JPH0481998B2 - - Google Patents
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- JPH0481998B2 JPH0481998B2 JP60012192A JP1219285A JPH0481998B2 JP H0481998 B2 JPH0481998 B2 JP H0481998B2 JP 60012192 A JP60012192 A JP 60012192A JP 1219285 A JP1219285 A JP 1219285A JP H0481998 B2 JPH0481998 B2 JP H0481998B2
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- compound
- alkyl group
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- solvent
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/685—Compositions containing spiro-condensed pyran compounds or derivatives thereof, as photosensitive substances
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規な３，３−ジメチル−スピロ
〔インドリノー２，3′−ナフト〔２，１−ｂ〕
（１，４）オキサジン〕 誘導体に関するものである。 詳しくは、各種の記録・記憶材料、複写材料、
印刷感光体、レーザー用感光材料、写真植写用感
光材料あるいは光学フイルター、マスキング用材
料、光量計、デイスプレイ用材料として使用し得
るフオトクロミツク性を有する新規な化合物に関
するものである。 〔従来の技術〕 スピロナフトオキサジン化合物が光の照射によ
り発色又は消色するフオトクロミツク性を有する
ことは知られており、それを使用したフオトクロ
ミツク感光材料が種々提案されている。 例えば、特公昭45−28892号には、次式の様な
スピロナフトオキサジン系化合物を含有するフオ
トクロミツク材料が提案されている。 （式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、シアン
基、炭素数１〜８のアルキル基またはアルコキシ
基を示す。） また、特公昭49−48631号には、次式の様なス
ピロナフトオキサジン系化合物を高分子物質中に
分散させたフオトクロミツク感光材料が提案され
ている。 （式中、Rbは―（CH2）―oCOOH、―（CH2）―oCNま
たは―（CH2）―oCOOR（Ｒは炭素数１〜５のアルキ
ル基）；RcおよびRdは炭素数１〜５のアルキル
基；Reは水素原子、炭素数１〜５個のアルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数
２〜６個のアルコキシカルボニル基または炭素数
１〜５個のアルコキシ基を示す。） また、特開昭55−36284号には、次式の様なフ
オトクロミツク化合物が提案されている。 （式中、RfとRgの一つはハロゲン又は低級アル
コキシで他の一つは水素、又RhとRiは水素、低
級アルキル、低級アルコキシ、又はハロゲンを示
す。） また、U.S.P.4342668には、次式の様なフオト
クロミツク化合物が提案されている。 （式中、RjとRkの一つはハロゲン又は低級アル
コキシで、他の一つは水素、またRlとRmは水素、
低級アルキル、低級アルコキシ、又はハロゲンを
示し、Rnは炭素数２から10までのアルキル基を
示す。） 近年、有機超薄膜に対する関心が高揚しつつあ
り、このような薄膜の一つとして、特に、ラング
ミユア膜が注目されている。ラングミユア膜の作
製法は単分子累積法とも言い、水面上に形成した
単分子膜を固体表面に１枚ずつ重ねて超薄膜を作
る方法であるが、最近、フオトクロミツク化合物
を使用し、このようなラングミユア膜による有機
超薄膜を作製することが検討されている。 〔従来技術の問題点〕 しかし、上述の様な従来のスピロナフトオキサ
ジン化合物の場合、上記の手法を用い、紫外線照
射下、製膜するも十分な膜が得られない。 〔問題点を解決するための手段〕 すなわち、本発明は、一般式〔〕 （式中、R1はC16〜24のアルキル基を示し、R2、
R3、R4、R5は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基またはアルコキシカルボニル
基を示す。） で表わされる３，３−ジメチル−スピロ〔インド
リノー２，3′−ナフト〔２，１−ｂ〕（１，４）
オキサジン〕誘導体を要旨とする。 本発明のスピロナフトオキサジン化合物は前記
一般式〔〕で表わされるものである。 式中、R2、R3、R4、R5は水素原子；塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；
C1〜6のアルキル基等のアルキル基；C1〜6のアル
コキシ基等のアルコキシ等、または、C1〜6のア
ルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル
基を示す。 本発明の化合物は、例えば、次のようにして製
造することができる。すなわち、下記一般式
〔〕 （式中、R2及びR3は前記定義に同じ。）で表わさ
