnetfältet vinkelrätt mot katodplattorna underlättar i denna apparat hålkatodurladdníngen i spalten mellan plattorna. Magneternas läge kan avstämmas med avseende på elektrodplattorna genom en justeringsanordning, och fördelningen av det magnetiska fältet avstäms med hjälp av magneter och med ytterligare magneter. Sålunda är magnetfältet som används i LAD-plasmakällan stationärt både i tid och rum. För utvalda parametrar för gasflödes- hastigheten, generatorcffekten, gastrycket, osv., kan magnetfältet avstämmas och optimeras för en jämn fördelning av den resulterande plasmadensiteten längs med spalten. På grund av en kraft vxB skild från noll i många praktiska applikationer visar jonerna emellertid en tendens att ha en större koncentration på den ena sidan av hålkatodspalten. Tidsberoende ändringar av urladdningspararnetrar under LAD-källans drift förorsakar ändringar i både partiklarnas hastigheter och fördelningen av elektriska fält i urladdningen. Dessa ändringar resulterar i en ojämn erosion av katodmaterialet genom bågurladdningssputtring och/ eller förångning och följaktligen också en ojämn bearbetningshastighet av substraten.
Ett annat exempel på användning av kraftiga permanentmagneterna är den välkända magnetronsputtrings-/sputtringsetsningsanordningen. Principer och prestanda för olika magnetronsystem för sputtringsetsnings- /beläggningsprocesser beskrivs i många arbeten. Trots deras nästan "klassiska" koncept och deras kommersiella tillgänglighet sedan 1976, genomgår magnetronerna fortfarande konstruktionsändringar. Orsaken till detta är antingen en otillfredsställande plasmadensitet vid substratet för vissa tillämpningar eller ineffektiv och ojämn förbrukning av magnetron- målmateríalet åtföljd av en liten erosionsyta på målmaterialet under sputtring.
Det första problemet kan delvis lösas genom en "obalansering" av de magnetiska flödeslinjema, vilket tillåter plasmat att expandera mot substratet (B. Window och N. Savvides, 1986), eller också med hjälp av ett extra joniseringsverktyg, till exempel en hålkatod (J .J . Cuomo et al., US Patent 4,588,490 inlämnat 22-05-1985) alternativt med en yttre RF-spole (S.M. 511139 s Rossnagel och J. I-lopwood, Appl. Phys. Lett., 1993). Det andra problemet reduceras i magnetroner med en roterande cylindriskt målmaterial "C-Mag" (M. Wright et al., J. Vac. Sci. Technol., 1986; A. Belkind et al., Thin Solid Films 1991) samt i magnetroner med ihåliga målmaterial (visade i US Patent 5,073,245 av V.L. Hedgcoth, 1991). En annan lösning är baserad på nya magnetfältsformgivningar med användning av permanenünagneter som visat i US Patent 5,262,028 av Sierra Applied Sciences Inc. En översikt av olika arrangemang av magnetiska fält i alla kända magnetroner presenterades till exempel av J. Musil et al. (Vacuum 1995) eller av R. Kukla (Surf. Coat.
Technol. 1997). I alla magnetroner används antingen det stationära magnetfältet (slutet eller obalanserat) eller så rör sig fältet med avseende på målmaterialet under bearbetningen (C-Mag), dock utan att ändra sin form och sin induktion. Sputtringsregimema är därför "förbestämda" genom magnetfâltets form, som ej kan ändras under magnetronens drift.
SAMMANFATTNING AV UPPF IN N IN GEN Syftet med den föreliggande uppfinningen är därför att övervinna begränsningarna och nackdelarna enligt den ovan beskrivna teknikens ståndpunkt och att tillhandahålla en plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter för att uppnå ett justerbart tidsvaríabelt magnetfält.
Enligt ett första syfte i enlighet med den föreliggande uppfinningen innefattar en plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter åtminstone ett par av ett första vridbart permanentmagnetsystem och ett andra vridbart permanent- magnetsystem placerade mittemot varandra, innefattande individuella perma- nentmagneter med en maximal magnetisk induktion större än 10* Tesla, ett drivsystem placerat för drivrörelsen för dessa vridbara perrnanentmagnet- system, en grundläggande plasmabearbetningsanordning som används i kombination med dessa vridbara permanentmagnetsystem för bildandet av tidsvariabla magnetflödeslinjer och för att påverka ett plasma alstrat av plasmabearbetningsanordningen, samt ett styrsystem innefattande ett avkännarsystem och ett återkopplingssystem anslutet till det drivsystemet och 511 139 6 anordnat för styrning av dessa permanentmagneters rörelse i de vrídbara permanentmagnetsystemen i förhållande till ändringar i plasmat.
Enligt ett andra syfte med den föreliggande uppfinningen innefattar en plasmabearbetningsapparat med vrídbara magneter åtminstone ett par av ett första vridbart permanentmagnetsystem och ett andra vridbart permanent- magnetsystem placerade mittemot varandra, innefattande individuella permanenta magneter med en maximal magnetisk induktion större än 10* Tesla, ett drivsystem placerat för drivning av rörelsen för dessa vrídbara permanentmagnetsystem, en grundläggande plasmabearbetningsanordning innefattande en linjär bågurladdningsapparat med åtminstone ett par hålkatodsplattor placerade i ett magnetfält där stationära magnetflödeslinjer är antingen ersatta eller påverkade av tidsvariabla magnetflödeslinjer bildade av dessa vrídbara permanentmagnetsystem för att alstra ett tidsberoende hålkatodplasma, ett styrsystem innefattande ett avkännarsystem och ett återkopplingssystem anslutet till drivsystemet och anordnat för styrning av dessa vrídbara permanentrnagnetsystems rörelse med hänsyn till ändringar i det tidsberoende hålkatodplasmat.
