JPH0627664A - 凸版印刷版の製版用光硬化性エラストマー混合物およびそれから得られる記録材料 - Google Patents
凸版印刷版の製版用光硬化性エラストマー混合物およびそれから得られる記録材料Info
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 必須成分として
a)両親媒性エラストマー結合剤または結合剤混合物、
〔使用するエラストマー結合剤は親水性セクションと疎
水性セクションとの両方を含有し,それゆえ界面活性特
性を有する「両親媒性」ブロック共重合体である〕 b)遊離基機構によって重合でき、結合剤と相容性であ
り、少なくとも1個のエチレン性不飽和末端基を有し且
つ常圧下で100℃よりも高い沸点を有する低分子量化
合物、および c)化学線の作用下に化合物(b)の重合を開始するこ
とができる化合物または化合物の組み合わせを含有する
光硬化性エラストマー混合物。 【効果】 本発明の光硬化性エラストマー混合物および
それから得られる記録材料は、弾性凸版印刷版の製版に
特によく適している。
〔使用するエラストマー結合剤は親水性セクションと疎
水性セクションとの両方を含有し,それゆえ界面活性特
性を有する「両親媒性」ブロック共重合体である〕 b)遊離基機構によって重合でき、結合剤と相容性であ
り、少なくとも1個のエチレン性不飽和末端基を有し且
つ常圧下で100℃よりも高い沸点を有する低分子量化
合物、および c)化学線の作用下に化合物(b)の重合を開始するこ
とができる化合物または化合物の組み合わせを含有する
光硬化性エラストマー混合物。 【効果】 本発明の光硬化性エラストマー混合物および
それから得られる記録材料は、弾性凸版印刷版の製版に
特によく適している。
Description
【0001】本発明は、弾性凸版印刷版を製版するのに
好適である光硬化性ネガ作動性混合物およびそれから得
ることができる記録材料に関する。
好適である光硬化性ネガ作動性混合物およびそれから得
ることができる記録材料に関する。
【0002】光硬化性エラストマー混合物は、既知であ
り且つ通常エラストマー結合剤、遊離基機構によって重
合できる化合物および化学線によって活性化できる重合
開始剤を含有している。このような混合物からなる感光
性層を有する印刷版は、例えば、DE−A第2,21
5,090号明細書(=英国特許第1,366,769
号明細書)に記載されている。しかしながら、それら
は、露光後に有機溶剤によってのみ現像してレリーフ画
像を与えることができる。
り且つ通常エラストマー結合剤、遊離基機構によって重
合できる化合物および化学線によって活性化できる重合
開始剤を含有している。このような混合物からなる感光
性層を有する印刷版は、例えば、DE−A第2,21
5,090号明細書(=英国特許第1,366,769
号明細書)に記載されている。しかしながら、それら
は、露光後に有機溶剤によってのみ現像してレリーフ画
像を与えることができる。
【0003】特許DE−A第3,003,011号明細
書(=ZA80/506)、EP−A第0,130,8
28号明細書、DE−A第2,725,730号明細書
(=米国特許第4,042,386)およびDE−A第
3,322,994号明細書(=米国特許第4,55
4,240)には、水性媒体中で現像でき且つ結合剤と
して水溶性重合体、特に部分または完全ケン化ポリ酢酸
ビニルを含有する記録材料が明らかに開示されている。
しかしながら、それらから製版された凸版印刷版の耐水
性は低く、それゆえ、それらは、水希釈性印刷インキの
場合には使用できない。
書(=ZA80/506)、EP−A第0,130,8
28号明細書、DE−A第2,725,730号明細書
(=米国特許第4,042,386)およびDE−A第
3,322,994号明細書(=米国特許第4,55
4,240)には、水性媒体中で現像でき且つ結合剤と
して水溶性重合体、特に部分または完全ケン化ポリ酢酸
ビニルを含有する記録材料が明らかに開示されている。
しかしながら、それらから製版された凸版印刷版の耐水
性は低く、それゆえ、それらは、水希釈性印刷インキの
場合には使用できない。
【0004】DE−A第3,012,841号明細書
(=米国特許第4,272,608)に係る感光性混合
物は、結合剤として、カルボキシル基の少なくとも25
%が周期表の第IIA族または第IIB族からの金属陽イオ
ンで中和されているカルボキシル化ブタジエン/アクリ
ロニトリル共重合体を含有している。
(=米国特許第4,272,608)に係る感光性混合
物は、結合剤として、カルボキシル基の少なくとも25
%が周期表の第IIA族または第IIB族からの金属陽イオ
ンで中和されているカルボキシル化ブタジエン/アクリ
ロニトリル共重合体を含有している。
【0005】3−メルカプトプロピオン酸との反応によ
って変性され且つこのようにしてカルボキシル基を含有
するブタジエン/スチレン、イソプレン/スチレンおよ
びブタジエン/アクリロニトリル共重合体、および同様
に変性されたポリブタジエンおよびポリイソプレンが、
感光性組成物中の結合剤として米国特許第4,446,
220号明細書に開示されている。
って変性され且つこのようにしてカルボキシル基を含有
するブタジエン/スチレン、イソプレン/スチレンおよ
びブタジエン/アクリロニトリル共重合体、および同様
に変性されたポリブタジエンおよびポリイソプレンが、
感光性組成物中の結合剤として米国特許第4,446,
220号明細書に開示されている。
【0006】カルボキシル基を含有し且つ1,3−ブタ
ジエンと(メタ)アクリル酸、エチレングリコールジメ
タクリレート、ジビニルベンゼンなどのエチレン性ポリ
不飽和化合物、アクリル酸エチルなどのエチレン性モノ
不飽和化合物との共重合によって生成するゴム弾性共重
合体が、EP−A第0,277,418号明細書および
第0,261,910号明細書に記載されている。上記
共重合体は、感光性組成物において結合剤として使用さ
れている。
ジエンと(メタ)アクリル酸、エチレングリコールジメ
タクリレート、ジビニルベンゼンなどのエチレン性ポリ
不飽和化合物、アクリル酸エチルなどのエチレン性モノ
不飽和化合物との共重合によって生成するゴム弾性共重
合体が、EP−A第0,277,418号明細書および
第0,261,910号明細書に記載されている。上記
共重合体は、感光性組成物において結合剤として使用さ
れている。
【0007】フレキソ印刷版用結合剤として高分子量カ