れる２，３，３−トリメチルインドレニン誘導体
に下記一般式〔〕 （式中、R1は前記定義に同じ。）で表わされるｐ
−トルエンスルホン酸エステル類あるいは下記一
般式〔〕 Ｘ−R1 ……〔〕 （式中、R1は前記定義に同じ。Ｘはハロゲン原
子を示す。）で表わされるアルキルハライド類を
反応させ、次いで下記一般式〔〕 （式中、R4及びR5は前記定義に同じ。）で表わさ
れる１−ニトロリ−２−ナフトール誘導体を反応
させることによつて製造することができる。 ｐ−トルエンスルホン酸エステルあるいはアル
キルハライドによるアルキル化反応は無溶媒ある
いはクロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどの芳
香族系溶媒などの非極性溶媒中、80〜200℃の反
応温度で実施される。好ましくは無溶媒で130〜
150℃で円滑に実施できる。 次いで、１−ニトロソ−２−ナフトール誘導体
との反応は、ピペリジン、ピペラジン、モルホリ
ン等の塩基性触媒の存在下、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、ブタノールなどのアルコー
ル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどの
ケトン系溶媒、ジクロロメタン、トリクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などの極性又
は非極性の溶媒の存在下に実施される。反応温度
は０〜200℃の範囲で実施される。好ましくは、
エタノール、メチルエチルケトン、アセトン中、
ピペリジン触媒の存在下40℃〜120℃で円滑に実
施できる。 本発明の化合物は、例えば、次のようにしても
製造することができる。すなわち、下記一般式
〔〕 （式中、R1、R2及びR3は前記定義に同じ。）で表
わされる化合物と下記一般式〔〕 （式中、R4及びR5は前記定義に同じ。）で表わさ
れる１−ニトロリ−２−ナフトール誘導体を反応
させることによつて製造することができる。 反応は通常、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、ア
セトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶
媒、ジクロロメタン、トリクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素系溶媒などの極性又は非極性溶
媒の存在下に実施される。反応温度は、０℃〜
200℃の範囲で実施され、好ましくは、40℃〜120
℃で円滑に実施できる。 〔作用〕 本発明のスピロナフトオキサジン化合物は、上
記一般式〔〕において、Ｎの置換基として長鎖
のアルキル基（C16〜C24）を有するため、良好な
発色濃度を示し、またラングミユア膜の作製法に
おいて製膜性にすぐれ、そしてフオトクロミツク
性の良好な有機超薄膜を作成することができる。 〔実施例〕 次に、本発明を実施例により、更に具体的に説
明する。 実施例 １ 下記構造式 で表わされる化合物21.6ｇに、下記構造式 で表わされる化合物１−ニトロソ−２−ナフトー
ル７ｇおよびエタノール100mlを加え、更にトリ
エチルアミン４ｇを加えた後、窒素雰囲気下２時
間撹拌反応させた。冷却後、溶媒を留去し、カラ
ムクロマトグラフイー（使用溶媒ベンゼン：ｎ−
ヘキサン＝１：１）で分離・精製し、融点64〜66
℃の無色の結晶を得た。元素分析結果も下記第１
表の通り、計算値とよく合致した。
〔インドリノー２，3′−ナフト〔２，１−ｂ〕
（１，４）オキサジン〕 誘導体に関するものである。 詳しくは、各種の記録・記憶材料、複写材料、
印刷感光体、レーザー用感光材料、写真植写用感
光材料あるいは光学フイルター、マスキング用材
料、光量計、デイスプレイ用材料として使用し得
るフオトクロミツク性を有する新規な化合物に関
するものである。 〔従来の技術〕 スピロナフトオキサジン化合物が光の照射によ
り発色又は消色するフオトクロミツク性を有する
ことは知られており、それを使用したフオトクロ
ミツク感光材料が種々提案されている。 例えば、特公昭45−28892号には、次式の様な
スピロナフトオキサジン系化合物を含有するフオ
トクロミツク材料が提案されている。 （式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、シアン
基、炭素数１〜８のアルキル基またはアルコキシ
基を示す。） また、特公昭49−48631号には、次式の様なス
ピロナフトオキサジン系化合物を高分子物質中に
分散させたフオトクロミツク感光材料が提案され
ている。 （式中、Rbは―（CH2）―oCOOH、―（CH2）―oCNま
たは―（CH2）―oCOOR（Ｒは炭素数１〜５のアルキ
ル基）；RcおよびRdは炭素数１〜５のアルキル
基；Reは水素原子、炭素数１〜５個のアルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数
２〜６個のアルコキシカルボニル基または炭素数
１〜５個のアルコキシ基を示す。） また、特開昭55−36284号には、次式の様なフ
オトクロミツク化合物が提案されている。 （式中、RfとRgの一つはハロゲン又は低級アル
コキシで他の一つは水素、又RhとRiは水素、低
級アルキル、低級アルコキシ、又はハロゲンを示
す。） また、U.S.P.4342668には、次式の様なフオト
