CZ302154B6 - Predmet, obsahující sklenený substrát, mající v povrchu ionty alkalického kovu nebo kovu - Google Patents
Predmet, obsahující sklenený substrát, mající v povrchu ionty alkalického kovu nebo kovu Download PDFInfo
- Publication number
- CZ302154B6 CZ302154B6 CZ20010896A CZ2001896A CZ302154B6 CZ 302154 B6 CZ302154 B6 CZ 302154B6 CZ 20010896 A CZ20010896 A CZ 20010896A CZ 2001896 A CZ2001896 A CZ 2001896A CZ 302154 B6 CZ302154 B6 CZ 302154B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- medium
- oxide
- article
- alkali metal
- specific gravity
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 91
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 49
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 title claims abstract description 14
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 104
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 54
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 53
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 48
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 39
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 39
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 51
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 44
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 19
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims description 13
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 12
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 8
- 239000010987 cubic zirconia Substances 0.000 claims description 7
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011244 liquid electrolyte Substances 0.000 claims description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 101
- 239000010408 film Substances 0.000 description 65
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 21
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 15
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 15
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 13
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 10
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 9
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 8
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 7
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 5
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 5
- -1 for example Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000012799 electrically-conductive coating Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical class [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 description 2
- VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N iron(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Fe+2] VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N oxotungsten Chemical class [W]=O VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920006384 Airco Polymers 0.000 description 1
- 241000282461 Canis lupus Species 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- XRRQZKOZJFDXON-UHFFFAOYSA-N nitric acid;silver Chemical compound [Ag].O[N+]([O-])=O XRRQZKOZJFDXON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTCVAHKKMMUFAY-UHFFFAOYSA-N oxosilver Chemical class [Ag]=O OTCVAHKKMMUFAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N oxotin;zinc Chemical compound [Zn].[Sn]=O KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006213 oxygenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 235000020004 porter Nutrition 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000007767 slide coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- KBEVZHAXWGOKCP-UHFFFAOYSA-N zinc oxygen(2-) tin(4+) Chemical compound [O--].[O--].[O--].[Zn++].[Sn+4] KBEVZHAXWGOKCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2453—Coating containing SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3607—Coatings of the type glass/inorganic compound/metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3655—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing at least one conducting layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3668—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having electrical properties
- C03C17/3671—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having electrical properties specially adapted for use as electrodes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/212—TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/22—ZrO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/23—Mixtures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/445—Organic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
- C03C2217/477—Titanium oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
- C03C2218/156—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by magnetron sputtering
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24008—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including fastener for attaching to external surface
- Y10T428/24017—Hook or barb
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Thermally Insulated Containers For Foods (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Table Devices Or Equipment (AREA)
Abstract
Predmet obsahuje sklenený substrát, mající v povrchu ionty alkalického kovu nebo kovu, médium, uložené pres povrch substrátu a v odstupu od nej, pricemž médium se vyznacuje tím, že predem urcené koncentrace iontu alkalického kovu poškozují jeho funkci. Mezi povrchem substrátu a médiem je uložena naprašovaná amorfní vrstva oxidu zirkonia, mající tlouštku v rozmezí od 3 do 12 nm (od 30 do 120 angströmu), nebo oxidu titanu v rozmezí od 4,5 do 18 nm (od 45 do 180 angströmu) nebo oxidu zinku/titanu v rozmezí od 6 do 12 nm (od 60 do 120 angströmu) a mernou hmotnost v rozmezí od hodnoty, která je rovná 75 % merné hmotnosti príslušného oxidu v krystalické forme nebo vetší než tato hodnota, do hodnoty menší než 90 % merné hmotnosti tohoto oxidu v krystalické forme, pro vytvorení bariérové vrstvy proti iontum alkalických kovu mezi skleneným substrátem a médiem.
Description
Předmět, obsahující skleněný substrát, mající v povrchu ionty alkalického kovu nebo kovů
Oblast techniky
Vynález navazuje na přihlášku vynálezu US 19960597543 z 1. 2. 1996 (J. J. Finley and F. H. Gillery), která je částečným pokračováním přihlášky US 19940330148 ze 4.10. 1994 (J. J. Finley and F.H. Gillery), od níž bylo nyní upuštěno. Týká se bariérových vrstev, a konkrétněji bariérových vrstev pro bránění difúzi iontů alkalických kovů, jako jsou ionty sodíku, ze skleněného substrátu do média, například povlaku jako je elektrovodivý povlak nebo fotokatalytický povlak.
Dosavadní stav techniky
Ionty alkalických kovů, například ionty sodíku, ve skle, zejména při vysokých teplotách, migrují z povrchu skla do média, uloženého pres sklo. Například u displejů s tekutými krystaly (LCD), podobných těm, jaké jsou popsány v patentovém spisu US 5165972, migrují sodíkové ionty z povrchu skleněného substrátu do tekutého krystalového materiálu a působí jeho poškození. Také v elektrochromatických displejích migrují sodíkové ionty do povlaků, ležících na povrchu skleněného substrátu a/nebo do elektrolytu, což působí poškození povlaku a/nebo do elektrolytu, což působí poškození povlaku a/nebo elektrolytu. Během výroby LCD zařízení a/nebo elektrochromatických zařízení je skleněný substrát zahříván na teploty o velikosti až 593 °C (1100 °F) pro utěsnění zařízení. Během takového zahřívám se migrace sodíkových iontů urychluje.
Není-li jim bráněno, migrují sodíkové ionty do média, například elektrovodivého povlaku, elektrolytu a/nebo kapalného krystalového materiálu, ležícího přes povrch skleněného substrátu, čímž dochází k poškození média.
Předpokládá se také, že migrace iontů alkalického kovu, například migrace sodíkových iontů, také působí poškozování fotokatalytických kompozic typu, popsaného ve zveřejněné mezinárodní přihlášce vynálezu WO 95/11751, ve fotokataíytícky samočisticích povlacích typu, popsaného v přihlášce vynálezu US 19970899257, podané 23. 7. 1997 (CH. B. Greenber a kol.) a ve fotoelektrolyticky redukčním povlaku typu, popsaného v přihlášce vynálezu 19970927130, podané 2. 9. 1997 (J. P. Theil). Kompozice obsahují částice oxidu titanu nebo oxidu zinku, držené pohromadě a při skleněném substrátu silikonovým pojivém nebo povlaky oxidů titanu, oxidů železa, oxidů stříbra, oxidů mědi, oxidů wolframu, pro uvedení jen některých. Povrch kompozice a film mohou působit pri působení světla jako biocidní činidlo.
Jednou z technik, jak zabránit migraci iontů alkalických kovů nebo ji minimalizovat, je vytvořit mezi médiem a skleněným substrátem bariérový povlak.
Patent US 5165972 (Porter) popisuje bariérové povlaky pro zabraňování migraci iontů alkalických kovů z povrchu skla. Bariérový povlak se nanáší pyrolýzou plynného silanu na povrchu skla pri teplotě nad 600 °C v přítomnosti plynné elektrondonorové sloučeniny. Kyslík ze skla je s křemíkem včleňován do transparentního bariérového povlaku o tloušťce až 50 nanometrů na povrchu skla, pro zabraňování migraci iontů alkalických kovů do překryvných vrstev, které jsou na tyto ionty alkalických kovů citlivé. Jestliže se tabule skla mají zahřívat před vytvářením povlaku, vyžaduje například okysličování pyrolýzou velmi vysoké přívody energie, což proces zdražuje.
Patentový spis US 4238276 (Kinugawa) popisuje bariérovou vrstvu, obsahující oxid křemičitý, oxid titanu, oxid hlinitý, oxid zirkonia, oxid hořečnatý a oxid nikelnatý. Tento spis uvádí, že bariérový povlak z oxidu křemičitého má tloušťku 1000 ángstrómů (1 ángstróm = 0,1 nm). I když bariérový povlak tohoto typu je přijatelný, má nedostatky. Konkrétněji je ukládání vrstvy o tloušťce 1000 ángstrómů z oxidu křemičitého jakoukoli jinou technikou dražší, než ukládání
- 1 CZ 302154 B6 vrstvy oxidu křemičitého o tloušťce menší než 1000 ángstrómů pomocí stejného postupu. Dále nemusí tenká vrstva oxidu křemičitého typu, popsaného v patentu US 4238276, působit jako účinná bariéra.
Evropský patentový spis EP 0071865 (B) (Mizuhashi a spol.) popisuje skleněné těleso, mající skleněný substrát, obsahující alkalické prvky, a vrstvu z oxidu křemičitého, vytvořenou na jeho povrchu, pro zabraňování difúzi iontů alkalických kovů ze skleněného substrátu. Vrstva oxidu křemičitého má od 0,01 do 25 motárních procent vodíku, vázaného na křemík. 1 když postupy, uvedené v evropském patentovém spisu EP 0071865 (B), se zdají být schopny zabraňovat migralo ci iontů alkalických kovů, má řešení nedostatky. Konkrétněji může bariérová vrstva zachycovat plynný vodík, který může unikat při výrobě/použití výrobku, například LCD zařízení. Jak je zřejmé, je vhodné nemít povlak, který může nahodile uvolňovat plynný vodík do média, protože to může vést k poškozování média. Dáte může vodík, který je chemicky vázán v povlaku, ovlivňovat optické a mechanické vlastnosti povlaku.