Enligt ett tredje syfte med den föreliggande uppfinningen innefattar den grundläggande plasmabearbetningsanordningen enligt de tidigare två syftena en magnetronanordning med ett stationärt magnetsystem i vilket de vrídbara permanentmagnetsystemen placeras för att bilda tidsvariabla magnet- flödeslinjer vilka genomkorsar ett magnetronmålmaterial för alstring av ett tidsberoende magnetronplasma.
Enligt ett fjärde syfte med den föreliggande uppfinningen innefattar den grundläggande plasmabearbetningsanordningen en magnetronanordning med ett roterande magnetronmålmaterial, i vilken dessa vrídbara permanent- magnetsystem installeras på en hållare tillsammans med det stationära magnetsystemet. 511139 7 Enligt ett femte syfte med den föreliggande uppfinningen innefattar den grundläggande plasmabearbetriingsanordningen ett aktivt plasma i en reaktor där de vridbara pennanentmagnetsystemen placeras utanför och/ eller inuti reaktorn för att forma dessa tidsvariabla magnetflödeslínjer och för att generera tidsberoende kompakta plasmaregioner.
Enligt ett sjätte syfte med den föreliggande uppfinningen innefattar de vridbara permanentrnagnetsystemen individuella permanentmagneter som har olika maximal magnetisk induktion och/ eller olika magnetflödes- linjeríktningar.
Enligt ett sjunde syfte enligt den föreliggande uppfinningen möjliggör drivsystemet styrt av styrsystemet drivning av rörelsen för de vridbara permanentmagnetsystemen i en stegvis rörelse eller i en vibrationsrörelse kring utvalda positioner.
KORT BESKRIVNING AV RITNINGARNA Ändamålen, funktionerna och fördelarna med den föreliggande uppfinningen som den beskrivits ovan kommer att bli uppenbara genom beskrivningen av uppfinningen som ges i samband med de medföljande figurerna, i vilka: FIG. 1 är en schematisk bild av en första utföringsform i enlighet med den föreliggande uppfinningen, vilken visar ett exempel på en plasma- bearbetningsapparat med vridbara magneter för en linjär bågurladd- ningsbearbetning (LAD) i ett tidsberoende hålkatodplasma, FIG. 2 är en schematisk bild av en andra utföringsform av den föreliggande uppfmningen, vilken visar ett annat exempel på en plasma- bearbetningsapparat med vridbara magneter i kombination med en magnetronanordning för alstring av ett tidsvarierande magnetron- plasma, 511 139 FIG. 3 FIG. 4 FIG. 5 FIG. 6 FIG. 7 8 är en schematisk bild av en tredje utföringsforrn av den föreliggande uppfinningen, vilken visar ett ytterligare exempel på en plasma- bearbetningsapparat med vridbara magneter installerade i en magnetronanordning med ett roterande cylindriskt målmaterial för alstring av ett tidsberoende magnetronplasma, är en schematisk bild av en fjärde utföringsform av den föreliggande uppfinningen, vilken visar ett vidare exempel på en plasmabear- betningsapparat med vridbara magneter i en reaktor med ett aktivt plasma för generering tídsberoende kompakta plasmaregioner, visar ett exempel på en plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter i enlighet med en första utföringsfonn av den föreliggande uppfinningen, med sekvenser med 45° positionsändring från O° till 3l5° för de vridbara permanentmagnetsystemen och påverkan av fördelning respektive av magnetflödeslinjer, fördelning av ett plasma samt fördelning av en värmezon vid elektrodplattor i en hål- katodurladdning alstrad av apparaten visad i FIG. 1, visar ett exempel på en plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter i enlighet med den föreliggande uppfinningen i dess första utföringsfonn, för 45° Sekventiell positionsändríng från O° till 3l5° av de vridbara permanentmagnetsystemen och åtföljande inverkan på fördelningen av magnetiska flödeslinjer och magnetilödeslinjer skapade av ett stationårt magnetsystem respektive inverkan på en plasmafördelning, visar ett exempel på en plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter i enlighet med en andra utföringsform av den föreliggande uppfinningen, med 45° Sekventiell positionsåndring från 0° till 3l5° av de vridbara perrnanentrnagnetsystemen i förhållande till ett stationärt magnetsystem i en magnetronanordning, en inverkan på 511 139 9 fördelning av de magnetiska flödeslinjerna och på fördelning av ett magnetronplasma alstrat i apparaten som visats i FIG. 2, FIG. 8 visar ett exempel på en plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter i enlighet med en andra utföringsform av den föreliggande uppfmningen, med 45° Sekventiell positionsändring från 0° till 3l5° av de vridbara permanentmagnetsystemen i förhållande till ett stationärt magnetsystem i en magnetronanordning, en inverkan på fördelningen av magnetiska flödeslinjer och fördelning av ett magnetronplasma alstrat i apparaten som visats i FIG. 2; FIG. 9 är ett annat exempel som visar en förenklad bild av de vridbara permanentmagnetsystemen för plasmabearbetningsapparaten enligt den föreliggande uppfinningen och ett arrangemang av de individuella permanenta magnetema.
DETALJERAD BESKRIVNING Med hänvisning till FIG. 1 beskrivs en första utföringsforrn av en plasma- bearbetningsapparat med vridbara magneter i enlighet med den föreliggande uppfinningen. Åtminstone ett par av ett första vrldbart permanent- magnetsystem l och ett andra vridbart perrnanentrnagnetsystem 2 inne- fattande individuella permanentmagneter 3 år placerade mittemot varandra.
För att ge ett tillräckligt starkt magnetflöde tvårsöver ett utrymme mellan de vridbara permanentmagnetsystemen skall samtliga individuella permanent- magneter ha sin maximala magnetiska induktion större än 10"* Tesla (1000 Gauss). Starka NdFeB-perrnanentmagneter som uppvisar en ytínduktion upp till omkring 0,5 Tesla eller mer år lämpliga för detta ändamål. De vridbara permanentrnagnetsystemen drivs av ett drivsystem 4 som t.ex. utför en rotation av permanentmagnetsystemen i motsatta riktningar mot varandra.