クロミツク化合物が提案されている。 （式中、RjとRkの一つはハロゲン又は低級アル
コキシで、他の一つは水素、またRlとRmは水素、
低級アルキル、低級アルコキシ、又はハロゲンを
示し、Rnは炭素数２から10までのアルキル基を
示す。） 近年、有機超薄膜に対する関心が高揚しつつあ
り、このような薄膜の一つとして、特に、ラング
ミユア膜が注目されている。ラングミユア膜の作
製法は単分子累積法とも言い、水面上に形成した
単分子膜を固体表面に１枚ずつ重ねて超薄膜を作
る方法であるが、最近、フオトクロミツク化合物
を使用し、このようなラングミユア膜による有機
超薄膜を作製することが検討されている。 〔従来技術の問題点〕 しかし、上述の様な従来のスピロナフトオキサ
ジン化合物の場合、上記の手法を用い、紫外線照
射下、製膜するも十分な膜が得られない。 〔問題点を解決するための手段〕 すなわち、本発明は、一般式〔〕 （式中、R1はC16〜24のアルキル基を示し、R2、
R3、R4、R5は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基またはアルコキシカルボニル
基を示す。） で表わされる３，３−ジメチル−スピロ〔インド
リノー２，3′−ナフト〔２，１−ｂ〕（１，４）
オキサジン〕誘導体を要旨とする。 本発明のスピロナフトオキサジン化合物は前記
一般式〔〕で表わされるものである。 式中、R2、R3、R4、R5は水素原子；塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；
C1〜6のアルキル基等のアルキル基；C1〜6のアル
コキシ基等のアルコキシ等、または、C1〜6のア
ルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル
基を示す。 本発明の化合物は、例えば、次のようにして製
造することができる。すなわち、下記一般式
〔〕 （式中、R2及びR3は前記定義に同じ。）で表わさ
れる２，３，３−トリメチルインドレニン誘導体
に下記一般式〔〕 （式中、R1は前記定義に同じ。）で表わされるｐ
−トルエンスルホン酸エステル類あるいは下記一
般式〔〕 Ｘ−R1 ……〔〕 （式中、R1は前記定義に同じ。Ｘはハロゲン原
子を示す。）で表わされるアルキルハライド類を
反応させ、次いで下記一般式〔〕 （式中、R4及びR5は前記定義に同じ。）で表わさ
れる１−ニトロリ−２−ナフトール誘導体を反応
させることによつて製造することができる。 ｐ−トルエンスルホン酸エステルあるいはアル
キルハライドによるアルキル化反応は無溶媒ある
いはクロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどの芳
香族系溶媒などの非極性溶媒中、80〜200℃の反
応温度で実施される。好ましくは無溶媒で130〜
150℃で円滑に実施できる。 次いで、１−ニトロソ−２−ナフトール誘導体
との反応は、ピペリジン、ピペラジン、モルホリ
ン等の塩基性触媒の存在下、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、ブタノールなどのアルコー
ル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどの
ケトン系溶媒、ジクロロメタン、トリクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などの極性又
は非極性の溶媒の存在下に実施される。反応温度
は０〜200℃の範囲で実施される。好ましくは、
エタノール、メチルエチルケトン、アセトン中、
ピペリジン触媒の存在下40℃〜120℃で円滑に実
施できる。 本発明の化合物は、例えば、次のようにしても
製造することができる。すなわち、下記一般式
〔〕 （式中、R1、R2及びR3は前記定義に同じ。）で表
わされる化合物と下記一般式〔〕 （式中、R4及びR5は前記定義に同じ。）で表わさ
れる１−ニトロリ−２−ナフトール誘導体を反応
させることによつて製造することができる。 反応は通常、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、ア
セトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶
媒、ジクロロメタン、トリクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素系溶媒などの極性又は非極性溶
媒の存在下に実施される。反応温度は、０℃〜
200℃の範囲で実施され、好ましくは、40℃〜120
℃で円滑に実施できる。 〔作用〕 本発明のスピロナフトオキサジン化合物は、上
記一般式〔〕において、Ｎの置換基として長鎖
のアルキル基（C16〜C24）を有するため、良好な
発色濃度を示し、またラングミユア膜の作製法に
おいて製膜性にすぐれ、そしてフオトクロミツク
性の良好な有機超薄膜を作成することができる。 〔実施例〕 次に、本発明を実施例により、更に具体的に説
明する。 実施例 １ 下記構造式 で表わされる化合物21.6ｇに、下記構造式 で表わされる化合物１−ニトロソ−２−ナフトー
ル７ｇおよびエタノール100mlを加え、更にトリ
エチルアミン４ｇを加えた後、窒素雰囲気下２時
間撹拌反応させた。冷却後、溶媒を留去し、カラ
ムクロマトグラフイー（使用溶媒ベンゼン：ｎ−
ヘキサン＝１：１）で分離・精製し、融点64〜66
℃の無色の結晶を得た。元素分析結果も下記第１