Je tedy zřejmé, že by bylo výhodné vytvořit tenkou bariérovou vrstvu, která může být ekonomicky nanášena a neměla by nedostatky a omezení současně dostupných technologií.
Je také známo řešení z EP 0787696, navrhující bariéru proti iontům alkalických kovů z amorf20 ního oxidu kovů, mající měrnou hmotnost nejméně rovnou 90 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě. Také se zde uvádí, že amorfní filmy jsou účinnější jako bariérové vrstvy, když se jejich měrná hmotnost zvyšuje, a navrhuje proto vrstvu z amorfního oxidu kovu, mající měrnou hmotnost nejméně rovnou 90 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě.
Podstata vynálezu
Vynález je založen na poznání toho, že je žádoucí využít tenkého materiálu jako bariéry proti difúzi iontů alkalických kovů, jako sodíkových iontů. I když známý stav techniky navrhuje, že index lomu takové difuzní vrstvy by měl co nejblíže odpovídat indexu lomu substrátu, takže se volí oxid křemičitý pro skleněné substráty, jsou podle vynálezu vytvářeny velmi tenké vrstvy oxidů kovů, jako oxidu zirkonia, oxidu titanu a oxidu zinku/cínu, které tvoří účinné bariéry proti difúzi sodíkových iontů, aniž by se poškozovaly optické vlastnosti povlečeného skla.
Předmětem vynálezu je podle prvního základního provedení předmět, obsahující skleněný substrát, mající v povrchu ionty alkalického kovu nebo kovů, médium, uložené přes povrch substrátu a v odstupu od něj, přičemž médium se vyznačuje tím, že předem určené koncentrace iontů alkalického kovu poškozují jeho funkci, přičemž mezi povrchem a médiem je uložena napravovaná amorfní vrstva oxidu zirkonia, mající tloušťku v rozmezí od 30 do 120 ángstrómů (od 3 do
12 nm; 1 ángstróm - 0,1 nm) a měrnou hmotnost v rozmezí od hodnoty, která je rovná 75 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě nebo větší než 75 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě, do hodnoty menší než 90 %, jeho měrné hmotnosti v krystalické formě, pro vytvoření bariérové vrstvy proti iontům alkalických kovů mezi skleněným substrátem a médiem.
Podle dalšího znaku vynálezu je měrná hmotnost amorfního oxidu zirkonia rovná nebo větší než
4,2 g/cm3 při použití kubického oxidu zirkonia a 4,42 g/cm3 při použití baddeleyitu.
Bariérová vrstva oxidu zirkonia má podle dalšího znaku vynálezu tloušťku v rozmezí od 3 do 60 ángstrómů.
Médium je s výhodou elektrovodivý povlak, zvolený ze skupiny, sestávající z oxidu india, oxidu cínu, oxidu india/cínu a oxidu zinku/hliníku.
Podle výhodného provedení vynálezu je médium fotakatalytícká kompozice. Kompozice s výho55 dou obsahuje Částice oxidu titanu v silikonovém pojivu.
-2 CZ 302154 B6
Podle dalšího provedení vynálezu je médium kapalný elektrolyt.
Vynález dále přináší v druhém základním provedení předmět, obsahující skleněný substrát, mají5 cí ionty alkalického kovu nebo kovů v povrchu, médium, uložené přes povrch substrátu a v odstupu od něj, přičemž médium se vyznačuje tím, že předem určené koncentrace iontů alkalického kovu poškozují jeho funkci, a mezi povrchem a médiem je uložena naprašovaná amorfní vrstva oxidu titanu, mající tloušťku v rozmezí od 45 do 180 ángstrómů (od 4,5 do 18 nm) a měrnou hmotnost v rozmezí od hodnoty, která je rovná 75 % jeho měrné hmotnosti v krystalické io formě nebo větší 75 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě, do hodnoty menší než 90 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě, pro vytvoření bariérové vrstvy proti iontům alkalických kovů mezi skleněným substrátem a médiem.
Měrná hmotnost vrstvy oxidu titanu je s výhodou rovná nebo větší než 3,2 g/cm3. Bariérová vrstva oxidu titanu má s výhodou tloušťku v rozmezí od okolo 90 do okolo 180 ángstrómů.
V uvedeném druhém základním provedení vynálezu může být médium elektrovodivý povlak, zvolený ze skupiny, sestávající z oxidu india, oxidu cínu, oxidu india/cínu a oxidu zinku/hliníku. Médium může být tato fotokatalytická kompozice. Tato kompozice s výhodou obsahuje částice io oxidu titanu v silikonovém pojivu. Médium také může být kapalný elektrolyt.
Vynález dále přináší v třetím základním provedení předmět, obsahující skleněný substrát, mající ionty alkalického kovu nebo kovů v povrchu, médium, uložené pres povrch substrátu a v odstupu od něj, přičemž médium se vyznačuje tím, že předem určené koncentrace iontů alkalického kovu poškozují jeho funkci, a mezi povrchem a médiem je uložena naprašovaná amorfní vrstva oxidu zinku/cínu, mající tloušťku v rozmezí od 60 do 120 ángstrómů (od 6 do 12 nm) a měrnou hmotnost v rozmezí od hodnoty, která je rovná 75 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě nebo větší 75 jeho měrné hmotnosti v krystalické formě, do hodnoty menší než 90 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě, pro vytvoření bariérové vrstvy proti iontům alkalických kovů mezi skleněným substrátem a médiem.
Vrstva oxidu zinku/cínu má s výhodou měrnou hmotnost 4,8 g/cm3. Tloušťka vrstvy oxidu zinku/cínu je s výhodou od 90 do 120 ángstrómů.
V uvedeném třetím základním provedení vynálezu může být médium elektrovodivý povlak, zvolený ze skupiny, sestávající z oxidu india, oxidu cínu, oxidu india/cínu a oxidu zinku/hliníku. Médium také může být fotokatalytická kompozice. Tato kompozice s výhodou obsahuje částice oxidu titanu v silikonovém pojivu. Médium také může být kapalný elektrolyt.
Vynález se obecně týká předmětu, majícího médium například ve formě fotokatalytického povlaku, povlaku snižujícího obsah vody, elektrovodivého povlaku, elektrolytu nebo fotochromatického zařízení a/nebo kapalného materiálu displeje s tekutými krystaly přes povrch skleněného substrátu a v odstupu od něj. Bariérová vrstva, například vrstva oxidu zinečnatého, oxidu titaničitého nebo oxidu zinku/cínu, se ukládá magnetronovým naprašo váním přes skleněný substrát pro vytváření bariérové vrstvy mezi médiem a skleněným substrátem. Bariérová vrstva nebo film je tenký amorfní film a má pri provedení vynálezu měrnou hmotnost rovnou nebo větší než 75 % a současně menší než 90 % měrné hmotnosti oxidu kovu filmu v kry stal ické formě, a bariérové filmy jsou v rozmezí od 30 do 180 ángstrómů (od 3 do 18 nm), v závislosti na zvoleném bariérovém filmu. í když oxid zirkonia, oxid titanu a oxid zinku/cínu mají indexy lomu výrazně vyšší než je index lomu typických skleněných substrátů, protože jsou velmi tenké, nedochází ke škodlivému účinku na optické vlastnosti povlečeného skleněného substrátu.
Skleněný substrát, mající bariérovou vrstvu, může být použit jako součástka článku displeje s tekutými krystaly a/nebo fotochromatického zařízení a/nebo může mít na sobě uložený fotoka55 talytický film.
-3CZ 302154 B6
Přehled obrázků na výkresech
Vynález je blíže vysvětlen v následujícím popisu na příkladech provedení s odvoláním na připo5 jené výkresy, ve kterých znázorňuje obr. 1 řez displejovým zařízením s tekutými krystaly (LCD), v němž jsou použity znaky vynálezu, obr. 2 řez plochým sklem s bariérovou vrstvou podle vynálezu mezi fotokatalytickou kompozicí a skleněným substrátem, obr. 3 boční pohled na naprašovací zařízení, s odejmutím stěn komory, pro znázornění dráhy katodového pouzdra vzhledem ke skleněnému substrátu, na kterém se má vytvářet povlak naprašováním, obr. 4 podobný pohled io jako na obr. 3, ukazující štíty na katodovém pouzdře podle vynálezu, obr. 5 grafické znázornění účinnosti při minimalizování migrace alkalických kovů bariérovou vrstvou z oxidu titanu při tloušťce 45, 90, 135 a 180 ángstromů (příklady 1 až 4) ve srovnání s nepovlečeným sklem, obr. 6 grafické znázornění účinnosti bariérové vrstvy z oxidu zirkon ia při tloušťce 30, 60, 90 a 120 ángstromů (příklady 5 až 8) ve srovnání s nepovlečeným sklem, obr. 7 grafické znázornění účinnosti bariérové vrstvy z oxidu zinku/cínu při tloušťce 30, 60, 90 a 120 ángstromů (srovnávací příklady 9 až 12) ve srovnání s nepovlečeným sklem, obr. 8 grafické znázornění účinnosti bariérových vrstev z oxidu titanu, oxidu zirkon ia a oxidu zinku/cínu při tloušťce 45, 30 a 30 ángstrómů (příklad 1, 5 a 9), obr. 9 grafické znázornění účinnosti bariérových vrstev z oxidu titanu, oxidu zirkon ί a a oxidu zinku/cínu při tloušťce 90, 60 a 60 ángstrOmů (příklad 2, 6 a 10), obr. 10 grafické znázornění účinnosti bariérových vrstev z oxidu titanu, oxidu zirkon ia a oxidu zinku/cínu v závislosti na tloušťce bariérové vrstvy (informace z obr. 5 až 9), obr. 11 snímek povlaku, vytvořeného podle vynálezu, pořízený transmisním elektronovým mikroskopem („TEM“) a obr. 12 obdobný snímek povlaku, vytvořeného jinak než podle vynálezu.
