WO2003042425A1 - Film d'oxyde de titane composite, procede de production associe et condensateur electrolytique de titane - Google Patents

Film d'oxyde de titane composite, procede de production associe et condensateur electrolytique de titane Download PDF

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Toho Titanium Co Ltd
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    • H01G9/04Electrodes or formation of dielectric layers thereon
    • H01G9/042Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by the material

Definitions

  • the present invention relates to a composite titanium oxide film and a method for producing the same, and a capacitor using the composite titanium oxide film. More specifically, the present invention has an excellent insulating property on a surface of a titanium metal substrate and a large capacitance.
  • the present invention relates to a dense composite titanium oxide film capable of forming a capacitor, a method for forming the same, and a titanium electrolytic capacitor using the metal titanium substrate having a dense oxide film as an anode.
  • Tantalum electrolytic capacitors and aluminum electrolytic capacitors are typically put into practical use as small and large-capacity electrolytic capacitors represented by conventional solid electrolytic capacitors. Tantalum electrolytic capacitors are manufactured by using a porous sintered body of metal tantalum as an electrode and anodizing it to form a dielectric oxide film. The thus formed tantalum oxide film is very stable, and therefore has the characteristics of good dielectric properties and long life. Similarly, an aluminum electrolytic capacitor is manufactured by forming aluminum oxide as a dielectric on a metal aluminum foil or sintered body by anodic oxidation.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a tantalum electrolytic capacitor and an aluminum electrolytic capacitor together for convenience.
  • a Ta wire or an A1 wire is embedded in the sintered body as the anode wire (lead wire) 12, respectively.
  • manganese dioxide (M n 0 2) solid electrolyte 13 and carbon + 88 cathode (cathode conductive layer) 14 are illustrated.
  • a tantalum electrolytic capacitor for example, a tantalum powder having a particle size of 0.1 to 10 is compression-molded by a press and sintered to form a porous sintered body. This is anodized to obtain an oxide film. Since this porous sintered body has a very large surface area, a large capacitance can be obtained. Thereafter, a manganese compound such as manganese sulfate is heat-treated on the oxide film to use manganese oxide as a cathode, or the porous sintered body is immersed in an aqueous solution of manganese nitrate, which is thermally decomposed in an electric furnace.
  • a manganese compound such as manganese sulfate
  • the manganese dioxide layer is grown by repeating the process of producing manganese dioxide to form a sufficient electrolyte layer.
  • Manganese dioxide fills and covers every corner of the pores of the porous sintered body.
  • a capacitor can be prepared using a conductive polymer compound as a cathode. A carbon layer is attached thereon to lower the conductive resistance, and a silver paste is applied, and external lead wires (not shown) are soldered. After the formation of manganese dioxide, it may be a double structure in which a conductive polymer is formed. The use of a liquid electrolyte is also possible. The same applies to aluminum electrolytic capacitors. However, there is a problem with tantalum electrolytic capacitors that tantalum is expensive.
  • aluminum electrolytic capacitors aluminum is inexpensive, but in the case of aluminum electrolytic capacitors, as shown in the enlarged view of Fig. 3, when the capacitor is formed, the aluminum oxide Oxygen vacancies are generated and the leakage current generated by the conversion to semiconductors is large, so the life is short.Also, aluminum has a dielectric constant per unit area smaller than that of intar, making it possible to make small, large-capacity capacitors. There was a problem that it was difficult. In order to solve the conventional problems as described above, many attempts have been made to develop titanium electrolytic capacitors using titanium metal for the anode and forming an oxide film such as titanium oxide or composite titanium oxide on the anode.
  • Fig. 1 shows a conceptual diagram of a titanium electrolytic capacitor. Is replaced by the Ti line, respectively).
  • a titanium oxide film or a composite titanium oxide film 2 is formed on a titanium base rod 1 to which a titanium wire (lead wire) 7 is attached, and constitutes an anode.
  • a titanium wire is attached to the anode. Similar to FIG.
  • anodic oxidation is performed at a temperature of 60 ° C or less to form an oxide film on a titanium plate.
  • a heat treatment is performed at a temperature of 0 ° C.
  • the obtained titanium is used as an anode, and a solid electrode (manganese dioxide, etc.) or an electrolytic solution (ammonium phosphate 4% by weight—water 36% by weight) - ethylene da recall 6 0 wt 0/0) via the electrode
  • Titanium foil to produce a titanium electrolytic capacitor.
  • the titanium plate having an oxide film obtained by anodic oxidation in an aqueous solution is again subjected to anodic oxidation using an electrolytic solution comprising an organic solvent having a water content of 60% by weight or less to form an oxide film on titanium.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-17664 describes a porous sintered body made of a metal containing titanium as a main component, and a Velovs such as strontium titanate formed on the surface of the sintered body.
  • a counter electrode graphite layer, silver electrode layer
  • the conductor or semiconductor has a two-layer structure of a metal oxide such as manganese or nickel and a conductive polymer compound (polypyrrol).
  • a capacitor is disclosed. Since an electrode made of a conductor or a semiconductor is formed on the dielectric film, a large capacitance can be realized without increasing the size of the entire capacitor. Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • a porous sintered body made of a metal containing titanium as a main component is treated as an A ion (A is Ba, Sr or Pb). of one also less), the B ions (B were heated in Al force Li aqueous solution containing at least one) of the Z r or T i, form a AB_ ⁇ 3 film on the sintered body surface of the porous and, further, AB_ ⁇ 3 coating formed porous sintered body C ions (C is at least one of B a or S r) to heat treatment in an alkaline aqueous solution containing a P b ion conductivity the CP B_ ⁇ 3 thin film is formed as a counter electrode of the capacitor and a manufacturing method thereof obtained by forming a subsequent graphite layer and a silver electrode layer is disclosed. It is stated to manufacture capacitors that are small, have large capacitance, and are easy to manufacture.
  • an object of the present invention is to develop a composite titanium oxide film having a large dielectric constant on the surface of a metal titanium substrate and a method for producing the same, and to use such an oxide film to achieve a small-sized, large-capacity, leakage current. It is to provide a titanium electrolytic capacitor having a short life and a long life. (Means for solving the problem)
  • the present inventors have conducted intensive studies on a composite titanium oxide film on the surface of a titanium metal substrate, and as a result, have found that the composite oxide film has a specific thickness and is composed of particles having a specific particle size. Was found to be a stable oxide film having a high dielectric constant and a small leakage current, and reached the present invention.
  • such a composite titanium oxide film is obtained by treating a metal titanium substrate with an alkali metal hydroxide and then treating it with an aqueous solution containing one or more kinds of desired metal ions.
  • the present inventors have found that a film is formed by forming a film of a potassium salt of tanoic acid and then treating the film with an aqueous solution containing a metal ion. That is, the composite titanium oxide film of the present invention is a composite titanium oxide containing titanium formed on the surface of a titanium metal substrate and at least one metal ion selected from lithium, magnesium, calcium, strontium, barium and lanthanum. Wherein the thickness of the coating is 5 or less and the particles have an average particle size of 5 to 250 nm.