表の通り、計算値とよく合致した。
【表】
実施例 ２
実施例１に於ける下記構造式
で表わされる化合物21.6ｇの代りに、下記構造式
で表わされる化合物20.4ｇを用い、他の実施例１
と同様にして、下記化合物を得た。 実施例 ３ 実施例１〜２に準じた方法により、下記一般式
〔〕で示される化合物を合成した。トルエン溶
液中で紫外線照射したところ、各々第２表に示す
色調、λmaxに発色した。
と同様にして、下記化合物を得た。 実施例 ３ 実施例１〜２に準じた方法により、下記一般式
〔〕で示される化合物を合成した。トルエン溶
液中で紫外線照射したところ、各々第２表に示す
色調、λmaxに発色した。
【表】
【表】
【表】
【表】
本発明の化合物は新規な色素であり、ホトクロ
ミズムを示す化合物である。すなわち、本化合物
は紫外線照射により発色し、次に可視光を照射す
るか、あるいは50℃以上に加熱すると元の無色の
状態になり、この変化をくり返すことができる。 このような本化合物は各種の記録・記憶材料、
複写材料、印刷感光体、レーザー用感光材料、写
真植字用感光材料あるいは光学フイルター、マス
キング用材料、光量計、デイスプレイ用材料とし
て使用される。
ミズムを示す化合物である。すなわち、本化合物
は紫外線照射により発色し、次に可視光を照射す
るか、あるいは50℃以上に加熱すると元の無色の
状態になり、この変化をくり返すことができる。 このような本化合物は各種の記録・記憶材料、
複写材料、印刷感光体、レーザー用感光材料、写
真植字用感光材料あるいは光学フイルター、マス
キング用材料、光量計、デイスプレイ用材料とし
て使用される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式〔〕 （式中、R1はC16〜24のアルキル基を示し、R2、
R3、R4、R5は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基またはアルコキシカルボニル
基を示す。） で表わされる３，３−ジメチル−スピロ〔インド
リノー２，3′−ナフト〔２，１−ｂ〕（１，４）
オキサジン〕誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60012192A JPS61263983A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | ３，３−ジメチル−スピロ〔インドリノ−２，３′−ナフト〔２，１−ｂ〕（１，４）オキサジン〕誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60012192A JPS61263983A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | ３，３−ジメチル−スピロ〔インドリノ−２，３′−ナフト〔２，１−ｂ〕（１，４）オキサジン〕誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61263983A JPS61263983A (ja) | 1986-11-21 |
| JPH0481998B2 true JPH0481998B2 (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=11798536
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60012192A Granted JPS61263983A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | ３，３−ジメチル−スピロ〔インドリノ−２，３′−ナフト〔２，１−ｂ〕（１，４）オキサジン〕誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61263983A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63305181A (ja) * | 1987-06-08 | 1988-12-13 | Nissan Motor Co Ltd | 感熱転写記録用インク |
| JP5206045B2 (ja) * | 2008-03-17 | 2013-06-12 | 株式会社リコー | フォトクロミック組成物、画像表示媒体および画像形成装置並びに画像消去装置 |
| JP5206046B2 (ja) * | 2008-03-17 | 2013-06-12 | 株式会社リコー | フォトクロミック組成物、画像表示媒体および画像形成装置並びに画像消去装置 |
| JP5459528B2 (ja) * | 2008-09-02 | 2014-04-02 | 株式会社リコー | フォトクロミック組成物、画像表示媒体及び画像形成装置 |
| JP5645045B2 (ja) * | 2008-09-02 | 2014-12-24 | 株式会社リコー | フォトクロミック組成物、画像表示媒体および画像形成装置 |
-
1985
- 1985-01-25 JP JP60012192A patent/JPS61263983A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61263983A (ja) | 1986-11-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |