WO1994001354A1 - Dispositif de transport en levitation magnetique - Google Patents

Description

明細書 磁気浮上搬送装置 技術分野

本発明は磁気浮上搬送装置に係り、 真空中等の高清浄度雰囲気のトン ネル内でウェハ等の被搬送物を搭載する搬送台を磁力により浮上させて、 隔壁に対して非接触状態にして走行せしめる磁気浮上搬送装置に関する 背景技術

半導体製造工程においては、 加工、 各種処理等の工程間のウェハの移 送 ·授受を一貫して清浄空間で行う要求が高まっている。 特に、 半導体 製品は不純物に汚染されると品質不良となり易いので、 高度に清浄化さ れたクリーンルーム内で搬送することが好ましい。 しかしながら、 半導 体の微細化とともに、 問題となる粒子径が小さくなるため、 従来のクリ ーンルームで清浄空間を形成するのが難しくなつてきており、 代わりに ブラウン運動が少ないために、 空間を粒子が漂うことがない真空中にて、 ウェハ等を搬送することが考えられている。 すなわちトンネル内部を真 空に保ち、 真空中でウェハ等の搬送対象物を搭載する搬送台を磁力によ り浮上させて、 隔壁に対して非接触状態にして走行せしめる磁気浮上真 空搬送装置が従来から提案されている。

また、 一方真空にする代わりにトンネル内に清浄な窒素ガス等を封入 して、 トンネル隔壁に対して搬送台を非接触状態で走行せしめる磁気浮 上搬送装置も提案されている。

例えば、 特開昭 6 1 - 2 9 5 9 2 6号公報、 特開平 1一 2 9 9 1 1 9号公報によれば、 搬送台を真空に保持された高清浄度環境の隔壁内の 搬送路に沿って、 磁気浮上した状態で走行移動させる磁気浮上真空搬送 装置が開示されている。 又、 特開昭 6 3 - 1 9 4 5 0 2号公報、 実開平

1一 1 3 4 9 9 8号公報等によれば、 上述とは逆に、 搬送路に列設され た浮上用電磁石、 変位センサ及び走行に必要なリニアモータ等をトンネ ノレ （キャン） 内に収納し、 トンネル （キャン） 外側の真空 （清浄雰囲気） 中を搬送台を走行させる、 トンネル内部に発塵等の可能性のある部材を 収納するタイブの磁気浮上真空搬送装置が開示されている。

尚、 特開昭 5 3 - 3 4 2 7 2号公報、 特開昭 6 1— 2 7 7 3 0 3号公 報、 特開平 4一 7 5 4 0 4号公報、 実開昭 5 9— 1 4 6 3 2 6号公報等 によれば、 搬送台 （可動体） を搬送路に沿って列設された浮上用電磁石 の磁気吸引力により吊り上げ、 搬送路から浮上した状態で走行させる磁 気浮上搬送装置が開示されている。

しかしながら、 例えば特開昭 6 1 - 2 9 5 9 2 6号公報に開示される 真空トンネル （隔壁） 内の搬送台を隔壁外の浮上用電磁石により吊上げ 走行させる磁気浮上搬送装置においては、 搬送台に永久磁石を取り付け る必要があり、 又、 隔壁断面を複雑な構造にしなければならなかった。 このため、 搬送台を構成する各種部品及び隔壁自体から種々のガスが放 出されたり微粒子が発生するため、 高真空度を得難く、 被搬送物を汚染 させるという問題点があつた。

また、 トンネル内部に窒素ガスを流して清浄空間を作る場合には、 従 来はトンネル内部に浮上用電磁石、 リニアモータ等を配置していたが、 この場合には、 電磁石コィルの隙間等に付着した粒子を洗浄で完全に取 り除くことが難しいため、 これら粒子がそのまま トンネル内部に放出さ れてしまうという問題点があった。 また、 コイルの断線等で、 電磁石の コイルを交換するためには、 トンネル内部に配置されているため、 多大 な労力を要するという問題点があつた。 又、 上述のいわゆるトンネル内部に発塵等の可能性のある部材を収納 するタイプの磁気浮上真空搬送装置では、 トンネル （キャン） 内の浮上 用電磁石、 変位センサあるいはリニアモータ等に制御電流を供給するケ 一ブルをトンネル （キャン） 外の真空等の高清浄度雰囲気中に出さねば ならず、 ケーブル処理上の問題点、 トンネル （キャン） 内の構成部品の メンテナンス上の問題点等が発生してしまう。

本発明は、 上述の事情に鑑みなされたもので、 浮上用電磁石、 リニア モータ及び変位センサ等をトンネルの外側に配置し、 トンネル内を走行 する搬送台を単純な構造、 いわゆるキャン化構造としてガス等の発生を 防止すると共にトンネル断面積を小さく し、 トンネル内の高清浄度を達 成すると共に、 良好な浮上制御又は走行制御を行うことのできる磁気浮 上搬送装置を提供することを目的とする。

又、 半導体製造工程では、 リソグラフィ、 各種被膜の成長、 拡散等の 多様な処理設備が配備されており、 これら各種処理設備間をトンネルで 接続し、 高清浄度 （高真空） 雰囲気中で半導体ウェハ等を搬送しなけれ ばならない。

このため、 トンネルは分岐を有し、 分岐点では搬送台はドンネル内を 浮上したまま非接触で主搬送路から分岐搬送路に方向転換して浮上走行 することのできる実用的な磁気浮上搬送装置を提供することを目的とす 。 発明の開示

本発明の第 1の態様は、 隔壁で形成されたトンネルと、 該トンネル内 に配置された搬送台と、 該搬送台を非接触状態にて浮上支持する複数の 浮上用電磁石と、 前記搬送台を走行移動させるリニアモータと、 前記搬 送台の垂直方向距離を検出する変位センサとを備えた磁気浮上搬送装置 において、 前記浮上用電磁石、 リニアモータ及び変位センサを前記トン ネルの外側に配置するとともに前記浮上用電磁石、 リニアモータ及び変 位センサを前記隔壁を貫通してトンネル内にその一部が露出した薄肉の 容器状の収納部材に収納したトンネルの構造に関するものである。

本発明の第 2の態様は、 隔壁で形成された略直交方向の分岐路を有す るトンネルと、 該トンネル内を浮上して走行し被搬送物を搬送する搬送 台と、 該搬送台を非接触状態にて浮上支持する前記トンネルの隔壁上部 に磁極が少なく とも 2列列設された浮上用電磁石と、 前記搬送台を非接 触状態にて走行させる前記トンネルの隔壁下部に磁極が少なく とも 1列 列設されたリニアモータを構成する電磁石と、 前記搬送台の浮上位置を 検出する前記トンネルの隔壁下部に少なく とも 2列列設された変位セン ザと、 該変位センサの出力値に基づいて前記浮上用電磁石の励磁電流の 制御を行う制御回路とからなり、 前記搬送台はその上面の外周に前記 2 列の浮上用電磁石の磁極に対応した 2本の平行な磁性材片と、 該磁性材 片に直交した 2本の平行な磁性材片とを備え、 その下面に、 前記リニア モータを構成する電磁石の磁極に対応した導電材を備えたことを特徴と する搬送路及び搬送台の構造に関するものである。 図面の簡単な説明

第 1図乃至第 3図は、 本発明の第 1実施例に係る磁気浮上搬送装置を 示すものであり、 第 1図はトンネルの構造を示す断面図であり、 第 2図 は浮上用電磁石と薄肉キヤッブとの関係を示す拡大断面図であり、 第 3 図は変位センサと薄肉キヤッブとの関係を示す拡大断面図である。

第 4図乃至第 6図は、 本発明の第 2実施例に係る磁気浮上搬送装置を 示すものであり、 第 4図はトンネルの構造を示す断面図であり、 第 5図 は第 4図の平面図であり、 第 6図は第 5図の要部拡大断面図である。 第 7図乃至第 1 6図は、 本発明の第 3実施例に係る磁気浮上搬送装置 を示すものであり、 第 7図は搬送路と搬送台の構造を示す断面正面図で あり、 第 8図は第 7図の磁性材料製板状部材 2 0と浮上用電磁石 4の磁 極との相対位置関係を説明する部分拡大正面図である。 第 9図は第 7図 及び第 8図に示す搬送装置に用いられる搬送台の斜視図であり、 第 1 0 図は略直交方向の分岐を有するトンネルの分岐点における浮上用電磁石 の磁極面の配置を示す説明図である。 第 1 1図は搬送台上面に固着され た磁性材の構造を説明するものであり、 （A ) は浮上用電磁石の磁極面 との関係を示す平面図、 （B ) は側面図、 （C ) は磁性材の斜視図であ る。 第 1 2図は搬送台上面に固着された磁性材の構造を説明するもので あり、 （A ) は浮上用電磁石の磁極面との関係を示す平面図、 （B ) は 側面図、 （C ) は （B ) の部分拡大図である。 第 1 3図は溝を有する磁 性材の構造を説明するものであり、 （A ) は磁性材の形状を示す平面図、 ( B ) は浮上用電磁石のコの字形の磁極との位置関係を示す側面図、 ( C ) は （B ) の拡大図である。 第 1 4図、 第 1 5図、 第 1 6図は本実 施例の搬送台上面に固着された磁性材の各種形状を示す斜視図である。 第 1 7図乃至第 2 4図は、 本発明の第 6実施例に係る磁気浮上搬送装 置を示すものであり、 第 1 7図は分岐点における搬送路の構造を示す平 面構造図であり、 移動方向の切換え前の状態を示している。 第 1 8図は 第 1 7図に示す搬送路の立面構造図であり、 第 1 9図は第 1 7図の部分 拡大斜視図であり、 搬送台が主搬送路を走行している状態を示している 第 2 0図は第 1 7図の部分拡大斜視図であり、 搬送台が分岐点に位置し ている状態を示している。 第 2 1図は制御系のブロック図であり、 第 2 2図は浮上用電磁石の作動 非作動の磁極を切り換える手順を示す説明 図である。 第 2 3図及び第 2 4図 （A )、 ( B ) は浮上用電磁石のゲイ ンの制御を示す説明図であり、 横軸は磁極切換時間を、 縦軸はゲインの 値をそれぞれ示している。

第 2 5図乃至第 3 0図は、 本発明の第 7実施例に係る磁気浮上搬送装 置を示すものであり、 第 2 5図は搬送路に沿った断面図であり、 第 2 6 図は磁気浮上搬送装置の制御系のブロック図であり、 第 2 7図は従来の 浮上用磁極の切換のシーケンスの説明図であり、 第 2 8図は従来の磁極 の切換えの説明図であり、 第 2 9図は本発明に係る磁極の切換の説明図 であり、 第 3 0図は本発明の他の実施例の磁極の切換えの説明図である _c 第 3 1図乃至第 3 3図は、 本発明の第 8実施例に係る磁気浮上搬送装 置を示すものであり、 第 3 1図は制御系のブロック図であり、 第 3 2図 は着地時のオフセッ ト電圧の時間特性を示す特性図であり、 第 3 3図は 浮上時のオフセッ ト電圧の時間特性を示す特性図である。

第 3 4図は、 本発明の第 9実施例に係る磁気浮上搬送装置を示すもの であり、 受動ダンバを備えた浮上用電磁石の部分断面側面図である。 第 3 5図乃至第 3 6図は、 本発明の第 1 0実施例に係る磁気浮上搬送 装置を示すものであり、 第 3 5図は搬送路及び搬送台の構造を示す断面 図であり、 第 3 6図はその平面図である。

第 3 7図乃至第 3 8図は、 本発明の第 1 1実施例に係る磁気浮上搬送 装置を示すものであり、 第 3 7図は鉛直方向の搬送路を備えた搬送路構 造の断面説明図であり、 第 3 8図はテーブル部と搬送台の構造の詳細を 示す説明図である。

第 3 9図乃至第 4 1図は、 本発明の第 1 2実施例に係る磁気浮上搬送 装置を示すものであり、 第 3 9図はトンネルとプロセス処理装置との接 続の説明図であり、 第 4 0図は他の実施例のトンネルとプロセス処理装 置との接続の説明図であり、 第 4 1図は従来のトンネルとプロセス処理 装置との接続の説明図である。 一 発明を実施するための最良の形態

本発明をより詳細に説述するために、 添付の図面に従ってこれを説明 する。 以下の実施例の説明においては、 トンネルを内部が真空状態に保 持されたトンネルとして説明するが、 トンネル内に清浄な窒素 （N ₂ ) ガス等の気体を流す事によって、 外部から隔離された清浄空間を実現す る場合にも本発明は適用可能である。