  • the method for forming a composite titanium oxide coating film of the present invention comprises, after treating a metal titanium substrate with an alkali metal hydroxide, at least one metal selected from lithium, magnesium, calcium, strontium, barium and lanthanum. Forming a coating of a composite titanium oxide containing titanium and at least one metal ion selected from lithium, magnesium, calcium, strontium, barium and lanthanum on the surface of the metal titanium substrate by treating with an aqueous solution containing ions. It is characterized by.
  • the method for forming a composite titanium oxide film according to the present invention comprises, after forming a film of a potassium salt of titanic acid on the surface of the metal titanium substrate, at least one of lithium, magnesium, calcium, strontium, barium and lanthanum.
  • the surface of the metal titanium substrate is selected from titanium, lithium, magnesium, calcium, strontium, barium and lanthanum by treating with an aqueous solution containing a metal ion. It is characterized by containing at least one selected metal ion.
  • the present invention provides a titanium electrolytic capacitor characterized by using the above-mentioned composite titanium oxide film and the metal titanium substrate having the composite titanium oxide film formed by the above method as an anode.
  • the composite titanium oxide of the present invention is preferably at least one selected from barium titanate, strontium titanate and barium potassium titanate.
  • Figure 1 shows a conceptual diagram of a titanium electrolytic capacitor.
  • FIG. 2 is an SEM photograph of the composite titanium oxide film of the present invention.
  • Fig. 3 is a schematic diagram showing both a tantalum electrolytic capacitor and an aluminum electrolytic capacitor.
  • FIG. 4 is an X-ray spectrum of the composite titanium oxide film of the present invention.
  • the composite titanium oxide film of the present invention contains titanium and at least one metal ion selected from lithium, magnesium, calcium, strontium, barium, and lanthanum, and includes a compound represented by the following general formula (1).
  • M is at least one metal ion selected from lithium, magnesium, calcium, strontium, barium and lanthanum
  • X is equal to the valence of the metal ion M
  • y is 0.1 to 10
  • This is a film of a composite titanium oxide represented by the following formula, and among these, as the metal ion M, stannium and barium are preferable.
  • barium titanate, strontium titanate and barium strontium titanate are represented by the following general formula (2)
  • the composite titanium oxide film of the present invention may further comprise a titanium oxide film between the surface of the metal titanium substrate and the composite titanium oxide, or the composite titanium oxide represented by the general formula (1). It may be present inside or on the surface of the coating.
  • the thickness of the composite titanium oxide film of the present invention is 5 / im or less, and the thickness of the film is more than 5 xm, the capacitance as a dielectric becomes low when the capacitor is used. If the thickness of the oxide film is extremely small, the capacitance will increase, but the strength of the film will be weak, and the uniformity of the film will be poor.If a capacitor is formed, leakage current may occur. is there. Therefore, the thickness of the composite titanium oxide film is preferably 0.5 to 5 m. Further, the most significant feature of the composite titanium oxide coating of the present invention is that the average particle size of the particles constituting the coating is 5 to 250 nm, preferably 10 to 150 nm, and particularly preferably 10 to 150 nm.
  • FIG. 2 shows an SEM photograph of the surface of the composite titanium oxide film of the present invention.
  • the particles constituting the composite titanium oxide film are secondary particles formed by assembling primary particles of several nm, and are white or gray parts separated by black parts in the SEM photograph of FIG. One section.
  • the composite titanium oxide film of the present invention is dense, and the distance between the particles (secondary particles) constituting the film (the black portion in the SEM photograph in FIG. 2) is narrow. Specifically, the distance between the particles is 100 nm or less, preferably 5 O nm or less, particularly preferably 20 nm or less.
  • the present invention In the composite titanium oxide film, a plurality of layers of particles are laminated to form a film.Since a plurality of layers of smaller particles are laminated, the thickness of the film is small, and as a result, there is no leakage current. And a large capacitance can be secured.
  • the number of layers of particles in the composite titanium oxide film is represented by the ratio of the film thickness (m) to the average particle size ( ⁇ m) of the particles [film thickness (m) / average particle size (/ m)]
  • the number of particles of the composite titanium oxide film of the present invention is 3 or more, preferably 5 to 50, and more preferably 10 to 30.
  • the metal titanium substrate used in the present invention is a porous sintered body obtained by sintering a metal titanium plate or metal titanium powder. Usually, when a titanium electrolytic capacitor is produced, the latter metal titanium powder is used as an anode. A sintered porous sintered body is used. When producing this porous sintered body, metal titanium powder may be used as a raw material, but embrittled titanium hydride powder can also be used. When titanium hydride powder is used, heat treatment under reduced pressure is performed before, during or after sintering to perform dehydrogenation.
  • Such a metal titanium powder or a titanium hydride powder can be produced by a known method.
  • titanium hydride powder is made by first hydrogenating and embrittled titanium raw materials such as titanium sponge scraps and other scraps, then pulverizing and atomizing, and then classifying or Is manufactured by sieving to adjust the particle size.
  • the metal titanium powder can be obtained by heating the titanium hydride powder or evacuation by heating and vacuuming.
  • the metal titanium powder to be used usually has a particle size of 0.1 to: L50, preferably 0.1 to 50 m, and an average particle size of 0 to 50. 5 ⁇ 100 ⁇ , preferably 0.5 ⁇ 10 / im.
  • porous sintered body Known methods can be used for forming the porous sintered body. For example, first, titanium powder is press-formed by a press forming machine. At this time, if necessary, a binder such as a styrene resin, an acrylic resin, or camphor, or a solution in which the binder is dissolved in an organic solvent such as toluene-xylene is mixed with the titanium powder. The molded product is fired at 600 to 110 ° C. in a vacuum. When the porous sintered body thus produced is used for a capacitor, a titanium wire is attached during pressure molding or after firing. In order to increase the capacitance when a capacitor is made, it is necessary to make the porous sintered body so that the specific surface area is as large as possible.
  • a binder such as a styrene resin, an acrylic resin, or camphor
  • a solution in which the binder is dissolved in an organic solvent such as toluene-xylene is mixed with the titanium powder.
  • the porous sintered body is preferably formed so that the sintering density (the ratio of the density of the porous sintered body to the true specific gravity of metallic titanium) is 30 to 70%.
  • the sintering density increases, the specific surface area decreases. If the sintering density is too low, the specific surface area will increase, but the strength of the porous sintered body will decrease, making it impossible to use it as a capacitor.
  • the method for forming the composite titanium oxide film of the present invention will be specifically described.
  • the above-mentioned metal titanium substrate is treated in an aqueous solution of an alkali metal (first treatment step).
  • the alkali metal include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like, and preferably a hydroxylating rim.
  • the thickness of the obtained composite titanium oxide film and the particle size of the particles constituting the film depend on the processing conditions in the first processing step.
  • the processing temperature is 200 or less, preferably 60 to 150 ° C.
  • the treatment time varies depending on the concentration of the aqueous alkali metal solution and the treatment temperature, but is usually at least 10 minutes, preferably 30 minutes to 10 hours.
  • a coating film of titanic acid metal salt among the metal titanate films is preferable to form a coating film of titanic acid metal salt among the metal titanate films.
  • the titanium substrate is treated with a hydroxide aqueous solution to form a titanic acid salt coating on the surface of the metallic titanium substrate, where the potassium titanate is a composition represented by KTi 2 (OH) Having Compound or K 2 ⁇ ⁇ eta (T I_ ⁇ 2) (here n is an integer of 2-8.)
