JP2000227643A - 熱現像銀塩感材 - Google Patents
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- INDZTCRIYSRWOH-UHFFFAOYSA-N undec-10-enyl carbamimidothioate;hydroiodide Chemical compound I.NC(=N)SCCCCCCCCCC=C INDZTCRIYSRWOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポリマーラテックスを添加しても、写真性
能、透明性を悪化することなく、擦り傷耐性、画像保存
性、接着性及びブロッキング性の向上した熱現像銀塩感
材を提供する。 【解決手段】 感光層側の少なくとも1層にポリマーラ
テックスを含有することを特徴とする熱現像銀塩感材。
能、透明性を悪化することなく、擦り傷耐性、画像保存
性、接着性及びブロッキング性の向上した熱現像銀塩感
材を提供する。 【解決手段】 感光層側の少なくとも1層にポリマーラ
テックスを含有することを特徴とする熱現像銀塩感材。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像により画像を
形成する熱現像銀塩感材(以下「感材」ともいう)に関
するもので、さらに詳しくはプレッシャー耐性が良好な
熱現像銀塩感材に関する。
形成する熱現像銀塩感材(以下「感材」ともいう)に関
するもので、さらに詳しくはプレッシャー耐性が良好な
熱現像銀塩感材に関する。
【0002】
【従来の技術】支持体上に感光層を有し、画像露光する
ことで画像形成を行う感光材料は、数多く知られてい
る。それらの中でも、環境保全や画像形成手段が簡易化
できるシステムとして、熱現像により、画像を形成する
技術が挙げられる。
ことで画像形成を行う感光材料は、数多く知られてい
る。それらの中でも、環境保全や画像形成手段が簡易化
できるシステムとして、熱現像により、画像を形成する
技術が挙げられる。
【0003】熱現像銀塩感材の詳細は例えば米国特許第
3,152,904号、同第3,457,075号、及
びD.モーガン(Morgan)による「ドライシルバ
ー写真材料(Dry Silver Photogra
phic Material)」やD.モーガン(Mo
rgan)とB.シェリー(Shely)による「熱に
よって処理される銀システム(Thermally P
rocessed Silver Systems)」
(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアル
ズ(Imaging Processes and M
aterials)Neblette 第8版、スター
ジ(Sturge)、V.ウォールワース(Walwo
rth)、A.シェップ(Shepp)編集、第2頁、
1969年)等に開示されている。その中でも本発明に
おいては、感光材料を80〜140℃で熱現像すること
で画像を形成させ、定着を行わないことが特徴である。
そのため、未露光部に残ったハロゲン化銀や有機銀塩は
除去されずにそのまま感光材料中に残り、膜物性に悪影
響を及ぼす。
3,152,904号、同第3,457,075号、及
びD.モーガン(Morgan)による「ドライシルバ
ー写真材料(Dry Silver Photogra
phic Material)」やD.モーガン(Mo
rgan)とB.シェリー(Shely)による「熱に
よって処理される銀システム(Thermally P
rocessed Silver Systems)」
(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアル
ズ(Imaging Processes and M
aterials)Neblette 第8版、スター
ジ(Sturge)、V.ウォールワース(Walwo
rth)、A.シェップ(Shepp)編集、第2頁、
1969年)等に開示されている。その中でも本発明に
おいては、感光材料を80〜140℃で熱現像すること
で画像を形成させ、定着を行わないことが特徴である。
そのため、未露光部に残ったハロゲン化銀や有機銀塩は
除去されずにそのまま感光材料中に残り、膜物性に悪影
響を及ぼす。
【0004】従来、膜物性改良にラテックスを使用する
技術はよく知られているが、その効果を発揮せしめるの
に必要な量を添加すると失透してフィルムとしては使用
出来なくなるという問題がある。
技術はよく知られているが、その効果を発揮せしめるの
に必要な量を添加すると失透してフィルムとしては使用
出来なくなるという問題がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、ポリマーラテックスを添加しても、写真性能、透明
性を悪化することなく、擦り傷耐性、画像保存性、接着
性及びブロッキング性の向上した熱現像銀塩感材を提供
することにある。
は、ポリマーラテックスを添加しても、写真性能、透明
性を悪化することなく、擦り傷耐性、画像保存性、接着
性及びブロッキング性の向上した熱現像銀塩感材を提供
することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成される。
記構成により達成される。
【0007】(1) 感光層側の少なくとも1層にポリ
マーラテックスを含有することを特徴とする熱現像銀塩
感材。
マーラテックスを含有することを特徴とする熱現像銀塩
感材。
【0008】(2) 感光層側の少なくとも1層に、下
記一般式(I)で表される繰り返し構造を有する水溶性
ポリマーを含むポリマーラテックスを含有することを特
徴とする熱現像銀塩感材。
記一般式(I)で表される繰り返し構造を有する水溶性
ポリマーを含むポリマーラテックスを含有することを特
徴とする熱現像銀塩感材。
【0009】
【化2】
【0010】〔式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6は
水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数
6〜20のアリール基または−SO3Xであり、ここで
Xは水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原
子、アンモニウム基またはアミノ基であり、R1,R2,
R3,R4,R5,R6の少なくとも1つは−SO3Xであ
る。〕 (3) 感光層側の少なくとも1層に、25℃における
水に対する溶解度が0〜0.025重量%以下である少
なくとも1種の単量体を単位とするポリマーラテックス
を含有することを特徴とする熱現像銀塩感材。
水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数
6〜20のアリール基または−SO3Xであり、ここで
Xは水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原
子、アンモニウム基またはアミノ基であり、R1,R2,
R3,R4,R5,R6の少なくとも1つは−SO3Xであ
る。〕 (3) 感光層側の少なくとも1層に、25℃における
水に対する溶解度が0〜0.025重量%以下である少
なくとも1種の単量体を単位とするポリマーラテックス
を含有することを特徴とする熱現像銀塩感材。
【0011】(4) 感光層側の少なくとも1層に、2
5℃における水に対する溶解度が0〜0.025重量%
以下である少なくとも1種の単量体を単位とするポリマ
ーラテックスを含有し、かつ、上記一般式(I)で表さ
れる繰り返し構造を有する水溶性ポリマーを含むポリマ
ーラテックスを含有することを特徴とする熱現像銀塩感
材。
5℃における水に対する溶解度が0〜0.025重量%
以下である少なくとも1種の単量体を単位とするポリマ
ーラテックスを含有し、かつ、上記一般式(I)で表さ
れる繰り返し構造を有する水溶性ポリマーを含むポリマ
ーラテックスを含有することを特徴とする熱現像銀塩感
材。
【0012】(5) 感光層側の少なくとも1層に、活
性メチレン基を有するポリマーラテックスを含有するこ
とを特徴とする熱現像銀塩感材。
性メチレン基を有するポリマーラテックスを含有するこ
とを特徴とする熱現像銀塩感材。
【0013】(6) 感光層側の少なくとも1層に、コ
ア/シェル構造を持つポリマーラテックスを含有するこ
とを特徴とする熱現像銀塩感材。
ア/シェル構造を持つポリマーラテックスを含有するこ
とを特徴とする熱現像銀塩感材。
【0014】(7) 感光層側の少なくとも1層に、無
機微粒子の存在下で重合したポリマーラテックスを含有
することを特徴とする熱現像銀塩感材。
機微粒子の存在下で重合したポリマーラテックスを含有
することを特徴とする熱現像銀塩感材。
【0015】本発明を更に詳しく説明する。本発明に使
用する、一般式(I)の構造を有する水溶性ポリマーと
は、ジエンモノマーをスルホン化した後に重合する方
法、又は、ジエンモノマーを重合した後スルホン化する
方法によって得ることができる。
用する、一般式(I)の構造を有する水溶性ポリマーと
は、ジエンモノマーをスルホン化した後に重合する方
法、又は、ジエンモノマーを重合した後スルホン化する
方法によって得ることができる。
【0016】本発明に用いられる化合物において、一般
式(I)で表される繰り返し単位は、10モル%以上あ
れば良く、好ましくは20モル%以上である。
式(I)で表される繰り返し単位は、10モル%以上あ
れば良く、好ましくは20モル%以上である。
【0017】本発明に使用されるジエンモノマーとして
は例えば1,3−ブタジエン、1,2−ブタジエン、
1,2−ペンタジエン、1,3−ペンタジエン、2,3
−ペンタジエン、イソプレン、1,2−ヘキサジエン、
1,3−ヘキサジエン、1,4−ヘキサジエン、1,5
−ヘキサジエン、2,3−ヘキサジエン、2,4−ヘキ
サジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、2
−エチル−1,3−ブタジエン、1,2−ヘプタジエ
ン、1,3−ヘプタジエン、1,4−ヘプタジエン、
1,5−ヘプタジエン、1,6−ヘプタジエン、2,3
−ヘプタジエン、2,5−ヘプタジエン、3,4−ヘプ
タジエン、3,5−ヘプタジエン、2−フェニルブタジ
エンなどの他、分岐した各種のジエンモノマー類が挙げ
られる。
は例えば1,3−ブタジエン、1,2−ブタジエン、
1,2−ペンタジエン、1,3−ペンタジエン、2,3
−ペンタジエン、イソプレン、1,2−ヘキサジエン、
1,3−ヘキサジエン、1,4−ヘキサジエン、1,5
−ヘキサジエン、2,3−ヘキサジエン、2,4−ヘキ
サジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、2
−エチル−1,3−ブタジエン、1,2−ヘプタジエ
ン、1,3−ヘプタジエン、1,4−ヘプタジエン、
1,5−ヘプタジエン、1,6−ヘプタジエン、2,3
−ヘプタジエン、2,5−ヘプタジエン、3,4−ヘプ
タジエン、3,5−ヘプタジエン、2−フェニルブタジ
エンなどの他、分岐した各種のジエンモノマー類が挙げ
られる。
【0018】これらのジエンモノマーは1種または2種
以上を併用することができる。
以上を併用することができる。
【0019】ジエンモノマーをスルホン化した後、重合
する方法において、スルホン化物を製造するには例えば
ジエンモノマーの2重結合を残したまま下記に示す方法
でスルホン化して製造することができる。
する方法において、スルホン化物を製造するには例えば
ジエンモノマーの2重結合を残したまま下記に示す方法
でスルホン化して製造することができる。
【0020】すなわちジエンモノマーに三酸化イオウを
スルホン化剤として用い、日本化学会編集、実験化学講
座、特開平1−26310号に示されているような公知
の条件でスルホン化することができる。
スルホン化剤として用い、日本化学会編集、実験化学講
座、特開平1−26310号に示されているような公知
の条件でスルホン化することができる。
【0021】本発明に係わる、上記の一般式(I)で表
されるくり返し単位を有することを特徴とする化合物
は、この重合に際してはジエンモノマーのほかに、これ
と共重合可能な他のモノマーを99重量%以下、好まし
くは1〜98重量%、さらに好ましくは10〜90重量
%程度共重合することも可能である。
されるくり返し単位を有することを特徴とする化合物
は、この重合に際してはジエンモノマーのほかに、これ
と共重合可能な他のモノマーを99重量%以下、好まし
くは1〜98重量%、さらに好ましくは10〜90重量
%程度共重合することも可能である。
【0022】この共重合可能な他のモノマーとしては、
スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−
メチルスチレンなどの芳香族化合物;アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
2−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタク
リルなどのアクリル酸或いはメタクリル酸のアルキルエ
ステル類;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マ
レイン酸、フマル酸、イタコン酸などのモノもしくはジ
カルボン酸又はジカルボン酸の無水物;ブタジエン、イ
ソプレン、2−クロル−1,3−ブタジエン、1−クロ
ル−1,3−ブタジエンなどの脂肪族共役ジエン;アク
リロニトリル、メタアクリロニトリルなどのビニルシア
ン化合物;塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルメチル
エチルケトン、ビニルメチルエーテル、酢酸ビニル、ギ
酸ビニル、アリルアセテート、メタアリルアセテート、
アクリルアミド、メタアクリルアミド、N−メチロール
アクリルアミド、アクリル酸グリシジル、メタアクリル
酸グリシジル、アクロレイン、アリルアルコールなどが
使用される。
スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−
メチルスチレンなどの芳香族化合物;アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
2−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタク
リルなどのアクリル酸或いはメタクリル酸のアルキルエ
ステル類;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マ
レイン酸、フマル酸、イタコン酸などのモノもしくはジ
カルボン酸又はジカルボン酸の無水物;ブタジエン、イ
ソプレン、2−クロル−1,3−ブタジエン、1−クロ
ル−1,3−ブタジエンなどの脂肪族共役ジエン;アク
リロニトリル、メタアクリロニトリルなどのビニルシア
ン化合物;塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルメチル
エチルケトン、ビニルメチルエーテル、酢酸ビニル、ギ
酸ビニル、アリルアセテート、メタアリルアセテート、
アクリルアミド、メタアクリルアミド、N−メチロール
アクリルアミド、アクリル酸グリシジル、メタアクリル
酸グリシジル、アクロレイン、アリルアルコールなどが
使用される。
【0023】即ち、前記ジエンモノマーのスルホン化
物、さらに必要に応じてこれと共重合可能な他のモノマ
ーとを、例えば水或いは有機溶媒などの重合用溶媒の存
在下に、ラジカル重合開始剤、連鎖移動剤などを使用し
てラジカル重合する。
物、さらに必要に応じてこれと共重合可能な他のモノマ
ーとを、例えば水或いは有機溶媒などの重合用溶媒の存
在下に、ラジカル重合開始剤、連鎖移動剤などを使用し
てラジカル重合する。
【0024】このようにして得られるスルホン化物重合
体は、一般式(I)以外に、一般式(II)及び/又は一
般式(III)等で表される繰り返し構造単位を有しう
る。
体は、一般式(I)以外に、一般式(II)及び/又は一
般式(III)等で表される繰り返し構造単位を有しう
る。
【0025】
【化3】
【0026】尚、一般式(II),(III)において、R1
〜R6は、前記一般式(I)に同義の基である。
〜R6は、前記一般式(I)に同義の基である。
【0027】一般式(II)及び/又は一般式(III)で
表される構造単位は、0〜70モル%好ましくは0〜5
0モル%含有される。含有量は重合条件によってコント
ロールすることができる。
表される構造単位は、0〜70モル%好ましくは0〜5
0モル%含有される。含有量は重合条件によってコント
ロールすることができる。
【0028】なお、スルホン基の中和の度合は、(共)
重合体塩が水溶性又は水分散性となる範囲内で適宜選択
すればよく、さらにスルホン基がそれぞれ異なった塩を
形成してもよい。
重合体塩が水溶性又は水分散性となる範囲内で適宜選択
すればよく、さらにスルホン基がそれぞれ異なった塩を
形成してもよい。
【0029】本発明に係わる(共)重合体は前述の如く
スルホン化したジエンモノマーより得られるが別の方法
としてジエンモノマーを重合した後スルホン化すること
によっても得られ、いずれの方法で製造されたものでも
よい。これらの製造は公知の方法で行われる。
スルホン化したジエンモノマーより得られるが別の方法
としてジエンモノマーを重合した後スルホン化すること
によっても得られ、いずれの方法で製造されたものでも
よい。これらの製造は公知の方法で行われる。
【0030】以下に本発明に係わる一般式(I)で表さ
れる繰り返し構造単位を有する化合物(乳化重合用分散
剤)の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
れる繰り返し構造単位を有する化合物(乳化重合用分散
剤)の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
【0031】
【化4】
【0032】
【化5】
【0033】
【化6】
【0034】
【化7】
【0035】本発明に使用する、25℃における水に対
する溶解度が0〜0.025重量%以下である単量体と
しては、好ましくは0.015重量%以下であり、この
様なエチレン性単量体としては例えばヘキシルアクリレ
ート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアク
リレート、tert−オクチルアクリレート、ノニルア
クリレート、iso−ノニルアクリレート、シクロヘキ
シルアクリレート、n−ステアリルアクリレート、ラウ
リルアクリレート、トリデシルアクリレート等のアクリ
ル酸エステル類、ヘキシルメタクリレート、2−エチル
ヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、i
so−オクチルメタクリレート、tert−オクチルメ
タクリレート、ノニルメタクリレート、iso−ノニル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、n−
ステアリルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、
トリデシルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類
等やジビニルベンゼン等が挙げられる。
する溶解度が0〜0.025重量%以下である単量体と
しては、好ましくは0.015重量%以下であり、この
様なエチレン性単量体としては例えばヘキシルアクリレ
ート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアク
リレート、tert−オクチルアクリレート、ノニルア
クリレート、iso−ノニルアクリレート、シクロヘキ
シルアクリレート、n−ステアリルアクリレート、ラウ
リルアクリレート、トリデシルアクリレート等のアクリ
ル酸エステル類、ヘキシルメタクリレート、2−エチル
ヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、i
so−オクチルメタクリレート、tert−オクチルメ
タクリレート、ノニルメタクリレート、iso−ノニル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、n−
ステアリルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、
トリデシルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類
等やジビニルベンゼン等が挙げられる。
【0036】本発明に用いられるポリマーラテックスを
形成する単量体の25℃の水に対する溶解度は、新実験
化学講座基本操作1、第223〜250頁(丸善化学、
1975)に記載されている方法で測定することができ
る。この方法で測定すると上記本発明の単量体の25℃
の水に対する溶解度は、例えば2−エチルヘキシルアク
リレートで0.01重量%、2−エチルヘキシルメタク
リレートで0.00重量%、シクロヘキシルメタクリレ
ートで0.00重量%である。比較の単量体であるスチ
レンで0.03重量%、ブチルアクリレートで0.32
重量%、ブチルメタクリレートで0.03重量%であっ
た。
形成する単量体の25℃の水に対する溶解度は、新実験
化学講座基本操作1、第223〜250頁(丸善化学、
1975)に記載されている方法で測定することができ
る。この方法で測定すると上記本発明の単量体の25℃
の水に対する溶解度は、例えば2−エチルヘキシルアク
リレートで0.01重量%、2−エチルヘキシルメタク
リレートで0.00重量%、シクロヘキシルメタクリレ
ートで0.00重量%である。比較の単量体であるスチ
レンで0.03重量%、ブチルアクリレートで0.32
重量%、ブチルメタクリレートで0.03重量%であっ
た。
【0037】本発明で用いられるポリマーラテックス
は、上記単量体化合物の他の単量体化合物を共重合して
も良く、共重合するエチレン性単量体化合物としては、
例えばアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル
類、ビニルエステル類、オレフィン類、スチレン類、ク
ロトン酸エステル類、イタコン酸ジエステル類、マレイ
ン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、アクリルア
ミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルケト
ン類、ビニル異節環化合物、グリシジルエステル類、不
飽和ニトリル類、多官能単量体、各種不飽和酸から選ば
れる1種又は2種以上を組み合わせた単量体化合物を挙
げることができる。共重合する場合、25℃の水に対す
る溶解度が0.025%以下の単量体の含有率は10%
以上が好ましく、更には50%以上が好ましい。
は、上記単量体化合物の他の単量体化合物を共重合して
も良く、共重合するエチレン性単量体化合物としては、
例えばアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル
類、ビニルエステル類、オレフィン類、スチレン類、ク
ロトン酸エステル類、イタコン酸ジエステル類、マレイ
ン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、アクリルア
ミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルケト
ン類、ビニル異節環化合物、グリシジルエステル類、不
飽和ニトリル類、多官能単量体、各種不飽和酸から選ば
れる1種又は2種以上を組み合わせた単量体化合物を挙
げることができる。共重合する場合、25℃の水に対す
る溶解度が0.025%以下の単量体の含有率は10%
以上が好ましく、更には50%以上が好ましい。
【0038】これらの単量体化合物について更に具体的
に示すと、アクリル酸エステル類としては、メチルアク
リレート、イソプロピルアクリレート、イソブチルアク
リレート、tert−ブチルアクリレート、アミルアク
リレート、2−ブロモエチルアクリレート、4−クロロ
ブチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、2−
アセトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチル
アクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアク
リレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、2,
2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルアクリレート、
2−メトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチル
アクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−
iso−プロポキシアクリレート、2−ブトキシエチル
アクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルア
クリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルアク
リレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリ
レート(付加モル数n=9)、1−ブロモ−2−メトキ
シエチルアクリレート、1,1−ジクロロ−2−エトキ
シエチルアクリレートなどが挙げられる。
に示すと、アクリル酸エステル類としては、メチルアク
リレート、イソプロピルアクリレート、イソブチルアク
リレート、tert−ブチルアクリレート、アミルアク
リレート、2−ブロモエチルアクリレート、4−クロロ
ブチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、2−
アセトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチル
アクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアク
リレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、2,
2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルアクリレート、
2−メトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチル
アクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−
iso−プロポキシアクリレート、2−ブトキシエチル
アクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルア
クリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルアク
リレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリ
レート(付加モル数n=9)、1−ブロモ−2−メトキ
シエチルアクリレート、1,1−ジクロロ−2−エトキ
シエチルアクリレートなどが挙げられる。
【0039】メタクリル酸エステル類の例としては、メ
チルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ア
ミルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、
スルホプロピルメタクリレート、N−エチル−N−フェ
ニルアミノエチルメタクリレート、2−(3−フェニル
プロピルオキシ)エチルメタクリレート、ジメチルアミ
ノフェノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタク
リレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フ
ェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、トリエチレングリコールモノメタク
リレート、ジプロピレングリコールモノメタクリレー
ト、2−メトキシエチルメタクリレート、3−メトキシ
ブチルメタクリレート、2−アセトキシエチルメタクリ
レート、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート、
2−エトキシエチルメタクリレート、2−iso−プロ
ポキシエチルメタクリレート、2−ブトキシエチルメタ
クリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルメタ
クリレート、2−(2−エトキシエトキシ)エチルメタ
クリレート、2−(2−(ブトキシエトキシ)エチルメ
タクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメ
タクリレート(付加モル数n=6)、アリルメタクリレ
ート、メタクリル酸ジメチルアミノエチルメチルクロラ
イド塩などを挙げることができる。
チルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ア
ミルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、
スルホプロピルメタクリレート、N−エチル−N−フェ
ニルアミノエチルメタクリレート、2−(3−フェニル
プロピルオキシ)エチルメタクリレート、ジメチルアミ
ノフェノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタク
リレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フ
ェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、トリエチレングリコールモノメタク
リレート、ジプロピレングリコールモノメタクリレー
ト、2−メトキシエチルメタクリレート、3−メトキシ
ブチルメタクリレート、2−アセトキシエチルメタクリ
レート、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート、
2−エトキシエチルメタクリレート、2−iso−プロ
ポキシエチルメタクリレート、2−ブトキシエチルメタ
クリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルメタ
クリレート、2−(2−エトキシエトキシ)エチルメタ
クリレート、2−(2−(ブトキシエトキシ)エチルメ
タクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメ
タクリレート(付加モル数n=6)、アリルメタクリレ
ート、メタクリル酸ジメチルアミノエチルメチルクロラ
イド塩などを挙げることができる。
【0040】ビニルエステル類の例としては、ビニルア
セテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、
ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルク
ロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフ
ェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル
などが挙げられる。
セテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、
ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルク
ロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフ
ェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル
などが挙げられる。
【0041】またオレフィン類の例としては、ジシクロ
ペンタジエン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1
−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレ
ン、クロロプレン、ブタジエン、2,3−ジメチルブタ
ジエン等を挙げることができる。
ペンタジエン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1
−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレ
ン、クロロプレン、ブタジエン、2,3−ジメチルブタ
ジエン等を挙げることができる。
【0042】スチレン類としては、例えば、スチレン、
メチルスチレン、エチルスチレン、クロルメチルスチレ
ン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルス
チレン、ブロムスチレン、トリフルオロメチルスチレ
ン、ビニル安息香酸メチルエステルなどが挙げられる。
メチルスチレン、エチルスチレン、クロルメチルスチレ
ン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルス
チレン、ブロムスチレン、トリフルオロメチルスチレ
ン、ビニル安息香酸メチルエステルなどが挙げられる。
【0043】クロトン酸エステル類の例としては、クロ
トン酸ブチルなどが挙げられる。
トン酸ブチルなどが挙げられる。
【0044】またイタコン酸ジエチル類としては、例え
ば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコ
ン酸ジブチルなどが挙げられる。
ば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコ
ン酸ジブチルなどが挙げられる。
【0045】マレイン酸ジエステル類としては、例え
ば、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイ
ン酸ジブチルなどが挙げられる。
ば、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイ
ン酸ジブチルなどが挙げられる。
【0046】フマル酸ジエステル類としては、例えば、
フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチ
ルなどが挙げられる。
フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチ
ルなどが挙げられる。
【0047】アクリルアミド類としては、アクリルアミ
ド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プ
ロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、ter
t−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアクリルア
ミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアク
リルアミド、メトキシエチルアクリルアミド、ジメチル
アミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミ
ド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミ
ド、β−シアノエチルアクリルアミド、N−(2−アセ
トアセトキシエチル)アクリルアミドなど;メタクリル
アミド類、例えば、メタクリルアミド、メチルメタクリ
ルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピルメタクリ
ルアミド、ブチルメタクリルアミド、tert−ブチル
メタクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、
ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタクリ
ルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド、ジメチル
アミノエチルメタクリルアミド、フェニルメタクリルア
ミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチルメタクリル
アミド、β−シアノエチルメタクリルアミド、N−(2
−アセトアセトキシエチル)メタクリルアミドなど;ア
リル化合物、例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、
ラウリン酸アリル、安息香酸アリルなど;ビニルエーテ
ル類、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエ
ーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニ
ルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテルな
ど;ビニルケトン類、例えば、メチルビニルケトン、フ
ェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトンな
ど;ビニル異節環化合物、例えば、ビニルピリジン、N
−ビニルイミダゾール、N−ビニルオキサゾリドン、N
−ビニルトリアゾール、N−ビニルピロリドンなど;グ
リシジルエステル類、例えば、グリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレートなど;不飽和ニトリル
類、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリルな
ど;多官能性単量体、例えば、ジビニルベンゼン、メチ
レンビスアクリルアミド、エチレングリコールジメタク
リレートなど。
ド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プ
ロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、ter
t−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアクリルア
ミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアク
リルアミド、メトキシエチルアクリルアミド、ジメチル
アミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミ
ド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミ
ド、β−シアノエチルアクリルアミド、N−(2−アセ
トアセトキシエチル)アクリルアミドなど;メタクリル
アミド類、例えば、メタクリルアミド、メチルメタクリ
ルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピルメタクリ
ルアミド、ブチルメタクリルアミド、tert−ブチル
メタクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、
ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタクリ
ルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド、ジメチル
アミノエチルメタクリルアミド、フェニルメタクリルア
ミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチルメタクリル
アミド、β−シアノエチルメタクリルアミド、N−(2
−アセトアセトキシエチル)メタクリルアミドなど;ア
リル化合物、例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、
ラウリン酸アリル、安息香酸アリルなど;ビニルエーテ
ル類、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエ
ーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニ
ルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテルな
ど;ビニルケトン類、例えば、メチルビニルケトン、フ
ェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトンな
ど;ビニル異節環化合物、例えば、ビニルピリジン、N
−ビニルイミダゾール、N−ビニルオキサゾリドン、N
−ビニルトリアゾール、N−ビニルピロリドンなど;グ
リシジルエステル類、例えば、グリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレートなど;不飽和ニトリル
類、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリルな
ど;多官能性単量体、例えば、ジビニルベンゼン、メチ
レンビスアクリルアミド、エチレングリコールジメタク
リレートなど。
【0048】更に、アクリル酸、メタクリル酸、イタコ
ン酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキル、例えば、
イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコ
ン酸モノブチルなど;マレイン酸モノアルキル、例え
ば、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マ
レイン酸モノブチルなど;シトラコン酸、スチレンスル
ホン酸、ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン
酸、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸、例えば、
アクリロイルオキシメチルスルホン酸、アクリロイルオ
キシエチルスルホン酸、アクリロイルオキシプロピルス
ルホン酸など;メタクリロイルオキシアルキルスルホン
酸、例えば、メタクリロイルオキシジメチルスルホン
酸、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸、メタクリ
ロイルオキシプロピルスルホン酸など;アクリルアミド
アルキルスルホン酸、例えば、2−アクリルアミド−2
−メチルエタンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−
メチルプロパンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−
メチルブタンスルホン酸など;メタクリルアミドアルキ
ルスルホン酸、例えば、2−メタクリルアミド−2−メ
チルエタンスルホン酸、2−メタクリルアミド−2−メ
チルプロパンスルホン酸、2−メタクリルアミド−2−
メチルブタンスルホン酸など;アクリロイルオキシアル
キルホスフェート、例えば、アクリロイルオキシエチル
ホスフェート、3−アクリロイルオキシプロピル−2−
ホスフェートなど;メタクリロイルオキシアルキルホス
フェート、例えば、メタクリロイルオキシエチルホスフ
ェート、3−メタクリロイルオキシプロピル−2−ホス
フェートなど;親水基を2個有する3−アリロキシ−2
−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナフチルなどが挙げら
れる。これらの酸はアルカリ金属(例えば、Na、Kな
ど)又はアンモニウムイオンの塩であってもよい。さら
にその他の単量体化合物としては、米国特許第3,45
9,790号、同3,438,708号、同3,55
4,987号、同4,215,195号、同4,24
7,673号、特開昭57−205735号公報明細書
等に記載されている架橋性単量体を用いることができ
る。このような架橋性単量体の例としては、具体的には
N−(2−アセトアセトキシエチル)アクリルアミド、
N−{2−(2−アセトアセトキシエトキシ)エチル}
アクリルアミド等を挙げることができる。
ン酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキル、例えば、
イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコ
ン酸モノブチルなど;マレイン酸モノアルキル、例え
ば、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マ
レイン酸モノブチルなど;シトラコン酸、スチレンスル
ホン酸、ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン
酸、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸、例えば、
アクリロイルオキシメチルスルホン酸、アクリロイルオ
キシエチルスルホン酸、アクリロイルオキシプロピルス
ルホン酸など;メタクリロイルオキシアルキルスルホン
酸、例えば、メタクリロイルオキシジメチルスルホン
酸、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸、メタクリ
ロイルオキシプロピルスルホン酸など;アクリルアミド
アルキルスルホン酸、例えば、2−アクリルアミド−2
−メチルエタンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−
メチルプロパンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−
メチルブタンスルホン酸など;メタクリルアミドアルキ
ルスルホン酸、例えば、2−メタクリルアミド−2−メ
チルエタンスルホン酸、2−メタクリルアミド−2−メ
チルプロパンスルホン酸、2−メタクリルアミド−2−
メチルブタンスルホン酸など;アクリロイルオキシアル
キルホスフェート、例えば、アクリロイルオキシエチル
ホスフェート、3−アクリロイルオキシプロピル−2−
ホスフェートなど;メタクリロイルオキシアルキルホス
フェート、例えば、メタクリロイルオキシエチルホスフ
ェート、3−メタクリロイルオキシプロピル−2−ホス
フェートなど;親水基を2個有する3−アリロキシ−2
−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナフチルなどが挙げら
れる。これらの酸はアルカリ金属(例えば、Na、Kな
ど)又はアンモニウムイオンの塩であってもよい。さら
にその他の単量体化合物としては、米国特許第3,45
9,790号、同3,438,708号、同3,55
4,987号、同4,215,195号、同4,24
7,673号、特開昭57−205735号公報明細書
等に記載されている架橋性単量体を用いることができ
る。このような架橋性単量体の例としては、具体的には
N−(2−アセトアセトキシエチル)アクリルアミド、
N−{2−(2−アセトアセトキシエトキシ)エチル}
アクリルアミド等を挙げることができる。
【0049】これらの単量体化合物のうち、アクリル酸
エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル
類、スチレン類、オレフィン類が好ましく用いられる。
エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル
類、スチレン類、オレフィン類が好ましく用いられる。
【0050】本発明のポリマーラテックスの重合の際用
いられる界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、
ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界
面活性剤のいずれも用いることができるが、好ましくは
アニオン性界面活性剤及び/またはノニオン性界面活性
剤である。アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活
性剤としては、それぞれ当業界で公知の種々の化合物を
使用できるが、特に好ましくはアニオン性界面活性剤が
用いられる。
いられる界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、
ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界
面活性剤のいずれも用いることができるが、好ましくは
アニオン性界面活性剤及び/またはノニオン性界面活性
剤である。アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活
性剤としては、それぞれ当業界で公知の種々の化合物を
使用できるが、特に好ましくはアニオン性界面活性剤が
用いられる。
【0051】本発明で用いるポリマーラテックスの平均
粒径は、0.5〜300nmのものであればいずれも好
ましく使用することができ、30〜250nmが特に好
ましい。
粒径は、0.5〜300nmのものであればいずれも好
ましく使用することができ、30〜250nmが特に好
ましい。
【0052】本発明で用いるポリマーラテックスの粒子
サイズは、高分子ラテックスの化学(高分子刊行会、1
973年)に記載されている電子顕微鏡写真法、石鹸滴
定法、光散乱法、遠心沈降法により測定できるが、光散
乱法が好ましく用いられる。光散乱法の装置としては、
DLS700(大塚電子社製)を用いた。
サイズは、高分子ラテックスの化学(高分子刊行会、1
973年)に記載されている電子顕微鏡写真法、石鹸滴
定法、光散乱法、遠心沈降法により測定できるが、光散
乱法が好ましく用いられる。光散乱法の装置としては、
DLS700(大塚電子社製)を用いた。
【0053】本発明で用いるポリマーラテックスは、そ
のままもしくは水に分散させて写真構成層に含有するこ
とができる。該ポリマーラテックスの含有量は、写真構
成層バインダーに対し5〜70重量%添加するのが好ま
しい。
のままもしくは水に分散させて写真構成層に含有するこ
とができる。該ポリマーラテックスの含有量は、写真構
成層バインダーに対し5〜70重量%添加するのが好ま
しい。
【0054】本発明において、ポリマーラテックスの使
用量はゼラチンに対して重量比で、10%以上、300
%以下、好ましくは30%以上、200%以下である。
ポリマーラテックスの使用量が少な過ぎる場合は本発明
の効果が充分に発揮されず、また使用量が多過ぎる場合
は充分な膜強度が得られない。
用量はゼラチンに対して重量比で、10%以上、300
%以下、好ましくは30%以上、200%以下である。
ポリマーラテックスの使用量が少な過ぎる場合は本発明
の効果が充分に発揮されず、また使用量が多過ぎる場合
は充分な膜強度が得られない。
【0055】本発明で好ましく利用できる活性メチレン
モノマーは、下記一般式(1)で表される化合物であ
る。
モノマーは、下記一般式(1)で表される化合物であ
る。
【0056】
【化8】
【0057】式中、R1は水素原子、炭素数1〜4(例
えば、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル等の
各基)またはハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原
子)を表し、好ましくは水素原子、メチル基、塩素原子
を表す。Lは単結合もしくは2価の連結基を表し、具体
的には下記式で表される。
えば、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル等の
各基)またはハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原
子)を表し、好ましくは水素原子、メチル基、塩素原子
を表す。Lは単結合もしくは2価の連結基を表し、具体
的には下記式で表される。
【0058】
【化9】