De vridbara permanentmagnetsystemen används i kombination med en grundläggande plasmabearbetningsanordning 5, t.ex. med en linjär bågurladdningsapparat (LAD), visad i FIG. 1 som en första utföringsform av 511 139 10 den föreliggande uppfinningen. De vridbara permanentmagnetsystemens rörelser gör både fördelningen av magnetflödet och den magnetiska induktionens storlek i ett utrymme mellan de vridbara permanent- magnetsystemen tidsberoende. Tidsberoende magnetiska flödeslinjer 6 påverkar ett plasma 7 alstrat av den grundläggande plasmabearbet- ningsanordningen. När det gäller LAB-apparaten går det bra att ersätta de stationära permanentrnagneterna som skapar magnetfältet över spalten mellan hålkatodplattorna 8 med de vridbara permanentmagnetsystemen. I detta fall beror bildandet av värmezoner på. elektrodplattoma i LAD-apparaten på ändringar av magnetflödeslinjerna 6 och ett tidsberoende hålkatodplasma 10 alstras. Dessutom påverkas av de vridbara permanentmagnetsystemen också stationära magnetflödeslinjer 9, skapade genom ett stationärt magnet- system 14. Denna påverkan resulterar i tidsberoende ändringar i plasma alstrat med apparaten. I ett enklaste fall orsakar en stadig rotering av de vridbara permanentrnagnetsystemen en symmetrisering av hålkatodplasma- densiteten längs med hålkatodspalten, oberoende av experimentella para- meterändringar, t.ex. gasflöde, gastryck, effekt, osv. Rotationsfrekvensen för permanentmagneterna representerar för styrning av processen en ny parameter, som inte är tillgänglig i det statiska fältet i LAD-apparaterna. De vridbara permanentrnagnetsystemen kan även drivas i en stegvis rörelse eller i en vibrationsfunktionsmod kring utvalda positioner. Dessa rörelser kan fördelaktigt utnyttjas för automatisk styrning av utvalda parametrar, t.ex. plasmaparametrar, genom ett styrsystem ll innefattande ett avkännarsystem 12 för detektering av utvalda parametrar och ett äterkopplingssystem 13 för styrning av ett drivsystem 4. Sådana slutna återkopplade styrsystem reagerar på ändringar av plasmaparametrar och tvingar drivsystemet att ändra de vridbara permanentmagneternas läge så att parametrarna återgår till de på förhand valda värdena.
Med hänvisning till FIG. 2 beskrivs med en schematisk bild en andra utföringsform av en plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter i enlighet med den föreliggande uppfinningen. Ett par av ett första vridbart 511 139 11 permanentmagnetsystem 1 och ett andra vridbart permanentmagnetsystem 2 innefattande individuella permanentmagneter 3 placeras mittemot varandra.
De individuella perrnanentrnagneterna har en maximal magnetisk induktíon mer än 10"* Tesla (1000 Gauss). De vridbara permanentrnagnetsystemen drivs av ett drivsystem 4 som utför t.ex. en rotation av de vridbara permanent- magnetsystemen i motsatta riktningar i förhållande till varandra. Dessa vridbara permanentmagnetsystem används i kombination med en grund- läggande plasmabearbetningsanordning 5, vilken i den andra utföringsfonnen av den föreliggande uppfinningen representerar en magnetronanordning med ett stationärt magnetsystem 14. De vridbara pennanentrnagnetsystemens rörelser ändrar det stationära magnetsystemets magnetfält och gör tidsberoende både fördelningen av magnetflödet och den magnetiska induktionens storlek på ett magnetronmålmaterial 16. Tidsberoende magnetiska flödeslinjer 6 förorsakar ett tidsberoende magnetronplasma 17, både i form och i parametrar. Denna tidsavhängighet resulterar i en tidsberoende erosion av målmaterialet i en erosionszon 18. Erosionszonen kan förstoras och dessutom kan magnetronen bli periodiskt obalanserad och balanserad, beroende på arrangemanget med de vridbara permanent- magnetsystemen inom magnetronens stationära magnetsystem. Styrning av plasmaparametrama och/ eller målmaterialerosion möjliggörs av ett styrsystem ll innefattande ett sensorsystem 12 och ett äterkopplingssystem 13 anslutet till drivsystemet.
Med hänvisning till FIG. 3 beskrivs med en schematisk bild en tredje utföringsforrn av en plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter i enlighet med den föreliggande uppfinningen. Ett par av ett första vridbart permanentrnagnetsystem l och ett andra vridbart permanentmagnetsystem placerade mittemot varandra används i kombination med en grundläggande plasmabearbetningsanordning 5, vilken i den tredje utföringsformen av den föreliggande uppfinningen representerar en magnetron med ett roterande målmateríal 19. Vridbara permanentmagrietsystemen installeras på en hållare 20 tillsammans med ett stationärt magnetsystem 14. De vridbara 511139 12 permanentmagnetsystemen påverkar det stationära magnetsystemets magnetfält och gör både fördelningen av magnetflödet samt den magnetiska induktionens storlek vid det roterbara magnetronrnålrnaterialet tidsberoende.
I de fall när en enkel rotation av de vrídbara perrnanentmagnetsystemen skall användas är det också möjligt att utelärnna drivsystemet och rotera permanentrnagnetsystemet med hjälp av det roterande magnetrön- målmaterialet själv. De vrídbara pennanentrnagnetsystemen möjliggör magnetrondrift i både en obalanserad och en sluten fältregim samtidigt med ändring av deras läge i förhållande till målmaterialet. Detta år en unik förmåga som inte är möjlig i konventionella magnetroner.
