BE673433A - - Google Patents

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BE673433A
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • C03C15/02Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching for making a smooth surface

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  "PROCEDE DE POLISSAGE PU   VERRE     CRISTAL.   



   Le verre   cristal    en vue d'obtenir   un   éclat bril- lant,   .et   généralement traité dansun bain de polissage chimique qui   consiste   en environ   50     à   60% d'acide suifuri- que, 4 à 8% d'acide fluorhydrique et en eau pour   la   partie   routant**   Lors du   polissage,   dont la raison est surtout l'attaque de l'acide fluorhydrique sur la silice contenue dans le verre ainsi que sur les oxydes   métalliques   (par exemple Na2O, K2O, PbO) ou leurs composés, on obtient les fluorures correspondant  :

   

 <Desc/Clms Page number 2> 

 
 EMI2.1 
 ou des   sels   de l'acide   f luosilicique   
 EMI2.2 
 
 EMI2.3 
 qui de leur côté réagissent de nouveau en partie avec 1.aCi1 de sulfurique et donnent   des   sulfate*, 
 EMI2.4 
 ce qui   fait     qu'ainsi     l'acide   fluorhydrique est disponible pour   d'autres     réactions,

    
Les tels obtenue forment ce que   l'on   appelle   la     bout   de polissage qui se   dépose   en partie sur le verre et   qui   peut ainsi   occasionner     de*     dégât    de   polissages   Il est   donc     nécessaire   de   tremper   les   articles   de   verre   à   polir   
 EMI2.5 
 ,Çriquemment dans un bain de rinças* pour enlever par lavage les cristaux déposés sur la surface du verre.

   Par et stade opératoire non seulement la duré* du polissage est cano,d.. rablemenfc augmentée, .vais surtout le* constituants acides   actifs   sont   constamment     entraînés   du bain de polissage dans 
 EMI2.6 
 le bain  te rinçage, o* qui fait que le bain 4* polissage $$appauvrît tandis que la concentration des acides dans le j bain de rinçage augmente constamment j 1 par conséquent, au   cour*   du   temps,     ce   bain   également   a   un*   action mordante sur 
 EMI2.7 
 lot verre *t perd donc son *fret de rinçage* <n plus de ceci, la concentration de la boue <mte.<t0<m non seulement dans 1 bain de polissage mais aussi j #dans la bain 4* rinçage de manière constante, ce qui diminue;

   de tapote considérablement l'effet de rinçage. 



  C*est pourquoi jusque présent on a le plus sou-   vaut     rejeté   le   bain   de   rinçage   après   obtention   d'une   certai-,   
 EMI2.8 
 ne concentration en acides et tu sels, tandis que la boue dans le bain de polissage cet périodiquement épuisée et Dans le but   d'éliminer   le   problème     résultant   de 

 <Desc/Clms Page number 3> 

      
 EMI3.1 
 la pollution de*'* au, résiduaires,

   on a tente de doter le bain de rinçage   d'environ   la même concentration on acide      sulfurique que le bain de   polissage*   On évite ainsi un   en-     tralnement   de l'eau dans le bain de polissage et Inverse-        tuent   d'acide sulfurique dans le bain de   rinçage,   ce qui   fait,   que le niveau de liquide   n'augmente   plus dans le bain de   polissage   et que le bain de   rinçage   ne doit plus   être   reje- té. 
 EMI3.2 
 



  De MeMOt par addition d'acide iluoroeulionique au lieu d'acide sulfurique t acide fluorhydrique, au d'oléusre ou de se3 au lieu de 1125049 on a déjà tenté d'éviter l'ou;;auart6.Giarr du liquide du bais% de polissage. 



  Main tous ces procédés ne pouvaient pas réduire ou seulement ne pouvaient le faire que de manière iidd,lïlreu- ble,   le   nombre des rinçages   intermédiaires   nécessaires. 



    D'un   autre côté l'acide sulfurique employé comme   liquide   de rinçage,   en   raison de sa   viscosité   plus   élevée,     requiert   un rinçage considérablement plus   intensif   que   l'eau   ante- 
 EMI3.3 
 rieurement employée, afin que les particule  de la boue de polissage se trouvant sur la surface du verre soient complèceuent éliminées* En outre,on rencontre de grandes difficultés pour éliminer l'acide fluorhydrique@ introduit par entraînement hors du bain de ,01 iaaa;e dans le bain de rinçage à l'acide sulfurique# par distillation ou par précipitation avec   ci**     réactifs   appropriés, en vue d'éviter dans ce bain une action décapante. 



   On   vient   de découvrir   présentement   que   J'on   peut 
 EMI3.4 
 remédier à ces difficultés lorsqu'on élimine constamment la boue de polissage hors du bain de polissage et/ou de rinçage et que l'on elit.tino cormtanuntirs l'acido fluorhydri- que contenu   dans   le liquide de   rinçage   par réaction avec des matières contenant de la   Milice,   Il   s'est   avéré part 
 EMI3.5 
 culièremont favorable de faire parcourir un circuit aux 

 <Desc/Clms Page number 4> 

   liquide*   avec   de*     pompes     appropriées   et de les épurer en 
 EMI4.1 
 passant par des réservoir  de filtyation ou de sédimentation, Ainsi 1.

