WO1988000196A1 - Composes a base de spirooxazine, materiaux photosensibles les utilisant et procede de production - Google Patents
Composes a base de spirooxazine, materiaux photosensibles les utilisant et procede de production Download PDFInfo
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Definitions
- the present invention relates to a novel spiroxazine compound having photochromic properties, and a photosensitive material having a photosensitive layer containing a resin in which the compound is dissolved or dispersed on a substrate. And a method of forming a resin containing the compound by film formation or molding].
- Japanese Patent Publication No. 2ff? »2 proposes a photomix material containing a spiro naphthoxazine compound represented by the following formula. I have.
- Ra represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or an alkyl group or an alkoxy group having a carbon number of / to ⁇ .
- -F / proposes a photo-mouth mix photosensitive material in which a spiro naphthoxazine compound represented by the following formula is dispersed in a polymer substance.
- R f is a halogen atom or a lower alkoxy group and the other is a hydrogen atom
- R h is a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkyl group. Represents an alkoxy group or a halogen atom.
- R d and R k are a halogen atom or a lower alkoxy group, the other is a hydrogen atom, and R 1 and R m are a hydrogen atom or a lower atom.
- R p represents an alkyl group, a phenyl group, a phenylalkyl group, a phenyl group, a mono- or di-substituted ⁇ is selected from the group consisting of a phenyl group (substituents are selected from alkyl groups having carbon atoms / to and alkyl groups having carbon atoms / to); Alkyl groups, phenyl groups, carbon number of
- J is selected from the group consisting of an alkoxy group, a mono- or di-substituted phenyl group and a benzyl group;
- a photo mouth mix photosensitive material is formed by dissolving or dispersing a high-molecular-weight compound with a spirosine compound in the form of a film. used.
- a typical film forming method will be described.
- a photochromic agent a spiroxazine derivative having the following structural formula (hereinafter referred to as SP— /) is used.
- solution A the solution produced by dissolving the SP— / of J " ⁇ in isopropanol (IPA) of q ⁇ is referred to as solution A.
- the polymer matrix is prepared again.
- a mix for example, polyvinyl butyral (PVB) ' ⁇ and a plasticizer, for example, triethylene glycol o2-o-butylamine (3 a E) / dissolved S in IPAI 0 0 ⁇ Change the solution to B solution.
- PVB polyvinyl butyral
- a plasticizer for example, triethylene glycol o2-o-butylamine (3 a E) / dissolved S in IPAI 0 0 ⁇ Change the solution to B solution.
- This C solution is applied to a support (here, a glass substrate) by a cast method, a spin coating method, a dipping method, a spray method, etc., and the solvent is applied.
- a support here, a glass substrate
- the solvent is applied.
- . Dry in 3 minutes to form a film.
- the polymer matrix is not limited to a thermoplastic resin, but may be a thermosetting resin.
- off O preparative click port Mi click layer PVB intermediate film eg. 7 4 in glass la scan over a substrate having an 'Ri ⁇ i thick
- superimposed moths la scan thereon overlapping a product' was sound
- vacuum VA Set in a bag apply atmospheric pressure while applying vacuum, hold for 3 minutes at 0.
- the present invention provides a photochromic material having good heat resistance, high color density, excellent coloration fastness, good color stability, good color stability and good color stability.
- the present invention provides a compound represented by the general formula (I):
- Upsilon 2 may form a hexa down ring to the consequent b attached cyclize together.
- the spiroxazine compound represented by the formula [1] a photosensitive material using the compound, a film forming method and a molding method are summarized.
- Fig. 2 and Fig. 2 show absorption spectra of two examples (Examples, Examples?) Of the spiroxazine-based compound of the present invention in the state of color development upon irradiation with ultraviolet rays.
- the axis indicates absorbance, and the horizontal axis indicates wavelength.
- Fig. J is for Example / J. 2. Changes in the light irradiation elapsed time (horizontal axis, second) and the amount of change in the optical depth for the film using SP — / for comparison with the film using 2
- FIG. 13 is a diagram similar to FIG. J for the film. O In the diagram, the return axis is the same as in FIG. J, and the unit of the horizontal axis is minutes.
- a Le key Le groups such as A Le key Le group ⁇ 4,: kappa 1 and : May be cyclized with 2 and 1 to form a cyclohexyl group, preferably X 1 , X 2 , and Y 2 , preferably a methyl group or ethynole.
- ⁇ ⁇ c3 ⁇ 4> 5 ⁇
- ⁇ CH 2 is preferred correct c Specifically, single GH 2 -, + C3 ⁇ 4> - , - CH 2) 3->
- R 2 and R 6 are hydrogen atoms.
- R 3 and H 4 are a hydrogen atom, an alkoxy group of Ci to C 2 , a halogen atom, and an alkyl group of up to C 2.
- X 1 , X 2 , Y 1, and Y 2 are methyl groups, Z force ⁇ " ⁇ ⁇ (!!! d ⁇ ⁇ ), and ⁇ and R are the same.
- Spiroxadi which is 4 Compounds are preferred.
- the compound of the present invention can be produced, for example, as follows. That is, the following kill formula: [and [m]
- M represents a halogen atom
- Z is the same as defined above.
- Alkylation reaction with dihalogenated compounds can be carried out in non-polar solvents such as aromatic solvents such as solvent-free or octanol benzene, dichloride benzene, etc. r ⁇ 2h ⁇ .
- the reaction is performed at the reaction temperature of c.
- Preferably in the absence of solvent / JO ⁇ /. c can be implemented smoothly.
- / —Nitroso-1 2—Naphthol derivative,? —
- the reaction with nitroso / reoxyhydroxyphenalene derivatives or -2-tron-11hydroxyquinoline derivatives is based on pyridin, In the presence of bases such as perazine and morpholine, methanol, ethanol, and prono. NO-NOL, butanol, alcohol solvents, acetone, methyl ethyl ketone 3 ⁇ 4 any ketone solvent, dichloromethan, TO It is carried out in a polar or non-polar solvent such as a halogenated hydrocarbon solvent such as chlorloethane.
- the reaction temperature is in the range of ⁇ 2.
- the first method can be carried out smoothly at ⁇ 0 to I20 ° C in the presence of a catalyst for ethanol, methyl ketoketone or piperidine in acetate.
- the compound of the present invention can also be produced, for example, as follows. That is, the following general formula [W]
- the reaction is usually carried out with ethanol-based solvents such as methanol, ethanol, ethanol, butanol, acetate, methyl ethyl ketone. 3 ⁇ 4 It is carried out in a polar or non-polar solvent such as any ketone solvent, dichloromethane, trichloroethane or any halogenated hydrocarbon solvent.
- ethanol-based solvents such as methanol, ethanol, ethanol, butanol, acetate, methyl ethyl ketone. 3 ⁇ 4
- a polar or non-polar solvent such as any ketone solvent, dichloromethane, trichloroethane or any halogenated hydrocarbon solvent.
- the reaction is carried out at a temperature in the range of 0 to 10 and preferably, it can be carried out smoothly at a temperature of ⁇ to / ° C.
- the compound of the present invention is a novel dye and is a compound that exhibits photochromism.
- the compound develops a color when irradiated with ultraviolet light, and then emits visible light. If it is heated above SO, it returns to its original colorless state.9) This change can be reversed.
- a photosensitive material having a photosensitive layer containing a resin in which the novel compound of the present invention is dissolved or dispersed on a substrate can be obtained according to a known method.
- Examples of the resin that dissolves or disperses the compound of the present invention include a polyester resin, a polystyrene resin, a polybutyral resin, and a polyvinyl chloride. , Polyvinyl chloride, methyl polymethacrylate, vinyl acetate, gfe acid mouth, epoxy resin, phenol resin, etc.
- Examples of the solvent to be used include carbon tetrachloride, benzene, cyclohexane, methanol phenol, tetraquinone, and tetrachloride. , Ethanol, ethanol, ethanol, and the like.
- additives other than the compound and the resin of the present invention include a transition metal chelate as a singlet oxygen quencher for the purpose of stabilizing a light-sensitive material and improving light resistance.
- a transition metal chelate as a singlet oxygen quencher for the purpose of stabilizing a light-sensitive material and improving light resistance.
- Compounds e.g., acetyl acetonate chelate, bisphenol acetate, salicyl phenol dehydroxim, viscithiol) Le- ⁇ -diketon
- an ultraviolet absorber or an antioxidant may be added.
- the photosensitive layer is formed by a doctor blade method, Commonly applied coating methods such as a cast method, a spinner method, and an immersion method are used.
- the thickness of the photosensitive layer is .about ./. About., Preferably .about. / 100.sup. ⁇ .
- the substrate in the present invention may be either transparent or opaque. However, when the substrate is provided on both sides of the photosensitive layer, at least one side must be transparent for exposure. Is necessary.