ルボキシル化ブタジエン/アクリロニトリル共重合体を
含有する感光性エラストマー組成物が、米国特許第4,
517,279号明細書に記載されている。
ルボキシル化ブタジエン/アクリロニトリル共重合体を
含有する感光性エラストマー組成物が、米国特許第4,
517,279号明細書に記載されている。
【0008】英国特許第2,179,360号明細書に
開示の組成物は、カルボキシル化ブタジエン/アクリロ
ニトリル共重合体に加えて、クロロスルホン化ポリエチ
レンも含有し且つそれは水性現像液でも現像できる。
開示の組成物は、カルボキシル化ブタジエン/アクリロ
ニトリル共重合体に加えて、クロロスルホン化ポリエチ
レンも含有し且つそれは水性現像液でも現像できる。
【0009】EP−A第0,183,552号明細書に
よれば、1,3−ブタジエン/メタクリル酸、1,3−
ブタジエン/メタクリル酸/アクリロニトリルまたはブ
タジエン/メタクリル酸/スチレン共重合体が、カルボ
キシル基を含有する結合剤として使用されている。
よれば、1,3−ブタジエン/メタクリル酸、1,3−
ブタジエン/メタクリル酸/アクリロニトリルまたはブ
タジエン/メタクリル酸/スチレン共重合体が、カルボ
キシル基を含有する結合剤として使用されている。
【0010】EP−A第0,251,228号明細書に
係る感光性組成物は、−10℃よりも低いガラス温度を
有するゴム弾性結合剤を含有している。カルボキシル基
を含有する共重合体、例えば、1,3−ブタジエン/
(メタ)アクリル酸/アクリレート共重合体も、このよ
うな結合剤の例として述べられている。この組成物を使
用して製版されたフレキソ印刷版は、水中で現像でき
る。
係る感光性組成物は、−10℃よりも低いガラス温度を
有するゴム弾性結合剤を含有している。カルボキシル基
を含有する共重合体、例えば、1,3−ブタジエン/
(メタ)アクリル酸/アクリレート共重合体も、このよ
うな結合剤の例として述べられている。この組成物を使
用して製版されたフレキソ印刷版は、水中で現像でき
る。
【0011】EP−A第0,273,393号明細書に
は、+5℃よりも低いガラス温度を有する塩素含有重合
体がフレキソ印刷版用感光性組成物中の結合剤として記
載されている。
は、+5℃よりも低いガラス温度を有する塩素含有重合
体がフレキソ印刷版用感光性組成物中の結合剤として記
載されている。
【0012】高分子結合剤中のカルボキシル基含量が余
りに低いならば、フレキソ層は、困難を伴ってのみ水性
現像液で現像できる。これらの場合には、感光性組成物
に多量の極性単量体または補助剤を加えることが必要で
あり、これらの極性単量体または補助剤は未露光材料の
高い低温流れを伴う。「低温流れ」は、材料の固有重
量、材料中の内部ひずみまたは外部応力のため長期間に
わたる塑性流れの説明として使用される。カルボキシル
基含量の増大が改善された水性現像性を生ずるが、ゴム
弾性は、同時に劣化し、更に水含有印刷インキに対する
抵抗性が、減少する。
りに低いならば、フレキソ層は、困難を伴ってのみ水性
現像液で現像できる。これらの場合には、感光性組成物
に多量の極性単量体または補助剤を加えることが必要で
あり、これらの極性単量体または補助剤は未露光材料の
高い低温流れを伴う。「低温流れ」は、材料の固有重
量、材料中の内部ひずみまたは外部応力のため長期間に
わたる塑性流れの説明として使用される。カルボキシル
基含量の増大が改善された水性現像性を生ずるが、ゴム
弾性は、同時に劣化し、更に水含有印刷インキに対する
抵抗性が、減少する。
【0013】従って、本発明の目的は、凸版印刷版の製
版のために不利なしに感光性層を製造する感光性エラス
トマー混合物を開発することにある。露光または照射
後、これらの層は、温和な条件下で水性媒体中で現像で
きるべきであり、更に水希釈性印刷インキに対する高い
抵抗性を示すべきである。
版のために不利なしに感光性層を製造する感光性エラス
トマー混合物を開発することにある。露光または照射
後、これらの層は、温和な条件下で水性媒体中で現像で
きるべきであり、更に水希釈性印刷インキに対する高い
抵抗性を示すべきである。
【0014】驚異的なことに、両親媒性エラストマーブ
ロック共重合体を結合剤として使用することによって、
この目的を達成することが今や可能になった。これらの
ブロック共重合体は、ここで、水誘引性(親水性)セク
ションと撥水性(疎水性)セクションとの両方を含有
し、それゆえ界面活性剤特性を有する「両親媒性」ブロ
ック共重合体と呼ぶ。
ロック共重合体を結合剤として使用することによって、
この目的を達成することが今や可能になった。これらの
ブロック共重合体は、ここで、水誘引性(親水性)セク
ションと撥水性(疎水性)セクションとの両方を含有
し、それゆえ界面活性剤特性を有する「両親媒性」ブロ
ック共重合体と呼ぶ。
【0015】このように、本発明は、必須成分として a)両親媒性エラストマー結合剤またはこのような結合
剤の混合物、 b)遊離基機構によって重合でき、結合剤と相容性であ
り、少なくとも1個のエチレン性不飽和末端基を有し且
つ常圧下で100℃よりも高い沸点を有する化合物、お
よび c)化学線の作用下に化合物(b)の重合を開始するこ
とができる化合物または化合物の組み合わせを含有する
ことを特徴とする光硬化性エラストマー混合物に関す
る。
剤の混合物、 b)遊離基機構によって重合でき、結合剤と相容性であ
り、少なくとも1個のエチレン性不飽和末端基を有し且
つ常圧下で100℃よりも高い沸点を有する化合物、お
よび c)化学線の作用下に化合物(b)の重合を開始するこ
とができる化合物または化合物の組み合わせを含有する
ことを特徴とする光硬化性エラストマー混合物に関す
る。
【0016】界面活性度は、pHの適宜の選択によって単
純な方法で調整できる。高いpHにおいては、カルボキシ
ル基の大部分は、脱プロトン化形態(deprotonated for
m) にあり、このことはより高い極性、対応してより顕
著な界面活性を生ずる。
純な方法で調整できる。高いpHにおいては、カルボキシ
ル基の大部分は、脱プロトン化形態(deprotonated for
m) にあり、このことはより高い極性、対応してより顕
著な界面活性を生ずる。
【0017】本発明に係る混合物は、結合剤として、一
般構造 A−B、C−A−B、C−A−C−B、An X
Bn 、(A−B)n X、Cn X(A−B)n 、(C−
A)n XBn 、(C−A−B)n X、Cn X(A−C−
B)n 、(C−A)n X(C−B)n 、(C−A−C)