  • a film of an alkali metal titanate such as potassium titanate is formed on the surface of the titanium metal substrate.
  • the metal titanium substrate on which the coating is formed is dried at a temperature of from room temperature to 200 ° C.
  • a coating of a titanate of Alkyri metal is applied to the above surface.
  • the formed metal titanium base is charged into an aqueous solution containing at least one metal ion selected from lithium, magnesium, calcium, strontium, norium and lanthanum, and treated (second treatment)
  • metal compounds include hydroxides, nitrates, sulfates, chlorides, etc.
  • Specific compounds include lithium hydroxide, lithium chloride, lithium nitrate, magnesium hydroxide, magnesium chloride, magnesium chloride, and the like.
  • strontium hydroxide, strontium nitrate, strontium sulfate, strontium chloride Lanthanum, barium hydroxide, barium nitrate, barium sulfate, barium chloride, lanthanum hydroxide, lanthanum nitrate, lanthanum sulfide, and lanthanum chloride, among which lithium hydroxide, strontium hydroxide, barium hydroxide, strontium chloride, and chloride Barium. These compounds are used alone or in combination of two or more.
  • the thickness of the obtained composite titanium oxide coating and the particle size of the particles constituting the coating also depend on the processing conditions in the above-mentioned second processing step, and are first selected from lithium, magnesium, calcium, strontium, barium and lanthanum.
  • the concentration of the metal ions in the aqueous solution containing at least one metal ion is 0.1 to 100 M, preferably 0.3 to 10 M.
  • the processing temperature is 200 ° C. or lower, preferably 40 to 15 Ot :.
  • the treatment time varies depending on the concentration of the aqueous alkali metal solution and the treatment temperature, but is usually 1 minute or more, preferably 30 minutes to 10 hours.
  • an alkali metal such as a hydroxide or sodium hydroxide used in the first treatment step may coexist in the above-mentioned metal ion aqueous solution.
  • the alkali metal titanate film generated in the first processing step as described above is treated with another metal ion in the second processing step, whereby alkali metal such as potassium is converted to another metal.
  • the dense composite titanium oxide film of the present invention is formed.
  • a preferred method of forming the composite titanium oxide coating of the present invention is as follows:
  • the metallic titanium substrate is treated with an aqueous solution of potassium hydroxide at 50 to 100 ° C (first treatment step), and then dried at room temperature, and a fibrous potassium titanate coating is formed on the surface of the metallic titanium substrate.
  • the metal titanium substrate on which the potassium titanate coating is formed is treated with an aqueous solution of barium hydroxide or strontium hydroxide (or a mixture thereof) at 50 to 100 ° C. (second treatment step). This is dried to obtain a barium titanate, strontium titanate or barium titanate titanate coating, which is a composite titanium oxide coating of the present invention.
  • a manganese compound such as manganese sulfate is heat-treated on the oxide film to make the manganese oxide a cathode, or the porous sintered body is immersed in an aqueous solution of manganese nitrate.
  • the process of crushing and pyrolyzing it in an electric furnace to produce manganese dioxide can be repeated to grow a manganese dioxide layer, or a capacitor can be made using a conductive polymer compound as a cathode. A carbon layer is adhered on top of this to reduce the conductive resistance, and silver paste is applied and the external leads (not shown) are soldered.
  • a double structure in which a conductive polymer is formed after the formation of manganese dioxide can also be used.
  • the use of liquid electrolytes is also possible. Any known cathode structure as exemplified above as a prior art, including a solid electrolyte and a liquid electrolyte, can be employed.
  • the evaluation of the insulating property of the formed oxide film and the measurement of the electric capacity were performed by the following methods.
  • a test sample consisting of a titanium plate having a composite titanium oxide film was masked with an insulating tape to leave an electrode area of about 1 cm 2 .
  • a counter electrode is formed on the electrode surface with a conductive paste, a conductive tape, or the like to form a negative electrode.
  • the current value (leakage current) flowing between the positive electrode and the counter electrode was measured. At this time, since the measured value of the leakage current changes depending on the order in which the voltage is applied, the measurement was performed from the low voltage side.
  • the film was directly measured by an LCR (inductance, capacitance, resistance) meter under the following conditions. The capacitance was measured.
  • Electrolyte 150 g Z L ammonium adipic acid aqueous solution
  • the thickness of the coating was calculated from the weight before and after the formation of the composite titanium oxide coating and the coating formation area.
  • a metal titanium plate was placed in an 8 M aqueous potassium hydroxide solution, and treated at 80 for 240 minutes (first treatment step).
  • the titanium metal plate was dried at room temperature, then charged in a 1 M aqueous barium hydroxide solution, and treated at 60 ° C. for 360 minutes (second treatment step). Thereafter, the treated metal titanium plate was dried at room temperature to form a barium titanate coating on the surface of the metal titanium.
  • Fig. 2 shows an SEM photograph of the obtained composite titanium oxide film
  • Fig. 4 shows an X-ray spectrum of the composite oxide film.
  • the metal titanium plate was placed in a 10 M aqueous hydroxide aqueous solution and treated at 80 ° C. for 240 minutes (first treatment step).
  • the titanium metal plate was dried at room temperature, and then dried.
  • the metal titanium plate was placed in an 8 M aqueous potassium hydroxide solution and subjected to a treatment at 80 ° C. for 240 minutes (first treatment step).
  • the titanium metal plate was dried at room temperature, and then charged into a mixed aqueous solution of barium hydroxide and strontium hydroxide having a total ion concentration of 1 M containing equimolar amounts of barium ions and strontium ions. Processing was performed for 0 minutes (second processing step). Thereafter, the treated metal titanium plate was dried at room temperature to form a film of barium titanate on the surface of the metal titanium.
  • the metal titanium plate was placed in a 12 M aqueous potassium hydroxide solution, and was treated at 60 ° C. for 360 minutes (first treatment step).
  • the titanium metal plate was dried at room temperature, then charged into a 1 M aqueous barium hydroxide solution at 70 ° C., and then heated to 90 ° C. for 60 minutes. Processing step). Thereafter, the treated metal titanium plate was dried at room temperature to form a barium titanate coating on the surface of the metal titanium.
  • a 10 M aqueous solution of potassium hydroxide and a 0.5 M aqueous solution of barium hydroxide were mixed to prepare a mixed water of a rhodium hydroxide hydroxide.
  • a metal titanium plate was charged into this mixed aqueous solution, and treated at 80 ° C. for 240 minutes. Thereafter, the treated metal titanium plate was dried at room temperature to form a barium titanate coating on the metal titanium surface.
  • Table 1 shows that the composite titanium oxide film of the present invention is stable, and that a titanium electrolytic capacitor having a small leakage current and a large electric capacity can be obtained by using the composite titanium oxide film.
  • the present invention provides a stable and dense composite titanium oxide film having a large dielectric constant on the surface of a titanium metal substrate and a method for forming the same.
  • a small-sized, large-capacity, and low-leakage-current lifetime Succeeded in developing a long titanium electrolytic capacitor.