Med hänvisning till FIG. 4 beskrivs en fjärde utföringsform av en plasma- bearbetningsapparat med vrídbara magneter i enlighet med den föreliggande uppfinningen. Flera par av ett första vridbart permanentrnagnetsystem 1 och ett andra vridbart permanentrnagnetsystem placerade mittemot varandra installeras i en grundläggande plasmabearbetningsanordning 5 vilken, i den fiärde utföringsforrnen av den föreliggande uppfinningen, representerar ett aktivt plasma 21 i en reaktor 22. Paren vrídbara permanentrnagnetsystem kan placeras utanför och/ eller inuti reaktorn. De vrídbara permanentmagnet- systemens rörelser, t.ex. enkel rotation som illustrerat i FIG. 4, förorsakar periodiska ändringar av plasmainneslutningen, vilket resulterar i bildandet av tidsberoende täta plasmaregioner 23. Tidsberoende ändringar av plasma- densitet, till exempel pulsation, kan korreleras med andra parametrar, t.ex. ett pulserat reaktivgasinflöde, en pulserad plasmagenerering, osv. Sådana plasmabearbetningsregimer kan vara mycket viktiga i ett antal tillämpningar, till exempel när det krävs en tidsberoende växelverkan av plasmat med substratytor vid avbrutna deponeringar, lågtemperaturbehandlingar, osv.
EXEMPEL Med hänvisning till FIG. 5 beskrivs ett första exempel som hänför sig till en första utföringsforrn av en plasmabearbetningsapparat visad i FIG. 1. En schematisk bild visar en tvärsnittsvy av de vrídbara permanentrnagnet- 511 139 13 systemen 1 och 2 vid olika vinkellägen med avseende på hålkatodplattorna 8, i det här fallet med sekventiella 45° ändringar från O° till 3l5°, och en mot- svarande sidovy av en elektrodplatta 8. Ett tidsberoende vinkelläge för de vridbara permanentmagnetsystemen förorsakar en tidsberoende form för de magnetiska flödeslinjema 6 mellan de vridbara permanentmagnetsystemen och följaktligen en tidsberoende form av hålkatodsurladdning 10. Ändringar i hålkatodsurladdningen följs av ändringar i parametrar för värmezoner 15 vid katodplattorna 8, där ett ökat jonbombardemang, termisk och sekundär emission av elektroner liksom en ökad erosion av katodplattematerialet äger rum. De vridbara perrnanentrnagnetsystemens rörelse, till exempel enkel rotation, utjämnar fördelaktigt värmezonernas fördelning och följaktligen den resulterande likformigheten i plasmabearbetning längs hålkatoden.
Med hänvisning till FIG. 6 beskrivs ett andra exempel relaterat till en första utföringsforrn av en plasmabearbetningsapparat visad i FIG. 1. En schematisk bild visar tvärsnittsvyer av de vridbara permanentrnagnetsystemen 1 och 2 vid olika vinkelpositioner med avseende på hålkatodplattoma 8, i det här fallet med 45° sekventiella ändringar från O° till 3l5°, samt ett stationårt magnet- system 14. Ett tidsvariabelt vinkelläge för de vridbara permanentmagnet- systemen orsakar tidsberoende former för de magnetiska flödeslinjema 6 mellan de vridbara permanentmagrietsystemen och detta påverkar också de stationära magnetiska flödeslinjema 9. Det resulterar i tidsberoende former för både en hålkatodurladdning 10 och ett plasma 7 alstrat av apparaten.
Med hänvisning till FIG. 7 beskrivs ett tredje exempel relaterat till en andra utföringsforrn av plasmabearbetningsapparaten visad i FIG. 2. En schematisk bild visar tvärsnittsvyer av de vridbara permanentmagnetsystemen 1 och 2 installerade i kombination med en magnetronanordning vid olika vinkellägen, i det här fallet med 45° sekventiella ändringar från O° till 315° med avseende på ett stationärt magnetsystem 14 och på ett magnetronmålmaterial 16.
Tidsberoende vinkellägen för de vridbara perrnanentmagnetsystemen förorsakar tidsvariabla former för de magnetiska flödeslinjema 6 vilka 511 139 14 genomkorsar ett magnetronmålmaterial 16. Detta resulterar i en tidsberoende form av magnetronurladdningen 17. I detta exempel är de vridbara permanentmagnetsystemen installerade i en magnetron med en balanserat fältinställning och förorsakar obalans i en del av det stationära magnetfältet.
De vridbara permanentmagnetsystemens rörelser, t.ex. enkel rotation, skapar tidsberoende växlingar mellan de balanserade och obalanserade delarna av fältet. Följaktligen kan en magnetronerosionszon utsträckas och både ett obalanserat område och ett balanserat område av magnetronurladdningen rör sig periodiskt över målrnaterialet.
Med hänvisning till FIG. 8 beskrivs ett andra exempel relaterat till en andra utföringsforrn av en plasmabearbetningsapparat visad i FIG. 2. En schematisk bild visar tvärsnittsvyer av de vridbara perrnanentmagnetsystemen l och 2 installerade i kombination med en magnetrondiodanordning vid olika vinkellägen, i det här fallet med 45° sekventiella ändringar från O° till 3l5°, med avseende på ett stationärt magnetsystem 14 och ett magnetronmålmaterial 16. Tidsberoende vinkellâgen för de vridbara permanentmagnetsystemen orsakar tidsvariabla former av de magnetiska flödeslinjerna 6 vilka genomkorsar magnetronmålmaterialet 16. Detta resulterar i en tidsberoende form av magnetronurladdningen 17. I detta exempel är de vridbara permanentmagnetsystemen installerade i en magnetron med en obalanserad fåltinställning och förorsakar en balansering av en del av det stationära magnetfältet. De vridbara permanent- magnetsystemens rörelser, t.ex. enkel rotation, skapar tidsberoende växlingar mellan de balanserade och obalanserade delarna av fältet. Följaktligen kan magnetronerosionszonen utsträckas och ett obalanserat område och ett balanserat område av magnetronurladdningen rör sig periodiskt över målmaterialet.
