TH1323A - ส่วนประกอบสารขัดล้างทำความสะอาด - Google Patents

ส่วนประกอบสารขัดล้างทำความสะอาด

Info

Publication number
TH1323A
TH1323A TH8301000313A TH8301000313A TH1323A TH 1323 A TH1323 A TH 1323A TH 8301000313 A TH8301000313 A TH 8301000313A TH 8301000313 A TH8301000313 A TH 8301000313A TH 1323 A TH1323 A TH 1323A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
weight
micrometers
abrasive
cleaning agent
components
Prior art date
Application number
TH8301000313A
Other languages
English (en)
Other versions
TH2724B (th
Inventor
มาร์ติน ไบรเออเลย์ จอห์น
ฟิลเดน เฮสลิเวล จอห์น
สก็อตต์ เมลวิน
Original Assignee
นายมานะ พิทยาภรณ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายมานะ พิทยาภรณ์ filed Critical นายมานะ พิทยาภรณ์
Publication of TH1323A publication Critical patent/TH1323A/th
Publication of TH2724B publication Critical patent/TH2724B/th

Links

Abstract

ได้มีการเปิดเผยส่วนประกอบสารขัดล้างทำความสะอาดชนิดที่เป็นของเหลว โดยประกอบด้วยตัวกลางที่เป็นของเหลวสำหรับการ แขวนลอย (suspending liquid medium) และผงขัดซึ่งมีความ แข็งของโมท์ (Moh''s hardness) อยู่ในช่วง 1 ถึง 4 และมี ขนาดอนุภาคเฉลี่ยอยู่ระหว่าง 10 ถึง 17.5 ไมโครเมตร และถือ ว่าไม่มีอนุภาคที่มีขนาดมากกว่า 75 ไมโครเมตรอยู่ด้วย ส่วน ประกอบนี้ได้รวมเอาสมบัติของความอ่อนนุ่มและความเรียบ กับ ความสามารถในการทำความสะอดาเข้าไว้ด้วยกัน

Claims (2)