【0059】L1は−CON(R2)−(R2は水素原
子、炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数1〜6の
置換アルキル基を表す)、−COO−、−NHCO−、
−OCO−、
子、炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数1〜6の
置換アルキル基を表す)、−COO−、−NHCO−、
−OCO−、
【0060】
【化10】
【0061】(R3、R4はそれぞれ独立に、水素原子、
ヒドロキシル基、ハロゲン原子、置換、無置換のアルキ
ル基、アルコキシ基、アシルオキシ基またはアリールオ
キシ基を表す)を表し(R2は上記と同義)、L2はL1
とX0を結ぶ連結基を表し、mは0または1を表しnは
0または1を表す。L2で表される連結基は具体的に
は、下記の一般式(2)で表される。
ヒドロキシル基、ハロゲン原子、置換、無置換のアルキ
ル基、アルコキシ基、アシルオキシ基またはアリールオ
キシ基を表す)を表し(R2は上記と同義)、L2はL1
とX0を結ぶ連結基を表し、mは0または1を表しnは
0または1を表す。L2で表される連結基は具体的に
は、下記の一般式(2)で表される。
【0062】
【化11】
【0063】J1、J2、J3は同じでも異なっていても
よく、−CO−、−SO2−、−CON(R5)−(R5
は水素原子、アルキル基(炭素数1〜6)、置換アルキ
ル基(炭素数1〜6))、−SO2N(R5)(R5は上
記と同義)、−N(R5)−R6−(R5は上記と同義、
R6は炭素数1〜4のアルキレン基)、−N(R5)−R
6−N(R7)−(R5、R6は上記と同義、R7は水素原
子、アルキル基(炭素数1〜6)、置換アルキル基(炭
素数1〜6)を表す)、−O−、−S−、−N(R5)
−CO−N(R7)−(R5、R7は上記と同義)、−N
(R5)−SO2−N(R7)−(R5、R7は上記と同
義)、−COO−、−OCO−、−N(R5)CO2−
(R5は上記と同義)、−N(R5)CO−(R5は上記
と同義)等を挙げることができる。
よく、−CO−、−SO2−、−CON(R5)−(R5
は水素原子、アルキル基(炭素数1〜6)、置換アルキ
ル基(炭素数1〜6))、−SO2N(R5)(R5は上
記と同義)、−N(R5)−R6−(R5は上記と同義、
R6は炭素数1〜4のアルキレン基)、−N(R5)−R
6−N(R7)−(R5、R6は上記と同義、R7は水素原
子、アルキル基(炭素数1〜6)、置換アルキル基(炭
素数1〜6)を表す)、−O−、−S−、−N(R5)
−CO−N(R7)−(R5、R7は上記と同義)、−N
(R5)−SO2−N(R7)−(R5、R7は上記と同
義)、−COO−、−OCO−、−N(R5)CO2−
(R5は上記と同義)、−N(R5)CO−(R5は上記
と同義)等を挙げることができる。
【0064】p、q、r、sは0または1を表す。
【0065】X1、X2、X3は互いに同じでも異なって
いてもよく、炭素数1〜10個の置換、無置換のアルキ
レン基、アラルキレン基またはフェニレン基を表し、ア
ルキレン基は直鎖でも分岐でもよい。アルキレン基とし
ては例えばメチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレ
ン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン、デシルメチレン等の各
基、アラルキレン基としては例えばベンジリデン基等、
フェニレン基としては例えばD−フェニレン、m−フェ
ニレン、メチルフェニレン等の各基を挙げることができ
る。
いてもよく、炭素数1〜10個の置換、無置換のアルキ
レン基、アラルキレン基またはフェニレン基を表し、ア
ルキレン基は直鎖でも分岐でもよい。アルキレン基とし
ては例えばメチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレ
ン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン、デシルメチレン等の各
基、アラルキレン基としては例えばベンジリデン基等、
フェニレン基としては例えばD−フェニレン、m−フェ
ニレン、メチルフェニレン等の各基を挙げることができ
る。
【0066】X0は、活性メチレン基を含む一価の基を
表し、好ましい具体例としては、R8−CO−CH2−C
OO−、NC−CH2−COO−、R8−CO−CH2−
CO−、R8−CO−CH2−CON(R5)−等を挙げ
ることができる。ここでR5は前記に同じであり、R8は
炭素数1〜12個の置換、無置換のアルキル基(例えば
メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、t−ブチ
ル、n−ノニル、2−メトキシエチル、4−フェノキシ
ブチル、ベンジル、2−メタンスルホンアミドエチル等
の各基)、置換、無置換のアリール基(例えばフェニ
ル、p−メチルフェニル、p−メトキシフェニル、p−
クロロフェニル等の各基)、アルコキシ基(例えば、メ
トキシ、エトキシ、メトキシエトキシ、n−ブトキシ等
の各基)、シクロアルキルオキシ基(例えばシクロヘキ
シルオキシ基等)、アリロキシ(例えばフェノキシ、D
−メチルフェノキシ、o−クロロフェノキシ、p−シア
ノフェノキシ等の各基)、アミノ基、置換アミノ基(例
えばメチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブ
チルアミノ等の各基)を表す。
表し、好ましい具体例としては、R8−CO−CH2−C
OO−、NC−CH2−COO−、R8−CO−CH2−
CO−、R8−CO−CH2−CON(R5)−等を挙げ
ることができる。ここでR5は前記に同じであり、R8は
炭素数1〜12個の置換、無置換のアルキル基(例えば
メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、t−ブチ
ル、n−ノニル、2−メトキシエチル、4−フェノキシ
ブチル、ベンジル、2−メタンスルホンアミドエチル等
の各基)、置換、無置換のアリール基(例えばフェニ
ル、p−メチルフェニル、p−メトキシフェニル、p−
クロロフェニル等の各基)、アルコキシ基(例えば、メ
トキシ、エトキシ、メトキシエトキシ、n−ブトキシ等
の各基)、シクロアルキルオキシ基(例えばシクロヘキ
シルオキシ基等)、アリロキシ(例えばフェノキシ、D
−メチルフェノキシ、o−クロロフェノキシ、p−シア
ノフェノキシ等の各基)、アミノ基、置換アミノ基(例
えばメチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブ
チルアミノ等の各基)を表す。
【0067】以下に、本発明の活性メチレン基を有する
重合可能なモノマーを例示するが本発明はこれらに限定
されるものではない。
重合可能なモノマーを例示するが本発明はこれらに限定
されるものではない。
【0068】 M−1 2−アセトアセトキシエチルメタクリレート M−2 2−アセトアセトキシエチルアクリレート M−3 2−アセトアセトキシプロピルメタクリレート M−4 2−アセトアセトキシプロピルアクリレート M−5 2−アセトアセトアミドエチルメタクリレート M−6 2−アセトアセトアミドエチルアクリレート M−7 2−シアノアセトキシエチルメタクリレート M−8 2−シアノアセトキシエチルアクリレート M−9 N−(2−シアノアセトキシエチル)アクリル
アミド M−10 2−プロピオニルアセトキシエチルアクリレ
ート M−11 N−(2−プロピオニルアセトキシエチル)
メタクリルアミド M−12 N−4−(アセトアセトキシペンジル)フェ
ニルアクリルアミド M−13 エチルアクリロイルアセテ−ト M−14 アクリロイルメチルアセテート M−15 N−メタクリロイルオキシメチルアセトアセ
トアミド M−16 エチルメタクリロイルアセトアセテート M−17 N−アリルシアノアセトアミド M−18 メチルアクリロイルアセトアセテート M−19 N−(2−メタクリロイルオキシメチル)シ
アノアセトアミド M−20 p−(2−アセトアセチル)エチルスチレン M−21 4−アセトアセチル−1−メタクリロイルピ
ペラジン M−22 エチル−α−アセトアセトキシメタクリレー
ト M−23 N−ブチルーN−アクリロイルオキシエチル
アセトアセトアミド M−24 p−(2−アセトアセトキシ)エチルスチレ
ン 活性メチレン基を有する重合可能なモノマーと共重合可
能なモノマーとしては、ビニル基を持つ化合物であり、
例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチ
ルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等のアク
リル酸エステル、チルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、シクロヘキシルメタクリレート、スルホプロピ
ルメタクリレート等のメタクリル酸エステル、酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類、メチル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエー
テル類、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン等の
ビニルケトン類、スチレン、メチルスチレン、クロロメ
チルスチレン等のスチレン類、アクリロニトリル、塩化
ビニル、ビニリデンクロライド、ブタジエン、イソプレ
ン等が挙げられる。
アミド M−10 2−プロピオニルアセトキシエチルアクリレ
ート M−11 N−(2−プロピオニルアセトキシエチル)
メタクリルアミド M−12 N−4−(アセトアセトキシペンジル)フェ
ニルアクリルアミド M−13 エチルアクリロイルアセテ−ト M−14 アクリロイルメチルアセテート M−15 N−メタクリロイルオキシメチルアセトアセ
トアミド M−16 エチルメタクリロイルアセトアセテート M−17 N−アリルシアノアセトアミド M−18 メチルアクリロイルアセトアセテート M−19 N−(2−メタクリロイルオキシメチル)シ
アノアセトアミド M−20 p−(2−アセトアセチル)エチルスチレン M−21 4−アセトアセチル−1−メタクリロイルピ
ペラジン M−22 エチル−α−アセトアセトキシメタクリレー
ト M−23 N−ブチルーN−アクリロイルオキシエチル
アセトアセトアミド M−24 p−(2−アセトアセトキシ)エチルスチレ
ン 活性メチレン基を有する重合可能なモノマーと共重合可
能なモノマーとしては、ビニル基を持つ化合物であり、
例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチ
ルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等のアク
リル酸エステル、チルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、シクロヘキシルメタクリレート、スルホプロピ
ルメタクリレート等のメタクリル酸エステル、酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類、メチル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエー
テル類、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン等の
ビニルケトン類、スチレン、メチルスチレン、クロロメ
チルスチレン等のスチレン類、アクリロニトリル、塩化
ビニル、ビニリデンクロライド、ブタジエン、イソプレ
ン等が挙げられる。
【0069】活性メチレン基を有する重合可能なモノマ
ーと共重合可能なモノマーの好ましい共重合比は、重量
比で前者が3%以上あればよいが、より好ましくは5〜
30%である。
ーと共重合可能なモノマーの好ましい共重合比は、重量
比で前者が3%以上あればよいが、より好ましくは5〜
30%である。
【0070】本発明のコア/シェル構造をもつポリマー
ラテックスにおいて、シェル部を構成するポリマー中に
は、上記の活性メチレン基を含むエチレン性不飽和モノ
マーが共重合されていてもよい。
ラテックスにおいて、シェル部を構成するポリマー中に
は、上記の活性メチレン基を含むエチレン性不飽和モノ
マーが共重合されていてもよい。
【0071】本発明のコア/シェルポリマーラテックス
におけるコア部ポリマーとシェル部ポリマーの量比は任
意に変える事ができるが、コア/シェル重量比で10/
90ないし95/5、好ましくは20/80ないし95
/5、特に好ましくは30/70ないし90/10であ
る。またコア/シェルポリマーラテックスの粒子径は、
1.0μm以下、好ましくは0.7μm以下、特に好ま
しくは0.5μm以下である。そして、下限は0.00
001μm以上が好ましい。
におけるコア部ポリマーとシェル部ポリマーの量比は任
意に変える事ができるが、コア/シェル重量比で10/
90ないし95/5、好ましくは20/80ないし95
/5、特に好ましくは30/70ないし90/10であ
る。またコア/シェルポリマーラテックスの粒子径は、
1.0μm以下、好ましくは0.7μm以下、特に好ま
しくは0.5μm以下である。そして、下限は0.00
001μm以上が好ましい。
【0072】乳化重合におけるコア/シェルラテックス
形成技術の分野ではよく知られている様に、コアポリマ
ーとシェルポリマーの極性が近く、相溶化してしまうよ
うな組合せでは、目的とするコア/シェル構造を十分に
形成し得ない場合もあり得る。より効果的なコア/シェ
ル構造を形成するためには、シェルを構成するポリマー
とコアを形成するポリマーが相溶しにくいものを選択す
る事が好ましい。
形成技術の分野ではよく知られている様に、コアポリマ
ーとシェルポリマーの極性が近く、相溶化してしまうよ
うな組合せでは、目的とするコア/シェル構造を十分に
形成し得ない場合もあり得る。より効果的なコア/シェ
ル構造を形成するためには、シェルを構成するポリマー
とコアを形成するポリマーが相溶しにくいものを選択す
る事が好ましい。
【0073】この点で極めて有用な態様の1つはコアと
して共役ジエンモノマー成分を有するポリマーを用いる
事である。共役ジエンモノマーを一定量以上用いるとコ
ア粒子は極めて低極性となるため前記したシェル部に用
いるモノマーの大部分と有効なコア/シェル構造の形成
が可能となる。このような性能のコアを形成させるため
の目安は共役ジエンモノマーが重量比で25%以上含ま
れる事であり、好ましい例としては、スチレン−ブタジ
エン共重合体(一般にSBRと呼ばれ、溶液重合SBR
と乳化重合SBRがある。溶液重合SBRとしては、ラ
ンダム重合体の他に前記のブロック共重合体(例えば、
ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブ
タジエン−スチレンブロック共重合体)がある)、ブタ
ジエン単独重合体(例えばシス−1,4−ブタジエン、
トランス−1,2−ブタジエン、あるいは、これらとト
ランス−1,4−ブタジエン構造の混在したゴム)、イ
ソプレン単独重合体(立体構造の例は、ブタジエン重合
体に同じ)、スチレン−イソプレン共重合体(ランダム
共重合体、ブロック共重合体)、エチレン−プロピレン
−ジエン共重合体(ジエン単量体としては、1,4−ヘ
キサジエン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボ
ルネン等を挙げることができる)、アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体、クロロプレン共重合体、イソブチ
レン−イソプレン共重合体、ブタジエン−アクリル酸エ
ステル共重合体(アクリル酸エステルとしては、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸ブチル等)及びブタジエン−ア
クリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体(アクリ
ル酸エステルとしては前記に同じ)を挙げることができ
る。
して共役ジエンモノマー成分を有するポリマーを用いる
事である。共役ジエンモノマーを一定量以上用いるとコ
ア粒子は極めて低極性となるため前記したシェル部に用
いるモノマーの大部分と有効なコア/シェル構造の形成
が可能となる。このような性能のコアを形成させるため
の目安は共役ジエンモノマーが重量比で25%以上含ま
れる事であり、好ましい例としては、スチレン−ブタジ
エン共重合体(一般にSBRと呼ばれ、溶液重合SBR
と乳化重合SBRがある。溶液重合SBRとしては、ラ
ンダム重合体の他に前記のブロック共重合体(例えば、
ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブ
タジエン−スチレンブロック共重合体)がある)、ブタ
ジエン単独重合体(例えばシス−1,4−ブタジエン、
トランス−1,2−ブタジエン、あるいは、これらとト
ランス−1,4−ブタジエン構造の混在したゴム)、イ
ソプレン単独重合体(立体構造の例は、ブタジエン重合
体に同じ)、スチレン−イソプレン共重合体(ランダム
共重合体、ブロック共重合体)、エチレン−プロピレン
−ジエン共重合体(ジエン単量体としては、1,4−ヘ
キサジエン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボ
ルネン等を挙げることができる)、アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体、クロロプレン共重合体、イソブチ
レン−イソプレン共重合体、ブタジエン−アクリル酸エ
ステル共重合体(アクリル酸エステルとしては、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸ブチル等)及びブタジエン−ア
クリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体(アクリ
ル酸エステルとしては前記に同じ)を挙げることができ
る。
【0074】また、コアとシェルを構成するポリマーの
極性差が大きいものを選択する事によっても有効なコア
/シェル構造形成が可能であり、例えばポリ(n−ドデ
シルメタクリレート)コア/ポリ(メチルアクリレート
−コ−2−アセトアセトキシエチルメタクリレート)シ
ェルや、ポリ(エチルアクリレート)コア/ポリ(スチ
レン−コ−2−アセトアセトキシエチルアクリレート)
シェル等が挙げられる。
極性差が大きいものを選択する事によっても有効なコア
/シェル構造形成が可能であり、例えばポリ(n−ドデ
シルメタクリレート)コア/ポリ(メチルアクリレート
−コ−2−アセトアセトキシエチルメタクリレート)シ
ェルや、ポリ(エチルアクリレート)コア/ポリ(スチ
レン−コ−2−アセトアセトキシエチルアクリレート)
シェル等が挙げられる。
【0075】本発明のコア/シェルポリマーラテックス
において、コアポリマー、またはシェルポリマー、ある
いは両者ともに、架橋されていてもよい。この場合、得
られるポリマーの分子量は無限大である。未架橋の場合
に於ける本発明のポリマーの分子量は、モノマーの種類
や合成条件により異なるが、5000ないし200万の
範囲内であり、また、目的によって、連鎖移動剤等によ
り分子量を調節する事も可能である。
において、コアポリマー、またはシェルポリマー、ある
いは両者ともに、架橋されていてもよい。この場合、得
られるポリマーの分子量は無限大である。未架橋の場合
に於ける本発明のポリマーの分子量は、モノマーの種類
や合成条件により異なるが、5000ないし200万の
範囲内であり、また、目的によって、連鎖移動剤等によ
り分子量を調節する事も可能である。
【0076】以下に本発明のコア/シェルラテックスの
好ましい化合物例を示すが本発明がこれらに限定される
ものではない。下記の各ラテックス化合物の構造は、コ
アポリマー構造、シェルポリマーの構造およびコア/シ
ェルの比率の順に記載し、各ポリマーにおける共重合組
成比およびコア/シェル比についてはいずれも重量百分
率比で表した。
好ましい化合物例を示すが本発明がこれらに限定される
ものではない。下記の各ラテックス化合物の構造は、コ
アポリマー構造、シェルポリマーの構造およびコア/シ
ェルの比率の順に記載し、各ポリマーにおける共重合組
成比およびコア/シェル比についてはいずれも重量百分
率比で表した。
【0077】 コア:スチレン/ブタジエン共重合体(37/63) シェル=スチレン/M−1(98/2) コア/シェル=50/50 シェル=スチレン/M−1(96/4) コア/シェル=50/50 シェル=スチレン/M−1(68/32) コア/シェル=50/50 シェル=スチレン/M−1(84/16) コア/シェル=67/33 シェル=スチレン/M−1(84/16) コア/シェル=85/15 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1(96/4) コア/シェル=50/50 シェル=n−ブチルアクリレート/M−1(84/16) コア/シェル=50/50 シェル=メチルアクリレート/M−7(84/16) コア/シェル=50/50 シェル=スチレン/メチルアクリレート/M−3(21/63/16) コア/シェル=50/50 本発明に用いられる無機微粒子としては、無機酸化物、
窒化物、硫化物等が挙げられるが、好ましくは酸化物で
ある。具体的には、Si、Na、K、Ca、Ba、A
l、Zn、Fe、Cu、Sn、In、W、Y、Sb、M
n、Ga、V、Nb、Tu、Ag、Bi、B、Mo、C
e、Cd、Mg、Be、Pb等の単一又は複合の酸化物
が好ましく、画像記録材料がハロゲン化銀写真感光材料
の場合は、Si、Y、Sn、Ti、Al、V、Sb、I
n、Mn、Ce、Bの単一又は複合の酸化物が乳剤との
混和性の点から好ましい。
窒化物、硫化物等が挙げられるが、好ましくは酸化物で
ある。具体的には、Si、Na、K、Ca、Ba、A
l、Zn、Fe、Cu、Sn、In、W、Y、Sb、M
n、Ga、V、Nb、Tu、Ag、Bi、B、Mo、C
e、Cd、Mg、Be、Pb等の単一又は複合の酸化物
が好ましく、画像記録材料がハロゲン化銀写真感光材料
の場合は、Si、Y、Sn、Ti、Al、V、Sb、I
n、Mn、Ce、Bの単一又は複合の酸化物が乳剤との
混和性の点から好ましい。
【0078】これらは結晶性のものでも、非晶質のもの
でもよいが、好ましくは非晶質のものである。
でもよいが、好ましくは非晶質のものである。
【0079】本発明に用いられる無機微粒子の平均粒径
は、0.5〜3000nm程度、好ましくは3〜500
nmである。無機微粒子は水及び/又は水に可溶な溶媒
に分散させて用いるのが好ましい。
は、0.5〜3000nm程度、好ましくは3〜500
nmである。無機微粒子は水及び/又は水に可溶な溶媒
に分散させて用いるのが好ましい。
【0080】無機微粒子の添加量は疎水性高分子化合物
に対して1〜2000重量%程度、好ましくは30〜1
000重量%である。
に対して1〜2000重量%程度、好ましくは30〜1
000重量%である。
【0081】以下に好ましい酸化物の例を示す。
【0082】 SO−1 SiO2 SO−2 TiO2 SO−3 ZnO SO−4 SnO2 SO−5 MnO2 SO−6 Fe2O3 SO−7 ZnSiO4 SO−8 Al2O3 SO−9 BeSiO4 SO−10 Al2SiO5 SO−11 ZrSiO4 SO−12 CaWO4 SO−13 CaSiO3 SO−14 InO2 SO−15 SnSbO2 SO−16 Sb2O5 SO−17 Nb2O5 SO−18 Y2O3 SO−19 CeO2 SO−20 Sb2O3 これらのなかでとりわけ好ましいのは、Siの酸化物で
あり、更にはコロイダルシリカである。
あり、更にはコロイダルシリカである。
【0083】次に、本発明の熱現像銀塩感材について説
明する。本発明の熱現像銀塩感材は、熱現像処理にて写
真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している熱現像銀塩感
材であることが好ましい。本発明の熱現像銀塩感材は常
温で安定であるが、露光後高温(例えば、80℃〜14
0℃)に加熱することで現像される。加熱することで有
機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化
還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露
光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成し
た銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から
水等の処理液を供給することなしで進行する。
明する。本発明の熱現像銀塩感材は、熱現像処理にて写
真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している熱現像銀塩感
材であることが好ましい。本発明の熱現像銀塩感材は常
温で安定であるが、露光後高温(例えば、80℃〜14
0℃)に加熱することで現像される。加熱することで有
機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化
還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露
光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成し
た銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から
水等の処理液を供給することなしで進行する。
【0084】本発明の熱現像銀塩感材は支持体上に少な
くとも一層の感光性層と、その上に少なくとも1層の非
感光性層を形成する。感光性層に通過する光の量又は波
長分布を制御するために感光性層と同じ側にフィルター
染料層および/又は反対側にアンチハレーション染料
層,いわゆるバッキング層を形成しても良いし、感光性
層に染料又は顔料を含ませても良い。用いられる染料と
しては所望の波長範囲で目的の吸収を有するものであれ