- a support such as glass, plastic, paper, plate-like or foil-like metal, or a composite of these is used. Glass and plastic are preferred.
- the plastics include, for example, acrylic resin, metaacrylic resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride resin, polyethylene resin, Polypropylene resin, Polycarbonate resin, and Polycarbonate resin.
- composition and molding method of the light-sensitive material of the present invention are represented by the general formula
- the photomixing agent shown in [I] is incorporated into a polymer material at a high temperature, and then the film is formed and molded.
- polymethyl methacrylate for example, polymethyl methacrylate
- Cleaner-type polymers such as PMMA (: PMMA), polystyrene-type polymers such as polystyrene, polycarbonate, and polyester-type polymers Polymers such as polymers, polystyrenes, etc.Polyamides such as polymers, nylons, etc. — —
- the photo-mixing agent represented by the general formula (I) is added to the above-mentioned polymer material in an amount of usually from 0.000 to ⁇ J ", preferably by weight. Add in the range of / to weight.
- Molding methods include extrusion molding, molding by injection molding, vacuum forming “”, blow molding, press molding, and thermosetting resin. Injection molding, pultrusion molding,
- solvent methyl ethyl ketone / 0 ⁇ ⁇ A powerful solution polyester film (Dia Wheel Co., Ltd., thickness /.)
- Example Z The following compounds were obtained in the same manner as in Example / except that dibromobutane in Example Z was replaced with dibromobutane.
- the compound j ⁇ . ⁇ Represented by was added and reacted under reflux for j hours.
- the solution is cooled down to room temperature, the solvent is distilled off, and the solution is separated and purified by column chromatography (using Benzene). A gin compound was obtained.
- V--3 3 ( ⁇ 3 ⁇ 4 Blue ⁇ 0
- a spiroxine-based compound represented by the following Table j represented by the general formula [I] was synthesized.
- the melting point and thermal decomposition temperature were as shown in Table j] 9.
- the obtained compound was applied on a polyester film, and when irradiated with ultraviolet rays, each compound developed a color tone and max shown in Table J. Then irradiate with visible light or ⁇ f. When heated above C, it returned to its original pale blue state. This change is not likely to happen.]
- B r C 4 jib is represented by H 8 B r b mode porcine on /. ⁇ ? ⁇ Mixture of the
- Example ? ⁇ / / According to the method described in The spoxazine compounds of the general formula [I] described in the following Table 1 were synthesized. The melting point and the thermal decomposition temperature are as shown in the following Table. It was applied to a polyester film, and when it was irradiated with ultraviolet light, it developed a color tone and color max shown in Table ⁇ , respectively, and then irradiated with visible light or heated to f or more. This change has come back to its original colorless state.
- the first. 2 Weigh out the photomixture agent (SP— “2”) expressed by ⁇ -/ in Table ⁇ -/ and add this to the polynulb and chillal powder of Nunu f. further as a plasticizer 2 S 0 was added by melt mixing in a "2 0, by the Shi pushed out molding machine] 5 die was passed to full I le-time reduction, off with the epsilon o ⁇ thickness of Lee Got the room.
- SP— “2” photomixture agent expressed by ⁇ -/ in Table ⁇ -/
- This film was used as a photo mouth mix intermediate film by the conventional method of forming a laminated glass] 9, and a laminate was obtained which was used as a laminated glass for an automobile.
- a photochromic matching glass was prepared by the same method using the SP-1 /.
- Figure 3 shows the change in optical density ( ⁇ ) at ⁇ / 0 nm after each irradiation time.
- SP-/ has a low melting point and low thermal decomposition temperature, so-/ was dispersed during kneading] 9. Since it decomposed, it almost showed the photomix performance. No.
- SP— a spiroxazine derivative having a quinoline ring
- injection molding was performed by the same ⁇ method as in the case of SP—J to obtain a lens.
- the spiroxazine-based compound of the present invention has a photomouth-mixing property, and in particular, has excellent heat resistance, and is excellent in color development density and color fastness, so that it has a dark color. However, the color is stable.