(第 1実施例）

以下、 本発明に係る磁気浮上搬送装置の第 1実施例を第 1図乃至第 3 図を参照して説明する。 第 1図において、 磁気浮上搬送装置は、 隔壁 2 によって形成され内部が真空状態に保持されたトンネル 1 と、 卜ンネル 1内に配置された搬送台 3とを備えている。 トンネル 1の上部には左右 に搬送台 3を非接触状態にて浮上支持する浮上用電磁石 4， 4が配設さ れている。 これら浮上用電磁石 4， 4は大気側に設けられるとともにそ れぞれ薄肉の容器状の収納部材を構成する薄肉キャップ 5 , 5に収納さ れている。 薄肉キヤップ 5は隔壁 2を貫通してその底部がトンネル 1内 に露出して配置されている。

第 2図は浮上用電磁石 4 (コイルは省略している） 及び薄肉キャップ 5の詳細を示す図であり、 薄肉キヤップ 5はその上部にフランジ部 5 a を有しており、 このフランジ部 5 aによって隔壁 2にボルト 1 0によつ て固定されている。 そして、 隔壁 2とフランジ部 5 aとの間には 0リン グ 1 1が介装され、 トンネル 1内の真空をシールするようになっている。 また薄肉キャップ 5の底部 5 bは浮上用電磁石 4の磁力を妨げないよう に薄肉 （ t = l〜2 mm) に形成されている。 そして、 薄肉キャップ 5の 材料は、 セラミ ックスなどの非金属材料または常磁性で電気抵抗がアル ミと比べて大きい金属材料、 例えばステンレススチール （S U S 3 0 4 ) を用いる —方、 トンネル 1の下部には、 搬送台 3を走行移動させるリニアモ一 夕を構成する電磁石 6が配設されている。 リニアモータの電磁石 6は大 気側に設けられるとともに薄肉の容器状の収納部材を構成する薄肉キヤ ップ 7に収納されている。 薄肉キャップ 7は隔壁 2を貫通してその頂部 がトンネル 1内に露出して配置されている。 また薄肉キヤッブ 7の材料 は、 セラミ ックスなどの非金属材料または常磁性で電気抵抗がアルミと 比べて大きい金属材料、 例えばステンレススチール （S U S 3 0 4 ) を 用いる。

また、 トンネル 1の底部には、 左右に変位センサ 8が配置されており、 この変位センサ 8は隔壁 2を貫通してトンネル 1内にその頂部が露出し た薄肉の容器状の薄肉キャップ 9に収納されている。 変位センサ 8は渦 電流センサからなり、 薄肉キヤッブ 9は渦電流センサのセンシング作用 を妨げないようにセラミ ックスによって形成されている。 第 3図は変位 センサ 8と薄肉キヤップ 9の詳細を示す図であり、 薄肉キヤップ 9はフ ランジ部 9 aを有し、 このフランジ部 9 aと隔壁 2との間にはトンネル 1内の真空をシールするための 0リング 1 1が介装されている。 そして、 薄肉キヤップ 9の頂部 9 bの肉厚は薄肉 （ t = 1〜2腿） に設定されて おり、 変位センサ 8と搬送台 3との距離が変位センサ 8のセンシング範 囲内に入るようにしている。

図示はされていないが、 浮上用電磁石 4、 リニアモータの電磁石 6及 び変位センサ 8は、 搬送台進行方向 （図 1の紙面に垂直な方向） に等間 隔にて列設されている。 そして、 電磁ブレーキを構成する電磁石 （図示 せず) が搬送台 3が停止するべき位置に設けられている。

前述のように構成された磁気浮上搬送装置によれば、 変位センサ 8は 該センサから搬送台 3までの垂直方向距離を検出し、 検出結果を図示し ない浮上制御回路へ出力する。 この浮上制御回路は変位センサ 8からの 出力に応答して、 浮上用電磁石 4に供給される励磁電流を増減し、 搬送 台 3に作用する磁気的吸引力を制御する。 以て搬送台 3を鉛直方向に非 接触にて安定して浮上させることができる。 そして、 リニアモータの電 磁石 6により搬送台 3下面に備えられた導電材 （図示しない） に渦電流 を生ぜしめ、 進行方向 （図 1の紙面に垂直な方向） に付勢し走行せしめ る。

本実施例によれば、 浮上用電磁石 4、 リニアモータ 6及び変位センサ 8がトンネル 1の隔壁外側に配設されており、 かつ浮上用電磁石 4、 リ ニァモータ 6及び変位センサ 8は、 それぞれ隔壁 2を貫通してトンネル 1内にその一部が露出した薄肉の容器状の薄肉キャップ 5， 7， 9に収 納されている。 したがって、 トンネル 1内には搬送台 3以外の構成部品 が配置されていないため、 トンネル 1内でのガスの発生が抑えられると ともに微粒子の発生が抑えられ、 被搬送物の汚染が防止される。 また本 実施例によれば、 トンネル 1内でのガスの発生が抑制できるため、 高真 空が達成できる。

尚、 上記実施例の説明においては、 薄肉キャップと隔壁との間をシー ルするために 0リングを用いたが、 薄肉キヤップと隔壁との間にメタル シールを介装してもよいし、 また薄肉キヤッブを隔壁に溶接してトンネ ル内の真空をシールすることもできる。

また、 浮上用電磁石、 リニアモータ及び変位センサをトンネルの外側 に配置したため、 コイルや変位センサのメ ンテナンスの容易化を図るこ とができる。 しかも、 これらの部品のメンテナンスを真空を保持したま まで行うことが可能となる。

(第 2実施例）

以下、 本発明に係る磁気浮上搬送装置の第 2実施例を第 4図乃至第 6 図を参照して説明する。 第 4図は磁気浮上搬送装置のトンネル構造 （A )、 (B) を示す縦断面図であり、 第 5図はその平面図である。 第 4図 （A) 、 (B) に示されるように、 磁気浮上搬送装置は隔壁で形成され、 内部が 真空状態に保持されたトンネル 1と、 このトンネル 1内に配設された搬 送台 3とを備えている。

トンネル構造 （A) では、 トンネル 1の隔壁は左右隔壁 1 3, 1 4と 上下隔壁 1 5, 16とから構成されている。 上下隔壁 15, 1 6は， そ れぞれ真空側に設けられた真空シールド用のステンレス鋼板 （S U S 3 04系） からなる薄肉プレート 1 5 a， 1 6 aと、 大気側に設けられた 薄肉プレート 1 5 a, 1 6 aを補強するための剛性を有した厚肉のステ ンレス鋼板の補強板 15 b, 16 bとから構成されている。 左右隔壁 1 3, 14は、 厚肉のアルミ板から構成されている。 薄肉プレー卜 1 5 a, 16 aの板厚 tは lmm程度に設定されている。

トンネル構造 （B) では、 真空トンネル 1の隔壁は、 真空側に設けら れたステンレス鋼板からなる薄肉プレート 1 3 a， 1 4 a, 1 5 a, 1 6 aと、 大気側に設けられた剛性を有した厚肉のアルミ材の補強板 13 b, 14 b, 1 5 bとから構成されている。 薄肉プレート 13 a， 14 a， 15 a, 1 6 aは相互に溶接又はロー付けにより気密封止されてい る。 補強板 15 bと 13 b, 14 bとは二つ割れした構造となっており、 相互に接着剤又はボルトにより締結されている。

トンネル構造 （A) では、 前記上下隔壁 1 5, 16と左右隔壁 1 3, 14との間には真空シール用の 0リング 1 1が介装されている。 また上 下隔壁 1 5， 1 6と左右隔壁 13， 1 4とはボルト 1 0によって締結さ れている。

また、 第 6図に示されるように、 薄肉ブレー卜 15 aにはアンカーボ ルト 10 aが溶接によって固着されており、 このアンカ一ボルト 1 0 a にナツ ト 1 0 bを螺合することにより薄肉ブレート 1 5 aと補強板 15 bとは一体に締結されている。 そして、 上部隔壁 1 5を構成する薄肉プ レート 1 5 aと補強板 1 5 bとは前記アンカーボルト 1 0 a以外の箇所 で接着によって一体化されている。 一方、 下部隔壁 1 6を構成する薄肉 プレート 1 6 aと補強板 1 6 bとは接着によって一体化されている。 前記上部隔壁 1 5には左右に搬送台 3を非接触状態で浮上支持する浮 上用電磁石 4， 4が搬送台の進行方向に等間隔に列設されている （第 5 図参照） 。 浮上用電磁石 4の磁極 4 aは補強板 1 5 bを貫通して薄肉プ レート 1 5 aに隣接するように配設されており、 コイル 4 bは補強板 1 5 bの外側に配設されている。

また下部隔壁 1 6には搬送台 3を走行移動させる電磁石から構成され るリニアモータ 6が配設されている。 リニアモータ 6は搬送台の進行方 向に等間隔に配置されている。 リニアモータ 6の磁極 6 aは補強板 1 6 bを貫通して薄肉プレート 1 6 aに隣接するように配設されており、 コ ィル 6 bは補強板 1 6 bの外側に配設されている。 また、 下部隔壁 1 6 には搬送台 3の垂直方向距離を検出する変位センサ 8が配設されている。 第 4図 （A ) 又は （B ) に示す搬送装置の作動に際しては、 先ず図示 しない制御回路により浮上用電磁石 4が励磁され、 薄肉プレート 1 6 a を介して、 磁性材 （図示せず） が上面に配置された搬送台 3に磁気吸引 力を作用せしめて搬送台 3を浮上させる。 そして、 搬送台 3の浮上量は 変位センサ 8により薄肉ブレート 1 5 aを介して検出されて、 該センサ 8の出力に対応して浮上用電磁石 4に供給される励磁電流が制御される _c これにより、 搬送台 3の浮上量が目標浮上位置に制御される。 そして、 浮上用電磁石 4により搬送台 3を浮上状態にて保持し、 リニァモータ 6 により搬送台 3を進行方向 （図 1の紙面に垂直な方向） に付勢し走行さ せる。

本実施例によれば、 トンネルの少なくとも上下面の隔壁を真空シール ド用の薄肉プレートとこの薄肉プレートを補強する補強板とにより構成 し、 これら薄肉プレートと補強板とを接着やボルトナツ ト等により接合 するようにしたため、 隔壁が剛性に優れトンネルの変形を最小限に抑え ることができる。 しかも、 トンネルの隔壁を 2ピースで構成することに より、 部品特性に合った加工ができ、 加工が容易となり製作コス トの低 減を図ることができる。 また 0リングの数量を最小限に抑えることがで き、 高真空を実現できる。

(第 3実施例）

以下、 本発明に係る磁気浮上搬送装置の第 3実施例である搬送路と搬 送台の構造を第 7図乃至第 1 6図を参照して説明する。

第 7図は、 搬送路と搬送台の断面構造を示すものであり、 搬送台 3は ステンレス鋼等の非磁性材料製の隔壁 2で包囲されたトンネル内を走行 する。 そして、 隔壁 2の天井部である隔壁上板 1 5には、 浮上用電磁石 4が左右の 2列に列設されている。 一方、 隔壁 2の下側には、 変位セン サ 8、 及びリニアモータを構成する電磁石 6が列設されている。

搬送台 3の外郭部材 1 9はアルミニウム製であり、 該アルミニウム部 材 1 9はリニアモータ 6と対向する搬送台の下面部分で二次導体 （導電 体） を構成する。 そのため、 搬送台 3は第 7図の紙面に向かって垂直方 向に付勢される。

搬送台 3の外郭部材 1 9の上面には磁性材料製板状部材 （磁性材） 2 0が設けられ、 第 8図に示すように、 該磁性材 2 0は浮上用電磁石 4の 磁極の幅 W pと等しい幅寸法で形成されている。 そして、 浮上用電磁石 4の磁極の位置に対して、 案内方向 （第 8図の矢印 H方向） において搬 送台 3の両端側 （第 8図の矢印 H方向外側） へ距離 aだけ偏寄させて配 置してある。 但し aは零でもよい。

再び第 7図において、 搬送台 3下方の浮上用電磁石 4に相対して配置 された変位センサ 8は、 該センサから搬送台 3の下面までの垂直方向距 離を検出し、 検出結果を図示しない浮上制御回路へ出力する。 該浮上制 御回路は変位センサ 8からの出力に応答して、 浮上用電磁石 4に供給さ れる励磁電流を増減し、 搬送台上面の磁性材料製板状部材 2 0に作用す る磁気的吸引力を制御する。 以て搬送台 3を鉛直方向に吊上げ、 隔壁か ら非接触にて安定して目標位置に浮上させることができる。

浮上用電磁石 4に電流が供給され、 磁性材料製板状部材 2 0に電磁石 2 0からの磁気吸引力が作用する際に、 磁性材 2 0と浮上用電磁石 4の 磁極面とが上記のような相対位置関係にあるため、 該磁性材 2 0には搬 送台 3の中心に向かう力が作用する。 その結果、 搬送台 3は受動的に案 内方向 （第 8図に示す H方向） に位置決めされるのである。