ばいかなる化合物でも良いが、例えば特開昭59−64
81号、特開昭59−182436号、米国特許4,2
71,263号、米国特許4,594,312号、欧州
特許公開533,008号、欧州特許公開652,47
3号、特開平2−216140号、特開平4−3483
39号、特開平7−191432号、特開平7−301
890号などの記載の化合物が好ましく用いられる。
くとも一層の感光性層と、その上に少なくとも1層の非
感光性層を形成する。感光性層に通過する光の量又は波
長分布を制御するために感光性層と同じ側にフィルター
染料層および/又は反対側にアンチハレーション染料
層,いわゆるバッキング層を形成しても良いし、感光性
層に染料又は顔料を含ませても良い。用いられる染料と
しては所望の波長範囲で目的の吸収を有するものであれ
ばいかなる化合物でも良いが、例えば特開昭59−64
81号、特開昭59−182436号、米国特許4,2
71,263号、米国特許4,594,312号、欧州
特許公開533,008号、欧州特許公開652,47
3号、特開平2−216140号、特開平4−3483
39号、特開平7−191432号、特開平7−301
890号などの記載の化合物が好ましく用いられる。
【0085】本発明においては,熱現像処理した後の、
400nmにおける支持体を含んだ感光材料の光学透過
濃度が0.2以下であることが好ましい。光学透過濃度
の更に好ましい値は0.02以上0.2以下である。
0.02未満では感度が低く使用ができないことがあ
る。
400nmにおける支持体を含んだ感光材料の光学透過
濃度が0.2以下であることが好ましい。光学透過濃度
の更に好ましい値は0.02以上0.2以下である。
0.02未満では感度が低く使用ができないことがあ
る。
【0086】本発明におけるハロゲン化銀粒子は光セン
サーとして機能するものである。本発明においては、画
像形成後の白濁を低く抑えるため、及び良好な画質を得
るために平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均粒
子サイズが0.1μm以下、より好ましくは0.01μ
m〜0.1μm、特に0.02μm〜0.08μmが好
ましい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子
が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合に
は、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。又、正常晶で
ない場合、例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子の場
合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えたと
きの直径をいう。またハロゲン化銀は単分散であること
が好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められ
る単分散度が40以下をいう。更に好ましくは30以下
であり、特に好ましくは0.1%以上20%以下となる
粒子である。
サーとして機能するものである。本発明においては、画
像形成後の白濁を低く抑えるため、及び良好な画質を得
るために平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均粒
子サイズが0.1μm以下、より好ましくは0.01μ
m〜0.1μm、特に0.02μm〜0.08μmが好
ましい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子
が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合に
は、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。又、正常晶で
ない場合、例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子の場
合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えたと
きの直径をいう。またハロゲン化銀は単分散であること
が好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められ
る単分散度が40以下をいう。更に好ましくは30以下
であり、特に好ましくは0.1%以上20%以下となる
粒子である。
【0087】単分散度=(粒径の標準偏差)/(粒径の
平均値)×100 本発明においては、ハロゲン化銀粒子が平均粒径0.1
μm以下でかつ単分散粒子であることがより好ましく、
この範囲にすることで画像の粒状性も向上する。
平均値)×100 本発明においては、ハロゲン化銀粒子が平均粒径0.1
μm以下でかつ単分散粒子であることがより好ましく、
この範囲にすることで画像の粒状性も向上する。
【0088】ハロゲン化銀粒子の形状については、特に
制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には7
0%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における
〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した
T.Tani,J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。
制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には7
0%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における
〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した
T.Tani,J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。
【0089】またもう一つの好ましいハロゲン化銀の形
状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径rμmとして垂直方向の厚みhμm
した場合のアスペクト比=r/hが3以上のものをい
う。その中でも好ましくはアスペクト比が3以上50以
下である。また粒径は0.1μm以下であることが好ま
しく、さらに0.01μm〜0.08μmが好ましい。
これらは米国特許第5,264,337号、第5,31
4,798号、第5,320,958号等に記載されて
おり、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。本
発明においてこれらの平板状粒子を用いた場合、さらに
画像の鮮鋭性も向上する。
状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径rμmとして垂直方向の厚みhμm
した場合のアスペクト比=r/hが3以上のものをい
う。その中でも好ましくはアスペクト比が3以上50以
下である。また粒径は0.1μm以下であることが好ま
しく、さらに0.01μm〜0.08μmが好ましい。
これらは米国特許第5,264,337号、第5,31
4,798号、第5,320,958号等に記載されて
おり、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。本
発明においてこれらの平板状粒子を用いた場合、さらに
画像の鮮鋭性も向上する。
【0090】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides著Chimie et
Physique Photographique(P
aul Montel社刊、1967年)、G.F.D
uffin著 Photographic Emuls
ion Chemistry(The Focal P
ress刊、1966年)、V.L.Zelikman
et al著Making and Coating
Photographic Emulsion(Th
e Focal Press刊、1964年)等に記載
された方法を用いて調製することができる。即ち、酸性
法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、又可溶
性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形成としては、
片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のいずれを
用いてもよい。このハロゲン化銀はいかなる方法で画像
形成層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀は還
元可能な銀源に近接するように配置する。又、ハロゲン
化銀は有機酸銀とハロゲンイオンとの反応による有機酸
銀中の銀の一部又は全部をハロゲン化銀に変換すること
によって調製してもよいし、ハロゲン化銀を予め調製し
ておき、これを有機銀塩を調製するための溶液に添加し
てもよく、又はこれらの方法の組み合わせも可能である
が、後者が好ましい。一般にハロゲン化銀は有機銀塩に
対して0.75〜30重量%の量で含有することが好ま
しい。
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides著Chimie et
Physique Photographique(P
aul Montel社刊、1967年)、G.F.D
uffin著 Photographic Emuls
ion Chemistry(The Focal P
ress刊、1966年)、V.L.Zelikman
et al著Making and Coating
Photographic Emulsion(Th
e Focal Press刊、1964年)等に記載
された方法を用いて調製することができる。即ち、酸性
法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、又可溶
性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形成としては、
片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のいずれを
用いてもよい。このハロゲン化銀はいかなる方法で画像
形成層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀は還
元可能な銀源に近接するように配置する。又、ハロゲン
化銀は有機酸銀とハロゲンイオンとの反応による有機酸
銀中の銀の一部又は全部をハロゲン化銀に変換すること
によって調製してもよいし、ハロゲン化銀を予め調製し
ておき、これを有機銀塩を調製するための溶液に添加し
てもよく、又はこれらの方法の組み合わせも可能である
が、後者が好ましい。一般にハロゲン化銀は有機銀塩に
対して0.75〜30重量%の量で含有することが好ま
しい。
【0091】本発明に用いられるハロゲン化銀には、元
素周期律表の6族から10族に属する金属のイオン又は
錯体イオンを含有することが好ましい。上記の金属とし
ては、W,Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、P
d、Re、Os、Ir、Pt、Auが好ましい。
素周期律表の6族から10族に属する金属のイオン又は
錯体イオンを含有することが好ましい。上記の金属とし
ては、W,Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、P
d、Re、Os、Ir、Pt、Auが好ましい。
【0092】これらの金属は錯体の形でハロゲン化銀に
導入できる。本発明においては、遷移金属錯体は、下記
一般式で表される6配位錯体が好ましい。
導入できる。本発明においては、遷移金属錯体は、下記
一般式で表される6配位錯体が好ましい。
【0093】一般式〔M(L)6〕m 式中、Mは元素周期表の6〜10族の元素から選ばれる
遷移金属、Lは架橋配位子、mは0、−1、−2又は−
3を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロ
ゲン化物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シア
ン化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナー
ト、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニ
トロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはア
コ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位
子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占める
ことが好ましい。Lは同一でもよく、また異なっていて
もよい。
遷移金属、Lは架橋配位子、mは0、−1、−2又は−
3を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロ
ゲン化物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シア
ン化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナー
ト、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニ
トロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはア
コ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位
子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占める
ことが好ましい。Lは同一でもよく、また異なっていて
もよい。
【0094】Mとして特に好ましい具体例は、ロジウム
(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、イ
リジウム(Ir)及びオスミウム(Os)である。
(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、イ
リジウム(Ir)及びオスミウム(Os)である。
【0095】以下に遷移金属配位錯体の具体例を示す。
【0096】 1:〔RhCl6〕3- 2:〔RuCl6〕3- 3:〔ReCl6〕3- 4:〔RuBr6〕3- 5:〔OsCl6〕3- 6:〔IrCl6〕4- 7:〔Ru(NO)Cl5〕2- 8:〔RuBr4(H2O)〕2- 9:〔Ru(NO)(H2O)Cl4〕− 10:〔RhCl5(H2O)〕2- 11:〔Re(NO)Cl5〕2- 12:〔Re(NO)CN5〕2- 13:〔Re(NO)ClCN4〕2− 14:〔Rh(NO)2Cl4〕− 15:〔Rh(NO)(H2O)Cl4〕− 16:〔Ru(NO)CN5〕2- 17:〔Fe(CN)6〕3- 18:〔Rh(NS)Cl5〕2- 19:〔Os(NO)Cl5〕2- 20:〔Cr(NO)Cl5〕2- 21:〔Re(NO)Cl5〕− 22:〔Os(NS)Cl4(TeCN)〕2- 23:〔Ru(NS)Cl5〕2- 24:〔Re(NS)Cl4(SeCN)〕2- 25:〔Os(NS)Cl(SCN)4〕2- 26:〔Ir(NO)Cl5〕2- 27:〔Ir(NS)Cl5〕2- これらの金属のイオン又は錯体イオンは一種類でもよい
し、同種の金属及び異種の金属を二種以上併用してもよ
い。これらの金属のイオン又は錯体イオンの含有量とし
ては、一般的にはハロゲン化銀1モル当たり1×10-9
〜1×10-2モルが適当であり、好ましくは1×10-8
〜1×10-4モルである。これらの金属のイオン又は錯
体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時
に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好
ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成
長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加しても
よいが、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加する
のが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するの
が好ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。
添加に際しては、数回に渡って分割して添加してもよ
く、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもでき
るし、特開昭63−29603号、特開平2−3062
36号、同3−167545号、同4−76534号、
同6−110146号、同5−273683号等に記載
されている様に粒子内に分布を持たせて含有させること
もできる。好ましくは粒子内部に分布をもたせることが
できる。
し、同種の金属及び異種の金属を二種以上併用してもよ
い。これらの金属のイオン又は錯体イオンの含有量とし
ては、一般的にはハロゲン化銀1モル当たり1×10-9
〜1×10-2モルが適当であり、好ましくは1×10-8
〜1×10-4モルである。これらの金属のイオン又は錯
体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時
に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好
ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成
長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加しても
よいが、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加する
のが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するの
が好ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。
添加に際しては、数回に渡って分割して添加してもよ
く、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもでき
るし、特開昭63−29603号、特開平2−3062
36号、同3−167545号、同4−76534号、
同6−110146号、同5−273683号等に記載
されている様に粒子内に分布を持たせて含有させること
もできる。好ましくは粒子内部に分布をもたせることが
できる。
【0097】これらの金属化合物は、水或いは適当な有
機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添
加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶
液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶
解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶
性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液
とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液と
して添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を
調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶
液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製
時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある
別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等があ
る。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合
物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶
性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に
添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もし
くは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶
液を反応容器に投入することもできる。
機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添
加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶
液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶
解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶
性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液
とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液と
して添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を
調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶
液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製
時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある
別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等があ
る。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合
物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶
性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に
添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もし
くは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶
液を反応容器に投入することもできる。
【0098】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。
【0099】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法を用いることができ
る。また金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合
物等の貴金属増感法や還元増感法を用いることができ
る。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好まし
く用いられる化合物としては公知の化合物を用いること
ができるが、特開平7−128768号等に記載の化合
物を使用することができる。テルル増感剤としては例え
ばジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)テル
リド類、ビス(カルバモイル)テルリド類、ジアシルテ
ルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテルリド類、ビ
ス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合を有す
る化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガニルテ
ルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド類、テ
ルリド類、テルロール類、テルロアセタール類、テルロ
スルホナート類、P−Te結合を有する化合物、含Te
ヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化合
物、コロイド状テルルなどを用いることができる。貴金
属増感法に好ましく用いられる化合物としては例えば塩
化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチ
オシアネート、硫化金、金セレナイド、あるいは米国特
許2,448,060号、英国特許618,061号な
どに記載されている化合物を好ましく用いることができ
る。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン
酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、アミ
ノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラ
ン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いる
ことができる。また、乳剤のpHを7以上またはpAg
を8.3以下に保持して熟成することにより還元増感す
ることができる。また、粒子形成中に銀イオンのシング