n XBn および(C−A−C−B)n Xの水溶液に可溶
性または少なくとも分散性のエラストマーブロック共重
合体を含有する。対称B−A−BおよびB−C−A−C
−Bブロック共重合体およびX(B−A−B)n X、B
n XAn XBn 、X(B−C−A−C−B)n X、(B
−C)n XAn X(C−B)n およびBn X(C−A−
C)n XBn に対応する分枝代表例も、結合剤として使
用できる。これらのブロック共重合体において、Aは−
30℃未満のガラス温度Tg を有する疎水性軟質ブロッ
クを表わし、Bは酸基、好ましくはカルボキシル基を含
有し且つ+30℃よりも高いガラス温度Tg を有する親
水性硬質ブロックを表わし、Cは疎水性硬質ブロック
(Tg >+50℃)を表わし、Xは2個以上のビニルま
たはイソプロペニル基を有する化合物から生成されるユ
ニット、またはこのような化合物から生成され且つ一般
に分枝または架橋された単独重合体ブロックであり、n
はA/B/C単独重合体ブロック対ユニットXまたは単
独重合体ブロックXの数値比である。
般構造 A−B、C−A−B、C−A−C−B、An X
Bn 、(A−B)n X、Cn X(A−B)n 、(C−
A)n XBn 、(C−A−B)n X、Cn X(A−C−
B)n 、(C−A)n X(C−B)n 、(C−A−C)
n XBn および(C−A−C−B)n Xの水溶液に可溶
性または少なくとも分散性のエラストマーブロック共重
合体を含有する。対称B−A−BおよびB−C−A−C
−Bブロック共重合体およびX(B−A−B)n X、B
n XAn XBn 、X(B−C−A−C−B)n X、(B
−C)n XAn X(C−B)n およびBn X(C−A−
C)n XBn に対応する分枝代表例も、結合剤として使
用できる。これらのブロック共重合体において、Aは−
30℃未満のガラス温度Tg を有する疎水性軟質ブロッ
クを表わし、Bは酸基、好ましくはカルボキシル基を含
有し且つ+30℃よりも高いガラス温度Tg を有する親
水性硬質ブロックを表わし、Cは疎水性硬質ブロック
(Tg >+50℃)を表わし、Xは2個以上のビニルま
たはイソプロペニル基を有する化合物から生成されるユ
ニット、またはこのような化合物から生成され且つ一般
に分枝または架橋された単独重合体ブロックであり、n
はA/B/C単独重合体ブロック対ユニットXまたは単
独重合体ブロックXの数値比である。
【0018】ブロック重合体Aに好適な単量体は、1,
3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,
3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、2−メチル−
3−エチル−1,3−ブタジエン、3−メチル−1,3
−ペンタジエン、2−メチル−3−エチル−1,3−ペ
ンタジエン、2−エチル−1,3−ペンタジエン、1,
3−ヘキサジエン、2−メチル−1,3−ヘキサジエ
ン、1,3−ヘプタジエン、1,3−オクタジエン、
3,4−ジメチル−1,3−ヘキサジエン、2−フェニ
ル−1,3−ブタジエンなどの共役ジエンである。好適
なジエンの混合物の使用または炭素数4〜12の他のア
ニオン重合性共役ジエンの使用も、可能である。イソプ
レンおよび1,3−ブタジエンが好ましい。
3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,
3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、2−メチル−
3−エチル−1,3−ブタジエン、3−メチル−1,3
−ペンタジエン、2−メチル−3−エチル−1,3−ペ
ンタジエン、2−エチル−1,3−ペンタジエン、1,
3−ヘキサジエン、2−メチル−1,3−ヘキサジエ
ン、1,3−ヘプタジエン、1,3−オクタジエン、
3,4−ジメチル−1,3−ヘキサジエン、2−フェニ
ル−1,3−ブタジエンなどの共役ジエンである。好適
なジエンの混合物の使用または炭素数4〜12の他のア
ニオン重合性共役ジエンの使用も、可能である。イソプ
レンおよび1,3−ブタジエンが好ましい。
【0019】ブロック重合体Bは、好ましくは、マレイ
ン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸などのα,β−エチレン性不飽和カルボ
ン酸から生ずる。減少された電子密度のビニルユニット
を有する他のカルボン酸、例えば、ビニル安息香酸も、
出発物質として使用できる。
ン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸などのα,β−エチレン性不飽和カルボ
ン酸から生ずる。減少された電子密度のビニルユニット
を有する他のカルボン酸、例えば、ビニル安息香酸も、
出発物質として使用できる。
【0020】ブロック重合体Cに好適な出発物質は、芳
香族ビニル化合物、特にスチレン、アルキルスチレンま
たはビニルナフタレンであり、スチレンが特に好まし
い。
香族ビニル化合物、特にスチレン、アルキルスチレンま
たはビニルナフタレンであり、スチレンが特に好まし
い。
【0021】ユニットまたはブロックXは、陰イオン鎖
末端員を少なくとも2個のビニルまたはイソプロペニル
基を含有する化合物と反応させることによって導入す
る。有利には、ジ−およびトリ−ビニルベンゼンまたは
少なくとも2個のメタクリロイルオキシ基を有する化合
物が、使用される。1,4−ジビニルベンゼン、1,3
−ジイソプロペニルベンゼン、エチレングリコールジメ
タクリレートおよびトリメチロールプロパントリメタク
リレートが、特に好ましい。
末端員を少なくとも2個のビニルまたはイソプロペニル
基を含有する化合物と反応させることによって導入す
る。有利には、ジ−およびトリ−ビニルベンゼンまたは
少なくとも2個のメタクリロイルオキシ基を有する化合
物が、使用される。1,4−ジビニルベンゼン、1,3
−ジイソプロペニルベンゼン、エチレングリコールジメ
タクリレートおよびトリメチロールプロパントリメタク
リレートが、特に好ましい。
【0022】ブロック共重合体自体およびその製法に関
する詳細なデータは、同日出願の特許出願(Hoe 90/K 06
8)で見出される筈である。
する詳細なデータは、同日出願の特許出願(Hoe 90/K 06
8)で見出される筈である。
【0023】ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)に
