BRPI0809194B1 - processo para revestimento de um substrato e equipamento de deposição a vácuo - Google Patents
processo para revestimento de um substrato e equipamento de deposição a vácuo Download PDFInfo
- Publication number
- BRPI0809194B1 BRPI0809194B1 BRPI0809194A BRPI0809194A BRPI0809194B1 BR PI0809194 B1 BRPI0809194 B1 BR PI0809194B1 BR PI0809194 A BRPI0809194 A BR PI0809194A BR PI0809194 A BRPI0809194 A BR PI0809194A BR PI0809194 B1 BRPI0809194 B1 BR PI0809194B1
- Authority
- BR
- Brazil
- Prior art keywords
- evaporation
- equipment
- substrate
- oven
- refill
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 45
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 44
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 30
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims description 17
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 65
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 59
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 27
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 24
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 15
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 14
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 6
- 229910000760 Hardened steel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 6
- PGTXKIZLOWULDJ-UHFFFAOYSA-N [Mg].[Zn] Chemical compound [Mg].[Zn] PGTXKIZLOWULDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910009369 Zn Mg Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910007573 Zn-Mg Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020068 MgAl Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000001540 jet deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- 229910002059 quaternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/06—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45563—Gas nozzles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Description
(54) Título: PROCESSO PARA REVESTIMENTO DE UM SUBSTRATO E EQUIPAMENTO DE DEPOSIÇÃO A VÁCUO (73) Titular: ARCELORMITTAL FRANCE. Endereço: 1-5, Rue Luigi Cherubini, F-93200 Saint Denis, FRANÇA(FR) (72) Inventor: PATRICK CHOQUET; ERIC SILBERBERG; BRUNO SCHMITZ; DANIEL CHALEIX.
Prazo de Validade: 10 (dez) anos contados a partir de 04/12/2018, observadas as condições legais
Expedida em: 04/12/2018
Assinado digitalmente por:
Liane Elizabeth Caldeira Lage
Diretora de Patentes, Programas de Computador e Topografias de Circuitos Integrados
1/12
PROCESSO PARA REVESTIMENTO DE UM SUBSTRATO E EQUIPAMENTO DE DEPOSIÇÃO A VÁCUO
Campo da Invenção [001] A presente invenção refere-se a um processo para revestir continuamente um substrato e a um equipamento de deposição a vácuo para revestimentos formados de ligas metálicas, tais como, por exemplo, ligas de zinco-magnésio, o mencionado processo sendo mais particularmente pretendido para revestir tiras de aço, sem ser absolutamente limitada a isso.
Antecedente da Invenção [002] São conhecidos vários processos para deposição de revestimentos metálicos compostos de ligas em um substrato, tal como uma tira de aço. Entre esses, deve ser feita menção ao revestimento por imersão a quente, eletrogalvanização, e também a vários processos de deposição a vácuo, tais como evaporação a vácuo e evaporação catódica do magnétron.
[003] Assim, é conhecido um processo de evaporação a vácuo descrito na WO 02/06558 que consiste em co-evaporar dois elementos em uma câmara de modo a misturar o vapor dos dois elementos antes de revestir o substrato.
[004] Entretanto, a implementação industrial desse processo é difícil e não é concebível para uma produção que deva garantir uma composição de revestimento estável por todo o comprimento do substrato.
[005] É também possível para uma camada de cada um dos elementos constituintes da liga ser depositada em sucessão no substrato e então executar o tratamento de difusão por calor resultando na formação de uma camada ligada tendo a composição mais homogêPetição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 20/35
2/12 nea possível. Assim, em particular, podem ser produzidos revestimentos de zinco-magnésio que podem ser usados vantajosamente ao invés de revestimento de zinco puro ou de outras ligas de zinco.
[006] Essa deposição sucessiva de cada um dos elementos pode ser executada, em particular, por co-evaporação a vácuo de cada um dos elementos colocado em um cadinho separado, conforme descrito na EP 730 045, mas também por deposição a vácuo de um elemento em uma tira pré-revestida por um processo convencional de imersão a quente.
[007] Entretanto, o subsequente tratamento de difusão por calor pode provar ser complicado e caro, uma vez que ele envolve o uso de grandes quantidades de gás inerte para evitar qualquer oxidação do revestimento a alta temperatura durante o tratamento térmico. Além disso, para evitar qualquer risco de oxidação entre o revestimento de magnésio e o início do tratamento de difusão, é necessário executar as duas operações uma imediatamente após a outra, sem expor a tira ao ar.
[008] Esse tratamento térmico pode também propor problemas no caso de certos materiais que não são compatíveis com um aumento de temperatura excessivamente grande. Deve ser feita menção particular de tiras de aço endurecidas ao fogo que contenham grandes quantidades de carbono na solução sólida, que não deve se precipitar antes de a tira ter sido formada pelo usuário do material.
[009] Além disso, nesse tipo de processo, é muito enganador obter-se um revestimento de composição constante sobre um comprimento de substrato longo como é necessário para a espessura de cada camada que ela seja controlada com precisão pelo curso de tempo.
[010] Finalmente, o tratamento de difusão permite reconhecidamente que a liga se forme, mas ele deve também levar à difusão de
Petição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 21/35
3/12 elementos do substrato para o revestimento, contaminando assim a interface com o substrato.
Descrição da Invenção [011] O objetivo da presente invenção é, portanto, remediar as desvantagens dos processos e equipamentos da técnica anterior fornecendo um equipamento de deposição a vácuo para depositar revestimentos metálicos formados de ligas metálicas e um processo para produção de uma tira metálica coberta com uma camada de liga metálica, que permita uma implementação industrial simples, em poucas etapas, mas que também permita que seja obtido um revestimento de composição constante, sobre vários tipos de substratos.