ルアディション部分を導入することにより還元増感する
ことができる。
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法を用いることができ
る。また金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合
物等の貴金属増感法や還元増感法を用いることができ
る。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好まし
く用いられる化合物としては公知の化合物を用いること
ができるが、特開平7−128768号等に記載の化合
物を使用することができる。テルル増感剤としては例え
ばジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)テル
リド類、ビス(カルバモイル)テルリド類、ジアシルテ
ルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテルリド類、ビ
ス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合を有す
る化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガニルテ
ルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド類、テ
ルリド類、テルロール類、テルロアセタール類、テルロ
スルホナート類、P−Te結合を有する化合物、含Te
ヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化合
物、コロイド状テルルなどを用いることができる。貴金
属増感法に好ましく用いられる化合物としては例えば塩
化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチ
オシアネート、硫化金、金セレナイド、あるいは米国特
許2,448,060号、英国特許618,061号な
どに記載されている化合物を好ましく用いることができ
る。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン
酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、アミ
ノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラ
ン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いる
ことができる。また、乳剤のpHを7以上またはpAg
を8.3以下に保持して熟成することにより還元増感す
ることができる。また、粒子形成中に銀イオンのシング
ルアディション部分を導入することにより還元増感する
ことができる。
【0100】本発明において有機銀塩は還元可能な銀源
であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及びヘ
テロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜30、好ましくは
15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び含窒
素複素環が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の銀
イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩
錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Researc
h Disclosure第17029及び29963
に記載されており、次のものがある:有機酸の塩(例え
ば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、アラキジン酸,ス
テアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の塩);銀の
カルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1−(3−カ
ルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カルボキシプ
ロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等);アルデヒド
とヒドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生
成物の銀錯体(例えば、アルデヒド類(ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド等)、ヒドロ
キシ置換酸類(例えば、サリチル酸、安息香酸、3,5
−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジサリチル
酸)、チオエン類の銀塩又は錯体(例えば、3−(2−
カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4−(チ
アゾリン−2−チオエン、及び3−カルボキシメチル−
4−チアゾリン−2−チオエン)、イミダゾール、ピラ
ゾール、ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H
−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,
2,4−トリアゾール及びベンゾトリアゾールから選択
される窒素酸と銀との錯体また塩;サッカリン、5−ク
ロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及びメルカプチド
類の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀,アラキジン酸お
よび/またはステアリン酸である。
であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及びヘ
テロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜30、好ましくは
15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び含窒
素複素環が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の銀
イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩
錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Researc
h Disclosure第17029及び29963
に記載されており、次のものがある:有機酸の塩(例え
ば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、アラキジン酸,ス
テアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の塩);銀の
カルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1−(3−カ
ルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カルボキシプ
ロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等);アルデヒド
とヒドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生
成物の銀錯体(例えば、アルデヒド類(ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド等)、ヒドロ
キシ置換酸類(例えば、サリチル酸、安息香酸、3,5
−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジサリチル
酸)、チオエン類の銀塩又は錯体(例えば、3−(2−
カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4−(チ
アゾリン−2−チオエン、及び3−カルボキシメチル−
4−チアゾリン−2−チオエン)、イミダゾール、ピラ
ゾール、ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H
−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,
2,4−トリアゾール及びベンゾトリアゾールから選択
される窒素酸と銀との錯体また塩;サッカリン、5−ク
ロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及びメルカプチド
類の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀,アラキジン酸お
よび/またはステアリン酸である。
【0101】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、
前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作
製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよ
い。
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、
前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作
製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよ
い。
【0102】本発明においては有機銀塩は平均粒径が1
μm以下でありかつ単分散であることが好ましい。有機
銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が例えば球状、棒
状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒子の体
積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒径は好
ましくは0.01μm〜0.8μm、特に0.05μm
〜0.5μmが好ましい。また単分散とは、ハロゲン化
銀の場合と同義であり、好ましくは単分散度が1〜30
である。本発明においては、有機銀塩が平均粒径1μm
以下の単分散粒子であることがより好ましく、この範囲
にすることで濃度の高い画像が得られる。さらに有機銀
塩は平板状粒子が全有機銀の60%以上有することが好
ましい。本発明において平板状粒子とは平均粒径と厚さ
の比、いわゆる下記式で表されるアスペクト比(ARと
略す)が3以上のものをいう。
μm以下でありかつ単分散であることが好ましい。有機
銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が例えば球状、棒
状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒子の体
積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒径は好
ましくは0.01μm〜0.8μm、特に0.05μm
〜0.5μmが好ましい。また単分散とは、ハロゲン化
銀の場合と同義であり、好ましくは単分散度が1〜30
である。本発明においては、有機銀塩が平均粒径1μm
以下の単分散粒子であることがより好ましく、この範囲
にすることで濃度の高い画像が得られる。さらに有機銀
塩は平板状粒子が全有機銀の60%以上有することが好
ましい。本発明において平板状粒子とは平均粒径と厚さ
の比、いわゆる下記式で表されるアスペクト比(ARと
略す)が3以上のものをいう。
【0103】AR=平均粒径(μm)/厚さ(μm) 有機銀をこれらの形状にするためには、前記有機銀結晶
をバインダーや界面活性剤などをボールミルなどで分散
粉砕することで得られる。
をバインダーや界面活性剤などをボールミルなどで分散
粉砕することで得られる。
【0104】本発明においては感光材料の失透を防ぐた
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得ら
れる。また銀総量に対するハロゲン化銀の量は、重量比
で50%以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは
0.1%〜15%の間である。
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得ら
れる。また銀総量に対するハロゲン化銀の量は、重量比
で50%以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは
0.1%〜15%の間である。
【0105】本発明の熱現像銀塩感材には還元剤を内蔵
させることが好ましい。好適な還元剤の例は、米国特許
第3,770,448号、同第3,773,512号、
同第3,593,863号、及びResearch D
isclosure第17029及び29963に記載
されており、次のものがある。アミノヒドロキシシクロ
アルケノン化合物(例えば、2−ヒドロキシピペリジノ
−2−シクロヘキセノン);還元剤の前駆体としてアミ
ノリダクトン類(reductones)エステル(例
えば、ピペリジノヘキソースリダクトンモノアセテー
ト);N−ヒドロキシ尿素誘導体(例えば、N−p−メ
チルフェニル−N−ヒドロキシ尿素);アルデヒド又は
ケトンのヒドラゾン類(例えば、アントラセンアルデヒ
ドフェニルヒドラゾン);ホスファーアミドフェノール
類;ホスファーアミドアニリン類;ポリヒドロキシベン
ゼン類(例えば、ヒドロキノン、t−ブチル−ヒドロキ
ノン、イソプロピルヒドロキノン及び(2,5−ジヒド
ロキシ−フェニル)メチルスルホン);スルフヒドロキ
サム酸類(例えば、ベンゼンスルフヒドロキサム酸);
スルホンアミドアニリン類(例えば、4−(N−メタン
スルホンアミド)アニリン);2−テトラゾリルチオヒ
ドロキノン類(例えば、2−メチル−5−(1−フェニ
ル−5−テトラゾリルチオ)ヒドロキノン);テトラヒ
ドロキノキサリン類(例えば、1,2,3,4−テトラ
ヒドロキノキサリン);アミドオキシン類;アジン類
(例えば、脂肪族カルボン酸アリールヒドラザイド類と
アスコルビン酸の組み合わせ);ポリヒドロキシベンゼ
ンとヒドロキシルアミンの組み合わせ、リダクトン及び
/又はヒドラジン;ヒドロキサン酸類;アジン類とスル
ホンアミドフェノール類の組み合わせ;α−シアノフェ
ニル酢酸誘導体;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒ
ドロキシベンゼン誘導体の組み合わせ;5−ピラゾロン
類;スルホンアミドフェノール還元剤;2−フェニルイ
ンダン−1,3−ジオン等;クロマン;1,4−ジヒド
ロピリジン類(例えば、2,6−ジメトキシ−3,5−
ジカルボエトキシ−1,4−ジヒドロピリジン);ビス
フェノール類(例えば、ビス(2−ヒドロキシ−3−t
−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、ビス(6−ヒ
ドロキシ−m−トリ)メシトール(mesitol)、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)
プロパン、4,5−エチリデン−ビス(2−t−ブチル
−6−メチル)フェノール)、紫外線感応性アスコルビ
ン酸誘導体及び3−ピラゾリドン類。中でも特に好まし
い還元剤はヒンダードフェノール類である。ヒンダード
フェノール類としては下記一般式(A)で表される化合
物が挙げられる。
させることが好ましい。好適な還元剤の例は、米国特許
第3,770,448号、同第3,773,512号、
同第3,593,863号、及びResearch D
isclosure第17029及び29963に記載
されており、次のものがある。アミノヒドロキシシクロ
アルケノン化合物(例えば、2−ヒドロキシピペリジノ
−2−シクロヘキセノン);還元剤の前駆体としてアミ
ノリダクトン類(reductones)エステル(例
えば、ピペリジノヘキソースリダクトンモノアセテー
ト);N−ヒドロキシ尿素誘導体(例えば、N−p−メ
チルフェニル−N−ヒドロキシ尿素);アルデヒド又は
ケトンのヒドラゾン類(例えば、アントラセンアルデヒ
ドフェニルヒドラゾン);ホスファーアミドフェノール
類;ホスファーアミドアニリン類;ポリヒドロキシベン
ゼン類(例えば、ヒドロキノン、t−ブチル−ヒドロキ
ノン、イソプロピルヒドロキノン及び(2,5−ジヒド
ロキシ−フェニル)メチルスルホン);スルフヒドロキ
サム酸類(例えば、ベンゼンスルフヒドロキサム酸);
スルホンアミドアニリン類(例えば、4−(N−メタン
スルホンアミド)アニリン);2−テトラゾリルチオヒ
ドロキノン類(例えば、2−メチル−5−(1−フェニ
ル−5−テトラゾリルチオ)ヒドロキノン);テトラヒ
ドロキノキサリン類(例えば、1,2,3,4−テトラ
ヒドロキノキサリン);アミドオキシン類;アジン類
(例えば、脂肪族カルボン酸アリールヒドラザイド類と
アスコルビン酸の組み合わせ);ポリヒドロキシベンゼ
ンとヒドロキシルアミンの組み合わせ、リダクトン及び
/又はヒドラジン;ヒドロキサン酸類;アジン類とスル
ホンアミドフェノール類の組み合わせ;α−シアノフェ
ニル酢酸誘導体;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒ
ドロキシベンゼン誘導体の組み合わせ;5−ピラゾロン
類;スルホンアミドフェノール還元剤;2−フェニルイ
ンダン−1,3−ジオン等;クロマン;1,4−ジヒド
ロピリジン類(例えば、2,6−ジメトキシ−3,5−
ジカルボエトキシ−1,4−ジヒドロピリジン);ビス
フェノール類(例えば、ビス(2−ヒドロキシ−3−t
−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、ビス(6−ヒ
ドロキシ−m−トリ)メシトール(mesitol)、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)
プロパン、4,5−エチリデン−ビス(2−t−ブチル
−6−メチル)フェノール)、紫外線感応性アスコルビ
ン酸誘導体及び3−ピラゾリドン類。中でも特に好まし
い還元剤はヒンダードフェノール類である。ヒンダード
フェノール類としては下記一般式(A)で表される化合
物が挙げられる。
【0106】
【化12】
【0107】式中、Raは水素原子、又は炭素原子数1
〜10のアルキル基(例えば、−C4H9、2,4,4−
トリメチルペンチル)を表し、R′及びR″は炭素原子
数1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t−
ブチル)を表す。
〜10のアルキル基(例えば、−C4H9、2,4,4−
トリメチルペンチル)を表し、R′及びR″は炭素原子
数1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t−
ブチル)を表す。
【0108】一般式(A)で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。
【0109】
【化13】
【0110】
【化14】
【0111】前記一般式(A)で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
0-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルである。
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
0-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルである。
【0112】本発明の熱現像銀塩感材に好適なバインダ
ーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマ
ー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルム
を形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポ
リ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。親水
性でも非親水性でもよい。また感光材料の表面を保護し
たり擦り傷を防止するために、感光性層の外側に非感光
性層を有することができる。これらの非感光性層に用い
られるバインダーは感光性層に用いられるバインダーと
同じ種類でも異なった種類でもよい。
ーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマ
ー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルム
を形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポ
リ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。親水
性でも非親水性でもよい。また感光材料の表面を保護し
たり擦り傷を防止するために、感光性層の外側に非感光
性層を有することができる。これらの非感光性層に用い
られるバインダーは感光性層に用いられるバインダーと
同じ種類でも異なった種類でもよい。
【0113】本発明においては、熱現像の速度を速める
ために感光性層のバインダー量が1.5〜10g/m2
であることが好ましい。さらに好ましくは1.7〜8g
/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が
大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
ために感光性層のバインダー量が1.5〜10g/m2
であることが好ましい。さらに好ましくは1.7〜8g
/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が
大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
【0114】感光性層は複数層にしても良く、また階調
の調節のため感度を高感層/低感層又は低感層/高感層
にしても良い。
の調節のため感度を高感層/低感層又は低感層/高感層
にしても良い。
【0115】本発明の熱現像銀塩感材には、現像後の銀
色調を改良する目的で色調剤を添加することが好まし
い。好適な色調剤の例はResearch Discl
osure第17029号に開示されており、次のもの
がある。
色調を改良する目的で色調剤を添加することが好まし
い。好適な色調剤の例はResearch Discl
osure第17029号に開示されており、次のもの
がある。
【0116】イミド類(例えば、フタルイミド);環状
イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリノン
(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピラゾ
リン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイミド
類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミ
ド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート)、メルカプタン類(例えば、3
−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N−(ア
ミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例えば、
N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム(isoth
iuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ(例えば、N,N′−ヘキサメチレン(1−カル
バモイル−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−
(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウム
トリフルオロアセテート)、及び2−(トリブロモメチ
ルスルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロ
シアニン染料(例えば、3−エチル−5−((3−エチ
ル−2−ベンゾチアゾリニリデン(ベンゾチアゾリニリ
デン))−1−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4
−オキサゾリジンジオン);フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、4−
(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノ
ン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3
−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノ
ンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、6−ク
ロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリウム又
は8−メチルフタラジノン+p−トリスルホン酸ナトリ
ウム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フタラジ