よって測定される分子量は、2,000g/モル〜2,
000,000g/モル、好ましくは15,000g/
モル〜200,000g/モルの範囲内である。包含さ
れるブロック成分の質量分率は、Aの場合には20〜9
9%、Bの場合には1〜30%、Cの場合には0〜79
%で変化する。
よって測定される分子量は、2,000g/モル〜2,
000,000g/モル、好ましくは15,000g/
モル〜200,000g/モルの範囲内である。包含さ
れるブロック成分の質量分率は、Aの場合には20〜9
9%、Bの場合には1〜30%、Cの場合には0〜79
%で変化する。
【0024】本発明に係る感光性混合物は、一般に、両
親媒性結合剤(排他的または他の高分子物質と共に)2
0〜95重量%、好ましくは30〜90重量%を含有す
る。このような高分子物質は、塩素化またはクロロスル
ホン化ポリエチレン化合物、ジエン重合体またはランダ
ムまたはセグメント化構造の共重合体、および重付加ま
たは重縮合によって製造できる好適な熱可塑性エラスト
マーであることができる。更に、それらは、遊離基機構
によって重合できる少なくとも1種のオレフィン性不飽
和化合物、および少なくとも1種の光開始剤を含有す
る。
親媒性結合剤(排他的または他の高分子物質と共に)2
0〜95重量%、好ましくは30〜90重量%を含有す
る。このような高分子物質は、塩素化またはクロロスル
ホン化ポリエチレン化合物、ジエン重合体またはランダ
ムまたはセグメント化構造の共重合体、および重付加ま
たは重縮合によって製造できる好適な熱可塑性エラスト
マーであることができる。更に、それらは、遊離基機構
によって重合できる少なくとも1種のオレフィン性不飽
和化合物、および少なくとも1種の光開始剤を含有す
る。
【0025】1個以上の重合性オレフィン性二重結合を
有する好適な単量体は、特にアクリル酸、メタクリル
酸、フマル酸、マレイン酸のエステルおよびアミド、お
よびこれらの化合物の混合物である。更に、エステルま
たはアミド生成に必要とされるアルコールまたはアミン
は、更に他の官能基、例えば、エーテルユニット、ヒド
ロキシル基または第一級、第二級または第三級アミノ基
を含有できる。エステルを生成するのに好適なアルコー
ルの例は、開鎖および環式アルカノール、例えば、ブタ
ノール、ヘキサノール、オクタノール、デカノール、ド
デカノール、オクタデカノール、2−エチルヘキサノー
ル、シクロヘキサノールまたはボルネオール、そしてま
たヒドロキシル化オリゴ−またはポリ−ブタジエンおよ
びヒドロキシル化オリゴ−またはポリ−イソプレンであ
る。更に他の好適なアルコールは、アルカンジオール、
多官能アルコールおよび同様の化合物、例えば、1,4
−ブタンジオールまたは1,6−ヘキサンジオール、
(ポリ)エチレングリコールまたは(ポリ)プロピレン
グリコール、グリセロール、トリメチロールプロパン、
ブタントリオール、ペンタエリトリトールおよび他のも
のである。二官能または多官能アルコールは、ここで部
分的または完全にエステル化できる。不飽和化合物の更
に他の例は、(メタ)アクリル酸の特定のエステルおよ
びアミド、例えば、ジメチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルア
ミド、2−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、
エチレン−ビス−(メタ)アクリルアミド、ヘキサメチ
レン−ビス−(メタ)アクリルアミド、ジエチレントリ
アミン−トリス−(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシ
メチル(メタ)アクリルアミドおよびビス−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリルアミドである。単量体の量は、
一般に、混合物の不揮発性成分の約5〜70重量%、好
ましくは約10〜50重量%である。
有する好適な単量体は、特にアクリル酸、メタクリル
酸、フマル酸、マレイン酸のエステルおよびアミド、お
よびこれらの化合物の混合物である。更に、エステルま
たはアミド生成に必要とされるアルコールまたはアミン
は、更に他の官能基、例えば、エーテルユニット、ヒド
ロキシル基または第一級、第二級または第三級アミノ基
を含有できる。エステルを生成するのに好適なアルコー
ルの例は、開鎖および環式アルカノール、例えば、ブタ
ノール、ヘキサノール、オクタノール、デカノール、ド
デカノール、オクタデカノール、2−エチルヘキサノー
ル、シクロヘキサノールまたはボルネオール、そしてま
たヒドロキシル化オリゴ−またはポリ−ブタジエンおよ
びヒドロキシル化オリゴ−またはポリ−イソプレンであ
る。更に他の好適なアルコールは、アルカンジオール、
多官能アルコールおよび同様の化合物、例えば、1,4
−ブタンジオールまたは1,6−ヘキサンジオール、
(ポリ)エチレングリコールまたは(ポリ)プロピレン
グリコール、グリセロール、トリメチロールプロパン、
ブタントリオール、ペンタエリトリトールおよび他のも
のである。二官能または多官能アルコールは、ここで部
分的または完全にエステル化できる。不飽和化合物の更
に他の例は、(メタ)アクリル酸の特定のエステルおよ
びアミド、例えば、ジメチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルア
ミド、2−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、
エチレン−ビス−(メタ)アクリルアミド、ヘキサメチ
レン−ビス−(メタ)アクリルアミド、ジエチレントリ
アミン−トリス−(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシ
メチル(メタ)アクリルアミドおよびビス−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリルアミドである。単量体の量は、
一般に、混合物の不揮発性成分の約5〜70重量%、好
ましくは約10〜50重量%である。
【0026】本発明に係る混合物に使用する光開始剤
は、記録材料の加工時に適当な熱安定性を有し且つ単量
体の重合を開始するために露光時に遊離基を適当に形成
する既知の化合物であることができる。光開始剤は、約
250nm〜約500nmの波長範囲内の光を吸収して遊離
基を形成すべきである。好適な光開始剤の例は、アシロ