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Description

明 細 書 複合チタン酸化被膜およびその形成方法並びにチタン電解コンデンサ
(発明の属する技術分野)
本発明は、 複合チタン酸化被膜およびその製造方法、 並びにこの複合チタン酸 化被膜を使用したコンデンサに関し、 詳しくは、 金属チタン基体表面上に優れた 絶縁性を有し、 かつ大きな静電容量を有するコンデンサを構成できる緻密な複合 チタン酸化被膜およびその形成方法、 またこれを利用して緻密な酸化被膜を有す る金属チタン基体を陽極として使用するチタン電解コンデンサに関する。
(従来の技術)
従来の固体電解コンデンサを代表とする小型大容量電解コンデンザとしては、 タンタル電解コンデンサおよびアルミニウム電解コンデンサが代表的に実用化さ れている。 タンタル電解コンデンサは、 金属タンタルの多孔質焼結体を電極とし、 これを 陽極酸化して誘電体酸化被膜を形成して製造される。 このように形成されたタン タルの酸化被膜は非常に安定であることから誘電特性が良好でかつ寿命が長いと いう特徴を有している。 また、 アルミニウム電解コンデンサは、 同様に金属アル ミニゥム箔あるいは焼結体に誘電体として酸化アルミニウムを陽極酸化により形 成して製造される。 図 3は、 タンタル電解コンデンサおよびアルミニウム電解コンデンザの一例を 便宜上併せて示す模式図である。 ここでは、 陽極 1 0として、 表面にタンタル酸 化物 (T a 25) を絶縁体層 1 1として有する T a粉末多孔質焼結体あるいはァ ルミニゥム酸化物 (A 1 203) を絶縁体層 1 1として有する A 1粉末多孔質焼結 体を用い、 陽極線 (リード線) 1 2として、 T a線あるいは A 1線が焼結体中に それぞれ埋め込まれる。 陰極としては、 二酸化マンガン (M n 02) 固体電解質 1 3とカ一ボン+八8陰極 (陰極導電層) 1 4とを例示してある。 タンタル電解コンデンサの場合、 例えば、 粒径 0 . 1〜 1 0 のタンタル粉 末をプレスで圧縮成型し、 焼結して多孔質焼結体を形成する。 これを陽極酸化し て酸化被膜を得る。 この多孔質焼結体は表面積が極めて大きいので、 大きな静電 容量が得られる。 この後、 酸化被膜上に硫酸マンガン等のマンガン化合物を加熱 処理して酸化'マンガンを陰極とするか、 あるいは、 多孔質焼結体を硝酸マンガン の水溶液に浸漬し、 これを電気炉で熱分解して二酸化マンガンとする工程を繰り 返して二酸化マンガン層を成長せしめ、 十分な電解質層を形成する。 多孔質焼結 体の細孔の隅々まで二酸化マンガンが充填被覆される。 あるいは導電性高分子化 合物を陰極としてコンデンサを作成することができる。 その上にカーボン層を付 着させて導電抵抗を下げ、 更に銀ペーストを塗布して外部リード線 (図示無し) がはんだ付けされる。 二酸化マンガン形成後に、 導電性ポリマーを形成した 2重 構造とすることもできる。 液体電解質の使用も可能である。 アルミニウム電解コ ンデンザの場合もこれに準じる。 しかしながら、 タンタル電解コンデンサにおいては、 タンタルが高価という問 題がある。 他方、 アルミニウム電解コンデンサにおいては、 アルミニウムは安価 であるが、 アルミニウム電解コンデンサの場合、 図 3の拡大図に示すように、 コ ンデンサを形成した際、 アルミニウム酸化膜である絶縁体層 1 1中に酸素欠陥が 生じ、 半導体化することによる発生する漏洩電流が大きいために寿命が短く、 ま たアルミ二ゥムは単位面積当たりの誘電率が夕ンタルより小さく小型で大容量の コンデンサをつくることが難しいという問題があつた。 上記のような従来の問題を解決するため、 陽極に金属チタンを使用し、 これに 酸化チタンあるいは複合酸化チタン等の酸化被膜を形成したチタン電解コンデン サの開発が多く試みられてきた。 つまり、 チタンはタンタルより安価であり、 さ らに酸化チタンさらにはチタン酸バリゥムなどの複合チタン酸化物は酸化夕ン夕 ルあるいは酸化アルミニウムに比べて誘電率が非常に高いため、 チタン電解コン デンサは、 従来技術の課題であった安価で大容量の電解コンデンサの開発への大 きな可能性を有するものである。 図 1は、 チタン電解コンデンサの概念図を示す (図 3において、 T a、 A 1粉 末を T i粉末に、 T a、 A 1酸化物を Τ ί酸化物にそして T a、 A 1線を T i線 にそれぞれ置換えたものである)。 チタン線 (リード線) 7を取り付けたチタン 基体陽棒 1にはチタン酸化被膜または複合チタン酸化被膜 2が形成されて、 陽極 を構成する。 陽極にはチタン線が付設される。 図 3と同様に、 固体電解質 3とし て M n 02を例示し、 その上にカーボン層 4を付着させて導電抵抗を下げ、 更に 銀ペースト 5を塗布して外部リード線 (図示無し) がハンダ 8で接続された構造 が例示される。 仕上がった素子は外部の湿気や汚染から保護するためにケース 6 に封入される。 このようなチタン電解コンデンサを開発するため、 誘電体膜とし てのチタン酸化被膜または複合チタン酸化被膜の誘電率の向上を中心として種々 の試みがなされている。 例えば、 特開平 5— 1 2 1 2 7 5号公報では、 チタン金属板の陽極酸化を電解 質含有水溶液中で定電圧での陽極酸化中に電流が上昇を始める時点より前に陽極 酸化を終了し、 次いで水分含量 6 0重量%以下の有機溶媒よりなる電解液を用い て温度 6 0 °C以下で陽極酸化を行い、 チタン板上に酸化被膜を形成し、 これを 1 6 0〜 3 5 0 °Cの温度で熱処理を行い、 得られたチタンを陽極とし、 酸化被膜上 に陰極として固体電極 (二酸化マンガン等) または電解貲溶液 (リン酸アンモニ ゥム 4重量%—水 3 6重量%—エチレンダリコール 6 0重量0 /0) を介して電極