- a photosensitive material having a photosensitive layer containing a resin on a substrate or a spiroxazine-based compound was previously kneaded into a polymer material, and the film was directly formed or molded.
- the light-sensitive material obtained by the method can be used in various fields as various light control materials, optical filters, masking materials, and photometers.
- the spiroxazine-based compound of the present invention has a high melting point and good heat resistance, it is of course possible to obtain a photosensitive material by a conventional method such as coating. It is possible to perform various moldings after integrating directly with the polymer material of the matrix at a high temperature, and as a result, (i) the photochromic The thicker the layer, the better the weather resistance and
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Description
明 細 発明の名称
ス ピ ロ ォ キ サ ジ ン系化合物、 該化合物を使用 した感 光材料並びにその成形方法 技 術 分 野
本発明は、 フ ォ ト ク ロ ミ ッ ク性を有する新規な ス ピ 口 ォ キ サ ジ ン系化合物、 該化合物を溶解あ るいは分散 した樹脂を含有する感光層を基板上に有する感光材料 並びに該化合物を含有する樹脂を成膜あるいは成形す る こ と よ ] る感光材料の成形方法に関する も の であ る 0 背 景 技 術
従来よ ス ピ ロ ォキサ ジン系化合物が光の照射に よ 発色又は消色する フ ォ 卜 ク ロ ミ ッ ク性を有する こ と は知 られてお ]? 、 これを使用 した フ ォ ト ク ロ ッ ク 感 光材料が種 々 提案されている。
例えば、 特公昭 ^ ー 》2 f f ? »2号には、 次式の様な ス ピ ロ ナ フ ト ォ キ サ ジ ン系化合物を含有する フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク材料が提案されている。
(式中、 Ra は水素原子、 ハ ロ ゲ ン原子、 シ ァ ノ基、 炭 素数 / 〜 <Γ のア ル キ ル基ま たはア ル コ キシ基を示す。) ま た、 特公昭 ?ー f / 号には、 次式の様なス ピ ロ ナ フ ト ォ キサ ジ ン系化合物を高分子物質中に分散 させたフ ォ ト ク 口 ミ ッ ク感光材料が提案されている。
( 式中、 は +CH2 C00H、 ~ C¾ GN ま たは
- CH2¾C°0B- は炭素数 / 〜 の ア ル キ ル基 ) ; および R は炭素数 / 〜 の ア ル キ ル基 ; は水素原 子、 炭素数 / 〜 個のア ル キ ル基、 ハ ロ ゲ ン原子、 二 ト ロ基、 シ ァ ノ基、 炭素数《2 〜 個のア ル コ キ シ カ ル ボ ニ ル基ま たは炭素数 / 〜 個のア ル コ キ シ基を示す。) ま た、 特開昭 一 J =2 号には、 次式の様る フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク化合物が提案されている。
( 式中、 Rf と の一つはハ ロ ゲ ン原子又は低級ア ル コ キ シ基で他の一つは水素原子で、 又 Rh と は水素 原子、 低級ア ル キ ル基、 低級ア ル コ キ シ基、 又はハ ロ ゲ ン原子を示す。 )
ま た、 U S P Ψ , 3 屮 2 ,ら ら S 、 次式の様る フ ォ ト ク ロ ミ ッ ク化合物が提案されている。
( 式中、 Rd と Rk の一つはハ ロ ゲ ン原子又は低級ア ル コ キ シ基で、 他の一つは水素原子で、 ま た、 R1 と Rm は水素原子、 低級ア ル キ ル基、 低級ア ル コ キ シ基、 又 はハ ロ ゲ ン原子を示 し、 Rn は炭素数 《2か ら Z ク ま での アル キ ル基を示す。 )
テ ト ラへ ド ロ ン レタ - ズ
ま た、 特開昭 クー / / =2 f <T 号公報には、 次式の よ う ¾ ス ピ ロ ピ リ ドベ ン ゾォ キサ ジ ン系化合物および 該化合物を高分子物質中に分散させた フ ォ ト ク ロ ミ ッ ク感光材料が提案されている。
〔式中、 Rp は炭素数 / 〜 <Γ の アル キ ル基、 フ ヱ ニ ル基、 炭素数 / 〜 の フ ヱ ン ア ル キ ル基、 ァ リ ル基及びモ ノ またはジ置換フ ヱ ニ ル基 ( 置換基が炭素数 / 〜 の ァ ル キ ル基および炭素数 / 〜 の ア ル コ キ シ基か ら選ば れる ) か ら なる群か ら選ばれ、 及び は、 各々 、 炭素数 / 〜 の ア ル キル基、 フ ヱ ニ ル基、 炭素数 / 〜
J " の ア ル コ キ シ基、 モ ノ またはジ置換フ エ ニ ル基及び ベ ン ジル基か ら る群か ら選ばれ、 あるいは結合 して
6 〜 f 個の炭素原子 ( ス ピロ炭素原子を含む ) を含む
— — 月旨環:式環、 ノ ル ボ ル - ル環及びァ ダ マ ン チル環か ら ¾ る群か ら選ばれる環式環を形成 し、 Rs 及び は、 各 々、 水素原子、 炭素数 / 〜 の ア ル キ ル基、 ハ ロ ゲ ン 原子、 炭素数 / 〜 の ア ル コ キ シ基、 ニ ト ロ基、 シ ァ ノ基、 及び炭素数 / 〜 の ア ル コ キ シ カ ル ボ 二ル基か ら る群か ら選ばれる。 〕
通常、 フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク 感光材料は、 上述の様に高 分子化合物にス ピ ロ 才 キ サ ジ ン化合物を溶解あるいは 分散させた も のを フ ィ ル 厶状に成膜 して使用される。
次に代表的成膜方法を説明する。 フ ォ ト ク ロ ミ ッ ク 剤と して 、 下記構造式のス ピ ロ ォ キ サ ジ ン誘導体 ( 以 下 S P — / と言 う ) を用いる。 し Ii3 Ch.3
CH3 先ずフ ォ ト ク 口 ミ ッ ク剤 ( S P — / ) を適当る溶剤に 溶解する 。 例えば り. J" ^ の S P — / を ク ^ の イ ソ プ ロ バノ ー ル ( I P A ) に溶解 し生成 した溶液を A 液 とす る。 次に あ らカゝ じめ高分子マ ト リ ッ ク ス 、 例えば、 ポ リ ビ ニ ル プチ ラ ー ル ( P V B ) ' ^ と可塑剤、 例えば ト リ エ チ レ ン グ リ コ 一 ノレ ー ジ ー o2 — ェ チ ノレ ブ チ レ 一 ド ( 3 a E ) / . S を I P A I 0 0 ^ に溶解 し生成 した溶
液を B液とする。 B液に A液を混ぜよ く 攪拌して C 液 とする。
こ の C 液を、 キ ャ ス ト 法、 ス ピ ンコ ー ト 法、 ディ ッ プ法、 ス プ レ ー法等で支持体 ( こ こではガ ラ ス基板 ) の上に塗布 し、 溶剤を例えば ? 。 (:、 3 分で乾燥し て、 成膜する。
高分子マ ト リ ッ ク スは熱可塑性樹脂に限らず熱硬化 性樹脂で も よい。 こ う して出来たガ ラ ス基板上の フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク膜を従来眷開昭 一 =2 り J" 2 ? 号公報 に示される積層体と し、 実用に供してき^。 即ち フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク層を有する ガ ラ ス基板上に P V B 中間膜 ( 例えば.7 4 'り · i 厚 ) を重ねその上に ガ ラ スを重ね て積 '響 し、 真空バ ッ グ内にセ ッ ト し、 真空にひき なが ら大気圧をかけ ? 0 。 で 3 分間保持して予備圧着す る 。 次い でオ ー ト ク レ ー プ中、 例えば / =2 · の 圧力の も と / ^ 1Cで 分間保持して本圧着 し積層 体とする。
しカゝ し、 従来のス ピ ロ ォキ サ ジ ン系化合物の場合、 発色濃変および着色状態の堅牢性が必ずしも 十分では く 、 下記第 / 表に示される よ う に融点及び熱分解瘟 度が低 く 、 耐熱性が劣っていた。 従って、 これ らのス ピ ロ ォ キサ ジ ン系化合物は、 高分子マ ト リ ク ス材料へ の直接繚 込みに よ る成夢法に使用する のは不可能で あるため これ らの化合物を用いた成膜法は生産性が低
— — い とい う 問題点を有 して た 第 ノ 表
発明の開示
