WO1996010218A1 - Photosensitive composition and photosensitive rubber plate - Google Patents

Photosensitive composition and photosensitive rubber plate Download PDF

Info

Publication number
WO1996010218A1
WO1996010218A1 PCT/JP1995/001923 JP9501923W WO9610218A1 WO 1996010218 A1 WO1996010218 A1 WO 1996010218A1 JP 9501923 W JP9501923 W JP 9501923W WO 9610218 A1 WO9610218 A1 WO 9610218A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
weight
block
copolymer
polymer
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP1995/001923
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Fusayoshi Sakurai
Haruo Ueno
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
Priority to US08/809,369 priority Critical patent/US6025098A/en
Priority to EP95932218A priority patent/EP0784232B1/en
Priority to DE69528069T priority patent/DE69528069D1/de
Priority to JP51159496A priority patent/JP3451571B2/ja
Publication of WO1996010218A1 publication Critical patent/WO1996010218A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive rubber plate and a photostimulable composition. More specifically, the present invention relates to a photosensitive rubber which is excellent in transparency and temperature balance and has a high water washing rate after exposure, and a photosensitive composition for obtaining the same.
  • Flexographic printing RS is manufactured by adhering a negative film to the surface of a photosensitive plate, irradiating it with actinic light, K-lighting a part of the light latent, and then washing and removing the unlighted part to form a relief. Is done. Further, as a cleaning solvent used for cleaning an unexposed portion, a conventional organic solvent is being converted to an aqueous solvent which is less likely to cause environmental pollution.
  • a flexographic printing plate as the luminous lumber slope ffl optical layer lumber has excellent transparency to allow light to reach the depths of the photosensitive layer, and has excellent adhesion to the SI object and the plate itself. It is excellent in balance with the temperature (hereinafter sometimes referred to as the temperature balance). To facilitate the formation of the relief after the B light, a high water washing speed is required.
  • the photosensitive layer is made mainly of a thermoplastic elastomer such as a styrene-butadiene block copolymer or a styrene-soprene block copolymer or a hydrophilic copolymer, and a photopolymerizable ethylenically unsaturated unit.
  • a thermoplastic elastomer such as a styrene-butadiene block copolymer or a styrene-soprene block copolymer or a hydrophilic copolymer
  • a photopolymerizable ethylenically unsaturated unit There is known an efficacious elastomer composition containing a composition and a photopolymerization initiator.
  • the ffi-light rubber plate using this photosensitive elastomer composition is inferior in transparency, poor in intensity balance, and slow in water washing after exposure.
  • Another object of the present invention is to provide a photosensitive rubber plate which is excellent in transparency and temperature balance and has a high water washing rate after exposure, and a photosensitive composition for obtaining the same.
  • the present inventors have conducted extensive research in order to apprehend the above-mentioned purpose, and have found that styrene-butadiene having a high content of a hydrophilic copolymer and a conjugated gen monomer unit having a large number of bullet bonds. It has been found that ⁇ -light rubber, which is a light-sensitive composition containing styrene-co-polymer, is excellent in W permeability and temperature balance, and has a high water-washing speed after light. Based on the above, the present invention has been completed.
  • At least one polymer block composed of a polymer having 95% by weight or more of an aromatic vinyl monomer as a constitutional unit and at least 2 OS amount% or more of a synergistic agent
  • At least one polymer block B composed of a conjugated gen-based polymer having a monomer as a constitutional unit and having a bulge bond content of 157-170% in the conjugated gen monomer unit portion is used.
  • Block copolymer having 20 to 65 parts by weight
  • an optical rubber slope having a laminated structure comprising a support and a layer of a photoluminescent composition formed on a main surface thereof.
  • the photosensitive composition of the present invention contains a block copolymer, a hydrophilic copolymer, a photopolymerizable ethylenically unsaturated monomer, and a photopolymerization initiator.
  • the block copolymer which is the first component of the photosensitive composition of the present invention, comprises a polymer block A composed of a polymer having an aromatic vinyl monomer as a main constituent unit, and a conjugated diene monomer.
  • a polymer conjugate B comprising a conjugated gen-based polymer having a vinyl conjugate content of 15 to 70% as a constituent unit and the conjugated gen monomer unit portion.
  • the polymer processor A constituting the block copolymer is a polymer having a unitary aromatic vinyl unit as a main constituent unit.
  • aromatic vinyl single polymer examples include styrene, ⁇ -methylstyrene, 0-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, 1,3-dimethylstyrene, vinyltoluene, chlorostyrene, vinylnaphthalene, Buranthracene and the like.
  • a single aromatic S-body Styrene is preferred.
  • the amount of the aromatic butyl monomer constituting the polymer block A is 95% by weight or more, preferably 9.9% by weight or more, based on all the single units constituting the polymer block A. .
  • the monomers other than the aromatic vinyl monomer constituting the polymer block A are not particularly limited.
  • the weight average molecule S of the polymer block A is usually from 3,000 to 200,000, preferably from 8,000 to 100,000.
  • the glass transition temperature of the polymer block A is usually 25 or more, preferably 50 or more.
  • the polymer block B constituting the block copolymer comprises a polymer having a conjugated diene monomer as an essential constituent unit. That is, the polymer block B is made of a homopolymer of a conjugated diene single S-form or a copolymer of a conjugated diene single-form and an ethylenically unsaturated unitary monomer copolymerizable therewith.
  • S of the conjugated genomic unit constituting the polymer block B is 20% by weight or more, preferably 40% by weight or more, based on all the monomer units constituting the polymer block B. More preferably, it is 70% by weight or more. If the content is less than 20% by weight, the sensitivity balance of the photosensitive rubber plate obtained using the photosensitive composition will be poor.
  • conjugated diene monomer examples include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene, and chloroprene. Of these conjugated diene monomers, butadiene and isoprene are preferred.
  • ethylenically unsaturated monomers copolymerizable with conjugated gen monomers include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, 1,3-dimethylstyrene, vinyl toluene, chlorostyrene, and virnaf Aromatic vinyl monomers such as taren and buruanthracene; methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, n-amyl acrylate, isoamyl acrylate, hexyl acrylate, Ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, hydroxyshethyl acrylate, hydroxypropyl acrylate, glycidyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate
  • Polymer block B is a polymer conjugated monomer unit
  • the weight of the metal bond is 15 to 70%, preferably 25 to 55%. If the content of the bullet stake is less than 15%, the transparency of S-light rubber sales will decrease, the strength balance will decrease, and the water washing speed will decrease. If it exceeds 70%, the viscosity of the light rubber decreases.
  • the vinyl bond content is defined as one of the conjugated diene monomers incorporated in the polymer block ⁇ in a 1,2-bonded, 3,4-bonded or 4-bonded bonding mode. These are conjugates of conjugated diene monomers incorporated in the 1, 2, and 3 and 4 bond modes.
  • the value of the Bull bond content is a value measured using a nuclear magnetic resonance apparatus.
  • the weight average molecular weight of the polymer block is usually from 5,000 to 500,000, preferably from 10,000 to 300,000.
  • the glass transition temperature S of the polymer block is 10 or less, preferably 0 or less.
  • the glass transition temperature is a value measured by TDC or the like for a polymer obtained by polymerizing a monomer composition constituting the polymer pro-V or ⁇ alone.
  • Block copolymers generally have an overall weight average molecular weight of 8,000-2,000. Million, preferably 18,000-1,000,000.
  • the weight-average molecular weight is measured using gel permeation chromatography (hereinafter, abbreviated as GPC) and converted to the molecular weight of standard polystyrene.
  • GPC gel permeation chromatography
  • the average molecular weight of polymer block A or B is determined by measuring the weight average molecular weight after each formation of polymer block A or B that constitutes the block copolymer, and the overlapping average molecular weight between each stage It was determined from the increase.
  • the block copolymer which is the first component of the photosensitive composition of the present invention, is not limited by the combination structure of the polymer block A and the polymer block B.
  • A is a polymer block A and B is a polymer block 8
  • X is a residue of a coupling agent or a polyfunctional ion polymerization initiator
  • n is 1 or more, preferably an integer of 1 to 5
  • m is 2 or more, preferably 2 to 5
  • the coupling agent include tin tetrachloride, silicon tetrachloride, epoxidized esters
  • the block copolymer used in the present invention can be usually obtained by polymerizing the single unit using a polymerization initiator such as an organolithium compound. Specifically, a monomer mixture mainly composed of a single unit of an aromatic bullet is superimposed to form a polymer process A, and a single unit containing a drawn conjugated diene monomer as an essential component The polymer mixture is added and polymerized to form a polymer block B which is in contact with the molecular terminal of the polymer block A, and then a single aromatic fibrous substance is added and the polymer block is laid on the base to form the polymer block. Forming another polymer block A that contacts school B, or forming polymer block A and polymer block B that comes into contact with it as described above, and then adding a coupling agent, etc. It can be obtained by the method.
  • a polymerization initiator such as an organolithium compound.
  • Bulle bond content of the polymer pro v click B » ⁇ is not limited by the means. Usually, a wax or seed of a polar compound used when polymerizing polymer Prop B is obtained. And by controlling the polymerization temperature and the like.
  • the bulk of the block copolymer in the photosensitive composition of the present invention is 20 to 65 parts by weight, preferably 25 to 25 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the block copolymer and the later hydrophilic copolymer S. It is about 55 parts by weight, more preferably 30 to 45 parts by weight. If the amount exceeds 65 parts by weight, the washing speed of the photosensitive rubber obtained using the photosensitive composition with water decreases. Conversely, if less than 20 parts by weight, the processability of the luminous composition and the water-based ink resistance of the photosensitive rubber JS are reduced.
  • the second component is a hydrophilic copolymer of the photosensitive composition of the present invention, as a pen Dan to its own molecular chain, primary OH groups, one COOH group, one CN group, one NHs group, one S0 3 H group
  • a hydrophilic group such as an SOsH group, a PO (OH) 2 group and a PO (OH)-group, and preferably an acid ester group such as a PO (OH) 2 group or a PO (OH)-group are those that combine.
  • the hydrophilic copolymer is usually obtained by radical copolymerization of an ethylenically unsaturated unit having a proteophilic group and a monomer copolymerizable therewith.
  • Ethylenically unsaturated monocarboxylic acids having a hydrophilic group include ethylenically unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid; and ethylenically unsaturated monocarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid and itaconic acid.
  • Polycarboxylic acids Partially esterified ethylenically unsaturated polycarboxylic acids, such as monoethyl maleate and pentamethyl methyl itaconate; Hydroxicetyl acrylate, Hydroxybutyl acrylate, Pill of methacrylic acid Droxityl, hydroxypropyl methacrylate; methyl cyanuric acid monomers such as methacrylotriyl and acrylonitrile; ethylene acrylate, trimethylene phthalate, acid prothrate Pyrene acrylate, tetramethylene diacrylate, »acid (bis) ethylene acrylate, « acid (bi ) Trimethylene acrylate, phosphoric acid (bis) tetramethylene acrylate, »Diethylene glycol acrylate, » Acid triethylene glycol acrylate, »Polyethylene glycol acrylate,» Acid Processes containing acid ester groups such as (bis) diethylene glycol acrylate, acid (bis) triethylene glycol
  • Ethylene having these hydrophilic groups Among the unsaturated unsaturated monomers, ethylenic unsaturated monoisomers containing an acid ester group, in particular, acid ethylene acrylate, acid propylene acrylate, puric acid (bis) ethylene phthalate, acid (bis) propylene Attalylate and the corresponding methacrylate are preferred.
  • S of the ethylenically unsaturated unit having a hydrophilic group is usually 5 to 30% by weight, preferably 5 to 20% by weight of all monomers used for obtaining the hydrophilic copolymer. %. If the content is less than 5% by weight, the water washing rate of the photosensitive rubber JK obtained using the photosensitive composition tends to decrease. If the content exceeds 30% by weight, the processability of the photosensitive composition and the water-based ink resistance of the photosensitive rubber tend to decrease.
  • Monomers that can be co-polymerized with the ethylenically unsaturated unit having a hydrophilic group include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, 1,3-dimethylstyrene, Aromatic mononuclear waxes such as toluene, black styrene, vinylnaphthalene, vinylanthracene, bieberbenzene, and triphenylbenzene; methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylate, and acrylyl Acid n-amyl, isoamyl acrylate, hexyl acrylate, ethyl hexyl acrylate, octyl acrylate, acrylic glycidyl, methyl methacrylate, methyl methacrylate Me
  • S-forms which can be co-mounted with a monomer having a hydrophilic group, in order to improve the criticality balance of the photosensitive rubber plate, a single conjugated gen, particularly 1,3-butadiene or isoprene Is preferably used.
  • Conjugation; S of the monomer is usually 40 to 90% by weight, preferably 50 to 80% by weight, based on the total unit used to obtain the hydrophilic copolymer. . If the amount is less than 40% by weight, the strength of the photosensitive rubber plate is reduced. 90 fold If it exceeds ⁇ %, the water washing speed of photosensitive rubber sales decreases.
  • a polyfunctional ethylenically unsaturated unit is preferably used.
