ES2293674T3 - Procedimiento para la modificacion de superficies. - Google Patents
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Abstract
Un procedimiento para formar una capa metálica en diseños distintos sobre una capa superficial de sustratos orgánicos o sustratos que comprenden al menos una superficie con una capa superficial de un material orgánico, en el que dicha capa superficial se modifica químicamente para lograr áreas de adherencia distinta de acuerdo con dicho diseño distinto, y en el que dicha modificación química consiste en la adición a dicho sustrato de un iniciador con capacidad para ser activado por radiación de UV, caracterizado porque la activación de dicho iniciador da lugar a la supresión de átomos de hidrógeno de áreas distintas de la capa superficial con lo que se forman radicales reactivos y, posteriormente, se traza(n) el/los diseño(s) deseado(s) sobre la superficie orgánica usando una fuente de radiación, y dicha capa metálica se aplica a dichas áreas distintas.
Description
Procedimiento para la modificación de
superficies.
La presente invención se refiere a un nuevo
procedimiento para la modificación de superficies en un material
orgánico, especialmente material polimérico. El procedimiento se
refiere especialmente a la modificación de superficies no
conductoras para facilitar la disposición de diseños decorativos
distintos sobre dichas superficies. La presente invención comprende
también procedimientos para producir productos con una capa metálica
con distintos diseños decorativos así como productos producidos por
medio de uno de estos procedimientos.
En muchos campos técnicos diferentes existe la
necesidad de disponer capas finas de un material conductor sobre un
sustrato no conductor. Esta necesidad es evidente en la fabricación
de componentes electrónicos. Las tarjetas de circuito son un
ejemplo de productos, en los que es necesario combinar materiales de
diferentes propiedades de conducción con una gran precisión y una
alta resolución. Hoy en día las demandas siempre crecientes se
presentan tanto en los procedimientos de producción como en los
productos. Los procedimientos usados principalmente hoy en día para
producir tarjetas de circuito son sustractivos. Esto significa que
se comienza a partir de un sustrato provisto con un conductor,
retirándose de dicho sustrato el material conductor en varias etapas
sucesivas desde las superficies en las que no es deseable que
exista capacidad de conducción eléctrica.
En la fabricación tradicional de tarjetas de
circuito se comienza a partir de un sustrato o panel básico, en el
que se perfora un orificio ilustrado para permitir la aplicación de
componentes y/o la conexión de capas conductoras en lados opuestos
del sustrato. A continuación, en los orificios del sustrato se
deposita un material conductor, normalmente cobre. Seguidamente, se
aplica una película fina sensible a la luz sobre el sustrato,
frecuentemente a alta presión y alta temperatura. Sobre esta
película se pone una toma fotográfica en forma de imagen negativa
del diseño de circuito deseado, exponiéndose la toma fotográfica
seguidamente a luz UV, con lo que la película se polimeriza en las
áreas expuestas y las áreas no polimerizadas se lavan con una base
adecuada. De esta manera, el diseño del circuito deseado queda
incluido en el resto de la película. A continuación, un metal, por
ejemplo, cobre se deposita electrolíticamente, de acuerdo con este
diseño. Sobre este diseño se deposita estaño o plomo, a partir de
lo cual se elimina la película en un baño, por ejemplo, mediante
una base fuerte. Seguidamente, la capa de estaño o plomo se retoca
con agua fuerte y, seguidamente se aplica un estarcido de soldadura
líquido, por ejemplo, en forma de pigmento de epoxi con dos
componentes. El estarcido de soldadura se expone y se revela y
finalmente se aplica una capa protectora de níquel u oro para
prevenir cualquier oxidación.
Este procedimiento conlleva varios
inconvenientes. En primer lugar, el procedimiento de producción es
de mano de obra muy intensiva lo que conduce a que la producción de
tarjetas de circuitos sea transferida en gran medida a países con
costes de mano de obra bajos. En segundo lugar, se forman grandes
cantidades de residuos perjudiciales para el medio ambiente,
principalmente en forma de fluidos de grabado con altos contenidos
de, por ejemplo, cobre, abomaso, estaño, etc. En tercer lugar, los
procedimientos de producción existentes no satisfacen las demandas
técnicas crecientes. Los procedimientos convencionales se están
acercando a sus límites inherentes, especialmente en cuanto al
ancho del espectro.
