DE3436622C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines
photographischen Silberhalogenidmaterials, das gute
antistatische Eigenschaften besitzt.
Bei photographischen Silberhalogenidmaterialien, die aus einem
Trägermaterial mit elektrisch isolierenden Eigenschaften und
darauf aufgebrachten photographischen Schichten bestehen, treten
häufig elektrostatische Aufladungen auf, wobei bei einer
Entladung der statischen Ladung der photographische Film vor
dessen Entwicklung belichtet wird unter Bildung von Flecken oder
Verfärbungen, die als statische Flecken bezeichnet werden. Diese
verringern die Qualität der Filme oder machen diese völlig
unbrauchbar.
Aus der DE-OS 19 61 638 ist die Verwendung von organischen,
fluorhaltigen Verbindungen, die antistatisch wirksam sind, in
photographischen Aufzeichnungsmaterialien bekannt. Diese werden
in Kombination mit anderen, nicht antistatisch wirksamen
Verbindungen als Gießzusätze bei der Herstellung photographischer
Schichten eingesetzt.
Aus der US-PS 35 52 972 ist die Verwendung bestimmter Polyglykolderivate
als Antistatikmittel in Gelatineschichten aufweisenden
photographischen Filmen bekannt. Die als Antistatikmittel
verwendeten Polygylkolderivate sind entweder allein oder in
Kombination mit anionischen oder nicht-ionischen oberflächenaktiven
Agenzien oder in Kombination mit anderen Additiven einsetz
bar.
Aus der GB-PS 8 61 134 ist es bekannt, photographische Filme mit
einem Träger und einer darauf aufgebrachten Silberhalogenidemulsions
schicht durch Aufbringen einer antistatischen Schicht, die
aus einer Polyoxyethylenverbindung besteht, antistatisch
auszurüsten. Die antistatisch wirksame Polyoxyethylenverbindung
ist auch in einem Gemisch mit einem anionischen oberflächenaktiven
Mittel verwendbar.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren anzugeben,
mit dem photographische Silberhalogenidmaterialien mit einer
guten antistatischen Ausrüstung sicher und einfacher
als dies im vorstehend genannten Stand der Technik bisher möglich
war, versehen werden können.
Diese Aufgabe wird durch ein in Anspruch 1 gekennzeichnetes
Verfahren gelöst.
Vorteilhafte Ausgestaltungen dieses Verfahrens ergeben sich aus
den Unteransprüchen.
Das Verfahren zur Einstellung der Mengen der Fluor enthaltenden
Verbindungen (I-1-I-3) an der Oberfläche des photographischen Materials,
wird im allgemeinen in
folgende zwei Methoden eingeteilt.
Die eine Methode ist gekennzeichnet durch eine weitere
Überschreitung einer Schutzschicht
des photographischen Films mit einer Beschichtungsflüssigkeit, enthaltend
eine Fluor enthaltende Verbindung. In diesem Fall ändert sich der
Anteil der fluorhaltigen Verbindung auf der Oberfläche des
photographischen Materials gemäß der Menge der fluorhaltigen
Verbindung in der Beschichtungsflüssigkeit für den Überzug
und der Differenz in der Diffundierbarkeit der Verbindung.
Bei der Verwendung eines Überzugs kann das obige Verfahren
so durchgeführt werden, daß die Elementenzusammensetzung auf
der Oberfläche des photographischen Materials in dem oben angegebenen
Bereich liegt unter Berücksichtigung der Menge der
Fluor enthaltenden Verbindung und der Diffundierbarkeit der
Fluor enthaltenden Verbindung.
Bei dem zweiten Verfahren wird die Fluor enthaltende Verbindung
zu der Beschichtungsflüssigkeit für eine Schutzschicht,
eine Silberhalogenidemulsionsschicht oder eine Rücksicht
zugegeben. Bei diesem Verfahren müssen die folgenden Faktoren
berücksichtigt werden, so daß die Elementenzusammensetzung
auf der Oberfläche der photographischen Materialien im oben
angegebenen Bereich liegt.
- (i) Als fluorhaltige Verbindung (II) wird vorzugsweise ein Tensid oder ein Polymer verwendet. Das Tensid zeigt eine stärkere adhäsive Eigenschaft für die Oberfläche des photographischen Materials als das Polymer.
- Bei den fluorhaltigen Tensiden besitzen die anionischen und die kationischen Tenside stärkere Hafteigenschaften als die nichtionogenen Tenside oder Betaine.
- (ii) Die Menge der fluorhaltigen Verbindung auf der Oberfläche des photographischen Materials ändert sich beinahe im Verhältnis zu der Menge der zur Beschichtungsflüssigkeit zuzugebenden Fluor enthaltenden Verbindung. In dem Fall, wenn eine fluorhaltige Verbindung mit stärkeren Hafteigenschaften für die Oberfläche des photographischen Materials verwendet wird, ist die Menge der fluorhaltigen Verbindung, die in der Oberfläche des photographischen Materials vorliegt, stärker erhöht mit einer kleinen Zugabemenge der fluorhaltigen Verbindung, während dann, wenn eine fluorhaltige Verbindung mit einer schwachen Haftfestigkeit für die Oberfläche verwendet wird, der Anteil der fluorhaltigen Verbindung in der Oberfläche weniger stark ansteigt.
- (iii) Die Menge des fluorhaltigen Tensids hängt ab von der Art und der Menge der Verbindungen, insbesondere der nicht fluorhaltigen Tenside, die der Beschichtungszusammensetzung zusammen mit der fluorhaltigen Verbindung zugefügt werden.
- Wenn z. B. ein Tensid der nichtfluorhaltigen Serien mit einer starken Haftfestigkeit für die Oberfläche des photographischen Materials verwendet wird, ist die Menge des fluorhaltigen Tensids, das in der Oberfläche des photographischen Materials vorliegt, verringert.
- (iv) Trocknungsbedingung: In einem photographischen Material, enthaltend eine fluorhaltige Verbindung und ein nichtionogenes Tensid mit einer Polyoxyethylengruppe, ändert sich die Menge der fluorhaltigen Verbindung in dessen Oberfläche in Abhängigkeit von der Trocknungsbedingung nach dem Aufschichten der Be schichtungflüssigkeit. Wenn z. B. ein nichtionogenes fluorhaltiges Tensid verwendet wird und der Trocknungsvorgang für 3 min durchgeführt wird als Standard, dann ist die Menge des fluorhaltigen Tensids in der Oberfläche des photographischen Films verringert, wenn ein Verfahren zum Trocknen für eine kürzere Zeit als die obenangegebene Zeit verwendet wird.
