HK56486A - Composition polymerisable by radiation, and photopolymerisable copying material made therefrom - Google Patents
Composition polymerisable by radiation, and photopolymerisable copying material made therefromInfo
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Claims (9)
1. Mélange polymérisable par irradiation, contenant :
a) un composé avec au moins deux groupes à insaturation éthylénique situés en bout de chaîne, qui peut former un polymère réticulé par polymérisation en chaîne par addition par un mécanisme radicalaire,
b)un liant polymère et
c) un initiateur de polymérisation activable par irradiation, caractérisé en ce qu'il contient en outre :
d) un composé ayant dans sa molécule deux groupes époxy et ayant un poids moléculaire ne dépassant pas 1 500.
2. Mélange polymérisable par irradiation, caractérisé en ce que le composé possédant deux groupes époxy y est contenu en quantité de 1,5 à 10 % en poids.
3. Mélange polymérisable par irradiation selon la revendication 1, caractérisé en ce que le composé possédant deux groupes époxy est un bisglycidyléther d'un dialcool ou d'un diphénol.
4. Mélange polymérisable par irradiation selon la revendication 3, caractérisé en ce que le composé à deux groupes époxy correspond à la formule générale :
dans laquelle :
Z est un groupe alkylène ou hydroxyalkylène de 2 à 6 atomes de carbone ou le groupe :
R, est un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle,
n, et n2 sont des nombres de 0 à 10 et
n3 est égal à 0 ou est un nombre de 1 à 4.
5. Mélange polymérisable par irradiation selon la revendication 1, caractérisé en ce que le composé polymérisable contient comme groupe insaturé des groupes ester acrylique ou ester méthacrylique.
6. Mélange polymérisable par irradiation selon la revendication 5, caractérisé en ce que L'on emploie comme composé polymérisable un mélange d'un ester de l'acide acrylique ou de l'acide méthacrylique et d'un dialcool ou polyalcool primaire et d'un polyuréthane comportant des motifs de formule générale :
dans laquelle:
Q est un radical aromatique divalent à 1 ou 2 noyaux, qui n'est pas substitué ou qui est substitué par des groupes alkyle inférieurs et qui peut contenir comme élément de liaison un groupe alkylène inférieur,
X est l'un des groupes ―O―Ph―X'―Ph―O― et ―OOC―(CH2)y―COO―, où Ph est un groupe phénylène éventuellemnt substitué, X' est un groupe alkylène à 1 à 4 atomes de carbone et Y est un nombre de 2 à 12,
R est un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle,
Ak est un radical alkylène à 2 à 4 atomes de carbone,
m est un nombre de 4 à 50,
n est un nombre de 1 à 6 et
o est un nombre de 4 à 20.
7. Mélange polymérisable par irradiation selon la revendication 1, caractérisé en ce que le liant polymère est insoluble dans l'eau et soluble ou du moins gonflable dans les solutions alcalines aqueuses.
8. Mélange polymérisable par irradiation selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il contient en outre deux colorants, dont l'un change de couleur par irradiation et se décompose à des températures supérieures à 200 °C avec décoloration, et l'autre n'est pas modifié par irradiation ni à des températures supérieures à 200 °C.
9. Matériau de reprographie photopolymérisable comportant un support de couche temporaire transparent flexible et une couche photopolymérisable thermoplastique transférable qui contient :
a) un composé ayant au moins deux groupes à insaturation éthylénique situés en bout de chaîne, qui peut former un polymère réticulé par une polymérisation en chaîne par addition initiée par un mécanisme radicalaire.
b) un liant polymère et
c) un initiateur de photopolymérisation, caractérisé en ce que la couche contient en outre :
d) un composé ayant dans sa molécule deux groupes époxy et ayant un poids moléculaire ne dépassant pas 1 500.
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PC | Patent ceased (i.e. patent has lapsed due to the failure to pay the renewal fee) |