ン(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無水物、
及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo
−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル
酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテト
ラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1
つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン類、ベン
ズオキサジン、ナルトキサジン誘導体;ベンズオキサジ
ン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベンズオキサ
ジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不斉−トリ
アジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリミジ
ン)、及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,
6−ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1H,4H−
2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン)。好まし
い色調剤としてはフタラゾン又はフタラジンである。
イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリノン
(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピラゾ
リン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイミド
類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミ
ド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート)、メルカプタン類(例えば、3
−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N−(ア
ミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例えば、
N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム(isoth
iuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ(例えば、N,N′−ヘキサメチレン(1−カル
バモイル−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−
(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウム
トリフルオロアセテート)、及び2−(トリブロモメチ
ルスルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロ
シアニン染料(例えば、3−エチル−5−((3−エチ
ル−2−ベンゾチアゾリニリデン(ベンゾチアゾリニリ
デン))−1−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4
−オキサゾリジンジオン);フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、4−
(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノ
ン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3
−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノ
ンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、6−ク
ロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリウム又
は8−メチルフタラジノン+p−トリスルホン酸ナトリ
ウム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フタラジ
ン(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無水物、
及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo
−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル
酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテト
ラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1
つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン類、ベン
ズオキサジン、ナルトキサジン誘導体;ベンズオキサジ
ン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベンズオキサ
ジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不斉−トリ
アジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリミジ
ン)、及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,
6−ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1H,4H−
2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン)。好まし
い色調剤としてはフタラゾン又はフタラジンである。
【0117】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。
【0118】本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでも良いが、Ar−SM、Ar
−S−S−Arで表されるものが好ましい。式中、Mは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以
上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム
原子を有する芳香環または縮合芳香環である。好ましく
は、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフスイミダゾ
ール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオ
キサゾール、ナフスオキサゾール、ベンゾセレナゾー
ル、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾー
ル、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、テト
ラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラ
ジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナゾリノン
である。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン(例え
ば、BrおよびCl)、ヒドロキシ、アミノ、カルボキ
シ、アルキル(例えば、1個以上の炭素原子、好ましく
は1〜4個の炭素原子を有するもの)およびアルコキシ
(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の
炭素原子を有するもの)からなる置換基群から選択され
るものを有してもよい。メルカプト置換複素芳香族化合
物をとしては、2−メルカプトベンズイミダゾール、2
−メルカプトベンズオキサゾール、2−メルカプトベン
ゾチアゾール,2−メルカプト−5−メチルベンゾチア
ゾール,3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール,
2−メルカプトキノリン,8−メルカプトプリン,2,
3,5,6−テトラクロロ−4−ピリジンチオール,4
−ヒドロキシ−2−メルカプトピリミジン,2−メルカ
プト−4−フェニルオキサゾールなどが挙げられるが、
本発明はこれらに限定されない。
合、いかなる構造のものでも良いが、Ar−SM、Ar
−S−S−Arで表されるものが好ましい。式中、Mは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以
上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム
原子を有する芳香環または縮合芳香環である。好ましく
は、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフスイミダゾ
ール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオ
キサゾール、ナフスオキサゾール、ベンゾセレナゾー
ル、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾー
ル、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、テト
ラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラ
ジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナゾリノン
である。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン(例え
ば、BrおよびCl)、ヒドロキシ、アミノ、カルボキ
シ、アルキル(例えば、1個以上の炭素原子、好ましく
は1〜4個の炭素原子を有するもの)およびアルコキシ
(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の
炭素原子を有するもの)からなる置換基群から選択され
るものを有してもよい。メルカプト置換複素芳香族化合
物をとしては、2−メルカプトベンズイミダゾール、2
−メルカプトベンズオキサゾール、2−メルカプトベン
ゾチアゾール,2−メルカプト−5−メチルベンゾチア
ゾール,3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール,
2−メルカプトキノリン,8−メルカプトプリン,2,
3,5,6−テトラクロロ−4−ピリジンチオール,4
−ヒドロキシ−2−メルカプトピリミジン,2−メルカ
プト−4−フェニルオキサゾールなどが挙げられるが、
本発明はこれらに限定されない。
【0119】本発明の熱現像銀塩感材中にはかぶり防止
剤が含まれて良い。最も有効なかぶり防止剤として知ら
れているものは水銀イオンである。感光材料中にかぶり
防止剤として水銀化合物を使用することについては、例
えば米国特許第3,589,903号に開示されてい
る。しかし、水銀化合物は環境的に好ましくない。非水
銀かぶり防止剤としては例えば米国特許第4,546,
075号及び同第4,452,885号及び特開昭59
−57234号に開示されている様なかぶり防止剤が好
ましい。
剤が含まれて良い。最も有効なかぶり防止剤として知ら
れているものは水銀イオンである。感光材料中にかぶり
防止剤として水銀化合物を使用することについては、例
えば米国特許第3,589,903号に開示されてい
る。しかし、水銀化合物は環境的に好ましくない。非水
銀かぶり防止剤としては例えば米国特許第4,546,
075号及び同第4,452,885号及び特開昭59
−57234号に開示されている様なかぶり防止剤が好
ましい。
【0120】特に好ましい非水銀かぶり防止剤は、米国
特許第3,874,946号及び同第4,756,99
9号に開示されているような化合物、−C(X1)
(X2)(X3)(ここでX1及びX2はハロゲンでX3は
水素又はハロゲン)で表される1以上の置換基を備えた
ヘテロ環状化合物である。好適なかぶり防止剤の例とし
ては、特開平9−288328号段落番号〔0030〕
〜〔0036〕に記載されている化合物等が好ましく用
いられる。またもう一つの好ましいかぶり防止剤の例と
しては特開平9−90550号段落番号〔0062〕〜
〔0063〕に記載されている化合物である。さらにそ
の他の好適なかぶり防止剤は米国特許第5,028,5
23号及び英国特許出願第92221383.4号、同
第9300147.7号、同第9311790.1号に
開示されている。
特許第3,874,946号及び同第4,756,99
9号に開示されているような化合物、−C(X1)
(X2)(X3)(ここでX1及びX2はハロゲンでX3は
水素又はハロゲン)で表される1以上の置換基を備えた
ヘテロ環状化合物である。好適なかぶり防止剤の例とし
ては、特開平9−288328号段落番号〔0030〕
〜〔0036〕に記載されている化合物等が好ましく用
いられる。またもう一つの好ましいかぶり防止剤の例と
しては特開平9−90550号段落番号〔0062〕〜
〔0063〕に記載されている化合物である。さらにそ
の他の好適なかぶり防止剤は米国特許第5,028,5
23号及び英国特許出願第92221383.4号、同
第9300147.7号、同第9311790.1号に
開示されている。
【0121】本発明の熱現像銀塩感材には、例えば特開
昭63−159841号、同60−140335号、同
63−231437号、同63−259651号、同6
3−304242号、同63−15245号、米国特許
第4,639,414号、同第4,740,455号、
同第4,741,966号、同第4,751,175
号、同第4,835,096号に記載された増感色素が
使用できる。本発明に使用される有用な増感色素は例え
ばResearch Disclosure Item
17643IV−A項(1978年12月p.23)、同
Item1831X項(1978年8月p.437)に
記載もしくは引用された文献に記載されている。特に各
種スキャナー光源の分光特性に適した分光感度を有する
増感色素を有利に選択することができる。例えば特開平
9−34078号、同9−54409号、同9−806
79号記載の化合物が好ましく用いられる。
昭63−159841号、同60−140335号、同
63−231437号、同63−259651号、同6
3−304242号、同63−15245号、米国特許
第4,639,414号、同第4,740,455号、
同第4,741,966号、同第4,751,175
号、同第4,835,096号に記載された増感色素が
使用できる。本発明に使用される有用な増感色素は例え
ばResearch Disclosure Item
17643IV−A項(1978年12月p.23)、同
Item1831X項(1978年8月p.437)に
記載もしくは引用された文献に記載されている。特に各
種スキャナー光源の分光特性に適した分光感度を有する
増感色素を有利に選択することができる。例えば特開平
9−34078号、同9−54409号、同9−806
79号記載の化合物が好ましく用いられる。
【0122】各種の添加剤は感光性層、非感光性層、又
はその他の形成層のいずれに添加しても良い。本発明の
熱現像銀塩感材には例えば、界面活性剤、酸化防止剤、
安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いて
も良い。これらの添加剤及び上述したその他の添加剤は
Research Disclosure Item1
7029(1978年6月p.9〜15)に記載されて
いる化合物を好ましく用いることができる。
はその他の形成層のいずれに添加しても良い。本発明の
熱現像銀塩感材には例えば、界面活性剤、酸化防止剤、
安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いて
も良い。これらの添加剤及び上述したその他の添加剤は
Research Disclosure Item1
7029(1978年6月p.9〜15)に記載されて
いる化合物を好ましく用いることができる。
【0123】本発明で用いられる支持体は現像処理後の
画像の変形を防ぐためにプラスチックフィルム(例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリイミド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポ
リエチレンナフタレート)であることが好ましい。
画像の変形を防ぐためにプラスチックフィルム(例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリイミド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポ
リエチレンナフタレート)であることが好ましい。
【0124】その中でも好ましい支持体としては、ポリ
エチレンテレフタレート(以下PETと略す)及びシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプ
ラスチック(以下SPSと略す)の支持体が挙げられ
る。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ま
しくは70〜180μmである。
エチレンテレフタレート(以下PETと略す)及びシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプ
ラスチック(以下SPSと略す)の支持体が挙げられ
る。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ま
しくは70〜180μmである。
【0125】また熱処理したプラスチック支持体を用い
ることもできる。採用するプラスチックとしては、前記
のプラスチックが挙げられる。支持体の熱処理とはこれ
らの支持体を製膜後、感光性層が塗布されるまでの間
に、支持体のガラス転移点より30℃以上高い温度で、
好ましくは35℃以上高い温度で、更に好ましくは40
℃以上高い温度で加熱することがよい。但し、支持体の
融点を超えた温度で加熱しては本発明の効果は得られな
い。
ることもできる。採用するプラスチックとしては、前記
のプラスチックが挙げられる。支持体の熱処理とはこれ
らの支持体を製膜後、感光性層が塗布されるまでの間
に、支持体のガラス転移点より30℃以上高い温度で、
好ましくは35℃以上高い温度で、更に好ましくは40
℃以上高い温度で加熱することがよい。但し、支持体の
融点を超えた温度で加熱しては本発明の効果は得られな
い。
【0126】次に用いられるプラスチックについて説明
する。PETはポリエステルの成分が全てポリエチレン
テレフタレートからなるものであるが、ポリエチレンテ
レフタレート以外に、酸成分としてテレフタル酸、ナフ
タレン−2,6−ジカルボン酸、イソフタル酸、ブチレ
ンジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、
アジピン酸等と、グリコール成分としてエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、ブタンジオール、シクロ
ヘキサンジメタノール等との変性ポリエステル成分が全
ポリエステルの10モル%以下含まれたポリエステルで
あってもよい。
する。PETはポリエステルの成分が全てポリエチレン
テレフタレートからなるものであるが、ポリエチレンテ
レフタレート以外に、酸成分としてテレフタル酸、ナフ
タレン−2,6−ジカルボン酸、イソフタル酸、ブチレ
ンジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、
アジピン酸等と、グリコール成分としてエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、ブタンジオール、シクロ
ヘキサンジメタノール等との変性ポリエステル成分が全
ポリエステルの10モル%以下含まれたポリエステルで
あってもよい。
【0127】SPSは通常のポリスチレン(アタクチッ
クポリスチレン)と異なり立体的に規則性を有したポリ
スチレンである。SPSの規則的な立体規則性構造部分
をラセモ連鎖といい、2連鎖、3連鎖、5連鎖、あるい
はそれ以上と規則的な部分がより多くあることが好まし
く、本発明において、ラセモ連鎖は、2連鎖で85%以
上、3連鎖で75%以上、5連鎖で50%以上、それ以
上の連鎖で30%以上であることが好ましい。SPSの
重合は特開平3−131843号明細書記載の方法に準
じて行うことが出来る。
クポリスチレン)と異なり立体的に規則性を有したポリ
スチレンである。SPSの規則的な立体規則性構造部分
をラセモ連鎖といい、2連鎖、3連鎖、5連鎖、あるい
はそれ以上と規則的な部分がより多くあることが好まし
く、本発明において、ラセモ連鎖は、2連鎖で85%以
上、3連鎖で75%以上、5連鎖で50%以上、それ以
上の連鎖で30%以上であることが好ましい。SPSの
重合は特開平3−131843号明細書記載の方法に準
じて行うことが出来る。
【0128】本発明に係る支持体の製膜方法及び下引製
造方法は公知の方法を用いることができるが、好ましく
は、特開平9−50094号の段落〔0030〕〜〔0
070〕に記載された方法を用いることである。
造方法は公知の方法を用いることができるが、好ましく
は、特開平9−50094号の段落〔0030〕〜〔0
070〕に記載された方法を用いることである。
【0129】本発明においては帯電性を改良するために
金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電性
化合物を構成層中に含ませることができる。これらはい
ずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バ
ッキング層、感光性層と下引の間の層などに含まれる。
本発明においては米国特許5,244,773号カラム
14〜20に記載された導電性化合物が好ましく用いら
れる。
金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電性
化合物を構成層中に含ませることができる。これらはい
ずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バ
ッキング層、感光性層と下引の間の層などに含まれる。
本発明においては米国特許5,244,773号カラム
14〜20に記載された導電性化合物が好ましく用いら
れる。
【0130】
【実施例】実施例1 〈ポリマーラテックスLX−1の合成〉1,000ml
の4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴下ロート、窒素
導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入し脱酸素を
行いつつ蒸留水350ccを加えて内温が80℃となる
まで加熱した。分散剤として本発明の一般式(I)で表
される化合物P−10の4.5gを添加し、さらに開始
剤として過硫酸アンモニウム0.45gを添加し、次い
でメチルメタクリレート90gを滴下ロートで約1時間
かけて滴下する。滴下終了後4時間そのまま反応を続け
た後、水蒸気蒸留で未反応モノマーを除去する。その後
冷却しアンモニア水でpH6に調整し疎水性ポリマー粒
子を得る。
の4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴下ロート、窒素
導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入し脱酸素を
行いつつ蒸留水350ccを加えて内温が80℃となる
まで加熱した。分散剤として本発明の一般式(I)で表
される化合物P−10の4.5gを添加し、さらに開始
剤として過硫酸アンモニウム0.45gを添加し、次い
でメチルメタクリレート90gを滴下ロートで約1時間
かけて滴下する。滴下終了後4時間そのまま反応を続け
た後、水蒸気蒸留で未反応モノマーを除去する。その後
冷却しアンモニア水でpH6に調整し疎水性ポリマー粒
子を得る。
【0131】得られたラテックス液をWhatman社
製GF/Dフィルターで濾別した。
製GF/Dフィルターで濾別した。
【0132】試料No.1〜3の作製 〈ハロゲン化銀粒子の調製〉水700mlにフタル化ゼ
ラチン22gおよび臭化カリウム30mgを溶解して温
度35℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.
6gを含む水溶液159mlと臭化カリウムと沃化カリ
ウムを92:8のモル比で含む水溶液をpAg7.7に
保ちながらコントロールダブルジェット法で10分間か
けて添加した。ついで、硝酸銀55.4gを含む水溶液
476mlと六塩化イリジウムを9μモル/リットルと
臭化カリウムを1モル/リットルで含む水溶液をpAg
7.7に保ちながらコントロールダブルジェット法で3
0分かけて添加した。その後、pHを下げて凝集沈降さ
せ脱塩処理をし、フェノキシエタノール0.1gを加
え、pH5.9、pAg8.2に調整し沃臭化銀粒子
(沃素含量コア8モル%、平均2モル%、平均サイズ
0.05μm、投影面積変動係数8%、(100)面比
率79%の立方体粒子)の調製を終えた。
ラチン22gおよび臭化カリウム30mgを溶解して温
度35℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.