本発明は、 耐熱性が良好で発色濃度が大 き く 、 着色 状態の堅牢性に優れていて発色 · 消色の く 返 し安定 性の 良好 フ ォ ト ク ロ ミ ッ ク 性を 有する ス ピ ロ ォ キ サ ジ ン系化合物及び該化合物を含有する 感光層 よ 成る
惑光材料、 加えて成腠時に高分子マ ト リ ク ス材料へ直 接繚 込みによ る生産性の高い成膜及び成形方法を提 供 しょ う とする も のである。
す ¾わち、 本発明は一般式 〔I〕
X1 X2
R3、 R4
、 及び はア ル キ ル基を表わ し、 XI と X2、 Tl と
は から選ばれた基 ( これらの基は置換基を有 し ていても よい ; 、 又は酸素原子を介 していて も よい直
鎖状ない し分岐鎖状のア ル キ レ ン基、 置換されていて も よぃァ リ ー レ ン基を表わ し、 、 12、 13、 14、 及 び R6 は水素原子、 ハ ロ ゲ ン原子、 アル キ ル基、 ア ル コ キ シ基、 ァ ノレ コ キ シ カ ノレ ボ - ノレ基、 ァ ノレ コ キ シ ス ノレ ホ ニ ル基又はア ル キ ル ス ル ホ 二 ル基 を表わす。 〕 で表わ される ス ピ ロ ォ キ サ ジ ン系化合物およ びそれを使用 し た感光材料、 成膜 らびに成形方法を要旨 とする。 図面の簡単る説明
第 / 図及び箅 " 2 図は、 本発明のス ピ ロ ォ キサ ジン系 化合物の二例 ( 実施例 、 実施例 ? ) の紫外線照射時 の発色状態の吸収ス ぺク ト ルを示す。 縱軸は吸光度、 横軸は波長を示す。
第 J 図は実施例 / J の — 。2 を用いた フ ィ ル ム と 比較のための S P — / を用いた フ ィ ル ム に対す る ラ ン プ照射経過時間 ( 横軸、 秒 ) と光学漫度の変化量
( 軸、 0 D ( at ί / 0 nm ) ) の関係を示す線図、 第 ^ 図は実施例 / ^ の S P — J を用いた フ ィ ル ム と 比較のため S P - 4^ を用いた フ ィ ル ム に対する第 J 図 と 同様の檨図である o 図中、 歸軸は第 J 図 と 同 じであ 、 横軸の単位は分を表わす。
ま た、 箅 J 図、 第 図中いずれにおいて も A は ラ ィ ト · オ ンを表わ し、 B は ラ イ ト · オ フ を表わす。
発明を実施するための最良の形態
本発明の一般式 〔 I〕 で表わされる ス ピ ロ ォ キサ ジ ン 系化合物の構造を詳細に説明する。 一般式 〔I〕 におい て、 X1、 X2、 Y1 及び Y2 は (^〜 、 好ま しく は 〜4 の ア ル キ ル基等のア ル キ ル基を示 し 、 : Κ1 と !:2 、 Υ1 と は互いに環化 し、 シク ロへキ シ ル基を形成 していて も よい。 X1、 X2、 及び Y2 と して好ま し く はメ チル基, ェ チノレ基、 プ ロ ピノレ基、 ブチノレ基、 特に好ま し く はメ チ ル基が挙げられ、 また X1 と X2 、 Υ1 と がそれぞ れ互いに結合し、 環化 した シク ロ へ キ シ ル基が挙げら ίしる o
は、 か ら選ば
れた基 ( これらの基は置渙基を有 していて も よい ) も し く は酸素原子を介していても よい直鎖状ない し分岐 鎖状のア ル キ レ ン基を示 し、 例えば、 ~^c¾ >5~ 、
〜 / 、 L、 HIは / 〜 2 を 表わす )
で表わされ、 特に ~ CH2 が好ま しい c 具体的には、 一 GH2 - 、 +C¾>— 、 — CH2 )3- >
- cH2 CH2CH- 、 - CH2CH2CH- 、 一 CH2 C CH2
10
I CH3 CH3 CH3
-C2H4OC2H4 - 、 — (CH2}2-0— ^CH2 ½— 0— (CH2 )2—
CI
一〇¾ CH2一 CH2 - -cH2- CH2 // w c¾一
-CH2 H CH2一 、 -CH2 0' CH2 - 等が挙げられる
H ン基 も挙げ られる。
R3、 R4
、 R4 を表わ し、 特に しい
、 R2、 R3、 H4、 R5、 R6 と しては水素原子 ; 塩素原 子、 臭素原子、 ヨ ウ 素原子等のハ ロ ゲ ン原子 ; (^〜6
の ア ル キ ル基等のァルキ ル基 ; C i~6 の アル コ キ シ基等 の ァノレ コ キ シ基 ; C i~6 の ァ ノレ コ キ シ カ ノレ ボ ニ ノレ基等の ァ ノレ コ キ シ カ ノレ ボ ニ ノレ基 ; メ ト キ シ ス ノレ ホ - ノレ基も し く はェ ト キシ ス ノレ ホ ニ ノレ基等の C i〜6 のァノレコキシ ス ノレ ホ -ル基又はメ チル ス ル ホ ニル基も し く はェチル ス ノレ ホ ニ ノレ基等の 。1 〜〇6 のァノレキノレ ス ノレ ホ ニ ノレ基せ挙げら 3し o
これらの う ち、 、 R2、 及び R6 が水素原子、 。1 〜〇2· の ァ ノレ キ ノレ基、 σ 〜 c2 の ァ ノレ コ キ シ カ ノレ ボ ニ ノレ 基、 C! ~ c2 のァノレ キノレ ス ノレ ホ 二 ノレ基及び 〜 c2 のァノレ コ キ シ ス ル ホ ニル基 よ ]9選ばれ、 R3 及び H4 は水素原 子、 Ci 〜 C2 の ア ル コ キ シ基、 ハ ロ ゲ ン原子及び 〜 C2 の ア ル キ ル基か ら選ばれ、 X1、 X2、 Y1 及び Y2 が メ チ ル基であ 、 Z力 ^ " ^^ ^ ( !!ニ 〜 <Γ )であ 、 Α 及 び が同一の 、 R4 であ る ス ピロ ォキサジ
ン系化合物が好ま し 。
本発明の化合物は、 例えば、 次の よ う に して製造す る こ とができ る。 すなわち、 下記一殺式 : [ および〔m〕
X1 X2
、 R2 CH3 〔辽〕
( 式中、 Xl、 X2、 γ1、 Y2、 、 、 R5、 R6 は前記定義に 同 じ。 )
で表わさ れる ュ, 3 , 3 一 ト リ メ チル イ ン ド レ ニ ン誘導体 に下記一般式 〔IV〕
M Z M 〕
( 式中 、 M はハ ロ ゲ ン原子を示 し、 Z は前記定義に同 じ。 )
で表わさ れる ジハ ロ ゲ ン化物を反,応させ.、 次い で下記 一般式 〔V〕
〔w〕
で表わされる 一 二 ト 口 - έ ー ヒ ド ロ キ シ キ ノ リ ン 誘導体
( 式中、 及び はいずれも前記定義に同 じ。 ) を反応させる こ と に よ って製造する こ とができ る。
ジ ハ 口 ゲ ン化物に よ る ア ル キ ル化反応は無溶媒ある いはク 口 口 ベ ン ゼ ン 、 ジク 口 口 ベ ン ゼ ンな どの芳香族 系溶媒な どの非極性溶媒中、 <r 〜 2 ひ ^。 cの反応温 度で実施される。 好ま し く は無溶媒で / J O 〜 / 。 c で円滑に実施でき る。
次いで、 / —ニ ト ロ ソ 一 =2 — ナ フ ト ー ル誘導体、 ? — ニ ト ロ ソ ー / り 一 ヒ ド ロ キ シ フ エ ナ レ ン誘導体又は ー 二 ト ロ ン 一 一 ヒ ド ロ キ シ キ ノ リ ン誘導体との反 応は、 ピぺ リ ジ ン 、 ピ ぺ ラ ジ ン 、 モ ル ホ リ ン等の塩基 '性 虫媒の存在下、 メ タ ノ ー ル 、 エ タ ノ ー ル 、 プロ ノ、。ノ — ノレ 、 ブ タ ノ ー ル る ど の ア ル コ ー ル系溶媒、 ア セ ト ン、 メ チ ル ェ チル ケ ト ン ¾ どの ケ ト ン 系溶媒、 ジ ク ロ ロ メ タ ン 、 ト リ ク ロ ロ ェ タ ン な どのハ ロ ゲ ン化炭化水素系 溶媒な どの極性又は非極性の溶媒中で実施される。 反 応温度は 〜《2 の範囲で実施される。 好ま し く
一 は、 エ タ ノ ー ル 、 メ チ ル ェ チ ル ケ ト ン又は ア セ ト ン 中 ピペ リ ジ ン触媒の存在下 ^ 0 〜 I 2 0 °C で 円滑に実施 で き る。
本発明 の化合物は、 例えば、 次の よ う に して も 製造 する こ と がで き る 。 す わ ち、 下記一般式 〔W〕
X1 X2
〔W〕
Yi Y2
( 式中、 χ ΐ、 χ 2、 γΐ、 γ 2、 ζ、 、 R2、 R5、 R6 は前記定 羲に同 じ。 )
で表わさ れる化合物 と 下記一股式 〔V〕
R3、 R4 〔V〕
で表わさ れる / 一 二 ト 口 ソ ー =2 — ナ フ ト 一 ル誘導体、 下記一般式 〔VI〕
〔VI〕
で表わされる ヌ 一 二 ト ロ ソ ー / 一 ヒ ド ロ キ -ン フ エ ナ レ ン誘導体又は下記一般式 〔VI〕
、 R4 〔¥〕
で表わされる 一 二 ト ロ ソ ー 一 ヒ ド ロ キ シ キ ノ リ ン 誘導体 '
( 式中、 R3 及び はいずれも 前記定義に同 じ。 ) と反応させる こ とに よ って製造する こ とができ る。
反応は通常、 メ タ ノ ー ル 、 エ タ ノ ー ル 、 プロ ノく ノ ー ノレ 、 ブ タ ノ 一 ルな どのァ ノレ コ ー ル系溶媒、 ア セ ト ン 、 メ チル ェ チ ル ケ ト ン ¾ どのケ ト ン系溶媒、 ジク ロ ロ メ タ ン 、 ト リ ク ロ ロ エ タ ン ¾ どのハ ロ ゲ ンィヒ炭化水素系 溶媒な どの極性又は非極性溶媒中で実施される。 反応 温窆は、 0 〜 1 0 の範囲で実施され、 好ま し く は、 ^ り 〜 / り °Cで円滑に実施で き る。
本発明の化合物は新規な色素であ 、 フ ォ ト ク ロ ミ ズ ム を示す化合物である。 すなわち、 本化合物は紫外 镍照射に よ ) 発色 し、 次に可視光を照射するか、 ある
いば S O 以上に加熱する と 元の無色の状態に な ]9 、 この変化を く D 返す こ と がで き る 。
本発明の新規 化合物を溶解ま たは分散 した樹脂を 含有する感光層 を基板上に有する 感光材料は、 公知の 方法に準 じ て得る こ と がで き る。