1. ส่วนประกอบสารขัดล้างทำความสะอาดชนิดที่เป็นของเหลว โดยประกอบด้วยตัวกลางที่เป็นของเหลวสำหรับการแขวนลอย (suspending liquid medium), สารลดแรงตึงผิวที่เป็นสารฟอก ล้าง (detergent surfactant), และผงขัด (abrasive powder) โดยที่ผงขัดนี้มีความแข็งของโมท์ (Moh\'s hardness) อยู่ใน ช่วงที่ 1 ถึง 4 และมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยอยู่ระหว่าง 10 ถึง 17.5 ไมโครเมตร และถือว่าไม่มีอนุภาคที่มีขนาดมากกว่า 75 ไมโครเมตรและมีอนุภาคที่มีขนาดต่ำกว่า 5 ไมโครเมตร อยู่ น้อยกว่า 10% โดยน้ำหนัก 2. ส่วนประกอบสารทำความสะอาดดังที่ได้ขออ้างสิทธิไว้แล้วใน ข้อถือสิทธิข้อ 1 นั้น เป็นกรณีที่อนุภาคของสารขัดที่มี ขนาดมากกว่า 40 ไมโครเมตร จะมีอยู่น้อยกว่า 10% โดยน้ำหนัก 3. ส่วนประกอบสารทำความสะอาดดังที่ได้ขออ้างสิทธิไว้แล้วใน ข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 2 นั้น อนุภาคของสารขัดที่มีขนาดมาก กว่า 30 ไมโครเมตร จะมีอยู่น้อยกว่า 10% โดยน้ำหนัก 4. ส่วนประกอบสารทำความสะอาดดังที่ได้ขออ้างสิทธิไว้แล้วใน ข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้นนั้น จะมีอนุภาคของสารขัด ที่มีขนาดระหว่าง 5 ถึง 30 ไมโครเมตร อย่างน้อยที่สุด 80% โดยน้ำหนัก 5. ส่วนประกอบสารทำความสะอาดดังที่ได้ขออ้างสิทธิไว้แล้วใน ข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้นนั้น จะมีอนุภาคของสารขัด ที่มีขนาดมากกว่า 25 ไมโครเมตร อยู่น้อยกว่า 10% โดยน้ำ หนัก 6. ส่วนประกอบสารทำความสะอาดดังที่ได้ขออ้างสิทธิไว้แล้วใน ข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้นนั้น จะมีอนุภาคของสารขัด ที่มีขนาดระหว่าง 6 ถึง 25 ไมโครเมตร อยู่อย่างน้อยที่สุด 80% โดยน้ำหนัก 7. ส่วนประกอบสารทำความสะอาดดังที่ได้ขออ้างสิทธิไว้แล้วใน ข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้นนั้น จะมีอนุภาคของสารขัด ที่มีขนาดเล็กกว่า 7 ไมโครเมตร อยู่น้อยกว่า 10% โดยน้ำ หนัก 8. ส่วนประกอบสารทำความสะอาดดังที่ได้ขออ้างสิทธิไว้แล้วใน ข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้นนั้น ผงขัดจะมีขนาดอนุภาค เฉลี่ยระหว่าง 6 ถึง 15 ไมโครเมตร 9. ส่วนประกอบสารทำความสะอาดดังที่ได้ขออ้างสิทธิไว้แล้วใน ข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้นนั้น ผงขัดจะมีขนาดอนุภาค เฉลี่ยระหว่าง 10 ถึง 15 ไมโครเมตร 1 0. ส่วนประกอบสารทำความสะอาดดังที่ได้ขออ้างสิทธิไว้แล้ว ในข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้นนั้น สารขัดที่ใช้ คือ แคลไซท์ 1
1. ส่วนประกอบสารทำความสะอาดดังที่ได้ขออ้างสิทธิไว้แล้ว ในข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้นนั้น เป็นกรณีที่ประกอบ ด้วยผงขัด 1 ถึง 65% โดยน้ำหนักของส่วนประกอบทั้งหมด 1
2. ส่วนประกอบสารทำความสะอาดดังที่ได้ขออ้างสิทธิไว้แล้ว ในข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งข้างต้นนั้น เป็นกรณีที่ประกอบ ด้วยผงขัด 2 ถึง 60% โดยน้ำหนักของส่วนประกอบทั้งหมด (ข้อถือสิทธิ 12 ข้อ, 2 หน้า, 1 รูป)
TH8301000313A 1983-08-22 ส่วนประกอบสารขัดล้างทำความสะอาด TH2724B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH1323A true TH1323A (th) 1984-01-03
TH2724B TH2724B (th) 1992-01-07

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
GR3007845T3 (th)
KR960704991A (ko) 활성화된 연마 조성물(Activated polishing compositions)
PT79432B (en) Liquid scouring compositions with foam regulation
TW337535B (en) An abrasive composition with an electrolytic water
ATE224699T1 (de) Reinigungszusammensetzung
NZ336346A (en) Aqueous antibacterial abrasive cleaning composition comprising surfactants, quaternary ammonium antibacterial agent, solvent and thickening agent
SE7705017L (sv) Skurrengoringsmedel
TH1323A (th) ส่วนประกอบสารขัดล้างทำความสะอาด
TH2724B (th) ส่วนประกอบสารขัดล้างทำความสะอาด
ES8507172A1 (es) Un procedimiento para la fabricacion de una composicion limpiadora liquida de fregado.
DE3676105D1 (de) Vibrationsmahlung von siliciumkarbid.
US3361581A (en) Silver polish with anti-tarnish agent
JPH0711239A (ja) 研磨用組成物
US2955030A (en) Polishing compositions
DE59106498D1 (de) Schwachschäumendes scheuerpulver.
US4491478A (en) Compositions and methods for polishing metal surfaces
ATE495229T1 (de) Cerbasierendes poliermittel und cerbasierende poliersuspension
KR880009701A (ko) 콘택트 렌즈 세척용 연마재 조성물
JPS62237941A (ja) 無機粒子水性組成物
JPS62172098A (ja) 液状クレンザ−組成物
TH9150A (th) ส่วนประกอบสำหรับช่องปาก
JPS6243497A (ja) 石鹸
KR960004501B1 (ko) 상안전성이 강화된 연마제 함유 다용도 세제조성물
JPH04285909A (ja) コンタクトレンズ用洗浄組成物
Chernikov et al. Thermostability of surfactants having various chemical structures.