Příklady provedení vynálezu
Účinná bariérová vrstva z iontů alkalických kovů je s výhodou stabilní a zůstává nepropustná pro difúzi iontů alkalických kovů i při vysokých teplotách, jako 593 °C (1100 °F). Opticky má barié30 rová vrstva s výhodou vysokou propustnost v pásmu vlnových délek viditelného světla, takže neovlivňuje optické vlastnosti povlaku, který nad ní leží. V použitích, kde je povlak, ležící na vrstvě, elektrovodivý, je s výhodou bariérová vrstva elektricky nevodivá. Je-li povlak, ležící na vrstvě, podroben částečnému leptání, například pro vytváření obvodu, doporučuje se, aby bariérová vrstva byla nerozpustná v ieptacím činidle, často kyselině chlorovodíkové.
Jestliže je index lomu bariérové vrstvy dle možností co nejvíce přizpůsobený indexu lomu substrátu, jako je tomu při použití bariérové vrstvy na bázi oxidu křemičitého pro substrát ze sodnovápenato-křemičítého skla, může být nanesena pro vyšší účinnost bez velké ztráty propustnosti viditelného skla nebo bez jiných nežádoucích optických efektů tlustší bariérová vrstva, například jak je popsána v patentovém spisu US 4238276. Když však index lomu bariérové vrstvy neodpovídá indexu lomu substrátu, je dávána přednost tenčí bariérové vrstvě, pro zabránění ztrátě viditelného světla. Jak bude zřejmé, jsou bariérové vrstvy nebo filmy podle vynálezu tenké a stabilní.
Jedno z výhod vynálezu je vyloučení požadavku, aby bariérový film měl stejný nebo v podstatě stejný index lomu jako substrát. Jelikož jsou filmy tenké, mají minimální, nebo popřípadě vůbec žádný účinek na propustnost předmětu, opatřeného povlakem. Jinými slovy by měly být film a tloušťka filmu zvoleny tak, aby byly opticky přijatelné, například aby film nesnižoval propustnost substrátu, když je fílm přímo nanesen na substrátu, více než o 10 % přenosu, měřeného při 550 nm, a s výhodou ne více než o 5 %. Zvolené filmy dále nejsou rozpustné ve většině leptacích činidel.
Pro realizaci vynálezu jsou nej výhodnější skleněné substráty z běžného sodno-vápenato-křemičitého skla, vytvořené postupem float. Jak však bude zřejmé, nejsou bariérové vrstvy podle vynálezu omezeny na tento příklad a mohou být použity s jiným typem substrátu, z něhož mohou migrovat ionty alkalického kovu. Bariérové vrstvy, jimž je dávána přednost při realizaci vynále-4CZ 302154 B6 zu, zabraňují migraci iontů alkalických kovů, například iontů sodíku, ze substrátu do nad ním ležícího média, nebo takovou migraci minimalizují. Dále mohou být použity bariérové vrstvy podle vynálezu pro zabránění nebo minimalizaci migrace iontů alkalických kovů ze skla do médií, a to i když je sklo vystaveno zvýšeným teplotám, například teplotě 593 °C (1100 °F).
Jak je znázorněno na obr. 1, je LCD zařízení 10 podobné typu znázorněnému v patentovém spisu US 5165972 a obsahuje proti sobě uložené skleněné tabule 12, 14, oddělované od sebe obvodovým těsněním 16 pro vymezování komory 18, obsahující tekutý krystalový materiál 20. Každá z tabulí 12 a 14 je opatřena transparentní bariérovou vrstvou nebo filmem 22 podle vynálezu, io naneseným naprašováním na skleněných tabulích nebo substrátech podle vynálezu. Přes bariérovou vrstvu 22 je nasazen elektrovodivý povlak 24. Mezi elektrovodivým povlakem 24 a tekutým krystalovým materiálem 20 je uložena kontaktní vyrovnávací vrstva 26. Vlastnosti tekutého krystalového materiálu z hlediska propustnosti světla mohou být ovládány použitím potenciálového rozdílu mezi elektrovodivou vrstvou 24 na skleněných tabulích 12. J4.
Bariérová vrstva podle vynálezu může být také použita pro bránění poškozování fotokatalytických sloučenin, například typu fotokatalytických filmů, snižujících obsah vody, popsaných v mezinárodní přihlášce vynálezu WO 95/11751. Na obr. 2 je znázorněn předmět 30, mající bariérovou vrstvu 32 podle vynálezu mezi skleněným substrátem 34 a kompozicí nebo filmem
36. Kompozice může sestávat z částic oxidu titaničitého v silikonovém pojivu a film může být fotokatalyticky samočisticí film typu, popsaného v přihlášce vynálezu US 19970899257, podané 23.7.1997, nebo fotoelektrolyticky redukující film typu, popsaného v přihlášce vynálezu US19970927130, podané 2.9. 1997. Kompozice zahrnují, aniž by se však na ně omezovaly, oxidy titanu, oxidy železa, oxidy mědi a oxidy wolframu. Přitom se zde pro další podrobnosti odvoláváme na přihlášky vynálezu SU 19970899257 a US 19970927130.
Jak je zřejmé, nejsou LCD displej JO a předmět 30, popsané výše, pro vynález omezující, ale slouží pouze pro ilustraci dvou prostředí, v nichž může být použita bariérová vrstva podle vynálezu.
Vynález uvažuje použití amorfních tenkých vrstev z oxidu kovu, majících měrnou hmotnost rovnou nejméně 75 % měrné hmotnosti oxidu kovu filmu v krystalické formě (jak je podrobněji uvedeno níže). Příklady oxidů kovů, které mohou být použity v rámci vynálezu, jsou oxid zirkon ia, oxid titanu a filmy z oxidu zinku a titanu. Přednostní oxidy kovu při realizaci vynálezu, které zahrnují oxid zirkonia a oxid titanu (aniž by se však na ně omezovaly), protože jsou shledávány jako účinnější při tloušťkách tak nízkých, jako 20 až 100 ángstrómů, jsou obvykle účinné při tloušťkách v rozmezí od 30 do 60 ángstrómů a jsou méně rozpustné v leptacích činidlech než oxid zinku a cínu. Bariérové vrstvy z oxidů kovu podle vynálezu se s výhodou nanášejí, aniž by se však řešení omezovalo na toto provedení, magnetronovým naprašováním z kovového terče (targetu) v oxidační atmosféře, a to dále popisovaným způsobem.
Morfologie filmů z kovových oxidů, jako oxidu titanu, oxidu zirkonia a oxidu zinku/cínu, jsou obvykle amorfní, pri měření rentgenovou difrakcí, když jsou nanášeny jako tenké filmy, například filmy o tloušťce menší než okolo 180 ángstrómů. Amorfní filmy nemají hranice zrn, a proto se od nich očekává, že budou přijatelné jako bariérové vrstvy pro bránění migraci iontů alkalických kovů, například sodíkových iontů. Z důvodů uváděných níže se autoři domnívají, že amorfní filmy jsou účinnější jako bariérové vrstvy, když se jejich hustota zvyšuje. Například filmy z oxidu titanu o tloušťce v rozmezí do okolo 45 do okolo 180 ángstrómů jsou účinné jako bariérové vrstvy, když amorfní filmy mají měrné hmotnosti rovné nebo větší než okolo 75 % jejich měrné hmotnosti v krystalické formě, t.j. rovné nebo větší než okolo 3,2 g/cm3. Jsou účinnější jako bariérové vrstvy, když mají filmy z amorfního oxidu titaničitého měrné hmotnosti rovné nebo větší než 80 % jejich měrné hmotnosti v krystalické formě, t.j. měrné hmotnosti rovné nebo větší než okolo 3,41 g/cm3, a ještě účinnější jsou, když měmá hmotnost filmu z amorfního oxidu titanu se přibližuje jeho měrné hmotnosti v krystalické formě, t.j. se přibližuje měrné hmotnosti okolo 4,26 g/cm3, což je měmá hmotnost rublového oxidu titaničitého.
-5CZ 302154 B6
Jak je známé pro odborníky v oboru, má oxid zirkonia různé krystalické formy. Zvlášť zajímavý je kubický oxid zirkonia o měrné hmotnosti 5,6 g/cm5 a baddeleyit o měrné hmotnosti 5,89 g/cm5. Filmy z oxidu zirkonia, mající tloušťku v rozmezí od okolo 3 do okolo 120 ángstró5 mů, jsou účinné bariérové vrstvy, když mají měrné hmotnosti rovné nebo větší než okolo 75 % měrné hmotnosti v krystalické formě, například měrné hmotnosti rovné nebo větší než okolo
4,2 g/cm1 při použití měrné hmotnosti kubického oxidu zirkonia a 4,42 g/cm5 při použití měrné hmotnosti baddeleyítového oxidu zirkonia. Jsou účinnější jako bariérové vrstvy, když filmy z amorfního oxidu zirkonia mají měrné hmotnosti rovné nebo větší než 80 % jejich měrné hmotio nosti v krystalické formě, t.j. měrné hmotnosti rovné nebo větší než okolo 4,48 g/cm5 při použití měrné hmotnosti kubického oxidu zirkonia a 4,71 g/cm5 při použití měrné hmotnosti baddeleyítového oxidu zirkonia, a ještě účinnější jsou, když se měrná hmotnost filmu amorfního oxidu zirkonia blíží jeho měrné hmotnosti v krystalické formě, t.j. když se přibližuje měrné hmotnosti okolo 5,6 g/cm5 při použití měrné hmotnosti kubického oxidu zirkonia a okolo 5,89 g/cm5 při použití měrné hmotnosti baddeleyítového oxidu zirkonia.
Filmy z oxidů zinku a cínu, mající tloušťku v rozmezí od okolo 60 do okolo 120 ángstrómů, jsou účinné bariérové vrstvy, když amorfní oxidy zinku/ctnu mají měrné hmotnosti rovné nebo větší než 75 % jejich měrné hmotnosti v krystalické formě, například měrné hmotnosti rovné nebo větší než okolo 4,8 g/cm5. Účinnější jako bariérové vrstvy jsou tehdy, když amorfní filmy oxidu zinku/cínu mají měrné hmotnosti rovné nebo větší než okolo 5,1 g/cm3, a jsou ještě více účinné, když se měrné hmotnosti amorfního oxidu zinku/cínu blíží jeho měrné hmotnosti v krystalické formě, například když se blíží měrné hmotnosti okolo 6,38 g/cm5.
V předchozím rozboru se hovořilo o oxidu konkrétního kovu, například oxidu titanu, oxidu zirkonia a oxidu zinku/titanu. Je však zřejmé, že kovový oxid může být tvořen oxidy nebo suboxidy kovu. Použije-li se termín oxid titanu, oxid zirkonia nebo oxid zinku/titanu, týká se oxidu titanu, zirkonia nebo zinku/cínu, přítomného v naprášeném filmu oxidu titanu, oxidu zirkonia nebo zinku/cínu, přítomného v naprášeném filmu oxidu titanu, oxidu zirkonia resp. oxidu zinku/cínu.
I když existují různé postupy pro určování měrné hmotnosti tenkého filmového povlaku, je dávána přednost následujícímu postupu. Tloušťka filmu se určuje při použití profilometru. Pro určení hmotnosti na jednotkovou plochu filmu se použije rentgenová fluorescence. Naměřená tloušťka filmu při použití profilometru se převádí na centimetry genovou fluorescencí, v mikrogramech na čtvereční centimetr, a převádí se pro poskytování měrné hmotnosti filmu na gramy na krychlový centimetr.
Další rozbor bude zaměřen na povlak na skleněném substrátu pro vytvoření bariérové vrstvy podle vynálezu z oxidu kovu, t.j. amorfního filmu, majícího měrnou hmotnost nejméně 75% měrné hmotnosti v krystalické formě. Na obr. 3 je znázorněno magnetické vakuové naprašovací zařízení 40, mající katodovou skříň 42. uloženou uvnitř neznázoměné komory, pro pohybování podél vratné dráhy 44. Skleněný substrát 46 byl osazen na stacionárním nosiči 48. Sklo bylo zahřáto ohřívačem 49 na teplotu okolo 93,3 °C (200 °F). Když se naprašovaný materiál pohybuje směrem od skříně 42, pohybuje se ve všech směrech, ale pro účely tohoto rozboru a pro jeho zjednodušení je uvažován pohyb doleva, jak je znázorněno dráhou 52, dolů po dráze 53 a doprava po dráze 54, směrem od skříně 42 na obr. 3. Při provedení vynálezu je katoda z kovového zirkonia v atmosféře argonu a kyslíku 50/50.
Oxid zirkonia, pohybující se po drahách 52, 53 a 54, se nanáší na povrch 50 skleněného substrá50 tu. Při pohledu na obr. 3, když se pouzdro 42 pohybuje doleva, je materiál, pohybující se po dráze 52, před pouzdrem, a při pohybu pouzdra dopřávaje před pouzdrem materiál, pohybující se po dráze 54. Materiál, dopravovaný po dráze 53, ani nepředchází, ani nenásleduje pouzdro. Materiál, dopravovaný po dráhách 52 a 54 na obr. 3, svírá s rovinou pouzdra malý úhel a. Předpokládá se, že zařízením, znázorněným na obr. 3, se nanese tenký film oxidu zirkonia, mající měrnou hmot55 nost menší než 75 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě, t.j. menší než okolo 4,2 g/cm5.
-6CZ 302154 B6
Na obr. 4 je znázorněno zařízení 40, obměněné podle vynálezu. Konkrétněji jsou na přední a zadní straně pouzdra umístěny hliníkové štíty 56. Hliníkové štíty vystupují dolů směrem k povrchu skleněného substrátu 46, ale nepřicházejí do kontaktu s povrchem 50. Předpokládá se, že tenké vrstvy filmů oxidu kovu, vytvořené zařízením podle vynálezu, jsou účinné bariéry proti migraci sodíkových iontů, protože amorfní filmy nanesené při použití zařízení podle obr. 4 mají měrnou hmotnost větší než okolo 75 % měrné hmotnosti v krystalické formě, t.j. větší než okolo
4,2 g/cm3.
io Při provedení vynálezu se v zařízení typu, znázorněného na obr. 4, vytváří povlak na skleněných substrátech o velikosti 0,3 x 0,3 m (12“ x 12“). Skleněné substráty se zahřívají ohřívačem 49 na teplotu okolo 93,7 °C (200 °F). Skleněné substráty se čistí tak, že se nejprve leští povrch pro povlečení oxidem ceričitým a poté se důkladně oplachují vodou. Skleněný substrát se poté oplachuje ve směsi deionizované vody a 2(iso)-propanolu s 50/50 objemu. Účinnost bariérové vrstvy oxidu zirkonia se určuje výměnou iontů stříbra ze sodíkové ionty, které pronikly bariérovou vrstvou, a poté měřením koncentrace iontů stříbra při použití rentgenové fluorescence. Koncentrace iontů stříbra (která je úměrná koncentraci sodíku) se určuje počítáním čisté intenzity (NI) emisní čáry stříbra Ag(NI). Provádí se počítání impulzů stříbra za sekundu, Ag (CPS), pomocí počítání Ag (NI) po dobu 40 sekund. Jinak řečeno, Ag (CPS) je dáno počtem Ag (NI) impulzů za
40 sekund.
Pro poskytnutí referenčního základu pro koncentraci sodíku se Ag(Nl) pro povlečené sklo porovná s Ag(NI) pro nepovlečené sklo. Úroveň pozadí rentgenového spektrometru poskytla Ag(Nl) přibližně 16 000, což udává nulovou koncentraci stříbra, a proto nulovou koncentraci sodíku.
Optimální bariérové vrstvy by proto s výhodou měly mít hodnotu Ag(NI) blízkou této hodnotě, t.j. Ag(NI) 16 000 nebo impulzů za sekundu (CPS) 400.
Každý substrát s povlakem se nařezal na čtvercové kusy o velikosti strany 4,5 cm (l 3/8“). Jeden čtvercový kus se nezahřál, jeden byl zahříván na 371,1 °C (700 °F) po dobu jedné hodiny a jeden kus byl zahříván na 482 °C (900 °F) po dobu jedné hodiny. Zahřáté kusy se ochladily na teplotu místnosti a bariérová vrstva každého kusu se připravila pro iontovou výměnu, která zahrnovala působení eutektického 62mol.% roztoku dusičnanu draselného a 38moL% roztoku dusičnanu stříbrného na povlečený povrch kusů, a kusy se zahřívaly po dobu 1 hodiny při teplotě okolo 150 °C. Před působením eutektického roztoku se kusy předehřívaly na 150 °C po dobu 15 minut a zahřátý substrátový kus se vystavil eutektiku. Roztok se udržoval na povrchu vytvořením hrazení okolo okraje kusů, a to pomocí pásky, prodávané pod značkou Teflon. Teflonová páska se upevnila před tím, než byly substrátové kusy předehřátý. Roztok se aplikoval tak, že rovnoměrně pokryl vystavený povlečený povrch do tloušťky okolo 0,254 cm (0,1). Po zahřátí substrátových kusů s eutektickým roztokem se tyto kusy vyjmuly z pece a nechaly se vychladnout a vytvrdit. Vytvrzený roztok se poté důkladně opláchl vodou. Kusy se potom ponořily do kyseliny dusičné pro odstranění zbytkového stříbrného filmu z povrchu skla a opláchly se pro odstranění zbytků dusičnanu stříbrného, pocházející z reakcí stříbra z kyselinou dusičnou. Poté se provedla rentgenová fluorescenční analýza kusů, podrobených iontové výměně stříbrných iontů, pro určení migrace sodíku.
Následující tabulka poskytuje podrobnosti substrátových kusů A až L, opatřených povlakem a podrobených iontové výměně výše uvedeným způsobem, a údaje o účinnosti bariéry z oxidu zirkonia. Sloupec (1) tabulky udává čísla vzorků (substrátových kusů). Sloupec (2) udává počet průchodů, provedených katodou z oxidu zirkonia, přičemž jeden průchod je pohyb v jednom směru podél vratné dráhy 44 (viz obr. 3 a 4). Sloupec (3) udává proud v ampérech, jímž se působilo na katodu při naprašování. Sloupec (4) udává napětí ve voltech, přiloženém na katodu při naprašování. Sloupec (5) udává materiál povlečeného substrátu. Sloupec (6) udává procentuelní propustnost povlečených substrátových kusů ve viditelném pásu (pozn.: propustnost nebyla měřena pro vzorky F a H z důvodů, které nyní nejsou známé). Sloupec (8) udává tloušťky filmů v ángstrómech, měřené jako čistá intenzita emise zirkonia z rentgenové fluorescence kalibrované
-7CZ 302154 B6 na tloušťku filmu oxidu zirkonia při použití ángstrómetru. Sloupec (8), (9) a (10) udávají Čtení hodnot Ag(NI) pro nezahřáté a zahřáté kusy.
Poznámky * a ** v tabulce udávají způsob výroby skleněného substrátu ajeho tloušťku a *** 5 udává procentuelní propustnost nepov léčených substrátových kusů. Hodnoty propustnosti, udané v tabulce, byly naměřeny pri vlnové délce 550 nanometrů. Jak bylo uvedeno výše, optimální bariéry mají hodnotu Ag(NI) okolo 16 000 (400 CPS). Jak však bylo vysvětleno výše, jde o žádoucí hodnotu v závislosti na stupni vnikání iontů alkalických kovů, které je možné připustit bez poškození média. Hodnota Ag(Nl) není proto pro vynález omezující, o
Tabulka
| (1) | (2) | (3) | (4) | (5) |
| Vzorek č. | Počet průchodů katody | Proud (A) | Napětí (V) | Substrát |
| A | 4 | 10 | 310 | Fit* |
| B | 4 | 10 | 310 | Fit |
| C | 2 | 15 | 325 | Fit |
| D | 3 | 10 | 310 | Fit |
| £ | 3 | 10 | 300 | Fit |
| F | 2 | 10 | 310 | Fit |
| G | 3 | 15 | 325 | Fit |
| H | 4 | 15 | 325 | Fit |
| I | 4 | 10 | 305 | s |
| J | 3 | 10 | 325 | s |
| K | 3 | 10 | 310 | s |
| L | 2 | 10 | 310 | s |
*Flt-0,125 sklofloat **S - 0,05 ploché tažené sklo
-8CZ 302154 B6
Tabulka - pokračování
Čtení Ag(NI)
| (6) | (7) | (8) | (9) | (10) |
| propustnost | tl.filmu | žádný | ohřev na | ohřev na |
| vzorku s poví. (%) | (Á) | ohřev | 371°C, 1 h | 482 °C, 1 h |
| *** | ||||
| 88,9 | 72,5 | 15,786 | 17,942 | 17,237 |
| 88,9 | 79,0 | 15,988 | 16,473 | 17,398 |
| 89,8 | 50,5 | 15,966 | 16,026 | 16,872 |
| 89,5 | 61,0 | 15,924 | 17,830 | 17,327 |
| 89,5 | 60,0 | 16,976 | 27,169 | 30,777 |
| 45,0 | 23,343 | 32,208 | 36,534 | |
| 89,2 | 72,5 | 18,991 | 25,444 | 31,826 |
| 90,0 | 16,169 | 17,382 | 16,517 | |
| 90,7 | 67,0 | 15,868 | 17,977 | 17,126 |
| 90,8 | 54,0 | 17,759 | 23,337 | 17,863 |
| 90,9 | 53,0 | 17,841 | 19,969 | 20,313 |
| 91,0 | 44,0 | 16,483 | 16,006 | 32,777 |
*** Propustnost pro nepovlečené sklo float je 90%
Propustnost pro nepovlečené ploché tažené sklo je 91,3%
Hodnoty Ag(NI) je nejvyšší pro nezahřátý vzorkový kus F. Předpokládá se, že film nebyl tak io hustý, jako se očekávalo, pravděpodobně vzhledem k přípravě substrátu pro povlak. Hodnota
Ag(NI) pro vzorky E, F, G, JaK ve sloupcích (9) a (10) se zdá vysoká. Je třeba si povšimnout toho, že hodnoty, odpovídající nezahřátým kusům F, G, J a K ve sloupci (8), jsou také vysoké, což naznačuje, že film se dostatečně nevytvořil, pravděpodobně z důvodu uvedeného výše.
Je třeba poznamenat, že i když oxid zirkonia má index lomu vyšší než skleněný substrát, je dostatečně tenký, takže propustnost vzorku s povlakem poklesla o méně než 2 % - viz sloupec (6).
Skleněný substrát se připravil, jak bylo uvedeno výše, a opatřil se povlakem v povlakovacím zařízení z obr. 3 (bez štítu 56, znázorněného na obr. 4). Film z oxidu zirkonia měl tloušťku 233 ángstrómů. Povlečený substrát se rozřezal na čtverce o velikosti strany 4,5 (1 3/8). Jeden kus se zahříval na 149 °C (300 °F) po dobu jedné hodiny a poté se podrobil iontové výměně, jak bylo uvedeno výše. Vzorkový kus měl hodnotu Ag(NI) 145 000. Jiný vzorkový kus se zahříval při teplotě 482 °C (900 °F) po dobu 1 hodiny a poté byl podroben iontové výměně. Měl hodnotu
Ag(NI) 180 000. Chování bariérové vrstvy z oxidu zirkonia, nanesené s použitím štítů (viz obr. 4), bylo podstatně lepší než u bariérové vrstvy z oxidu zirkonia, nanesené bez štítů (obr. 3). Předpokládá se, že zlepšené chování bariérové vrstvy z oxidu zirkonia v případě filmu, naneseného pomocí zařízení z obr. 4, bylo výsledkem toho, že amorfní film z oxidu zirkonia měl měrnou hmotnost rovnou nebo větší než 75 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě.
-9CZ 302154 B6
V následujících příkladech 1 až 12 bylo provedeno povlakování v zařízení Airco 1LS 1600. Povlakovací zařízení mělo stacionární skříň, mající kovovou katodu, a dopravník pro pohybováni skleněným substrátem pod skříní. Skleněný substrát se pohyboval povlakovacím pásmem, vymezovaným stěnami. Stěny působily podobně jako štíty 56, znázorněné na obr. 4, ale nebyly tak omezující při omezování úhlů, jako na obr. 3. V příkladě 13 se povlak vytvořil pomocí zařízení, znázorněné na obr. 4.
Pro měření účinnosti bariérové vrstvy, nanesené na vzorky, pro zabraňování difúzi alkalických kovů, byly vzorky skla s povlakem bariérové vrstvy zahřátý na okolo 575 °C po dobu 10 a 20 minut, pro podporování migrace alkalických kovů ze skleněného substrátu. Poté se vzorky ochladily na teplotu okolního prostředí. Poté se provedl postup iontové výměny, uvedený výše, až na to, že vzorky s eutektickým roztokem se zahřívaly po dobu 2 hodin při 150 °C. Povrchy s povlakem se poté analyzovaly rentgenovou fluorescencí pro měření množství přítomného stříbra, které bylo úměrné množství sodíku, který difundoval do povlaku ze skla. Naměřila se koncentrace iontů stříbra jako Ag(CPS). Pro srovnání byly iontové výměně podrobeny nezahřáté povlakové vzorky a změřilo se stříbro pro získání referenční hodnoty, což se provedlo také u nezahřátých a zahřátých nepo v lakovaných skleněných vzorků.
Když je bariérová vrstva z oxidu zirkonia, je tloušťka přednostně 20 až 120 ángstrómů, výhodněji 50 až 60 ángstrómů, a film má měrnou hmotnost rovnou nebo větší než 4,48 g/cm3 při požití hodnoty měrné hmotnosti kubického oxidu zirkonia. Když je bariérová vrstva z oxidu titanu, je tloušťka přednostně 20 až 90 ángstrómů, výhodněji 3 až 90 ángstrómů, ještě výhodněji 45 až 90 ángstrómů a nejvýhodněji 50 až 60 ángstrómů, a film má měrnou hmotnost rovnou nebo větší než 3,4 g/cm3. Když je bariérová vrstva z oxidu zinku/cínu, je tloušťka přednostně 60 až 120 ángstrómů, a s výhodou 60 až 90 ángstrómů a film má měrnou hmotnost rovnou nebo větší než 4,8 g/cm3. Bude zřejmé, že bude dána přednost tenké bariérové vrstvě, protože nesnižuje optickou propustnost.
Ve zvlášť výhodném provedení vynálezu se přes bariérovou vrstvu uloží pro použití v displeji s tekutými krystaly elektrovodívý povlak oxidu kovu. Přednostní elektrovodivé povlaky z oxidů kovů zahrnují oxid india, oxid cínu, oxid india/cínu a oxid zinku/hltníku. Zvlášť výhodný elektrovodivý povlak je oxid india/cínu, obvykle označovaný ITO. Povlaky z oxidu india/cínu, přednostně používaných v displejových zařízeních s tekutými krystaly, mající obvykle elektrickou rezistivítu okolo 300 Ohmů na čtverec. Povlak oxidu india/cínu se s výhodou nanáší přes bariérovou vrstvu magnetronovým naprašováním. Filmy z elektrovodivých oxidů kovů mohou být vytvářeny naprašováním kovového katodového terče v oxidační atmosféře, nebo naprašováním keramických terčů z kovových oxidů.
Vynález bude nyní podrobněji vysvětlen v popisu následujících konkrétních příkladů.
Příklad 1 až 4
Vzorky ze sodno-vápenato-křemičitého skla float, mající tloušťku skleněného substrátu 2,3 mm a propustnost viditelného světla, měřenou pri vlnové délce 550 nanometrů, o hodnotě 91,3%, byly povlečeny následujícím způsobem bariérovými vrstvami oxidu titanu. Rovinný titanový terč byl magnetronově rozprašován při výkonu 8,5 kW a napětí 520 V v atmosféře 50 % argonu a 50 % kyslíku. Skleněné substráty byly dopravovány okolo stacionární katody rychlostí 1,35 m (53) za minutu. Bariérové vrstvy z oxidu titanu o tloušťkách 45, 90, 135 a 180 ángstrómů se nanášely tím, že se nechávaly skleněné substráty procházet pod terčem lx, 2x, 3x nebo 4x (viz odpovídající příklady 1 až 4).
Propustnost viditelného světla (měřené při 550 nm) skleněných substrátů s povlakem oxidu titanu byly 90,8 % při tloušťce 45 ángstrómů, 89,4 % při tloušťce 90 ángstrómů, 87,3 % pri tloušťce 130 ángstrómů a 84,8% při tloušťce 180 ángstrómů (odpovídající příklady 1 až 4). Skleněné
- 10CZ 302154 Β6 substráty s povlakem oxidu titanu byly zahřívány na 575 °C po dobu buď 10 nebo 20 minut, a poté podrobeny iontové výměně se stříbrem pro nahrazování jakéhokoli difundovaného sodíku stříbrem. Stříbro se poté měřilo rentgenovou fluorescencí. Porovnání účinností bariérové vrstvy oxidu titanu při tloušťkách až 180 ángstromů je znázorněno na obr. 5.
Příklady 5 až 8
Vzorky ze sodno-vápenato-křemičitého skla float, mající tloušťku skleněného substrátu 2,3 mm a propustnost viditelného světla o hodnotě 91,3 %, byly povlečeny následujícím způsobem bariérovými vrstvami oxidu zirkonia. Rovinný zirkoniový terč byl magnetronově rozprašován při výkonu 6,5 kW a napětí 374 V v atmosféře 50 % argonu a 50 % kyslíku. Jelikož se zirkonium naprašuje rychleji než titan, byly skleněné substráty dopravovány okolo stacionární katody rychlostí 4,8 m/min (190/min) pro vytváření nánosu bariérové vrstvy oxidu zirkonia o tloušťce 30, 60, 90 a 120 ángstromů na základě průchodu lx, 2x, 3x nebo 4x (odpovídající příklady 5 až 8). Propustnost skleněného substrátu pro viditelné světlo s nejtlustší bariérovou vrstvou z oxidu zirkonia (příklad 8 se 120 ángstromy) byly 90,2 %. Skleněné substráty s povlakem oxidu zirkonia byly zahřátý a výměna stříbrných iontů byla provedena jako v předchozích příkladech. Obr. 6 znázorňuje účinnost bariérových vrstev oxidu zirkonia při tloušťkách 30 až 120 ángstrómů.
Srovnávací příklady 9 až 12
Pro srovnání byly vzorky sodno-vápenato-křemičitého skla o tloušťce 2,3 mm opatřeny povlakem oxidu zinku a cínu. Rovinný terč, obsahující 52,4 % hmotn. zinku a 47,6 % hmotn. cínu, se magnetronově rozprašoval při 0,78 kW a 386 V v atmosféře 50 % argonu a 50 % kyslíku. Skleněné substráty se dopravovaly rychlostí 4,8 m (190) za minutu pro nanášení povlaků oxidu zinku a cínu o tloušťce 3, 60, 90 a 120 ángstromů na základě průchodu lx, 2x, 3x nebo 4x (odpovídající příklady 9 až 12). Propustnost skleněného substrátu pro viditelné světlo s nejtlustší bariérovou vrstvou z oxidu zinku a cínu (příklad 12 se 120 ángstromy) byla 90,7 %. Skleněné substráty s povlakem oxidu zinku/cínu byly zahřátý, byly podrobeny výměně iontů stříbra a byly měřeny rentgenovou fluorescencí jako v předchozích příkladech. Obr. 7 znázorňuje, že tenká vrstva oxidu zinku a cínu o tloušťce například méně než 30 ángstrómů nevytváří účinnou bariéru proti sodíkové difúzi. Konkrétněji řečeno, se účinnost vrstvy oxidu zinku/cínu jako bariéry proti sodíkové difúzi projevuje při větší tloušťce, než jsou tloušťky pro oxid titanu a oxid zirkonia, jakož i procentu měrné hmotnosti krystalů, vytvořených z filmů na bázi zinku a cínu, jak bylo vysvětleno výše.
Příklad 13
Bariérová vrstva z oxidu zirkonia se nanesla na tabuli skla o tloušťce 1,2 mm (0,048“) rozprašováním katody ze zirkonia v atmosféře argonu/kyslíku při rychlosti nanášení 7,8 ángstrómů oxidu zirkonia za sekundu. Při třech průchodech katody při rychlosti 3,05 m/min (2/s) se nanesla bariérová vrstva z oxidu zirkonia o tloušťce 55±5 ángstromů, při snížení propustnosti skleněného substrátu o přibližně 0,5 až 1 %. Na bariérovou vrstvu z oxidu zirkonia se nanesla vrstva oxidu india a cínu při stejné rychlosti skla. Tři průchody katodového terče, obsahujícího 90 % hmotn. a 10% hmotn. cínu, vedly k vytvoření skleněného substrátu s povlakem oxidu india a cínu s povrchovým odparem okolo 300 ohmů na čtverec a propustností okolo 83,6 %.
Obr. 8 až 10 znázorňují další srovnání příkladů zvolených tlouštěk pro znázornění efektivity bariér podle vynálezu.
Výše uvedené příklady jsou poskytnuty pro ilustraci bariérových vrstev podle vynálezu. Do rámci vynálezu spadají také jiné oxidy kovů, které účinně zabraňují migraci alkalických kovů
- 11 CZ 302154 B6 při podobně nízkých tloušťkách, spolu s jinými způsoby nanášení, než je magnetronové naprašování. Vrchní povlak, ležící na bariérové vrstvě, může být tvořen jednou vrstvou nebo více vrstvami různých kovů, oxidů kovů a/nebo jiných sloučenin kovů, včetně povlakových vrstev, obsahujících křemík. Zde popisované časové a teplotní ohrevové cykly pouze ilustrují vhodný zkušební postup pro určování relativní účinnosti bariérové vrstvy.
Obr. 11 je snímek povlaku, pořízený transmisním elektronovým mikroskopem, a to bariérového filmu, naneseného podle vynálezu, například při použití povlakovacího zařízení z obr. 4. Obr. 12 je snímek povlaku, pořízený transmisním elektronovým mikroskopem, a to bariérového filmu, naneseného bez použití vynálezu, například při použití povlakovacího zařízení z obr. 3. Filmy, znázorněné na obr. 11 a 12, mají tloušťku větší, než je tloušťka uvažovaná pro vynález a uvedená v patentových nárocích. Filmy byly vyrobeny s větší tloušťkou, protože morfologie filmu se tak dá snadno pozorovat. Jakje patrné z obr. 11 a 12, film, znázorněný na obr. 11, se jeví jako hustší než film, znázorněný na obr. 12.
Rozsah vynálezu je definován v následujících patentových nárocích.
Claims (21)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Předmět, obsahující:skleněný substrát, mající v povrchu ionty alkalického kovu nebo kovů, médium, uložené přes povrch substrátu a v odstupu od něj, přičemž médium se vyznačuje tím, že předem určené koncentrace iontů alkalického kovu poškozují jeho funkci, a mezi povrchem a médiem je uložena naprašovaná amorfní vrstva oxidu zirkonia, mající tloušťku v rozmezí od 3 do 12 nm (od 30 do 120 ángstromů) a měrnou hmotnost v rozmezí od hodnoty, která je rovna 75 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě nebo větší než tato hodnota, do hodnoty menší než 90 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě, pro vytvoření bariérové vrstvy proti iontům alkalických kovů mezi skleněným substrátem a médiem.
- 2. Předmět podle nároku 1, vyznačený tím, že měrná hmotnost amorfního oxidu zirkonia je rovná nebo větší než 4,2 g/cm3 při použití kubického oxidu zirkonia a 4,42 g/cm3 při použití baddeleyitu.
- 3. Předmět podle nároku 2, vyznačený tím, že bariérová vrstva oxidu zirkonia má tloušťku v rozmezí od 3 do 6 nm (od 3 do 60 ángstromů).
- 4. Předmět podle nároku 1, vyznačený tím, že médium je elektrovodivý povlak, zvolený ze skupiny, sestávající z oxidu india, oxidu cínu, oxidu india/cínu a oxidu zinku/hliníku.
- 5. Předmět podle nároku 1, vyznačený tím, že médium je fotokatalytická kompozice.
- 6. Předmět podle nároku 5, vyznačený tím, že kompozice obsahuje částice oxidu titanu v silikonovém pojívu.
- 7. Předmět podle nároku 1, vyznačený tím, žev médiu je kapalný elektrolyt.
- 8. Předmět, obsahující:- 12CZ 302154 B6 skleněný substrát, mající ionty alkalického kovu nebo kovů v povrchu, médium, uložené přes povrch substrátu a v odstupu od něj, přičemž médium se vyznačuje tím, že předem určené koncentrace iontů alkalického kovu poškozují jeho funkci, a mezi povrchem a médiem je uložena naprašovaná amorfní vrstva oxidu titanu, mající tloušťku v rozmezí od 4,5 do 18 nm (od 45 do 180 ángstrómů) a měrnou hmotnost v rozmezí od hodnoty, která je rovná 75 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě nebo větší než tato hodnota, do hodnoty menší než 90 % jeho krystalické měrné hmotnosti, pro vytvoření bariérové vrstvy proti iontům alkalických kovů mezi skleněným substrátem a médiem.
- 9. Předmět podle nároku 8, vyznačený tím, že měrná hmotnost vrstvy oxidu titanu je rovná nebo větší než 3,2 g/cm3.
- 10. Předmět podle nároku 9, vyznačený tím, že bariérová vrstva oxidu titanu má tloušťku v rozmezí od okolo 9 do okolo 18 nm (od okolo 90 do okolo 180 ángstrómů).
- 11. Předmět podle nároku 8, vyznačený tím, že médium je elektrovodivý povlak, zvolený ze skupiny, sestávající z oxidu india, oxidu cínu, oxidu india/cínu a oxidu zinku/hliníku.
- 12. Předmět podle nároku 8, vyznačený tím, že médium je fotokatalytická kompozice.
- 13. Předmět podle nároku 12, vyznačený tím, že kompozice obsahuje částice oxidu titanu v silikonovém pojivu.
- 14. Předmět podle nároku 8, vyznačený tím, že médium je kapalný elektrolyt.
- 15. Předmět, obsahující:skleněný substrát, mající ionty alkalického kovu nebo kovů v povrchu, médium, uložené přes povrch substrátu a v odstupu od něj, přičemž médium se vyznačuje tím, že předem určené koncentrace iontů alkalického kovu poškozují jeho funkci, a mezi povrchem a médiem je uložena naprašovaná amorfní vrstva oxidu zinku/cínu, mající tloušťku v rozmezí od 6 do 12 nm (od 60 do 120 ángstrómů) a měrnou hmotnost v rozmezí od hodnoty, která je rovná 75 % jeho měrné hmotnosti v krystalické formě nebo větší než tato hodnota, do hodnoty menší než 90 % jeho měrné hmotnosti proti iontům alkalických kovů mezi skleněným substrátem a médiem.
- 16. Předmět podle nároku 15, vyznačený tím, že vrstva oxidu zinku/cínu má měrnou hmotnost 4,8 g/cm3.
- 17. Předmět podle nároku 16, vyznačený tím, že tloušťka vrstvy oxidu zinku/cínu je od 9 do 12 nm (od 90 do 120 ángstrómů).
- 18. Předmět podle nároku 15, vyznačený tím, že médium je elektrovodivý povlak, zvolený ze skupiny, sestávající z oxidu india, oxidu cínu, oxidu india/cínu a oxidu zinku/hliníku.
- 19. Předmět podle nároku 15, vyznačený tím, že médium je fotokatalytická kompozice.- 13 CZ 302154 B6
- 20. Předmět podle nároku 19, vyznačený tím, že kompozice obsahuje částice oxidu titanu v silikonovém pojivu.
- 21. Předmět podle nároku 15, vyznačený tím, že médium je kapalný elektrolyt.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/156,730 US6352755B1 (en) | 1994-10-04 | 1998-09-17 | Alkali metal diffusion barrier layer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ2001896A3 CZ2001896A3 (cs) | 2001-09-12 |
| CZ302154B6 true CZ302154B6 (cs) | 2010-11-18 |
Family
ID=22560838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20010896A CZ302154B6 (cs) | 1998-09-17 | 1999-09-09 | Predmet, obsahující sklenený substrát, mající v povrchu ionty alkalického kovu nebo kovu |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6352755B1 (cs) |
| EP (1) | EP1115670B1 (cs) |
| JP (1) | JP4784849B2 (cs) |
| KR (1) | KR20010079850A (cs) |
| AT (1) | ATE220650T1 (cs) |
| AU (1) | AU737886B2 (cs) |
| BR (1) | BR9913956A (cs) |
| CA (1) | CA2343943A1 (cs) |
| CZ (1) | CZ302154B6 (cs) |
| DE (1) | DE69902184T2 (cs) |
| DK (1) | DK1115670T3 (cs) |
| ES (1) | ES2182566T3 (cs) |
| NZ (1) | NZ510080A (cs) |
| PT (1) | PT1115670E (cs) |
| WO (1) | WO2000015571A1 (cs) |
| ZA (1) | ZA200101686B (cs) |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6640680B2 (en) * | 1999-01-27 | 2003-11-04 | Eagle Automation, Inc. | Apparatus and methods for sculpting carpet |
| FR2791147B1 (fr) * | 1999-03-19 | 2002-08-30 | Saint Gobain Vitrage | Dispositif electrochimique du type dispositif electrocommandable a proprietes optiques et/ou energetiques variables |
| US7323249B2 (en) * | 2000-08-31 | 2008-01-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of obtaining photoactive coatings and/or anatase crystalline phase of titanium oxides and articles made thereby |
| US6677063B2 (en) * | 2000-08-31 | 2004-01-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of obtaining photoactive coatings and/or anatase crystalline phase of titanium oxides and articles made thereby |
| KR100956214B1 (ko) * | 2001-12-21 | 2010-05-04 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광촉매 기능을 갖는 부재 및 그 제조방법 |
| US7147924B2 (en) * | 2003-04-03 | 2006-12-12 | Guardian Industries Corp. | Coated article with dual-layer protective overcoat of nitride and zirconium or chromium oxide |
| US6890659B2 (en) * | 2003-04-25 | 2005-05-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with niobium zirconium inclusive IR reflecting layer and method of making same |
| US6908679B2 (en) * | 2003-04-25 | 2005-06-21 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with niobium zirconium inclusive IR reflecting layer and method of making same |
| JP4362476B2 (ja) * | 2003-06-20 | 2009-11-11 | 日本板硝子株式会社 | 光触媒機能を有する部材および複層ガラス |
| US7081301B2 (en) * | 2003-10-14 | 2006-07-25 | Guardian Industries Corp. | Coated article with and oxide of silicon zirconium or zirconium yttrium oxide in overcoat, and/or niobium nitrude in ir reflecting layer |
| WO2005063646A1 (en) * | 2003-12-22 | 2005-07-14 | Cardinal Cg Company | Graded photocatalytic coatings |
| WO2006017311A1 (en) * | 2004-07-12 | 2006-02-16 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings |
| EP1797017B1 (en) * | 2004-10-04 | 2010-11-24 | Cardinal CG Company | Thin film coating and temporary protection technology, insulating glazing units, and associated methods |
| US7923114B2 (en) * | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
| US8092660B2 (en) * | 2004-12-03 | 2012-01-10 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films |
| EP1852402A1 (en) * | 2004-12-06 | 2007-11-07 | Nippon Sheet Glass Company Limited | Glass member having photocatalytic function and heat ray reflective function, and double layer glass employing it |
| EP2013150B1 (en) * | 2006-04-11 | 2018-02-28 | Cardinal CG Company | Photocatalytic coatings having improved low-maintenance properties |
| WO2007124291A2 (en) | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Cardinal Cg Company | Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances |
| US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
| US7951473B2 (en) | 2006-11-09 | 2011-05-31 | Agc Flat Glass North America, Inc. | Optical coating with improved durability |
| DE102007019994A1 (de) * | 2007-04-27 | 2008-10-30 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Transparente Barrierefolie und Verfahren zum Herstellen derselben |
| US7820309B2 (en) | 2007-09-14 | 2010-10-26 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings |
| JP2011507268A (ja) * | 2007-12-12 | 2011-03-03 | ニューポート コーポレーション | 性能が改善された光学的に被覆された半導体デバイス及び関連した製造方法 |
| US20090260678A1 (en) * | 2008-04-16 | 2009-10-22 | Agc Flat Glass Europe S.A. | Glass substrate bearing an electrode |
| US8467124B2 (en) | 2010-02-19 | 2013-06-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Solar reflecting mirror and method of making same |
| WO2010111075A1 (en) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Solar reflecting mirror having a protective coating and method of making same |
| US9723723B2 (en) * | 2009-03-31 | 2017-08-01 | View, Inc. | Temperable electrochromic devices |
| WO2012177790A2 (en) * | 2011-06-21 | 2012-12-27 | Soladigm, Inc. | Temperable electrochromic devices |
| JP5700485B2 (ja) * | 2010-12-27 | 2015-04-15 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 光触媒体の製造方法および光触媒体の製造装置 |
| TWI716511B (zh) | 2015-12-19 | 2021-01-21 | 美商應用材料股份有限公司 | 用於鎢原子層沉積製程作為成核層之正形非晶矽 |
| US10480066B2 (en) | 2015-12-19 | 2019-11-19 | Applied Materials, Inc. | Metal deposition methods |
| WO2017161236A1 (en) | 2016-03-17 | 2017-09-21 | Applied Materials, Inc. | Methods for gapfill in high aspect ratio structures |
| EP3541762B1 (en) | 2016-11-17 | 2022-03-02 | Cardinal CG Company | Static-dissipative coating technology |
| US11133178B2 (en) | 2019-09-20 | 2021-09-28 | Applied Materials, Inc. | Seamless gapfill with dielectric ALD films |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0071865A2 (en) * | 1981-08-06 | 1983-02-16 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass body provided with an alkali diffusion-preventing silicon oxide layer |
| US5165972A (en) * | 1984-08-13 | 1992-11-24 | Pilkington Plc | Coated glass |
| EP0705801A1 (en) * | 1994-10-04 | 1996-04-10 | Ppg Industries, Inc. | Alkali metal diffusion barrier layer |
| CZ281584B6 (cs) * | 1984-08-13 | 1996-11-13 | Pilkington Brothers P. L. C. | Způsob povlékání plochého skla |
| EP0787696A1 (en) * | 1996-02-01 | 1997-08-06 | Ppg Industries, Inc. | Alkali metal diffusion barrier layer |
| WO1998005413A1 (en) * | 1996-08-05 | 1998-02-12 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Photocatalyst and process for the preparation thereof |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE476180A (cs) | ||||
| JPS5819615B2 (ja) | 1976-06-29 | 1983-04-19 | 富士通株式会社 | ガラス基板の表面処理方法 |
| JPS54150418A (en) * | 1978-05-19 | 1979-11-26 | Hitachi Ltd | Production of liquid crystal display element |
| JPS589123A (ja) | 1981-07-09 | 1983-01-19 | Seiko Epson Corp | 液晶パネルの電極構造 |
| JPS589124A (ja) | 1981-07-09 | 1983-01-19 | Seiko Epson Corp | 液晶パネルの電極構造 |
| DE3316548C2 (de) | 1983-03-25 | 1985-01-17 | Flachglas AG, 8510 Fürth | Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates |
| DE3544840A1 (de) | 1985-11-05 | 1987-05-07 | Flachglas Ag | Verfahren zum herstellen einer vorgespannten und/oder gebogenen glasscheibe mit reduzierter transmission |
| US4857094A (en) | 1986-04-09 | 1989-08-15 | Flachglas Aktiengesellschaft | Method for the manufacture of a toughened and/or bent pane with solar control coating containing platinum or the like |
| AU631777B2 (en) | 1987-08-18 | 1992-12-10 | Boc Technologies Limited | Metal oxide films having barrier properties |
| WO1991002102A1 (fr) | 1989-08-01 | 1991-02-21 | Asahi Glass Company Ltd. | Film base sur du dioxide de silicium et sa production |
| US5112693A (en) | 1988-10-03 | 1992-05-12 | Ppg Industries, Inc. | Low reflectance, highly saturated colored coating for monolithic glazing |
| US5133594A (en) | 1990-07-19 | 1992-07-28 | Tufts University | Transparent ion-blocking layer for electrochromic windows |
| JPH0818849B2 (ja) | 1991-08-29 | 1996-02-28 | 日本板硝子株式会社 | 熱線遮蔽ガラス |
| WO1995011751A1 (en) | 1993-10-26 | 1995-05-04 | E. Heller & Company | Photocatalyst-binder compositions |
-
1998
- 1998-09-17 US US09/156,730 patent/US6352755B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-09-09 EP EP99946822A patent/EP1115670B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-09 CZ CZ20010896A patent/CZ302154B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-09-09 DK DK99946822T patent/DK1115670T3/da active
- 1999-09-09 PT PT99946822T patent/PT1115670E/pt unknown
- 1999-09-09 KR KR1020017003456A patent/KR20010079850A/ko not_active Ceased
- 1999-09-09 DE DE69902184T patent/DE69902184T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-09 AT AT99946822T patent/ATE220650T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-09-09 CA CA002343943A patent/CA2343943A1/en not_active Abandoned
- 1999-09-09 BR BR9913956-1A patent/BR9913956A/pt unknown
- 1999-09-09 WO PCT/US1999/020665 patent/WO2000015571A1/en not_active Ceased
- 1999-09-09 NZ NZ510080A patent/NZ510080A/en not_active IP Right Cessation
- 1999-09-09 ES ES99946822T patent/ES2182566T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-09 AU AU59145/99A patent/AU737886B2/en not_active Ceased
- 1999-09-09 JP JP2000570116A patent/JP4784849B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-02-28 ZA ZA200101686A patent/ZA200101686B/en unknown
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0071865A2 (en) * | 1981-08-06 | 1983-02-16 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass body provided with an alkali diffusion-preventing silicon oxide layer |
| US5165972A (en) * | 1984-08-13 | 1992-11-24 | Pilkington Plc | Coated glass |
| CZ281584B6 (cs) * | 1984-08-13 | 1996-11-13 | Pilkington Brothers P. L. C. | Způsob povlékání plochého skla |
| EP0705801A1 (en) * | 1994-10-04 | 1996-04-10 | Ppg Industries, Inc. | Alkali metal diffusion barrier layer |
| EP0787696A1 (en) * | 1996-02-01 | 1997-08-06 | Ppg Industries, Inc. | Alkali metal diffusion barrier layer |
| WO1998005413A1 (en) * | 1996-08-05 | 1998-02-12 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Photocatalyst and process for the preparation thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BR9913956A (pt) | 2001-07-03 |
| CA2343943A1 (en) | 2000-03-23 |
| AU737886B2 (en) | 2001-09-06 |
| EP1115670B1 (en) | 2002-07-17 |
| KR20010079850A (ko) | 2001-08-22 |
| EP1115670A1 (en) | 2001-07-18 |
| NZ510080A (en) | 2003-10-31 |
| AU5914599A (en) | 2000-04-03 |
| JP4784849B2 (ja) | 2011-10-05 |
| CZ2001896A3 (cs) | 2001-09-12 |
| PT1115670E (pt) | 2002-10-31 |
| DE69902184T2 (de) | 2003-03-13 |
| DK1115670T3 (da) | 2002-10-28 |
| ZA200101686B (en) | 2002-05-28 |
| JP2002524383A (ja) | 2002-08-06 |
| DE69902184D1 (de) | 2002-08-22 |
| ES2182566T3 (es) | 2003-03-01 |
| US6352755B1 (en) | 2002-03-05 |
| ATE220650T1 (de) | 2002-08-15 |
| WO2000015571A1 (en) | 2000-03-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CZ302154B6 (cs) | Predmet, obsahující sklenený substrát, mající v povrchu ionty alkalického kovu nebo kovu | |
| KR100188492B1 (ko) | 알칼리금속 확산 차단 층 | |
| KR100535447B1 (ko) | 옥시질화 규소 보호 피복물 | |
| JP5622468B2 (ja) | レンズの製造方法及びレンズ | |
| US20100279124A1 (en) | Hafnium or zirconium oxide Coating | |
| JPS63247352A (ja) | 反応性スパッタリングによる透明コーティング | |
| JPS62196366A (ja) | 高透過率，低放射率物品 | |
| JP2010231171A (ja) | 光学物品およびその製造方法 | |
| KR910002490B1 (ko) | 비스무트/주석 산화물의 스퍼터링된 필름 및 이런 필름을 포함하는 물품 | |
| EP2148240A1 (en) | Transparent electrode | |
| CA2157948C (en) | Alkali metal diffusion barrier layer | |
| WO1997047564A1 (en) | Light-absorbing antireflective body and process for the production thereof | |
| JPH07249316A (ja) | 透明導電膜および該透明導電膜を用いた透明基体 | |
| KR20220021450A (ko) | 투명 도전성 필름 | |
| MXPA01002712A (en) | Alkali metal diffusion barrier layer | |
| MXPA97000751A (en) | Alcali metal diffusion barrier layer | |
| JP2011145443A (ja) | 光学物品およびその製造方法 | |
| JP2814602B2 (ja) | 複写機の原稿載置板及び複写機 | |
| JPH04132639A (ja) | 熱線遮蔽ガラス | |
| Carrilero Carrió | Ultra-thin silver based infrared solar filter for ophtalmic lenses | |
| JPH09265003A (ja) | ファラデー回転子用反射防止膜および光アイソレーター | |
| JP2004294555A (ja) | 透明導電性薄膜積層体およびそれを用いた光学フィルター |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20130909 |