  • the polyfunctional ethylenically unsaturated monomers include atrial acid esters of polyhydric alcohols such as ethylene glycol diatalate, trimethylol brondiate reatelate, and propylene glycol diacrylate, and corresponding methacrylic acid esters.
  • Multifunctional aromatic butyl monomers such as dibutylbenzene and tributylbenzene.
  • polyfunctional ethylenically unsaturated monomers ethylene glycol dimethacrylate or divinylbenzene is preferred.
  • the amount of the polyfunctional ethylenically unsaturated monomer is usually not more than 10% by weight of the total monomer used for obtaining the hydrophilic copolymer.
  • the hydrophilic copolymer used in the photosensitive composition of the present invention has a number average molecular weight of usually 10 or 0,0 from the viewpoint of improving the processability of the photosensitive composition and the strength of the photosensitive rubber. 0 to 500, 000, preferably 20, 000-200, 000. In addition, the number average molecular arrangement is measured by using GPC and converted to the molecular weight of standard polystyrene.
  • Examples of the photopolymerizable ethylenically unsaturated unit represented by the third component of the photosensitive composition of the present invention include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, and 1,3.
  • Monocyclic aromatic vinyls such as dimethylstyrene, butyltoluene, chlorostyrene, burnaphthalene, buruanthracene, divinylpentene, and tributylbenzene; and ethylene such as atalylutril and methacrylonitrile Insoluble trimethyl monomers; methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylate acrylate, n-amyl acrylate, isoamyl acrylate, acrylic acid Hexyl, ethyl acrylate hexyl, octyl acrylate, glycidyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, Provirtyl acrylate, n-amyl methacrylate, isoamyl methacrylate, hexyl methacrylate, ethyl hexyl methacrylate, octyl methacrylate,
  • Ethylenic unsaturated carboxylic acid ester monomer Ethylenic unsaturated glycidyl ether such as aryl glycidyl ether; 1,3-butadiene, isoprene, chloroprene, conjugated genomer such as 1,3-pentene Monomer; ethylenic amines such as acrylic acid and metathalilic acid Carboxylic acid; ethylenically unsaturated polyvalent carboxylic acid such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, and itaconic acid; ethylenically unsaturated polyvalent such as monoethyl maleate and monomethyl itaconate Carboxylic acid partial ester; ethylene phosphate acrylate, »trimethylene acrylate, propylene acrylate, j» tetramethylene acrylate, «acid (bis) ethylene acrylate, acid (Bis) trimethylene acrylate, phosphoric acid (bis) tetram
  • S of the photopolymerizable ethylenically unsaturated monomer is 5 to 300 parts by weight, preferably 10 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the block copolymer and the hydrophilic copolymer. It is a 200 0 overlapping part. If 5 parts by weight is not used, the curing of the photosensitive composition by the active light becomes insufficient, so that the strength of the IS light rubber JK decreases. Conversely, if the amount exceeds 300 parts by weight, the strength and solvent resistance of the photosensitive rubber plate decrease.
  • the photopolymerization initiator which is the fourth component of the photosensitive composition of the present invention, includes cr diketones such as diacetyl and benzyl; acetylenes such as benzoin and Vivatine; Acylone ethers such as methyl ether, benzoinethyl ether and benzoin isopropyl ether; polynuclear quinones such as anthraquinone and 1,4-naphthoquinone; and the like.
  • cr diketones such as diacetyl and benzyl
  • acetylenes such as benzoin and Vivatine
  • Acylone ethers such as methyl ether, benzoinethyl ether and benzoin isopropyl ether
  • polynuclear quinones such as anthraquinone and 1,4-naphthoquinone; and the like.
  • the amount of the photopolymerization initiator is from 0.1 to 10 parts by weight, preferably from 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the block copolymer and the hydrophilic copolymer. Department. If the amount is less than 0.1 part by weight, the curing of the light-sensitive composition by the active light becomes insufficient, so that the viscosity of the photosensitive rubber JK decreases. Conversely, if it exceeds 10 overlapping portions, the photopolymerization rate decreases.
  • the translucent composition of the present invention may further comprise, if necessary, a plasticizer; a storage stabilizer; an ozone-resistant agent; a styrene-butadiene random copolymer; Random copolymers such as tri-butadiene random copolymer, styrene-isoprene random copolymer, and methyl methacrylate-butadiene random copolymer; and homopolymers such as polybutadiene and polyisobrene; Can be mounted.
  • a plasticizer is provided to improve the plasticity of the photosensitive composition and uniformly mix and mold the first to fourth components.
  • plasticizer examples include hydrocarbon oils such as naphthenic oil and paraffin oil; polystyrene having a molecular weight of 300 or less; polyatalylate; liquid 1,2-bolybutadiene; liquid 1,4-polybutadiene; Liquid alcohol-tolyl-butadiene copolymers, liquid styrene-butadiene copolymers, and lipoxylated compounds thereof.
  • hydrocarbon oils such as naphthenic oil and paraffin oil
  • polyatalylate liquid 1,2-bolybutadiene
  • liquid 1,4-polybutadiene Liquid alcohol-tolyl-butadiene copolymers
  • liquid styrene-butadiene copolymers examples include lipoxylated compounds thereof.
  • a storage stabilizer is blended to improve the storage stability of the photosensitive composition.
  • Preservative stabilizers include phenols such as hydroquinone, pyrogallol, ⁇ -methoxyphenol, t-butylcatechol, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, and benzoquinone; benzoquinone, P-toluquinone And quinones such as p-xyloquinone; and amines such as phenyl ⁇ -naphthylamine.
  • the luminous composition of the present invention is usually kneaded using a kneader such as a kneader-roll mill to produce S3.
  • a kneader such as a kneader-roll mill to produce S3.
  • the order of kneading is not particularly limited, but, in order to obtain a uniform composition, after kneading the hydrophilic copolymer and the block copolymer, the photopolymerizable ethylenically unsaturated unit and the photopolymerization are mixed. It is preferred to add and knead with an initiator.
  • S is a photosensitive resin composition formed on the support and its main surface. It has a laminated structure composed of layers of objects.
  • the support is usually made of a portable film or sheet, and optionally has an undercoat layer made of »type JB or an adhesive or primer.
  • the support may be a flexible film such as a polyethylene terephthalate film, a polypropylene film, or a polyimide film; an elastic composition such as a natural rubber, a base rubber, or a soft vinyl chloride spore.
  • Examples of such sheets include polyethylene terephthalate, polyethylene propylene, and flexible sheets such as Polyimide.
  • a conventionally known method may be employed. For example, after the photosensitive composition is molded into a sheet using a molding machine such as an extruder, a breathing machine, or a calender, or simultaneously with the molding, the photosensitive composition is adhered to a support, or the photosensitive composition is used as a photosensitive composition.
  • a molding machine such as an extruder, a breathing machine, or a calender
  • the photosensitive composition is adhered to a support, or the photosensitive composition is used as a photosensitive composition.
  • Carbon tetrachloride, trichloroethane, methylethylketone, getylketone, benzene, toluene, tetrahydrofuran, etc. in which the above-mentioned first to fourth components are dissolved in a sheet-shaped frame mold.
  • the sheet is formed by injecting and then evaporating the solvent to form the sheet, or at the same time as forming, by adhering to the support.
  • a thin layer of a non-adhesive, water-soluble polymer be cast on the shoes of the photostimulable composition as a coating.
  • the above question S is solved by providing a thin layer of non-tacky water-soluble polymer.
  • a cover film can be further cast on the photosensitive rubber plate of the present invention.
  • the force bar film is made of a film of a flexible resin.
  • the cover film forms a protector film layer on the light-sensitive composition layer (on a thin layer of a water-soluble polymer when the thin layer is cast). On the surface of the cover film which comes into contact with the photosensitive composition JB, the separation SS may be lowered.
  • Cover films include polyethylene terephthalate film, polyethylene film, polypropylene film, and polyethylene film. Polystyrene film and the like can be mentioned.
  • the thickness of the film is usually from 75 to 200 wm, preferably from 100 to 150 um. At less than 75 // m, the film strength is insufficient, and the molded light rubber slope is easily deformed. Conversely, if it exceeds 200 zm, the film strength is too high, so that it is difficult to separate the film from B of the photosensitive composition.
  • a foam may be stacked on the surface of the support opposite to the surface on which the photosensitive composition layer is formed. By laminating the foam, the printing pressure during flexographic printing can be adjusted.
  • Aqueous developers usually consist of water, alcohol, aqueous or alcoholic solutions.
  • the aqueous solution include an alkaline aqueous solution such as an alkali metal salt and an alkaline earth metal salt, and an aqueous solution in which a surfactant or the like is dissolved.
  • an aqueous solution in which a surfactant is dissolved is preferable.
  • the opaque rubber plate is cut into small pieces of 3 OmmX 3 Omm, and the small pieces are heated at a concentration of 2% using a washing machine for photosensitive flexographic plates (J0W-As-SS type manufactured by JEOL Ltd.).
  • the time required for the small pieces to reach a thickness of 2 mm when washed with an aqueous solution of polyoxyethylene phenyl ether at a temperature of 50 degrees was calculated and indicated according to the lower princess standard.
  • a rating of A indicates the best water washability, and B to C to D indicate poor water washability. [transparency]
  • the photosensitive rubber was cut into a size of 3 Omm x 3 Omm to obtain a small piece, and the permeability of the small piece was measured using a Macbeth irrigation meter (through type). A smaller value indicates better transparency.
  • One side of the ffi-light rubber was exposed to light using a UV light device (JE-As-SS type manufactured by JEOL Ltd.) so that the thickness of the cured eyebrows was about 1.5 mm.
  • the polyester film on the non-exposed surface was peeled off, and a negative film for evaluating reproducibility was adhered to the surface, and the surface was exposed to light for 15 minutes using the ultraviolet exposure apparatus.
  • the negative film was peeled off, and the unexposed portions were dissolved and removed with a 2% aqueous solution of polyoxyethylene nonylphenyl ether at a temperature of 50%. Thereafter, the surface was dried at 70 for 20 minutes, and the surface from which the unexposed portions had been removed was re-lighted for 10 minutes using the above-mentioned ultraviolet exposure machine, thereby creating a relief image for evaluation of reproducibility.
  • the width of the convex fine line which is the same width as the negative film convex line and is reproduced without distortion and fatness, was measured. A smaller value indicates better convex fine line reproducibility.
  • the depth of the groove of the 0.7 mm wide concave fine line was measured. The larger the number, the better the concave fine line reproducibility.
  • the flat part of the rubber plate used for the evaluation of the relief image reproducibility was tested at the time of breaking under the conditions of a tensile speed of 500 mm / min and a line length of 20 mm in accordance with JISK-6301 “Tensile test method”.
  • the product of the degree and the elongation (tensile product) was determined. Larger tensile products indicate better strength balance.
  • Pro-V copolymer 3 was obtained in the same manner as in Reference Example 1, except that the amount of tetramethylethylenediamine used in Reference Example 1 was changed to 0.92 parts.
  • Pro-V copolymer was obtained in the same manner as in Reference Example 1 except that the amount of tetramethylethylenediamine used in Reference Example 1 was changed to 0.22 parts.
  • a block copolymer 5 was obtained in the same manner as in Reference Example 1, except that tetramethylethylenediamine used in Reference Example 1 was not used.
  • Table 1 shows the styrene content, butadiene content, S content in the butyl bond in buta-geneploc, and the weight average molecular weight of these block copolymers (1) to (4).
  • the measurement was performed using a 500 MHz H 1 —N MR.
  • This photosensitive composition is placed in a frame mold having a spacer thickness of 3. Omm and upper and lower sides with a B8 opening, and a 0.1 mm thick polyester film is coated above and below the opening of the frame mold.
  • Table 2 shows the evaluation results of this opaque rubber JK.
  • Comparative Example 2 has remarkably low water washability and transparency.
  • a photosensitive composition and a photosensitive rubber plate were obtained in the same manner as in Example 1 except that the hydrophilic copolymer or the block copolymer used in Example 1 was changed to the formulation shown in Table 2.
  • Table 2 shows the evaluation results of these photosensitive rubber plates.
  • the composition containing the styrene-butadiene-styrene block copolymer having a vinyl bond-containing weight of 10.3% (Comparative Example 1) was inferior in water washability, and had poor strength balance and image reproducibility. It turns out that it is low. Also, styrene-butadiene It can be seen that in the case of the composition (Comparative Example 2) in which the amount of at-copolymerization of styrene and s-block was 7% by weight, the water washability was significantly reduced.
  • the light-sensitive composition of the present invention containing a styrene-butadiene-styrene type block copolymer having a Bull bond content of 15 to 70 has high transparency, high balance, image reproducibility, and water washability. It turns out that it is excellent.
  • the photosensitive composition of the present invention containing the S— ⁇ —S block copolymer having a Bull bond content of 20 to 55%, transparency, strength balance, image reproducibility, and water washability are all improved. It turns out that it is excellent.
  • the photosensitive composition of the present invention is excellent in transparency and temperature balance and has a high water washing speed after light exposure, the negative film is brought into close contact with the light and irradiated with light for 18 light, and the unlighted portion is washed. It can be suitably used for flexographic printing who removes to form a relief.
  • the photosensitive composition of the present invention can wash and remove unexposed portions by aqueous dissolution, so that it is easy to treat the washing waste liquid after washing, and there is little environmental pollution.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