Slutligen skall med hänvisning till FIG. 9 beskrivs ett femte exempel som hänför sig till alla utföringsformer av en plasmabearbetningsapparat. Figuren visar ett exempel på vridbara permanentmagnetsystem 1 och 2 med 511 139 15 individuella permanentmagneter 3 installerade längs rotationsaxlar 24 och 25 för de respektive vrídbara permanentmagnetsystemen 1 och 2. Individuella magneter har en viss vinkel med avseende på båda grannrnagneterna, t.ex. 22,5°. Detta speciella arrangemang av individuella magneter leder till en axialberoende fonn av de tidsberoende magnetiska flödeslinjerna 6. Den här typen av magnetarrangemang kan fördelaktigt användas vid styrning av urladdningar i plasmabearbetningsapparater. Det resulterar i mera komplexa former av tidsberoende urladdningar, som kan till exempel röras periodiskt längs ett hålkatodutlopp, eller både längs med och tvärsöver ett magnetronmålmaterial, osv.
Plasmabearbetningsapparaten med vrídbara magneter i enlighet med föreliggande uppfinning har många tänkbara tillämpningar inom plasma- teknologi. De vrídbara perrnanentrnagnetsystemen möjliggör en ersättning av "rigida" koncept vid bearbetande urladdningar med aktiva tids- och rumskontrollerade media. Karaktärer för sådana media påminner om pulserad processning, men bättre stabilitet och kontroll är möjlig genom tídsstyrda ändringar. En likformighet i plasmabearbetningen förbättras också.
Istället för en "perfekt ordning", vanligen krävd av det bearbetande plasmat, kan en mer naturlig "fullständig oordning" ställa in sig och kontrolleras genom speciella arrangemang av de vrídbara permanentmagnetsystemen. Sådana arrangemang kan grunda sig, t.ex., på planetlíknande rörelser av de vrídbara permanentmagnetsystemen, på olika magnetiska induktioner hos de individuella permanentmagnetema i de vrídbara permanentmagnetsystemen, på samtidiga rörelser av alla magneterna i apparaten, osv. De vrídbara pcrmanentmagnetsystemen kan användas i nya typer av plasmakällor där en tids- eller rumsstyrning av urladdningen krävs.
Claims (7)
1. Plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter, kännetecknat av åtminstone ett par av ett första vridbart permanentrnagnetsystem (1) och ett andra vridbart permanentmagnetsystem (2) innefattande individuella permanentmagneter (3), varvid de första och andra permanentmagnet- systemen är placerade mittemot varandra, varjämte de individuella permanentmagnetema har en maximal magnetisk induktion av mer än 10* Tesla, ett drivsystem (4) placerat för drivning av en rörelse av permanent- magneterna i de vridbara permanentmagnetsystemen, en grundläggande plasmabearbetningsanordning (5) används i kombination med de vridbara permanentmagnetsystemen för bildande av tidsvariabla magnetflödeslinjer (6) och för päverkande av ett plasma (7) som alstrats av den grundläggande plasmabearbetningsanordningen, ett styrsystem (l 1) innefattande ett avkännarsystem (12) och ett äterkopplingssystem (13) anslutet till drivsystemet och placerat för styrning av dessa permanentmagneters rörelse i de vridbara permanentmagnetsystemen med avseende på ändringar i plasmat.
2. Plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter, speciellt för bågurladdningsbearbetning, kännetecknar! av åtminstone ett par av ett första vridbart permanentmagnetsystem (1) och ett andra vridbart permanentmagnetsystem (2) innefattande individuella permanentmagneter (3), varvid de första och andra permanentmagnet- systemen är placerade mittemot varandra, varjäinte de individuella permanentrnagneterna har en maximal magnetisk induktion av mer än 104 Tesla, ett drivsystem (4) placerat för drivning av en rörelse av permanent- magneterna i de vridbara permanentmagnetsystemen, 511 139 17 en grundläggande plasmabearbetningsanordning (5) innefattande en linjär bågurladdningsapparat med åtminstone ett par hålkatodplattor (8) placerade i ett magnetfält där stationära magnetiska flödeslinjer (9) är antingen ersatta eller påverkade av tidsvariabla magnetiska flödeslinjer (6) bildade genom de vridbara perrnanentrnagnetsystemen för alstríng av ett tidsberoende hålkatodplasma (10), ett styrsystem (11) innefattande ett sensorsystem (12) och ett återkopp- lingssystem (13) anslutet till drivsystemet placerat för styrning av permanent- magnetemas rörelse i de vridbara permanentmagnetsystemen med avseende på ändringar i detta tidsberoende hålkatodplasma.
3. Plasmabearbetningsapparat enligt krav 1 eller 2, kännetecknad av att den grundläggande plasmabcarbetningsanordningen (5) innefattar en magnetrön- anordning med ett stationârt magnetsystem (14), i vilket de vridbara permanentmagnetsystemen inplaceras för att forma de tidsvariabla magnetiska flödeslinjerna som genomkorsar ett magnetronmålmaterial (16) för alstríng av ett tidsberoende magnetronplasma (17).
4. Plasmabearbetningsapparat enligt krav l eller 3, kännetecknad av att den grundläggande plasmabearbetningsanordningen (5) innefattar en magnetrön- anordning med ett roterande magnetronmålmateríal (19), i vilken de vridbara permanentmagnetsystemen installeras på en hållare (20) tillsammans med det stationära magnetsystemet.
5. Plasmabearbetningsapparat enligt något av föregående krav, kännetecknad av att den grundläggande plasmabearbetningsanordningen (5) innefattar ett aktivt plasma (21) i en reaktor (22) där de vridbara permanentmagnetsystemen placeras utanför och/ eller inuti reaktorn för att fonna de tidsvariabla magnetiska flödeslinjerna för att generera tidsberoende kompakta plasmaregioner (23). 511 159 18
6. Plasmabearbetriingsapparat enligt något av föregående krav, kännetecknad av att de vridbara permanentmagnetsystemen innefattar individuella pennanentmagneter som har olika maximal magnetisk induktion och/ eller olika riktningar för magnetflödeslínjer.