第 7図から明らかなように、 搬送台 3の外郭部材 1 9の側部には搬送 台開口部 3— 0が形成され、 一方、 隔壁 2の側部には隔壁開口部 2— 0 が形成され、 被搬送物を出し入れすることができるようになつている。 なお、 磁性材料製板状部材 2 0、 搬送台 3及び搬送台開口部 3— 0の位 置関係については、 第 9図においてその一例が示されている。

なお、 第 7図の実施例において、 変位センサ 8は渦電流型でありアル ミ板からなる搬送台下面に生じる渦電流から、 搬送台下面の鉛直方向位 置を検出するものである。 そして、 隔壁 2の電磁気的影響を避けるため、 例えばセラミ ック製の非導電材料製センサキヤッブを介装して配置され ている。 そして、 符号 4 6は非常用車輪を示している。

第 7図において、 浮上用電磁石 4， 4の中央には電磁石から構成され る電磁ブレーキ 1 8が設けられている。 該電磁ブレーキを構成する電磁 石 1 8は、 搬送台 3上面中央に固定されたブレーキターゲッ ト （図示せ ず） と共磁路を形成し、 磁気吸引力により搬送台 3の位置決めを行う。

ここで、 搬送台 3内には載置部材 2 1が設けられ、 該載置部材 2 1は 被搬送物である半導体ゥュハ 2 2等が移動中に破損しないように拘束し ている。

図示はされていないが、 左右に配設された浮上用電磁石 4、 下面のリ ニァモータ 6、 浮上用電磁石に対応して下面に配置される変位センサ 8 は、 搬送台進行方向 （紙面に垂直な方向） に等間隔にて列設されている そして、 電磁ブレーキ 1 8は搬送台 3が停止するべき位置にのみ設けら れている。 第 7図で示す位置は停止位置、 すなわち搬送されたゥヱハ 2 2に所定の処理を施す施設が存在する箇所であるが、 搬送台 3が停止し ない途中箇所には電磁ブレーキ 1 8は設けられていない。 そして、 隔壁 2も進行方向 （紙面に垂直な方向） に延びた形状となっている。

作動に際しては、 浮上用電磁石 4， 4により搬送台 3を浮上状態にて 保持しつつ、 リニアモータ 6により進行方向に非接触で付勢、 走行せし める。 そして、 停止箇所において電磁ブレーキ 1 8により停止し、 ロボ ッ トアーム （図示せず） 等を使用して、 隔壁開口部 2— 0、 搬送台開口 部 3— 0を介して、 ウェハ 2 2の出し入れ作業が行われるのである。 第 9図に示すように、 搬送台 3の外郭部材 1 9の上面には口の字形の 形状の磁性材料製板状部材 2 0が固設されている。 そして、 搬送台 3の 外郭部材 1 9の側部には搬送台開口部 3— 0がその四面に設けられてい 。

磁性材料製板状部材 2 0は、 第 1 4図 （A )、 ( B ) に示すような、 2列に列設された浮上用電磁石の磁極面に対応した、 2本の平行な磁性 材片 2 0 Xと、 該磁性材片に直交した 2本の平行な磁性材片 2 0 yとか ら構成される。

第 1 0図は、 搬送路が直角方向に分岐しているトンネルの分岐点を示 している。 このような分岐点においては、 移動方向 M及び Pに沿ってト ンネル 1が分岐しており、 2列の浮上用電磁石 4がそれぞれ主搬送路及 び分岐搬送路に沿って列設されている。 搬送台 3はその上面に搬送方向 及びその直交方向の磁極面に対応した 2本の平行な磁性材片及びその直 交方向の 2本の平行な磁性材片からなる磁性材料製板状部材 2 0を備え ていることから、 移動方向 Mから P、 或いは Pから Mへ浮上したまま方 向転換することが可能である。

このように搬送台 3の上面に第 9図に示すような口の字形の磁性材料 製板状部材 2 0を固設すると、 搬送台を走行させるリニアモータも移動 磁界を生成する電磁石であるので、 仮にリニアモータを上部隔壁の中央 部に配置すると磁性材料製板状部材 2 0に磁気吸引力を及ぼすこととな り好ましくない。 また、 空間使用率やリニアモータの及ぼす推力の安定 性を考慮すると、 搬送台中心に対応する配置が好ましい。 そこでリニア モータ 6は必然的に下部隔壁の中央部分に配置される。

変位センサ 8は渦電流センサ又は誘導型センサであり、 鉛直方向の検 出対象である搬送台下面のターゲッ トとの隙間が小さくなる方が、 感度、 直線性が良い。 そして、 搬送台は下方 （重力方向） に落ちる時に正しく 制御される必要がある。 従って、 変位センサ 8を隔壁 2のトンネル下面 に配置することによって、 より精度の高い搬送台の鉛直方向位置制御が 可能となる。 また、 変位センサを隔壁上部に配置するとすれば、 浮上用 電磁石の磁極間に配置しなければならなくなり、 このように配置すると その分磁極幅を大きく しなければならず、 浮上用電磁石を大型化すると いう問題が生じる。 それ故、 変位センサ 8は隔壁 2の下面の浮上用電磁 石に対応した下方位置に配置されることが好ましい。 電磁ブレーキを構 成する電磁石 1 8は、 残ったスペースである隔壁 2の天井板 1 5の浮上 用電磁石 4の間に配置され、 第 7図に示すような全体としてバランスの とれたコンパク トな搬送路を構成する部材が配置される。

次に搬送台上面に備えられた磁性材料製板状部材 （磁性材） 2 0につ いて詳細に説明する。 第 1 1図 （A ) は、 浮上用電磁石の磁極面 4と搬 送台上面の磁性材 2 0との搬送路の分岐点における位置関係を示してい る。 口の字型の磁性材 2 0が固設された搬送台は、 搬送台が移動する主 搬送路、 分岐搬送路に沿って列設された、 浮上用電磁石の磁極面 4 a， 4 bの磁気吸引力によって浮上保持され、 リニアモータ （図示しない） により駆動され隔壁から非接触でトンネル中を走行移動する。 第 1 1図 (A ) は、 搬送路の分岐場所を示しており、 移動方向 Mの主搬送路と、 移動方向 Pの分岐搬送路とが交差している。 第 1 1図 （C ) は、 搬送台 3に固設される磁性材 2 0の斜視図であり、 磁性材 2 0の一辺の幅 W_a ,

W_b は、 それぞれ電磁石の磁極の幅 Wと概ね同じ幅で構成されている。 第 1 1図 （B ) は、 第 1 1図 （A ) の側面図であり、 搬送台が浮上用 電磁石により浮上保持された状態を説明するものである。 搬送装置の本 体フレームには浮上用電磁石が列設されており、 電磁石の磁極面 4 a ,

4 bは、 搬送台の上面に固設された磁性材 2 0に対向するように配置さ れている。 浮上用電磁石は、 それぞれコの字形の磁極を有しており、 第 1 2図 （C ) の部分拡大図に示すように電磁石の磁極面より図示しない 隔壁及び空隙を介して、 磁性材 2 0を通る閉磁路 （磁束 Φ ) が形成され る。 従って、 磁極面 4 a， 4 bの端部と磁性材 2 0の一辺の端部間には 磁気剪断力 Bが生じ、 搬送台を受動的に磁気的中心に案内するいわゆる 案内剛性が発生する。

第 1 2図 （A ) は、 搬送台上面に固設された磁性材 2 0と、 電磁石の 磁極面 4 bとの位置関係の一例を示す上面図であり、 電磁石の磁極面 4 b力 <、 斜線で示すように磁性材 2 0のコ一ト部分に位置している場合を 示す。 第 1 2図 （B ) は、 その A A ' 線に沿った断面図である。 電磁石 が励磁されると、 図中 B ' で示される 2ケ所の部分が磁極 4 b及び磁性 材 2 0の端部となり、 そこで磁気剪断力 Bが発生し、 移動方向 Pに走行 する搬送台 3は磁気的中心に案内される。

係る口の字形の磁性材が固設された搬送台は、 第 1 1図に示すように 移動方向 Mの主搬送路に沿って走行し、 移動方向 Pの分岐搬送路との交 差点で図示しない電磁ブレーキにより停止する。 この交差点で搬送台を 浮上保持する磁極面を 4 aより 4 bに切替え、 図示しないリニアモータ 等の走行手段により P方向に駆動することにより分岐搬送路に沿つて移 動方向 Pに走行する。 以上は、 移動方向 Mから Pへの方向転換であるが、 その逆も勿論可能である。 即ち、 口の字形の磁性材を固設した搬送台で は、 その移動方向を浮上保持する電磁石の属する搬送路を切替えること によって方向転換を容易に行うことが可能となる。 この浮上保持する電 磁石の切換方法については、 第 6実施例において詳述する。

(第 4及び第 5実施例）

第 1 3図、 第 1 5図乃至第 1 6図は、 本発明の第 4及び第 5実施例の 磁気浮上搬送装置を示すものである。 第 1 3図 （A ) は磁性材 2 O bの 形状を示す平面図である。 口の字型の磁性材 2 0は 4辺を構成する部材 2 O biと、 4コーナを構成する部材 2 O bsに分かれており、 分かれた部 材間にはそれぞれ隙間 dを有する。 即ち、 磁性材 2 O bは、 凸状部であ る 4辺の部材 2 O biと、 4コーナの部材 2 O bsとから構成されており、 それぞれの部材間には溝である隙間 dを有し、 この隙間 （溝） dは、 搬 送台の移動方向及びその直交方向に形成されている。

4辺の部材 2 O biには、 それぞれその中央部の搬送台の移動方向及び その直交方向に凹部 （溝） 2 4を備えており、 4コーナの部材 2 O bsに も、 それぞれ中央部に凹部 （溝） 2 4を備えている。

第 1 3図 （B ) は、 浮上用電磁石の磁極と磁性材の位置関係を示す側 断面図であり、 （C ) は、 その部分拡大断面図である。 浮上用電磁石 4 a , 4 bは、 図示するような断面コの字形の磁極を備えており、 磁極面 は 4 blと 4 b2に分離されている。 磁束 Φは、 図示するように磁極 4 blか ら磁性材の凸部 2 bl l 又は 2 bsl を通り、 溝 2 4の下を通って凸部 2 bl 2 又は 2 bs2 を通って、 磁極 4 b2を通る閉ループが形成される。 4辺の 磁性材及び 4コーナの磁性材はそれぞれ中央部に凹部 （溝） 2 4を有し、 且つ隣接材との間に隙間 dを有することから、 断面コの字形の磁極を有 する 1個の電磁石に対して、 符号 Dで示す 4ケ所で磁気剪断力が発生す る。 従って、 搬送台を受動的に磁気的中心に案内するいわゆる案内剛性 は、 第 1の実施例と比較して大幅に増加する。 尚、 本実施例においても、 略口の字形の磁性材 2 bであるので、 搬送路の分岐点で容易に方向転換 できることは勿論である。

第 1 5図及び第 1 6図は、 磁性材 2 0の変形例である。 それぞれ、 磁 性材の 4辺又は 4コーナには凹部 （溝） 2 4又は隙間 dが設けられてい る。 これらの凹部 2 4又は隙間 dはその部分で浮上用電磁石の断面コの 字形の磁極の磁極面との間に磁気剪断力が発生し、 磁気求心力により、 搬送台を受動的に磁気的中心に案内するいわゆる案内剛性が高められる。 又、 これらの変形例においても、 略口の字形の磁性材であるので、 搬送 路の分岐点で容易に方向転換できることは勿論である。

(第 6実施例）

以下、 本発明に係る磁気浮上搬送装置の第 6実施例である略直交方向 の分岐路を有する分岐点における搬送台の方向転換動作について第 1 7 図乃至第 2 4図を参照しながら説明する。

第 1 7図及び第 1 8図に示すように、 本発明に係る磁気浮上搬送装置 は、 多数の浮上用電磁石 4が列設され、 分岐点 2で主搬送路 2 3 aから 分岐搬送路 2 3 b， 2 3 cに分岐された搬送路 2 3と、 浮上用電磁石 4 の磁力により浮上支持され、 搬送路 2 3に沿って、 図示されていないリ ニァモータから発生する推進力によって隔壁で仕切られたトンネル （図 示しない） 内を移動する搬送台 4と、 分岐点 2 6において搬送台 4の移 動方向を転換する切換手段 2 5とを備えている。 この切換手段 2 5は、 分岐点 2 6において複数 （この図では 4個） の主搬送路の方向に列設さ れた作動状態の浮上用電磁石 4にこれと同数の搬送方向の異なる方向に 配設された浮上用電磁石 4をそれぞれ隣接配置するとともに、 搬送台 3 がー方の搬送路 （例えば主搬送路 2 3 a ) から分岐点 2 6に到着した時 に作動状態の一方の浮上用電磁石 （例えば電磁石 4 X ) から非作動状態 の他方の浮上用電磁石 （例えば電磁石 4 y ) に徐々に切換えるようにな つている。

搬送台 3の搬送路 2 3において、 主搬送路 2 3 aは主搬送方向 Cに向 けて配設され、 また、 分岐搬送路 2 3 b， 2 3 cはこの主搬送方向に対 して例えば T字状又は十字状に直交する方向 D， Eに向けて配設されて いる。 なお、 分岐搬送路 2 3 b， 2 3 cはいずれか一方のみでもよく、 また主搬送方向 Cに対して分岐搬送路 2 3 b， 2 3 cの方向は直交に限 られないが、 直交以外では浮上用電磁石を直交方向に対してずらして列 設することになるため、 概ね 9 0 ° の角度が適当である。

本実施例における搬送装置は、 第 1 7図乃至第 1 9図に示すように、 搬送路 2 3の本体フレーム 2 7の下面に、 磁気軸受を構成し浮上磁極と も呼ばれている左右一対の多数の浮上用電磁石 4を、 搬送方向 C , D, 又は Eに対して所定のピッチで列設している。 一次側をなす電磁石 4は コイルと磁性体ヨークからなっており、 また、 搬送台 3の本体の上面の 周縁部には、 浮上用ターゲッ トとなるヨーク （継鉄） 等により形成され て二次側をなす前実施例で詳述した磁性材 2 0が取付けられている。 こ の磁性材 2 0は励磁された電磁石 4の磁気吸引力により搬送台 3を非接 触状態で浮上させるように、 電磁右 4の下方に図示しないトンネルの隔 壁を介して位置している。 上記一次側の電磁石 4と二次側の磁性材 2 0 とにより搬送方向 C， D， Eに展開された磁気浮上装置列を構成してい 。

搬送台 3の移動は、 図示しないリニァモータによつて非接触で駆動さ れることによって行われる。 搬送路 2 3には、 リニアモータのステ一夕 (電磁石） が、 トンネルの隔壁下面に列設されている。 一方、 搬送台 3 の下面には、 アルミ板等の導電体が備えられており、 リニアモータのス テ一タが形成する空間移動磁界によつて、 搬送台 3の下面の導電体には 渦電流が生じ、 搬送台 3は非接触で移動方向の推進力を受ける。

搬送路 2 3の浮上用電磁石 4は、 搬送台 3の浮上保持に必要な箇所の みを作動状態とする。 即ち、 列設された電磁石 4への電流を、 搬送台位 置検出信号に従つて搬送台 3の移動方向に従つて順次作動状態、 非作動 状態にして、 浮上対象磁極を切換えて搬送台 3の磁性材 2 0への磁気吸 引力を次々に生成させることにより、 搬送台 3は搬送路隔壁の下面と所 定のギャップを保持しながら搬送方向 C, D, Eに走行する。 尚、 搬送 台の走行に伴う浮上用電磁石の切換動作については次の第 8実施例で詳 述する。

次に、 分岐点 2 6においておこなわれる切換手段 2 5のハード的な構 成について第 2 0図により説明する。 分岐点 2 6において、 図示しない トンネルの隔壁上面には、 主搬送路 2 3 aの浮上用電磁石 4と同一の方 向を向いて規則的な列状をなす主搬送路方向に列設された電磁石 4 Xと、 分岐搬送路 3 b , 3 cの浮上用電磁石 4と同一の方向を向いて規則的な 列状をなす分岐搬送路方向に列設された電磁石 4 yとが、 下方に磁極面 を向けて取付けられている。 また、 両電磁石 4 x， 4 yは互いに直交す る位置関係にあり、 搬送方向転換のために行われる浮上用電磁石の切換 時の振動防止のために隣接配設されている。 さらに、 各浮上用電磁石 4 X , 4 yの直下位置には、 搬送台 3の浮上位置を検出するための変位セ ンサ 8が、 トンネルの隔壁 （図示しない） に位置するように取付けられ ている。

第 2 1図は磁気浮上搬送装置の浮上用電磁石の制御系のプロック図で ある。 浮上対象磁極の切換え及び搬送台の浮上位置の制御について以下 に、 本ブロック図により説明する。

制御回路 2 8は、 センサ 8の出力値に基づいて、 浮上用電磁石 4 Xの 励磁電流を制御する閉ループの制御回路である。 搬送台 3の浮上位置

(変位） を検出するセンサ 8の信号は、 センサアンプ 3 1で増幅され、 ゲインコントローラ 3 2で予め制御ュニッ ト 2 9で設定される制御回路 2 8のゲインが調整される。 次に、 浮上目標値コントローラ 3 3で、 予 め制御ユニッ ト 2 9で設定された浮上目標値と比較され、 補償回路 3 4 で閉ループの制御回路の位相が調整され、 電力増幅器 3 5で電力増幅さ れ、 浮上用電磁石 4 Xの励磁電流として印加される。 浮上用電磁石 4 X には励磁電流に対応した磁気吸引力が生じ、 搬送台 3の磁性材ターゲッ トを吸引することにより、 浮上位置が制御される。

制御ユニッ ト 2 9は、 / 0変換器3 7、 0ノ 変換器3 9、 ゲイン •浮上目標値の制御信号発生器 4 0、 C P U 3 8を包括したものであり、 浮上対象磁極の切換え制御を行う。 センサ 8の信号をセンサアンプ 3 1 で增幅後、 A Z D変換器 3 7によりディジタル信号に変換して C P U 3 8に取込むことにより搬送台 3の浮上対象磁極に対する位置が検出され る。 例えば、 移動中の搬送台に対して、 ある浮上用電磁石が非作動状態 から作動状態に移行するための搬送台位置検出信号を与えることができ る。 ゲイン ·浮上目標値の制御信号発生器 4 0は、 制御回路 2 8のゲイ ンコントローラ 3 2及び浮上目標値コントローラ 3 3に、 それぞれ、 制 御回路 2 8のループゲイン及び搬送台の浮上目標位置の信号を与える。 従って、 非作動状態の浮上用電磁石に対して、 ゲイン ·浮上目標値の制 御信号発生器 4 0にゲインを 0からある設定値に （又は浮上目標値を非 作動状態に対応するある設定値から作動状態に対応するある設定値に） 変化することによって、 与えられたゲイン ·浮上目標値で作動状態とす ることができる。

第 2 6図に示すように、 搬送台の進行方向に列設された浮上用電磁石 と変位センサは、 搬送台の進行にともない進行方向に順番に切り替えら れ、 進行する搬送台を浮上保持する。 センサアンプ 8で浮上位置を検出 して電力増幅器 3 5の励磁で目標位置に浮上制御する制御回路は、 本装 置では 8セッ ト備えられており、 2列に列設された電磁石の相隣接する 4対を制御する。 制御対象となる電磁石対は、 選択信号発生器 4 1から の信号で、 スィッチ 4 2が閉じられることによって選択される。

上記のように構成された搬送装置において、 制御ュニッ ト 2 9、 制御 回路 2 8からの制御信号により主搬送路 2 3 aの浮上用電磁石 4が制御 されると、 第 1 7図乃至第 1 9図に示すように、 この浮上用電磁石 4の 励磁により発生する磁気吸引力により磁性材 2 0が吸引され、 これによ り、 搬送台 3は浮上して、 リニアモ一夕によって付勢されて主搬送路 2 3 aを矢印 C方向に移動し、 やがて分岐点 2 6に到着する。 搬送台 3が さらに主搬送路 2 3 aを直進走行する時には、 分岐点 2 6において行わ れる切換手段 2 5における主搬送路方向に列設された電磁石 4 Xを浮上 用電磁石 4と同様に制御することにより、 搬送台 3は浮上したままこの 分岐点 2 6を通過してさらに前方の主搬送路 2 3 aの電磁石 4に乗り移 り、 主搬送路 2 3 aの浮上用電磁石 4の磁力により浮上し、 該電磁石を 搬送台位置検出信号に従って切り換えることにより走行が続けられる。 これに対して、 分岐点 2 6で搬送台 3の移動方向を主搬送路 2 3 aの方 向 Cから分岐搬送路 3 b又は 3 cの方向 D又は Eに切換える場合には、 切換手段 2 5を上記制御ュニッ ト 2 9、 制御回路 2 8により以下のよう に制御することとなる。

この切換えシーケンスを第 22図及び第 23図を参照しながら説明す る。 第 22図 （A) 乃至 （D) の符号 I, III , 1, 3は主搬送路方向 に列設された電磁石 4 Xの位置に、 符号 Γ , III ' , 1' , 3' は分 岐搬送路方向に列設された電磁石 4 yの位置にそれぞれ対応している。 まず第 22図に示すように、 搬送台 3が分岐点 26に到着すると、 記 号 I, III ， 1， 3で示す位置にある主搬送方向の浮上制御対象の電磁 石 4 Xの発生する磁気吸引力と案内剛性により、 搬送台 3は浮上した状 態を保ちながら非接触支持される （第 22図 （A) の状態） 。

記号 III ' , 1' の位置の電磁石 4 yによるそれぞれの浮上制御系 (ループ） について制御信号発生器 40から浮上目標電圧を出力し、 上 記浮上制御系のゲイン （利得） を 0に設定して、 開いていたスィッチ 4 2を閉じる。

そして記号 III ' ， 1' の位置の電磁石 4 yによるそれぞれの浮上制 御系 （ループ） について制御信号発生器 40を介してゲインを 0からあ る作動状態となる設定値まであらかじめ設定された時間をかけて徐々に 増加させて、 上記電磁石 4 yに徐々に電流を流し、 電磁石 4 yを作動状 態にさせながら、 且つ、 記号 III , 1の位置の電磁石 4 Xによるそれぞ れの浮上制御系 （ループ） について制御信号発生器 40を介して、 ゲイ ンをその作動状態の設定値から 0まで、 ある設定された時間をかけて徐 々に減少させた後、 閉じていたスィツチ 42を開く （第 22図 （B) ， 第 23図参照） 。

次に、 あらかじめ設定された待ち時間経過後、 記号 Γ ， 3' の位置 の電磁石 4 yによるそれぞれの浮上制御系 （ループ） について制御信号 発生器 40から浮上目標電圧を出力し、 上記浮上制御系のゲイン （利得） を 0に設定して、 開いていたスィッチ 42を閉じる。 更に記号 I ' 3 ' の位置の電磁石 4 yによるそれぞれの浮上制御系 (ループ） について制御信号発生器 4 0を介してゲインを 0からある作 動状態となる設定値まであらかじめ設定された時間をかけて徐々に増加 させて、 上記電磁石 4 yに徐々に電流を流し、 電磁石 4 yを作動状態に させながら、 且つ、 記号 I , 3の位置の電磁石 4 Xによるそれぞれの浮 上制御系 （ループ） について制御信号発生器 4 0を介して、 ゲインをそ の作動状態の設定値から 0まで、 ある設定された時間をかけて徐々に減 少させた後、 閉じていたスィッチ 4 2を開く （第 2 2図 （C ) 、 第 2 3 図参照） 。

以上の切替えシーケンスを通じて、 搬送台 3は、 位置 Γ ， I I I ' ， , 3 ' に配設され新たに浮上対象磁極となった 4個の電磁石 4 yが 生成する磁気吸引力により吊り上げられることとなる （第 2 2図 （D ) 参照） 。 上記の工程により、 当初浮上対象磁極であった主搬送方向に列 設された電磁石 4 Xから、 搬送台走行方向について約 9 0 ° 回転させた 位置にある分岐搬送路方向に列設された浮上用電磁石 4 yに浮上対象磁 極が切換わることとなり、 搬送台 3は、 分岐搬送路 2 3 b又は 2 3 cに 従って D方向又は E方向に移動する。 本実施例では、 分岐点 2 6の電磁 石 4 x , 4 yのゲインを制御する場合に、 第 2 2図に示すように、 対角 の位置関係にある電磁石を組として、 まず I I I から I I I 'と 1から 1 ' の 組を同時に切換え、 次に、 Iから 3 ' と 3から I ' の組を同時に切換え る。 切換えはゲインをクロスオーバさせて徐々に変化させているので、 切換えの際に発生する搬送台 3の振動を大幅に軽減させることができる。 上述の実施例では、 作動状態の浮上用電磁石を非作動状態に、 且つ非 作動状態の浮上用電磁石を作動状態に変化させる際に、 制御ュニッ ト 2 9を通じて、 予め設定された変化時間に従って、 それぞれの制御回路の ゲイン （利得） を徐々に変化させる制御手段について説明した。 同様に 搬送台の浮上目標値となる浮上目標電圧を、 制御ュニッ 卜 2 9によって 徐々に変化させることによつても、 同様の効果が達成できる。 又、 制御 回路のゲインを徐々に変化させ、 更に浮上目標値となるオフセッ ト電圧 を同時に徐々に変化させることによつても、 同様の効果が達成できる。 更に、 第 2 3図は変化時間 t。 で、 ゲイン又は浮上目標値となる電圧を 直線的に変化させているが、 第 2 4図 （A ) ， （B ) に示すように、 曲 線的に変化させてもよい。

また作動状態の浮上用電磁石を非作動状態に、 且つ搬送方向の異なる 方向に配設された非作動状態の浮上用電磁石を作動状態に変化させる際 に、 最も隣接した非作動状態の電磁石と作動状態の電磁石を 1組として 切換える。 上述の実施例は、 I I I から I I I ' と 1から 1 ' の 2組を同時 に、 次に Iから 3 ' と 3から Γ の 2組を同時に切換えるシーケンスを 採用している。

しかしながら、 この切換えの組合せは各種考えられる。 例えば、 まず I I I から I I I ' 、 次に 1から Γ 、 次に Iから 3 ' 、 最後に 3から I ' という手順で切換えることが考えられる。 このような切換える組のシ一 ケンスを適宜選択できるように、 制御ュニッ ト 2 9にプログラムしてお くことによって、 切換え時の搬送台の振動の発生状況等を観察しながら 最適の組合せを選択することが可能となる。

このように、 本実施例では、 浮上対象磁極を搬送台走行方向について 約 9 0 ' 回転させた位置にある切換え対象磁極に切換えているので、 T 字又は十字の移動が可能となる。 また、 各磁極のゲインの制御をクロス オーバーしているので、 切換の際に搬送台に及ぼされる振動を効果的に 抑えることが可能となる。

なお、 これとは逆に、 搬送台 3を分岐搬送路 2 3 b又は 2 3 cから主 搬送路 2 3 aに搬送することも同様に容易にできる。 したがって、 本実施例によれば、 搬送台 3の移動方向は、 主搬送路 2 3 a以外の任意の分岐搬送路 2 3 b又は 2 3 cに方向転換することがで き、 搬送台 3を水平面上において浮上した状態のままいわゆる直交 2自 由度をもって移動させることができる。

(第 7実施例）

以下、 第 7実施例である搬送台の走行に伴う、 搬送台を吊り上げる浮 上用電磁石の切換動作について、 第 2 5図乃至第 3 0図を参照して説明 する。

第 2 5図は、 前述の磁気浮上搬送装置の搬送路に沿った断面図である c 搬送台 3はリニアモータ 6によって駆動され、 浮上用電磁石 4 ， 4 2 • · ·によって浮上保持された状態で、 図示しない隔壁で仕切られた卜 ンネル中を矢印の移動方向に走行する。 この時、 浮上用電磁石 4 ₃ ， 4 5 は作動状態にあり、 浮上用電磁石 4 ， 4 ₂ , 4 ₄ ， 4 ₆ ， 4 ₇ ， 4 6 , 4 ₉ は非作動状態にある。 そして、 搬送台 3の移動に伴って、 これ らの浮上用電磁石には励磁電流が供給され、 その磁極は非作動状態から 作動状態へ、 又、 励磁電流が遮断され作動状態から非作動状態に切換え られることによって移動する搬送台を浮上保持する。 例えば、 図示の状 態から、 搬送台 3が左方向に移動すると磁極 4 ₂ ， 4 ₄ が非作動から、 作動状態に切換えられ、 磁極 4 ₃ ， 4 5 が作動から、 非作動状態に切換 えられる。

第 2 6図は、 係る磁気浮上搬送装置の制御系のブロック図である。 搬 送台の浮上位置の制御及び磁極の作動、 非作動の切換え制御は、 第 2 6 図のブロック図に従って行われる。 変位センサ 8 , 8 ₅ · · ，からの 信号は、 センサアンプ 3 1で増幅され、 ゲイン設定器 3 2により制御回 路ループのゲインが調整される。 そして、 浮上目標電圧設定器 3 3によ り、 あらかじめ与えられた目標浮上位置となるように電圧が比較され、 補償回路 3 4により位相等が調整され、 電力増幅器 3 5により電力増幅 され、 浮上用電磁石の磁極 4 i , 4 5 · · · に励磁電流を印加する。 本 装置においては、 センサアンプ 3 1から電力増幅器 3 5に到る制御回路 は 8セッ ト （電磁石は 2列で列設されているので 4対分） 備えられてお り、 浮上用電磁石 4 ， 4 ₅ · · ·に対応する 1対分の制御回路のみが 図示されている。 浮上用電磁石 4 ₂ ， 4 ₃ ， 4₄ ， 4 ₆ ， 4 ₇ · · ·は、 それぞれ対応する図示しない制御回路によって制御される。 この閉ルー ブ制御回路において、 搬送台の浮上目標位置、 制御ループのゲインがゲ ィン ·浮上目標電圧信号発生器 4 0からの信号により与えられる。 これ に対して、 磁極の作動から非作動へ、 又は、 非作動から作動への切換え 動作は、 変位センサ 8 , 8 ₂ · · '等からの信号をセンサアンプ 3 1 で増幅後、 AZ D変換器によってディ ジタル信号に変換して、 制御ュニ ッ トに取込むことによって行われる。 即ち、 変位センサ 8 i ， 8 ₂ · · •等の信号から、 搬送台 3の移動を検出し、 非作動から作動状態に、 或 いは、 作動から非作動状態に切換える位置選択信号を発生し、 ゲイン， 浮上目標電圧信号発生器 4 0により、 制御回路のゲイン又は浮上目標電 圧の信号をゲイン設定器 3 2、 浮上目標電圧設定器 3 3に印加すること によってそれぞれの磁極の作動、 非作動の励磁制御が行われる。

第 2 7図は、 従来の浮上用磁極の切換えのシーケンスの説明図である。 搬送台移動方向に複数配置された浮上用磁極の作動している磁極を、 搬 送台移動に伴い搬送台移動方向の次に配置されている非作動の磁極に選 択信号発生器 4 1、 スィッチ群 4 2を通じて切換える。 その切換えの際 に、 ゲインを個々の磁極に関して設定値から 0もしくは 0から設定値に 到達するまでの制御時間を搬送台の移動速度に応じた設定を行い、 それ ぞれ個別に徐々に変化させることにより磁極の作動から非作動、 非作動 から作動に移行することにより、 浮上用磁極を順次切換える。 第 2 8図 （A ) は従来の磁極の非作動から作動に移行する動作の説明 図である。 この例では、 スィッチ群 4 2でスィッチを閉じ、 制御時間 t 1 で、 ゲインが 0から設定値 (浮上目標値 V _{S 1}から V _{S 2}) に達する ことにより、 非作動から作動状態に移行する。 第 2 8図 （B ) は従来の 磁極の作動から非作動に移行する動作の説明図である。 この例では、 制 御時間 t ₂ で、 ゲインが設定値 V ₂ から 0 (浮上目標値 V _{S 2}から V _{S 1} ) に達することにより、 スィッチ群 4 2でスィッチを開き、 作動から非作 動状態に移行する。 このように、 従来、 磁極の非作動から作動状態へ、 或いは、 作動から非作動状態への切換え動作は、 搬送方向に配列された 磁極毎に個別に搬送台の移動に伴って行われていた。

しかしながら、 係る磁気浮上搬送装置において、 搬送路上を搬送台が 滑らかに走行移動し、 搬送台の発進 ·停止をできる限りスムーズに行う 必要があるが、 その際に最も問題となるのは、 浮上磁極の切換えにより 搬送台そのものが振動してしまう現象である。 よって、 搬送台に振動を 及ぼす一原因である浮上用電磁石の磁極を切換える際のその作動から非 作動、 或いは、 非作動から作動に移行させる動作の問題点を解決し、 搬 送台を滑らかに走行移動させることのできる浮上用電磁石の切換動作方 法を開示するものである。

• 本実施例では、 搬送台の移動方向に多数の浮上用電磁石が列設され、 該搬送台の移動に伴い作動磁極を切換えて、 浮上移動中の搬送台を支持 する磁気浮上搬送装置において、 作動から非作動又は非作動から作動に 電磁石を順次切換える際に、 移動方向に配列された少なく とも 1組の磁 極について、 作動から非作動への切換動作及び非作動から作動への切換 動作を同時に徐々に進行させるように制御している。

第 2 9図は、 作動から非作動又は非作動から作動に浮上用電磁石を順 次切換える際に、 移動方向に配列された相隣接する 1組の磁極について、 作動から非作動への切換動作及び非作動から作動への切換動作を同時に 徐々に進行させることを示している。 第 26図において、 搬送台 3が左 方向に移動すると、 磁極 4₂ の変位センサ 8₂ は、 搬送台 3の到達を検 出する。 そして、 第 29図に示すように、 作動状態の磁極 4₃ と、 搬送 方向に相隣接する非作動状態の磁極 4₂ とを同時に徐々に、 それぞれ、 作動から非作動状態へ、 及び非作動から作動状態へ切換える。 この切換 動作は、 制御時間 t。 の間に徐々に進行する。 尚第 29図に示す切換動 作は直線的であるが、 第 30図 （A)， (B) に示すように、 曲線的に 行っても良い。

この浮上用電磁石の切換制御は、 第 26図に示す制御系のプロック図 において、 ゲイン設定器 32により制御回路のトータルのゲインを徐々 に磁極 4₂ について 0から設定値 V₂ 迄上昇及び磁極 4₃ について現在 値 から 0迄下降させることによって行われる。 又、 浮上目標電圧設 定器 33により、 浮上目標電圧のパラメータであるオフセッ ト電圧を、 磁極 4₂ について V_S1から設定値 V_S2迄上昇させると共に、 磁極 4₃ に ついて現在値 V_S3から V_S4迄下降させることを、 同時に制御時間 to で 徐々に行ってもよい。 更に、 ゲイン設定器 32により制御回路のゲイン を変化させ、 次に、 浮上目標電圧設定器 33の浮上目標値であるオフセ ッ ト電圧を変化させることを組合せて行うこともできる。

以上の説明は、 非作動から作動状態に切換える磁極 4₂ と、 作動から 非作動状態に切換える磁極 4₃ の搬送方向に配列された 1組の磁極につ いて、 状態の切換え動作を同時に進行させるものである。 このような磁 極の同時切換動作を搬送路の磁極の複数組について行うことも勿論可能 であり、 更に搬送台の走行安定性を改善する可能性がある。

例えば、 磁極 4₂ と磁極 4₃ の組の他に、 磁極 4₄ と磁極 4₅ の組を 同時に切換え動作を進行させることも可能である。 即ち， 磁極 4₂ の変 位センサ 8 ₂ が移動してくる搬送台 3の到達を検出し、 選択信号発生器 4 1及びスィツチ群 4 2を通じて所定のスィツチの開閉を行い磁極 4 ₂ と磁極 4 ₄ を非作動から作動状態に、 磁極 4 ₃ と磁極 4 ₅ を作動から非 作動状態に同時に、 徐々に制御時間 t。 で切換え動作を進行させる。 こ のように、 搬送方向の 2組の磁極 4 ₂ , 4 ₃ ， 4 ₄ , 4 ₅ を同時に徐々 に切換え動作を進行させることにより、 搬送台の走行安定性を更に向上 させることができる。

尚、 第 2 5図では、 搬送台 3は、 搬送方向に 3個の磁極によって浮上 保持されている。 搬送台 3をより多数の磁極、 例えば 4個又は 5個によ つて浮上保持した場合に、 3組の磁極を同時に切換えることが可能であ る。 このように、 作動から非作動及び非作動から作動の磁極の同時切換 の組合わせは、 各種考えられる。 このような場合には、 同時切換の組合 わせを適宜選択することが可能であり、 組合せの選択により、 搬送台の 走行に伴う浮上磁極の切換時に生じる搬送台の振動をより低減できる可 能性がある。

以上に説明したように、 本実施例では磁気浮上搬送装置の搬送台を浮 上保持し走行させる浮上磁極の作動、 非作動状態の切換え動作を同時に 徐々に進行させるようにしたものである。 従って、 走行に伴う浮上磁極 の切換えによる搬送台の振動の発生が防止され、 搬送台の走行、 或いは 停止、 発進時の浮上磁極の切換えがスムーズとなり、 搬送台を安定走行 させることができる。

(第 8実施例）

以下、 第 8実施例である搬送台の浮上 着地の制御について第 3 1図 乃至第 3 3図を参照して説明する。

上記した様な磁気浮上搬送装置は、 搬送台のトンネル下側隔壁面から の浮上及びトンネル下側隔壁面への着地の際には、 一般に制御装置の電 源を入、 切するだけなので、 前記動作が急激に行われるという問題があ る。 換言すると、 浮上或いは着地に際して被搬送物に衝撃を与え、 破損 してしまうという問題がある。 ここで、 磁気浮上搬送装置は半導体製造 工場等においてウェハ等の各種ワークの移送に用いられることを想定し ており、 ウェハは非常に割れやすいため、 搬送対象物の破損は非常に重 犬な問題である。 又、 浮上や着地が急激に行われることは粉塵発生の原 因ともなり、 半導体製造の際の歩留まりを劣化させてしまう。 更に、 搬 送の際には被搬送物 （例えばウェハ等のワーク） の受け渡しを容易にす るため、 その垂直方向高さが可変であることが望ましい。 そして磁気浮 上搬送装置の場合は、 搬送台の浮上量が自由に調整出来ることが好まし い。 また、 被搬送物が搬送台に搭載されていないときは、 短時間で搬送 台を着地状態から浮上状態にでき、 搬送時間を短縮できることが好まし い。