明細害 感光性組成物及び IS光性ゴム版 技術分野
本発明は、 感光性ゴム版及び想光性組成物に する。 さらに詳しくは、 透明性 及び ¾度バランスに優れ且つ感光後の水洗浄速度が速い感光性ゴム) S及びこれを 得るための感光性組成物に関する。
背景技術
フレキソ印刷 RSは、 感光性の版面にネガフ ィルムを密着させ、 活性光を照射し て ®光潛の一部分を K光した後、 未 Β光部分を洗浄除去してレリーフを形成する 方法により、 製造される。 また未露光部分の洗浄に用いる洗浄溶剤としては、 従 来の有機系溶剤から環境汚染の恐れの少ない水系溶剤へと転換されつつある。 このようなフレキソ印刷版のごとき ffi光性ゴム坂の ffl光層製材には、 光が感光 ほの深部まで到逮するための透明性に優れ、 被印 SI物への密着性と版自体の ¾度 とのバラ ンス (以下、 ¾度バランスということがある。 ) に優れ旦っ B光後のレ リーフ形成を容易にするために速い水洗挣速度が要求される。
感光層製材としては、 スチレン一ブタジエンブロ ック共重合体、 スチレンーィ ソプレンプロッ ク共重合体などの熱可塑性エラス トマー及び親水性共重合体を主 成分として、 これに光重合性エチレン性不始和単置体及び光重合開始剤を配合し た ffi光性エラス トマ一組成物が知られている。
しかし、 この感光性エラス トマ一組成物を用いた ffi光性ゴム版は、 透明性に劣 り、 強度バランスが悪く、 また感光後の水洗浄速度が遅い。
発明の開示
本発明は、 透明性及び ¾度バランスに優れ且つ感光後の水洗浄速度が速い感光 性ゴム版及びこれを得るための感光性組成物を提供することも目的とするもので ある。
本発明者らは、 上 E目的を逮成するために 1½意研究を重ね、 親水性共重合体及 び共役ジェン単量体単位部分のビュル結合含有量が多いスチレン一ブタ ジエン一 スチレン ¾ブ口 yク共重合体を配合した ¾光性組成物からなる β光性ゴム が透 W性、 ¾度バランスに優れ、 «光後の水洗挣速度が速いことを見いだし、 この知 見に基づき、 本発明を完成するに到ったのである。
かく して本発明によれば、 9 5重量%以上の芳香族ビュル単量体を構成単位と する重合体からなる重合体ブロック Αの少なく とも 1個と、 2 O S量%以上の共 役ジェン単量体を構成単位とし且つ該共役ジェン単璗体単位部分のビュル結合含 有釁が 1 5一 7 0 %である共役ジェン系重合体からなる重合体プロック Bの少な く とも 1個とを有するプロッ ク共重合体 2 0 ~ 6 5重量部、
親水性共重合体 3 5 ~ 8 0重量部 (但し、 プロ V ク共童合体と親水性共重合体 との合計量は 1 0 0重量部である。 ) 、
光重合性エチレン性不飽和単 S体 5 ~ 3 0 0重量部
及び光重台閧始剤 0. 1 ~ 1 0重置部を含有する感光性組成物が提供される。 また、 本発明によれば、 支持体とその主要面上に形成された前 光性組成物 の層とからなる積層構造の 光性ゴム坂が提供される。
発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明を詳細に説明する。
本発明の感光性組成物は、 ブロック共重合体、 親水性共重合体、 光重台性ェチ レン性不飽和単量体及び光重合開始剤を含有するものである。
本発明の感光性組成物の第 1成分であるプロック共重合体は、 芳香族ビュル単 量体を主構成単位とする重合体からなる重合体プロ ック Aと、 共役ジェン単量体 を必須構成単位とし且つ該共役ジェン単量体単位部分のビニル桔合含有置が 1 5 ~ 7 0 %である共役ジェン系重合体からなる重合体プロプ ク Bとを有するもので ある。
プロ ク共重合体を構成する重合体プロ サク Aは、 芳香族ビニル単置体を主構 成単位とする重合体からなるものである。
芳香族ビュル単重体としては、 スチレン、 α—メチルスチレン、 0—メチルス チレン、 mーメチルスチレン、 pーメチルスチレン、 p— t e r t一プチルスチ レン、 1, 3一ジメチルスチレン、 ビュル トルエン、 クロロスチレン、 ビニルナ フ タレン、 ビュルアン トラセン等が挙げられる。 これら芳香族ビュル単 S体のう ちスチレンが好適である。
重合体プロツク Aを構成する芳香族ビュル単量体の置は、 重合体プロ ック Aを 構成する全単置体単位に対して、 9 5重量%以上、 好ましくは 9 9重量%以上で ある。 重合体ブロッ ク Aを構成する芳香族ビニル単量体以外の単量体は特に限定 されない。
重合体ブロ ッ ク Aの重魔平均分子 Sは、 通常、 3 , 0 0 0 ~ 2 0 0 , 0 0 0、 好ましくは 8 , 0 0 0 - 1 0 0 , 0 0 0である。 また、 重合体ブロ ック Aのガラ ス転移温度は、 通常、 2 5て以上、 好まし くは 5 0 以上である。
プロ V ク共重合体を構成する重合体プロ ック Bは、 共役ジェン単量体を必須構 成単位とする重合体からなるものである。 すなわち、 重合体ブロック Bは共役ジ ェン単 S体の単独重合体又は共役ジェン単 5体とこれと共重合可能なエチレン性 不飽和単置体との共重合体からなるものである。
重合体プロック Bを構成する共役ジェン単釐体の Sは、 重合体プロック Bを構 成する全単量体単位に対して、 2 0重置%以上、 好ましくは 4 0重置%以上、 さ らに好ましくは 7 0重量%以上である。 2 0重量%未满では、 感光性組成物を用 いて得られる感光性ゴム版の ¾度バランスが悪くなる。
共役ジェン単量体としては、 1 , 3—ブタジエン、 イソプレン、 2 , 3—ジメ チルー 1, 3—ブタジエン、 1, 3一ペンタジェン、 1 , 3一へキサジェン、 ク ロロプレン等が挙げられる。 これら共役ジェン単量体のうち、 ブタジエン、 イ ソ プレンが好適である。
共役ジェン単置体と共重合可能なエチレン性不飽和単置体としては、 スチレン、 oーメチルスチレン、 mーメチルスチレン、 pーメチルスチレン、 p一 t e r t ーブチルスチレン、 1 , 3一ジメチルスチレン、 ビュル トルエン、 クロロスチレ ン、 ビュルナフ タレン、 ビュルアン トラセン等の芳香族ビュル単量体; アク リル 酸メチル、 アク リル酸ェチル、 アク リル酸プロビル、 アク リル酸 n—ァ ミル、 ァ ク リル酸イ ソァ ミル、 アク リル酸へキシル、 アク リル酸ェチルへキシル、 アタ リ ル酸ォクチル、 アク リ ル酸ヒ ドロキシェチル、 アク リル酸ヒ ドロキシプロビル、 アク リル酸グリ シジル、 メ タク リル酸メチル、 メ タク リル酸ェチル、 メ タク リル 酸プロビル、 メ タク リル酸 n—ァ ミ ル、 メ タク リル酸イ ソァ ミル、 メタク リル酸 へキシル、 メ タク リル酸ェチルへキシル、 メ タク リル酸ォクチル、 メ タク リル酸 ヒ ドロキシェチル、 メ タク リル酸ヒ ドロキシプロピル、 メ タク リル酸グリ シジル 等のエチレン性不飽和カルボン酸エステル単重体; メ タク リ 口- ト リル、 アタ リ 口-ト リル等のシアン化ビュル単量体; ァリルダリ シジルエーテル等のエチレン 性不飽和グリ シジルエーテル; アク リルア ミ ド、 メ タク リルアミ ド等のエチレン 性不飽和カルボン酸ァ ミ ド単量体; 塩化ビュル等のハロゲン化ビュル; 酢酸ビニ ル等のカルボン酸ビュルエステル; アタ リル酸、 メ タク リル酸等のェチレン牲不 始和モノ カルボン酸; マレイ ン酸、 フマル酸、 シ トラコン酸等のエチレン性不 ta 和多価カルボン酸; マレイ ン酸モノエチル、 ィ タコン酸モノ メチルなどのェチレ ン性不飽和多価カルボン酸の部分エステル化物などが挙げられる。 これらェチレ ン性不飽和単量体のうち芳香族ビュル単璗体、 特にスチレンが好適である。
重合体プロック Bは、 それを構成する重合体の共役ジェン単量体単位部分のビ
-ル結合含有重が 15〜70 %、 好ましくは 25~55%のものである。 ビュル 結台含有量が 15%未満のものでは、 S光性ゴム販の透明性が低下し、 強度バラ ンスが Sくなり、 また水洗浄速度が遅くなる。 70%を超えるものでは、 光性 ゴム饭の ¾度が低下する。
ビニル結合含有量は、 重合体ブロ ック Β中に、 1, 2—結合、 3, 4—結合ま たはし 4一結合の結合様式で組み込まれている共役ジェン単量体のうち、 1, 2ー桔台及び 3, 4—結合の結合様式で組み込まれた共役ジエン単量体の割台で ある。 ビュル結合含有置は核磁気共 ¾装置を用いて測定した値である。
重合体ブロ ッ ク Βの重量平均分子量は、 通常、 5, 000-500, 000、 好ましくは 10, 000~300, 000である。 重合体ブロ ッ ク Βのガラス転 移温 Sは 10て以下、 好まし くは 0て以下でぁ、る。
なお、 ガラス転移温度は重合体プロ Vク Αまたは Βを構成する単量体の組成物 を単独で重合して得られた重合体を TD C等で測定した値である。
重合体ブロ ッ ク Aと重合体ブロ ッ ク Bとの重置比は、 通常、 (重合体ブロッ ク AZ重合体ブロ ック B=) 5Z95~95/5、 好ましくは 10/90~90/ 10、 さらに好ましくは 15/85~75/25である。
ブロ ッ ク共重合体は、 その全体の重置平均分子量が、 通常、 8, 000-2, 000, 000好まし くは 1 8, 000— 1, 000, 000のものである。 なお、 本発明において重量平均分子量はゲルパーミエーシ《ンクロマ トグラフ ィー (以下、 略して、 GPCという。 ) を用いて測定し、 標準ボリスチレンの分 子量に換算した健である。 重合体プロック Aまたは Bの 平均分子量はプロ V ク共重合体を構成する重合体プロッ ク Aまたは Bを形成した後毎に重量平均分子 量を測定し、 各段搭間の重置平均分子置の増加分から求めた。