インおよびそれらの誘導体、例えば、ベンゾインおよび
ベンゾインアルキルエーテル、1,2−ジケトンおよび
それらの誘導体、例えば、ベンジルおよびベンジルアセ
タール、例えば、ベンジルジメチルケタール、フルオレ
ノン、チオキサントン、多核キノン、アクリジンおよび
キノキサリン、またトリクロロメチル−s−トリアジ
ン、2−ハロゲノメチル−4−ビニル−〔1,3,4〕
−オキサジアゾール、トリクロロメチル基で置換された
ハロゲノオキサゾール、DE−A第3,333,450
号明細書に係るトリハロゲノメチル基含有カルボニルメ
チレン複素環式化合物、アシルホスフィンオキシド化合
物、例えば、DE−A第3,133,419号明細書に
記載のもの、および他のリン含有光開始剤、例えば、D
E−A第3,728,168号明細書に記載の6−アシ
ル−6H−ジベンゾ〔c,e〕〔1,2〕オキサホスホ
リン6−オキシド、特に6−(2,4,6−トリメチル
ベンゾイル)−6H−ジベンゾ〔c,e〕〔1,2〕オ
キサホスホリン6−オキシドである。また、光開始剤
は、互いの組み合わせで使用でき、または共開始剤また
は活性剤、例えば、ミヒラーケトンおよびその誘導体ま
たは2−アルキルアントラキノンと併用できる。光開始
剤の量は、一般に、記録材料の約0.01〜10重量
%、好ましくは約0.5〜5重量%である。
は、記録材料の加工時に適当な熱安定性を有し且つ単量
体の重合を開始するために露光時に遊離基を適当に形成
する既知の化合物であることができる。光開始剤は、約
250nm〜約500nmの波長範囲内の光を吸収して遊離
基を形成すべきである。好適な光開始剤の例は、アシロ
インおよびそれらの誘導体、例えば、ベンゾインおよび
ベンゾインアルキルエーテル、1,2−ジケトンおよび
それらの誘導体、例えば、ベンジルおよびベンジルアセ
タール、例えば、ベンジルジメチルケタール、フルオレ
ノン、チオキサントン、多核キノン、アクリジンおよび
キノキサリン、またトリクロロメチル−s−トリアジ
ン、2−ハロゲノメチル−4−ビニル−〔1,3,4〕
−オキサジアゾール、トリクロロメチル基で置換された
ハロゲノオキサゾール、DE−A第3,333,450
号明細書に係るトリハロゲノメチル基含有カルボニルメ
チレン複素環式化合物、アシルホスフィンオキシド化合
物、例えば、DE−A第3,133,419号明細書に
記載のもの、および他のリン含有光開始剤、例えば、D
E−A第3,728,168号明細書に記載の6−アシ
ル−6H−ジベンゾ〔c,e〕〔1,2〕オキサホスホ
リン6−オキシド、特に6−(2,4,6−トリメチル
ベンゾイル)−6H−ジベンゾ〔c,e〕〔1,2〕オ
キサホスホリン6−オキシドである。また、光開始剤
は、互いの組み合わせで使用でき、または共開始剤また
は活性剤、例えば、ミヒラーケトンおよびその誘導体ま
たは2−アルキルアントラキノンと併用できる。光開始
剤の量は、一般に、記録材料の約0.01〜10重量
%、好ましくは約0.5〜5重量%である。
【0027】なお更に他の補助剤および添加剤、例え
ば、熱重合を抑制するもの、例えば、ヒドロキノンおよ
びその誘導体、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ニトロフェノール、ニトロソアミン、例えば、N−
ニトロソジフェニルアミンまたはN−ニトロソシクロヘ
キシルヒドロキシルアミンの塩、例えば、そのアルカリ
金属塩またはアルミニウム塩を記録材料に加えること
は、しばしば有利である。更に他の通常の添加剤は、染
料、顔料、加工助剤および可塑剤である。
ば、熱重合を抑制するもの、例えば、ヒドロキノンおよ
びその誘導体、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ニトロフェノール、ニトロソアミン、例えば、N−
ニトロソジフェニルアミンまたはN−ニトロソシクロヘ
キシルヒドロキシルアミンの塩、例えば、そのアルカリ
金属塩またはアルミニウム塩を記録材料に加えること
は、しばしば有利である。更に他の通常の添加剤は、染
料、顔料、加工助剤および可塑剤である。
【0028】凸版印刷版およびフレキソ印刷版の製版の
ために、本発明に係る混合物は、厚さ0.02〜6mm、
好ましくは0.2〜3mmの層を与えるために、溶液から
被覆することにより、または押出し、カレンダー掛けす
ることによって、加工できる。層は、好適な支持体の表
面に積層でき、または本発明に係る混合物の溶液を、層
支持体に直接塗布できる。
ために、本発明に係る混合物は、厚さ0.02〜6mm、
好ましくは0.2〜3mmの層を与えるために、溶液から
被覆することにより、または押出し、カレンダー掛けす
ることによって、加工できる。層は、好適な支持体の表
面に積層でき、または本発明に係る混合物の溶液を、層
支持体に直接塗布できる。
【0029】凸版印刷版の製版に加えて、本発明に係る
混合物は、例えば、平版印刷版、グラビア印刷シリンダ
ー、スクリーン印刷ステンシルおよびフォトレジストを
製造するためにも使用できる。
混合物は、例えば、平版印刷版、グラビア印刷シリンダ
ー、スクリーン印刷ステンシルおよびフォトレジストを
製造するためにも使用できる。
【0030】好適な支持体の例は、所期用途に応じて、
ポリエステルフィルム、鋼シートまたはアルミニウムシ
ート、銅シリンダー、スクリーン印刷ステンシル支持
体、発泡体層、ゴム弾性支持体または回路板である。ま
た、カバー層または保護層、例えば、ポリビニルアルコ
ールまたはポリアミドの薄層または剥離できるカバーフ
ィルム、例えば、ポリエチレンテレフタレートのカバー
フィルムを感光性記録層に適用することが有利であるこ
とがある。更に、支持体の予備被覆が、有利であること
がある。支持体と感光性層との間の追加の層は、例え
ば、抗ハレーション層、または接着促進層として活性で
あることがある。
ポリエステルフィルム、鋼シートまたはアルミニウムシ
ート、銅シリンダー、スクリーン印刷ステンシル支持
体、発泡体層、ゴム弾性支持体または回路板である。ま
た、カバー層または保護層、例えば、ポリビニルアルコ
ールまたはポリアミドの薄層または剥離できるカバーフ
ィルム、例えば、ポリエチレンテレフタレートのカバー
フィルムを感光性記録層に適用することが有利であるこ
とがある。更に、支持体の予備被覆が、有利であること
がある。支持体と感光性層との間の追加の層は、例え
ば、抗ハレーション層、または接着促進層として活性で
あることがある。