本発明化合物 を溶解又は分散する 樹脂 と しては ポ リ エ ス テ ル樹 旨、 ポ リ ス チ レ ン樹月旨、 ポ リ ビ ュ ル ブチ ラ — ル樹脂、 ポ リ 塩化 ビ ニ リ デ ン 、 ポ リ 塩化 ビ ニ ル 、 ポ リ メ タ ク リ ル酸 メ チ ル 、 ボ リ 酢酸 ビ ニ ル 、 gfe酸 セ ル 口 ー ス 、 エ ポ キ シ樹脂、 フ エ ノ ー ル樹脂等が挙げ られ、 用いる 溶媒 と しては、 四塩化炭素、 ベ ン ゼ ン 、 シ ク ロ へ キ サ ン 、 メ チ ノ ェ チ ノレ ケ ト ン 、 テ ト ラ ク ロ 口 ェ タ ン、 ト ル エ ン 、 エ タ ノ ー ル 、 ェ チ ノレ セ ノレ ソ ノレ ブ等が挙げ' ら れる 。
本発明化合物の使用割合 と しては、 樹脂に対 して J 〜 5 0 1o 、 好ま し く は 〜 =2 で あ る。
本発明の化合物 と 樹脂以外の他の添加剤 と しては、 感光材料の安定化や耐光性を 向上させる 目 的で、 一重 項酸素 ク ェ ン チ ヤ 一 と して遷移金属 キ レ ー ト 化合物 ( た と えばァ セ チ ル ァ セ ト ナ ー ト キ レ ー ト 、 ビ ス フ エ ニ ル ジ チ 才 一 ル 、 サ リ チ ル ァ ノレ デ ヒ ド ォ キ シ ム 、 ビ ス ジチオ ー ル 一 α — ジ ケ ト ン等 ) を 含有せ しめて も よ い。 又は、 紫外線吸収剤、 酸化防止剤 を添加 して も よ 'い。
感光層の形成方法 と しては、 ドク タ ー ブ レ ー ド法、
キ ャ ス ト 法、 ス ピナ一法、 浸漬法等の 一般に行なわれ る塗布方法が用い られる。
感光層の厚さは . 〜 / .り 鲰、 好ま し く は 〜 / 0 0 ^ である。
本発明における基板と しては、 透明ま たは不透明の 'いずれであっても よいが、 基板を感光層の両側に設け る時は、 感光するために少 く と も 片面は透明である こ とが必要である。 基板の材質と しては、 ガ ラ ス 、 プ ラ スチ ッ ク 、 紙、 板状も し く は箔状の金属およびこれ らの複合体等の支持体が用い られるが、 種 々 の点から してガ ラ ス よび プ ラ スチ ッ クが好ま しい。 その プラ スチ ッ ク と しては、 た とえば、 ア ク リ ル樹脂、 メ タ ァ ク リ ル樹脂、 酢酸 ビ ュ ル樹脂、 塩化ビ ニ ル 樹脂、 ポ リ エ チ レ ン樹月旨、 ポ リ プ ロ ピ レ ン樹脂、 ポ リ 力 一 ボ ネ 一 ト 樹脂、 ボ リ サ ル ホ ン樹脂孥があげられる。
ま た本発明の感光材料の成.漠及び成形方法は一般式
〔I〕 で示される フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク剤を高分子材料に高 温で縯 込み しかる後成膜な らびに成形を行う も の で
¾>る o
高分子材料と してはた とえばポ リ メ チ ル メ タ ク リ レ
— ト ( : P M M A ) 等のァ ク リ ノレ 系 ポ リ マ ー 、 ポ リ ス チ レ ン等のス チ レ ン系ポ リ マー、 ポ リ カ ーボネ ー ト 、 ポ リ エ ス テル系ポ リ マ ー 、 ポ リ エ チ レ ン ォ キ シ ド等のポ リ エ ー テ ル系ポ リ マ ー 、 ナ イ ロ ン 等のポ リ ア ミ ド系ポ
— —
リ マ — 、 ポ リ エ チ レ ン等の 才 レ フ ィ ン系 ポ リ マ — 、 ェ チ -ル セ ノレ 口 ー ス等の セ ル 口 一 ス系 ポ リ マ ー 、 ボ リ 塩ィ匕 ビニノレ 、 ポ リ ウ レ タ ン 、 ポ リ ビ ニ ノレ ア ノレ コ 一 ノレ 、 ホ。 リ ビ ニ ル ブ チ ラ 一 ル 、 ポ リ 醉酸 ビ ニ ル 、 ポ リ グ リ シ ジル メ タ ク リ レ ー ト 、 ホ。 リ 一 N — ビ ニノレ カ ノレ バ、 ン'一ノレ 、 ホ。 リ エ チ レ ン ビ ニ ル ァ セ テ 一 ト 、 ポ リ 塩ィヒ ビ 二 リ デ ン と これ ら の共重合体及びそれ ら の混合物等の射出成形可 能るすべての澍脂があげ られる 。
本発明に おい ては上記高分子材料に一般式 〔I〕 で示 さ れる フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク 剤を 、 通常 0 . 0 0 ί 〜 ί J " 重 量 、 好ま し く は ク. / 〜 重量 の範囲 で添加する。
ま た成形法 と しては、 押 し出 し成形に よ る フ ィ ル ム 化、 射出成形に よ る 成形、 真空成""形、 ブ ロ ー成形、 プ レ ス成形、 熱硬化樹脂の射出成形、 引 き 抜 き 成形、
R I M 成形、 R T M 成形等の高温を 必要 と する 成形法 があげ ら れる。
実 施 例
以下、 本発明を実施例に よ !) 、 更に具体的に説明す る が、 本発明は以下の実施例に限定さ れる も の では ¾ o
実施例 /
お よ び下記構造式
BrG4 H8 Br で表わされる ジブ ロ モ ブ タ ン f 0 の混合物を
/ / ひ 。 Cで 時間反応させ、 室温ま で ^却後エ タ ノ ー ル ·2 0 り ?? r を加え、 更に下記構造式
で表わされる / 一二 ト ロ ソ ー 2 —ナ フ ト ー ル ん 7. J f およ び ト リ エチ ル ァ ミ ン / ./ を加え、 窒素雰囲気 下 2 時間還流下反応させた。 冷却後、 ク π 口 ホ ル ム抽 出 し、 硫漦ナ K リ ウ ム で乾燥、 溶媒留去 し、 カ ラ ム ク ロ マ ト グ ラ フ ィ 一 ( 溶媒ベ ン ゼ ン ) で分離 * 精製 し、 下記構造式で表わされる融点 2 S〜 1 2 7 Όの ス ピ 口 ォ キサ ジ ン系化合物の無色結晶 を得た。
一 —
( 測定条件 : 7 、 2 0 °C ) m/ Θ Μ
ί 6 7 ( Μ+ - / J" )
/ 7 0 ( tia s θ peak ) 本化合物 ^ を 用い、 熱可塑性ポ リ エ ス テ ル樹脂 / 0 f ( 東洋紡社製 パ イ ロ ン一 =2 り ) 、 溶媒 メ チ ル ェ チ ル ケ ト ン / 0 0 ^ 力 ら る溶液 ポ リ エ ス テ ル フ イ ル ム ( ダ イ ヤ ホ イ ル社製、 厚さ / 。 。 〃 ) に ノ 一
— タ ー ^ J を用いて塗布 し、 S 。 、 / 分乾燥 した 得 られた試料は通常の状態では無色で あ る が、 紫外線 照射する と 濃度の高い青色 ( m x = έ 0 6 nm ) に発 色 した。
次に、 可視光を 照射する か、 あ る いは f 以上に 加熱す る と 元の無色の状態に な っ た。 こ の変化は く
返し行な う こ とができた。
実施例《2
実施例 Z における ジ ブ ロ モ ブ タ ン / .《Γ の代 ]? に ジブロ モ ェ タ ン ヌ. を甩い、 他は実施例 / と 同様に して下記化合物を得た。
( 測定条件 : 7 ク eV 、 ·2 7 り 。C ) m/ Θ έ S ^ ( M+ )
6 3 ? ( M+ — / )
/ 7 0 ( "bas e peak ) 本化合物を用い、 実施例 / と同様にポ リ エ ス テ ル フ イ ル ム に塗布 した と ころ、 紫外線照射によ ]? '身色の青 色 ( ス ma∑ = έ 0 6 nm ) に発色 した。 次に可視光を照 射するか、 ある は り 。 C以上に加熱する と元の無色 の状態に ¾ つた。 この変化は く ]9 返し行な う こ とがで
— 一 き た。
実施例 3
r— c構造式
/ り ?^に溶解 し、 下記構造式 '
で表わさ れる 化合物 j ^. ^ を加え、 還流下 j 時間反 応させた。 室温ま で冷却 し、 溶 を留去 し、 カ ラ ム ク ロ マ ト グ ラ フ ィ 一 ( 使用溶媒ベ ン ゼ ン ) で分離 ' 精製 し、 下記樽造式 で表わさ れる ス ピ ロ ォ キサ ジ ン系化合 物を得た。
0H3 CH3
物性値 ( マス ス ぺ ク ド ル ) は下記の通 Dである
( 測定条件 : 7 り 、 3 0- 0 'C )
/e 7 3 0 ( M+ )
7 / S ( M+ - / J" )
/ 7 0 ( "base peak ) 本化合物を用い、 実施例 / と同様にポ リ エ ス テ ル フ イ ル ム に塗布 した と ころ、 紫外線照射によ 、 濃色の 實色 ( ス ma∑ = έ 0 έ n ) に発色 した。 次に可視光を 照射するか、 あるいは f °C以上に加熱する と元の無 色の犾態に った。 この変化は く ] 返し行な う こ とが でき た。
実施例 ^
実施例 / 〜 j に記載の方法に準 じた方法に よ 、 前 記一般式 〔I〕 で示される下記の第 《2表に記載の種 々 の ス ピ ロ 才 キ サ ジ ン系化合物を合成 した。 融点及び熱分 解温度は第 《2 表に示す通 であった。 得 られた化合物 を ポ リ エ ス テ ル フ ィ ル ム上に塗布 し、 紫外線照射した と ころ各 々 第 ·2 表に示す色調及び ス max に発色 した。 次に可視光を照射するか、 あるいは f ク 。 C以上に加熱 する と元の無色の状態に ¾ つ た。 こ の变化は く 返 し て行 ¾ う こ と力;でき た。
2
ポ リ エ ス テ ル
フ ィ ル ム上に
おける紫外線 融 点 熱分解 施
合成したスピロ才キサジン系化合物 照射時の発色
例
(°c) (°c)
M. max
色 調
( nm)
CH3 0H3
屮 一 / (0Η2)3 青 色 έ 0 6 ュ 20 2 S 0 0H3 CH3
y- - 2 青 色 6 06
CH3 GH3
CH3 CH3
GH3 C¾
: 9さ 0卜dfl£6Ϊ0088 ΟΜ 3/ 8//
οο
