ATE501976T1 - Herstellungsverfahren für ein bauteil ausgehend von einem substrat mit einer opferschicht aus einkristallinem silizium - Google Patents

Herstellungsverfahren für ein bauteil ausgehend von einem substrat mit einer opferschicht aus einkristallinem silizium

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ATE501976T1
ATE501976T1 AT09290474T AT09290474T ATE501976T1 AT E501976 T1 ATE501976 T1 AT E501976T1 AT 09290474 T AT09290474 T AT 09290474T AT 09290474 T AT09290474 T AT 09290474T AT E501976 T1 ATE501976 T1 AT E501976T1
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AT
Austria
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substrate
sacrificial layer
monocrystalline
production process
layer made
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AT09290474T
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Francois Perruchot
Bernard Diem
Vincent Larrey
Laurent Clavelier
Emmanuel Defay
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Commissariat Energie Atomique
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