Nichtionogene Tenside, die erfindungsgemäß
verwendet werden können, sind die Verbindungen der folgenden
allgemeinen Formel (I-1):
der allgemeinen Formel (I-2):
der allgemeinen Formel (I-3):
In den obenangegebenen Formeln bedeutet R₁ eine nichtsubstituierte
oder substituierte Alkylgruppe mit 1 bis 30 C-Atomen,
eine nichtsubstituierte oder substituierte Alkenylgruppe
oder eine nichtsubstituierte oder substituierte Arylgruppe,
A eine -O-Gruppe, -S-Gruppe, -COO-Gruppe,
oder eine
worin R₁₀ ein Wasserstoffatom oder eine nichtsubstituierte
oder substituierte Alkylgruppe ist.
R₂, R₃, R₇ und R₉ bedeuten ein Wasserstoffatom,
eine nichtsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe, eine
Arylgruppe, eine Alkoxygruppe, ein Halogenatom, eine Acylgruppe,
eine Amidogruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine Carbamoyl
gruppe oder eine Sulfamoylgruppe;
R₆ und R₈ bedeuten eine nichtsubstituierte oder substituierte
Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe,
ein Halogenatom, eine Acylgruppe, eine Amidogruppe, eine Sul
fonamidogruppe, eine Carbamoylgruppe oder eine Sulfamoyl
gruppe.
Die Substituenten in den Phenylringen in der allgemeinen
Formel (I-3) brauchen nicht symmetrisch zu sein;
R⁴ und R⁵ bedeuten ein Wasserstoffatom, eine nicht
substituierte oder substituierte Alkylgruppe eine Aryl
gruppe;
die Reste R₄ und R₅ und die Reste R₆ und R₇ und die Reste
R₈ und R₉ können miteinander kombiniert unter Bildung
eines nichtsubstituierten oder substituierten Ringes sein.
n₁, n₂, n₃ und n₄ geben den mittleren Polymerisationsgrad
des Ethylenoxids wieder und stehen für eine Zahl von 2 bis
50, und
m ist ein mittlerer Polymerisationsgrad und bedeutet eine
Zahl von 2 bis 50.
Die bevorzugten Beispiele für die nichtionogenen Tenside gemäß
den obenangegebenen Formeln, die erfindungsgemäß einge
setzt werden, sind nachfolgend beschrieben.
Der Rest R₁ in der allgemeinen Formel (I-1) bedeutet vorzugsweise
eine Alkylgruppe mit 4 bis 24 C-Atomen, eine Alkenyl
gruppe oder eine Alkylarylgruppe und insbesondere
Hexyl, Dodecyl, Isostearyl, Oleyl, t-Butylphenyl, 2,4-Di-t-
butylphenyl, 2,4-Di-t-pentylphenyl, p-Dodecylphenyl, m-Penta
decaphenyl, t-Octylphenyl, 2,4-Dinonylphenyl und Octylnaphthyl.
Bevorzugte Beispiele für R₂, R₃, R₆, R₇, R₈ und R₉ sind
nichtsubstituierte oder substituierte Alkylgruppen mit 1 bis
20 C-Atomen, z. B. Methyl, Ethyl, i-Propyl, t-Butyl, t-Amyl,
t-Hexyl, t-Octyl, Nonyl, Decyl, Dodecyl, Trichlormethyl, Tri
brommethyl, 1-Phenylethyl, 2-Phenyl-2-propyl; nichtsubstituierte
oder substituierte Arylgruppe, z. B. Phenyl, p-Chlorphenyl,
nichtsubstituierte oder substituierte Alkoxygruppen der Formel
-OR₁₁, worin R₁₁ eine nichtsubstituierte oder substituierte
Alkylgruppe mit 1 bis 20 C-Atomen oder eine Arylgruppe bedeutet;
ein Halogenatom, z. B. Chlor, Brom; eine Acylgruppe gemäß der
Formel -COR₁₁, worin R₁₁ die gleiche Bedeutung hat wie oben
angegeben, und Amidogruppe gemäß der Formel -NR₁₂COR₁₁, worin
R₁₁ die gleiche Bedeutung hat wie oben angegeben und R₁₂ für
ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 C-Atomen
steht; Sulfonamidogruppe der Formel -NR₁₂SO₂R₁₁, worin
R₁₁ und R₁₂ die obenangegebenen Bedeutungen haben; Carbamoylgruppe
der Formel
worin R₁₂ die gleiche Bedeutung hat wie oben angegeben, oder
eine Sulfamoylgruppe der Formel
worin R₁₂ die gleiche Bedeutung hat wie oben angegeben; und
die Reste R₂, R₃, R₇ und R₉ können Wasserstoffatome sein. In
diesen Fällen stehen die Reste R₆ und R₈ vorzugsweise für
eine Alkylgruppe oder ein Halogenatom, insbesondere für eine
sterisch voluminöse tertiäre Alkylgruppe, z. B. t-Butyl, t-Amyl,
t-Octyl, und die Reste R₇ und R₉ sind besonders bevorzugt ein
Wasserstoffatom. Als Verbindung der allgemeinen Formel (I-3)
wird insbesondere bevorzugt eine Verbindung verwendet, die
hergestellt worden ist aus 2,4-di-substituiertem Phenyl.
Bevorzugte Beispiele für R₄ und R₅ sind ein Wasserstoffatom,
eine nichtsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe,
z. B. Methyl, Ethyl, n-Propyl, i-Propyl, n-Heptyl, 1-Ethyl-amyl,
n-Undecyl, Trichlormethyl, Tribrommethyl; eine nichtsubstituierte
oder substituierte Arylgruppe, z. B. α-Furyl,
Phenyl, Naphthyl, p-Chlorphenyl, p-Methoxyphenyl und m-Nitrophenyl.