7. Plasmabearbetningsapparat enligt något av föregående krav, kännetecknad av att drivsystemet för styrning av permanentmagneternas rörelse i de vridbara permanentmagnetsystemen möjliggör drivning av de vridbara perrnanentrnagnetsystemen i en stegvis rörelse eller i en vibratíons- funktionsmod kring utvalda lägen.
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE9704260A SE511139C2 (sv) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | Plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter |
| JP2000522766A JP4491132B2 (ja) | 1997-11-20 | 1998-11-03 | プラズマ処理装置 |
| US09/554,666 US6351075B1 (en) | 1997-11-20 | 1998-11-03 | Plasma processing apparatus having rotating magnets |
| EP98954885A EP1033068B2 (en) | 1997-11-20 | 1998-11-03 | Plasma processing apparatus having rotating magnets |
| PCT/SE1998/001983 WO1999027758A1 (en) | 1997-11-20 | 1998-11-03 | Plasma processing apparatus having rotating magnets |
| AU11820/99A AU1182099A (en) | 1997-11-20 | 1998-11-03 | Plasma processing apparatus having rotating magnets |
| DE69828904T DE69828904T3 (de) | 1997-11-20 | 1998-11-03 | Plasmabehandlungsgerät mit rotierenden magneten |
| CZ20001853A CZ298474B6 (cs) | 1997-11-20 | 1998-11-03 | Zarízení na zpracování plazmatem |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE9704260A SE511139C2 (sv) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | Plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SE9704260D0 SE9704260D0 (sv) | 1997-11-20 |
| SE9704260L SE9704260L (sv) | 1999-05-21 |
| SE511139C2 true SE511139C2 (sv) | 1999-08-09 |
Family
ID=20409052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SE9704260A SE511139C2 (sv) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | Plasmabearbetningsapparat med vridbara magneter |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6351075B1 (sv) |
| EP (1) | EP1033068B2 (sv) |
| JP (1) | JP4491132B2 (sv) |
| AU (1) | AU1182099A (sv) |
| CZ (1) | CZ298474B6 (sv) |
| DE (1) | DE69828904T3 (sv) |
| SE (1) | SE511139C2 (sv) |
| WO (1) | WO1999027758A1 (sv) |
Families Citing this family (58)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7067034B2 (en) * | 2000-03-27 | 2006-06-27 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for plasma forming inner magnetic bucket to control a volume of a plasma |
| CZ296094B6 (cs) * | 2000-12-18 | 2006-01-11 | Shm, S. R. O. | Zarízení pro odparování materiálu k povlakování predmetu |
| SE525231C2 (sv) * | 2001-06-14 | 2005-01-11 | Chemfilt R & D Ab | Förfarande och anordning för att alstra plasma |
| US6777885B2 (en) | 2001-10-12 | 2004-08-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Drive circuit, display device using the drive circuit and electronic apparatus using the display device |
| US6811657B2 (en) * | 2003-01-27 | 2004-11-02 | Micron Technology, Inc. | Device for measuring the profile of a metal film sputter deposition target, and system and method employing same |
| US6864773B2 (en) * | 2003-04-04 | 2005-03-08 | Applied Materials, Inc. | Variable field magnet apparatus |
| JP3508110B1 (ja) * | 2003-04-25 | 2004-03-22 | 卓三 岩田 | イオン化可能物質の活性化装置 |
| JP2006024775A (ja) * | 2004-07-08 | 2006-01-26 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置、該装置の制御方法及び該方法を実行するプログラム |
| DE112005001599B4 (de) | 2004-07-09 | 2019-03-28 | National Institute For Materials Science | Verfahren zum Umstellen der Magnetflussverteilung einer Magnetron-Zerstäubungsvorrichtung |
| DE102005019101A1 (de) * | 2005-04-25 | 2006-10-26 | Steag Hama Tech Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten |
| CN100460557C (zh) * | 2005-09-28 | 2009-02-11 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 操作物理气相沉积工艺的方法与系统 |
| JP5147000B2 (ja) * | 2005-10-07 | 2013-02-20 | 国立大学法人東北大学 | マグネトロンスパッタ装置 |
| EP1969613B1 (en) * | 2005-12-22 | 2012-08-22 | Oerlikon Solar AG, Trübbach | Method of manufacturing at least one sputter-coated substrate and sputter source |
| CN101466862A (zh) * | 2006-06-08 | 2009-06-24 | 芝浦机械电子株式会社 | 磁控溅射磁体部件、磁控溅射装置和方法 |
| US10043642B2 (en) * | 2008-02-01 | 2018-08-07 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Magnetron sputtering source and arrangement with adjustable secondary magnet arrangement |
| KR101009642B1 (ko) * | 2008-07-09 | 2011-01-19 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치 및 이를 갖는마그네트론 스퍼터링 설비 |
| EP2251455B1 (en) | 2009-05-13 | 2017-09-06 | SiO2 Medical Products, Inc. | PECVD coating using an organosilicon precursor |
| US8698400B2 (en) * | 2009-04-28 | 2014-04-15 | Leybold Optics Gmbh | Method for producing a plasma beam and plasma source |
| US9458536B2 (en) | 2009-07-02 | 2016-10-04 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles |
| KR20120085254A (ko) * | 2009-09-05 | 2012-07-31 | 제너럴 플라즈마, 인크. | 플라스마 증강 화학적 기상 증착 장치 |
| US11624115B2 (en) | 2010-05-12 | 2023-04-11 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubrication |
| WO2011156876A1 (en) | 2010-06-18 | 2011-12-22 | Mahle Metal Leve S/A | Plasma processing device |
