TH95102B - อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบแบบใช้อิเล็กโทรไลต์ - Google Patents

อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบแบบใช้อิเล็กโทรไลต์

Info

Publication number
TH95102B
TH95102B TH701001795A TH0701001795A TH95102B TH 95102 B TH95102 B TH 95102B TH 701001795 A TH701001795 A TH 701001795A TH 0701001795 A TH0701001795 A TH 0701001795A TH 95102 B TH95102 B TH 95102B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
conductive
substrate
electrolyte
cathode
devices
Prior art date
Application number
TH701001795A
Other languages
English (en)
Other versions
TH95102A (th
Inventor
นาย เจอร์เกน คักซุน นาย นอร์เบิร์ต ชไนเดอร์ นาย เจอร์เกน ฟิสเตอร์ นาย เกิร์ท พอห์ล นาย นอร์เบิร์ต วากเนอร์ นาย เรเน่ ล็อชท์มัน
Original Assignee
บีเอเอสเอฟ อัคเทียนเกเซลล์ชาฟท์ บีเอเอสเอฟ อัคเทียนเกเซลล์ชาฟท์
Filing date
Publication date
Application filed by บีเอเอสเอฟ อัคเทียนเกเซลล์ชาฟท์ บีเอเอสเอฟ อัคเทียนเกเซลล์ชาฟท์ filed Critical บีเอเอสเอฟ อัคเทียนเกเซลล์ชาฟท์ บีเอเอสเอฟ อัคเทียนเกเซลล์ชาฟท์
Publication of TH95102B publication Critical patent/TH95102B/th
Publication of TH95102A publication Critical patent/TH95102A/th

Links

Abstract

การประดิษฐ์จะเกี่ยวข้องกับอุปกรณ์สำหรับการเคลือบแบบใช้อิเล็กโทรไลต์ของซับสเทรทที่ นำไฟฟ้า (8) อย่างน้อยที่สุดหนึ่งอันหรือพื้นผิวที่นำไฟฟ้าที่มีโครงสร้างหรือที่มีพื้นผิวเต็มที่บน ซับสเทรทที่ไม่เป็นตัวนำ (8) ที่ซึ่งจะประกอบรวมด้วยอย่างน้อยที่สุดอ่างหนึ่งที่มีหนึ่งแอโนดและ หนึ่งแคโทด (1) โดยที่อ่างจะบรรจุสารละลายอิเล็กโทรไลต์ที่มีเกลือโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่ ซึ่งไอออนโลหะจะได้รับการทำให้ตกพอกพูนบนพื้นผิวที่นำไฟฟ้าของซับสเทรทเพื่อก่อรูปเป็นชั้น โลหะขณะที่แคโทดจะได้รับการนำไปสัมผัสกับพื้นผิวที่จะได้รับการเคลือบของซับสเทรทและ ซับสเทรทจะได้รับการขนส่งผ่านอ่าง แคโทดจะประกอบรวมด้วยแถบ (2) อย่างน้อยที่สุดหนึ่งแถบ ที่มีส่วนที่นำไฟฟ้า (12) อย่างน้อยที่สุดหนึ่งส่วนที่ซึ่งจะได้รับการนำรอบ ๆ เพลาที่หมุนได้ (3) อย่าง น้อยที่สุดสองเพลา ยิ่งกว่านั้น การประดิษฐ์จะเกี่ยวข้องกับวิธีการสำหรับการเคลือบแบบใช้ อิเล็กโทรไลต์ของซับสเทรทอย่างน้อยที่สุดหนึ่งอันที่ซึ่งจะได้รับการทำให้บรรลุผลสำเร็จในอุปกรณ์ ตามการประดิษฐ์ แถบจะอยู่บนซับสเทรทสำหรับการเคลือบและจะได้รับการทำให้ไหลเวียนด้วย ความเร็วไหลเวียนที่ซึ่งจะสอดคล้องกับความเร็วที่ซึ่งซับสเทรทจะได้รับการนำผ่านอ่าง อย่าง ประการสุดท้าย การประดิษฐ์ยังจะเกี่ยวข้องอีกด้วยกับการใช้อุปกรณ์ตามการประดิษฐ์สำหรับการ เคลือบแบบใช้อิเล็กโทรไลต์ที่มีโครงสร้างที่นำไฟฟ้าบนส่วนรองรับที่ไม่นำไฟฟ้า