[012] Para esse propósito, um primeiro objetivo da presente invenção consiste em um processo para revestir um substrato, onde uma camada de liga metálica compreendendo pelo menos dois elementos metálicos é depositada continuamente no mencionado substrato por meio de um equipamento de deposição a vácuo compreendendo um jato de vapor de revestimento para pulverizar o substrato, a uma velocidade sônica, com um vapor contendo pelo menos dois elementos metálicos em um teor relativo constante e predeterminado, o mencionado vapor sendo obtido pela evaporação de um banho de liga metálica contendo o mencionado elemento metálico em um teor inicial predeterminado, o mencionado teor inicial do banho sendo mantido constante durante a deposição.
[013] O processo conforme a invenção pode também compreender várias características, tomadas por si mesmas ou em combinação, como segue:
- os elementos metálicos são zinco e magnésio;
- a camada de liga metálica não contém fases intermetálicas ferro-zinco;
- a camada de liga metálica consiste predominantemente em
Petição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 22/35
4/12 uma fase Zr^Mg;
- uma camada de liga metálica à base de zinco tendo um teor de magnésio predeterminado de entre 4% e 20% em peso é continuamente depositada no substrato pela evaporação de um banho de uma liga metálica à base de zinco tendo inicialmente um teor de magnésio predeterminado de entre 30% e 55% em peso de magnésio, o teor inicial sendo mantido constante durante a deposição;
- uma camada de liga metálica à base de zinco tendo um teor de magnésio predeterminado de entre 4% e 18%em peso é depositada continuamente no substrato pela evaporação de um banho de liga metálica à base de zinco tendo inicialmente um teor de magnésio predeterminado de entre 30% e 50% em peso de magnésio, o teor inicial sendo mantido constante durante a deposição.
- os elementos metálicos têm temperaturas de evaporação que diferem de não mais de 100°C na pressão de evaporação selecionada;
- uma camada de liga metálica é depositada com uma espessura de entre 0,1 e 20 gm;
- o substrato é uma tira metálica e preferivelmente uma tira de aço;
- a tira metálica é feita de um aço endurecido ao fogo; e
- a camada de liga metálica consiste predominantemente em uma fase Zn -Mg.
[014] Um segundo objetivo da invenção consiste em um equipamento de deposição a vácuo para depositar continuamente revestimentos formados de ligas metálicas compreendendo pelo menos dois elementos metálicos em um substrato em movimento, compreendendo uma câmara de deposição a vácuo e meios para movimentar o substrato através dessa câmara, o equipamento também compreendendo:
- um meio de revestimento a jato de vapor sônico;
- um meio para alimentar o mencionado meio de revestimento com vapor compreendendo pelo menos dois elementos metálicos em uma
Petição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 23/35
5/12 razão predeterminada e constante;
- meios para evaporar o banho de liga metálica compreendendo os mencionados elementos metálicos, que alimentarão o mencionado meio de revestimento; e
- meios para ajustar a composição do banho de liga metálica, permitindo que ela seja mantida constante durante o curso do tempo.
O equipamento conforme a invenção pode também compreender as seguintes variantes, tomadas isoladamente ou em combinação:
- os meios para ajustar a composição do banho de liga metálica compreendem meios para alimentar o meio de evaporação com uma liga metálica fundida de composição controlada;
- o meio de evaporação consiste em um cadinho de evaporação fornecido com meios de aquecimento e o mencionado meio para alimentar o mencionado cadinho de evaporação com uma liga de metal fundido de composição controlada compreende um forno de recarga que é conectado ao meio de alimentação de lingote metálico e é fornecido com um sistema de aquecimento, o mencionado forno de recarga sendo conectado ao cadinho de evaporação que ele alimenta;
- o equipamento também inclui um meio para circular continuamente o banho, na forma de um tubo de recirculação conectando o cadinho de evaporação ao forno de recarga;
- o cadinho de evaporação é colocado na câmara de vácuo e o forno de recarga é colocado fora da câmara de vácuo;
- o forno de recarga e o cadinho de evaporação são colocados lado a lado e têm uma parede comum ligada por pelo menos uma abertura localizada abaixo do nível do banho de liga metálica mas acima do fundo do forno e do cadinho; e
- o cadinho de evaporação é colocado em uma câmara confinada e o forno de recarga é colocado fora da câmara confinada.
[015] Um terceiro objetivo da invenção consiste em um lingote à base de zinco contendo 30 a 55% em peso de magnésio, preferivelmente 30 a 50% em peso de magnésio, e capaz de ser usado para implementar o
Petição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 24/35
6/12 processo conforme a invenção ou em um equipamento conforme a invenção.
[016] A invenção consiste em depositar uma liga metálica de uma composição dada em um substrato por um processo de revestimento por jato de vapor.
[017] Graças à diferença de pressão criada entre um cadinho de evaporação fechado e a câmara de deposição, é possível gerar, através de uma fenda estreita, um jato de vapor metálico de velocidade possivelmente sônica. O leitor pode se referir à patente WO 97/47782 para uma descrição mais completa dos detalhes desse tipo de dispositivo.
[018] O dispositivo de alimentação de vapor JVD (Deposição de Jato de Vapor) vem da evaporação a vácuo direta de um banho da própria liga, a composição do banho sendo mantida constante no curso do tempo.