| WO2011156877A1 (en) | 2010-06-18 | 2011-12-22 | Mahle Metal Leve S/A | Plasma processing device |
| US9878101B2 (en) | 2010-11-12 | 2018-01-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods |
| US9272095B2 (en) | 2011-04-01 | 2016-03-01 | Sio2 Medical Products, Inc. | Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods |
| US9378934B2 (en) * | 2011-05-30 | 2016-06-28 | Hitachi Metals, Ltd. | Racetrack-shaped magnetic-field-generating apparatus for magnetron sputtering |
| KR101241049B1 (ko) | 2011-08-01 | 2013-03-15 | 주식회사 플라즈마트 | 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 발생 방법 |
| KR101246191B1 (ko) * | 2011-10-13 | 2013-03-21 | 주식회사 윈텔 | 플라즈마 장치 및 기판 처리 장치 |
| US11116695B2 (en) | 2011-11-11 | 2021-09-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Blood sample collection tube |
| CN103930595A (zh) | 2011-11-11 | 2014-07-16 | Sio2医药产品公司 | 用于药物包装的钝化、pH保护性或润滑性涂层、涂布方法以及设备 |
| CA2887352A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Saccharide protective coating for pharmaceutical package |
| US20150297800A1 (en) | 2012-07-03 | 2015-10-22 | Sio2 Medical Products, Inc. | SiOx BARRIER FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE AND COATING PROCESS |
| JP6509734B2 (ja) | 2012-11-01 | 2019-05-08 | エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド | 皮膜検査方法 |
| US9903782B2 (en) | 2012-11-16 | 2018-02-27 | Sio2 Medical Products, Inc. | Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics |
| WO2014085348A2 (en) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of pecvd deposition on medical syringes, cartridges, and the like |
| US9764093B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-09-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
| EP2778253B1 (de) * | 2013-02-26 | 2018-10-24 | Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon | Zylinderförmige Verdampfungsquelle |
| EP2961858B1 (en) | 2013-03-01 | 2022-09-07 | Si02 Medical Products, Inc. | Coated syringe. |
| CN105392916B (zh) | 2013-03-11 | 2019-03-08 | Sio2医药产品公司 | 涂布包装材料 |
| US9937099B2 (en) | 2013-03-11 | 2018-04-10 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate |
| US9508532B2 (en) * | 2013-03-13 | 2016-11-29 | Bb Plasma Design Ab | Magnetron plasma apparatus |
| EP2971227B1 (en) | 2013-03-15 | 2017-11-15 | Si02 Medical Products, Inc. | Coating method. |
| CN103269555B (zh) * | 2013-04-28 | 2016-07-06 | 哈尔滨工业大学 | 用具零磁场区的磁场位形约束高温等离子体的系统和方法 |
| RU2554085C2 (ru) * | 2013-09-20 | 2015-06-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова" (МГУ) | Способ нагрева электродов и создания самостоятельного дугового разряда с поджигом от тонкой металлической проволочки в свободном пространстве в магнитном поле |
| US11066745B2 (en) | 2014-03-28 | 2021-07-20 | Sio2 Medical Products, Inc. | Antistatic coatings for plastic vessels |
| US9533909B2 (en) | 2014-03-31 | 2017-01-03 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for material processing using atmospheric thermal plasma reactor |
| US9550694B2 (en) * | 2014-03-31 | 2017-01-24 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for material processing using plasma thermal source |
| US10410889B2 (en) | 2014-07-25 | 2019-09-10 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for electrical and magnetic uniformity and skew tuning in plasma processing reactors |
| RU2577040C2 (ru) * | 2014-07-29 | 2016-03-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова" (МГУ) | Магнитный гаситель самостоятельного дугового разряда |
| JP6403269B2 (ja) * | 2014-07-30 | 2018-10-10 | 株式会社神戸製鋼所 | アーク蒸発源 |
| US20160200618A1 (en) | 2015-01-08 | 2016-07-14 | Corning Incorporated | Method and apparatus for adding thermal energy to a glass melt |
| US11077233B2 (en) | 2015-08-18 | 2021-08-03 | Sio2 Medical Products, Inc. | Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate |
| RU2614526C2 (ru) * | 2015-08-31 | 2017-03-28 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова" (МГУ) | Способ отклонения тепловой кумулятивной струи расплавленного металла и образованного ей канала на металлической поверхности катода в дуговом импульсном разряде при взрыве проволочки между электродами действием поперечного магнитного поля |
| CA3027669A1 (en) * | 2016-06-21 | 2017-12-28 | Medident Technologies Inc. | Plasmaclave device |
| FR3079775B1 (fr) * | 2018-04-06 | 2021-11-26 | Addup | Dispositif de chauffage a confinement magnetique pour appareil de fabrication additive selective |
| CN111411338B (zh) * | 2020-04-07 | 2023-04-14 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体设备中的磁力件结构以及半导体磁控溅射设备 |
| US11784033B2 (en) | 2021-05-28 | 2023-10-10 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for processing a substrate |
| CN118480675A (zh) * | 2024-07-09 | 2024-08-13 | 河南通达电缆股份有限公司 | 一种防止铜线氧化的退火系统及方法 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5143371A (en) * | 1974-10-12 | 1976-04-14 | Daido Steel Co Ltd | Netsushorihohooyobi netsushorisochi |