Die Reste R₄ und R₅, die Reste R₆ und R₇ und die Reste
R₈ und R₉ können miteinander kombiniert sein unter Bildung
eines nichtsubstituierten oder substituierten Ringes, z. B.
eines Cyclohexylringes. Besonders bevorzugte Beispiele für
die Reste R₄ und R₅ sind Alkylgruppen mit 1 bis 8 C-Atomen,
Phenyl oder Furyl. Die Zahlen n₁, n₂, n₃ und n₄ sind vorzugsweise
eine Zahl von 5 bis 30, und n₃ und n₄ können gleich
oder verschieden sein.
Die oben beschriebenen Verbindungen sind z. B. beschrieben
in den US-PS 29 82 651, 34 28 456, 34 57 076, 34 54 625,
35 52 972 und 36 55 387, in der JP-PS 9 610/76, JP-PS (nicht
geprüft) 29 715/78 und 89 626/79, JP-OS (nicht geprüft)
2 03 435/83 und 2 08 743/83.
Bevorzugte Beispiele für die erfindungsgemäß einsetzbaren
nichtionogenen Tenside sind nachfolgend aufgelistet.
Die Menge des nichtionogenen Tensids gemäß der allgemeinen
Formel (I-1), (I-2) oder (I-3), die erfindungsgemäß eingesetzt
wird, liegt bei 5 bis 500 mg/m², insbesondere 10 bis
300 mg/m² des photographischen Materials.
Die erfindungsgemäß eingesetzte fluorhaltige Verbindung ist
eine Verbindung, enthaltend wenigstens drei Fluoratome, und
kann ein Tensid oder ein Polymer sein. Die Verbindung kann
eine nichtionogene, anionische, kationische funktionelle Gruppe
oder eine funktionelle Gruppe der Betainreihen als hydrophile
Gruppe enthalten.
Beispiele für fluorhaltige Verbindungen, die erfindungsgemäß
eingesetzt werden, sind fluorhaltige Tenside, wie sie z. B.
beschrieben sind in GB-PS 12 93 189 und GB-PS 12 59 398,
den US-PS′sen 35 89 906, 36 66 478, 37 54 924, 37 75 236 und
38 50 640, JP-OS (ungeprüft) 48 520/79, 1 14 944/81, 1 61 236/75,
1 51 127/76, 59 025/75, 1 13 221/75 und 99 525/75, JP-PS
43 130/73 und 6 577/82, JP-OS (ungeprüft) 2 00 235/83 und
1 96 544/83, JP-OS (ungeprüft) 84 712/78 und 64 228/82; I
Product Research and Development, 1(3) (1962, 9); Yu
Kagaku, 12(12), 653-662(1963), und die Fluor enthaltenden
Polymeren, wie sie beschrieben sind z. B. in JP-OS (unge
prüft) 1 58 222/79 und 1 29 520/77, JP-PS 23 828/74, GB-PS
13 52 975 und 14 97 256, US-PS′sen 40 87 394, 40 16 125,
32 40 604, 36 79 411, 33 40 216 und 36 32 534, JP-OS (un
geprüft) 30 940/73 und 1 29 520/77, und US-PS 37 53 716.
Fluor enthaltende Verbindungen sind die
Fluor enthaltenden Tenside gemäß der allgemeinen Formel (II)
Rf-B-X (II)
worin Rf für eine teilweise oder vollständig fluorierte
nichtsubstituierte oder substituierte Alkyl-, Alkenyl- oder
Arylgruppe steht, enthaltend wenigstens drei Fluoratome,
B eine zweiwertige Bindungsgruppe und X eine Gruppe ist,
die die Wasserlöslichkeit verbessert.
In Formel (II) steht B vorzugsweise für eine Alkylgruppe,
Arylgruppe oder eine Alkylarylgruppe, die eine
zweiwertige nichtsubstituierte oder substituierte Brückengruppe
sein kann, die durch ein unterschiedliches Atom
oder eine Gruppe unterbrochen sein kann, z. B. Sauerstoff,
eine Estergruppe, eine Amidogruppe, eine Sulfonylgruppe
und Schwefel.
In Formel (II) steht X für eine
hydrophile Gruppe, z. B. eine nichtionogene Gruppe gemäß der
Polyoxyalkylengruppe der Formel
worin D für eine -CH₂CH₂-, -CH₂-CH₂-CH₂- oder
Gruppe, n₅ für den mittleren Polymerisationsgrad der Poly
alkylengruppe und für eine Zahl von 1 bis 50, und R₁₃ für
eine nichtsubstituierte oder substituierte Alkyl- oder Arylgruppe
steht; eine hydrophile Betaingruppe ist z. B.
worin Alk für eine niedere Alkylengruppe mit 1 bis 5 C-Atomen,
z. B. Methylen, Ethylen, Propylen und Butylen, steht,
R₁₄ und R₁₅ jeweils für nichtsubstituierte oder substituierte
Alkylgruppen mit 1 bis 8 C-Atomen oder eine Arylgruppe,
z. B. Methyl, Ethyl, Benzyl, stehen, und für eine hydrophile
kationische Gruppe steht, z. B.
worin R₁₄, R₁₅ und R₁₆ die gleiche Bedeutung haben wie der
obenangegebene Rest R₁₄, und Y⊖ für ein Anion steht, z. B.
eine Hydroxygruppe, ein Halogenatom, eine Schwefelsäuregruppe,
eine Carbonsäuregruppe, eine Perchlorsäuregruppe,
eine organische Carbonsäuregruppe, eine organische Sulfon
säuregruppe oder eine organische Schwefelsäuregruppe steht;
und X ist vorzugsweise eine hydrophile anionische Gruppe,
wie
worin M für ein anorganisches oder organisches Kation, z. B.
insbesondere ein Wasserstoffatom, ein Alkalimetall oder
ein Erdalkalimetall, eine Ammoniumgruppe oder eine niedere
Alkylamingruppe steht, und B und Rf die gleiche Bedeutung
haben wie oben angegeben.
Beispiele für die erfindungsgemäß eingesetzte
Fluor enthaltende Verbindung sind nachfolgend aufgelistet.
