TWI526865B - 直接描繪裝置用之圖形使用者介面裝置、直接描繪系統、描繪區域設定方法及記錄媒體 - Google Patents

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    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113643410B (zh) * 2021-08-24 2024-01-23 凌云光技术股份有限公司 一种用于定位椭圆弧曲线的gui图形控件设计方法及装置
JP2024044259A (ja) * 2022-09-21 2024-04-02 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 描画システムおよび描画方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08162386A (ja) * 1994-12-01 1996-06-21 Nikon Corp レジスト露光装置、及び該装置の調整方法
JPH0950951A (ja) * 1995-08-04 1997-02-18 Nikon Corp リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置
JPH0997761A (ja) * 1995-09-28 1997-04-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd ウエハの周辺部露光装置
JP3127795B2 (ja) * 1995-10-04 2001-01-29 ウシオ電機株式会社 ウエハ周辺露光方法および装置
JP2665487B2 (ja) * 1995-10-18 1997-10-22 大日本スクリーン製造株式会社 ウエハの周辺部露光装置
JP2000232045A (ja) * 1999-02-12 2000-08-22 Tokyo Electron Ltd レジストパタ−ンの形成方法
JP2005005462A (ja) 2003-06-11 2005-01-06 Shinko Electric Ind Co Ltd めっき用電極形成方法
JP4317488B2 (ja) * 2004-05-28 2009-08-19 株式会社オーク製作所 露光装置、露光方法および露光処理プログラム
JP4795886B2 (ja) * 2006-07-27 2011-10-19 株式会社キーエンス レーザ加工装置、レーザ加工条件設定装置、レーザ加工条件設定方法、レーザ加工条件設定プログラム
US20090036030A1 (en) * 2007-08-03 2009-02-05 Winbond Electronics Corp. Polishing head and chemical mechanical polishing process using the same
JP5211630B2 (ja) * 2007-10-15 2013-06-12 新日鐵住金株式会社 焼結機の点火炉、点火炉の炉内温度調整方法
JP5801674B2 (ja) 2011-09-30 2015-10-28 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 直接描画装置用の画像表示装置、およびプログラム
JP6200253B2 (ja) * 2013-09-26 2017-09-20 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 露光装置用のｇｕｉ装置、露光システム、露光条件設定方法およびプログラム

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