本発明感光性組成物の第 1成分であるプロつク共重合体は、 重合体プロック A と重合体ブロ ッ ク Bとの組合せ構造によって限定されず、 例えば、 一般式 (A— Β) π - A、 (A - B) n— A - B、 B - ( A - B) π— A - B、 (A - B) « - X、 ( (A - B) n - A) , - X、 (Β - Α - (Β - Α) π) κ—Χ、 (Β - Α - (Β - A) π-Β) »-X (但し式中、 Aは重合体プロック A、 Bは重合体プロ ック8、 Xはカップリ ング剤又は多官能イ オン重合開始剤の残基、 nは 1以上、 好まし く は 1~5の整数、 mは 2以上、 好まし くは 2~5の整数である。 カップリ ング剤 と しては四塩化スズ、 四塩化ケィ素、 エポキシ化エステル、 ポリ ビュル化合物、 カルボン酸エステル、 ポリハロゲン化炭化水素などが挙げられ、 多官能イ オン重 合開始剤としては多官能有機リチウム化合物などが挙げられる。 ) で表されるも のが挙げられる。 これらのうち一般式 A— B— Aで表される構造のものが好まし い。
本発明に用いるブロ ック共重合体は、 通常、 有機リチウム化合物等の重合開始 剤を用い、 上記単置体を重合することによって得ることができる。 具体的には、 芳香族ビュル単置体を主成分とする単量体混合物を重台して重合体プロ Vク Aを 形成し、 引絞き共役ジェン単量体を必須成分とする単置体混合物を添加し重合し て重合体プロッ ク Aの分子末端に接铰する重合体プロ ック Bを形成した後、 さら に芳香族ビュル単 fi体を添加し重台して前記重合体プロッ ク Bに接校する別の重 合体ブロ ック Aを形成するか、 または前記のごと く重合体プロッ ク Aとこれに接 接する重合体プロック Bを形成した後、 カツプリング剤を添加するなどの方法に より得ることができる。
重合体プロ v ク Bのビュル結合含有量の »螯は、 その手段により限定されない。 通常、 重合体プロプク Bを重合して得る際に使用する極性化合物の臘もしくは種 類、 重合温度などを制御することにより行う。
本発明感光性組成物におけるプロ ック共重合体の釐は、 ブロック共重合体と後 紀親水性共 S合体との合計量 100重量部のうち、 20~65重量部、 好まし く は 25~55重量部、 さらに好まし くは 30~45重量部である。 65重臘部を 超えると感光性組成物を用いて得られる感光性ゴム饭の水洗浄速度が低下する。 逆に 20重量部未满では ffi光性組成物の加工性及び感光性ゴム JSの水性ィンキ耐 性が低下する。
本発明の感光性組成物の第 2成分である親水性共重合体は、 その分子鎖にペン ダン トとして、 一 OH基、 一 COOH基、 一 CN基、 一 NHs基、 一 S03H基、 一 SOsH基、 一 PO(OH)2基、 一 PO(OH)—基などの親水基、 好適には一 P 0(OH)2基、 一 PO(OH)—基のごとき «酸エステル基を有するものが結合し ているものである。
親水性共重合体は、 通常、 前紀親水基を有するエチレン性不 ta和単置体とこれ と共重合可能な単量体とをラジカル共重合して得る。
親水基を有するエチレン性不飽和単置体としては、 アクリル酸、 メタク リル酸 等のエチレン性不飽和モノ カルボン酸; マレイ ン酸、 フマル酸、 シ トラコン酸、 イ タコン酸等のェチレン性不飽和多価カルボン酸; マレイ ン酸モノエチル、 イ タ コン酸 ¾ノメチルなどのェチレン性不 ta和多価カルボン酸の部分エステル化物; アクリル酸ヒ ドロキシェチル、 ァク リル酸ヒ ドロキシブ口 ピル、 メタタ リル酸ヒ ドロキシェチル、 メ タク リル酸ヒ ドロキシプロビル; メ タク リ ロュ ト リル、 ァク リ ロニ ト リル等のシアン化ビュル単量体; «酸エチレンァクリレー ト、 燒酸ト リ メチレンアタ リ レー ト、 酸プロ ピレンアタリ レー ト、 ¾酸テト ラメチレンァク リ レー ト、 »酸 (ビス) エチレンアタ リ レー ト、 «酸 (ビス) ト リ メチレンァク リ レー ト、 燐酸 (ビス) テ ト ラメチレンァク リ レー ト、 »酸ジエチレングリ コー ルアタ リ レー ト、 «酸ト リエチレングリ コールァク リ レー ト、 »酸ポリ エチレン グリ コールアタ リレー ト、 »酸 (ビス) ジエチレングリ コールアタリレー ト、 酸 (ビス) ト リエチレングリ コールアタリ レー ト、 燦酸 (ビス) ポ リエチレング リ コールアタ リ レート及びこれらに対応するメタク リ レー ト等の »酸エステル基 含有工チレン性不 ta和単量体などが挙げられる。 これら親水基を有するエチレン 性不飽和単重体のうち、 «酸エステル基含有エチレン性不飽和単置体、 特に 酸 エチレンァク リ レー ト、 酸プロピレンァク リ レー ト、 煉酸 (ビス) エチレンァ タ リ レー ト、 酸 (ビス) プロピレンアタ リ レー ト及びこれらに対応するメタク リ レートが好適である。
親水基を有するエチレン性不飽和単置体の Sは、 親水性共重合体を得るために 用いる全単量体の、 通常、 5〜3 0重量%、 好まし くは 5 ~ 2 0重置%である。 5重量%未满では、 感光性組成物を用いて得られる感光性ゴム JKの水洗浄速度が 低下する^向になる。 3 0重量%を超えると感光性組成物の加工性、 感光性ゴム 販の水性ィ ンキ耐性が低下する傾向になる。
親水基を有するエチレン性不跑和単置体と共重台可能な単量体としては、 スチ レン、 oーメチルスチレン、 mーメチルスチレン、 p—メチルスチレン、 p一 t e r t ーブチルスチレン、 1, 3一ジメチルスチレン、 ビュル トルエン、 クロ口 スチレン、 ビュルナフタレン、 ビニルアン ト ラセン、 ジビエルベンゼン、 ト リ ビ -ルベンゼン等の芳香族ビュル単臘体; アタリル酸メチル、 ァク リル酸ェチル、 アク リル酸プロ ビル、 アク リル酸 n —ァ ミ ル、 アク リル酸イ ソァ ミル、 アク リ ル 酸へキシル、 アク リル酸ェチルへキシル、 アク リル酸ォクチル、 アク リル ¾グリ シジル、 メ タク リル酸メチル、 メ タク リル酸ェチル、 メ タク リル酸プロ ビル、 メ タク リル酸 n—ァミル、 メ タク リル酸イ ソァミル、 メ タク リル酸へキシル、 メ タ ク リル酸ェチルへキシル、 メ 夕ク リル酸ォクチル、 メ タク リル酸グリ シジル、 ェ チレングリ コールジァク リ レート、 ト リ メチロールブロノ、 *ン ト リ アタ リ レー ト、 プロピレングリ コールジァク リ レー ト等のェチレン性不始和カルボン酸エステル 単量体; ァリルグリ シジルエーテル等のェチレン性不 13和グリ シジルエーテル; 1 , 3一ブタジエン、 イ ソプレン、 クロ口プレン、 1 , 3一ペンタジェン等の共 役ジェン単置体などが挙げられる。
親水性基を有する単量体と共重台可能なこれら単 S体のうち、 感光性ゴム版の 致度バランスを向上させるために、 共役ジェン単置体、 特に 1 , 3—ブタジエン 又はイ ソプレンが好適に用いられる。 共役ジェ; /単量体の Sは、 親水性共重合体 を得るために用いる全単置体の、 通常、 4 0 ~ 9 0重量%、 好まし くは 5 0 ~ 8 0重量%である。 4 0重量%未満では、 感光性ゴム版の強度が低下する。 9 0重 鱖%を超えると感光性ゴム販の水洗浄速度が低下する。
また、 s光性組成物の加工性を Ηめ、 ®光性ゴム) κの透明性及び ¾度を高くす るために、 多官能エチレン性不 ta和単置体が好適に用いられる。 多官能エチレン 性不飽和単量体としてはエチレングリ コールジアタ リレー ト、 ト リメチロールブ ロバン ト リアタ リ レー ト、 プロピレングリ コールジァクリ レート等の多価アルコ ールのアタリル酸エステル友び対応するメ タク リル酸エステル; ジビュルべンゼ ン、 ト リ ビュルベンゼン等の多官能の芳香族ビュル単量体が挙げられる。 この多 官能エチレン性不飽和単量体のうちェチレングリ コールジメタク リ レー ト又はジ ビニルベンゼンが好ましい。 多官能エチレン性不 ta和単量体の量は、 親水性共重 合体を得るために用いる全単重体の、 通常、 1 0重置%以下である。
本発明の感光性組成物に用いる親水性共重合体は、 感光性組成物の加工性及び 感光性ゴム氓の強度を向上させる観点から、 その数平均分子置が、 通常、 1 0 , 0 0 0〜5 0 0 , 0 0 0、 好まし くは 2 0 , 0 0 0 - 2 0 0 , 0 0 0のものであ る。 なお、 数平均分子置は、 G P Cを用いて測定し、 標準ポリスチレンの分子量 に換算した敏である。