Gemäß der Erfindung wird die Fluor enthaltende Verbindung
im allgemeinen in einer Menge von 0,1 bis 1 g, insbesondere
0,5 bis 300 mg/m², bezogen auf das photographische Silberhalogenidmaterial ein
gesetzt. Das nichtionogene Tensid und die Fluor enthaltende
Verbindung gemäß der Erfindung können eingearbeitet
sein in eine der hydrophilen Kolloidschichten des photographischen
Materials, ohne Einschränkung. Es ist jedoch
bevorzugt, daß die Verbindungen in eine Oberflächenschutzschicht
oder eine Oberflächenschicht auf der Rückseite des
photographischen Materials eingearbeitet werden.
Die Bestimmung der Elementenzusammensetzung auf der Oberfläche
des photographischen Materials erfolgt durch rönt
genstrahlphotoelektronische Spektrometrie unter Verwendung
eines Mg-Kα-Strahls als Röntgenstrahlquelle für die Anregung
durch Nachweis von Photoelektronen in der Richtung
senkrecht zu der Oberfläche der Probe in einem Vakuum von
weniger als 5×10-5 Pa.
Der Nachweis des Cls-Elektrons erfolgt mittels Messen bei
einer Scanning-Geschwindigkeit unterhalb 0,2 eV/s im Bindungs
energiebereich von 300 bis 270 eV. Der Nachweis des
Fls-Elektrons wird durchgeführt durch die Bestimmung bei
einer Scanning-Geschwindigkeit unterhalb 0,2 eV/s in
einem Bindungsenergiebereich von 700 bis 680 eV. Da das
Signal des Fls-Elektrons schnell abfällt durch die Irradiation
der Erregerröntgenstrahlung ist es in diesem Fall
notwendig, falls gewünscht, den Abtastbereich so zu kontrollieren,
daß die erforderliche Zeit vom Beginn der Irradiation
der Röntgenstrahlung bis zum Ende der Messung
des Fls-Peaks 50 sec nicht überschreitet. Die Peakintensität
kann erhalten werden durch Messen des Intervalls
zwischen der Grundlinie und dem Maximalwert des Peaks.
Das Verhältnis der Fls-Peakintensität,
das bei diesem Verfahren erhalten wird, zeigt das Verhält
nis von Fluor und Kohlenstoff in der Nähe der Oberfläche
der Probe an.
Die Form der Silberhalogenidkörner, die in photographischen
Silberhalogenidemulsionen verwendet werden, kann eine reguläre
Kristallform, z. B. eine kubische Form oder eine tetraedrische
Form, oder eine irreguläre Kristallform sein, z. B.
eine Kugelform oder eine Plattenform, oder die Körner können
aus mehreren dieser Kristallformen zusammengesetzt sein. Die
Silberhalogenidkörner können auch aus einer Mischung von
Silberhalogenidkörnern mit verschiedenen unterschiedlichen Kristallformen
zusammengesetzt sein.
Die verwendeten photographischen Silberhalogenidemulsionen
können hergestellt werden nach den bekannten Methoden, wie
sie beschrieben sind in P. Glafkides, Chemie et Physique
Photographique (veröffentlicht von Paul Montel Co., 1967);
G. F. Duffin, Photographic Emulsion Chemistry (veröffentlicht
von Focal Press, 1966); V. L. Zelikman et al, Making and
Coating Photographic Emulsion (veröffentlicht von The Focal Press,
1964), d. h. die photographischen Emulsionen können hergestellt
werden nach einem sauren Verfahren, einem Neutralisationsverfahren
oder einem Ammoniakverfahren. Es ist auch
möglich, ein wasserlösliches Silbersalz und ein wasserlösliches
Halogenid umzusetzen in einem Einfachjet-Mischverfahren,
einem Doppeljet-Mischverfahren oder in einer Kombination
dieser Verfahren.
Als Binder für die photographischen Schichten gemäß der Erfindung
können Proteine verwendet werden, z. B. Gelatine,
Kasein; Celluloseverbindungen wie Carboxymethylcellulose,
Hydroxyethylcellulose; Sucrosederivate wie Agar-Agar,
Natriumalginat, Stärkederivate; synthetische hydrophile
Kolloide wie Polyvinylalkohol, Poly-N-vinylpyrrolidon, Poly
acrylsäurecopolymere, Polyacrylamid und die Derivate oder
teilweise hydrolysierte Produkte der obenangegebenen hydrophilen
Kolloide; und Mischungen davon.
Die hier genannte Gelatine erfaßt auch die sogenannte kalk
behandelte Gelatine, säurebhandelte Gelatine und die enzym
behandelte Gelatine.
Die photographischen Materialien gemäß der Erfindung können
auch in den photographischen Schichten, die Alkylacrylat-
Serienlatices enthalten, wie sie beschrieben sind in den
US-PS′sen 34 11 911 und 34 11 912 und JP-PS 5 331/70.
Die Silberhalogenidemulsionen können verwendet werden als
sogenannte Primitivemulsionen, d. h. ohne chemische Sensibilisierung.
Die Emulsionen werden aber vorzugsweise chemisch
sensibilisiert. Für die chemische Sensibilisierung können die
Verfahren verwendet werden, die beschrieben sind bei P. Glafkides,
Chimie et Physique Photographique (Paul Montel, 1967);
V. L. Zelikman et al, Making and Coating Photographic Emulsion
(The Focal Press, 1964); und H. Frieser, Die Grundlagen der
Photographischen Prozesse mit Silberhalogeniden (Akademische
Verlagsgesellschaft, 1968).
Die chemische Sensibilisierung kann durchgeführt werden durch
Schwefelsensibilisierung unter Verwendung einer Verbindung,
enthaltend Schwefel, die mit einem Silberion oder aktiver
Gelatine reagieren kann. Die Reduktionssensibilisierung
kann durchgeführt werden unter Verwendung eines Reduktionsmittels,
und die Edelmetallsensibilisierung wird durchgeführt
unter Verwendung einer Goldverbindung oder einer anderen
Edelmetallverbindung. Die Sensibilisierung kann auch durch
eine Kombination der oben angegebenen Verfahren durchgeführt
werden.
Als Schwefelsensibilisierung eignen sich Thiosulfate,
Thioharnstoffe, Thiazole, Rhodanine.
Beispiele für solche Sensibilisatoren sind beschrieben z. B. in
den US-PS′sen 15 74 944, 24 10 689, 22 78 947, 27 28 668
und 36 56 955. Als Reduktionssensibilisatoren eignen sich
Zinnsalze, Amine, Hydrazinderivate, Formamidin-Sulfinsäuren,
Silanverbindungen u. dgl.