εΗ0 εΗΟ
Lit ε / ν ? ο ? 十
3さ 0l〕/,8dr/l 961008 Ο/8ΛΑ
εΗ0 ¾0
? 7 r 60 V ? 0 7 7 - -ή
CH3 CH3
IへT; _}
1
CH2
- ε ) 青 色 Δ 0 6 2 3 ? 27 3
ioo/卜 8dl:f/£
— / 0 色 6 06 23 / 2 6 δ
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Wf00/I8df/I3d 96100/88 OM
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^ - 2 2 實 色 60 ί 22 / 27
¥■ - 2 3 青 色 έ 06 22≤ 28 /
一
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、 3
I
h ί τ 8 o r— -
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Ά - 3 2 (OH 2ノ 4 實 色 ά 0 έ
V- - 3 3 (〇¾ 青 色 έ 0
— 9卞ー
W00/l8df/lDd 96100/88 O
V- ~ 3 6 青 色 6 0 έ
H5G2 G2H5
- - 3 7 (CH 2ソ 4 實 色 6 0 6
〇¾ 0Η3
- 3 ε 實 色 6 07
CH3 CH3
CH3 CH3
¥· - 3 ? t 色 έ, 07
0G¾
¾G2002S
実:旌輒
B r C H8 B r で表わされる ジ ブ ロ モ ブタ ン / . <f の混合物を
/ / °Cで 時間反応させ、 室温ま で冷却後、 ェ タ ノ ー ル 2 0 0 π を加え、 更に下記構造式
で表わされる ヌ 一 ニ ト ロ ソ ー / 。 ー ヒ ド ロ キ シ フ エ ナ ン ス レ ン =2 2 . J ^ お よ び ト リ エ チ ルア ミ ン / を 加え、 窒素雰囲気下 2 時間還流下反応させた。 冷却後、 ク ロ 口 ホ ル ム 抽出 し、 硫漦ナ ト リ ウ ム で乾燥、 溶媒留 去 し、 カ ラ ム ク ロ マ ト グ ラ フ ィ ー ( 溶媒ベ ン ゼ ン ) で 分離 · 精製 し、 下記構造式で表わされる 融点 《2 3 Ί 〜 2 3 。 C の ス ピ ロ ォ キ サ ジ ン系化合物の無色結晶を得
— — た
( 測定条件 : 7 、 3 0 0 ) m/e 7 i 2 ( Μつ
7 6 7 ( Μ+— / )
2 / 9 ( base peak ) 本化合物 を用い、 熱可塑性ポ リ エ ス テ ル樹脂
/ 0 f ( 東洋紡社製 バ イ ロ ン 一 =2 ) , 溶媒 メ チ ル ェ チ ル ケ ト ン / 0 ^ か ら る 溶液を ポ リ エ ス テ ル フ イ ル ム ( ダ イ ヤ ホ イ ル社製、 厚さ I 0 0 β ) にバ ー コ — タ ー ^ J を 用いて塗布 し、 7 °C、 / 分乾燥 した c 得 られた試料は通常の状熊 では淡い青色 で あ る が、 紫 外線照射する と 濃.度の高い青色 ( max = έ 0 0 n ) に発色 した。 第 / 図 に吸収ス ぺ ク ト ル を示 した。
次に、 可視光を照射するか、 あるいは り 以上に 加熟する と元の淡い青色の状態に った。 この変化は く 返 し行 う こ とができ た。
実施例
実施例 における ジブ ロ モ ブ タ ン / . の代 に ジブ ロ モ ェ タ ン ?.^ ^ を用い、 他は実施例 と同様に して下記化合物を得た。
物性値 ( マ ス ス ぺ ク ト ル ) は下記の通 である
( 測定条件 : 7 0 s 、 ε 0 Ό ) m/ e 7 S ( M+ )
7 3 ? ( M+ - / J" )
2 / 9 ( "base peak ) 本化合物を用い、 実施例 と同様にボ リ エ ス テ ル フ
一 一 イ ル ム に塗布 した と こ ろ、 紫外線照射に よ 濃色の實 色 ( ス max = έ 0 0 u rn ) に発色 した。 次に可視光を照 射する か、 あ るいは 。 C以上に加熱する と元の淡い 青色の状態に っ た。 こ の変化は く 返 し行な う こ と がで き た。
実施例 7
F 造式
C¾ CH3 で表わ さ れる 化合物 屮 .。 ^ を メ チ ル ェ チ ル ケ ト ソ / ク ?^ に溶解 し、 下記構造式
で表わ さ れる化合物 ^ . ^ を 加え—、 還流下 時間反
応させた。 室温ま で冷却 し、 溶媒を留去し、 カ ラ ム ク ロ マ ト グ ラ フ ィ 一 (使用溶媒 ベ ン ゼ ン ) で分離 ' 精製 し、 下記搆造式で表わされるス ピロ ォ キサ ジ ン系化合 物を得た。
( 測定条件 : 7 e V、 J 2 り °C ) /e ε 3 0 ( Μ+ )
ε / s ( Μ+ - / J- )
2 / 9 ( "base peak ) 本化合物を用い、 実施例 と同様にポ リ エ ス テ ル フ イ ル ム に塗布 した と ころ、 紫外線照射に よ 、 濃色の 實色 ( max = ひ り ] im ) に発色 した。 次に可視光を 照射するか、 あるいは 0 以上に加熱する と元の淡
— — い青色の状態にな った。 この変化は く 返 し行る う こ とができ た。
実施例
実施例 〜 7 に準 じた方法に よ i? 、 前記一般式 〔I〕 で示される下記の第 j 表に記載のス ピ ロ 才キサ ジ ン系 化合物を合成 した。 融点および熱分解温度は第 j 表に 示す通 ]9 であった。 得 られた化合物を ポ リ エ ス テ ル フ イ ル ム上に塗布 し、 紫外線照射 した と こ ろ各々 第 J 表 に示す色調、 max に発色 した。 次に可視光を照射す るか、 ある いは <f 。 C以上に加熱する と元の淡い青色 の状態に った。 この変化は く ] 返 して行 ¾ う こ とが でき た。
3 施例
ポ リ エステノレ
フ イ ル ム上に
熱分解 おける紫外線
合成したスピロォキサジン系化合物 照射時の発色
( °c ) O 色 調
C¾ 0H3
ノ
一 / (0¾)∑ 青 色 6 0 0
0H3 0¾
虫
— 8S—
W00L8df/lDd 96100/88 O
一
N CH3 CH3
ε - ? 實 色 6 00 2 3 Ά 27 ε
CH3 CH3
ί - / 0 青 色 6 00 23 / 6 8-
青 色 ί 0 o 2 8 S 3
GH3 CH3
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°9
CN
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°9
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8 - 3 b 青 色 6 0 0
H5C2 C2H5
ε - 3 7 青 色 b 0 0
S3 ■ 3
°0
1
— — 実施例 ?
下記構造式
B r C4H8 B r で表わされる ジブ ロ モ ブ タ ン / . <? ^ の混合物を
I I り 。 C で 時間反応さ せ、 室温ま で冷却後、 ェ タ ノ ー ル 2 り ク ) ^を加え 、 更に下記構造式
で表わ さ れる — 二 卜 ロ ソ ー ー ヒ ド ロ キ シ キ ノ リ ン I 7.3 ぉ よ び ト リ エ チ ル ア ミ ン / り./ を力!]え、 窒 素雰囲気下 =2 時間還流下反応 させた。 冷却後、 ク ロ 口 ホ ル ム 抽出 し、 硫酸 ナ ト リ ウ ム で乾燥、 溶媒留去 し、 カ ラ ム ク ロ マ ト グ ラ フ ィ ー ( 使用溶媒 ベ ン ゼ ン ) で分 錐 ' 精製 し下記構造式で表わさ れる 融点 " 2 / 〜 =2 / ^ の ス ピ ロ ォ キ サ ジ ン系化合物の無色結晶 を得た。
GH3 GH3
物性値 ( マ ス ス ペ ク ト ル ) は下記の通 である。
( 測定条件 : 7 、 3 3 0 °C )
έ> έ ? ( M÷ - / i- ) ' / S S" ( ¾a s e peak ) 本化合物 を用い、 熱可塑性ポ リ エ ス テ ル樹脂
/ 0 ? ( 東洋紡社製 バ イ 。 ソ 一 0 0 ) 、 溶媒メ チ ル ェ チ ル ケ ト ン / 0 0 か らなる溶液を ポ リ エ ス テ ル フ イ ル ム ( ダイ ヤ ホ イ ル社製、 厚さ ί 0 0 β ) にバ ー コ —ター y¾ J を甩いて塗布 し、 7 。 C、 / 分乾燥した c 得 られた試料は通常の状態では無色であるが、 紫外線 照射する と濃変の高い青色 ( max = / HIE ) に発 色 した。 第 =2 図にその吸収ス ぺ ク ト ルを示した。
次に、 可視光を照射するか、 あるいは f り °C以上に 加熱する と元の無色の状態になった。 この変化は く
一 — 返 し行 う こ と がで き た。
実施例 / 0
実施例 における ジ ブ ロ モ ブ タ ン / . の代 に ジ ブ ロ モ ェ タ ン ?.^ ^ を 用い、 他は実施例 ヌ と 同様に して下記化合物を得た。
( 測定条件 : 7 eV 、 3 0 0 /e 6 S 6 ( Μτ )
6 ¥■ / ( M+ — / )
/ S ε ( "base peak ) 本化合物を用い、 実施例 ? と 同様に ポ リ エ ス テ ル フ イ ル ム に塗布 した と こ ろ 、 紫外線照射に よ ] 濃色 の青 色 ( max = 6 / 0 urn に発色 した。 次に可視光を照 射する か、 あ る いは f 。 C以上に加熱する と 元の無色 の状態に っ た。 こ の変化は く 返 し行 ¾ う こ と がで
— — t- .