(白金箔) を形成してチタン電解コンデンサを製造する方法が開示されている。 水溶液中での陽極酸化により得られた酸化被膜を有するチタン板を再度水分含量 6 0重量%以下の有機溶媒よりなる電解液を用いて陽極酸化を行い、 チタン上に 酸化被膜を形成することを特徴とする。 特開平 9— 1 7 6 8 4号公報では、 チタンを主成分とする金属よりなる多孔性 の焼結体と、 該焼結体の表面に形成されたチタン酸ストロンチウム等のベロブス カイ卜型複合酸化物を主成分とする誘電体膜と、 該誘電体膜の表面に形成された 導体または半導体からなる電極と、 誘電体または半導体電極と導通し、 前記焼結 体と対向する対向電極 (グラフアイト層、 銀電極層) とを備え、 前記導体または 半導体は、 マンガン、 ニッケル等の金属酸化物と導電性高分子化合物 (ポリピロ ール) の 2層構造からなることを特徴とするコンデンサが開示されている。 誘電 体膜上に導体または半導体からなる電極が形成されているため、 コンデンサ全体 を大型化することなく大きな静電容量を実現することができる。 さらに、 特開 2 0 0 0— 7 7 2 7 4号公報では、 チタンを主成分とする金属よ りなる多孔性の焼結体を、 Aイオン (Aは B a、 S rまたは P bのうち少なくと も一つ)、 Bイオン (Bは Z rまたは T iのうち少なくとも一つ) を含むアル力 リ水溶液中で加熱処理し、 多孔性の焼結体表面に A B〇3被膜を形成し、 さらに、 A B〇 3被膜が形成された多孔性焼結体を Cイオン (Cは B aまたは S rのうち 少なくとも 1つ) と P bイオンを含むアルカリ水溶液中で加熱処理し、 導電性の C P b〇3薄膜を対向電極として形成し、 その後グラフアイト層及び銀電極層を 形成することにより得られるコンデンサとその製造方法が開示されている。 小型 で大きな静電容量を持ち、 製造が容易なコンデンサを製造すると記載されている。
(発明が解決しょうとする課題)
上記従来技術は誘電体膜の誘電率を向上させ、 容量の大きいコンデンサを作成 している。 しかしながら、 上記従来技術で作成した金属チタン表面のチタン系の 酸化被膜は、 誘電率は高いものの、 その緻密性、 安定性に欠け、 コンデンサとし て使用した際の漏洩電流が非常に大きく、 実用化するには未だ不十分であった。 従って、 本発明の課題は、 金属チタン基体表面の誘電率が大きく安定な複合チ タン酸化被膜およびその製法を開発し、 このような酸化被膜を利用することによ つて小型で大容量かつ漏洩電流の小さい寿命の長いチタン電解コンデンサを提供 するところにある。 (課題を解決するための手段)
本発明者らは、 上記従来技術の問題点に鑑み、 金属チタン基体表面の複合チタ ン酸化被膜について鋭意検討した結果、 特定の厚みを持ちかつ特定の粒径の粒子 から構成される複合酸化被膜が高誘電率でかつ漏洩電流が少なく安定した酸化被 膜であることを見出し、 本発明に至った。 またこのような複合チタン酸化被膜は、 金属チタン基体をアルカリ金属の水酸化物により処理した後、 所望の 1種以上の 金属イオンを含む水溶液で処理するか、 もしくは、 金属チタン基体表面に先ずチ タン酸のカリウム塩の被膜を形成した後、 金属イオンを含む水溶液で処理するこ とにより形成されることを見出し、 本発明に至った。 即ち、 本発明の複合チタン酸化被膜は、 金属チタン基体表面に形成されたチタ ンとリチウム、 マグネシウム、 カルシウム、 ストロンチウム、 バリウム及びラン タンから選択される少なくとも 1種の金属イオンを含む複合チタン酸化物の被膜 であって、 該被膜の厚さが 5 以下でありかつ平均粒径が 5〜 2 5 0 n mの粒 子から構成されることを特徴とする。 また、 本発明の複合チタン酸化被膜の形成方法は、 金属チタン基体をアルカリ 金属の水酸化物により処理した後、 リチウム、 マグネシウム、 カルシウム、 スト ロンチウム、 バリウム及びランタンから選択される少なくとも 1種の金属イオン を含む水溶液で処理することにより該金属チタン基体表面にチタンとリチウム、 マグネシウム、 カルシウム、 ストロンチウム、 バリウム及びランタンから選択さ れる少なくとも 1種の金属イオンを含む複合チタン酸化物の被膜を形成すること を特徴とする。 さらに、 本発明の複合チタン酸化被膜の形成方法は、 金属チタン基体表面にチ タン酸のカリウム塩の被膜を形成した後、 リチウム、 マグネシウム、 カルシウム、 ストロンチウム、 バリウム及びランタンから選択される少なくとも 1種の金属ィ オンを含む水溶液で処理することにより該金属チタン基体表面にチタンとリチウ ム、 マグネシウム、 カルシウム、 ストロンチウム、 バリウム及びランタンから選 択される少なくとも 1種の金属イオンを含むことを特徴とする。 さらにまた、 本発明は、 上記複合チタン酸化被膜および上記の方法で形成した 複合チタン酸化被膜を有する金属チタン基体を陽極として使用することを特徴と するチタン電解コンデンサを提供する。 ここで、 本発明の複合チタン酸化物はチタン酸バリウム、 チタン酸ストロンチ ゥムおよびチタン酸バリゥムスト口ンチウムから選ばれる少なくとも 1種が好ま しい。
(図面の簡単な説明)
図 1はチタン電解コンデンサの概念図を示す。
図 2は本発明の複合チタン酸化被膜の S E M写真である。
図 3はタンタル電解コンデンサおよびアルミニウム電解コンデンサを併せて 示す模式図である。
図 4は本発明の複合チタン酸化被膜の X線スぺク トルである。
(発明の実施の形態)
本発明の複合チタン酸化被膜は、 チタンとリチウム、 マグネシウム、 カルシゥ ム、 ストロンチウム、 バリウム及びランタンから選択される少なくとも 1種の金 属イオンを含み、 下記一般式 (1 ) で表わされる化合物を含む。
(M2/xO ) · y ( T i 02) ( 1 )
(ここで Mはリチウム、 マグネシウム、 カルシウム、 ストロンチウム、 バリウム 及びランタンから選択される少なくとも 1種の金属イオンであり、 Xは金属ィォ ン Mの原子価に等しく、 yは 0 . 1〜 1 0である。) で表わされる複合チタン酸 化物の被膜であって、 この中でも金属イオン Mとしてはスト口ンチウムおよびバ リウムが好ましい。 具体的にはチタン酸バリウム、 チタン酸ストロンチウムおよ びチタン酸バリウムストロンチウムであり下記一般式 (2 )