Claims (1)

1. อุปกรณ์สำหรับการเคลือบแบบใช้อิเล็กโทรไลต์ของซับสเทรทที่นำไฟฟ้า (8) อย่างน้อยที่สุด หนึ่งอันหรือพื้นผิวที่นำไฟฟ้าที่มีโครงสร้างหรือที่มีพื้นผิวเต็มที่บนซับสเทรทที่ไม่เป็นตัวนำ (8) ที่ซึ่งจะประกอบรวมด้วยอย่างน้อยที่สุดอ่างหนึ่งที่ซึ่งมีแอโนดหนึ่งอันและแคโทดหนึ่ง อัน (1) ซึ่งอ่างจะบรรจุสารละลายอิเล็กโทรไลต์ที่มีเกลือโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่ซึ่ง ไอออนโลหะจะได้รับการทำให้ตกพอกพูนบนพื้นผิวที่นำไฟฟ้าของซับสเทรท (8) เพื่อก่อรูป เป็นชั้นโลหะขณะที่แคโทด (1) จะได้รับการนำ
TH701001795A 2007-04-12 อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบแบบใช้อิเล็กโทรไลต์ TH95102A (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH95102B true TH95102B (th) 2009-04-09
TH95102A TH95102A (th) 2009-04-09

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2007118875A3 (de) Vorrichtung und verfahren zur galvanischen beschichtung
ATE455879T1 (de) Vorrichtung und verfahren zur galvanischen beschichtung
JP6810704B2 (ja) 化成コーティングの導電性を厳密に調節するための方法
WO2010059857A3 (en) Bottom up plating by organic surface passivation and differential plating retardation
CN105163502B (zh) 厚铜板细小线宽线距蚀刻控制方法
DE602004015748D1 (de) Lösung zum ätzen von kupferoberflächen und verfahren zur abscheidung von metall auf kupferoberflächen
JP2011507700A5 (th)
JP2015518925A5 (th)
MX2023002873A (es) Metodo controlado para depositar una capa de cromo o aleacion de cromo sobre al menos un sustrato.
MX2016001847A (es) Metodo de formacion de pelicula de recubrimiento de capas multiples.
WO2018017379A3 (en) Apparatus and method of contact electroplating of isolated structures
TH95102B (th) อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบแบบใช้อิเล็กโทรไลต์
TH95102A (th) อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบแบบใช้อิเล็กโทรไลต์
MX2022004333A (es) Sistemas y metodos para tratar un sustrato.
Peng et al. The protection and degradation behaviors of mercapto functional sol-gel coating on copper surface
WO2017060656A3 (fr) Procede de greffage de film mince polymerique sur substrat et procede de metallisation de ce film mince
Tabakovic et al. Self-assembled monolayer of 3-N, N-dimethylaminodithiocarbamoyl-1-propanesulfonic acid (DPS) used in electrodeposition of copper
SE0403042D0 (sv) Improved stabilization and performance of autocatalytic electroless process
Okoshi et al. F2-laser-induced surface modification of iron thin films to obtain corrosion resistance
TH92090A (th) อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบแบบใช้อิเล็กโทรไลต์
KR20180116446A (ko) 알루미늄 반도체 프로세스 장비를 위한 배리어 층으로서의 알루미늄 전기도금 및 산화물 형성
KR101081588B1 (ko) 도금층 형성방법 및 이를 이용한 회로기판 제조방법
KR20100095913A (ko) 작업효율이 개선된 메탈피시비용 메탈보드의 제조방법 및 그 메탈보드
ATE414186T1 (de) Vorrichtung zum beidseitigen beschichten von substraten mit einer hydrophoben schicht
BRPI0409779A (pt) método de eletrorrevestimento e instalação contìnua para ele