6gを含む水溶液159mlと臭化カリウムと沃化カリ
ウムを92:8のモル比で含む水溶液をpAg7.7に
保ちながらコントロールダブルジェット法で10分間か
けて添加した。ついで、硝酸銀55.4gを含む水溶液
476mlと六塩化イリジウムを9μモル/リットルと
臭化カリウムを1モル/リットルで含む水溶液をpAg
7.7に保ちながらコントロールダブルジェット法で3
0分かけて添加した。その後、pHを下げて凝集沈降さ
せ脱塩処理をし、フェノキシエタノール0.1gを加
え、pH5.9、pAg8.2に調整し沃臭化銀粒子
(沃素含量コア8モル%、平均2モル%、平均サイズ
0.05μm、投影面積変動係数8%、(100)面比
率79%の立方体粒子)の調製を終えた。
【0133】こうして得たハロゲン化粒子を60℃に昇
温して銀1モル当たりチオ硫酸ナトリウム85μモルと
2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルジフェニ
ルフォスフィンセレニドを11μモル、15μモルのテ
ルル化合物1、塩化金酸3.4μモル、チオシアン酸2
60μモルを添加し、120分間熟成した後30℃に急
冷して目的のハロゲン化銀粒子を得た。
温して銀1モル当たりチオ硫酸ナトリウム85μモルと
2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルジフェニ
ルフォスフィンセレニドを11μモル、15μモルのテ
ルル化合物1、塩化金酸3.4μモル、チオシアン酸2
60μモルを添加し、120分間熟成した後30℃に急
冷して目的のハロゲン化銀粒子を得た。
【0134】〈有機酸銀乳剤の調製〉ステアリン酸1.
3g、アラキジン酸0.5g、ベヘン酸8.5g、蒸留
水300mlを90℃で15分間混合し、激しく撹拌し
ながら1N−NaOH水溶液31.1mlを15分かけ
て添加した後、30℃に降温した。次に、1N−リン酸
水溶液7mlを添加し、より激しく撹拌しながらN−ブ
ロモスクシンイミド0.02gを添加した後、あらかじ
め調製したハロゲン化銀粒子をハロゲン化銀量が2.5
mモルとなるように添加した。さらに、1N−硝酸銀水
溶液25mlを2分かけて添加し、そのまま90分間撹
拌し続けた。その後、吸引濾過で固形分を濾別し、固形
分を濾水の伝導度が30μS/cmになるまで水洗し
た。
3g、アラキジン酸0.5g、ベヘン酸8.5g、蒸留
水300mlを90℃で15分間混合し、激しく撹拌し
ながら1N−NaOH水溶液31.1mlを15分かけ
て添加した後、30℃に降温した。次に、1N−リン酸
水溶液7mlを添加し、より激しく撹拌しながらN−ブ
ロモスクシンイミド0.02gを添加した後、あらかじ
め調製したハロゲン化銀粒子をハロゲン化銀量が2.5
mモルとなるように添加した。さらに、1N−硝酸銀水
溶液25mlを2分かけて添加し、そのまま90分間撹
拌し続けた。その後、吸引濾過で固形分を濾別し、固形
分を濾水の伝導度が30μS/cmになるまで水洗し
た。
【0135】この後真空乾燥してハロゲン化銀/有機酸
銀の固体を得た。この固体10gに10wt%のヒドロ
キシプロピルセルロース水溶液40gを添加し、さらに
過臭化臭化ピリジニウム0.1mモルと、臭化カルシウ
ム2水和物0.15モルを添加してホモジナイザーで分
散して平均粒径約1μのハロゲン化銀/有機酸銀の水
(分散物−1)を得た。
銀の固体を得た。この固体10gに10wt%のヒドロ
キシプロピルセルロース水溶液40gを添加し、さらに
過臭化臭化ピリジニウム0.1mモルと、臭化カルシウ
ム2水和物0.15モルを添加してホモジナイザーで分
散して平均粒径約1μのハロゲン化銀/有機酸銀の水
(分散物−1)を得た。
【0136】〈感光層塗布液の調製〉別途、フェニルチ
オスルホン酸を10mg、色素1を60mg、色素2を
30mg、2−メルカプト−5−メチルベンゾイミダゾ
ールを2g、4−クロロベンゾフェノン−2−カルボン
酸21.5g、5−トリブロモメチルスルホニル−2−
メチルチアジアゾール8g、2−トリブロモメチルスル
ホニルベンゾチアゾール6g、1,1−ビス(2−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−ト
リメチルヘキサン150g、4,6−ジトリクロロメチ
ル−2−フェニルトリアジン5g、ジスルフィド化合物
1を2g、テトラクロロフタル酸5gにヒドロキシプロ
ピルセルロース水溶液(10wt%)250gを混合
し、ホモジナイザーで分散して上記化合物の水分散物を
得た。
オスルホン酸を10mg、色素1を60mg、色素2を
30mg、2−メルカプト−5−メチルベンゾイミダゾ
ールを2g、4−クロロベンゾフェノン−2−カルボン
酸21.5g、5−トリブロモメチルスルホニル−2−
メチルチアジアゾール8g、2−トリブロモメチルスル
ホニルベンゾチアゾール6g、1,1−ビス(2−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−ト
リメチルヘキサン150g、4,6−ジトリクロロメチ
ル−2−フェニルトリアジン5g、ジスルフィド化合物
1を2g、テトラクロロフタル酸5gにヒドロキシプロ
ピルセルロース水溶液(10wt%)250gを混合
し、ホモジナイザーで分散して上記化合物の水分散物を
得た。
【0137】この分散物10.3gを分散物−1の50
gと混合して、さらにポリマーラテックス(表1に示
す)、p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを3
mg加え、そこに蒸留水を加え200mlの塗布液を調
製した。なお、PVAはポリビニルアルコールである。
なお、上記において用いた添加化合物は以下に示すもの
である。
gと混合して、さらにポリマーラテックス(表1に示
す)、p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを3
mg加え、そこに蒸留水を加え200mlの塗布液を調
製した。なお、PVAはポリビニルアルコールである。
なお、上記において用いた添加化合物は以下に示すもの
である。
【0138】
【化15】
【0139】 〈表面保護層塗布液の調製〉 石灰処理ゼラチン 4g フタラジン(5wt%水/メタノール=1/1(重量比)溶液で添加) 480mg 4−メチルフタル酸ナトリウム塩(4%水溶液で添加) 240mg ポリマーラテックス(表1に示す) C7F15COONa 20mg p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 20mg 蒸留水を加えて100mlにした。
【0140】〈試料の作製〉2軸延伸した厚さ175μ
mのポリエチレンテレフタレート支持体の一方の面に、
バインダーが1.5g/m2の塗布量になるように下記
バック層塗布液を塗布して50℃で20分間乾燥した。
このようにして1.5μm厚(乾燥膜厚)のバック層を
形成した。
mのポリエチレンテレフタレート支持体の一方の面に、
バインダーが1.5g/m2の塗布量になるように下記
バック層塗布液を塗布して50℃で20分間乾燥した。
このようにして1.5μm厚(乾燥膜厚)のバック層を
形成した。
【0141】さらにこの反対の面に感光層を塗布銀量が
2.3g/m2になるように塗布して50℃で20分間
乾燥した。感光層の厚さは乾燥膜厚で20μmであっ
た。
2.3g/m2になるように塗布して50℃で20分間
乾燥した。感光層の厚さは乾燥膜厚で20μmであっ
た。
【0142】続いて、この上に上記表面保護層塗布液を
バインダー塗布量が2g/m2になるように塗布して、
50℃で20分間乾燥して1.6μm厚に形成した。こ
のようにして試料No.1〜3を得た。
バインダー塗布量が2g/m2になるように塗布して、
50℃で20分間乾燥して1.6μm厚に形成した。こ
のようにして試料No.1〜3を得た。
【0143】 〈バック層塗布液の調製〉 バインダー(MMA(50)−EA(45)−AA(5)のラテックス) 蒸留水 1000g p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 30mg デイナコールEX313(ナガセ化成工業(株)製エポキシ化合物) 100mg 染料a 50mg 染料b 110mg 染料c 40mg 染料d 50mg
【0144】
【化16】
【0145】試料No.1〜3について、さらに以下の
ようにして写真性能を評価した。
ようにして写真性能を評価した。
【0146】〈写真性能の評価〉25℃60%RHの雰
囲気下で、810nmダイオードを備えたレーザー感光
計で感光材料を露光した後、感光材料を120℃25秒
間加熱処理(現像)し、得られた画像の評価(感度とカ
ブリおよび最高濃度(Dmax))を濃度計により行っ
た(常温写真性)。感度はカブリ(最低)濃度(Dmi
n)より0.3高い濃度を与える露光量の比の逆数で評
価し塗布試料No.1を基準として相対評価で表した。
感光材料の露光面と露光レーザー光の角度は80度とし
た。上記の測定は感材試料を24時間25℃60%RH
の雰囲気下に置いた後に行った。
囲気下で、810nmダイオードを備えたレーザー感光
計で感光材料を露光した後、感光材料を120℃25秒
間加熱処理(現像)し、得られた画像の評価(感度とカ
ブリおよび最高濃度(Dmax))を濃度計により行っ
た(常温写真性)。感度はカブリ(最低)濃度(Dmi
n)より0.3高い濃度を与える露光量の比の逆数で評
価し塗布試料No.1を基準として相対評価で表した。
感光材料の露光面と露光レーザー光の角度は80度とし
た。上記の測定は感材試料を24時間25℃60%RH
の雰囲気下に置いた後に行った。
【0147】〈透明性〉下引層塗布後のフィルムの透明
性は、東京電色社製TURBIDIMETERMODE
L T−2600DAでヘイズを測定した。ヘイズ値の
小さいほど透明性が良いことを示し、本発明に係わる写
真感光材料にとって好ましいことを示す。
性は、東京電色社製TURBIDIMETERMODE
L T−2600DAでヘイズを測定した。ヘイズ値の
小さいほど透明性が良いことを示し、本発明に係わる写
真感光材料にとって好ましいことを示す。
【0148】〈すり傷の評価〉フィルムを3.5cm×
30cmの大きさに切り出し、23℃、40%RHの雰
囲気に1時間調湿した後、同条件下で、市販のナイロン
たわし2cm×2cmの大きさに切り、これに400g
の荷重を与えて、試料の上を毎秒30cmの速さで引っ
張って擦った。これらの擦り傷試料を上記の現像処理を
行い、擦り傷のレベルを下記の基準で目視評価した。な
お、擦り傷はハロゲン化銀の黒化(黒化濃度)という現
象でとらえられる。
30cmの大きさに切り出し、23℃、40%RHの雰
囲気に1時間調湿した後、同条件下で、市販のナイロン
たわし2cm×2cmの大きさに切り、これに400g
の荷重を与えて、試料の上を毎秒30cmの速さで引っ
張って擦った。これらの擦り傷試料を上記の現像処理を
行い、擦り傷のレベルを下記の基準で目視評価した。な
お、擦り傷はハロゲン化銀の黒化(黒化濃度)という現
象でとらえられる。
【0149】(基準) 5:全く擦り傷による黒化はない 4:極く低い濃度の擦り傷状スジが 3:極くわずか擦り傷の低い濃度の黒化が見られる 2:濃度は低いが、全体に擦り傷の黒化が見られる 1:濃度が高く、全体に擦り傷により黒く見える 0:全体が高い濃度の擦り傷に覆われ、真っ黒になって
いる。
いる。
【0150】〈画像保存性〉 (経時保存性の評価)各試料を25℃−50%RHの条
件下1日放置し、感光材料それぞれ10枚ずつを防湿材
料でできた袋の中に密閉し、さらに35.1cm×2
6.9cm×3.0cmの化粧箱に入れ、60℃で5日
間経時した(強制経時)。この試料と比較用に保存温度
を4℃とした以外は強制経時と同様にした試料とを写真
性の評価に用いたものと同じ処理を行い、カブリ部分の
濃度を測定した。自然経時性はカブリ増加率として評価
した。
件下1日放置し、感光材料それぞれ10枚ずつを防湿材
料でできた袋の中に密閉し、さらに35.1cm×2
6.9cm×3.0cmの化粧箱に入れ、60℃で5日
間経時した(強制経時)。この試料と比較用に保存温度
を4℃とした以外は強制経時と同様にした試料とを写真
性の評価に用いたものと同じ処理を行い、カブリ部分の
濃度を測定した。自然経時性はカブリ増加率として評価
した。
【0151】(カブリ増加率)={[(強制経時試料の
カブリ)−(比較試料のカブリ)]/[(比較試料の最
高濃度)−(支持体濃度)]}×100 カブリ増加率が低いほど自然経時性に優れることを示
す。
カブリ)−(比較試料のカブリ)]/[(比較試料の最
高濃度)−(支持体濃度)]}×100 カブリ増加率が低いほど自然経時性に優れることを示
す。
【0152】(光照射画像保存性評価)写真性評価と同
様に露光現像した感光材料を、直接日光があたる窓ガラ
スの内側に張り付け1ヶ月間放置した後の画像の様子を
下記の基準で目視評価した。
様に露光現像した感光材料を、直接日光があたる窓ガラ
スの内側に張り付け1ヶ月間放置した後の画像の様子を
下記の基準で目視評価した。
【0153】(基準) ◎・・・殆ど変化がない ○・・・僅かに色調変化があるが気にならない △・・・画像部での変色があるが実用的に許容されるレ
ベル ×・・・Dmin部が変色し濃度が上がり不可。
ベル ×・・・Dmin部が変色し濃度が上がり不可。
【0154】
【表1】
【0155】表1から、本発明のポリマーラテックスを
添加した試料は、写真性能を悪化することなく、擦り傷
耐性、画像保存性の向上した熱現像銀塩感材であること
が分かる。
添加した試料は、写真性能を悪化することなく、擦り傷
耐性、画像保存性の向上した熱現像銀塩感材であること
が分かる。
【0156】実施例2 〈ポリマーラテックスLX−2の合成〉1,000ml
の4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴下ロート、窒素
導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入し脱酸素を
行いつつ蒸留水350ccを加えて内温が80℃となる
まで加熱した。分散剤としてドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム1gを添加し、さらに開始剤として過硫酸
アンモニウム0.45gを添加し、次いでシクロヘキシ
ルメタクリレート85g、グリシジルメタクリレート5
gを滴下ロートで約1時間かけて滴下する。滴下終了後
4時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応モ
ノマーを除去する。その後冷却しアンモニア水でpH6
に調整し疎水性ポリマー粒子を得る。得られたラテック
ス液をWhatman社製GF/Dフィルターで濾別し
た。
の4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴下ロート、窒素
導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入し脱酸素を
行いつつ蒸留水350ccを加えて内温が80℃となる
まで加熱した。分散剤としてドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム1gを添加し、さらに開始剤として過硫酸
アンモニウム0.45gを添加し、次いでシクロヘキシ
ルメタクリレート85g、グリシジルメタクリレート5
gを滴下ロートで約1時間かけて滴下する。滴下終了後
4時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応モ
ノマーを除去する。その後冷却しアンモニア水でpH6
に調整し疎水性ポリマー粒子を得る。得られたラテック
ス液をWhatman社製GF/Dフィルターで濾別し
た。
【0157】〈ポリマーラテックスLX−3の合成〉
1,000mlの4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴
下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを
導入し脱酸素を行いつつ蒸留水350ccを加えて内温
が80℃となるまで加熱した。分散剤として本発明に係
わる化合物P−10の4.5gを添加し、さらに開始剤
として過硫酸アンモニウム0.45gを添加し、次いで
シクロヘキシルメタクリレート85g、グリシジルメタ
クリレート5gを滴下ロートで約1時間かけて滴下す
る。滴下終了後4時間そのまま反応を続けた後、水蒸気
蒸留で未反応モノマーを除去する。その後冷却しアンモ
ニア水でpH6に調整し疎水性ポリマー粒子を得る。得
られたラテックス液をWhatman社製GF/Dフィ
ルターで濾別した。
1,000mlの4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴
下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを
導入し脱酸素を行いつつ蒸留水350ccを加えて内温
が80℃となるまで加熱した。分散剤として本発明に係
わる化合物P−10の4.5gを添加し、さらに開始剤
として過硫酸アンモニウム0.45gを添加し、次いで
シクロヘキシルメタクリレート85g、グリシジルメタ
クリレート5gを滴下ロートで約1時間かけて滴下す
る。滴下終了後4時間そのまま反応を続けた後、水蒸気
蒸留で未反応モノマーを除去する。その後冷却しアンモ
ニア水でpH6に調整し疎水性ポリマー粒子を得る。得
られたラテックス液をWhatman社製GF/Dフィ
ルターで濾別した。
【0158】ポリマーラテックスを表2に示す内容に変
更した以外は、実施例1と同様に試料4〜7を作製し
た。
更した以外は、実施例1と同様に試料4〜7を作製し
た。
【0159】〈ブロッキング性〉直径50mmのコアに
2枚のフィルム(巾35mm、長さ100mm)の処理
面同士を重合わせ、1kgの荷重をかけて、巻きつけ
る。23℃、RH55%の雰囲気下で24時間放置後、
剥離し、その状況を5段階評価する。
2枚のフィルム(巾35mm、長さ100mm)の処理
面同士を重合わせ、1kgの荷重をかけて、巻きつけ
る。23℃、RH55%の雰囲気下で24時間放置後、
剥離し、その状況を5段階評価する。
【0160】(基準) ○ :全く抵抗なく剥離できる ○△:軽い音がして剥離できる △ :剥離できるが押され様の跡が残る △×:剥離できるが部分的に粘着している × :粘着して剥離不能。
【0161】評価結果を表2に示す。
【0162】
【表2】
【0163】表2から、本発明のポリマーラテックスを
添加した試料は、写真性能を悪化することなく、擦り傷
耐性、画像保存性及びブロッキング性の向上した熱現像
銀塩感材であることが分かる。
添加した試料は、写真性能を悪化することなく、擦り傷
耐性、画像保存性及びブロッキング性の向上した熱現像
銀塩感材であることが分かる。