本発明の感光性組成物の第 3成分である光重合性エチレン性不飽和単置体とし ては、 スチレン、 o—メチルスチレン、 mーメチルスチレン、 p—メチルスチレ ン、 p— t e r tーブチルスチレン、 1 , 3一ジメチルスチレン、 ビュル トルェ ン、 クロロスチレン、 ビュルナフタレン、 ビュルアン ト ラセン、 ジビニルペンゼ ン、 ト リ ビュルベンゼン等の芳香族ビニル単置体; 、 アタ リ ロュ ト リル、 メタク リ ロ二 ト リル等のェチレン性不 ta和二 ト リル単量体; ァク リル酸メチル、 ァク リ ル酸ェチル、 アク リル酸プロ ビル、 アク リ ル酸 n—ァ ミル、 アク リル酸イ ソア ミ ル、 アク リル酸へキシル、 アク リル酸ェチルへキシル、 アク リル酸ォクチル、 ァ ク リル酸グリ シジル、 メ タク リル酸メチル、 メ タク リル酸ェチル、 メ タ ク リル酸 プロビル、 メ タク リル酸 n—ァミル、 メ タク リル酸ィ ソァ ミル、 メ タク リル酸へ キシ 、 メ 夕ク リル酸ェチルへキシル、 メ タク リル酸オタチル、 アク リル酸ヒ ド 口キシェチル、 アク リル酸ヒ ドロキシブ口 ビル、 メ タク リル酸ヒ ドロキシェチル、 メ タク リル酸ヒ ドロキシブ口 ビル、 メ タク リル酸グリ シジル、 エチレングリ コー ルジァク リ レー ト、 ト リメチロールプロパン ト リァクリレー ト、 1 , 4一ブタン ジオールジアタ リ レー ト、 1 , 4一ブタンジオールジメ タク リ レー ト、 プロピレ ングリ コールジアタ リ レー ト、 1 , 6—へキサンジオールジアタ リ レー ト、 1 , 6—へキサンジオールジメ タタ リ レー ト、 メ トキジエチレングリ コールアタリ レ ー ト、 メ トキシプロピレングリ コールメ タ歹リレー ト、 メ トキシエチレングリ コ ールメ タタ リ レー ト、 メ トキシプロ ピレングリ コールアタ リ レー ト、 マレイ ン酸 ジェチル、 ィ タコン酸ジメチル等のェチレン性不飽和カルボン酸エステル単量体 ; ァリルグリ シジルエーテル等のエチレン性不飽和グリ シジルエーテル; 1 , 3 一ブタジエン、 イ ソプレン、 クロ口プレン、 1, 3—ペン夕ジェン等の共役ジェ ン単量体; ァク リル酸、 メ タタリル酸等のエチレン性不 ta和モノ カルボン酸; マ レイ ン酸、 フマル酸、 シ ト ラ コン酸、 ィ タ コン酸等のエチレン性不飽和多価カル ボン酸; マレイ ン酸モノエチル、 ィ タコン酸モノメチルなどのエチレン性不飽和 多価カルボン酸の部分エステル化物; 燐酸エチレンァクリ レー ト、 »酸ト リ メチ レンァク リレー ト、 酸プロ ピレンアタ リ レー ト、 j»酸テ トラメチレンアタリ レ ー ト、 «酸 (ビス) エチレンアタ リ レー ト、 酸 (ビス) ト リ メチレンアタ リ レ ー ト、 燐酸 (ビス) テ トラメチレンアタ リ レー ト、 酸ジエチレンダリ コールァ ク リ レー ト、 «酸ト リエチレングリ コールァクリレー ト、 酸ボ リエチレンダリ コールァク リ レート、 燐酸 (ビス) ジエチレングリ コールアタ リ レー ト、 燐酸 ( ビス) ト リエチレングリ コールアタ リ レー ト、 酸 (ビス) ポリ エチレングリ コ 一ルァク リレー ト及びこれらに対応するメ タクリレー ト等の燐酸エステル基含有 エチレン性不飽和単量体などが挙げられる。 これら光重合性ェチレン性不 ta和単 置体は適宜組み合わせて使用することができる。 これら光重合性エチレン性不 ta 和単量体のうち、 ジアタリ レートまたはジメタタリ レートが好ましい。
光重合性エチレン性不飽和単量体の sは、 プロック共重合体と親水性共重合体 との合計量 1 0 0重量部に対して、 5〜3 0 0重量部、 好ましくは 1 0 ~ 2 0 0 重置部である。 5重量部未滴では活性光による感光性組成物の硬化が不十分とな るため、 IS光性ゴム JKの強度が低下する。 逆に 3 0 0重量部を超えると感光性ゴ ム版の強度及び耐溶剤性が低下する。
本発明の感光性組成物の第 4成分である光重合開始剤としては、 ジァセチル、 ベンジル等の crージケ トン; ベンゾイ ン、 ビバ口ィ ン等のァシロイ ン; ベンゾィ ンメチルエーテル、 ペンゾイ ンェチルエーテル、 ベンゾイ ンイ ソブロピルエーテ ル等のァシロイ ンエーテル; アン トラキノ ン、 1 , 4一ナフ トキノ ン等の多核キ ノ ン ; などが挙げられる。
光重合開始剤の量は、 ブロ ツク共重合体と親水性共重合体との合計量 1 0 0重 置部に対して、 0. 1 ~ 1 0重量部、 好ましくは 0. 5 ~ 5重重部である。 0. 1重量部未满では活性光による ¾光性組成物の硬化が不十分となるため、 感光性 ゴム JKの ¾度が低下する。 逆に 1 0重置部を超えると光重合速度が低下する。 本発明の慼光性組成物には、 必要に応じて前 ε第 1 ~ 4成分以外に、 可塑剤; 保存安定剤; 耐オゾン性剤; スチレン一ブタジエンランダム共重合体、 ァク リ ロ 二 ト リル一ブタ ジエンランダム共重合体、 スチレン一イ ソプレンランダム共重合 体、 メタク リル酸メチループタジェンランダム共重合体等のランダム共重合体; ボリブタジエン、 ボリイソブレン等の単独重合体; を配台することができる。 感光性組成物の可塑性を向上させ第 1 ~ 4成分を均一に混合し成型するために 可塑剤を配台する。 可塑剤としてはナフテン油、 パラフィ ン油等の炭化水素油; 分子置 3 0 0 0以下のポリスチレン; ポリアタリレー ト ; 液状 1 , 2—ボリブタ ジェン、 液状 1, 4一ボリ ブタジエン及びそれらの末端変性物; 液状アタ リ 口 - ト リル一ブタジエン共重合体、 液状スチレン一ブタジエン共重合体及びこれらの 力ルポキシル化物などが挙げられる。
また感光性組成物の保存安定性を Wめるために保存安定剤を配合する。 保存安 定剤と してはヒ ドロキノン、 ピロガロール、 ρ—メ トキシフ ノール、 t一プチ ルカテコール、 2, 6—ジー t ーブチルー p—クレゾール、 ベンゾキノ ン等のフ ノール; ベンゾキノ ン、 P - トルキノ ン、 p—キシロキノ ン等のキノ ン; フ エ 二ルー α—ナフチルァ ミ ン等のア ミ ンなどが挙げられる。
本発明の ffi光性組成物は、 通常、 ニーダーゃロールミルなどの混練機を用いて 混練して S3製する。
混練の顒序は、 特に限定されないが、 均一な組成物を得るために、 親水性共重 合体とブロック共重合体とを混練した後、 光重合性エチレン性不 ½和単置体と光 重合開始剤とを添加して混練するのがよい。
本発明の想光性ゴム) Sは、 支持体とその主要面上に形成された前 E感光性組成 物の層とからなる積層構造のものである。
支持体は、 通常、 可携性フ ィルム又はシートからなり、 必要に応じて »型 JB又 は接着剤もしくはプライマーからなる下塗り層を有する。 この支持体としては、 ポ リエチレンテレフタレー ト フィルム、 ポリプロピレンフ ィルム、 ポリイ ミ ドフ イルム等の可撓性フ ィルム; 天然ゴム、 台成ゴム、 軟質塩化ビニル樹胞等の弾性 体状組成物を裹貼したポリエチレンチレフ タレー ト製、 ボ リ プロ ピレン製、 ボ リ ィ ミ ド »等の可摟性シ一トなどが挙げられる。
支持体の主要面に感光性組成物の雇を形成するには、 従来公知の方法を採用す ればよい。 例えば、 感光性組成物を押出機、 ブレス機、 カレンダーなどの成形機 を用いてシー ト状に成形した後もしくは成形と同時に、 支持体に接着するか又は 感光性組成物と してクロ口ホルム、 四塩化炭素、 ト リ クロロェタン、 メチルェチ ルケ ト ン、 ジェチルケ トン、 ベンゼン、 トルエン、 テ トラ ヒ ドロフランなどの溶 媒に前記第 1〜4成分を溶解させたものを、 シート状枠型の中に注入し、 次いで 溶媒を蒸発させシートを成形した後もし くは成形と同時に、 支持体に接着するか などして形成する。
本発明の感光性ゴム版には、 想光性組成物の履の上に被覆雇として非粘着性の 水溶性ポリマーの薄眉を投けることが好ましい。
感光性組成物層の表面は、 通常、 粘着性が迪いので、 その表面に直接原画フ ィ ルムを貼ると、 感光性組成物と展画フ ィルムとの間に気泡が入り込み、 活性光の 乱屈折が起きて、 ®光層の露光、 硬化が進まず、 結果としてレリーフの再現性が 悪化するうえ、 感光性組成物賵表面に粘着してしまった原画フィルムを傷を付け ずに釗すことは難しいので再利用ができないという問題が生じることがある。 非 粘着性の水溶性ボリマーの薄眉を設けることにより、 上 Ε問 Sが解消される。 本発明の感光性ゴム版には、 さらにカバーフ ィルムを投けることができる。 力 バーフ ィルムは可摟性樹脂のフィルムからなるものである。 カバーフ ィルムは感 光性組成物層の上に (水溶性ポリマーの薄層を投げた場合は該薄層の上に) プロ テクターフ ィルム層を形成するものである。 カバーフ ィルムの感光性組成物 JBと 接触する面には離 SSを俯えてもよい。 カバーフ ィルムとしては、 ボリ エチレン テレフタ レー ト フ ィルム、 ポ リエチレンフ ィルム、 ポリ プロピレンフ ィルム、 ポ リ スチレンフ ィルム等が挙げられる。
フ ィルムの厚さは通常、 75~200wm、 好ましくは 100~150 umで ある。 75 //m未满ではフ ィルム ¾度が不足し、 成形した ®光性ゴム坂が変形し やすい。 逆に 200 zmを超えるとフイルム強度が ¾すぎるので感光性組成物の Bからのフ ィルムの剝離が困難になる。
本発明の慼光性ゴム饭には、 支持体の、 感光性組成物層が形成されている面と は反対の面に発泡体を積眉してもよい。 発泡体積層によりフレキソ印刷時の印圧 を »整することができる。
本発明の感光性ゴム版は水洗浄性に優れているので、 水系現像剤によりレリー フ形成を容易に行うことができる。 水系現像剤は、 通常、 水、 アルコール、 水溶 液またはアルコール溶液から構成される。 水溶液としては、 アルカリ金厲塩、 ァ ルカリ土類金属塩などのアルカリ性の水溶液や、 界面活性剤などを溶解した水溶 液などが挙げられる。 これら水系現像剤のうち、 界面活性剤を溶解した水溶液が 好適である。