【0031】本発明に係る記録材料は、水銀蒸気ラン
プ、蛍光管などの光源からの化学線で造像的に露光でき
る。発光される波長は、好ましくは300〜420nmで
ある。未露光未架橋層部の除去は、水または塩基性水溶
液を噴霧するか洗浄するかブラシすることによって行う
ことができる。使用できる塩基性物質の例は、アルカリ
金属、アンモニアおよび有機アミンの水酸化物、炭酸塩
または炭酸水素塩である。湿潤剤および乳化剤、そして
また水混和性有機溶媒、例えば、脂肪族アルコール、エ
チレングリコールおよびエチレングリコールモノエーテ
ルも、添加できる。溶液中の塩基性成分の含量は、一般
に、0.01〜5重量%、好ましくは0.1〜1重量%
である。有機溶媒の含量は、ここで、40重量%未満、
好ましくは20重量%未満である。
プ、蛍光管などの光源からの化学線で造像的に露光でき
る。発光される波長は、好ましくは300〜420nmで
ある。未露光未架橋層部の除去は、水または塩基性水溶
液を噴霧するか洗浄するかブラシすることによって行う
ことができる。使用できる塩基性物質の例は、アルカリ
金属、アンモニアおよび有機アミンの水酸化物、炭酸塩
または炭酸水素塩である。湿潤剤および乳化剤、そして
また水混和性有機溶媒、例えば、脂肪族アルコール、エ
チレングリコールおよびエチレングリコールモノエーテ
ルも、添加できる。溶液中の塩基性成分の含量は、一般
に、0.01〜5重量%、好ましくは0.1〜1重量%
である。有機溶媒の含量は、ここで、40重量%未満、
好ましくは20重量%未満である。
【0032】或いは、芳香族炭化水素、クロロアルカ
ン、ケトンなどの有機溶媒が、現像液としても使用でき
る。これらの例は、トルエン、キシレン、1,1,1−
トリクロロエタン、テトラクロロエチレン、メチルイソ
ブチルケトンおよび他のものであり、これらは低級アル
コール、例えば、n−ブタノールと併用することもでき
る。有利には、現像されたレリーフ版は、120℃まで
の温度で乾燥し、適宜、光化学的または化学的に後処理
する。
ン、ケトンなどの有機溶媒が、現像液としても使用でき
る。これらの例は、トルエン、キシレン、1,1,1−
トリクロロエタン、テトラクロロエチレン、メチルイソ
ブチルケトンおよび他のものであり、これらは低級アル
コール、例えば、n−ブタノールと併用することもでき
る。有利には、現像されたレリーフ版は、120℃まで
の温度で乾燥し、適宜、光化学的または化学的に後処理
する。
【0033】本発明に係る記録材料は、印刷版、特に、
フレキソ印刷に特に好適である凸版印刷版またはレリー
フ印刷版を製版するのに特に好適である。
フレキソ印刷に特に好適である凸版印刷版またはレリー
フ印刷版を製版するのに特に好適である。
【0034】本発明を下記例によって説明する。特に断
らない限り、%データは、重量%である。
らない限り、%データは、重量%である。
【0035】製造例:ヘキサン中の1.6M n−Bu
Li溶液1.33mlを乾燥ガラスオートクレーブまたは
ガラス装置中で不活性ガス雰囲気下トルエン40mlとス
チレン80.6ミリモルとの混合物に加える。加温しな
がら、反応混合物を水浴中で2時間攪拌し、トルエン1
60mlで希釈し、イソプレン500ミリモル添加後、更
なる2.5時間攪拌する。1,1−ジフェニルエテン
3.80ミリモルおよびTHF200mlを粘稠な反応溶
液に加える。次いで、これをNaCl/氷水混合物で冷
却する。メタクリル酸t−ブチル99.6ミリモル添加
後、攪拌を冷浴中で1時間続け、重合をメタノール1ml
で停止する。次いで、反応溶液を10倍の容量のメタノ
ールに微細分布で導入する。沈殿した重合体を吸引濾別
し、洗浄し、乾燥する。t−ブチル保護基を除去するた
めに、単離物をトルエンに溶解し、メタクリル酸t−ブ
チルに対して5重量%のp−トルエンスルホン酸で処理
し、80℃で6時間加熱する。冷却後、生成物をMeO
Hで沈殿させ、洗浄し、真空中で室温において乾燥す
る。 収率:97%(83%)、Mp (GPC):49,00
0(t−ブチル保護基の脱離前)、酸価:KOH 6
8.0mg/g
Li溶液1.33mlを乾燥ガラスオートクレーブまたは
ガラス装置中で不活性ガス雰囲気下トルエン40mlとス
チレン80.6ミリモルとの混合物に加える。加温しな
がら、反応混合物を水浴中で2時間攪拌し、トルエン1
60mlで希釈し、イソプレン500ミリモル添加後、更
なる2.5時間攪拌する。1,1−ジフェニルエテン
3.80ミリモルおよびTHF200mlを粘稠な反応溶
液に加える。次いで、これをNaCl/氷水混合物で冷
却する。メタクリル酸t−ブチル99.6ミリモル添加
後、攪拌を冷浴中で1時間続け、重合をメタノール1ml
で停止する。次いで、反応溶液を10倍の容量のメタノ
ールに微細分布で導入する。沈殿した重合体を吸引濾別
し、洗浄し、乾燥する。t−ブチル保護基を除去するた
めに、単離物をトルエンに溶解し、メタクリル酸t−ブ
チルに対して5重量%のp−トルエンスルホン酸で処理
し、80℃で6時間加熱する。冷却後、生成物をMeO
Hで沈殿させ、洗浄し、真空中で室温において乾燥す
る。 収率:97%(83%)、Mp (GPC):49,00
0(t−ブチル保護基の脱離前)、酸価:KOH 6
8.0mg/g
【0036】例1 製造例に従って合成され、スチレン19%、イソプレン
71%およびメタクリル酸10%を有するS−I−MA
Aブロック共重合体37.0g、S−I−Sブロック共
重合体( REuropren Sol T190)37.0g、液体ポ
リイソプレン( RKuraray LIR 403)16.0g、ト
リメチロールプロパントリアクリレート8.5g、ベン
ジルジメチルケタール1.0gおよび 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール0.5
g をトルエン300gに溶解し、次いで、乾燥フレームに
注ぐ。溶媒の蒸発後に得られた感光性層を接着層または
粘着防止層が設けられた2個の0.125mm厚のポリエ
ステルフィルム間にプレートプレス中でプレスして層厚
3.0mmとする。背面から20秒間露光後、それをUV
Aフラット露光装置で8分間造像的に露光し、次いで、
60℃においてジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル15部と1%水酸化ナトリウム水溶液85部とからな
る現像液で20分間処理する。露光プレートは、ショア
A硬さ30を有し且つ水中、エタノール中またはエタノ