【0164】実施例3 〈ポリマーラテックスLX−4の合成〉1,000ml
の4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴下ロート、窒素
導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入し脱酸素を
行いつつ蒸留水350ccを加えて内温が80℃となる
まで加熱した。分散剤としてドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム1gを添加し、さらに開始剤として過硫酸
アンモニウム0.45gを添加し、次いでスチレン80
g、本発明の活性メチレン基を有するモノマーM−1の
10gを滴下ロートで約1時間かけて滴下する。滴下終
了後4時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反
応モノマーを除去する。その後冷却しアンモニア水でp
H6に調整し疎水性ポリマー粒子を得る。得られたラテ
ックス液をWhatman社製GF/Dフィルターで濾
別した。
の4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴下ロート、窒素
導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入し脱酸素を
行いつつ蒸留水350ccを加えて内温が80℃となる
まで加熱した。分散剤としてドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム1gを添加し、さらに開始剤として過硫酸
アンモニウム0.45gを添加し、次いでスチレン80
g、本発明の活性メチレン基を有するモノマーM−1の
10gを滴下ロートで約1時間かけて滴下する。滴下終
了後4時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反
応モノマーを除去する。その後冷却しアンモニア水でp
H6に調整し疎水性ポリマー粒子を得る。得られたラテ
ックス液をWhatman社製GF/Dフィルターで濾
別した。
【0165】〈ポリマーラテックスLX−5の合成〉
1,000mlの4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴
下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを
導入し脱酸素を行いつつ蒸留水350ccを加えて内温
が80℃となるまで加熱した。分散剤として本発明に係
わる化合物P−10の4.5gを添加し、さらに開始剤
として過硫酸アンモニウム0.45gを添加し、次いで
スチレン80g、本発明に係わる化合物M−1の10g
を滴下ロートで約1時間かけて滴下する。滴下終了後4
時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応モノ
マーを除去する。その後冷却しアンモニア水でpH6に
調整し疎水性ポリマー粒子を得る。得られたラテックス
液をWhatman社製GF/Dフィルターで濾別し
た。
1,000mlの4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴
下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを
導入し脱酸素を行いつつ蒸留水350ccを加えて内温
が80℃となるまで加熱した。分散剤として本発明に係
わる化合物P−10の4.5gを添加し、さらに開始剤
として過硫酸アンモニウム0.45gを添加し、次いで
スチレン80g、本発明に係わる化合物M−1の10g
を滴下ロートで約1時間かけて滴下する。滴下終了後4
時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応モノ
マーを除去する。その後冷却しアンモニア水でpH6に
調整し疎水性ポリマー粒子を得る。得られたラテックス
液をWhatman社製GF/Dフィルターで濾別し
た。
【0166】ポリマーラテックスを表3に示す内容に変
更した以外は、実施例1と同様に試料8〜11を作製し
た。
更した以外は、実施例1と同様に試料8〜11を作製し
た。
【0167】〈接着性〉フィルムの保護層に45℃の傾
きの切り傷を剃刀で入れ、セロテープを圧着し、急激に
引き剥しその時剥離した保護層の面積を5段階で評価し
た。
きの切り傷を剃刀で入れ、セロテープを圧着し、急激に
引き剥しその時剥離した保護層の面積を5段階で評価し
た。
【0168】(基準) × :完全に剥離される(接着力は非常に弱い) △×:50%以上剥離 △ :10〜50%剥離 ○△:剥離10%未満(接着力はかなり強い) ○ :剥離0%(接着力は非常に強い) 評価○△以上ならば実用上充分な接着性であるとみなさ
れる。
れる。
【0169】評価結果を表3に示す。
【0170】
【表3】
【0171】表3から、本発明のポリマーラテックスを
添加した試料は、写真性能を悪化することなく、擦り傷
耐性、接着性の向上した熱現像銀塩感材であることが分
かる。
添加した試料は、写真性能を悪化することなく、擦り傷
耐性、接着性の向上した熱現像銀塩感材であることが分
かる。
【0172】実施例4 〈ポリマーラテックスLX−6の合成〉 コア=ポリブタジエン(単独重合体)、シェル=スチレ
ン/グリシジルメタクリレート(84/16)のコア/
シェルラテックス(コア/シェル比=50/50)の合
成 撹拌装置、還流冷却管を装着した1リットル三ツ口フラ
スコに、亜硫酸水素ナトリウム0.28g、炭酸水素ナ
トリウムの1モル/リットル溶液3.52g、蒸留水4
54gを入れ、撹拌溶解した後、ポリスチレンブタジエ
ンラテックス(粒子径112nm、固型分34.3重量
%:日本ゼオン(株)商品名、LX−111J)29
4.1gを入れ、窒素気流下65℃に加熱撹拌した。
ン/グリシジルメタクリレート(84/16)のコア/
シェルラテックス(コア/シェル比=50/50)の合
成 撹拌装置、還流冷却管を装着した1リットル三ツ口フラ
スコに、亜硫酸水素ナトリウム0.28g、炭酸水素ナ
トリウムの1モル/リットル溶液3.52g、蒸留水4
54gを入れ、撹拌溶解した後、ポリスチレンブタジエ
ンラテックス(粒子径112nm、固型分34.3重量
%:日本ゼオン(株)商品名、LX−111J)29
4.1gを入れ、窒素気流下65℃に加熱撹拌した。
【0173】過硫酸カリウム0.32gを蒸留水20g
にとかしたものを添加した後、スチレン84.0g、グ
リシジルメタクリレート16.0gの混合液、及び過硫
酸カリウム0.16gを蒸留水50gにとかした液をそ
れぞれ1.5時間で滴下が完了するように等速で滴下を
開始した。
にとかしたものを添加した後、スチレン84.0g、グ
リシジルメタクリレート16.0gの混合液、及び過硫
酸カリウム0.16gを蒸留水50gにとかした液をそ
れぞれ1.5時間で滴下が完了するように等速で滴下を
開始した。
【0174】滴下終了後、1時間加熱撹拌を行ったの
ち、過硫酸カリウム0.16gを蒸留水20gに溶かし
た液を加えさらに3時間加熱撹拌を続けた。室温まで冷
却、濾過して目的のコア/シェルラテックスを得た。
ち、過硫酸カリウム0.16gを蒸留水20gに溶かし
た液を加えさらに3時間加熱撹拌を続けた。室温まで冷
却、濾過して目的のコア/シェルラテックスを得た。
【0175】〈ポリマーラテックスLX−7の合成〉 コア=ポリブタジエン(単独重合体)、シェル=スチレ
ン/本発明に係わる化合物M−1(84/16)のコア
/シェルラテックス(コア/シェル比=50/50)の
合成 撹拌装置、還流冷却管を装着した1リットル三ツ口フラ
スコに、亜硫酸水素ナトリウム0.28g、炭酸水素ナ
トリウムの1モル/リットル溶液3.52g、蒸留水4
54gを入れ、撹拌溶解した後、ポリスチレンブタジエ
ンラテックス(粒子径112nm、固型分34.3重量
%:日本ゼオン(株)商品名、LX−111J)29
4.1gを入れ、窒素気流下65℃に加熱撹拌した。
ン/本発明に係わる化合物M−1(84/16)のコア
/シェルラテックス(コア/シェル比=50/50)の
合成 撹拌装置、還流冷却管を装着した1リットル三ツ口フラ
スコに、亜硫酸水素ナトリウム0.28g、炭酸水素ナ
トリウムの1モル/リットル溶液3.52g、蒸留水4
54gを入れ、撹拌溶解した後、ポリスチレンブタジエ
ンラテックス(粒子径112nm、固型分34.3重量
%:日本ゼオン(株)商品名、LX−111J)29
4.1gを入れ、窒素気流下65℃に加熱撹拌した。
【0176】過硫酸カリウム0.32gを蒸留水20g
にとかしたものを添加した後、スチレン84.0g、本
発明に係わる化合物M−1の16.0gの混合液、及び
過硫酸カリウム0.16gを蒸留水50gにとかした液
をそれぞれ1.5時間で滴下が完了するように等速で滴
下を開始した。
にとかしたものを添加した後、スチレン84.0g、本
発明に係わる化合物M−1の16.0gの混合液、及び
過硫酸カリウム0.16gを蒸留水50gにとかした液
をそれぞれ1.5時間で滴下が完了するように等速で滴
下を開始した。
【0177】滴下終了後、1時間加熱撹拌を行ったの
ち、過硫酸カリウム0.16gを蒸留水20gに溶かし
た液を加えさらに3時間加熱撹拌を続けた。室温まで冷
却、濾過して目的のコア/シェルラテックスを得た。
ち、過硫酸カリウム0.16gを蒸留水20gに溶かし
た液を加えさらに3時間加熱撹拌を続けた。室温まで冷
却、濾過して目的のコア/シェルラテックスを得た。
【0178】ポリマーラテックスを表4に示す内容に変
更した以外は、実施例1と同様に試料12〜15を作製
した。評価結果を表4に示す。
更した以外は、実施例1と同様に試料12〜15を作製
した。評価結果を表4に示す。
【0179】
【表4】
【0180】表4から、本発明のポリマーラテックスを
添加した試料は、写真性能、透明性を悪化することな
く、擦り傷耐性、接着性の向上した熱現像銀塩感材であ
ることが分かる。
添加した試料は、写真性能、透明性を悪化することな
く、擦り傷耐性、接着性の向上した熱現像銀塩感材であ
ることが分かる。
【0181】実施例5 〈ポリマーラテックスLX−8〉1000mlの4つ口
フラスコに攪拌器、温度計、滴下ロート、窒素導入管、
還流冷却器を取り付け、窒素ガスを導入して脱酸素を行
いつつ、蒸留水360cc、30重量%のコロイダルシ
リカ分散物(平均粒径12nm)126gを加え、内部
の温度が80℃となるまで加熱した。ドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム1gを添加し、開始剤として過硫
酸アンモニウム0.023gを添加し、次いでピバリン
酸ビニル12.6gを添加して、4時間反応させた。そ
の後冷却し水酸化ナトリウム溶液でpHを6に調整し
た。得られたラテックス液をWhatman社製GF/
Dフィルターで濾別した。
フラスコに攪拌器、温度計、滴下ロート、窒素導入管、
還流冷却器を取り付け、窒素ガスを導入して脱酸素を行
いつつ、蒸留水360cc、30重量%のコロイダルシ
リカ分散物(平均粒径12nm)126gを加え、内部
の温度が80℃となるまで加熱した。ドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム1gを添加し、開始剤として過硫
酸アンモニウム0.023gを添加し、次いでピバリン
酸ビニル12.6gを添加して、4時間反応させた。そ
の後冷却し水酸化ナトリウム溶液でpHを6に調整し
た。得られたラテックス液をWhatman社製GF/
Dフィルターで濾別した。
【0182】〈ポリマーラテックスLX−9〉1000
mlの4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴下ロート、
窒素導入管、還流冷却器を取り付け、窒素ガスを導入し
て脱酸素を行いつつ、蒸留水360cc、30重量%の
コロイダルシリカ分散物(平均粒径12nm)126g
を加え、内部の温度が80℃となるまで加熱した。本発
明の化合物P−10の5gを添加し、開始剤として過硫
酸アンモニウム0.023gを添加し、次いでピバリン
酸ビニル12.6gを添加して、4時間反応させた。そ
の後冷却し水酸化ナトリウム溶液でpHを6に調整し
た。得られたラテックス液をWhatman社製GF/
Dフィルターで濾別した。
mlの4つ口フラスコに攪拌器、温度計、滴下ロート、
窒素導入管、還流冷却器を取り付け、窒素ガスを導入し
て脱酸素を行いつつ、蒸留水360cc、30重量%の
コロイダルシリカ分散物(平均粒径12nm)126g
を加え、内部の温度が80℃となるまで加熱した。本発
明の化合物P−10の5gを添加し、開始剤として過硫
酸アンモニウム0.023gを添加し、次いでピバリン
酸ビニル12.6gを添加して、4時間反応させた。そ
の後冷却し水酸化ナトリウム溶液でpHを6に調整し
た。得られたラテックス液をWhatman社製GF/
Dフィルターで濾別した。
【0183】ポリマーラテックスを表5に示す内容に変
更した以外は、実施例1と同様に試料16〜19を作製
した。評価結果を表5に示す。
更した以外は、実施例1と同様に試料16〜19を作製
した。評価結果を表5に示す。
【0184】
【表5】
【0185】表5から、本発明のポリマーラテックスを
添加した試料は、写真性能を悪化することなく、擦り傷
耐性、ブロッキング性の向上した熱現像銀塩感材である
ことが分かる。
添加した試料は、写真性能を悪化することなく、擦り傷
耐性、ブロッキング性の向上した熱現像銀塩感材である
ことが分かる。
【0186】
【発明の効果】本発明により、熱現像感材にポリマーラ
テックスを添加することにより、写真性能、透明性を悪
化させることなく、すり傷耐性、画像保存性、ブロッキ
ング性が向上する効果があることが分かった。
テックスを添加することにより、写真性能、透明性を悪
化させることなく、すり傷耐性、画像保存性、ブロッキ
ング性が向上する効果があることが分かった。
Claims (7)
- 【請求項1】 感光層側の少なくとも1層にポリマーラ
テックスを含有することを特徴とする熱現像銀塩感材。 - 【請求項2】 感光層側の少なくとも1層に、下記一般
式(I)で表される繰り返し構造を有する水溶性ポリマ
ーを含むポリマーラテックスを含有することを特徴とす
る熱現像銀塩感材。 【化1】 〔式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6は水素原子、炭
素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数6〜20のア
リール基または−SO3Xであり、ここでXは水素原
子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アンモ
ニウム基またはアミノ基であり、R1,R2,R3,R4,
R5,R6の少なくとも1つは−SO3Xである。〕 - 【請求項3】 感光層側の少なくとも1層に、25℃に
おける水に対する溶解度が0〜0.025重量%以下で
ある少なくとも1種の単量体を単位とするポリマーラテ
ックスを含有することを特徴とする熱現像銀塩感材。 - 【請求項4】 感光層側の少なくとも1層に、25℃に
おける水に対する溶解度が0〜0.025重量%以下で
ある少なくとも1種の単量体を単位とするポリマーラテ
ックスを含有し、かつ、上記一般式(I)で表される繰
り返し構造を有する水溶性ポリマーを含むポリマーラテ
ックスを含有することを特徴とする熱現像銀塩感材。 - 【請求項5】 感光層側の少なくとも1層に、活性メチ
レン基を有するポリマーラテックスを含有することを特
徴とする熱現像銀塩感材。 - 【請求項6】 感光層側の少なくとも1層に、コア/シ
ェル構造を持つポリマーラテックスを含有することを特
徴とする熱現像銀塩感材。 - 【請求項7】 感光層側の少なくとも1層に、無機微粒
子の存在下で重合したポリマーラテックスを含有するこ
とを特徴とする熱現像銀塩感材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11028582A JP2000227643A (ja) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | 熱現像銀塩感材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11028582A JP2000227643A (ja) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | 熱現像銀塩感材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000227643A true JP2000227643A (ja) | 2000-08-15 |
Family
ID=12252606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11028582A Pending JP2000227643A (ja) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | 熱現像銀塩感材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000227643A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002189269A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-07-05 | Eastman Kodak Co | 表面障壁層を含む熱現像性画像形成材料 |
| US7488570B2 (en) * | 2003-12-16 | 2009-02-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of forming metal pattern having low resistivity |
-
1999
- 1999-02-05 JP JP11028582A patent/JP2000227643A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002189269A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-07-05 | Eastman Kodak Co | 表面障壁層を含む熱現像性画像形成材料 |
| US7488570B2 (en) * | 2003-12-16 | 2009-02-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of forming metal pattern having low resistivity |
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