次に実施例により本発明をさらに詳細に锐明するが、 本発明はこれらの例によ つてなんら限定されるものではない。 なお、 実施例、 比較例中の部及び%は特に 断わりのない限り重量基準である。
感光性組成物及び ffi光性ゴム版の評価は、 下 Eの試 »法に基づいて行った。
[水洗浄性]
惑光性ゴム版を 3 OmmX 3 Ommの小片に裁断し、 この小片を、 感光性フレ キソ版用洗出機 (日本電子精機製 J 0W— As— S S型) を用いて濃度 2%、 温 度 50 のポリ ォキシエチレンノュルフ ニルエーテル水溶液で洗浄したときの 小片の厚みが 2 mmに到達するまでの時間を求め、 下妃の基準により表示した。
A: 8分未满である。
B: 8分以上 1 1分未满である。
C: 1 1分以上 1 4分未满である。
D: 14分以上である。
評点 Aが最も水洗浄性に優れていることを示し、 B~C〜Dの顒に水洗浄性に 劣っていることも示す。 [透明性]
感光性ゴム販を 3 OmmX 3 Ommの大きさに裁断し小片を得、 この小片につ いて、 マクベス灌度計 (透通型) を用いて透過漠度を測定した。 数値が小さい方 が透明性に優れていることを示す。
[レリーフ画像の再現性]
ffi光性ゴム «の一方の面を、 紫外線 »光機 (日本電子精機製 J E-As- S S 型) を用いて、 硬化眉の厚さが 1. 5mm程度になるように露光した。 次に、 露 光していない面のボリエステルフィルムをはがし、 再現性評価用のネガフ イルム を表面に密着させて、 この面を、 前記紫外線露光機を用いて 15分閟 »光した。 ネガフ ィルムをはがし、 濃度 2%、 温度 50 のポ リ オキシエチレンノユルフ ェ ュルエーテル水溶液で未露光部分を溶解除去した。 その後、 70 で 20分乾燥 し、 未露光部分が除去された面を前記紫外線露光機を用いて 10分間再 光して、 再現性轷価用のレリーフ画像を作成した。
このレ リーフ画像を、 50倍の実体顕微鏡で観察し、 下記の基準により評価し た《
①凸細線再現性
ネガフ ィルムの凸細線と同一幅で、 歪み、 太りがなく再現されている凸細線の «低幅を測定した。 数値が小さい方が凸細線再現性に優れていることを示す。
©0. 7mm幅凹細線再現性
0. 7 mm幅凹細線の溝の深さを測定した。 数破が大きい方が凹細線再現性に 優れていることを示す。
[¾度バランス ]
レリーフ画像再現性の評価に用いたゴム劂版の平面部を J I S K— 6301 「引張試 ¾方法」 に準拠して、 引張速度 500mm/分、 樣線距離 20mmの条 件で、 破断時における引 ¾¾度と伸びとの積 (抗張積) を求めた。 抗張積の値が 大きい方が強度バランスに優れていることを示す。
(プロ ッ ク共重合体の纜製)
参考例 1
予め窒素置換したステンレス製の損拌機付き重合缶に脱水精製シクロへキサン 2300部、 テ トラメチルエチレンジァミ ン 0. 4部及び n一ブチルリチウム 0. 8部を仕込み、 次いでスチレン 1 00部を添加して 70でで 1時間重合した。 そ の後、 重合缶内を 70 に保ったまま 1, 3—ブタジエン 800部を 1時 181かけ て添加し、 添加終了後さらに 30分間重合し、 次いで、 スチレン 1 00部を添加 して、 70 で 1時間重合し、 最後にメ タノール 0. 05部を添加してプロプ ク 共重合体溶液を得た。
この溶液に 2, 6—ジー t e r t—プチルー 4ーメチルフ Xノール 5部及びト リ スノニルフエ -ルホスフ ート 5部を添加し、 スチーム J8固法にて溶媒を除去 し、 さらに真空乾燥機を用いて水分を除去してプロ ク共重合体①を得た。
参考例 2
予め窒素置換したステンレス製の «拌«付き重台缶に説水精製シクロへキサン 2300部、 テ ト ラメチルエチレンジァ ミ ン 0. 75部及び n—プチルリチウム 1. 2 1部を仕込み、 次いでスチレン 200部を添加して 70でで 1時間重合し た。 その後、 重合缶内を 70てに保ったまま 1, 3—ブタジエン 800部を 1時 間かけて添加し、 添加終了後さらに 30分間重合し、 次いでパラジブロムべンゼ ン 1. 6部を添加して、 70てで 2時間反応し、 最後にメ タノール 0. 08部を 添加してブロ ッ ク共重合体溶液を得た。 この溶液に 2, 6—ジー t e r t—プチ ルー 4ーメチルフ X ノール 5部及びト リスノュルフ;《 -ルホスフ ート 5部を添 加し、 スチーム «固法にて溶媒を除去し、 さらに真空乾爆機を用いて水分を除去 してプロ Vク共重合体②を得た。
参考例 3
参考例 1において使用したテ トラメチルエチレンジアミ ンの量を 0. 92部に 変えた以外は参考例 1 と同様にして、 プロ Vク共重合体③を得た。
参考例 4
参考伢 1において使用したテ ト ラメチルエチレンジァミ ンの量を 0. 22部に 変えた以外は参考例 1 と同様にして、 プロ Vク共重合体④を得た。
参考例 5
参考例 1において使用したテ トラメチルエチレンジアミ ンを使用しなかった以 外は参考例 1 と同様にして、 ブロ ッ ク共重合体⑤を得た。 これらのブロ ック共重合体①〜⑤のスチレン含有量、 ブタジエン含有量、 ブタ ジェンプロック中のビュル結合含有 S及び重量平均分子量を表 1 に示した。
(親水性共重合体の》製)
参考例 6
オートクレープに、 水 2 0 0部を仕込み、 次いでブタジエン 6 0部、 メチルァ ク リ レー ト 9部、 憐酸エチレンメ タタ リ レー ト 2 0部、 スチレン 1 0部、 ジビニ ルペンゼン 1部、 ドシルベンゼンスルホン酸ナ ト リ ウム 4部、 過礞酸カ リ ウム 0. 3部及び tー ドデシルメルカブタン 0. 4部を添加し 5 0 に加熱して重合反応 を開始し、 重合転化率が 9 5 %に逮した時点で停止剤を添加して反応を終了し、 水冷して重合体のェマルジ β ンを得た。 このェマルジ 8 ンを 0. 7 % N—モノ ( ポリオキシエチレン) ドデシルァミ ン水溶液に添加し «固させ、 得られたクラム を分離し、 水洗し、 股水し、 さらに 6 0でで真空乾燥して数平均分子量 1 0 0 , 0 0 0の親水性共重合体を得た。
表 1
Figure imgf000018_0001
注 1 ) ブタジエン重合体ブロ ッ ク中のビニル結合含有重:
500MH zの H1— N MRを用いて測定した。
2 ) GP C測定によるポリ スチレン換算の重量平均分子量 (X I 04) ブロ ック Aの値は両サイ ドに桔合するものの平均値である。 実施例 1
参考例 6で得られた親水性共重合体 65部、 ブロ ック共重合体① 35部、 液状 ポ リ ブタジエン (日本曹逮製二 -ノ ソー PB、 B I O O O) 50部及び 2, 6—ジ 一 t一プチルー P—クレゾール 0. 2部をニーダーを用いて 1 50てで均一にな るまで混練した後、 ニーダー温度を 1 20てに下げ、 1, 6—へキサンジオール ジアタ リ レー ト 10部、 1, 6—へキサンジオールジメ タク リ レー ト 5部、 ベン ゾイ ンメチルエーテル 1部及びメチルハイ ドロキノ ン 0. 02部を添加してさら に混練し慼光性組成物を得た。
この感光性組成物をスぺーサー厚み 3. Ommで、 上下が B8口した枠金型に入 れ、 枠金型の開口部の上下に厚さ 0. 1 mmのポリ エステルフ ィルムを被 ¾し、 ブレス加工機を用いて 1 1 0〜 1 30で、 1 50 k 8Γ f で加熱加圧後、 冷却して, 餘厚み 3. Ommの感光性ゴム JKを得た。 この惑光性ゴム JKの評 «結果を表 2に 示す。 表 2
Figure imgf000019_0001
注) 比較例 2は水洗浄性及び透明性が著しく低いので
画像再現性及び ¾度バランスの評価を行なわなかった《 実施例 2~5及び比較例 1 ~2
実施例 1において使用した親水性共重合体又はプロ ック共重合体を表 2に示す 処方に変えた他は実施例 1 と同様にして感光性組成物及び感光性ゴム版を得た。 これらの感光性ゴム版の評価結果を表 2に示す。
以上より、 ビニル結合含有重が 1 0. 3%のスチレン一ブタジエン一スチレン 型プロッ ク共重合体を配合した組成物 (比較例 1 ) では、 水洗浄性に劣り、 強度 バランス及び画像再現性が低いことがわかる。 また、 スチレン一ブタジエンース チレン sブロ プク共 at合体の量が 7 o重量%の組成物 (比較例 2 ) では水洗浄性 が著しく低下することがわかる。
—方、 ビュル結合含有量が 1 5 ~ 7 0 のスチレン一ブタジエン一スチレン型 ブロック共重合体を配合した本発明 光性組成物では、 透明性、 ¾度パランス、 画像再現性及び水洗浄性に優れていることがわかる。
特に、 ビュル結合含有置が 2 0 ~ 5 5 %の S— Β— Sプロック共重合体を配合 した本発明感光性組成物では、 透明性、 強度バランス、 画像再現性及び水洗浄性 のすべてにおいて優れていることがわかる。
産業上の利用可能性
本発明の感光性組成物は、 透明性及び ¾度バランスに優れ且つ ¾光後の水洗浄 速度が早いので、 ネガフ ィルムを密着させて光を照射して 18光させ、 未 »光部分 を洗浄除去してレ リーフを形成するフレキソ印刷氓に好適に利用することができ る。 また、 本発明の感光性組成物は水系溶剂によって未 »光部分の洗挣除去が可 能であるので、 洗浄後の洗浄廃液の処理が容易であり、 環境汚染の aれが少ない。

