ES2371246T3 - Cátodo para pulverización en vacío. - Google Patents

Cátodo para pulverización en vacío. Download PDF

Info

Publication number
ES2371246T3
ES2371246T3 ES03755581T ES03755581T ES2371246T3 ES 2371246 T3 ES2371246 T3 ES 2371246T3 ES 03755581 T ES03755581 T ES 03755581T ES 03755581 T ES03755581 T ES 03755581T ES 2371246 T3 ES2371246 T3 ES 2371246T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
membrane
frame
base
superimposed
cooling fluid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES03755581T
Other languages
English (en)
Inventor
Michel Aulagner
Lionel Labalme
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tecmachine SA
Hydromecanique et Frottement SAS
Original Assignee
HEF SAS
Tecmachine SA
Hydromecanique et Frottement SAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by HEF SAS, Tecmachine SA, Hydromecanique et Frottement SAS filed Critical HEF SAS
Application granted granted Critical
Publication of ES2371246T3 publication Critical patent/ES2371246T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/3497—Temperature of target

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)

Abstract

Cátodo para pulverización en vacío cuyo soporte de diana (2) está constituido por un dispositivo de refrigeración, caracterizado por comprender una base de soporte (3) sobre la que está superpuesto un marco (11) que presenta en el mismo plano, como mínimo, un brazo (11b) para delimitar canales de circulación (11a) de un fluido de refrigeración, recibiendo dicho marco (11) en superposición una membrana 4, estando montados conjuntamente en la periferia la base (3), el marco (11) y la membrana (4).

Description

Cátodo para pulverización en vacío
5 La invención se refiere al sector técnico de pulverización catódica de materiales, especialmente en una instalación de tratamiento en vacío y, más particularmente, a cátodos destinados a la producción de vapor.
De modo general, según el estado anterior de la técnica, un cátodo con membrana se presenta en forma de una base dotada en su espesor de cavidades que constituyen canales para la circulación de un fluido para refrigeración.
10 Sobre esta base está fijada, generalmente mediante tornillos, una membrana. En oposición a esta base de soporte con membrana está montado, por los bordes, un objetivo o diana para la pulverización de un material. En general, la membrana está realizada por medio de un solo material.
Este estado de la técnica puede ser ilustrado por lo que muestran los documentos CH 672319 y US 5071535. 15 Para resolver este problema se ha concebido un método de acuerdo con las características de la reivindicación 1.
De manera ventajosa, la membrana está compuesta, por lo menos, de dos materiales superpuestos.
20 La invención se explica a continuación de manera más detallada con ayuda de las figuras de los dibujos adjuntos, en las que:
-
la figura 1 es una vista en perspectiva, antes del montaje, de los principales elementos del cátodo, según
la invención, 25
-
la figura 2 es una vista en perspectiva que corresponde a la figura 1, después del montaje de los diferentes elementos,
-
la figura 3 es una vista en sección transversal considerada según la línea 3-3 de la figura 2, 30
-
a figura 4 es una vista parcial, a escala muy grande, que muestra una estructura interna de la membrana propiamente dicha.
Tal como se observa en la figura 1, el cátodo según la invención está compuesto por una base de soporte (3) que
35 presenta cualquier tipo de disposición para la circulación de un fluido de refrigeración con una entrada (E) y una salida (S). La base (3), por ejemplo con forma general paralelepipédica, recibe en superposición una placa (11) convenientemente recortada para constituir un marco que delimita, por lo menos, un espacio vacío (11a) para la circulación del fluido de refrigeración.
40 Uno de los lados, por lo menos, del marco (11) presenta en el mismo plano, como mínimo, un brazo (11b) para delimitar canales de circulación del fluido de refrigeración.
Este marco (11) recibe en superposición una membrana (4). La base (3), el marco (11) y la membrana (4) son montados conjuntamente a nivel de su periferia. Por ejemplo, este enlace se efectúa por medio de una soldadura 45 pasante (ST).
Según otra característica, la membrana (4) está compuesta, por lo menos, de dos capas (4a) y (4b) de materiales distintos. La capa (4b) dispuesta en el lado del marco (11), que actúa como estructura, está realizada en un material seleccionado para aceptar una deformación elástica. La otra capa (4a) está realizada en un material seleccionado
50 para aceptar una deformación plástica con la finalidad de adaptarse a la superficie de la diana u objetivo de pulverización (2) (indicada en línea discontinua, figura 3).
De esta manera, la invención encuentra una aplicación ventajosa en el campo de la pulverización catódica en vacío por medio de un objetivo o diana. 55 Las ventajas aparecen claramente de la descripción.