Por lo tanto, existe una aparente demanda de
simplificación de los procedimientos de producción para incrementar
el nivel de automatización y, simultáneamente, eliminar los
problemas medioambientales relacionados con el uso actual de
productos químicos reactivos. Simultáneamente, muchos esfuerzos de
investigación y desarrollo están tratando de fabricar tanto
componentes electrónicos como tarjetas de circuitos con menos
consumo de material y espacio. La producción de tarjetas de
circuito se presenta aquí seguidamente como ejemplo de las muchas
aplicaciones a las que es aplicable la presente invención.
Ya es conocida la modificación de superficies
poliméricas para incrementar la capacidad de adherencia entre
ellas. Por ejemplo, Wan-Tai Yang describe en su
disertación académica "Lamination by photografting" (KTH,
instituto de Tecnología Polimérica, Estocolmo 1996) la unión entre
sí de capas poliméricas verdaderamente finas usando fotoiniciadores
y una irradiación con luz UV. La ventaja de la fotolaminación es que
el procedimiento consume poca energía, no crea residuo alguno a
eliminar, conlleva periodos de endurecimiento breves y proporciona
excelentes características al producto, tales como ausencia de
contracción y evitación de solventes encerrados.
El documento
US-A-4.006.269 describe un
procedimiento para hacer más sensible la superficie de un sustrato
de material no conductor usando un sustrato que elimina
fotoquímicamente un átomo de hidrógeno de un donante de protones en
presencia de un solvente adecuado y proporciona un radical cetonal,
seguidamente se sumerge el sustrato en una solución de platina que
comprende iones metálicos. A continuación, el sustrato se irradia
estando sumergido en la solución de platina con una irradiación de
UV dentro del intervalo entre 200 y 400 \mum para proveer dicho
radical cetonaI reduciendo los iones metálicos a metal. Como
compuestos sensibilizantes se mencionan la benzofenona, un halógeno
mono o di- para-sustituido, metilo-, metoxi- y
sulfonato-benzofenona. Como donante de protones se
usa un alcohol secundario, por ejemplo,
benzoe-hidrola. Como ejemplo de solvente se
menciona isopropil alcohol, etilen glicol y polietileno glicol. Como
ejemplos de metales de revestimiento se mencionan el níquel y el
cobre.
El boletín de revelaciones técnicas de IBM, vol.
30, nº. 6, de 1 noviembre 1987, página 414 presenta brevemente un
procedimiento de mejora de la adherencia de metales a la polimida
que comprende la limpieza de la superficie con un tratamiento
alcalino suave, tal como una solución aguada de hidróxido de
potasio. El documento menciona el tratamiento para la adherencia de
líneas de circuito de anchura inferior a una milésima.
El documento
US-A-5 225 495 se refiere a un
procedimiento para la formación de películas de polímeros
conductores, tales como las películas de polianilina, sobre un
sustrato y a artículos compuestos mediante dicho procedimiento. En
la primera etapa del procedimiento, se pone en contacto un sustrato
con un agente iniciador. En una segunda etapa se pone en contacto
una solución que contiene monómeros con el sustrato para formar una
capa polimérica. El sustrato puede variar ampliamente en tanto en
cuanto el agente iniciador pueda absorber o adsorber dicho
sustrato. En realizaciones preferentes son materiales útiles como
sustratos los materiales poliméricos orgánicos. Se puede aplicar un
agente iniciador uniformemente o como un diseño decorativo, por
ejemplo, usando procedimientos relacionados con la impresión
serigráfica, huecograbado rotatorio y procedimientos de impresión
asociados.
La presente invención se refiere a un nuevo
procedimiento para modificar superficies de acuerdo con las
reivindicaciones adjuntas. La invención se refiere especialmente a
un nuevo procedimiento para disponer una capa metálica con diseños
distintos sobre un sustrato de material polimérico o sobre un
sustrato que contiene al menos una superficie con una capa
superficial de un material orgánico de acuerdo con las
reivindicaciones adjuntas. La presente invención comprende también
productos manufacturados por el nuevo procedimiento.