本実施例は係る課題を解決するもので、 搬送台の浮上及び着地の衝撃 を緩和することが出来て、 しかも搬送台の浮上量と、 浮上 ·着地に要す る時間を自由に調整することが出来る磁気浮上搬送装置を開示する。 第 3 1図は制御系の基本的な構成を示しており、 浮上用電磁石 4の磁 気吸引力を制御して搬送台 3を目標位置に浮上させる基本的な動作は、 前述の第 6実施例、 第 7実施例と同 であり、 その説明を省略する。 センサ 8の出力 V _s は淳上目標値であるオフセッ ト電圧 V _f と加算器 4 3で比較され、 その差分がゲイン設定器 3 2に導かれ、 センサ 8から 電力増幅器 3 5に至る制御回路 2 8の制御系の増幅率 K _P を決定する。 即ち、 ゲイン設定器 3 2の出力は位相補償器 3 4に導かれ、 更に電力増 幅器 3 5に導かれ、 浮上用電磁石 4に巻回したコィルに流す励磁電流を 増減する。 電磁石 4はコイルに流れる励磁電流による磁気吸引力を搬送 台 3に及ぼし、 搬送台 3を磁気吸引力により浮上支持する。 従って、 制 御系が安定な範囲で制御系の増幅率をゲイン設定器 3 2により高く設定 することによって、 より大きな磁気軸受剛性で搬送台を支持することが できる。

オフセッ ト電圧供給手段 3 3は、 デジタル処理手段 （C P U ) 3 8に プログラム 4 0から指令を与え、 オフセッ ト電圧 V。_fを発生させる。 ま た、 デジタル処理手段 3 8は、 オフセッ ト電圧を決定する発生機構とし ての機能をも有している。

デジタル処理手段 3 8には、 符号 4 0で表現する各種のプログラムを 自由に組み込むことが出来て、 しかもプログラム 4 0の変更も自在であ る。 そしてプログラム 4 0は、 オフセッ ト電圧供給手段から加算器 4 3 へ印加されるオフセッ ト電圧の各種特性 （例えば時間特性） を所望のも のとなる様に作成する。 このプログラム作成の手法は、 従来公知のソフ トウエア作成技法であるため、 説明は省略する。

浮上時においては、 オフセッ ト電圧 V_{0 f} と時間 tとの関係 （時間特性） は第 3 3図の様であるのが好ましい。 第 3 3図における時間 t。 が経過 すれば、 オフセッ ト電圧 V _{0 i}が 0 Vとなるため、 搬送台 1 3は制御回路 (補償回路） 2 8で固定された基準浮上位置で安定浮上する。

この様なオフセッ ト電圧 V _{0 i}の時間特性を達成する様なプログラムを 作成し、 デジタル処理手段 3 8に組み込めば、 図示しないオフセッ ト電 圧発生機構が作動して、 第 3 3図に示す時間特性のオフセッ ト電圧 V _{0 f} が加算器 4 3へ印加されるのである。

着地時においては、 時間特性が第 3 2図の様になるのが好ましい。 こ の場合も上記と同様な処理を行えば、 第 3 2図に示す時間特性のオフセ ッ ト電圧 V _ofが加算器 4 3へ印加される。

さらに、 製造に要する時間全体を第 3 2図、 第 3 3図における横軸 (時間軸） にとつて、 各加工ステーションに到達する時点で必要な浮上 量の変化に対応してオフセッ 卜電圧 V _{0 i}を変化させて、 ライン全体に亘 る時間特性を作成し、 それをプログラミングすることも可能である。 そ の様にすれば、 浮上及び着地の際に衝撃が発生することが無く、 しかも 加エステーションにおけるワークの受け渡しが円滑に行われるのである _c 搬送台 3の浮上位置は、 電磁石 4が搬送台 3に及ぼす鉛直方向の磁気 吸引力と搬送台 3の重力が等しくなる状態で制御される。 つまり位相補 償器 3 4に入力する信号が電磁石 4に流す励磁電流を決定するのである から、 搬送台 3の浮上位置変化と、 搬送台 3と電磁石 4の磁極面との距 離の比が比較的小さいならば、 電磁石 4と搬送台 3で構成される磁気回 路の洩れ磁束変化が小さく、 搬送台 3の重量が不変であるならば、 制御 結果として位相補償器 3 4の入力信号は概ね不変である。

また位相補償器 3 4に入力する信号 （V p とする） は、 センサ 8の出 力信号 （V _s とする） と、 加算器 4 3に導くオフセッ ト電圧 ·ゲイン設 定出力供給手段である制御ュニッ ト 2 9が有するデジタル アナログ変 換器 4 4の出力信号 1 (オフセッ ト電圧、 V _f とする） と、 オフセッ ト 電圧 ·ゲイン設定出力供給手段である制御ュニッ ト 2 9が有するデジタ ル信号出力手段 4 5の出力信号 2とゲイン設定器 6 0によって設定され る増幅率 （K pとする） によって決定され、 以下の式に従う。

D Z A変換器 4 4とデジタル信号出力器 4 5はデジタル処理手段 （C P U ) 3 8の指令によってそれぞれの機能を発揮する。 また符号 4 0で 示すプログラムによってデジタル処理手段 3 8の行う処理手順を自在に 設定、 変更が可能である。 従って上記位相補償器 3 4の入力電圧 V p は プログラム 4 0によって自在に設定できる。 上述したように、 搬送台 3の浮上位置変化と、 搬送台 3と電磁石 4の 磁極面との距離の比が比較的小さい時は、 位相補償器 2 8の入力電圧 V P を一定に保持する様に制御する。 従って増幅率 K pが一定の時、 搬送 台 3の浮上位置を変化させる （センサ出力電圧 V _s が変化する） には、 ( 1 ) 式で拘束される条件でオフセッ ト電圧 V _fを変化させればよい。 ま たオフセッ ト電圧 V _f が一定の時には、 ゲイン設定器 6 0の増幅率 K p を同様に変化させれば良い。

搬送台 3の浮上位置変化が大きい場合は、 電磁石 4と搬送台 3で構成 される磁気回路の漏れ磁束が大きく変化し、 搬送台 3に作用する磁気吸 引力を与える有効磁束数が大きく増減するため、 電磁石 4に流す励磁電 流と搬送台 3に作用する磁気吸引力の比が大きく変化する。

電磁石 4の磁極面と搬送台 3の距離が大きく増加すれば漏れ磁束は多 くなるため、 搬送台 3を支持するために電磁石 4に流す励磁電流を増加 する必要がある。 このことは電磁石 4、 搬送台 3、 センサ 8、 制御回路 2 8で構成する磁気浮上制御系のル一ブゲインが大きく低下することに なり、 搬送台 3の安定浮上を損なう恐れがある。

この場合にはオフセッ ト電圧 V _f の調整だけでは安定浮上の持続を維 持できない。 そこでゲイン設定器 6 0の増幅率 K pを増加させれば上記 の理由による制御系のループゲインの低下を補償でき、 搬送台の安定浮 上を持続できる。 また搬送台 3と電磁石 4の距離が減少した場合は上述 と逆の操作を行う事で同様に補償できる。

本実施例は上記のように構成されているので、 ゲイン設定器 3 2の增 幅率 K p及びオフセッ ト電圧 V _f を変化させることで、 搬送台 3の浮上 位置を任意に設定可能である。

したがって、 適当な処理プログラムによって、 搬送台の浮上及び着地 の衝撃を緩和する制御ができるのに加えて、 搬送台の浮上量の調整と浮 上着地に要する時間の調整を達成することができる。 そのため、 半導体 製造ラインに適用することにより、 ウェハ等のワークの破損及び粉塵の 発生等が防止されて、 歩留りが向上する。 それと共に、 下降ステーショ ンと搬送台との間のワークの受け渡しが改善されて、 搬送効率が向上す 。

(第 9実施例）

以下、 第 9実施例である搬送路に設けられた受動ダンバについて第 3 4図を参照して説明する。 本実施例の受動ダンバは、 磁気浮上状態でト ンネル中を走行する搬送台に、 搬送路と直交する方向の振動が生じた場 合に、 その振動を吸収して搬送台の振動を減衰させるものである。

浮上用電磁石により吊上げられた搬送台は、 案内方向には第 3実施例 で詳述したように、 電磁石のバネ力であるいわゆる案内剛性で支持され ている。 このため、 搬送台になんらかの外力が作用し、 Y方向に振動が 生じると減衰力が作用しないため振動が止まらないという問題がある。 特に搬送台の停止点付近で電磁ブレーキにより走行中の搬送台を停止さ せようとすると、 いちじるしい振動が発生し、 隔壁と衝突し金属粉を発 生させる。 或いは、 振動の停止に長時間を要し被搬送物の装塡に待ち時 間を要するという問題が従来生じていた。 本実施例の受動ダンパによれ ば磁気浮上された搬送台の搬送方向と直交する方向 （案内方向） の振動 を速やかに吸収することができる。

第 3 4図に示す搬送装置は、 搬送路 2 3に設けられた電磁石 4の磁気 吸引力により、 隔壁で形成されたトンネル （図示しない） 内の搬送台 3 を浮上支持して搬送路に従って搬送方向に走行させるようにしている。 なお、 図中 X, Y, Z軸は互いに直交する三次元直交座標をなしており、 X方向は搬送方向を、 Y方向はこの搬送方向 Xに直交する左右方向を、 Z方向は X， Y方向に直交する磁気吸引力の方向即ち電磁石 4の磁極面 4 nの法線方向を、 それぞれ示している。

本実施例装置においては受動ダンバを備えており、 受動ダンバは、 吸 引力の方向 Zと搬送方向 Xに対しては電磁石 4を所定位置に拘束して支 持し、 搬送方向 Xに直交する左右方向 Yに対しては電磁石 4を移動可能 に支持する支持装置 5 1により構成される。 一次側をなす電磁石 4は、 搬送路の搬送方向 Xに所定ピッチで多数個列設されて、 磁気軸受を構成 し、 浮上磁極とも呼ばれている。 また、 搬送台 3の本体の上面の周縁部 には、 浮上用ダ一ゲッ トとなるヨーク （継鉄） 等により形成されて二次 側をなす磁性体ターゲッ ト （磁性材） 2 0が取付けられている。 この磁 性材 2 0は、 励磁された電磁石 4の吸引力により搬送台 3を非接触状態 で浮上させるように、 図示しないトンネルの隔壁を介して電磁石 4の下 方に位置している。 上記一次側の電磁石 4と二次側の磁性材 2 0とによ り、 搬送方向 Xに展開された磁気軸受列をなす磁気軸受装置を構成して いる。

受動ダンバを構成する支持装置 5 1について説明すると、 搬送路の停 止位置等において、 本体フレームの固定壁 2 7に上記左右方向 （即ち Y 方向） に向けてリニアレール 5 2が配設されている。 浮上用電磁石 4の 上部にはリニァベアリング 5 3が取付けられ、 このリニァベアリング 5 3は、 リニアレール 5 2に従って Y方向のみに任意の位置に摺動するよ うになつている。 このリニアレール 5 2とリニアベアリング 5 3とによ り、 Y方向に自由度を有するリニアガイ ド支持装置 5 1を構成している _c このように、 浮上用電磁石 4は、 リニアベアリング 5 3とともに Y方向 にのみ移動し， X， Z方向及び X, Y, Z軸回りには常にガ夕がない状 態になっておりしかも移動することがないので、 X， Z方向及び X， Y, Z軸回りの運動自由度はなく、 Y方向の並進自由度を任意に設定できる こととなる。 本支持装置 5 1は、 搬送路に対向配置されている本体フレームの固定 壁 2 7 aと、 この固定壁 2 7 a間に配設されている電磁石 4との間に減 衰カ付与手段である一対のばね部材 5 4と一対のダッシュポッ ト 5 5と を配設して、 電磁石 4を Y方向の所定位置に保持している。 リニアレ一 ル 5 2とリニァベアリング 5 3との間に潤滑剤を塗布すれば、 この潤滑 剤の粘性とこの摺動部における摩擦抵抗力により減衰力が発生して、 減 衰カ付与手段となる。 従って、 電磁石 4がリニアガイ ドュニッ トを介し て Y方向に振動すれば、 潤滑剤により Y方向に対する電磁石 4の振動を 減衰させることもできるが、 これだけでは十分な減衰力を得ることはで きないことがある。 そこで本実施例では、 ばね部材 5 4によるばね力に 加えて、 高い緩衝効率を有するダッシュポッ ト 5 5の緩衝作用を利用す ることにより、 適切な減衰力を任意に設定できるようにしており、 これ により、 本当の意味で受動安定軸 （Y軸） を実現することができる。 即 ち、 電磁石 4は、 ばね部材 5 4とダッシュポッ ト 5 5とにより Y軸方向 の並進自由度を制限されているが、 この制限要素であるばね部材 5 4と ダッシュポッ ト 5 5とを適当に調節することにより Y軸を良好な受動安 定軸とすることができる。