Claims (2)

  1. REIVINDICACIONES
    1. Cátodo para pulverización en vacío cuyo soporte de diana (2) está constituido por un dispositivo de refrigeración, caracterizado por comprender una base de soporte (3) sobre la que está superpuesto un marco (11) que presenta
    5 en el mismo plano, como mínimo, un brazo (11b) para delimitar canales de circulación (11a) de un fluido de refrigeración, recibiendo dicho marco (11) en superposición una membrana 4, estando montados conjuntamente en la periferia la base (3), el marco (11) y la membrana (4).
  2. 2. Cátodo, según la reivindicación 1, caracterizado porque la membrana (4) está compuesta, como mínimo, por dos 10 materiales superpuestos (4a) y (4b).
ES03755581T 2002-07-10 2003-07-08 Cátodo para pulverización en vacío. Expired - Lifetime ES2371246T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0208869 2002-07-10
FR0208869A FR2842348B1 (fr) 2002-07-10 2002-07-10 Cathode pour pulverisation sous vide

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2371246T3 true ES2371246T3 (es) 2011-12-28

Family

ID=29763836

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES03755581T Expired - Lifetime ES2371246T3 (es) 2002-07-10 2003-07-08 Cátodo para pulverización en vacío.

Country Status (14)

Country Link
US (1) US7632383B2 (es)
EP (1) EP1579471B1 (es)
JP (1) JP5079212B2 (es)
CN (1) CN100578724C (es)
AT (1) ATE528785T1 (es)
AU (1) AU2003273424A1 (es)
CA (1) CA2492174C (es)
ES (1) ES2371246T3 (es)
FR (1) FR2842348B1 (es)
MX (1) MXPA05000457A (es)
PL (1) PL207112B1 (es)
SI (1) SI1579471T1 (es)
TW (1) TWI325446B (es)
WO (1) WO2004008479A2 (es)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012006717A1 (de) * 2012-04-04 2013-10-10 Oerlikon Trading Ag, Trübbach An eine indirekte Kühlvorrichtung angepasstes Target
SE542687C2 (en) 2018-06-27 2020-06-23 Impact Coatings Ab Publ Arc source system for a cathode
CN116887501B (zh) * 2023-07-14 2026-06-19 中国电子科技集团公司第十二研究所 一种电子直线加速器

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4437966A (en) * 1982-09-30 1984-03-20 Gte Products Corporation Sputtering cathode apparatus
JP2731152B2 (ja) * 1987-11-17 1998-03-25 日立金属株式会社 冷却部材付きスパッタリング用ターゲット
CH672319A5 (en) * 1987-12-20 1989-11-15 Bogdan Zega Sputtering target cooling system - has metal membrane sepg. cooling liq. circuit from sputtering chamber
JPH02205669A (ja) * 1989-02-03 1990-08-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd スパッタ装置
JPH02258974A (ja) * 1989-03-30 1990-10-19 Sumitomo Metal Ind Ltd スパッタリング装置のターゲット及び陰極部
DE4015388C2 (de) * 1990-05-14 1997-07-17 Leybold Ag Kathodenzerstäubungsvorrichtung
US5269894A (en) * 1991-05-08 1993-12-14 Balzers Aktiengesellschaft Method of mounting a target plate to be cooled into a vacuum process chamber, an arrangement of a target plate, a target plate and a vacuum chamber
US5147521A (en) 1991-05-20 1992-09-15 Tosoh Smd, Inc. Quick change sputter target assembly
JPH0525620A (ja) * 1991-07-18 1993-02-02 Hitachi Ltd スパツタリングターゲツト
DE4301516C2 (de) * 1993-01-21 2003-02-13 Applied Films Gmbh & Co Kg Targetkühlung mit Wanne
US5529673A (en) * 1995-02-17 1996-06-25 Sony Corporation Mechanically joined sputtering target and adapter therefor
JPH08246144A (ja) * 1995-03-10 1996-09-24 Japan Energy Corp スパッタリングターゲット用バッキングプレート組立部品
DE29512094U1 (de) * 1995-07-27 1996-02-01 Heron Sondermaschinen Und Steuerungen Ges.M.B.H., Lustenau Klemmvorrichtung für Schutzeinrichtungen an Maschinen u.dgl.
US5863397A (en) 1997-07-11 1999-01-26 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd. Target mounting apparatus for vapor deposition system
JP4130263B2 (ja) * 1998-12-03 2008-08-06 三菱伸銅株式会社 スパッタリング装置および水冷カソード