B a n S r 1-n T i O3 ( 2 ) (nは 0≤n≤ 1で表わされる実数である。) で表わされる。 前記一般式 (2) において (B a + S r) と T iの原子比は必ずしも 1でなくてもよく、 0. 90 ≤ (B a + S r) /T i≤ l. 10である。 また本発明の複合チタン酸化被膜は、 前記一般式 (1) で表わされる複合チタン酸化物の他に酸化チタン被膜を金属チ タン基体表面と該複合チタン酸化物との間、 あるいは該複合チタン酸化被膜の内 部または表面に存在していてもよい。 本発明の複合チタン酸化被膜の厚さは 5 /im以下であり、 被膜の厚さが 5 xm より大きい場合、 コンデンサとしたとき誘電体としての静電容量が低くなる。 ま た酸化被膜の厚さが極端に小さい場合、 静電容量は高くなるが被膜の強度が弱く なり、 さらに被膜の均一性が悪くなり、 コンデンサを形成した際に漏れ電流が生 じる場合がある。 従って複合チタン酸化被膜の厚さは 0. 5〜5 mが好ましい。 さらに本発明の複合チタン酸化被膜の最大の特徴は、 該被膜を構成する粒子の 平均粒径が 5〜 250 nm、 好ましくは 1 0〜150 nm、 特に好ましくは 1 0
〜10 O nmの微細な上記一般式 (1) または一般式 (2) で表わされる複合チ 夕ン酸化物の粒子から構成されることである。 本発明の複合チタン酸化被膜表面 の S E M写真を図 2に示す。 本発明において複合チタン酸化被膜を構成する粒子 とは、 数 nmの一次粒子が集合して形成させた二次粒子であり、 図 2の SEM写 真において黒色部分で仕切られた白色あるいは灰色部分の 1つのセクションをい う。 このように微細な粒子の層が複数重なり被膜を構成することにより、 緻密な 被膜が形成され、 チタン電解コンデンサを形成した際、 酸化被膜の割れや剥離等 による漏れ電流が少なく、 高容量でかつ安定したコンデンサが形成される。 逆に 被膜を形成する粒子の平均粒径が 1 mより大きい場合、 積層する粒子数が極端 に少なくなり、 粒子間に隙間が生じその結果、 コンデンサを形成した際、 漏れ電 流が極端に増加する。 また、 本発明の複合チタン酸化被膜は緻密であり、 前記の 被膜を構成する粒子 (二次粒子) どうしの間隔 (図 2の SEM写真における黒色 部分) が狭い。 具体的には、 粒子間の間隔が 1 00 nm以下、 好ましくは 5 O n m以下、 特に好ましくは 20 nm以下である。 さらに、 前述したように、 本発明 の複合チタン酸化被膜は粒子の層が複数積層されて被膜を形成しており、 より粒 径の小さい粒子が複数層積層しているため、 被膜の厚さは小さく、 結果として漏 れ電流がなくかつ大きな静電容量が確保できる。 複合チタン酸化被膜の粒子の積 層数を被膜厚さ ( m) と粒子の平均粒径 (^m) の比 [被膜厚さ ( m) /粒 子の平均粒径 (/ m) ]で表すと、 本発明の複合チタン酸化被膜の粒子の積層数 は、 3以上、 好ましくは 5〜50、 より好ましくは 10〜30である。 金属チタン基体表面にチタン酸スト口ンチウムのような複合チタン酸化被膜を 形成する技術は以前より報告されており、 例えば 「Growth of Strontium Ti tanate Thin Films of Conttol led Thickness by the Hydrothermal- Electrochemical Method」 (Journal of American Ceramic Society, 77[11] 2889-97(1994))においては、 所謂、 水熱電気化学法により形成した金属チタン上 のチタン酸ストロンチウム被膜について開示されている。 しかしながらこの方法 により形成された被膜は、 その表面上は粒子で形成されているように見えるが、 その断面は柱状構造であって、 本発明の複合チタン酸化被膜のように粒子が幾重 にも重なり合って形成した被膜とはその構造を異にしている。 この方法は電気化 学的に酸化被膜を形成しているため、 結果として柱状構造となり、 この柱状結晶 間に隙間が存在するため、 コンデンサを形成した際、 この隙間から電流が漏れて しまう。 本発明で用いられる金属チタン基体は、 金属チタン板あるいは金属チタン粉末 を焼結した多孔質焼結体であるが、 通常、 チタン電解コンデンサを作成する場合 は、 陽極として、 後者の金属チタン粉末を焼結した多孔質焼結体が用いられる。 この多孔質焼結体を作成する際、 原料として金属チタン粉末を使用してもよいが、 脆化された水素化チタン粉末も使用することができる。 水素化チタン粉末を使用 した場合、 焼結前、 焼結時あるいは焼結後に減圧下で加熱処理し脱水素処理を行 う。 このような金属チタン粉末や水素化チタン粉末は、 公知の方法で製造し得る。 例えば水素化チタン粉末は、 スポンジチタンゃチ夕ン切子などのスクラップ等の チタン原料を先ず水素化して脆化した後、 粉砕して微粒化し、 その後分級あるい は篩別して粒度を調整して製造される。 金属チタン粉末は、 この水素化チタン粉 末を加熱、 あるいは加熱真空引きして脱水素して得ることができる。 上記の金属チタン粉末の多孔質焼結体を作成する際、 用いる金属チタン粉末は 通常、 粒径が 0 . 1〜: L 5 0 、 好ましくは 0 . 1〜 5 0 m、 平均粒径が 0 . 5〜 1 0 0 ΠΙ、 好ましくは 0 . 5〜 1 0 /i mである。 多孔質焼結体の作成方法 については公知の方法を採用し得るが、 例えば先ずチタン粉末をプレス成形機に より加圧成形する。 このとき、 必要に応じてスチレン樹脂、 アクリル樹脂、 樟脳 等のバインダー、 あるいはこれらのバインダーをトルエンゃキシレン等の有機溶 媒に溶解させたものをチタン粉末に混合する。 このように成形したものを真空中 にて 6 0 0〜 1 1 0 0 °Cで焼成する。 このようにして作成した多孔質焼結体をコ ンデンザに使用する場合、 チタン線を加圧成形時あるいは焼成後に取り付ける。 コンデンサを作成した際の静電容量を大きくするために、 多孔質焼結体は、 でき るだけ比表面積が大きくなるように作成することが必要である。 具体的には、 多 孔質焼結体の焼結密度 (金属チタンの真比重に対する多孔質焼結体の密度の割 合) は 3 0〜7 0 %になるように作成することが好ましい。 焼結密度を高くする と、 比表面積は小さくなる。 焼結密度を低くし過ぎると、 比表面積は大きくなる が多孔質焼結体の強度が小さくなりコンデンサとして使用できなくなる。 以下、 本発明の複合チタン酸化被膜の形成方法を具体的に説明する。
先ず上記の金属チタン基体をアルカリ金属の水溶液中にて処理を行う (第 1処 理工程)。 このときアルカリ金属としては水酸化ナトリウム、 水酸化カリウム等 が挙げられるが、 好ましくは水酸化力リゥムである。 第 1処理工程の際の処理条件により得られる複合チタン酸化被膜の厚さおよび 被膜を構成する粒子の粒径が左右され、 先ずアルカリ金属水溶液の濃度は、 0 .