La figura 1 muestra esquemáticamente las
diferentes etapas del procedimiento de acuerdo con una realización
de la invención en forma de diagrama de flujos,
La figura 2 muestra esquemáticamente las
diferentes etapas del procedimiento para la modificación de
superficies y para la disposición de un conductor de acuerdo con
una realización preferente de la invención,
La figura 3 es un espectrograma de FTIR que
muestra la absorción de IR de una superficie laminada de epoxi
modificada de acuerdo con la invención (obsérvese la absorción a
1718 cm^{-1}) y
La figura 4 es un espectrograma de FTIR que
muestra la absorción de IR de una superficie no tratada.
La presente invención se refiere a un nuevo
procedimiento para modificar superficies de material orgánico,
preferiblemente un material polimérico, comprendiendo el
procedimiento una modificación química de dicha superficie o, más
exactamente, el exterior de dicha superficie para lograr distintas
áreas de adherencia de acuerdo con un diseño deseado. La invención
se refiere especialmente a un procedimiento en el que se modifica la
superficie de un sustrato por medio del injerto de grupos
funcionales adecuados de acuerdo con un diseño deseado, seguidamente
se dispone un material conductor en estos grupos. Preferiblemente,
se proveen moléculas cargadas de una sustancia funcional,
preferiblemente iones de una sustancia conductora, más
preferiblemente iones metálicos, por medio de adsorción sobre la
superficie modificada, a continuación dichos iones son reducidos
térmicamente o fotoquímicamente al estado atómico. Seguidamente,
este material conductor constituye la base para la formación de una
capa metálica con el espesor deseado de acuerdo con el diseño
específico deseado. Esta aplicación de una capa más gruesa se puede
realizar usando baños autocatalíticos convencionales para
recubrimiento metálico o por medio de otros procedimientos
adecuados tales como la atomización en una atmósfera inerte.
Preferiblemente, dicha modificación se realiza
en cuanto que la primera capa está tratada con un compuesto químico
con la capacidad de eliminar átomos de hidrógeno de la capa
superficial durante la iniciación con energía de radiación
concentrada, por ejemplo, usando radiación ultravioleta. De acuerdo
con una realización preferente de la invención, dicho compuesto
químico tiene además la capacidad de lograr una adherencia covalente
entre la capa superficial y los grupos comprendidos en el
compuesto. Estos grupos son cadenas de hidrocarburos polimerizables
adecuadamente. De acuerdo con una realización de la invención, estos
grupos se seleccionan de cetonas aromáticas y cetonas aromáticas u
otros compuestos adecuados con una fuerte absorción de UV en el
intervalo utilizable prácticamente entre 200 y 400 nm. Por supuesto
que incluso se pueden utilizar otros grupos que sean iniciables con
radiación rn un intervalo seleccionable y utilizable prácticamente.
Alternativamente, se utiliza una mezcla de un fotoiniciador y un
monómero adecuado o monómeros adecuados.
En adelante, la expresión "sustrato" indica
todo sustrato no conductor adecuado. Son ejemplos de sustratos
adecuados de acuerdo con la invención los discos planos de un
material polimérico o con al menos una superficie de un material
polimérico. Todos los materiales que comprenden átomos de hidrógeno
extraibles son adecuados para un uso de acuerdo con la presente
invención. Materiales poliméricos especialmente adecuados son, por
ejemplo, las resinas de epoxi y las polimidas.
\newpage
Sin embargo, en relación con la presente
invención, es importante que la superficie en cuestión comprenda
compuestos de hidrocarburo secundario y/o terciario.
Preferiblemente, la superficie comprende compuestos de hidrocarburo
terciarios. Normalmente, los sustratos tienen forma de discos
planos, por ejemplo, discos de resina de epoxi reforzados con fibra
de vidrio o de un material polimérico adecuado parecido. Otros
materiales de sustrato adecuados son el vidrio y la cerámica
tratados previamente de manera adecuada, por ejemplo, silanizado.
Para un experto en la técnica es evidente que el sustrato puede
incluso comprender varios discos dispuestos unos encima de otros.
Asimismo, encima de una capa pueden estar dispuestas nuevas capas de
sustrato que comprenden una superficie modificada y, dispuesta
sobre la misma, uno o varios materiales. Por ejemplo, puede estar
dispuesta una superficie con un diseño distinto de un material
conductor de acuerdo con la invención, puede estar recubierta con
una capa polimérica, a continuación se disponen sobre esta capa
otros materiales conductores con un diseño distinto. A su vez, esta
capa puede estar recubierta con una capa polimérica y el
procedimiento se puede repetir. Para un experto es evidente que se
pueden disponer conexiones adecuadas entre las capas.
En adelante, el término "iniciador" indica
todo compuesto químico adecuado capaz de iniciar, cuando está
expuesto a una fuente de radiación, una reacción química en la
superficie del sustrato. Preferiblemente, el iniciador es un
compuesto con capacidad para formar radicales. Preferiblemente, el
iniciador es un fotoiniciador, más preferiblemente un compuesto con
la característica de no ser objeto de fotounión, si no que,
preferiblemente y por el contrario, de fotorreducción por medio de
la extracción de un hidrógeno.
Los compuestos que comprenden grupos carbonilo,
preferiblemente los aromáticos, son ejemplos de fotoiniciadores
adecuados. Las cetonas aromáticas y las cetonas alifáticas
aromáticas absorben radiación UV, especialmente en el intervalo
entre 200 y 300 nm, lo que hace que estos compuestos sean
utilizables como fotoiniciadores de acuerdo con la invención. Se
pueden utilizar, incluso, las cetonas alifáticas y los aldehídos. El
fotoiniciador de acuerdo con la presente invención se puede
seleccionar del grupo que comprende cetonas aromáticas, tales como
benzofenona, 4-cloro benzofenona, 4,4' dicloro
benzofenona, 4-bencil benzofenona, benzoil
naftanaleno, xantona, antraquinona, 9-fluorenona,
benzopinacol, amino cetonas aromáticas opcionales, y mezclas los
mismos. El fotoiniciador de acuerdo con la presente invención
también se puede seleccionar del grupo que comprende cetonas
alifáticas aromáticas, tales como acetofenona, benzoil dimetilcetal
(BDK),
hidroxi-ciclo-hexil-acetofenona
y mezclas de los mismos. El fotoiniciador de acuerdo con la
presente invención se puede seleccionar también del grupo que
comprende di-cetonas, tales como biacetilo,
3,4-hexano-di-ona,
2,3- pentano-di-ona,
1-fenil-1,2-propano-di-ona,
benzeno, ácido benzoilformico y mezclas de los mismos. El
fotoiniciador de acuerdo con la presente invención se puede
seleccionar también del grupo que comprende compuestos de carbonilo
alifático, tales como formaldehido, aldehido acético, acetona,
2-pentanona, 3-pentanona,
ciclohexanona y mezclas de los mismos. Además de las mezclas
opcionales de los compuestos antes mencionados en proporciones
adecuadas, también son utilizables de acuerdo con la invención
metanol sulfonato ésteres de benzofenona.
Además, de acuerdo con la presente invención es
deseable que el iniciador en cuestión retire de la superficie del
sustrato, una vez expuesta, principalmente sólo átomos de hidrógeno
terciarios o terciarios y secundarios. Esta exposición se puede
llevar a cabo usando una fuente de radiación concentrada, un diseño
que se traza directamente sobre el sustrato, o usando un estarcido,
siendo trazado el diseño sobre el estarcido y el esparcido aplicado
entre el sustrato y la fuente de radiación con una exposición
posterior.
En relación con la presente invención, la
expresión "fuente de radiación" comprende cualquier fuente de
radiación adecuada con capacidad para iniciar una reacción química
en la superficie del sustrato. En el caso de que el diseño se trace
directamente sobre la superficie del sustrato es necesario utilizar
una fuente de radiación concentrada de manera tal que se pueda
lograr la resolución deseada. Preferiblemente, se utiliza una fuente
de radiación concentrable, controlable en el plano xy, por ejemplo,
un trazador de láser UV.