Die photographischen Materialien gemäß der Erfindung können
außerdem verschiedene Verbindungen enthalten, wie Antischleiermittel
oder Stabilisatoren, z. B. Azole wie Benzothiazoliumsalze,
Nitroindazole, Triazole, Benzotriazole, Benzimidazole,
insbesondere nitro- oder halogensubstituierte Produkte davon,
heterocyclische Mercaptoverbindungen wie Mercaptothiazole,
Mercaptobenzothiazole, Mercaptobenzimidazole, Mercaptothiadiazole,
Mercaptotetrazole, insbesondere 1-Phenyl-5-mercaptotetrazol,
und Mercaptopyridine; die obengenannten heterocyclischen
Mercaptoverbindungen haben eine wasserlöslichmachende
Gruppe, z. B. eine Carboxygruppe und eine Sulfogruppe; Thio
ketoverbindungen wie Oxazolinthion u. dgl.; Azaindene, z. B.
Tetraazaindene, insbesondere 4-hydroxysubstituierte (1,3,3a,7)-
Tetraazaindene, Benzolthiosulfonsäuren und Benzolsulfinsäuren,
die als Antischleiermittel oder Stabilisatoren bekannt
sind.
Praktische Beispiele und die Verwendung dieser Verbindungen
sind in den US-PS′sen 39 54 474, 39 82 947 und
40 21 248 und JP-PS 28 660/77 beschrieben.
Beispiele für die Härtungsmittel für die photographischen
Schichten des photographischen Materials sind Aldehyd
verbindungen, z. B. Mucochlorsäure, Mucobromsäure, Mucophenoxy
chlorsäure, Mucophenoxybromsäure, Formaldehyd, Dimethylolharnstoff,
Trimethylolmelamin, Glyoxal, Monomethylglyoxal, 2,3-
Dihydroxy-1,4-dioxan, 2,3-Dihydroxy-5-methyl-1,4-dioxan, Succin
aldehyd, 2,5-Dimethoxytetrahydrofuran, Glutaraldehyd; aktive
Vinylverbindungen, z. B. Divinylsulfon, Methylen-bismaleimid,
5-Acetyl-1,3-diacryloylhexahydro-s-triazin, 1,3,5-Triacryloyl
hexahydro-s-triazin, 1,3,5-Trivinylsulfonyl-hexahydro-s-tri
azin, Bis(vinylsulfonylmethyl)-ether, 1,3-Bis(vinylsulfonylmethyl)-
propanol-2, Bis(α-vinylsulfonylacetamido)-ethan; aktive
Halogenverbindungen, z. B. 2,4-Dichlor-6-hydroxy-s-triazin
natriumsalz, 2,4-Dichlor-6-methoxy-s-triazin, 2,4-Dichlor-6-
(4-sulfoanilino)-s-triazin-natriumsalz, 2,4-Dichlor-6-(2-sulfo
ethylamino)-s-triazin, N,N′-bis(2-chlorethylcarbamoyl)-piperidin;
Epoxyverbindungen wie Bis(2′,3′-epoxypropyloxy)-butan,
1,3,5-Triglycidylisocyanurat, 1,3-Diglycidyl-5-(γ-acetoxy-β-
oxypropyl)-isocyanurat; Ethyleniminverbindungen wie 2,4,6-Tri
ethylenimino-s-triazin, 1,6-Hexamethylen-N,N′-bisethylenharnstoff,
Bis-β-ethyleniminoethyl-thioether; Methansulfonsäureester
wie 1,2-Di(methansulfonoxy)-ethan, 1,4-Di(methansulfon
oxy)-butan, 1,5-Di(methansulfonoxy)pentan; Carbodiimidverbindungen,
Isooxazolverbindungen, und anorganische Verbindungen
wie Chromalaun.
Die erfindungsgemäß hergestellten photographischen Materialien können
weiterhin in den Silberhalogenidemulsionsschichten oder anderen
Schichten weitere Tenside enthalten als diejenigen, die
oben beschrieben sind, und zwar für die verschiedensten Zwecke,
z. B. als Beschichtungshilfsmittel, zur Verhinderung der statischen
Aufladung, zur Verbesserung der Gleiteigenschaften,
zur Verbesserung der Emulgierbarkeit, zur Verhinderung der
Haftung und zur Verbesserung der photographischen Eigenschaften,
z. B. Beschleunigung der Entwicklung, Verbesserung des
Kontrasts, Sensibilisierung.
Beispiele für solche Tenside sind nichtionogene Tenside wie
Saponin, anionische Tenside, enthaltend eine Säuregruppe
als Carboxygruppe, eine Sulfogruppe, eine Phosphogruppe,
eine Schwefelsäureestergruppe, Phosphorsäureestergruppe, z. B.
Alkylcarboxylate, Alkylsulfonate, Alkylbenzolsulfonate, Alkyl
naphthalinsulfonate, Alkylschwefelsäureester, Alkylphosphorsäureester,
N-Acyl-N-alkyltaurinsäure, Sulfosuccinsäureester, Sulfo
alkyl-polyoxyethylenalkylphenyläther, Polyoxyethylenalkyl
phosphorsäureester; amphotäre Tenside wie Aminosäuren, Amino
alkylsulfonsäuren, Aminoalkylschwefelsäureester, Aminoalkyl
phosphorsäureester, Alkylbetaine, Aminoxide; und kationische
Tenside wie Alkylaminsalze, aliphatische oder aromatische
quaternäre Ammoniumsalze, heterocyclische quaternäre Ammoniumsalze
wie Pyridinium-, Imidazolium-, Phosphoniumsalze oder
Sulfoniumsalze, enthaltend aliphatische Ringe oder heterocyclische
Ringe.
Die Erfindung wird anhand der folgenden Beispiele näher er
läutert.
Jede Probe der photographischen Schwarz-Weiß-Silberhalogenid
materialien wurde hergestellt durch Aufschichten einer Silberhalogenid
emulsionsschicht mit der Zusammensetzung wie nachfolgend
angegeben, auf einen 180 µm dicken Polyäthylentere
phthalatträgerfilm mit Unterschicht und weiterem Aufschichten
darauf einer Schutzschicht mit der nachfolgenden
Zusammensetzung. Die so hergestellte Probe wurde
anschließend getrocknet.