1〜 1 0 0 M、 好ましくは 3〜2 0 Mである。 また処理温度は 2 0 0 以下、 好 ましくは 6 0〜 1 5 0 °Cである。 処理時間は前記アルカリ金属水溶液の濃度およ び処理温度により異なるが、 通常 1 0分以上、 好ましくは 3 0分〜 1 0時間であ る ( 上記のようにアルカリ金属水溶液で処理する際、 上記処理操作の前に、 金属チ タン基体の表面に付着している汚れを除去し、 併せて基体表面の比表面積を向上 させるための表面処理を行うことが望ましい。 具体的には弗化水素等の酸あるい は他の酸化剤等で処理する。 上記のようにアルカリ金属水溶液で金属チタン基体を処理することによって、 金属チタン基体表面にアル力リ金属のチタン酸塩の被膜を生成させる。 アル力リ 金属のチタン酸塩の被膜のなかでも特にチタン酸の力リゥム塩の被膜を形成させ ることが好ましい。 具体的には金属チタン基体を水酸化力リゥム水溶液で処理し、 金属チタン基体表面にチタン酸の力リゥム塩の被膜を形成させる。 ここでチタン 酸のカリウム塩とは K T i〇2 (O H) で表される組成を有する化合物または K2 〇 · η (T i〇2) (ここで nは 2〜8の整数である。) で表されるチタン酸カリ ゥムである。 このチタン酸のカリウム塩は繊維状またはゥイスカー状の緻密な被 膜を形成するため、 本発明の複合チタン酸化被膜を形成するために好ましい。 このようにチタン酸カリウムのごときアルカリ金属のチタン酸塩の被膜を金属 チタン基体表面に形成させる。 この後、 必要に応じて被膜を形成した金属チタン 基体を乾燥させる。 このときの乾燥は常温から 2 0 0 °Cである。 次いで上記の表面にアル力リ金属のチタン酸塩の被膜を形成した金属チタン基 体を、 リチウム、 マグネシウム、 カルシウム、 ストロンチウム、 ノ リウム及びラ ンタンから選択される少なくとも 1種の金属イオンを含む水溶液に装入し、 処理 を行う (第 2処理工程)。 これらの金属化合物は、 水酸化物、 硝酸塩、 硫酸塩、 塩化物等が用いられる。 具体的な化合物としては、 水酸化リチウム、 塩化リチウ ム、 硝酸リチウム、 水酸化マグネシウム、 塩化マグネシウム、 硝酸マグネシウム、 水酸化カルシウム、 硝酸カルシウム、 硫酸カルシウム、 塩化カルシウム、 水酸化 ストロンチウム、 硝酸ストロンチウム、 硫酸ストロンチウム、 塩化ストロンチウ ム、 水酸化バリウム、 硝酸バリウム、 硫酸バリウム、 塩化バリウム、 水酸化ラン タン、 硝酸ランタン、 硫化ランタン、 塩化ランタンであり、 この中でも水酸化リ チウム、 水酸化ストロンチウム、 水酸化バリウム、 塩化ストロンチウム、 塩化バ リウムである。 これらの化合物は 1種または 2種以上の組合せで用いられる。 上記第 2処理工程の際の処理条件によっても、 得られる複合チタン酸化被膜の 厚さおよび被膜を構成する粒子の粒径が左右され、 先ずリチウム、 マグネシウム、 カルシウム、 ストロンチウム、 バリウム及びランタンから選択される少なくとも 1種の金属イオンを含む水溶液中の該金属イオンの濃度は、 0 . 1〜 1 0 0 M、 好ましくは 0 . 3〜 1 0 Mである。 また処理温度は 2 0 0 °C以下、 好ましくは 4 0〜 1 5 O t:である。 処理時間は前記アルカリ金属水溶液の濃度および処理温度 により異なるが、 通常 1分以上、 好ましくは 3 0分〜 1 0時間である。 また、 第 1処理工程で用いた水酸化力リゥムまたは水酸化ナトリゥム等のアル力リ金属を 上記の金属イオン水溶液に共存させてもよい。 上記のように第 1処理工程で生成したアル力リ金属のチタン酸塩の被膜を、 第 2処理工程において、 他の金属イオンで処理することにより、 カリウムなどのァ ルカリ金属が他の金属に置換され、 本発明の緻密な複合チタン酸化被膜が形成さ れる。 本発明の複合チタン酸化被膜の好ましい形成方法は以下のとおりである:
1 ) 先ず金属チタン基体を 5 0〜 1 0 0 °Cの水酸化カリウム水溶液で処理 (第 1処理工程) し、 その後常温で乾燥し、 繊維状のチタン酸カリウム被膜を金属チ タン基体表面に形成する。
2 ) 上記のチタン酸カリウム被膜を形成した金属チタン基体を、 5 0〜 1 0 0 °Cの水酸化バリゥムあるいは水酸化ストロンチウム (またはこれらの混合物) 水溶液にて処理する (第 2処理工程)。 これを乾燥して本発明の複合チタン酸化 被膜である、 チタン酸バリウム、 チタン酸ストロンチウムまたはチタン酸バリウ ムスト口ンチウム被膜を得る。 本発明の複合チタン酸化被膜を有する金属チタン基体を陽極として固体電解コ ンデンサを作成することができる。 このとき、 陰極としては、 タンタル電解コン デンサと同様に、 酸化被膜上に硫酸マンガン等のマンガン化合物を加熱処理して 酸化マンガンを陰極とするか、 多孔質焼結体を硝酸マンガンの水溶液に浸潰し、 これを電気炉で熱分解して二酸化マンガンとする工程を繰り返して二酸化マンガ ン層を成長せしめるか、 あるいは導電性高分子化合物を陰極としてコンデンサを 作成することができる。 その上にカーボン層を付着させて導電抵抗を下げ、 更に 銀ペーストを塗布して外部リード線 (図示無し) がはんだ付けされる。 二酸化マ ンガン形成後に、 導電性ポリマーを形成した 2重構造とすることもできる。 液体 電解質の使用も可能である。 固体電解質及び液体電解質を含め、 従来技術として 先に例示したような任意の公知陰極構造を採用することができる。
(実施例)
以下、 実施例および比較例を示して本発明の効果を具体的に説明する。
ここで、 形成した酸化被膜の絶縁性の評価および電気容量の測定は以下の方法 で実施した。
1 ) 絶縁性の評価 (漏れ電流の測定)
複合チタン酸化被膜を有するチタン板よりなる試験サンプルを絶縁テープによ りマスキングし約 1 c m2の電極面積を残した。 この電極面上に導電性ペースト、 導電性テープ等で対極を形成し負極とする。 印加電圧を 5 V、 1 0 V、 1 5 V, 2 0 V、 3 0 Vとしたときのそれぞれの 1分後に正極と対極間に流れる電流値 (漏れ電流) を測定した。 このとき、 電圧を印加する順序により漏れ電流の測定 値が変化するため、 低電圧側から測定を行つた。
2 ) 電気容量測定
漏れ電流を測定した試験サンプルを正極とし、 対極としてチタン板 (2 0 mm X 1 0 O mm) を用いて、 以下の条件で L C R (インダク夕ンス ·キャパシタン ス,抵抗) メーターにより直接膜の電気容量を測定した。
•測定条件
電解液: 1 5 0 g Z Lアジピン酸アンモニゥム水溶液
周波数: 1 2 0 H z 振幅 : ι ν
(註) この測定方法では対極の表面の容量が直列に加算されるが、 T i板の容 量は試験極に較べ十分に大きいため無視できる ( 1ノ合計容量 = 1 /サンプル容 量 + 1 /T i板容量で表されるので、 T i板の容量はそれがサンプル容量に較べ 十分に大きい場合には無視できる)。
3 ) 被膜の厚さ
複合チタン酸化被膜形成前後の重量と被膜形成面積より、 被膜の厚さを算出し た。
4 ) 粒子平均粒径
被膜の S E M写真より、 白色および灰色部分を粒子とし、 画像解析により各粒 子の投影面積に等しい面積の円の直径を算出し、 その平均を粒子の平均粒径とし た。 ぐ実施例 1 >
8 Mの水酸化カリウム水溶液中に金属チタン板を装入し、 8 0 で2 4 0分処 理を行った (第 1処理工程)。 この金属チタン板を室温にて乾燥し、 次いで 1 M の水酸化バリウム水溶液中に装入し 6 0 °Cで 3 6 0分処理を行った (第 2処理工 程)。 その後処理を施した金属チタン板を室温にて乾燥し、 金属チタン表面上に チタン酸バリウムの被膜を形成した。
この酸化被膜について、 被膜の厚み、 粒子の粒径、 絶縁性の評価および電気容 量を測定した。 得られた結果を表 1に示した。 また得られた複合チタン酸化被膜 の S E M写真を図 2に、 および複合酸化被膜の X線スぺクトルを図 4に示した。 ぐ実施例 2 >
1 0 Mの水酸化力リゥム水溶液中に金属チタン板を装入し、 8 0 °Cで 2 4 0分 処理を行った (第 1処理工程)。 この金属チタン板を室温にて乾燥し、 次いで 0 .