La expresión "material conductor" se usa
aquí como denominación común de materiales capaces de transmitir
señales, por ejemplo, pulsos eléctricos o pulsos luminosos. Por lo
tanto, los sustratos denominados "no conductores" no
transmiten señales ni interfieren la propagación de las mismas en
materiales conductores o en materiales aplicados al sustrato. Son
materiales conductores adecuados los metales, por ejemplo, en la
industria electrónica, los metales usados convencionalmente tales
como el oro, la plata, el níquel y el paladio.
Para un experto es evidente que la expresión
"diseño distinto" se refiere a una limitación técnica de un
material en cuanto a una característica deseada a este respecto,
por ejemplo, conductividad eléctrica en comparación con otro
material que carece de esta característica o que la comprende en un
grado mucho menor. En las tarjetas de circuito del ejemplo que se
usan en la presente descripción para ilustrar la invención, diseño
se refiere al diseño del conductor en dos o tres dimensiones de la
tarjeta de circuito y posiblemente de los componentes insertados en
la misma.
Los monómeros adecuados son monómeros capaces de
unirse covalentemente a la capa superficial del sustrato. Son
ejemplos de dichos monómeros las moléculas orgánicas que tienen una
doble unión entre dos átomos de carbono. De acuerdo con una
realización preferente, estos monómeros tienen grupos conductores o
pueden ser modificados fácilmente para incorporar grupos
conductores. Los monómeros de acuerdo con la presente invención
pueden ser seleccionados entre: ácido acrílico, ácido metacrílico,
acrilato de butilo, acrilato de glicidilo, metacrilato de
glicidilo, metil-metacrilato, isómeros de
vinilpiridina, acrilonitrilo, acetato de vinilo,
N-vinil-2-pirolidona,
4-vinilpiridina,
1,4-butanodioldimetacrilato, stireno y mezclas de
los mismos.
La mezcla de un iniciador y alqueno puede ser
aplicada a la superficie del sustrato de varias maneras. Se puede
dispersar o rociar o vaporizar una solución que comprende el
iniciador y el alqueno y hacer que se condense sobre la superficie
del sustrato. Prácticamente, esto se puede lograr disolviendo el
iniciador y el monómero, por ejemplo, un alqueno adecuado, en un
disolvente adecuado, por ejemplo, acetona. En ciertos casos el
propio alqueno puede ser el disolvente, por ejemplo, usando
alquenos que sean fluidos a la temperatura de uso. De acuerdo con
una realización preferente de la invención, el iniciador se aplica
como una neblina o aerosol sobre la superficie del sustrato. El
aerosol consta adecuadamente de gotas de fluido del iniciador
dispersas finamente, disueltas eventualmente en un disolvente
adecuado, dispersas en partículas sin gas. Para facilitar la
aplicación de una capa uniforme del iniciador sobre el sustrato, el
sustrato se conecta a tierra y a las gotas de fluido se les aplica
una ligera carga eléctrica. La superficie modificada se trata con
una solución de un ion metálico adecuado, tal como Pd(II),
Pt(II), Cu(II), Ni(ll) o Ag(I).
Seleccionando grupos funcionales adecuados en el alqueno aplicado
previamente a la superficie, se puede hacer que esos iones metálicos
sean absorbidos fuertemente sobre la superficie. Seguidamente, los
iones metálicos se reducen a un estado atómico. La reducción se
puede realizar por medio de una reacción química en solución o por
medio de una reacción fotoquímica. La etapa de reducción puede
comprender incluso un tratamiento térmico. Cuando se usen agentes
reductores, estos se pueden aplicar externamente o los polímeros
que se inoculan en la superficie pueden actuar como agentes
reductores, si se seleccionan correctamente los monómeros.
De esta manera se aplica uniformemente una capa
conductora fina, preferiblemente capa metálica, a las partes
modificadas de la superficie del sustrato. Sin embargo, esta capa es
demasiado fina para ser utilizable prácticamente en cualquier
aplicación electrónica conocida actualmente y, por consiguiente, se
deba hacer más gruesa. Esto se logra adecuadamente por medio de un
tratamiento con una solución que contiene iones metálicos, agentes
complejantes y agentes reductores. A este fin, están disponibles
comercialmente varios sistemas reactivos comerciales.