Zu einer Gelatinesilberjodidbromid-Emulsion mit einer mittleren
Korngröße der Silberhalogenidkörner von 1,3 µm, enthaltend
1,5 Mol-% Silberjodid, wurde 0,6 mg Chlorgoldsäure und
3,4 mg Natriumthiosulfat je Mol Silberhalogenid zugegeben;
dann wurde die Emulsion für 50 min bei 60°C gealtert. Danach
wurde 4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a,7-tetraazainden zu der
Silberhalogenidemulsion als Stabilisator hinzugegeben.
| Schutzschicht: Dicke: etwa 1 µm | |
| Zusammensetzung und aufgeschichtete Menge | |
| Gelatine | |
| 1,5 g/m² | |
| 2,6-Dichlor-6-hydroxy-1,3,5-triazin-natriumsalz | 10 mg/m² |
| Natriumdodecylsulfat | 10 mg/m² |
| Menge der Verbindung der allgemeinen Formeln (I-1), (I-2) oder (I-3) gemäß Tabelle I |
Trocknungsbedingung A:
Δt=tD-tW=Trockenstrahlungstemperatur der Trocknungsluft-
Naßstrahlungstemperatur der Trocknungsluft.
Wenn Δt wie
oben angegeben, bestimmt wird, ist Δt=10°C.
Trocknungsbedingung B:
Δt=16°C.
Die Elementenzusammensetzung wurde mittels
des oben beschriebenen Verfahrens gemessen unter
Verwendung eines ESCA 750 röntgenstrahlphotoelektronischen
Spektrometers.
Die antistatische Eigenschaft wurde bestimmt durch die
Messung des Erscheinens der statischen Flecken. Der
Test für die Erscheinung der statischen Flecken wurde
durchgeführt durch Auflegen der Oberfläche eines jeden un
belichteten photographischen Materials, enthaltend anti
statische Mittel auf eine Urethangummibahn, eine Neopren
gummibahn, eine Nylonharzplatte oder einen Standard-
Hochschirm, wobei die Flächen
miteinander in Berührung standen und wobei das photographische
Material mit einer Gummiwalze aufgedrückt wurde,
und dann wurde das photographische Material abgezogen.
Der Test für das Auftreten der statischen Flecken wurde durchgeführt
bei 25°C und 25% relativer Luftfeuchtigkeit. Zusätzlich
wurde die Befeuchtung der Proben durchgeführt für einen
ganzen Tag und eine Nacht unter der obenangegebenen Bedingung.
Die Bewertung der statischen Flecken wurde durchgeführt gemäß
den folgenden fünf Stufen:
A: Das Auftreten von statischen Flecken wurde nicht beobachtet.
B: Es wurden statische Flecken nur zu einem geringen Ausmaß festgestellt.
C: Beachtliches Auftreten von statischen Flecken.
D: Verstärktes Auftreten von statischen Flecken.
E: Auftreten von statischen Flecken auf der gesamten Ober fläche.
B: Es wurden statische Flecken nur zu einem geringen Ausmaß festgestellt.
C: Beachtliches Auftreten von statischen Flecken.
D: Verstärktes Auftreten von statischen Flecken.
E: Auftreten von statischen Flecken auf der gesamten Ober fläche.
Für die Bestimmung des Ausmaßes an statischen Flecken
wurde jede Probe für 90 sec entwickelt unter Verwendung
eines RD-III-Entwicklers in einer automatischen Entwick
lungsvorrichtung.
Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle I zusammen
gefaßt.
Für die obigen Versuche wurden die folgenden Beschich
tungshilfsmittel verwendet:
Verbindung A:
Verbindung B:
Die Ergebnisse aus den Proben 1 bis 4 und 8 bis 10 gemäß
der Tabelle I zeigen, daß das Verhältnis von F1s/C1s ansteigt
mit der Erhöhung der Menge des Fluor enthaltenden
Tensids.
Die Ergebnisse der Tabelle zeigen, daß bei den Proben 6,
7, 13 und 14 das Verhältnis von F1s/C1s sich ändert mit
der Menge und der Art des nichtionogenen Tensids, das
eine Polyoxyethylengruppe enthält. Die Ergebnisse der Versuche
mit den Proben 11 und 12 zeigen, daß das Verhältnis
sich ändert mit der Art und der Menge des Beschichtungs
hilfsmittels.
Es ist weiterhin aus den Ergebnissen mit den Proben 2 und
5 ersichtlich, daß, wenn die hinzugegebenen Materialien
und die hinzugegebenen Mengen die gleichen sind, das Verhältnis
von F1s/C1s sich ändert bei der Änderung der Trock
nungsmethode.
Wie oben angegeben, ändert sich das Verhältnis von F1s/C1s
mit der Art und der Menge des Fluor enthaltenden Tensids,
des nichtionogenen Tensids mit einer Polyoxyethylengruppe
und des Beschichtungshilfsmittels und auch der Trocknungsbedingung.
Die Proben, die jedoch keine statischen Flecken
bei den verschiedenen Zusätzen aufweisen, sind nur die Pro
ben, bei denen das Verhältnis von F1s/C1s im Bereich von
0,3 bis 2,0 liegt.
Jedes der photographischen Schwarz-Weiß-Silberhalogenid
materialien wurde hergestellt durch Aufschichten der folgenden
Emulsionen in der nachstehend angegebenen Reihenfolge,
nämlich Silberhalogenidemulsion A und Silberhalogenidemulsion B
mit den Zusammensetzungen wie unten angegeben auf
einen 180 µm dicken Polyäthylenterephthalatträgerfilm
mit Unterschicht und weiterem Aufschichten darauf einer
Schutzschicht mit der nachfolgenden Zusammensetzung. Die
so hergestellte Probe wude anschließend getrocknet.