実施-例 /'
下 構造式
CH3 CH3
で表わされる化合物 を加え、 還流下 ^ 時間反 応させた。 室温ま で冷却 し、 溶媒を留去 し、 カ ラ ム ク 口 マ ト グ ラ フ ィ 一 ( 使用溶媒 ベ ン ゼ ン ) で分離 ' 精製 し、 下記構造式で表わされる ス ピ ロ ォ キサ ジ ン系化合 物を得た。
物性値 ( マ ス ス ぺ ク ト ル ) は下記の通 である
( 測定条件 : 7 。 、 J 。 C ) ' m/e 7 3 2 ( Mつ
7 / 7 ( M+ - / )
/ S ε ( "base peak ) 本化合物を用い、 実施例 ? と 同様にボ リ エ ス テ ル フ イ ル ム に塗布 した と ころ、 紫外線照射に よ ] 、 濃色の 青色 ( ス max = 6 / 0 nm ) に発色 した。 次に可視光を 照射するか、 あるいは f り 。 C以上に加熱する と元の無 色の状態に ¾ つた。 こ の変化は,く ] 返 し行な う こ と が でき た。
実施例 / =2
実施例 ? 〜 / / に記載の方法に準 じた方法に よ 、
前記一般式 〔I〕 で示される下記の第 表に記載のス ピ Π" ォ キサ ジ ン系化合物を合成 した。 融点及び熱分解温 度は箅 表に示す通 である。 得 られた化合物をポ リ エ ス テ ル フ ィ ル ム上に塗布 し、 紫外線照射した と ころ 各々第 ^表に示す色調、 ス max に発色 した。 次に可視 光を照射するか、 あるいは f り 以上に加熱する と元 の無色の状態に ¾ つた。 この変化は く 返 して行な う こ とカ で きた。
ポ リ エステノレ フ ィ ル ム上に
• おける紫外線 合成したスピロォキサジン系化合物 照射時の発色 例
M. Λ max 色 調
、nm) r< 〇
CH3 CH3
s
一 / 青 色 6 / 0
¾0 ¾0
0 / ? HO)
≠
C
ヽ
05
ヽ
C5 ヽ
98
t^tO0/L8df/l3d 96100/88 OM
°0
/ Γ ヽ
ヽ ヽ
^
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ヽ 、
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0H3 C¾
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青 色 6 / 0 2 3 V- 27 3
0H3 C¾
CH3 GH3
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εΗ0 εΗ0
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¾0 ¾0
¾0 ¾0
N5
4
O 〇
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96100/88 OM
ヽ
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実施例 / J
前記第 。2表 ^ ― / で表わされる フ ォ ト ク 口 ミ 'グ ク 剤 ( S P —《2 と言う ) を / 計量し、 これを ヌ ヌ f のポ リ ビ 二 ル ブ、チラー ル 粉末に加え、 更に 可塑剤と して を 2 S 0 加えて 《2 0 で溶融 混合 し、 押し出 し成形機に よ ]5 ダイ を通 しフ ィ ル ム化 し、 ε ο ^ の厚さを有する フ イ ル ムを得た。
こ の フ ィ ル ム を フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク 中間膜と し従来の 合わせガ ラ ス作成方法に よ ]9 、 自動車の合わせガ ラ ス と して用い られる積層体を得た。 比較のため前記 S P 一 / を用い同様の方法にて フ ォ ト ク ロ ミ ッ ク合わせガ ラ スを作成 した。
以上の合わせガ ラ ス につき 照射装置と してゥ シォ電 機 (線) 製 サ ン シ ャ ィ ン ゥ ェ ザ オ メ 一 タ 一 ひ: K L一 7 :0 ラ ン プを使用 し、 3 0 ,0 0 0 / s 照射 し、 各照射時 間後の ί / 0 nm における光学濃度の変化量 ( ) を箅 3 図に示す。
S P — / は融点、 熱分解温度が低いため、 練 ]? 込み 中に — / が撵散 した ]9 、 分解して しま う ため、 フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク性能を殆んど示さ ¾い。
次に S P — ·2 を J f 、 P V B を f 2 ^ 、 j G H を / の割合で上記 と同様に して溶融混合 し、 押 し出 し法に よ ] 厚さ 0 β ^ χ 3 ε 0 の フ ィ ル ム ① 、 ③を成形 し、 キ ャ ス ト法で厚さ 0 の フ ィ ル ム③を
成形 した。 これ等の フ ィ ル ム サ ン プルにっ き 上記照射 装置を用いて同様に して ^ nm 'に おける を 評価 し、 結果を第 表に示す。 第 表
フ 才 ト ク 口 ミ ッ ク 剤の耐候性は膜厚の厚い程、 堅牢 と されてい る た め、 従来法では高 々 / 程度の . 厚 が限界で あ っ た のに対 し、 第 表の結果か ら本発明の フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク 剤を 用い る と 耐候性に有利で あ る 。 実施例 ζ Ψ
前記実施例 ? で合成 した キ ノ リ ン環を 有する ス ピ ロ ォ キ サ ジ ン系化合物 ( S Ρ — J と 言 う ) を ? 計量 し、 こ れに ヌ の ポ リ メ チル メ タ ク リ レ ー ト
( P M M A ) 粉体を加え、 。2 / i? °C で溶融混合 し、 ペ レ タ イ ザ 一でペ レ ツ ト 化 した。 次に得 られた S P — J を
含む P M M A ペ レ ツ ト を 。2 り で射出成形機を用い て射出陚形し、 眼鏡用 レ ン ズを得た。
比較のため次式
これ らの レ ン ズにつき実施例 / に記載 した よ う に して / 0 urn における を評価 し、 結果を 第 図に示す。 S P — J では所要のフ ォ ト ク ロ ミ ッ ク性を 有するが、 S P — ^ のモ ノ マ 一ではペ レ ツ 化ゃ成形 時に熱分解して しま い、 フ ォ ト ク ロ ミ ッ ク性を示さ な 力 つた。 産業上の利用可能性
本発明のス ピ ロ ォ キ サ ジ ン系化合物は、 フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク性を有 し特に、 耐熱性が良好で、 発色濃度およ び着色状態の堅牢性に優れるため濃色で しか も発色 .' 消色の く 返 し安定性が良好である。
こ のス ピ ロ ォ キサ ジ ン系化合物を溶解あ るいは分散
した:樹脂を含有する感光層 を基板上に有する感光材料 ま たはス ピ ロ ォ キサ ジ ン系化合物を あ らカ じめ高分子 材料に練 ]9 込み、 直接成膜或いは成形する こ と に よ つ て得 られる感光材料は、 各種の調光材料、 光学フ ィ ル タ ー、 マ ス キ ン グ用材料、 光量計 と して多方面に使用 する こ と が出.来る。
更に、 本発明のス ピロ ォ キ サ ジ ン系化合物は融点が 高 く 耐熱性が良好であるため、 従来の コ ーテ ィ ング等 の方法で感光材料を得る こ と が出来るのは も ちろんの と と 、 マ ト リ ッ ク スの高分子材料 と 直接高温で一体化 してか ら各種成形を行 う こ と が可能と ¾ i 、 その結果 (ィ) フ ォ ト ク ロ ミ ッ ク層が厚 く な る こ と に 'よ 耐候 性が向上 し、
(口) フ ォ ト ク π ミ ッ ク成形体を極めて高い生産性で 得る こ とができ 、 これに よ ] 製品 コ ス ト を下げる こ と がで き 、