Alternativamente, el metal a aplicar a la primera capa fina se puede
atomizar en una cámara de vacío o en una atmósfera de gas inerte y,
simultáneamente, se provee una baja polaridad sobre la primera capa
fina.
La figura 1 muestra esquemáticamente las
diferentes etapas del procedimiento de acuerdo con una realización
de la invención en forma de diagrama de flujos. En la práctica, las
etapas 4, 5 y 6 se podrían realizar como una sola etapa de
activación. Además, la etapa 8, recubrimiento metálico, es
meramente un ejemplo. Evidentemente, el desarrollo de la capa
metálica se puede lograr por medio de otros procedimientos, tales
como la pulverización iónica.
La figura 2 muestra esquemáticamente cómo se
modifica la superficie del sustrato y cómo la superficie modificada
se pone en contacto con monómeros (A) adecuados, adhiriéndose los
monómeros a la superficie y se desarrolla un polímero mediante
monómeros adecuados con posibles grupos (B) funcionales, se proveen
materiales conductores a los polímeros (C) y la capa conductora se
refuerza mediante la provisión de otros materiales (D)
conductores.
De acuerdo con una realización de la invención
el procedimiento comprende las siguientes etapas: provisión de un
iniciador en la superficie del sustrato, irradiación con UV, un
lavado, adición de metal más reactivo a la superficie, irradiación
con UV, otro lavado y recubrimiento con un metal (figura 1).
De acuerdo con otra realización de la invención
el procedimiento puede comprender una disposición directa de un
material conductor en la superficie, es decir, monómeros con grupos
conductores, seguido, por ejemplo, de una atomización de metal y
electrorrecubrimiento.
De acuerdo con una realización preferente de la
invención, el procedimiento consta de un procedimiento totalmente
aditivo para producir tarjetas de circuito, siendo recubierta
selectivamente la superficie de la tarjeta o del sustrato con un
metal y siendo logrado el diseño de conductor directamente sin etapa
alguna para retirar el exceso de metal por medio de agua fuerte.
Preferiblemente, el sustrato consta de una mezcla polimérica
reforzada con fibra, el fotoiniciador es una benzofenona y se
proveen monómeros acrílicos en combinación con el
fotoiniciador.
Al usar el procedimiento con la invención, se
pueden proveer estructuras conductoras funcionales, por ejemplo, en
sustratos no conductores con una resolución muy alta. El nuevo
procedimiento de acuerdo con la invención carece de las
limitaciones inherentes de los procedimientos conocidos y permite,
teóricamente, anchos de línea inferiores a un tamaño del orden de 1
a 10 angstroms (0,1-1 nm). En la práctica la
resolución está limitada por la resolución de la fuente de luz
concentrada y por su control así como por el tamaño de los polímeros
y de los átomos metálicos usados. Un ancho de línea utilizable en
la práctica, que posiblemente es alcanzable usando el procedimiento
de acuerdo con la invención, pero imposible de alcanzar por medio de
procedimientos convencionales, está en el intervalo de entre 1 y 5
\mum. Por lo tanto, el procedimiento de acuerdo con la invención
facilita la producción de componentes activos directamente sobre el
sustrato no conductor. Por ejemplo, es posible producir, usando el
procedimiento de la invención, condensadores, resistores e incluso
procesadores directamente sobre un sustrato, por ejemplo, como
partes integradas de una tarjeta de circuito. El procedimiento de
acuerdo con la invención ofrece también la posibilidad de producir
sensores, por ejemplo, sensores mecánicos o biológicos directamente
sobre una tarjeta de circuito. Al seleccionar las características
del material funcional aplicado a la superficie de un sustrato de
acuerdo con la invención, es posible producir productos con la
capacidad de indicar cambios en los estados mecánico,
electromagnético, químico o bioquímico y en las reacciones. Son
sensores adecuados para su producción de acuerdo con la invención
los sensores dinámicos, por ejemplo, sensores de aceleración o
frenado, sensores químicos, por ejemplo, detectores de gas, sensores
biomédicos, por ejemplo, sensores para el análisis de sangre. Esta
posibilidad de lograr distintos modelos de moléculas seleccionables
sobre un sustrato abre la posibilidad de, incluso, diseñar líneas
nerviosas sintéticas o superficies de contacto entre tejido humano
y sintético, por ejemplo, interfaces para el control de
prótesis.