Also Published As

Publication number Publication date
CA2492174C (fr) 2014-04-15
WO2004008479A2 (fr) 2004-01-22
EP1579471B1 (fr) 2011-10-12
AU2003273424A1 (en) 2004-02-02
US7632383B2 (en) 2009-12-15
JP5079212B2 (ja) 2012-11-21
EP1579471A2 (fr) 2005-09-28
PL377089A1 (pl) 2006-01-23
ATE528785T1 (de) 2011-10-15
US20050155855A1 (en) 2005-07-21
FR2842348A1 (fr) 2004-01-16
CA2492174A1 (fr) 2004-01-22
PL207112B1 (pl) 2010-11-30
WO2004008479A3 (fr) 2005-12-15
FR2842348B1 (fr) 2004-09-10
CN1757091A (zh) 2006-04-05
TW200401837A (en) 2004-02-01
CN100578724C (zh) 2010-01-06
JP2006512479A (ja) 2006-04-13
SI1579471T1 (sl) 2011-12-30
MXPA05000457A (es) 2005-07-22
TWI325446B (en) 2010-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AR061363A1 (es) Control de altura del carrete para una plataforma de corte flexible en una maquina cosechadora agricola
USD555890S1 (en) Outsole for a shoe
EP2183803A4 (en) ELECTRODE-ACTIVE MATERIAL WITH A BUCKET STRUCTURE
FR3036462A3 (fr) Ensemble panneau de lampe a del
AR028872A1 (es) Rejas trilladoras para una segadora trilladora rotativa
ITMI20050064A1 (it) Metodo di lavorazione di un semilavorato per l'ottenimento di una girante dotata di una pluralita' di pale realizzate di pezzo con la stessa
BRPI1004371A2 (pt) aperfeiçoamentos em conjuntos de corte de máquina colhedora de cana
JP6108718B2 (ja) 多段集合納骨式霊廟
AR025120A1 (es) Una disposicion picadora de paja para una cosechadora agricola
CN211881848U (zh) 一种农业杀虫装置
IT201800005945A1 (it) Dispositivo spollonatore e relativa macchina spollonatrice.
KR20130128916A (ko) 스퍼터링용 타겟 및 이를 포함하는 스퍼터링용 타겟 장치
ES2625517T3 (es) Acuario que permite ver claramente los peces desde la superficie superior
CN218649384U (zh) 一种多层立体种植装置
MXPA05000457A (es) Catodo para pulverizacion a vacio.
ES2274153T3 (es) Placa de cocina.
JP2014201940A (ja) 載置用基台
CN108295278B (zh) 一种用于医疗妇产科盘式器皿的清洗消毒装置
CN207970272U (zh) 一种喷射式消毒设备
MX2009004315A (es) Maquina hidraulica con un bastidor espiral de forma especial.
CN215430511U (zh) 基板类产品高压水洗辅助载具
CN222811972U (zh) 带有消毒和制冷功能的冰袋存放机
CN216570950U (zh) 一种普外科病房用杀毒消菌装置
BR102013016989B1 (pt) aperfeiçoamentos em conjuntos de corte de máquina colhedora de cana
CN215194057U (zh) 隔离病区医用拖鞋浸泡消毒箱