5 Mの水酸化ストロンチウム水溶液中に装入し 8 0 °Cで 4 2 0分処理を行った
(第 2処理工程)。 その後処理を施した金属チタン板を室温にて乾燥し、 金属チ タン表面上にチタン酸ストロンチウムの被膜を形成した。 この酸化被膜について、 被膜の厚み、 粒子の粒径、 絶縁性の評価および電気容 量を測定した。 得られた結果を表 1に示した。 <実施例 3 >
8 Mの水酸化カリウム水溶液中に金属チタン板を装入し、 8 0 °Cで 2 4 0分処 理を行った (第 1処理工程)。 この金属チタン板を室温にて乾燥し、 次いでバリ ゥムイオンとストロンチウムイオンが等モル含有する合計イオン濃度が 1 Mの水 酸化バリウム 水酸化ストロンチウムの混合水溶液中に装入し 6 0 °Cで 3 6 0分 処理を行った (第 2処理工程)。 その後処理を施した金属チタン板を室温にて乾 燥し、 金属チタン表面上にチタン酸バリゥムの被膜を形成した。
この酸化被膜について、 被膜の厚み、 粒子の粒径、 絶縁性の評価および電気容 量を測定した。 得られた結果を表 1に示した。 ぐ実施例 4 >
1 2 Mの水酸化カリウム水溶液中に金属チタン板を装入し、 6 0 °Cで 3 6 0分 処理を行った (第 1処理工程)。 この金属チタン板を室温にて乾燥し、 次いで 1 Mの 7 0 °Cの水酸化バリウム水溶液中に装入し、 その後 9 0 °Cに昇温して 6 0分 処理を行った (第 2処理工程)。 その後処理を施した金属チタン板を室温にて乾 燥し、 金属チタン表面上にチタン酸バリウムの被膜を形成した。
この酸化被膜について、 被膜の厚み、 粒子の粒径、 絶縁性の評価および電気容 量を測定した。 得られた結果を表 1に示した。 ぐ比較例 1 >
1 0 Mの水酸化カリウム水溶液と 0 . 5 Mの水酸化バリウム水溶液を混合し、 水酸化力リゥムノ水酸化バリゥムの混合水を調製した。 この混合水溶液中に金属 チタン板を装入し、 8 0 °Cで 2 4 0分処理を行った。 その後処理を施した金属チ タン板を室温にて乾燥し、 金属チタン表面上にチタン酸バリウムの被膜を形成し た。
この酸化被膜について、 被膜の厚み、 粒子の粒径、 絶縁性の評価および電気容 を測定した。 得られた結果を表 1に示した。
【表 1】
Figure imgf000017_0001
表 1から、 本発明の複合チタン酸化被膜は安定しており、 これを用いることに より漏れ電流が小さくかつ電気容量の大きなチタン電解コンデンサが得られるこ とがわかる。
(発明の効果)
金属チタン基体表面に誘電率が大きく安定で緻密な複合チタン酸化被膜および その形成方法を提供し、 このような酸化被膜を利用することによつて小型で大容 量、 かつ漏洩電流の小さい寿命の長いチタン電解コンデンサの開発に成功した。

Claims

請求の範囲
1 . 金属チタン基体表面に形成されたチタンと、 リチウム、 マグネシウム、 カルシウム、 ストロンチウム、 バリウム及びランタンから選択される少なくとも
1種の金属イオンを含む複合チタン酸化物の被膜であって、 該被膜の厚さが 5 /X m以下でありかつ平均粒径が 5〜2 5 0 n mの粒子から構成されることを特徴と する複合チタン酸化被膜。 ,
2 . 前記複合酸化物がチタン酸バリウム、 チタン酸ス トロンチウムおよびチ タン酸バリゥムストロンチウムから選ばれる少なくとも 1種であることを特徴と する請求項 1に記載の複合チタン酸化被)]莫。
3 . 前記複合チタン酸化被膜が、 金属チタン基体をアル力リ金属の水酸化物 で処理した後、 前記金属ィオンを含む化合物と反応させ生成したものであること を特徴とする請求項 1に記載の複合チタン酸化被膜。
4 . 請求項 1〜 3のいずれかに記載の複合チタン酸化被膜を有する金属チタ ン基体を陽極として使用することを特徴とするチタン電解コンデンサ。
5 . 金属チタン基体をアルカリ金属の水酸化物の水溶液により処理した後、 リチウム、 マグネシウム、 カルシウム、 ス トロンチウム、 バリ ウム及びランタン から選択される少なくとも 1種の金属イオンを含む水溶液で処理することにより 該金属チタン基体表面にチタンとリチウム、 マグネシウム、 カルシウム、 スト口 ンチウム、 バリゥム及びランタンから選択される少なくとも 1種の金属イオンを 含む複合チタン酸化物の被膜を形成することを特徴とする金属チタン基体上への 複合チタン酸化被膜の形成方法。
6 . 前記複合酸化物がチタン酸バリウム、 チタン酸ス トロンチウムおよびチ タン酸バリゥムス トロンチウムから選ばれる少なくとも 1種であることを特徴と する請求項 5に記載の複合チタン酸化被膜の形成方法。
7 . 前記複合チタン酸化被膜の厚さが 5 μ m以下でありかつ平均粒径が 5〜 2 5 0 n mの粒子から構成されることを特徴とする請求項 5に記載の複合チタン 酸化被膜の形成方法。
8 . 前記アル力リ金属の水酸化物が水酸化力リウムであることを特徴とする 請求項 5に記載の複合チタン酸化被膜の形成方法。
9 . 請求項 5〜 8のいずれかに記載の方法で形成された複合チタン酸化被膜。
1 0 . 請求項 9に記載の複合チタン酸化被膜を有する金属チタン基体を陽極 として使用することを特徴とするチタン電解コンデンサ。
1 1 . 金属チタン基体表面にチタン酸のカリウム塩の被膜を形成した後、 リ チウム、 マグネシウム、 カルシウム、 ストロンチウム、 バリウム及びランタンか ら選択される少なくとも 1種の金属イオンを含む水溶液で処理することにより該 金属チタン基体表面にチタンとリチウム、 マグネシウム、 カルシウム、 ストロン チウム、 バリウム及びランタンから選択される少なくとも 1種の金属イオンを含 む複合チタン酸化物の被膜を形成することを特徴とする金属チタン基体上への複 合チタン酸化被膜の形成方法。
1 2 . 前記複合酸化物がチタン酸バリウム、 チタン酸ストロンチウムおよび チタン酸バリウムストロンチウムから選ばれる少なくとも 1種であることを特徴 とする請求項 1 1に記載の複合チタン酸化被膜の形成方法。
1 3 . 前記複合チタン酸化被膜の厚さが 5 m以下でありかつ平均粒径が 5 〜2 5 0 n mの粒子から構成されることを特徴とする請求項 1 1に記載の複合チ タン酸化被膜の形成方法。
1 4 . 請求項 1 1〜1 3のいずれかに記載の方法で形成された複合チタン酸 化被膜。
1 5 . 請求項 1 4に記載の複合チタン酸化被膜を有する金属チタン基体を陽 極として使用することを特徴とするチタン電解コンデンサ。
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