Además, la presente invención se ilustra por
medio de los siguientes ejemplos de apoyo que no se deben
interpretar como limitadores del ámbito de la invención concretado
en las reivindicaciones adjuntas.
Ejemplo comparativo
1
Se trataron superficies laminadas de epoxi con
monómeros de ácido acrílico en presencia de benzofenona. Se utilizó
acetona como disolvente. La mezcla reactiva se esparció sobre la
superficie del sustrato. Para lograr una capa reactiva
suficientemente fina se presionó un disco de cristal de cuarzo sobre
la muestra durante la irradiación con luz UV. El resultado fue un
cambio distinguible visualmente de la superficie. Las mediciones
con espectroscopio de FTIR (espectroscopia de infrarrojos de
transformada de Fourier) indicaron que las superficies tratadas de
acuerdo con la invención estaban cubiertas con grupos de carbonilo.
Esto se hace especialmente evidente por la absorción que tiene
lugar a 1718 cm^{-1} (véase figura 3) que en una superficie de la
muestra inoculada es más fuerte que las demás absorciones comparada
con una superficie no tratada (véase la figura 4).
Ejemplo comparativo
2
Se trataron superficies laminadas de epoxi con
monómeros de ácido acrílico en presencia de la benzofenona
anterior. Posteriormente, se aplicó a la superficie una solución de
cloruro de paladio. Seguidamente, la superficie fue irradiada con
luz UV. Los micrógrafos tomados con SEM (microscopio electrónico de
exploración) indicaron que se había formado una estructura
cristalina, es decir, una película metálica. No se pudo observar
una estructura parecida en superficies no tratadas.
Ejemplo de producción
1
Se cubrió un sustrato en forma de disco de epoxi
reforzado con fibra con una capa fina (espesor inferior a
aproximadamente 10 \mum) de benzofenona disuelta en ácido acrílico
(5 g/10 g). Se aplicó una película litográfica sobre la
superficie, y posteriormente fue irradiada con luz UV de longitud
de onda dentro del intervalo entre 200 y
400 nm. Se retiró la película litográfica una vez expuesta. Se retiraron homopolímeros por medio de extracción en agua limpia caliente (a una temperatura de aproximadamente 50 a 70ºC) durante tres horas. A continuación, se trató el sustrato en una solución de cloruro de paladio (1 g de PdCl^{2}, 1 g de HCl) durante 1 a 10 minutos. Seguidamente, el sustrato fue enjuagado rápidamente con agua y fue sumergido durante 5 segundos en una solución de disodio antraquinona-ácido disulfónico y glicol. La superficie, una vez seca, fue irradiada durante 30 segundos con luz UV
(200 to 400 nm). Después de un lavado en agua limpia durante 30 segundos, se sometió el sustrato a un recubrimiento con metal autocatalítico para crear las superficies activas con un espesor deseado.
400 nm. Se retiró la película litográfica una vez expuesta. Se retiraron homopolímeros por medio de extracción en agua limpia caliente (a una temperatura de aproximadamente 50 a 70ºC) durante tres horas. A continuación, se trató el sustrato en una solución de cloruro de paladio (1 g de PdCl^{2}, 1 g de HCl) durante 1 a 10 minutos. Seguidamente, el sustrato fue enjuagado rápidamente con agua y fue sumergido durante 5 segundos en una solución de disodio antraquinona-ácido disulfónico y glicol. La superficie, una vez seca, fue irradiada durante 30 segundos con luz UV
(200 to 400 nm). Después de un lavado en agua limpia durante 30 segundos, se sometió el sustrato a un recubrimiento con metal autocatalítico para crear las superficies activas con un espesor deseado.