Die Silberhalogenidemulsion A wurde hergestellt durch Zugabe
von 0,6 mg Chlorgoldsäure und 3,4 mg Natriumthiosulfat
je Mol Silberhalogenid zu einer Gelatinesilberjodidbromid
emulsion mit einer mittleren Korngröß der Silberhalogenidkörner
von 1,0 µm, enthaltend 1,5 Mol-% Silberjodid,
und einem anschließenden Reifungsvorgang der Emulsion für
55 min bei 60°C. Die Silberhalogenidemulsion B wurde hergestellt,
indem man zu einer Gelatinesilberjodidbromidemulsion
mit einer mittleren Korngröße der Silberhalogenidkörner
von 1,3 µm, enthaltend 1,5 Mol-% Silberjodid, 0,6 mg
Chlorgoldsäure und 3,4 mg Natriumthiosulfat je Mol Silberhalogenid
zugab und dann die Emulsion für 50 min bei
60°C altern ließ in der gleichen Weise wie bei der Silberhalogenid
emulsion A angegeben. Zu jeder der so hergestellten
Silberhalogenidemulsionen wurde 4-Hydroxy-6-methyl-
1,3,3a,7-tetraazainden als Stabilisator und weiterhin
1×10-4 Mol/Mol-Ag der Verbindung (a), wie nachstehend
angegeben, hinzugegeben.
Wenn die relative Empfindlichkeit der Silberhalogenid
emulsion A mit 60 bezeichnet wurde, dann betrug die relative
Empfindlichkeit der Silberhalogenidemulsion B 100.
Die aufgeschichtete Silbermenge für jede wie oben beschrieben
hergestellte Probe betrug 1,3 g/m² für die Emulsionsschicht
A und 2,6 g/m² für die Emulsionsschicht B.
Die aufgeschichtete Menge an Gelatine betrug 0,8 g/m² für
die Emulsionsschicht A und 1,6 g/m² für die Emulsions
schicht B.
Verbindung (a):
Verbindung (a):
| Schutzschicht: Dicke: etwa 1 µm | |
| Zusammensetzung und Beschichtungsmenge | |
| Gelatine | |
| 1,5 g/m² | |
| 2,6-Dichlor-6-hydroxy-1,3,5-triazin-natriumsalz | 10 mg/m² |
| Natriumdodecylsulfat | 10 mg/m² |
Die eingesetzten Verbindungen und die Menge der eingesetzten
Verbindungen gemäß den Formeln (I-1), (I-2), (I-3)
oder (II) sind in der Tabelle II zusammengefaßt.
Die Trocknung erfolgt in der gleichen Weise wie in
Beispiel 1 angegeben.
Die gleiche Methode wie in Beispiel 1 angegeben.
In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 angegeben.
Wie in Beispiel 1 angegeben.
Jede Probe und der Verstärkungsschirm LT-II
wurde für einen Tag bei 30°C und
80% relativer Luftfeuchtigkeit gelagert und nach dem
Passieren von 100 Proben durch eine Kassette unter Verwendung
des Schirms LT-II unter den gleichen Bedingungen
wurde die Bestrahlung mit Röntgenstrahlen durchgeführt
und dann wurde die Bildung einer unebenen Dichte gemessen.
Die Bewertung des Verunreinigungsausmaßes des Verstärkungsschirms
wurde vorgenommen nach der folgenden Standard
bewertung:
A. Es wurde keine ungleiche Dichte beobachtet.
B: Es wurde eine ungleichmäßige Dichte in einem geringen Ausmaß beobachtet.
C: Es wurde eine ungleichmäßige Dichte in einem beachtlichen Ausmaß beobachtet.
D: Es wurde ungleichmäßige Dichte in einem großen Ausmaß beobachtet.
B: Es wurde eine ungleichmäßige Dichte in einem geringen Ausmaß beobachtet.
C: Es wurde eine ungleichmäßige Dichte in einem beachtlichen Ausmaß beobachtet.
D: Es wurde ungleichmäßige Dichte in einem großen Ausmaß beobachtet.
Die Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle II zu
sammengefaßt.
Die Ergebnisse der Versuche mit den Proben 1 bis 4 in
Tabelle II zeigen, daß, wenn das Verhältnis F1s/C1s im
Bereich von 0,3 bis 2,0 liegt, hierbei keine statischen
Flecken für die verschiedensten Zusätze auftreten, und
zwar unabhängig von der Art des hinzugesetzten nichtionogenen,
eine Polyoxyethylengruppe enthaltenden Tensids.
Das Verfärbungsaumaß des Verstärkungsschirms und die relative
Empfindlichkeit ändern sich in Abhängigkeit von
der Art des nichtionogenen Tensids, das eine Polyoxyethylengruppe
aufweist, wobei die Verbindung gemäß der allgemeinen
Formel (I-3) die beste Eigenschaft aufweist, und
die Eigenschaft verringert sich zu einem gewissen Ausmaß
bei Verwendung der Verbindung der allgemeinen Formel
(I-2) und der Verbindung der allgemeinen Formel (I-1).
Claims (7)
1. Verfahren zur Herstellung eines photographischen Silberhalogenid
materials mit einem Träger und mindestens einer darauf
aufgebrachten Schicht, die eine Fluor enthaltende Verbindung
sowie ein Tensid, das eine Polyoxyethylengruppe aufweist,
enthält,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Kombination einer Fluor enthaltenden Verbindung der allgemeinen Formel Rf-B-X (II)worin bedeuten:
Rf eine teilweise oder vollständig fluorierte, unsubstituierte oder substituierte Alkyl-, Alkenyl- oder Arylgruppe, die wenigstens 3 Fluoratome enthält,
B eine zweiwertige verbindende Gruppe und
X eine wasserlöslich machende Gruppe,
mit einem nicht-ionischen Tensid mit einer Polyoxyethylengruppe der allgemeinen Formel worin bedeuten:
R₁ eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe mit 1 bis 30 Kohlenstoffatomen, eine unsubstituierte oder substituierte Alkenylgruppe oder eine unsubstituierte oder substituierte Arylgruppe,
A eine -O-, -S-, -COO-, oder Gruppe, worin R₁₀ für ein Wasserstoffatom oder eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe steht, und n₁ eine Zahl von 2 bis 50, oder worin bedeuten:
R₂ und R₃ jeweils ein Wasserstoffatom, eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe, ein Halogenatom, eine Acylgruppe, eine Amidogruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine Carbamoylgruppe oder eine Sulfamoylgruppe,
R₄ und R₅ jeweils ein Wasserstoffatom, eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe oder eine Arylgruppe, oder worin R₄ und R₅ gemeinsam einen unsubstituierten oder substituierten Ring bilden können,
n₂ eine Zahl von 2 bis 50 und
m eine Zahl von 2 bis 50 oder worin bedeuten:
R₄ und R₅ jeweils ein Wasserstoffatom, eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe oder eine Arylgruppe oder worin R₄ und R₅ gemeinsam einen unsubstituierten oder substituierten Ring bilden können,
R₆ und R₈ eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe, ein Halogenatom, eine Acylgruppe, eine Amidogruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine Carbamoylgruppe oder eine Sulfamoylgruppe,
R₇ und R₉ jeweils ein Wasserstoffatom, eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe, ein Halogenatom, eine Acylgruppe, eine Amidogruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine Carbamoylgruppe oder eine Sulfamoylgruppe, wobei die Reste R₆ und R₇ und die Reste R₈ und R₉ jeweils gemeinsam einen unsubstituierten oder substituierten Ring bilden können, und
n₃ und n₄ jeweils eine Zahl von 2 bis 50, verwendet wird, und die jeweils eingesetzten Mengen an nichtionischem Tensid (I-1, I-2, I-3) und fluorenthaltender Verbindung (II), das ggf. weiter mitverwendete Beschichtungshilfsmittel und die Trocknungsbedingungen so aufeinander abgestimmt werden, daß an der Oberfläche dieser Schicht ein durch Röntgenphotoelektronen spektrometrie gemessenes F1s/C1s-Peak-Intensitätsverhältnis von 0,3 bis 2,0 erhalten wird.