H 従来の コ 一テ ィ ン グ等のみでは出来ない複雑形 状物の フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク材料を得る こ とは可能で ある。
とい う 効果が得 られる。
Claims
求 の 範 囲
(1) 般式 〔I〕 者 X1 X2 、 R2
〔I〕
R3 4
^ ク , 、 R
は置換基を有していても よい ) または酸素原子を介
していて も よい直鎖状るい し分岐鎖状のア ル キ レ ン 基、 置換されていて も よ いァ リ 一 レ ン基を表わ し、 R1 、 R2 、 R3 、 R4、 R5 及び R6 は水素原子、 ハ ロ ゲ ン 原子、 ァ ノレ キ ノレ基 、 ァ ノレ コ キ シ基 、 ァ ノレ コ キ シ 力 ノレ ボ ニ ノレ基、 ァ ノレ コ キ シ ス ノレ ホ ニ ノレ基又はァ ノレ キ ノレ ス ル ホ ニル基を表わす。 〕 で表わされる ス ピ ロ 才 キ サ ジ ン系化合物。
(2) —般式 〔 I〕 において、 R1 、 R2 、 R5 及び R6 が水素 原子、 ノ、 ロ ゲ ン原子、 〜 06のア ル キ ル基、 C i 〜〇6 の ァ ノレ コ キ シ カ ノレ ボ ニ■ ノレ基、 〜 c 6 の ァノレ キ ノレ ス ノレ ホ ニ ノレ基及び C i〜 c 6のア ルコ キ シ ス ノレ ホ ニ ノレ基 よ !) 選ばれる基を表わ し、 、 R4 は水素原子、 〜 c 6 の ア ル コ キ シ基、 ハ ロ ゲ ン原子及び 〜 c 6 の ァ ル キ ル基か ら選ばれる基を表わす特許請求の範囲第(1)項 記载 の ス ピ ロ ォ キ サ ジ ン系化合物。
(3) —般式 〔 I〕 に おいて 、 、 、 R5 及び R6 が水素 原子、 〜 の ア ル キ ル基、 (^〜(^ の ア ル コ キ シ 力 ノレ ボ ニ ノレ基、 〜 c 4のァノレ キ ノレ ス ノレ ホ 二ノレ基及び
C i〜 C 4 の ア ル コ キ シ ス ル ホ ニ ノレ基よ 選ばれる基を 表わ し、 R3 及び R4 は水素原子、 〜 C4 の ア ル コ キ シ基、 ハ ロ ゲ ン原子及び 〇1 〜 C 4 のア ル キ ル基か ら選 ばれる基を表わす特許請求の範囲第(1)項記載のス ピ 口 才 キ サ ジ ン系化合物。
(4) —般式 〔 I〕 において、 R 1 、 R2、 及び R6 が水素
原子、 〜 C2 の ア ル キ ル基、 〜 C2 のアル コ キ シ 力 ノレ ボ - ノレ基、 Ci ~ C2 のァノレ キ ノレ ス ノレ ホ - ノレ基'及び Ci〜 C2 の ア ル コ キ シ ス ル ホ ニ ル基よ !)選は *れる基を 表わ し、 R3 及び R4 は水素原子、 〜 c2 の ア ル コ キ シ基、 ハ ロ ゲ ン原子及び 〜G2 の アル キ ル基か ら選 ばれる特許請求の範囲第(3)項記載のス ピロ ォキサジ ン 系化合物。
(5) —般式 〔 I〕 において、 X1、 、 Y1 及び Y2 が 〜 C4 の ア ル キ ル基、 又は Z1 と X2、 Y1 と Y2 が互に結 合しシ ク π へ キ サ ン環を表わすこ と を特徵とする特 許請求の範囲第(1)項記載の ス ピロ ォ キ サ ジ ン系化合 物 o '
(6) —殺式 〔 I〕 において、 Zが ~<C¾ 、 -CHs-Q-CHs-, (σ¾ ¾03 eCH2¾ ( こ こ で は ~ Ξ
/ 〜 を表わす ) か ら選ばれる基である こ とを特徵 とする特許請求の範囲第(1)項記載のス ピロ ォキサジ ン 系化合物。
(7) 一般式 〔 I〕 において、 X1 、 X2、 Ϊ1 及び Y2 が メ チ ル基であ ]9 、 Z 力 S — CH2)^- = である特 許請求の範囲第 ( 項記載のス ピロ ォ キ サ ジ ン系化合 物 o
(8) —殺式 〔 I〕 において、 A 及び A' が同一の
R3、 R4 で、 R1、 R2、 R5 及び R6 が水素原子
又は メ チ ル基で、 、 R4 が水 素原子又は メ ト キ シ 基で あ る特許請求の範囲第(7)項記载の ス ピ ロ 才 キ サ ジ ン 系ィヒ合物。
(9) 一般式 〔I〕
X1 X2
〔 I 〕
X2、 及び Y2 は ア ル キ ル基を表わ し、 X1 と X2 、 Y1 Y2 は互いに結合 し環化 して シ ク ロ へ キサ ン環 を形成 してい て も よ い。 Z は
も し ぐは 丄?上 か ら選ばれた基( これらの基
は置換基を有 して ても よい ) 又は酸素原子を介し ていて も よい直鎖状 い し分岐鎖状のア ル キ レ ン基、 置換されていて も よいァ リ 一レ ン基を表わ し、 、 R2 、 R3、 R4、 R5 及び R6 は水素原子、 ハ ロ ゲ ン原子、 ア ル キ ノレ基 、 ァ ノレ コ キ シ基 、 ァ ノレ コ キ シ カ ノレ ボ ニ ノレ 基、 ァ ノレ コ キ シ ス ソレ ホ ニ ノレ—基又はァ ノレ キ ノレ ス ノレ ホ ニ ル基を表わす。 〕 で表わされる ス ピ ロ ォ キサ ジ ン系 化合物を溶解ま たは分散 した樹脂を含有する感光層 を基板上に有する こ と を特徵 とする感光材料。
ttO) 一般式 〔I〕 において、 X1 、 X2 、 I1 及び Y2 が.メ チ ル基であ 、 Z - CH2 ( n = 〜 <f ) である ス ピ ロ ォ キ サ ジ ン系化合物を含有する感光層を基板上 に有する こ とを特徵とする特許請求の範囲第(9)項記 載の感光材料。
(13) —般式 〔 I〕 において、 A 及び A' が同 の
R3、 で、 R1 、 R2、 R5 及び R6 が水素原子
又は メ チル基で、 、 R が水素原子又はメ ト キ シ 基である ス ピロ ォ キサ ジ ン系化合物を含有する感光 層を基板上に有する こ とを特徵とする特許請求の範 囲 .第 ttO)項記載の惑光材料。
(β 一般式 〔I〕 χ1 ζ2
Ri、 R2
〔I〕
X2、 Y1 及び Y2 はア ル キ ル基を表わ し、 と χ2 、 Υ1 と Υ2 は互いに結合 し環化 して シク ロ へキサ ン環
らの基
は置換基を有 していて も よ い ) ま たは酸素原子を介 していて も よ い直鎖状 ¾い し分岐鎖状のア ル キ レ ン 基、 置換されて て も よいァ リ ー レ ン基を表わ し、
S1 、 R2 、 R3 、 R4 、 R5 及び R6 は水素原子、 ハ ロ ゲ ン 原子、 ァ ノレ キ ノレ基、 ア フレ コ キ シ基、 ァ ノレ コ キ シ 力 ノレ ボニ ノレ基、 ァ ノレ コ キ シ ス ノレ ホ - ノレ基又はァ ノレ キ ノレ ス ル ホ ニル基を表わす。 〕 で表わされる ス ピロ ォキサ ジ ン系化合物か ら なる フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク剤を あ らか じめ高分子材料に高温で練 j 込み、' しかる後成形す る こ と を特徵とする成形方法。
(L3 —般式 〔 I〕 において、 : ε1 、 X2 、 Y1 及び Y2 が メ チ ル基であ ]) 、 Ζ 力 S — ( CH2 ^- ( ii = j 〜 f ) である ス ピ ロ ォ キ サ ジ ン系化合物を フ ォ ト ク σ ミ ッ ク剤とす る こ と を特徴とする特許請求の-範囲第 )項記載の成 形方法。 '
04> —般式 〔 I〕 において、 Α及び A' が同一の
R2 、 R5 及び R6 が水素原子又はメ チ ル基で R3 、 R4 が水素原子又はメ ト キ シ基である ス ピロ ォキサジ ン 系化合物を フ ォ ト ク 口 ミ ッ ク剤 とする こ とを特徵と する特許請求の範囲第 項記載の成形方法。
な 5) 高分子材料が、 ア ク リ ル系ポ リ 'マ ーはポ リ ビ 二 ル ブチラ ー ルである こ と を特徵とする特許請求の範囲 第 0 項記载の成形方法。
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