   -.ci.de fluorhydrique se laisse éliminer très avantaeuusewetit hors du liquide du bain de rinçage lorsque ce li-   quide   circula à travers une colonne ou un bac appropria 
 EMI4.2 
 rempli à...tier. siliceuse, par exemple du sable  des débrie de verre ou des matières similaires. avant ou après la fm;

  r,tm.ottt A ett4 de la possibilité d'être un mesure de a!-.   parer     les     liquides   de polissage et de rinçage pendant leur   circuit     d'avec     les     produits     indésirables,     le   procédé   confor-   
 EMI4.3 
 me k l'invention présente aussi ltavantage que le  produits chimiques nécessaires z .exécution du polissage du verre, par exemple l'acide sulfurique, 1*acîde fluezhydrîque, l'acide fluorosulfonique, etc.,

   peuvent être introduit  de   manière     dosé      très   rapidement et surtout   continuellement]   
 EMI4.4 
 c4ont pourquoi leur concentration dans les bains peut être maintenue à un niveau constant aptliivi4j, natal* en OR* de traitement de très grand** quantité- de verre, Coamte d'une part   un      concentration   d'acide   dépassant   la   valeur*optima       particulièrement     l'acide     fluorhydrique -   comme cela se pro- 
 EMI4.5 
 duit par exemple dans un bain restauré de Manière dincontl- nue,

     requiert   tout   d'abord   non   seulement   un nombre accru de   rinçage.   pour   éviter     le*      légats   de   polissage     mais   aussi 
 EMI4.6 
 un* attaque plus  rand. sur la surface de verre ce qui com-   ,verte   une plue grande   consommation     d'acide,   et que   d'autre   part en cas   d'abaissement   de la concentration   dtaci-   de en   dessous   de la valeur optima la durée totale du polis- 
 EMI4.7 
 .a..ui.,.'1:

  lentce. il est possible en maintenant des conditions.   optimales     constantes   de bains de raccourcir les durées de   palissade   et de réduire davantage le   nombre   de   rinçages,   
 EMI4.8 
 lequel on sol est déjà fortement réduit par l'élimination   permanente  de la boue de   polissage,   

 <Desc/Clms Page number 5> 

 
Pour un verre cristal ayant:

   une teneur   en   plomb de 24%, la durée   du*   polissage dans les conditions conforme* 
 EMI5.1 
 à l'invention, avec un bain de polïssa,,,,o qui contient 57% d'acide sulfurique et 6% d'acide fluorhydrique et un bain 
 EMI5.2 
 de rinçage qui contient 57;â d'acide sulfurique, s'élève a 15/2 minutes, alors que le   processus   de   polissage   dans les conditions courantes jusqu'ici   n'est     termina     qu'acre    10   minutes .    
 EMI5.3 
 



  L'addition continue des acides ne biallirest.0 fa   vorableinent     aussi   par le fait que   l'on   peut éviter les sur- 
 EMI5.4 
 chauffée locale* dans Ae bain causées par l'addition dincontinue des acides et le danger lui associé d'un entraînement de HOP et ainsi de pertes en HF  de môme que 1 ' incommoderont      de   l'entourage,   
 EMI5.5 
 En ultiae tempa il est possible pendant la circu-   lation   par pompage de réchauffer ou de refroidir de manière   simple   (par   exemple   en   parcourant   un   serpentin   de chauffage 
 EMI5.6 
 ou de refroidissement) les liquidée a l'extérieur du bain,

   en fonction des   besoin*.   Dans le cas de   grandes     Installa-     tlons   qui opèrent avec   plusieurs     bains,   l'installation de 
 EMI5.7 
 repompafte et d'épuration peut se faire en un poste central pour tous le* bains, ce qui fait qu'ainsi le procédé peut être exécuté très économiqueuent et avec une grande sûreté de fonctionnement, d'autant plus qu'en   même     temps   la   sur-   ' 
 EMI5.8 
 vaillance du bain est considérablement simplifiée, 
On a   en   outre la   possibilité   de prolonger le    temps   de   trempage   'individuels dans le bain de   polissage,

     sans que se produisent des   dégâts   de   polissage,   étant donné qu'une concentration de sel   extrêmement   réduite est seule- ment   présente.     Il-est   de ce fait   possible   de réduire   consi-   dérablement le nombre des   rinçages,   ce qui réduit aussi la   consommation   en acides. Le temps global de   polissage   plue court qui en résulte permet un débit plus élevé de ma- 

 <Desc/Clms Page number 6> 

 tériel polir. 