ール85部と酢酸エチル15部との混合物中で、それぞ
れ0.3%、1.4%および5.2%の膨潤値を与え
る。
71%およびメタクリル酸10%を有するS−I−MA
Aブロック共重合体37.0g、S−I−Sブロック共
重合体( REuropren Sol T190)37.0g、液体ポ
リイソプレン( RKuraray LIR 403)16.0g、ト
リメチロールプロパントリアクリレート8.5g、ベン
ジルジメチルケタール1.0gおよび 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール0.5
g をトルエン300gに溶解し、次いで、乾燥フレームに
注ぐ。溶媒の蒸発後に得られた感光性層を接着層または
粘着防止層が設けられた2個の0.125mm厚のポリエ
ステルフィルム間にプレートプレス中でプレスして層厚
3.0mmとする。背面から20秒間露光後、それをUV
Aフラット露光装置で8分間造像的に露光し、次いで、
60℃においてジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル15部と1%水酸化ナトリウム水溶液85部とからな
る現像液で20分間処理する。露光プレートは、ショア
A硬さ30を有し且つ水中、エタノール中またはエタノ
ール85部と酢酸エチル15部との混合物中で、それぞ
れ0.3%、1.4%および5.2%の膨潤値を与え
る。
【0037】例2〜9 例1と同様に、表1に記載の組成を有する更に他のフォ
トポリマー印刷版を製版し、露光後、例1に従って現像
する。硬さおよび膨潤のそれぞれの値を表2に示す。
トポリマー印刷版を製版し、露光後、例1に従って現像
する。硬さおよび膨潤のそれぞれの値を表2に示す。
【0038】
【表1】
【0039】表2 フォトポリマー混合物の膨潤★および硬さ値 例 H2 O EtOH EtOH/EtOAc 30秒後の硬さ (85/15) 2 0.25% 1.7 % 5.9 % ショアA 43 3 0.20% 0.46% 5.6 % ショアA 43 4 0.65% 0.67% 4.7 % ショアA 43 5 0.88% 0.79% 3.8 % ショアA 38 6 3.9 % 17 % 30 % ショアA 56 7 1.1 % 2.9 % 7.9 % ショアA 53 8 0.80% 2.5 % 7.2 % ショアA 319 2.8 % 3.9 % 9.5 % ショアA 25 ★ 膨潤=(m24h −m0 )/m0 ×100に従って計算
【0040】例10 均一な透明塊が形成されるまで、S−I−Sブロック共
重合体( REuropren Sol T190)80.0g、(S−
I)n X(MAA)n ブロック共重合体(S=9.2
%、I=79%、MAA=9.8%、X=ジビニルベン
ゼン=2.1%、Mp =225,000)80.0g、
トリメチロールプロパントリアクリレート17.0g、
ノナエチレングリコールジメタクリレート20.0g、
ベンジルジメチルケタール2.0gおよび2,6−ジ−
t−ブチル−ヒドロキシトルエン1.0gからなる混合
物を150℃で二本ロールミル上で混練する。次いで、
この感光性塊を120℃において2個の0.125mm厚
のポリエステルフィルム(各々には接着層または粘着防
止層が設けられている)間にプレートプレス中でプレス
して層厚3.0mmとする。背面から20秒間露光後、層
を8分間造像的に露光し、60℃において例1に記載の
現像液で10分間処理し、次いで、室温で24時間乾燥
する。露光印刷版は、ショアA硬さ53を有し且つ水
中、エタノール中またはエタノール85部と酢酸エチル
15部との混合物中で、それぞれ0.39%、4.72
%または14.2%の膨潤値を与える。
重合体( REuropren Sol T190)80.0g、(S−
I)n X(MAA)n ブロック共重合体(S=9.2
%、I=79%、MAA=9.8%、X=ジビニルベン
ゼン=2.1%、Mp =225,000)80.0g、
トリメチロールプロパントリアクリレート17.0g、
ノナエチレングリコールジメタクリレート20.0g、
ベンジルジメチルケタール2.0gおよび2,6−ジ−
t−ブチル−ヒドロキシトルエン1.0gからなる混合
物を150℃で二本ロールミル上で混練する。次いで、
この感光性塊を120℃において2個の0.125mm厚
のポリエステルフィルム(各々には接着層または粘着防
止層が設けられている)間にプレートプレス中でプレス
して層厚3.0mmとする。背面から20秒間露光後、層
を8分間造像的に露光し、60℃において例1に記載の
現像液で10分間処理し、次いで、室温で24時間乾燥
する。露光印刷版は、ショアA硬さ53を有し且つ水
中、エタノール中またはエタノール85部と酢酸エチル
15部との混合物中で、それぞれ0.39%、4.72
%または14.2%の膨潤値を与える。
【0041】表の付録 1)I=イソプレン、MAA=メタクリル酸、S=スチ
レン、 2)Mp =溶媒としてのTHFおよび標準としてのポリ
イソプレンを使用したGPC測定によって求められる平
均分子量(GPC曲線のピーク極大)(保護基の脱離前
の材料)
レン、 2)Mp =溶媒としてのTHFおよび標準としてのポリ
イソプレンを使用したGPC測定によって求められる平
均分子量(GPC曲線のピーク極大)(保護基の脱離前
の材料)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/038
Claims (10)
- 【請求項1】 a)エラストマー結合剤または結合剤混合物、 b)遊離基機構によって重合でき、前記結合剤と相容性
であり、少なくとも1個のエチレン性不飽和末端基を有
し且つ常圧下で100℃よりも高い沸点を有する低分子
量化合物、および c)化学線の作用下に化合物(b)の重合を開始するこ
とができる化合物または化合物の組み合わせ〔使用する
前記エラストマー結合剤は一般構造 A−B、B−A−
B、C−A−B、C−A−C−B、B−C−A−C−
B、An XBn 、(A−B)n X、Cn X(A−
B)n 、(C−A)n XBn 、(C−A−B)n X、C
n X(A−C−B)n 、(C−A)n X(C−B)n 、
(C−A−C)n XBn 、(C−A−C−B)n X、B
n XAn XBn 、X(B−A−B)n X、(B−C)n
XAn X(C−B)n 、Bn X(C−A−C)n XBn
またはX(B−C−A−C−B)n X (式中、Aは疎水性軟質ブロック(Tg <−30℃)を