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Kombination einer Fluor enthaltenden Verbindung der allgemeinen Formel Rf-B-X (II)worin bedeuten:
Rf eine teilweise oder vollständig fluorierte, unsubstituierte oder substituierte Alkyl-, Alkenyl- oder Arylgruppe, die wenigstens 3 Fluoratome enthält,
B eine zweiwertige verbindende Gruppe und
X eine wasserlöslich machende Gruppe,
mit einem nicht-ionischen Tensid mit einer Polyoxyethylengruppe der allgemeinen Formel worin bedeuten:
R₁ eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe mit 1 bis 30 Kohlenstoffatomen, eine unsubstituierte oder substituierte Alkenylgruppe oder eine unsubstituierte oder substituierte Arylgruppe,
A eine -O-, -S-, -COO-, oder Gruppe, worin R₁₀ für ein Wasserstoffatom oder eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe steht, und n₁ eine Zahl von 2 bis 50, oder worin bedeuten:
R₂ und R₃ jeweils ein Wasserstoffatom, eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe, ein Halogenatom, eine Acylgruppe, eine Amidogruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine Carbamoylgruppe oder eine Sulfamoylgruppe,
R₄ und R₅ jeweils ein Wasserstoffatom, eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe oder eine Arylgruppe, oder worin R₄ und R₅ gemeinsam einen unsubstituierten oder substituierten Ring bilden können,
n₂ eine Zahl von 2 bis 50 und
m eine Zahl von 2 bis 50 oder worin bedeuten:
R₄ und R₅ jeweils ein Wasserstoffatom, eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe oder eine Arylgruppe oder worin R₄ und R₅ gemeinsam einen unsubstituierten oder substituierten Ring bilden können,
R₆ und R₈ eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe, ein Halogenatom, eine Acylgruppe, eine Amidogruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine Carbamoylgruppe oder eine Sulfamoylgruppe,
R₇ und R₉ jeweils ein Wasserstoffatom, eine unsubstituierte oder substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe, ein Halogenatom, eine Acylgruppe, eine Amidogruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine Carbamoylgruppe oder eine Sulfamoylgruppe, wobei die Reste R₆ und R₇ und die Reste R₈ und R₉ jeweils gemeinsam einen unsubstituierten oder substituierten Ring bilden können, und
n₃ und n₄ jeweils eine Zahl von 2 bis 50, verwendet wird, und die jeweils eingesetzten Mengen an nichtionischem Tensid (I-1, I-2, I-3) und fluorenthaltender Verbindung (II), das ggf. weiter mitverwendete Beschichtungshilfsmittel und die Trocknungsbedingungen so aufeinander abgestimmt werden, daß an der Oberfläche dieser Schicht ein durch Röntgenphotoelektronen spektrometrie gemessenes F1s/C1s-Peak-Intensitätsverhältnis von 0,3 bis 2,0 erhalten wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das
nicht-ionogene Tensid in einer Menge von 5 bis 500 mg/m²
bezogen auf das photographische Silberhalogenidmaterial,
verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
nicht-ionogene Tensid in einer Menge von 10 bis 300 mg/m²,
bezogen auf das photographische Silberhalogenidmaterial,
verwendet wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Fluor enthaltende Verbindung in
einer Menge von 0,1 mg/m² bis 1 g/m², bezogen auf das
photographische Silberhalogenidmaterial, verwendet wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
Fluor enthaltende Verbindung in einer Menge von 0,5 bis 300 mg/m²,
bezogen auf das Silberhalogenidmaterial, verwendet
wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die in Anspruch 1 genannten Bedingungen
so eingestellt werden, daß die F/C-Zusammensetzung an der
Oberfläche der Schicht ein durch Röntgenphotoelektronen
spektrometrie gemessenes F1s/C1s-Peak-Intensitätsverhältnis
von 0,8 bis 1,6 ergibt.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß das nicht-ionogene Tensid und die Fluor
enthaltende Verbindung enthaltende Schicht in eine Oberflächen
schutzschicht oder eine Rückschicht eingesetzt werden.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58188230A JPS6080849A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3436622A1 DE3436622A1 (de) | 1985-04-25 |
| DE3436622C2 true DE3436622C2 (de) | 1991-11-21 |
Family
ID=16220058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19843436622 Granted DE3436622A1 (de) | 1983-10-07 | 1984-10-05 | Photographisches silberhalogenidmaterial |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4596766A (de) |
| JP (1) | JPS6080849A (de) |
| DE (1) | DE3436622A1 (de) |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS57146248A (en) * | 1981-03-04 | 1982-09-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic material |
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1984
- 1984-10-05 DE DE19843436622 patent/DE3436622A1/de active Granted
- 1984-10-09 US US06/658,742 patent/US4596766A/en not_active Expired - Lifetime
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