Claims

ar求の範囲
1. 95重量%以上の芳香族ビュル単置体を構成単位とする重合体からなる 重合体プロ ク Aの少なく とも 1 «と、 20重量%以上の共役ジェン単量体を構 成単位とし且つ該共役ジェン単量体単位部分のビュル結合含有量が 15~7 ο である共役ジェン系重合体からなる重合体プロック Βの少なくとも 1 fiとを有す るプロ Vク共重合体 20~65重 S部、
親水性共重合体 35~80重量部 (但し、 ブ σ Vク共重合体と親水性共重合体 との合計量は 100重量部である。 ) 、
光重合性エチレン性不 IS和単置体 5~ 300重釐部
及び光重合開始 ¾0. 1 ~ 10重重部を含有する感光性組成物。
2. ブロ ッ ク共重合体が、 重合体ブロ ック Aと重合体ブロッ ク Bとの重置比 5/95-95 Z5で構成されるものであることを特徴とする «求の範囲第 1項 の感光性組成物。
3. ブロ ッ ク共重合体が、 その全体の重量平均分子重 8, 000-2, 00 o, 000であるものであることを特 aとする猜求の範囲第 1項の ®光性組成物。
4. ブロ ッ ク共重合体が、 ポリスチレンブロッ ク Aと、 ポリ ブタジエンプロ ッ ク Bまたはポリイソブレンブロック Bとからなることを特徴とする猜求の範囲 第 1項の感光性組成物。
5. ブロ ッ ク共重合体、 一般式 A— B— Aで表されるブロック構造をなすも のであることを特徴とする »求の範囲第 1項の ¾光性組成物。
6. ブロ ッ ク共重合体が、 ポリ スチレンブ oサ ク Aと、 ボリ ブタジエンプロ ッ ク Bとからなり、 一般式 A— B— Aで表されるものであり、 重合体ブロック A と重合体プロック Bとの重量比が 5/95~95/5であり且つブロッ ク共重合 体全体の重量平均分子 Sが 8, 000-2, 000, 000であることを特徴と する猜求の範囲第 1項の感光性組成物。
7. 親水性共重合体が 酸エステル基を含有するものであることを特徴とす る猜求の範囲第 1項 ~第 6項のいずれかの感光性組成物。
8. 親水性共重合体が »酸エステル基を含有するェチレン性不跑和単量体 5 ~30重量%、 共役ジェン単量体 40~90重置%、 多官能エチレン性不飽和単 重体 o~ l o重量%及びこれらと共重合可能な単量体 o~ 55重量 κを共重合し てなるものであることを特徴とする猜求の範囲第 1項〜第 6項のいずれかの β光 性組成物。
Θ. 親水性共重合体が、 その数平均分子量 10, 000~500, 000で あるものであることを特 aとする猜求の範囲第 1項 ~第 6項のいずれかの ffi光性 組成物。
10. 親水性共 ¾合体が、 «酸エステル基を含有する:!:チレン性不始和単量 体 5~30重璗%、 共役ジェン単重体 40~90重量%、 多官能エチレン性不 » 和単量体 o~ 10重重 κ及びこれらと共重合可能な単衋体 ο~55重重 κを共重 合してなるものであり且つ親水性共重合体の数平均分子量 10, 000~500, 000であるものであることを特徴とする請求の範囲第 1項 ~第 6項のいずれか の感光性組成物。
11. 光重合性エチレン性不飽和単蠹体がジァクリレー トまたはジメタタリ レートであることも特微とする繚求の範囲第 1項〜第 6項のいずれかの IS光性組 成物。
12. 支持体とその主要面上に形成された »求の範囲第 1項〜第 1 1項のい ずれかの S光性組成物の層とからなる積履構造の 18光性ゴム «。
13. a求の範囲第 12項記載の感光性ゴム «の一方の面にネガフイルムを 密着させ、 その上から光を照射し、 該 βί光性ゴム饭の未 ar光部分を水系現像剤に より除去してなるフレキソ印刷坂。
PCT/JP1995/001923 1994-09-29 1995-09-25 Photosensitive composition and photosensitive rubber plate Ceased WO1996010218A1 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/809,369 US6025098A (en) 1994-09-29 1995-09-25 Photosensitive composition and photosensitive rubber plate
EP95932218A EP0784232B1 (en) 1994-09-29 1995-09-25 Photosensitive composition and photosensitive rubber plate
DE69528069T DE69528069D1 (de) 1994-09-29 1995-09-25 Fotoempfindliche zusammensetzung und fotoempfindliche gummiplatte
JP51159496A JP3451571B2 (ja) 1994-09-29 1995-09-25 感光性組成物及び感光性ゴム版

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6259158A JPH1031303A (ja) 1994-09-29 1994-09-29 感光性組成物及び感光性ゴム版
JP6/259158 1994-09-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO1996010218A1 true WO1996010218A1 (en) 1996-04-04

Family

ID=17330157

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP1995/001923 Ceased WO1996010218A1 (en) 1994-09-29 1995-09-25 Photosensitive composition and photosensitive rubber plate

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6025098A (ja)
EP (1) EP0784232B1 (ja)
JP (1) JPH1031303A (ja)
DE (1) DE69528069D1 (ja)
WO (1) WO1996010218A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0786700A4 (en) * 1994-10-14 1998-11-25 Nippon Zeon Co PHOTOSENSITIVE ELASTOMER COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE RUBBER PLATE
US5863704A (en) * 1995-04-26 1999-01-26 Nippon Zeon Company, Ltd. Photosensitive composition and photosensitive rubber plate
US5889116A (en) * 1995-12-06 1999-03-30 Nippon Zeon Co., Ltd. Photosensitive composition from copolymers of ethylenic phosphorous monomer(s) and elastomer
US6811951B2 (en) * 2000-03-16 2004-11-02 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Photosensitive constituent for flexographic printing plate
JP2006104359A (ja) * 2004-10-06 2006-04-20 Kraton Jsr Elastomers Kk 感光性印刷版材用ブロック共重合体およびその組成物およびそれを用いた感光性エラストマー組成物