| US4588490A (en) * | 1985-05-22 | 1986-05-13 | International Business Machines Corporation | Hollow cathode enhanced magnetron sputter device |
| JPH02243762A (ja) † | 1989-03-17 | 1990-09-27 | Hitachi Ltd | スパッタ装置 |
| JPH02246216A (ja) | 1989-03-20 | 1990-10-02 | Hitachi Ltd | プラズマ装置 |
| JPH0688229A (ja) * | 1991-01-29 | 1994-03-29 | Boc Group Inc:The | 二重円筒マグネトロンに於けるスパッタリングターゲットの磁場ゾーン回転の電気制御 |
| JPH04346662A (ja) * | 1991-05-22 | 1992-12-02 | Ube Ind Ltd | スパッタリング方法およびその装置 |
| US5411624A (en) * | 1991-07-23 | 1995-05-02 | Tokyo Electron Limited | Magnetron plasma processing apparatus |
| JPH05148642A (ja) † | 1991-11-28 | 1993-06-15 | Hitachi Ltd | マグネトロンスパツタ装置 |
| NO174450C (no) * | 1991-12-12 | 1994-05-04 | Kvaerner Eng | Anordning ved plasmabrenner for kjemiske prosesser |
| JP3311064B2 (ja) * | 1992-03-26 | 2002-08-05 | 株式会社東芝 | プラズマ生成装置、表面処理装置および表面処理方法 |
| EP0566143B1 (en) * | 1992-04-17 | 1999-11-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus and method for generating plasma |
| JPH06181187A (ja) * | 1992-12-11 | 1994-06-28 | Hitachi Ltd | スパッタリング装置 |
| US5399253A (en) * | 1992-12-23 | 1995-03-21 | Balzers Aktiengesellschaft | Plasma generating device |
| JPH06212420A (ja) | 1993-01-13 | 1994-08-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | スパッタ及びエッチング方法 |
| JP2704352B2 (ja) | 1993-01-22 | 1998-01-26 | 信越化学工業株式会社 | 磁場発生装置 |
| JP3174982B2 (ja) | 1993-03-27 | 2001-06-11 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
| JP2970317B2 (ja) * | 1993-06-24 | 1999-11-02 | 松下電器産業株式会社 | スパッタリング装置及びスパッタリング方法 |
| US5518547A (en) * | 1993-12-23 | 1996-05-21 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for reducing particulates in a plasma tool through steady state flows |
| JP3124204B2 (ja) * | 1994-02-28 | 2001-01-15 | 株式会社東芝 | プラズマ処理装置 |
| ZA956811B (en) † | 1994-09-06 | 1996-05-14 | Boc Group Inc | Dual cylindrical target magnetron with multiple anodes |
| SE503141C2 (sv) * | 1994-11-18 | 1996-04-01 | Ladislav Bardos | Apparat för alstring av linjär ljusbågsurladdning för plasmabearbetning |
| JPH08319552A (ja) * | 1995-05-22 | 1996-12-03 | Nagata Tekko Kk | プラズマトーチおよびプラズマ溶射装置 |
-
1997
- 1997-11-20 SE SE9704260A patent/SE511139C2/sv not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-11-03 DE DE69828904T patent/DE69828904T3/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-03 JP JP2000522766A patent/JP4491132B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-11-03 AU AU11820/99A patent/AU1182099A/en not_active Abandoned
- 1998-11-03 CZ CZ20001853A patent/CZ298474B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1998-11-03 EP EP98954885A patent/EP1033068B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-03 US US09/554,666 patent/US6351075B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-03 WO PCT/SE1998/001983 patent/WO1999027758A1/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SE9704260D0 (sv) | 1997-11-20 |
| CZ298474B6 (cs) | 2007-10-10 |
| DE69828904T2 (de) | 2006-01-12 |
| JP4491132B2 (ja) | 2010-06-30 |
| WO1999027758A1 (en) | 1999-06-03 |
| JP2001524743A (ja) | 2001-12-04 |
| AU1182099A (en) | 1999-06-15 |
| US6351075B1 (en) | 2002-02-26 |
| EP1033068A1 (en) | 2000-09-06 |
| SE9704260L (sv) | 1999-05-21 |
| EP1033068B1 (en) | 2005-02-02 |
| DE69828904T3 (de) | 2012-02-09 |
| DE69828904D1 (de) | 2005-03-10 |
| EP1033068B2 (en) | 2011-03-09 |
| CZ20001853A3 (cs) | 2000-08-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6351075B1 (en) | Plasma processing apparatus having rotating magnets | |
| US7067034B2 (en) | Method and apparatus for plasma forming inner magnetic bucket to control a volume of a plasma | |
| JP2005146416A (ja) | ヘリカル磁気共振コイルを利用したイオン化物理的気相蒸着装置 | |
| US5106470A (en) | Method and device for controlling an electromagnet for a magnetron sputtering source | |
| CN113056573A (zh) | 溅射装置、薄膜制造方法 | |
| WO2005050696A1 (en) | Method and apparatus for reactive solid-gas plasma deposition | |
| EP0639939B1 (en) | Fast atom beam source | |
| JPH06220632A (ja) | 陰極スパッタリングとマイクロ波照射によるプラズマ発生装置 | |
| JPH11158625A (ja) | マグネトロンスパッタ成膜装置 | |
| KR20140080154A (ko) | 마그네트론 및 이를 포함하는 마그네트론 스퍼터링 장치 | |
| US9624570B2 (en) | Compact, filtered ion source | |
| KR100274433B1 (ko) | 스퍼트링장치 및 스퍼트링방법 | |
| JP2008542525A (ja) | 逆バイアス対向ターゲットスパッタリング | |
| JPH0881769A (ja) | スパッタ装置 | |
| CN214142510U (zh) | 带有扫描线圈的离子镀膜装置 | |
| JP5118599B2 (ja) | 荷電粒子流収束機構、荷電粒子流収束機構の使用方法および真空成膜装置 | |
| JP2625789B2 (ja) | マグネトロンスパッタカソード | |
| US20060081467A1 (en) | Systems and methods for magnetron deposition | |
| JP2002069637A (ja) | マグネトロンスパッタリング装置 | |
| JP2020139213A (ja) | マグネトロンスパッタリング装置用のカソードユニットおよび成膜方法 | |
| JP2011017088A (ja) | スパッタ成膜応用のためのプラズマ処理装置 | |
| KR100716264B1 (ko) | 이온 플레이팅 장치 | |
| JP2552700B2 (ja) | プラズマ生成装置およびプラズマを利用した薄膜形成装置 | |
| US20160064191A1 (en) | Ion control for a plasma source | |
| Barankova et al. | New Magnets-in-Motion (MM) Plasma Sources |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| NUG | Patent has lapsed |