[019] Agora, tomando o exemplo de uma liga à base de zinco contendo magnésio, cada um desses dois elementos tem uma pressão de vapor diferente. A composição da camada depositada não será, portanto, a mesma que aquela do lingote usado como matéria-prima para a evaporação. Assim, como pode ser visto na figura 1, que mostra o teor de magnésio em % em peso no revestimento plotado no eixo y em função do teor de magnésio em % em peso, para obter um teor de magnésio de 16% no revestimento é necessário ter 48% de magnésio no banho de metal.
[020] Devido a essa diferença na pressão de vapor dos elementos da liga, a composição do banho de liga usado para a evaporação e, de fato, o fluxo de vapor correspondente variarão pelo curso do tempo com, no caso de zinco-magnésio, um enriquecimento progressivo com magnésio.
[021 ] Para manter a composição do fluxo de evaporação constante pelo curso do tempo, é necessário fornecer um dispositivo que permita que a composição do banho seja mantida constante se for desejado ser caPetição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 25/35
7/12 paz de depositar esse tipo de revestimento no contexto da implementação industrial.
Breve Descrição dos Desenhos [022] Outras características e vantagens da invenção tornarse-ão aparentes na leitura da descrição detalhada a seguir dada somente como forma de exemplo, em relação às figuras anexas nas quais:
- a figura 1 mostra o teor de magnésio em % em peso em um revestimento Zn-Mg em função do teor de magnésio em % em peso no banho de líquido metálico antes da evaporação;
- a figura 2 mostra uma primeira configuração de um equipamento conforme a invenção;
- a figura 3 mostra uma segunda modalidade de um equipamento conforme a invenção; e
- a figura 4 mostra a microestrutura de um revestimento de 5 gm de liga de Zn-Mg depositada em um aço de baixo carbono laminado a frio.
Descrição de realizações da Invenção [023] A descrição que segue refere-se a um revestimento de uma liga de zinco contendo magnésio, mas é bastante óbvio que o equipamento conforme a invenção não é limitado a ela, e que é possível depositar muitos outros revestimentos à base de ligas metálicas.
[024] Uma primeira modalidade de um equipamento conforme a invenção é mostrado mais particularmente na figura 2, que mostra um equipamento 1 compreendendo uma câmara de deposição a vácuo 2. Essa câmara 2 é preferivelmente mantida a uma pressão de entre 0,01 a 100 Pa (10-8 a 10-4 bar). Ele tem uma entrada load-lock e uma saída load-lock (não-mostradas) entre os quais um substrato S, tal como, por exemplo, uma tira de aço, passa.
[025] O substrato S pode ser feito passar por qualquer meio adequado, dependendo da natureza e da forma do mencionado substrato.
Petição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 26/35
8/12
Um cilindro de apoio giratório no qual a tira de aço pode ser conduzida pode, em particular, ser usado.
[026] Colocada opostamente à face do substrato S que tem que ser revestida há uma pequena câmara de extração 7 fornecida com uma abertura estreita, cujo comprimento está próximo à largura do substrato a ser revestido. Essa câmara pode, por exemplo, ser feita de grafite e pode ser montada, diretamente ou de outra forma, em um cadinho de evaporação 3 que contém o metal líquido a ser depositado no substrato S. O cadinho de evaporação 3 é recarregado continuamente com metal líquido através de um tubo 4 conectado a um forno de fusão 5 que é colocado abaixo da câmara de extração 7 e está à pressão atmosférica. Um tubo de transbordamento 6 também conecta o cadinho de evaporação 3 diretamente ao forno de recarga 5. Os elementos 3, 4, 5 e 6 são aquecidos até temperaturas suficientemente altas para o vapor de metal não condensar ou o metal não solidificar em suas respectivas paredes.
[027] O cadinho de evaporação 3 e o forno de recarga de metal líquido 5 são vantajosamente fornecidos com um aquecedor de indução (não-mostrado) que tem a vantagem de fazer mais facilmente a agitação e a homogeneização da composição do banho de liga metálica.
[028] Quando é desejado operar o equipamento 1, a composição da liga metálica que se deseja depositar no substrato é inicialmente determinada e então é determinada a composição do banho para obter, em equilíbrio com esse banho, um vapor tendo a composição do revestimento pretendido. Lingotes L de uma liga metálica tendo essa composição precisa são produzidos, e são então introduzidos continuamente no forno de recarga 5.
[029] Uma vez que os lingotes L tenham fundido, o cadinho de evaporação 3 e o tubo 6 são aquecidos e então um vácuo é criado no cadiPetição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 27/35
9/12 nho de evaporação 3. O metal líquido contido no forno de recarga 5 enche então o cadinho de evaporação 3. Durante a operação do dispositivo, um nível constante de metal líquido é mantido no cadinho de evaporação ajustando-se a altura entre o cadinho de evaporação 3 e o forno de recarga 5, ou ativando-se a bomba de metal líquido P. Uma bomba de circulação (nãomostrada) instalada no tubo ladrão 6 torna possível tornar a encher de metal líquido o cadinho de evaporação 3 de modo a minimizar a acumulação de impurezas que, após um certo tempo, reduziríam grandemente a taxa de evaporação do metal.
[030] O banho é então completado continuamente e, portanto, tem a composição necessária em qualquer ponto, enquanto ainda minimiza a quantidade de material necessária para revestir o substrato.
[031] O cadinho de evaporação 3 é ele próprio fornecido com meio de aquecimento permitindo que o vapor se forme e para alimentar um meio de revestimento JVD consistindo da câmara de extração 7, que pulveriza um jato de vapor sônico no substrato em movimento S.
[032] Surpreendentemente, foi descoberto que pulverizandose um jato de vapor de metal sônico no substrato torna possível obter-se um revestimento de uma liga AB com mistura em escala nanométrica dos elementos A e B. Esse resultado é extremamente importante em termos de resistência à corrosão como, nesse caso, nenhuma microcélula pode ser formada na superfície do revestimento de liga AB quando este está em contato com condensados líquidos.
[033] O orifício de saída do jato sônico tem qualquer forma adequada, tal como uma fenda que pode ser ajustada de forma variada no sentido do comprimento ou no sentido da largura, por exemplo. Esse processo torna assim possível que a largura do orifício de saída de vapor seja facilmente adaptada de modo a manter um jato sônico dentro de uma ampla
Petição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 28/35
10/12 faixa de taxas de evaporação. Além disso, a possibilidade de adaptar seu comprimento à largura do substrato a ser revestido torna possível minimizar a perda de metal evaporado.
[034] Em uma segunda configuração conforme mostrado na Figura 3, um equipamento 11 compreende uma câmara de deposição a vácuo 12 similar à câmara 2. Um cadinho de evaporação 13 é colocado sob a câmara de vácuo 12 e é também conectado ao tubo 14.
[035] Um forno de recarga 15 é colocado ao lado do cadinho de evaporação 13, os dois componentes compartilhando uma parede comum 16 ligada por uma abertura de comunicação 19 colocada abaixo do nível do banho de liga metálica mas acima do fundo desses componentes de modo a impedir que quaisquer impurezas que assentam no fundo do forno de recarga 15 sejam introduzidas no cadinho de evaporação 13.
[036] O cadinho de evaporação 13, além disso, é colocado em uma câmara confinada 18, posicionada fora da câmara de vácuo 12.
[037] O tubo 14 alimenta um dispositivo de alimentação de vapor JVD, similar ao dispositivo de alimentação de vapor 7.
[038] Da mesma forma que previamente, a composição do revestimento que se deseja obter no substrato é inicialmente determinada e então é deduzida desta a composição do banho de metal que tem que estar presente no cadinho de evaporação 13, e, portanto, a composição dos lingotes L com os quais o forno de recarga 15 tem que ser alimentados.
[039] Os lingotes são colocados no forno de recarga 15, que é fornecido com um sistema de aquecimento por indução. À medida que eles fundem, a liga metálica passa do forno de recarga 15 para o cadinho de evaporação 13 através da abertura 19. O cadinho de evaporação 13 é, ele próprio, fornecido com um sistema de aquecimento de indução que permite que um vapor de liga metálica tendo uma composição requerida seja gerado.
Petição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 29/35
11/12
Esse vapor é então transportado para o dispositivo de revestimento JVD 17 através do tubo 14 que é vantajosamente fornecido com uma válvula V para regular a taxa de fluxo de vapor.
[040] Havendo uma abertura de comunicação 19 entre o forno de recarga 15 e o cadinho de evaporação 13 é possível alimentar o cadinho de evaporação 13 mas também fornecer uma circulação constante entre esses dois componentes, garantindo assim que uma composição constante seja mantida em todos os pontos do banho contido pelo cadinho de evaporação 13.
[041] O processo conforme a invenção se aplica mais particularmente, mas não apenas, ao tratamento de tiras metálicas, quer prérevestidas, quer não pré-revestidas. Naturalmente, o processo conforme a invenção pode ser empregado para qualquer substrato revestido ou não, tais como, por exemplo, tiras de alumínio, tiras de vidro, ou tiras de cerâmica.
[042] O processo será aplicado mais particularmente a um substrato sujeito a sofrer uma deterioração em suas propriedades durante um tratamento térmico de difusão, tal como uma tira de aço endurecida ao fogo que contenha grandes quantidades de carbono em solução sólida, que não deve se precipitar antes que a chapa tenha sido formada por estampagem ou qualquer outro processo adequado. Implementando-se o processo conforme a invenção torna-se possível fazer a deposição da liga metálica compatível com a maioria das metalurgias.
[043] O objetivo é, em particular, obter revestimentos de zincomagnésio. Entretanto, o processo não é limitado a esses revestimentos, mas preferivelmente abrange qualquer revestimento com base em uma liga metálica cujos elementos tenham temperaturas de evaporação que não diferem por mais de 100°C, pois assim o controle de seus teores relativos é facilitado.
Petição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 30/35
12/12 [044] Para dar uma indicação, pode ser feita menção de revestimentos feitos de zinco e outros elementos, tais como cromo, níquel titânio, manganês e alumínio.
[045] Além disso, embora o processo e o equipamento conforme a invenção sejam mais particularmente planejados para a deposição de ligas metálicas binárias, isto não quer dizer que eles não possam ser adaptados para a deposição de ligas metálicas ternárias, tais como Zn-MgAl, ou mesmo a deposição de ligas quaternárias, tais como, por exemplo, Zn-Mg-AI-Si.
[046] No caso de deposição de zinco-magnésio, a espessura do revestimento estará preferivelmente entre 0,1 e 20 gm. Isto é porque abaixo de 0,1 gm haveria o risco de que a proteção contra a corrosão do substrato seria insuficiente. A espessura do revestimento não excede 20 uma vez que é desnecessário ir além dessa espessura para ter um nível de resistência à corrosão que é necessário, em particular, no campo automotivo ou da construção. Em geral, a espessura pode ser limitada a 5 gm para aplicações automotivas.
[047] Executando-se experiências industriais foi mostrado que a deposição pelo processo torna possível alcançar uma alta taxa de deposição de 5 gm de revestimento de liga de Zn-Mg que pode ser depositado em uma linha se movendo a 10 m/min, com um rendimento de material maior que 98% graças à orientação direcionada do jato. Além disso, a densidade das camadas de revestimento obtidas é excelente, devido à maior energia de vapor. A figura 4 mostra assim a microestrutura de um revestimento de liga Zn-Mg de 5 gm depositado em um aço de baixo carbono laminado a frio.
Petição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 31/35
1/3
Claims (7)
- REIVINDICAÇÕES1. PROCESSO PARA REVESTIMENTO DE UM SUBSTRATO (S) onde uma camada de liga metálica à base de zinco, tendo um teor predeterminado de magnésio de 4% a 20% em peso, é depositada continuamente sobre o substrato (S), por meio de um equipamento de deposição a vácuo (1, 11,21), o qual compreende um equipamento de revestimento com jato de vapor (7, 17) para pulverizar sobre o substrato (S), a uma velocidade sônica, um vapor obtido pela evaporação (3, 13) de um banho de liga metálica à base de zinco tendo inicialmente um teor predeterminado de magnésio de 30 a 55% em peso de magnésio, caracterizado pelo fato que o teor inicial do banho é mantido constante durante a deposição por meios para ajustar a composição do banho de liga metálica os quais compreendem meios para alimentar os meios de evaporação (3, 13) com uma liga metálica fundida de composição controlada.
- 2. PROCESSO de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de a camada de liga metálica à base de zinco, tendo um teor predeterminado de magnésio de 4% a 18% em peso, é continuamente depositada sobre o substrato pela evaporação do banho de liga metálica à base de zinco, com um teor predeterminado de magnésio de 30% a 50% em peso de magnésio, e sendo mantido constante durante a deposição.
- 3. PROCESSO de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 2, caracterizado pelo fato de que a camada de liga metálica é depositada com uma espessura de entre 0,1 e 20 gm.
- 4. PROCESSO de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo fato de que o substrato (S) é uma tira metálica, e preferivelmente uma tira de aço.
- 5. PROCESSO de acordo com a reivindicação 4, caracterizado pelo fato de que a tira metálica é feita de aço endurecido ao fogo.Petição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 32/352/3
- 6. EQUIPAMENTO DE DEPOSIÇÃO A VÁCUO (1,21) para depositar continuamente revestimentos formados de ligas metálicas compreendendo pelo menos dois elementos metálicos em um substrato em movimento (S), o equipamento compreendendo uma câmara de deposição a vácuo (2) e meios para movimentar o substrato (S) através da câmara (2), o equipamento (1,21), caracterizado por também compreender:- um equipamento de jato de vapor sônico (7);- meios para alimentar o equipamento (7) com vapor compreendendo os dois elementos metálicos em uma razão predeterminada e constante;- meios (3) para evaporação de um banho de liga metálica compreendendo os elementos metálicos, que alimentarão o equipamento (7);- em que os meios de evaporação (3) consistem em um cadinho de evaporação (3), fornecido com meios de aquecimento e meios para alimentar o cadinho de evaporação (3) com uma liga metálica fundida de composição controlada a qual compreende um forno de recarga (5) que é conectado aos meios de alimentação de lingote metálico e é fornecido com um sistema de aquecimento, o forno de recarga (5) sendo conectado ao cadinho de evaporação (3) que ele alimenta,- meios para ajustar a composição do banho de liga metálica constante ao longo do tempo, compreendendo meios para alimentar os meios de evaporação (3) com uma liga metálica fundida de composição controlada, e- meios para constantemente circular o banho, na forma de um tubo de recirculação (6), que conectam o mencionado cadinho de evaporação (3) ao forno de recarga (5), em que o cadinho de evaporação (3) é colocado na câmara de vácuo (2) e o forno de recarga (5) é colocado fora da câmara de vácuo (2).
- 7. EQUIPAMENTO DE DEPOSIÇÃO A VÁCUO (11,21) paraPetição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 33/353/3 depositar continuamente revestimentos formados de ligas metálicas compreendendo pelo menos dois elementos metálicos em um substrato em movimento (S), o equipamento compreendendo uma câmara de deposição a vácuo (12) e meios para movimentar o substrato (S) através da câmara (12), o equipamento (11,21), caracterizado por também compreender:- um equipamento de jato de vapor sônico (17);- meios para alimentar o equipamento (17) com vapor compreendendo os dois elementos metálicos em uma razão predeterminada e constante;- meios (13) para evaporação de um banho de liga metálica compreendendo os elementos metálicos, que alimentarão o equipamento (17); em que os meios de evaporação (13) consistem em um cadinho de evaporação (13), fornecido com meios de aquecimento e meios para alimentar o cadinho de evaporação (13) com uma liga metálica fundida de composição controlada a qual compreende um forno de recarga (15) que é conectado aos meios de alimentação de lingote metálico e é fornecido com um sistema de aquecimento, o forno de recarga (15) sendo conectado ao cadinho de evaporação (13) que ele alimenta,- meios para ajustar a composição do banho de liga metálica constante ao longo do tempo compreendendo meios para alimentar os meios de evaporação (13) com uma liga metálica fundida de composição controlada, no qual o forno de recarga (5) e o cadinho de evaporação (13) são colocados lado a lado e têm uma parede comum (16) ligados por pelo menos uma abertura (19) localizada abaixo do nível do banho de liga metálica mas acima do fundo do forno (15) e do mencionado cadinho (13), e em que o cadinho de evaporação (13) é colocado em uma câmara confinada (18) e o forno de recarga (15) é colocado fora da mencionada câmara confinada (18).Petição 870180061033, de 16/07/2018, pág. 34/351/3EÍSLl2/3
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP07290342A EP1972699A1 (fr) | 2007-03-20 | 2007-03-20 | Procede de revetement d'un substrat et installation de depot sous vide d'alliage metallique |
| PCT/FR2008/000347 WO2008142222A1 (fr) | 2007-03-20 | 2008-03-19 | Procédé de revêtement d'un substrat et installation de dépôt sous vide d'alliage métallique |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BRPI0809194A2 BRPI0809194A2 (pt) | 2014-09-23 |
| BRPI0809194B1 true BRPI0809194B1 (pt) | 2018-12-04 |
Family
ID=38370938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BRPI0809194A BRPI0809194B1 (pt) | 2007-03-20 | 2008-03-19 | processo para revestimento de um substrato e equipamento de deposição a vácuo |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US8481120B2 (pt) |
| EP (2) | EP1972699A1 (pt) |
| JP (1) | JP5873621B2 (pt) |
| KR (1) | KR101453583B1 (pt) |
| CN (1) | CN101680080B (pt) |
| BR (1) | BRPI0809194B1 (pt) |
| CA (1) | CA2681329C (pt) |
| ES (1) | ES2599364T3 (pt) |
| HU (1) | HUE031482T2 (pt) |
| MA (1) | MA31417B1 (pt) |
| MX (1) | MX2009009914A (pt) |
| PL (1) | PL2129810T3 (pt) |
| RU (1) | RU2456372C2 (pt) |
| UA (1) | UA99280C2 (pt) |
| WO (1) | WO2008142222A1 (pt) |
| ZA (1) | ZA200906306B (pt) |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2199425A1 (fr) * | 2008-12-18 | 2010-06-23 | ArcelorMittal France | Générateur de vapeur industriel pour le dépôt d'un revêtement d'alliage sur une bande métallique (II) |
| KR101639811B1 (ko) * | 2009-09-28 | 2016-07-15 | 주식회사 포스코 | 용융금속 공급장치 |
| KR101639813B1 (ko) * | 2009-10-08 | 2016-07-15 | 주식회사 포스코 | 연속 코팅 장치 |
| CN103249860B (zh) | 2010-12-13 | 2016-03-16 | Posco公司 | 连续涂布设备 |
| AU2012206581B2 (en) * | 2011-01-14 | 2017-03-30 | Arcelormittal Investigacion Y Desarrollo | Automatic feeding device for an industrial metal-vapor generator |
| WO2013091889A1 (en) | 2011-12-23 | 2013-06-27 | Tata Steel Nederland Technology Bv | Substrate with a double layered coating |
| US8778081B2 (en) | 2012-01-04 | 2014-07-15 | Colorado State University Research Foundation | Process and hardware for deposition of complex thin-film alloys over large areas |
| AU2013242397B2 (en) * | 2012-03-30 | 2017-06-15 | Posco | Method and apparatus for feeding liquid metal to an evaporator device |
| KR101439694B1 (ko) | 2012-12-26 | 2014-09-12 | 주식회사 포스코 | Zn-Mg 합금도금강판 및 그의 제조방법 |
| KR102111020B1 (ko) * | 2013-05-02 | 2020-05-15 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 |
| UA117592C2 (uk) | 2013-08-01 | 2018-08-27 | Арселорміттал | Пофарбований оцинкований сталевий лист та спосіб його виготовлення |
| UA116262C2 (uk) * | 2013-08-01 | 2018-02-26 | Арселорміттал | Сталевий лист з цинковим покриттям |
| EP3066229B1 (en) * | 2013-11-05 | 2020-08-26 | Tata Steel Nederland Technology B.V. | Method for controlling the composition of liquid metal in an evaporator device |
| EP3155140B1 (en) * | 2014-06-11 | 2018-03-21 | Tata Steel Nederland Technology B.V. | Valve for high temperature liquid |
| KR102392869B1 (ko) * | 2016-05-03 | 2022-04-29 | 타타 스틸 네덜란드 테크날러지 베.뷔. | 전자기 펌프의 온도를 제어하기 위한 방법 |
| WO2018020296A1 (en) | 2016-07-27 | 2018-02-01 | Arcelormittal | Apparatus and method for vacuum deposition |
| CN110114501B (zh) | 2016-12-26 | 2022-02-08 | Posco公司 | 点焊性及耐腐蚀性优异的多层镀锌合金钢材 |
| KR101940885B1 (ko) | 2016-12-26 | 2019-01-21 | 주식회사 포스코 | 점용접성 및 내식성이 우수한 단층 아연합금도금강재 및 그 제조방법 |
| WO2019043422A1 (en) * | 2017-08-30 | 2019-03-07 | Arcelormittal | COATED METALLIC SUBSTRATE |
| WO2019043424A1 (en) * | 2017-08-30 | 2019-03-07 | Arcelormittal | COATED METALLIC SUBSTRATE |
| WO2019116082A1 (en) * | 2017-12-14 | 2019-06-20 | Arcelormittal | Vacuum deposition facility and method for coating a substrate |
| KR102109242B1 (ko) | 2017-12-26 | 2020-05-11 | 주식회사 포스코 | 점용접성 및 내식성이 우수한 다층 아연합금도금강재 |
| WO2019239185A1 (en) | 2018-06-13 | 2019-12-19 | Arcelormittal | Vacuum deposition facility and method for coating a substrate |
| WO2019239186A1 (en) * | 2018-06-13 | 2019-12-19 | Arcelormittal | Vacuum deposition facility and method for coating a substrate |
| WO2019239184A1 (en) * | 2018-06-13 | 2019-12-19 | Arcelormittal | Vacuum deposition facility and method for coating a substrate |
| RU185096U1 (ru) * | 2018-08-09 | 2018-11-21 | Акционерное общество "Новосибирский приборостроительный завод" | Устройство для измерения спектров отражения слоев многослойного покрытия в процессе их напыления |
| JP2019060021A (ja) * | 2018-11-09 | 2019-04-18 | アルセロルミタル・インベステイガシオン・イ・デサロジヨ・エセ・エレ | 亜鉛コーティングを備えた塗装鋼板 |
| WO2020109849A1 (en) | 2018-11-30 | 2020-06-04 | Arcelormittal | Wire injection |
| CN112575294B (zh) * | 2019-09-29 | 2023-02-10 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种具有双隔板的真空镀膜装置 |
| CN113564534B (zh) * | 2020-04-28 | 2023-05-09 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种真空镀机组镀液连续供给装置及其供给方法 |
| CN113368522B (zh) * | 2021-07-02 | 2022-12-23 | 上海大学 | 一种铟的真空蒸馏装置和蒸馏方法 |
| KR102559972B1 (ko) | 2021-07-21 | 2023-07-27 | 한국생산기술연구원 | 바나듐이 첨가된 고온 저마찰 특성 다성분계 박막 및 이의 제조방법 |
| DE102021127116A1 (de) * | 2021-10-19 | 2023-04-20 | Thyssenkrupp Steel Europe Ag | Verfahren zur Beschichtung eines Stahlflachproduktes mit geringer Lackkrateranfälligkeit |
Family Cites Families (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1031996A (fr) * | 1951-02-02 | 1953-06-29 | Dominion Magnesium Ltd | Préparation d'alliages à base de magnésium |
| US3467058A (en) * | 1965-12-03 | 1969-09-16 | United States Steel Corp | Apparatus for vaporizing metal |
| JPS55128578A (en) * | 1979-03-27 | 1980-10-04 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Method and apparatus for vacuum deposition plating of metal |
| JPS59177370A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| JPS59177369A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| JPS60251273A (ja) * | 1984-05-28 | 1985-12-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸発装置の蒸発量制御方法 |
| GB8430509D0 (en) * | 1984-12-04 | 1985-01-09 | Secr Defence | Alloy production |
| JP2612602B2 (ja) * | 1987-12-17 | 1997-05-21 | 東洋インキ製造 株式会社 | 連続蒸着フィルムの製造方法および装置 |
| US5002837A (en) * | 1988-07-06 | 1991-03-26 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Zn-Mg alloy vapor deposition plated metals of high corrosion resistance, as well as method of producing them |
| JPH0297663A (ja) * | 1988-10-03 | 1990-04-10 | Kobe Steel Ltd | Zn−Mg系蒸着めっき鋼板の製造方法 |
| JPH0273960A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-13 | Kobe Steel Ltd | 真空蒸着装置 |
| US5132506A (en) * | 1990-11-28 | 1992-07-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Vacuum evaporation apparatus and method for making vacuum evaporated sheet |
| JPH07278798A (ja) * | 1994-04-14 | 1995-10-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 |
| JPH0953173A (ja) * | 1995-08-18 | 1997-02-25 | Nisshin Steel Co Ltd | 蒸発材料の安定供給方法 |
| JPH09256157A (ja) * | 1996-03-22 | 1997-09-30 | Nisshin Steel Co Ltd | Zn−Mg蒸着めっき鋼板の製造方法 |
| BE1010351A6 (fr) * | 1996-06-13 | 1998-06-02 | Centre Rech Metallurgique | Procede et dispositif pour revetir en continu un substrat en mouvement au moyen d'une vapeur metallique. |
| BE1010720A3 (fr) * | 1996-10-30 | 1998-12-01 | Centre Rech Metallurgique | Procede et dispositif pour revetir en continu un substrat en mouvement au moyen d'un alliage metallique en phase vapeur. |
| US6309508B1 (en) * | 1998-01-15 | 2001-10-30 | 3M Innovative Properties Company | Spinning disk evaporator |
| JP3992251B2 (ja) * | 1998-03-30 | 2007-10-17 | 三井金属鉱業株式会社 | 亜鉛合金の鋳返し時に使用するマグネシウム含量調整用母合金 |
| US6251233B1 (en) * | 1998-08-03 | 2001-06-26 | The Coca-Cola Company | Plasma-enhanced vacuum vapor deposition system including systems for evaporation of a solid, producing an electric arc discharge and measuring ionization and evaporation |
| DE19843818A1 (de) * | 1998-09-24 | 2000-03-30 | Leybold Systems Gmbh | Bedampfungsvorrichtung für Vakuum-Bedampfungsanlagen |
| EP1174526A1 (en) * | 2000-07-17 | 2002-01-23 | Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO | Continuous vapour deposition |
| EP1182272A1 (fr) * | 2000-08-23 | 2002-02-27 | Cold Plasma Applications C.P.A. | Procédé et dispositif permettant le dépôt de couches métalliques en continu par plasma froid |
| DE10102932C1 (de) * | 2001-01-23 | 2002-08-22 | Salzgitter Ag | Verfahren zur Herstellung eines kalt gewalzten Bandes oder Bleches aus Stahl und nach dem Verfahren herstellbares Band oder Blech |
| SE527180C2 (sv) * | 2003-08-12 | 2006-01-17 | Sandvik Intellectual Property | Rakel- eller schaberblad med nötningsbeständigt skikt samt metod för tillverkning därav |
| US7339139B2 (en) * | 2003-10-03 | 2008-03-04 | Darly Custom Technology, Inc. | Multi-layered radiant thermal evaporator and method of use |
| LV13383B (en) * | 2004-05-27 | 2006-02-20 | Sidrabe As | Method and device for vacuum vaporization metals or alloys |
| RU2277137C1 (ru) * | 2005-01-18 | 2006-05-27 | Александр Васильевич Махоткин | Фокусированное осаждение пара |
| US20090020070A1 (en) * | 2007-07-19 | 2009-01-22 | Michael Schafer | Vacuum evaporation apparatus for solid materials |
| JP2010144221A (ja) * | 2008-12-18 | 2010-07-01 | Tokyo Electron Ltd | 原料ガス発生装置及び成膜装置 |
| JP2010159448A (ja) * | 2009-01-07 | 2010-07-22 | Canon Inc | 成膜装置及び成膜方法 |
-
2007
- 2007-03-20 EP EP07290342A patent/EP1972699A1/fr not_active Withdrawn
-
2008
- 2008-03-19 KR KR1020097019453A patent/KR101453583B1/ko active Active
- 2008-03-19 PL PL08787802T patent/PL2129810T3/pl unknown
- 2008-03-19 US US12/532,043 patent/US8481120B2/en active Active
- 2008-03-19 HU HUE08787802A patent/HUE031482T2/en unknown
- 2008-03-19 EP EP08787802.1A patent/EP2129810B1/fr active Active
- 2008-03-19 UA UAA200910581A patent/UA99280C2/ru unknown
- 2008-03-19 JP JP2009554057A patent/JP5873621B2/ja active Active
- 2008-03-19 WO PCT/FR2008/000347 patent/WO2008142222A1/fr not_active Ceased
- 2008-03-19 RU RU2009138469/02A patent/RU2456372C2/ru active
- 2008-03-19 CA CA2681329A patent/CA2681329C/fr active Active
- 2008-03-19 MX MX2009009914A patent/MX2009009914A/es active IP Right Grant
- 2008-03-19 CN CN2008800135887A patent/CN101680080B/zh active Active
- 2008-03-19 BR BRPI0809194A patent/BRPI0809194B1/pt active IP Right Grant
- 2008-03-19 ES ES08787802.1T patent/ES2599364T3/es active Active
-
2009
- 2009-09-11 ZA ZA200906306A patent/ZA200906306B/xx unknown
- 2009-09-11 MA MA32220A patent/MA31417B1/fr unknown
-
2013
- 2013-04-25 US US13/870,351 patent/US20130239890A1/en not_active Abandoned
-
2017
- 2017-12-21 US US15/851,154 patent/US20180112305A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010522272A (ja) | 2010-07-01 |
| KR20090122247A (ko) | 2009-11-26 |
| CA2681329C (fr) | 2012-05-22 |
| US20130239890A1 (en) | 2013-09-19 |
| MX2009009914A (es) | 2009-10-20 |
| JP5873621B2 (ja) | 2016-03-01 |
| ZA200906306B (en) | 2010-05-26 |
| CN101680080A (zh) | 2010-03-24 |
| US20180112305A1 (en) | 2018-04-26 |
| CA2681329A1 (fr) | 2008-11-27 |
| PL2129810T3 (pl) | 2017-08-31 |
| EP2129810B1 (fr) | 2016-07-20 |
| UA99280C2 (ru) | 2012-08-10 |
| RU2009138469A (ru) | 2011-04-27 |
| ES2599364T3 (es) | 2017-02-01 |
| EP2129810A1 (fr) | 2009-12-09 |
| HUE031482T2 (en) | 2017-07-28 |
| WO2008142222A1 (fr) | 2008-11-27 |
| CN101680080B (zh) | 2012-07-11 |
| BRPI0809194A2 (pt) | 2014-09-23 |
| MA31417B1 (fr) | 2010-06-01 |
| RU2456372C2 (ru) | 2012-07-20 |
| US8481120B2 (en) | 2013-07-09 |
| KR101453583B1 (ko) | 2014-11-03 |
| US20100104752A1 (en) | 2010-04-29 |
| EP1972699A1 (fr) | 2008-09-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| BRPI0809194B1 (pt) | processo para revestimento de um substrato e equipamento de deposição a vácuo | |
| US11781213B2 (en) | Apparatus and method for vacuum deposition | |
| BRPI0918113B1 (pt) | Instalação de depósito a vácuo de um revestimento de liga metálica sobre um substrato e método para depositar um revestimento de liga metálica sobre um substrato | |
| JP7128281B2 (ja) | 蒸着装置及び蒸着方法 | |
| KR100287978B1 (ko) | 증발속도를 크게 한 mg 증발방법 | |
| BR112018076292B1 (pt) | Instalação de deposição a vácuo e processo para revestir um substrato | |
| JPH0297663A (ja) | Zn−Mg系蒸着めっき鋼板の製造方法 | |
| JPH03170661A (ja) | 昇華性金属の蒸発方法 | |
| KR100198049B1 (ko) | 내열성 및 내식성이 우수한 알루미늄-아연/아연-알루미늄 이층형 합금 도금강판 | |
| BR112020025040B1 (pt) | Instalação de deposição a vácuo | |
| BR112020025040A2 (pt) | instalação de deposição a vácuo | |
| JPH07166329A (ja) | Al−Cr合金蒸着めっき材の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| B07A | Application suspended after technical examination (opinion) [chapter 7.1 patent gazette] | ||
| B09A | Decision: intention to grant [chapter 9.1 patent gazette] | ||
| B16A | Patent or certificate of addition of invention granted [chapter 16.1 patent gazette] |
Free format text: PRAZO DE VALIDADE: 10 (DEZ) ANOS CONTADOS A PARTIR DE 04/12/2018, OBSERVADAS AS CONDICOES LEGAIS. |