従って、 このような受動ダンパを例えば搬送路の停止点付近に設けれ ば、 停止点付近で生じる搬送台の振動を速やかに吸収減衰させることが できる。

(第 1 0実施例）

以下、 第 1 0実施例であるトンネルに設けられたマグネッ トを用いた 振動減衰機構 （ダンバ） を第 3 5図乃至第 3 6図を参照して説明する。 第 3 5図は本実施例に係る磁気浮上搬送装置の断面正面図、 第 3 6図 はその平面図である。 この磁気浮上搬送装置の基本的な構成は、 第 3実 施例において詳述しているので、 同一部分又は相当部分には同一の符号 を付してその説明を省略する。

搬送台 3における外郭部材 1 9の X方向の両側部には、 第 1の磁石と しての一対の永久磁石 5 6がそれぞれ取付けられている。 この第 1の永 久磁石 5 6は、 搬送台側部に形成された凹部 5 7内に固着されている。 また、 一方の側部には、 ウェハ 2 2を出し入れするための矩形状の開口 部 0が形成されている。

隔壁 2の両側壁 1 5には、 第 1の永久磁石 5 6との間に磁力を作用さ せるとともに搬送台 3の振動に対して減衰力を付与する第 2の磁石とし ての永久磁石 5 8が取付けられている。 両側壁 1 5には、 外方 （大気側） に開口するとともに、 第 1の永久磁石 5 6の位置に対応する場所に有底 の嵌合溝 5 9が形成されており、 この嵌合溝 5 9に第 2の永久磁石 5 8 が X方向に進退動自在に嵌合されている。 嵌合溝 5 9の開口部は蓋部材 6 0により覆われてシール部材を介して密封されており、 この蓋部材 6 0は側壁 1 5に着脱可能に取付けられている。

この蓋部材 6 0と第 2の永久磁石 5 8との間には、 X方向のばね力を 付与するためのばね部材 6 1が介装され、 このばね部材 6 1により第 2 の永久磁石 5 8は側壁 1 5の内面側に付勢されている。 また、 ばね部材 6 1が配設された嵌合溝 5 9の内部スペースには、 減衰作用を発揮させ るための手段としてのオイル 6 2が充塡されており、 第 2の永久磁石 5 8を含むこの構成により、 搬送台 3の振動に対して減衰力を付与してい る。 なお、 減衰作用を発揮させるためには、 上記オイル 6 2の代わりに ゴム等の弾性部材を使用してもよく、 この場合には、 この弾性部材を介 してばね部材 6 1を蓋部材 6 0と第 2の永久磁石 5 8との間に介装させ る になる。

本実施例では第 1， 第 2の永久磁石 5 6， 5 8は互いに反発し合うよ うな磁極の組合せのものにしている。 上記構成を有する本実施例装置においては、 電磁石 4により搬送台 3 を、 隔壁 2で囲まれたトンネル 1内に浮上させた状態で、 リニアモータ

6により進行方向に付勢して走行せしめる。 そして停止位置 Sにおいて 電磁ブレーキ 1 8により搬送台 3を停止して、 ここで図示しないロボッ トアーム等を使用して、 開口部 0を介してウェハ 2 2の出し入れ作業を 行う。

搬送台 3がトンネル 1を走行する際の搬送台 3の X方向に関する位置 決めは、 磁性材 2 0と電磁石 4の磁極面の幅を等しくすることにより、 搬送台 3を Y方向の中心位置に常に引張ることにより行っている。 搬送 台 3が Y方向の中心位置にあるときは、 搬送台 3の第 1の永久磁石 5 6 と隔壁 2の第 2の永久磁石 5 8との間に作用する反発力のバランスがと れていて、 上記搬送台 3はその位置を維持しながら走行する。 ところが、 搬送台 3に遠心力が作用したり振動が発生して搬送台 3が方向に外れた 場合には、 両永久磁石 5 6 , 5 8間に働く反発力により、 搬送台 3は常 に Y方向中心部に押し戻されて、 隔壁 2の内面に搬送台 3が接触するこ とはない。 また、 第 1の永久磁石 5 6からの磁力が作用する第 2の永久 磁石 5 8は、 ばねと減衰手段を介してトンネル隔壁に取り付けられてい るため、 搬送台 3が振動すると、 永久磁石 5 8にも反発力が変動して、 その動きが伝わる。 その動きに対して減衰があるので、 振動エネルギー が吸収されて搬送台 3の振動を減衰させることとなる。 これにより、 搬 送台 3が一旦振動を開始してもその振動は速やかに減衰する。

なお、 上記第 1， 第 2の磁石 5 6， 5 8は永久磁石の代わりに電磁石 を使用することも可能である。

(第 1 1実施例）

以下、 第 1 1実施例である鉛直方向のトンネルを備えた搬送機構を第 3 7図乃至第 3 8図を参照して説明する。 第 3 7図において、 搬送台 3が走行する第 1の搬送路 1 aは、 隔壁 2 により空間分離され、 隔壁内は高真空等の高度の清浄空間であり、 トン ネルとなっている。

搬送台 3は、 隔壁 2の外側に配備された浮上用電磁石 4の磁気吸引力 により隔壁 2から非接触で浮上支持される。 すなわち、 浮上用電磁石 4 は、 磁性材を備えた搬送台 3を磁気力により吸引し、 浮上保持する。 リ ニァモータ 6は電磁石であり、 搬送台 3の下面の導電体に渦電流を発生 させることにより搬送台を水平方向に駆動し、 搬送台を同様に非接触で 水平方向に走行させる。

第 2の搬送路 1 bは、 第 1の搬送路 1 aと高さが異なるのみで、 トン ネル内の搬送台 3を浮上用電磁石 4により浮上保持し、 リニァモータ 6 により水平方向に搬送台 3を走行させる搬送路の構造は共通している。 この磁気浮上搬送装置は、 これら高さの異なる第 1の搬送路 1 aと第 2 の搬送路 1 bとを接続する鉛直方向のトンネルである搬送路 6 5を備え 。

鉛直方向の搬送路 6 5は、 搬送台 3を磁気力で非接触浮上支持する浮 上機構とリニアモータとを備えたテーブル部 6 6と、 このテーブル部 6 6を鉛直方向に昇降させるエレべ一夕機構 6 7とを備える。 エレベータ 機構 6 7は、 隔壁により空間分離された鉛直方向の搬送路 6 5を真空状 態に保ったまま固定側 6 8に対して軸 6 9を上下方向に移動させる。 従って、 例えば第 1の搬送路 1 aを浮上用電磁石 4により浮上支持さ れ、 リニアモータ 6により駆動されて走行する搬送台 3力、 鉛直方向の 搬送路 6 5に入る。 テーブル部 6 6のリニアモータが制動力を発生し、 搬送台 3は鉛直方向の搬送路 6 5のテーブル部 6 6で停止し、 浮上用電 磁石によりテーブル部 6 6に非接触で浮上支持される。 そして、 エレべ 一夕機構 6 7によりテーブル部 6 6が降下し、 第 2の搬送路 1 bと水平 位置に到達した時点でセンサ 8が搬送台の位置を検出しェレベータ機構 6 7の動作を停止させる。 この時点で、 搬送台 3は第 2の搬送路 1 bと 同じ高さとなる。 このようにして、 搬送台 3は第 1の搬送路 1 aから、 第 2の搬送路 1 bへ、 或いは第 2の搬送路 1 bから第 1の搬送路 1 aへ 高さの異なる搬送路をトンネル隔壁と非接触状態で移動することができ る。 尚、 鉛直方向の搬送路 6 5も、 搬送路 l a , l bと同様な材質の隔 壁 2により空間分離された高真空の高度の清浄度空間である。

第 3 8図は、 テーブル部 6 6と搬送台 3の詳細の構造を示すものであ る。 テーブル部 6 6は、 浮上用電磁石 4と駆動用電磁石 1 8とを備えて いる。 搬送台 3は、 例えば半導体ウェハ 2 2を搭載し、 搬送するもので あり、 搬送台 3の上面には、 浮上用電磁石 4のターゲッ トとなる磁性材 2 0が固定されており、 駆動用電磁石 1 8のターゲッ トとなる磁性材 7 0が同様に固定されている。

浮上用電磁石 4はその励磁コイルに電流を流すと磁気吸引力を発生し 磁性材 2 0を吸引することにより搬送台 3を非接触で浮上保持する。 駆 動用電磁石 1 8は、 水平方向の磁気吸引力を発生し、 テーブル部 6 6の 直下に進入してくる搬送台 3に水平方向のブレーキ力を発生し停止保持 する。 また、 搬送台 3を他の搬送路に移動進行させるために、 水平方向 の駆動力を発生し、 搬送台 3を他の搬送路に発進させることができる。 電磁石 4の磁極間にあるセンサ 8は、 浮上位置の検出のためのものであ り、 検出された搬送台の位置データをもとに電磁石 4のコイルに流れる 電流を制御することにより、 適正浮上位置に搬送台 3を保持する。

これらの電磁石 4 , 1 8及びセンサ 8は、 キャン 7 1によってカバ一 され、 これらの電磁石等より発生する汚染物質が隔壁 2内の高真空度空 間を汚染するのを防止している。

尚、 以上の説明は被搬送物として半導体ウェハを一例として説明した 力 例えば、 液晶ディスプレイの製造工程における液晶基板の搬送等、 トンネルを用いた被搬送物の浮上状態での非接触搬送に広く適用可能で ある。 又、 清浄度環境としては、 真空状態に限らず、 高純度の不活性ガ ス雰囲気等であってもよい。

以上に説明したように、 本実施例の搬送装置は鉛直方向の高さの異な る複数のトンネルである搬送路と、 該搬送路を接続する鉛直方向のトン ネルの搬送路とを備えたものである。 従って、 高さの異なる複数の搬送 路間を搬送台を非接触で浮上保持した状態で相互に移動させることが可 能となる。 それゆえ、 隔壁により囲まれたトンネル内で、 搬送台を鉛直 方向に移動させることができ、 磁気浮上搬送装置の適用領域を拡大する ことができる。

(第 1 2実施例）

以下、 第 1 2実施例である処理装置へ被搬送物を搬入するための接続 室について、 第 3 9図乃至第 4 1図を参照しながら説明する。

第 4 1図は、 処理装置へ被搬送物を搬入する従来の技術を示す。 トン ネル 1は、 半導体ウェハ或いは液晶基板等の被搬送物を搭載した搬送台 3が密閉空間の隔壁から浮上した状態で非接触で走行する磁気浮上搬送 装置の搬送路である。 トンネル 1内は真空または高清浄度の N ₂ ガス等 で満たされた高清浄度の空間である。 トンネル 1の隔壁外には、 図示し ないが搬送台を密閉空間内で磁気浮上させるための磁極を備えた電磁石 と、 密閉空間隔壁面と搬送台との間の隙間を計測するための変位センサ と、 該センサの信号によって浮上用電磁石の励磁電流を制御する制御回 路と、 搬送台を走行させるための加減速用リニアモータと搬送台を停止 させるための停止装置とを備えている。

係るトンネル 1内を搬送される半導体ウェハ等の被搬送物が、 例えば、 蒸着、 フォ トリソグラフィ等のプロセス処理を行うプロセス室 7 4に搬 入されるためには、 その間の被搬送物の清浄度を保っためバッファとな るチヤンバ 7 2が設けられていた。

しかしながら、 プロセス前室のロボッ ト Ί 3により、 搬送台 1とプロ セス室 7 4との間の基板 2 2の受け渡しを行おうとすると、 ロボッ トの 必要とされるリーチが長くなり、 ロボッ トハンドの剛性上の問題を生じ る。 このため、 チャンバ 7 2には別個のハンドリ ングロボッ ト 7 5を備 え、 該ロボッ トにより密閉空間内の搬送台 3からウェハ等の基板 2 2を、 置き台 7 6に一端移し、 プロセス前室 7 7のロボッ ト 7 5が置き台 7 6 から基板 2 2を引き出し、 プロセス室 7 4に移していた。

このように、 プロセス前室 7 7にあるロボッ ト 7 3力、 密閉空間内の 搬送台から直接プロセス室 7 4へウェハの受渡しを行うのには、 ロボッ ト 7 3のハンドのリーチが長くなり、 剛性上の問題を生じる。 又、 チヤ ンバ 7 2にロボッ ト 7 5を設けプロセス室 7 4へ 2段階の基板の受け渡 しを行うと、 高価でありコントロールが複雑なハンドリングロボッ トを チヤンバ 7 2に増設することになる。 また基板の受け渡しがチヤンバ 7 2のロボッ ト 7 5及びブ口セス前室 7 7のロボッ ト 7 3と 2回に渡り、 ハンドリ ング回数の増加により生ずる粒子汚染の増加という問題が発生 する。