表わし、 Bは酸基を含有する親水性硬質ブロック(Tg >+30
℃)を表わし、 Cは疎水性硬質ブロック(Tg >+50℃)を表わし、 Xは2個以上のビニルまたはイソプロペニル基を有する
化合物から生成されるユニット、またはこのような化合
物から生成され且つ一般に分枝または架橋された単独重
合体ブロックであり、 nはA/B/C単独重合体ブロック対前記ユニットXま
たは前記単独重合体ブロックXの数値比を与える)の水
または水溶液に可溶性または分散性のブロック共重合体
である〕を含有することを特徴とする光硬化性エラスト
マー混合物。 - 【請求項2】結合剤として使用するエラストマーブロッ
ク共重合体が、重合体ブロックA20〜99重量%と重
合体ブロックB1〜30重量%と重合体ブロックC0〜
79重量%とからなる、請求項1に記載の光硬化性エラ
ストマー混合物。 - 【請求項3】結合剤として使用するエラストマーブロッ
ク共重合体において、軟質重合体ブロックAが共役ジエ
ンから生成されており、硬質重合体ブロックBがエチレ
ン性α,β−不飽和カルボン酸から生成されており且つ
硬質重合体ブロックCが芳香族ビニル化合物から生成さ
れている、請求項1に記載の光硬化性エラストマー混合
物。 - 【請求項4】共役ジエンが、1,3−ブタジエン、イソ
プレンまたは2,3−ジメチル−1,3−ブタジエンで
ある、請求項3に記載の光硬化性エラストマー混合物。 - 【請求項5】エチレン性α,β−不飽和カルボン酸が、
アクリル酸またはメタクリル酸である、請求項3に記載
の光硬化性エラストマー混合物。 - 【請求項6】芳香族ビニル化合物が、スチレンまたはビ
ニルナフタレンである、請求項3に記載の光硬化性エラ
ストマー混合物。 - 【請求項7】結合剤として使用するブロック共重合体
が、分子量15,000〜200,000g/モルを有
する、請求項1に記載の光硬化性エラストマー混合物。 - 【請求項8】遊離基機構によって重合できる化合物が、
アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸またはマレイン酸
と一価または多価アルコールとのエステル、またはアク
リル酸、メタクリル酸、フマル酸またはマレイン酸とア
ミンとのアミドである、請求項1に記載の光硬化性エラ
ストマー混合物。 - 【請求項9】エラストマーブロック共重合体20〜95
重量%、重合性化合物5〜70重量%および光重合開始
剤0.01〜10重量%を含有する、請求項1に記載の
光硬化エラストマー混合物。 - 【請求項10】層支持体および光硬化性層を有する光硬
化性記録材料であって、前記光硬化性層は請求項1ない
し9のいずれか1項に記載の混合物からなることを特徴
とする光硬化性記録材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4032238.6 | 1990-10-11 | ||
| DE4032238A DE4032238A1 (de) | 1990-10-11 | 1990-10-11 | Lichthaertbares elastomeres gemisch und daraus erhaltenes aufzeichnungsmaterial fuer die herstellung von reliefdruckplatten |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0627664A true JPH0627664A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=6416059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3263851A Pending JPH0627664A (ja) | 1990-10-11 | 1991-10-11 | 凸版印刷版の製版用光硬化性エラストマー混合物およびそれから得られる記録材料 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5250390A (ja) |
| EP (1) | EP0480335B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0627664A (ja) |
| BR (1) | BR9104425A (ja) |
| DE (2) | DE4032238A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2006523265A (ja) * | 2003-04-03 | 2006-10-12 | ヴィーオーシー・フリー インコーポレイテッド | Vocフリーのラテックスコアレッセント |
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| NZ244718A (en) * | 1991-11-19 | 1995-04-27 | Grace W R & Co | Photosensitive composition comprising an aba triblock polymer, a photosensitive initiator and a photosensitive unsaturated compound; use in a flexographic printing plate |
| JP3094403B2 (ja) * | 1992-03-27 | 2000-10-03 | ジェイエスアール株式会社 | 顔料分散型カラーフィルター用組成物 |
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| DE4211390A1 (de) * | 1992-04-04 | 1993-10-07 | Hoechst Ag | Lichthärtbares elastomeres Gemisch und daraus erhaltenes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Reliefdruckplatten |
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| BR9104425A (pt) | 1992-06-09 |
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