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998004407A1 (en) 1996-07-30 1998-02-05 Hitachi Chemical Co., Ltd. Manufacture of laminated film and printed wiring board
US5902714A (en) * 1997-07-30 1999-05-11 Polyfibron Technologies, Inc. Latex-based, aqueous developable photopolymers and use thereof in printing plates
DE19811330A1 (de) 1998-03-16 1999-09-23 Du Pont Deutschland Entwickler und Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen
EP1154325B1 (en) 1998-12-25 2005-12-21 Asahi Kasei Chemicals Corporation Flexographic printing plate and original plate therefor
US6506542B1 (en) 1999-03-16 2003-01-14 E.I. Du Pont De Nemours And Company Developer and process for preparing flexographic printing forms
TW562997B (en) * 2000-09-27 2003-11-21 Hitachi Chemical Co Ltd Photoresist mask pattern, and preparing method and use thereof
JP4839525B2 (ja) 2000-09-29 2011-12-21 大日本印刷株式会社 感光性樹脂組成物および液晶ディスプレイ用カラーフィルタ
DE10227189A1 (de) * 2002-06-18 2004-01-08 Basf Drucksysteme Gmbh Verfahren zur Herstellung von Flexdruckformen mittels Laser-Direktgravur
JP4069389B2 (ja) * 2003-03-07 2008-04-02 ジェイエスアール クレイトン エラストマー株式会社 アスファルト改質用ブロック共重合体組成物、その製造方法、およびアスファルト組成物
DE602004018362D1 (de) 2003-09-25 2009-01-22 Zeon Corp Block-copolymerzusammensetzung für eine lichtempfindliche flexographische platte
CN1965266B (zh) * 2004-06-11 2010-12-15 旭化成电子材料株式会社 柔版印刷板用感光树脂及其制造方法
US20080318161A1 (en) * 2004-11-11 2008-12-25 Asahi Kasei Chemicals Corporation Photosensitive Resin Composition for Flexographic Printing
US20060154180A1 (en) 2005-01-07 2006-07-13 Kannurpatti Anandkumar R Imaging element for use as a recording element and process of using the imaging element
EP1881370B1 (en) * 2005-05-11 2012-09-19 Asahi Kasei Chemicals Corporation Photosensitive resin composition
WO2007058163A1 (ja) * 2005-11-21 2007-05-24 Asahi Kasei Chemicals Corporation フレキソ印刷版
US7704676B2 (en) * 2007-09-04 2010-04-27 Kraton Polymers U.S. Llc Block copolymers having distinct isoprene and butadiene midblocks, method for making same, and uses for such block copolymers
US8470518B2 (en) 2007-09-14 2013-06-25 E I Du Pont De Nemours And Company Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element
DE102007046641A1 (de) * 2007-09-27 2009-04-09 Carl Freudenberg Kg Strahlungs-härtbare Elastomermischung
JP2010185128A (ja) * 2008-04-23 2010-08-26 Fujifilm Corp めっき用感光性樹脂組成物、積層体、それを用いた表面金属膜材料の作製方法、表面金属膜材料、金属パターン材料の作製方法、金属パターン材料、及び配線基板
JP6397194B2 (ja) * 2014-02-21 2018-09-26 旭化成株式会社 印刷版用感光性樹脂組成物、印刷版用感光性樹脂構成体、及び印刷版
JP2021042282A (ja) * 2019-09-09 2021-03-18 ジェイエスアール クレイトン エラストマー株式会社 柔軟性と耐摩耗性を両立した感光性印刷版材用ブロック共重合体及びその製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59100433A (ja) * 1982-11-30 1984-06-09 Hitachi Chem Co Ltd 難燃型感光性樹脂組成物
JPH027055A (ja) * 1988-06-27 1990-01-11 Konica Corp 感光性平版印刷版の処理方法
JPH04271351A (ja) * 1990-07-19 1992-09-28 E I Du Pont De Nemours & Co フレキソ印刷用光重合性印刷プレート
JPH05165216A (ja) * 1991-12-13 1993-07-02 Mitsubishi Petrochem Co Ltd 感光性樹脂組成物
JPH05232698A (ja) * 1991-12-26 1993-09-10 Nippon Zeon Co Ltd リン含有親水性共重合体の製造方法及び該共重合体を用いた水現像用感光性組成物
JPH06202331A (ja) * 1992-12-28 1994-07-22 Nippon Zeon Co Ltd 感光性エラストマー組成物及びそれを用いた感光性フレキソ版

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1101586A (en) * 1971-05-17 1981-05-19 Arnel D. Potter Photosensitive compositions
US5135837A (en) * 1990-09-05 1992-08-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive elastomeric element having improved solvent resistance
US5348844A (en) * 1990-12-03 1994-09-20 Napp Systems, Inc. Photosensitive polymeric printing medium and water developable printing plates
AU644949B2 (en) * 1991-02-15 1993-12-23 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Photosensitive elastomer composition
JP2793068B2 (ja) * 1991-04-24 1998-09-03 日本ペイント株式会社 感光性樹脂組成物
US5679485A (en) * 1993-03-31 1997-10-21 Nippon Zeon Co., Ltd. Photosensitive composition, photosensitive rubber plate and process for producing same, and flexographic plate and process for producing same
EP0675412B1 (en) * 1994-03-30 2001-01-17 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Photosensitive resin composition
US5422225A (en) * 1994-06-23 1995-06-06 Shell Oil Company Photopolymerizable recording composition for water-washable printing plates containing a water-dispersible elastomeric polymer blend
US5863704A (en) * 1995-04-26 1999-01-26 Nippon Zeon Company, Ltd. Photosensitive composition and photosensitive rubber plate

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59100433A (ja) * 1982-11-30 1984-06-09 Hitachi Chem Co Ltd 難燃型感光性樹脂組成物
JPH027055A (ja) * 1988-06-27 1990-01-11 Konica Corp 感光性平版印刷版の処理方法
JPH04271351A (ja) * 1990-07-19 1992-09-28 E I Du Pont De Nemours & Co フレキソ印刷用光重合性印刷プレート
JPH05165216A (ja) * 1991-12-13 1993-07-02 Mitsubishi Petrochem Co Ltd 感光性樹脂組成物
JPH05232698A (ja) * 1991-12-26 1993-09-10 Nippon Zeon Co Ltd リン含有親水性共重合体の製造方法及び該共重合体を用いた水現像用感光性組成物
JPH06202331A (ja) * 1992-12-28 1994-07-22 Nippon Zeon Co Ltd 感光性エラストマー組成物及びそれを用いた感光性フレキソ版

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP0784232A4 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0786700A4 (en) * 1994-10-14 1998-11-25 Nippon Zeon Co PHOTOSENSITIVE ELASTOMER COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE RUBBER PLATE
US5863704A (en) * 1995-04-26 1999-01-26 Nippon Zeon Company, Ltd. Photosensitive composition and photosensitive rubber plate
US5889116A (en) * 1995-12-06 1999-03-30 Nippon Zeon Co., Ltd. Photosensitive composition from copolymers of ethylenic phosphorous monomer(s) and elastomer
US6811951B2 (en) * 2000-03-16 2004-11-02 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Photosensitive constituent for flexographic printing plate
JP2006104359A (ja) * 2004-10-06 2006-04-20 Kraton Jsr Elastomers Kk 感光性印刷版材用ブロック共重合体およびその組成物およびそれを用いた感光性エラストマー組成物

Also Published As

Publication number Publication date
EP0784232A4 (en) 1998-10-21
EP0784232B1 (en) 2002-09-04
EP0784232A1 (en) 1997-07-16
DE69528069D1 (de) 2002-10-10
JPH1031303A (ja) 1998-02-03
US6025098A (en) 2000-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1996010218A1 (en) Photosensitive composition and photosensitive rubber plate
EP0740214B1 (en) Photosensitive composition and photosensitive rubber plate
EP0489553B1 (en) Photosensitive polymeric printing medium and water developable printing plates
EP0699961B1 (en) Photosensitive composition, photosensitive rubber plate and process for producing the plate, and flexographic plate and process for producing the plate
JP3044689B2 (ja) 感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム版
JPH0495960A (ja) 感光性フレキソ印刷版組成物
EP0778297B1 (en) Hydrophilic copolymer, process for producing same, photosensitive composition, and photosensitive rubber plate
JPH0627664A (ja) 凸版印刷版の製版用光硬化性エラストマー混合物およびそれから得られる記録材料
JPH057705B2 (ja)
GB2064151A (en) Photopolymerisable composition
JP3897066B2 (ja) 親水性共重合体組成物及び感光性組成物
US20250375963A1 (en) Film for flexographic printing plate production, stack, and method for producing flexographic printing plate
JP3677909B2 (ja) 親水性共重合体、その製法、感光性組成物、および感光性ゴム版
JP3451571B2 (ja) 感光性組成物及び感光性ゴム版
JPH06186742A (ja) 光硬化性エラストマー混合物およびそこから得られる、凸版印刷板製造用の記録材料
JP3716330B2 (ja) 感光性組成物及び感光性ゴム版
JPH10161301A (ja) 感光性組成物及び感光性ゴム版
JPS61181811A (ja) ランダム共役ジエン系共重合体およびその製造方法
TW202336041A (zh) 感光性樹脂組成物
JPWO1996010218A1 (ja) 感光性組成物及び感光性ゴム版
EP0751433A2 (en) Release composition and photosensitive rubber plate with layer of the same
JPH11349628A (ja) エチレン性不飽和化合物、並びにそれを用いた感光性樹脂組成物、その製造方法、感光性樹脂印刷用原版および感光性樹脂印刷版
JPH06289610A (ja) 親水性共重合体の製造方法及び該共重合体を用いた水現像用感光性重合体組成物、感光性フレキソ版
WO2023026928A1 (ja) パターン形成用感光性組成物およびフレキソ版
JPH06214389A (ja) 感光性エラストマー組成物

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): JP US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE

DFPE Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed before 20040101)
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1995932218

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 08809369

Country of ref document: US

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1995932218

Country of ref document: EP

WWG Wipo information: grant in national office

Ref document number: 1995932218

Country of ref document: EP