Ejemplo de producción
2
Se trató el sustrato de la misma manera que en
el ejemplo de producción 1, con la excepción de que no se dispuso
película litográfica alguna. En su lugar, el sustrato fue irradiado
con una fuente de luz UV concentrada controlable en el plano xy, un
denominado trazador láser de UV, con el que se trazó el diseño
distinguible deseado sobre la superficie.
Aun cuando la invención ha sido descrita con
referencia a realizaciones preferentes y ejemplos que actualmente
son conocidos para el inventor, se entiende que se pueden realizar
diferentes cambios y modificaciones evidentes para un experto sin
salir del ámbito de la invención tal como se especifica en las
reivindicaciones.
Claims (11)
1. Un procedimiento para formar una capa
metálica en diseños distintos sobre una capa superficial de
sustratos orgánicos o sustratos que comprenden al menos una
superficie con una capa superficial de un material orgánico, en el
que dicha capa superficial se modifica químicamente para lograr
áreas de adherencia distinta de acuerdo con dicho diseño distinto,
y en el que dicha modificación química consiste en la adición a
dicho sustrato de un iniciador con capacidad para ser activado por
radiación de UV, caracterizado porque la activación de dicho
iniciador da lugar a la supresión de átomos de hidrógeno de áreas
distintas de la capa superficial con lo que se forman radicales
reactivos y, posteriormente, se traza(n) el/los
diseño(s) deseado(s) sobre la superficie orgánica
usando una fuente de radiación, y dicha capa metálica se aplica a
dichas áreas distintas.
2. El procedimiento de la reivindicación 1,
caracterizado porque el diseño deseado se traza sobre la
superficie orgánica con el iniciador añadido usando una fuente de
luz UV.
3. El procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 1, caracterizado porque el diseño deseado se
traza sobre una película dispuesta sobre la superficie del
sustrato, a partir de entonces el sustrato con el iniciador añadido
se expone a una fuente preferiblemente una fuente de luz UV.
4. El procedimiento de acuerdo con una
cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado
porque la modificación química comprende el pegado covalentemente
de cadenas de polímero a la capa superficial del sustrato.
5. El procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 4, caracterizado porque la supresión de átomos
de hidrógeno y el pegado covalentemente de las cadenas de polímero
se realizan en una etapa.
6. El procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 4, caracterizado porque la supresión de átomos
de hidrógeno y el pegado covalentemente de las cadenas de polímero
se realizan en dos etapas sucesivas.
7. El procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 4, caracterizado porque dichas cadenas de
polímero comprenden grupos conductores o grupos con capacidad de
ser sustituidos por grupos conductores.
8. El procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 7, caracterizado porque el grupo conductor es
un grupo químico que incluye un elemento seleccionado del siguiente
grupo: paladio, níquel, cobre, oro y plata.
9. El procedimiento de acuerdo con una
cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado
porque el iniciador es un compuesto seleccionado del siguiente
grupo: cetonas aromáticas, cetonas alifáticas, aldehidos y mezclas
de estos.
10. El procedimiento de acuerdo con una
cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado
porque el iniciador es un compuesto seleccionado del siguiente
grupo: benzofenona, 4-clorobenzofenona, 4,4'
di-cloro benzo-fenona,
4-benzil benzofenona,
benzoil-naftaleno, xantona, antraquinona,
9-fluorenona, benzopinacol, cetonas aromáticas
opcionales, acetofenona, benzo dimetilcetal,
hidroxi-ciclo-hexil-aceto-fenona,
biacetil,
3,4-hexano-di-ona,
2,3-pentano-di-ona,
1-fenil-1,2-propano-di-ona,
benzol, benzoil-fórmico ácido, formaldehido,
aldehido acético, acetona, 2-pentanona,
3-pentanona, ciclohexanona, sulfonato metanólico
ésteres de benzofenona y mezclas de los mismos.
11. Una tarjeta de circuito que comprende al
menos un sustrato con una o varias capas superficiales en un
material orgánico y un diseño de uno o varios conductor/conductores
metálico(s), caracterizada porque el/los
conductor/conductores metálico(s) está(n) provisto(s)
alrededor de cadenas de polímero pegadas covalentemente a la capa
superficial orgánica.
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