第 3 9図は本発明の接続室を設けた実施例の説明図である。

トンネル 1とプロセス前室 7 7との間には、 トンネル 1と接続する接 続室 7 8が設けられており、 トンネル 1側には仕切りバルブ 7 9が、 ブ 口セス前室 7 7側には仕切りバルブ 8 0が設けられている。 そして、 接 続室 7 8には図示しない真空ポンプ或いは高清浄度の不活性ガスの供給 源等を備えることから接続室 7 8もトンネル 1及びプロセス室 7 4と同 様な雰囲気の高清浄度の空間とすることができる。 そして、 接続室 7 8 にはトンネル 1と同様に隔壁外に、 搬送台 3を磁気浮上させるための磁 極を備えた浮上用電磁石と、 接続室隔壁面と浮上している搬送台との間 の隙間を計測するための変位センサと、 該センサの信号によって浮上用 電磁石の励磁電流を制御する制御回路と、 搬送台を走行させるための加 減速用リニアモータを構成する電磁石と搬送台を停止させるための停止 装置を構成する電磁石とを備えている。

したがって、 接続室 7 8の動作は次のようになる。 先ずバルブ 7 9 , 8 0を閉じた状態で接続室 7 8内を真空ポンプにより真空引きする。 そ して搬送路であるトンネル 1内と同じ真空度に達した時点でバルブ 7 9 を開くことにより トンネル 1と同様の雰囲気とすることができる。 そし て搬送台 3が基板 2 2を搭載してトンネル 1中を走行して、 接続室前の 位置で停止装置により停止する。 そして搬送台 3を接続室側にリニアモ —夕により加速させると搬送台は接続室 7 8に磁気浮上した状態で走行 進入してく る。 そして接続室 7 8の停止装置により接続室 7 8内部で搬 送台 3は停止する。

次にバルブ 7 9を閉じてバルブ 8 0を開く ことにより、 接続室 7 8の 雰囲気をプロセス前室 7 7の雰囲気と合わせることができる。 そしてプ 口セス室 7 4のバルブ 8 1を開き、 基板 2 2を搬送台 3からロボッ ト 7 3により取り出し、 プロセス室 7 4に直接移送することができる。 また 逆にプロセス室 7 4からロボッ ト 7 3により基板 2 2を取り出し搬送台 3に移送することも同様である。

第 4 0図は、 接続室に関する他の実施例であり、 プロセス前室 7 7を トンネル 1に対して 3方向に接続した例を示す。 図に示すようにトンネ ル 1の端部 8 2は、 3方向に接続室 7 8を介してプロセス前室 7 7に接 続されている。 接続室 7 8には搬送台 3を磁気浮上させ走行させること のできる浮上用電磁石とリニアモータと停止装置を備えており、 各接続 室 7 8はそれぞれ搬送台 3を磁気浮上状態で壁面から非接触で走行させ ることができ又停止させることができる。 それ故、 搬送路であるトンネ ル 1を走行してくる搬送台 3は、 端部 8 2で一端停止し密閉空間に直接 接続された各接続室 7 8に非接触浮上した状態で移動し、 そこで各プロ セス室 7 との間でそれぞれのプロセス前室 7 7のロボッ ト 7 3により ウェハ等の被搬送物 2 2の受け渡しを行うことができる。 又、 例えば接 続室 7 8、 端部 8 2、 接続室 7 8のルートにより、 トンネル 1を経なく とも、 3方向の接続室を介してマルチチヤンバのプロセス室間で相互に 被搬送物 2 2の受け渡しが可能となる。

以上に説明したように、 本実施例はプロセス処理装置へ被搬送物を直 接搬入するための接続室を備え、 該接続室には搬送台を浮上保持し非接 触で走行させ、 停止させるための手段を備える。 従ってプロセス室との ウェハの受渡しはプロセス前室のロボッ ト 1台で行うことが可能となり、 ハンドリングロボッ 卜の数を増やすことなく、 トンネルの清浄雰囲気の ままで、 粒子汚染の問題を生じることなくプロセス処理装置へ基板を直 接搬入することが可能となる。 産業上の利用可能性

以上のように、 本発明に係る磁気浮上搬送装置は、 隔壁で仕切られた トンネル中を、 搬送台を隔壁から非接触で安定に浮上走行させるように したものである。 従って、 被搬送物を、 直交方向への分岐等を含めて隔 壁との接触による塵埃、 粒子汚染等を発生させることなく、 自在に高清 浄度空間である真空中、 又は窒素ガス雰囲気中を安定に搬送することが できる。 それ故、 本発明の磁気浮上搬送装置は、 高清浄度空間での搬送 が要求され、 多様な処理装置が多数配置された半導体製造工場或いは液 晶基板の製造工場等での利用に好適である。

Claims

請求の範囲

1 . 隔壁で形成されれたトンネルと、 該トンネル内に配置された搬送台 と、 該搬送台を非接触状態にて浮上支持する複数の浮上用電磁石と、 前 記搬送台を走行移動させるリニアモータと、 前記搬送台の垂直方向距離 を検出する変位センサとを備えた磁気浮上搬送装置において、 前記浮上 用電磁石、 リニアモータ及び変位センサを前記トンネル隔壁の外側に配 置するとともに前記浮上用電磁石、 リニアモータ及び変位センサを前記 隔壁を貫通してトンネル内にその一部が露出した薄肉の容器状の収納部 材に収納したことを特徴とする磁気浮上搬送装置。

2. 隔壁で形成されたトンネルと、 該トンネル内に配置された搬送台と、 該搬送台を非接触状態にて浮上支持する浮上用電磁石と、 前記搬送台を 走行移動させるリニアモータとを備えた磁気浮上搬送装置において、 前 記トンネルの少なく とも上下面の隔壁を該隔壁内側に設けたシールド用 の薄肉プレートと、 該隔壁外側に設けた前記薄肉ブレートを補強するた めの剛性を有した厚肉の補強板とにより構成し、 前記浮上用電磁石及び リニアモータを前記トンネルの外側に配置するとともに、 前記補強板を 貫通して前記薄肉プレートに隣接するように設けたことを特徵とする磁 気浮上搬送装置。

3. 隔壁で形成された略直交方向の分岐路を有するトンネルと、 該トン ネル内を浮上して走行し被搬送物を搬送する搬送台と、 該搬送台を非接 触状態にて浮上支持する前記トンネルの隔壁上部に磁極が少なく とも 2 列列設された浮上用電磁石と、 前記搬送台を非接触状態にて走行させる 前記トンネルの隔壁に磁極が少なくとも 1列列設されたリニアモータを 構成する電磁石と、 前記搬送台の浮上位置を検出する前記トンネルの隔 壁に少なくとも 2列列設された変位センサと、 該変位センサの出力値に 基づいて前記浮上用電磁石の励磁電流の制御を行う制御回路とからなり、 前記搬送台はその上面に前記 2列の浮上用電磁石の磁極に対応した、 2 本の平行な磁性材片と、 該磁性材片に直交した 2本の平行な磁性材片と を備え、 その下面に前記リニアモータを構成する電磁石の磁極に対応し た導電材を備えたことを特徴とする磁気浮上搬送装置。

4. 前記隔壁で形成されたトンネル内部は、 真空に保持されるものであ ることを特徴とする請求の範囲第 1、 2又は 3項記載の磁気浮上搬送装

5. 前記隔壁で形成されたトンネル内部は、 窒素ガス雰囲気に保持され るものであることを特徴とする請求の範囲第 1、 2又は 3項記載の磁気 浮上搬送装置。

6. 前記搬送台の上面に備えられた、 2本の平行な磁性材片と該磁性材 片に直交する 2本の平行な磁性材片とは、 略口の字形の形状をなすもの であることを特徴とする請求の範囲第 3項記載の磁気浮上搬送装置。

7. 前記浮上用電磁石は、 断面がコの字形の磁極を有しており、 前記搬 送台の上面に備えた磁性材の各辺には、 前記搬送台の移動方向及びその 直交方向に沿って前記浮上用電磁石のコの字形の磁極の磁極面に対応し た溝が形成されていることを特徴とする請求の範囲第 6項記載の磁気浮 上搬送装置。

8. 前記浮上用電磁石は、 断面がコの字形の磁極を有しており、 前記口 の字形の磁性材の各コーナには、 前記浮上用電磁石のコの字形の磁極の 磁極面に対応した凸部が形成されるように、 前記搬送台の移動方向及び その直交方向に各辺との間に隙間が形成されていることを特徴とする請 求の範囲第 6項記載の磁気浮搬送装置。

9. 前記略直交方向の分岐路を有する トンネルの分岐点において、 主搬 送路に沿つて列設された前記浮上用電磁石と分岐搬送路に沿つて列設さ れた前記浮上用電磁石を隣接配置し、 作動状態の浮上用電磁石を非作動 状態に、 かつ搬送方向の異なる方向に配設された非作動状態の浮上用電 磁石を作動状態に同時に徐々に変化させることにより搬送台を浮上支持 している浮上用電磁石を切換えて、 上記搬送台の移動方向を前記主搬送 路と分岐搬送路間で転換させるような切換手段を備えたことを特徴とす る請求の範囲第 3項記載の磁気浮上搬送装置。

1 0. 前記磁気浮上搬送装置は、 前記搬送台の走行に伴う浮上用電磁石 の切換制御のための前記浮上用電磁石群に電流を供給し遮断するスィッ チ群と、 前記スィツチ開閉の対象となる前記浮上用電磁石群及びセンサ 群を選択し、 選択された前記浮上用電磁石群及びセンサ群のスィツチ群 に開閉を指示する信号を出力する選択信号発生器と、 前記制御回路の利 得を設定する利得設定器と、 浮上目標値である浮上目標電圧を設定する 浮上目標電圧設定器とを含み、

前記リニアモータにより搬送台が移動し、 前記制御回路によって前記 浮上用電磁石に流す励磁電流を切換え制御する際に、 前記選択信号発生 器により選択された励磁電流を供給する少なくとも 1つの浮上用電磁石 と、 励磁電流を遮断する少なくとも 1つの浮上用電磁石に関して、 前記 利得設定器、 及び 又は、 浮上目標電圧設定器を通じて前記制御回路の 利得又は浮上目標値である浮上目標電圧を同時に徐々に変化させる手段 を備えていることを特徴とする請求の範囲第 3項記載の磁気浮上搬送装

1 1 . 前記磁気浮上搬送装置は、 前記搬送台の浮上目標位置を設定する 浮上目標電圧設定器、 及び Z又は、 前記制御回路の利得を設定する利得 設定器を備え、 該浮上目標電圧設定器、 及び/又は利得設定器は、 デジ タルノアナ口グ変換手段及びデジ夕ル処理手段を含み、 該デジタル処理 手段はその処理プログラムが変更自在であり、 前記搬送台の浮上及び着 地の衝撃の緩和を前記デジタルの処理プログラムで行うことを特徴とす る請求の範囲第 3項記載の磁気浮上搬送装置。

1 2 . 前記磁気浮上搬送装置は、 前記浮上用電磁石を、 前記浮上の方向 と前記搬送方向とに対しては所定位置に拘束して支持し、 前記搬送方向 に直交する左右方向に対しては移動可能に支持する支持装置を設け該支 持装置には前記浮上用電磁石と前記搬送路の固定壁との間に、 減衰力付 与手段としてばね部材及びダッシュポッ トを設けたことを特徴とする請 求の範囲第 3項記載の磁気浮上搬送装置。

1 3 . 前記磁気浮上搬送装置は、 前記搬送台の両側部に第 1の磁石を取 付け、 前記隔壁の両側壁には、 この第 1の磁石との間に磁力を作用させ る第 2の磁石を取付け、 前記第 2の磁石には減衰手段が設けられている ことを特徴とする請求の範囲第 3項記載の磁気浮上搬送装置。

1 4. 前記磁気浮上搬送装置は、 高さの異なる複数のトンネルと、 該ト ンネルを接続する鉛直方向のトンネルとを備え、 前記鉛直方向のトンネ ルは、 前記搬送台を磁気力で浮上支持する浮上用電磁石とリニアモータ とを備えたテーブル部と、 該テ一ブル部を鉛直方向に昇降させるエレべ 一夕機構とを具備するものであることを特徴とする請求の範囲第 3項記 載の磁気浮上搬送装置。

1 5. 前記磁気浮上搬送装置は、 処理装置へ前記被搬送物を直接搬入す るための前記トンネルに接続する接続室を備え、 該接続室の隔壁外には 前記搬送台を磁気浮上させるための電磁石と、 前記搬送台を走行させる ためのリニアモータを構成する電磁石と前記搬送台を停止させるための 電磁石とを備え、 前記接続室の前後に仕切りバルブを設置したことを特 徴とする請求の範囲第 3項記載の磁気浮上搬送装置。