   Par rapport à l'emploi d'un   bain. de   rinçage contenant de l'acide   sulfurique   qui   n'est   épuré que périodiqueMent, on peut comme on l'a déjà   signalé   raccourcir aussi les. durées de rinçage. On a observé en outre que dans le nouveau   procédé.   surtout en cas de verre   tailla   de grande valeur, on n'obtient pratiquement plus de   refus.   Le liquide 
 EMI6.1 
 de bain épure peut être conduit en sort* dtr rencontrer di- rectement le verre à traiter et d'améliorer ainsi le pro- 
 EMI6.2 
 Co-$ou* do polissage *t de rinçage. 



  Il est de mime possible par ce procédé d'enriehir 4*nt*tl*nt en Il 2 $0 4 un bain de rinçage *qui ne consis- tait tout d'abord quten de   l'eau,   pour alors, après avoir   atteint   la   même   concentration en H2SO4 que celle que possède 
 EMI6.3 
 le bain de rinçage, soit le traiter conone bain de rinçage avec 1* bain ainsi obtenu qui désormais ne'subit plus d'augmentation ultérieure de la teneur en "2& 4' ou bien, après additif de 50,.

   d'oleuat ou de itso 3P pour obtenir un acide fortement concentré! en peut 14uttlîser pour la régénération du bain   de palissage*     Comme   exemple on décrit une telle installation dans le   dessin   en annexe* Dans celui-ci on montre   simplement.   la circuit de   palissage,     mais   le circuit du bain de rinçage   se différencie   du précédent   simplement   par la suppression de   l'addition   d'acide et par la présence   d'un   laveur à acide 
 EMI6.4 
 fluorhY4rtque (indiqué par F dans le dessin en annexe). 



  -B z 84 .ont clos bains de polissage dont le liquide de bain contenantdo la boue est soutiré vers le réciblent de  sédimentation et de çoilection À dans la mesure où le liquide épure arrive par le haut. Le récipient A est   avantageusement     divis'   en deux   compartiments,   le liquide   contenant   de la boue étant introduit de telle sorte qu'une partie   considérable   de la boue s'y dépose et que le liquide 

 <Desc/Clms Page number 7> 

   ainsi   épuré s'écoule par un déversoir duos   le second   compartiment,

   On introduit ici   également   de l'acide fluorhydrique et de l'acide sulfurique en   le*   quantités   nécessaires.   Dans le second   compartiment     également     t'opère   une clarification   supplémentaire   du liquide de bain.   En   cas de récipient*   suffisamment   grande.

   on obtient un   liquida     presque     limpide   qui peut être renvoyé directement aux   bain ,   En cas de piacément d'un   filtre   D, le récipient A peut âtre petit ou même   t'aire   complètement défaut,
Par la pompe C (qui peut   aussi   être   installée   après le filtre D),

   le liquide est   pompé   à   travers   le   fil-*   tre D'et l'échangeur de chaleur E intercaialble pour le refroidissement ou le   chauffage   et il parvient de   nouveau   par un   distributeur   dans les bains de   polissage     nous     forme   d'acide pur   régénère.   



   Dans le récipient A on peut   aussi   précipiter et   déposer     le*     constituants     dissous     dans   le   liquide   de bain par addition   d'agents   de   précipitation     appropriés*     comme   par exemple H2SiF6 par addition de   composés     potassique    ou   sadiques solubles   (par exemple NaHF2 ou KHF2). 



   REVENDICATIONS 
1. procède de   polissage du   verre par traitement alterné avec des bain* de   polissage   qui contiennent de l'acide fluorhydrique et de l'acide   sulfurique   et des bain. 

**ATTENTION** fin du champ DESC peut contenir debut de CLMS **.

Claims (1)

  1. @ de rinçage, caractérisé en ce qu'on fait parcourir par le* liquides de polissage et de rinçage un circuit avec sépara- tion des matières solides, en Maintenant constante dans le liquide de polissage la concentration d'acide fluorhydrique et d'acide sulfurique et en éliminant du liquide de rinçage, par traitement avec des matières contenant de la silice, les impureté. d'acide fluorhydrique introduites à partir <Desc/Clms Page number 8> EMI8.1 du bain .da polissage 2* Procédé suivant la revendication i,
    erotrise en ce qu'on utilise connue bain de rinçage un acide as'ur,cua 0-7<, de Préférence à 30-60.
    3, Procédé suivant la revendication t, caractérisé où ce qu'on utilise comme bain de rivage prieitive. ment de l'eau qui, après avoir atteint une concentration an ll,,504 tte l O-7O5i, de préférence do 50-60% est introduite dans 1* circuit du liquide de pol3,cca;a après addition tî*M)ytid aw.'ur3.,ts o.uu ou diacide fluoaulfonique.
    Proc4d4 <mivnt; la revendication le caracté. rise en ce que les liquide de polissage et de rinçage ont maintenus à toinpérature constante durant leur parcourt en circuit tenaio
BE673433D 1965-01-07 1965-12-08 BE673433A (fr)

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