JP2000296544A - 光学的記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 比較的安価に高品質プラスチックシートを製
造でき、得られたプラスチックシートが、光学的および
電子的ディスプレー用途の基体として使用できる、プラ
スチックシートの連続的製造方法の提供。 【解決手段】 高品質プラスチックシートの１以上の
層、該シートの少なくとも１つの面に配置された反射性
または半反射性の層、および任意に該シートの少なくと
も１つの面に配置された保護層を有する光学的記憶媒体
であって、該プラスチックシートが、（ａ）溶融プラス
チック樹脂を提供する工程；（ｂ）この溶融プラスチッ
ク樹脂を、入口および出口を有するオーバーフローダイ
に導く工程；（ｃ）溶融プラスチック樹脂を、前記オー
バーフローダイを使用して溶融ウェブに成形する工程；
（ｄ）前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウェ
ブを導く工程；および（ｅ）前記溶融ウェブを冷却して
固体シートを形成する工程を含む方法によって製造され
る光学的記憶媒体
造でき、得られたプラスチックシートが、光学的および
電子的ディスプレー用途の基体として使用できる、プラ
スチックシートの連続的製造方法の提供。 【解決手段】 高品質プラスチックシートの１以上の
層、該シートの少なくとも１つの面に配置された反射性
または半反射性の層、および任意に該シートの少なくと
も１つの面に配置された保護層を有する光学的記憶媒体
であって、該プラスチックシートが、（ａ）溶融プラス
チック樹脂を提供する工程；（ｂ）この溶融プラスチッ
ク樹脂を、入口および出口を有するオーバーフローダイ
に導く工程；（ｃ）溶融プラスチック樹脂を、前記オー
バーフローダイを使用して溶融ウェブに成形する工程；
（ｄ）前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウェ
ブを導く工程；および（ｅ）前記溶融ウェブを冷却して
固体シートを形成する工程を含む方法によって製造され
る光学的記憶媒体
Description
【０００１】本発明は、プラスチックシートを形成する
ための方法および装置に関する。特に、本発明は、低残
留応力および高い表面品質を有するプラスチックシート
を形成するための方法および装置に関する。本発明方法
により形成されるプラスチックシートは、例えば、光窓
（ｏｐｔｉｃａｌ ｗｉｎｄｏｗ）、光学フィルター、
記録用媒体、および液晶ディスプレー（ＬＣＤ）のよう
な、光学的および電子的ディスプレー用途において特に
有用である。
ための方法および装置に関する。特に、本発明は、低残
留応力および高い表面品質を有するプラスチックシート
を形成するための方法および装置に関する。本発明方法
により形成されるプラスチックシートは、例えば、光窓
（ｏｐｔｉｃａｌ ｗｉｎｄｏｗ）、光学フィルター、
記録用媒体、および液晶ディスプレー（ＬＣＤ）のよう
な、光学的および電子的ディスプレー用途において特に
有用である。
【０００２】光学的品質のガラスまたは石英のシート
は、「基体（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）」として電子的ディ
スプレー用途に使用される。そのような用途において
は、「基体」は電子的ディスプレーを造るために使用さ
れる物質のシートである。そのような基体は、透明、半
透明または不透明であることができるが、典型的には透
明である。一般的に、そのようなシートは、導電性被覆
物を施した後に基体として使用される。そのような基体
は、しばしば、光学的透明性、平滑性および最小の複屈
折のための厳しい規格を有し、典型的には、ガスおよび
溶剤の浸透に対して高い抵抗性を有していなければなら
ない。また、可撓性、対衝撃性、硬度およびひっかき抵
抗性のような機械的性質も重要な考慮すべき事項であ
る。ガラスまたは石英のシートは、これらの物質が光学
的および平滑性についての必要条件を満足させることが
可能であり、かつ良好な耐熱性および耐薬品性およびバ
リヤー性を有しているので、ディスプレー用途に使用さ
れてきた。しかし、これらの物質は、いくつかの所望さ
れる機械的性質、特に、低密度、可撓性および耐衝撃性
を有していない。
は、「基体（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）」として電子的ディ
スプレー用途に使用される。そのような用途において
は、「基体」は電子的ディスプレーを造るために使用さ
れる物質のシートである。そのような基体は、透明、半
透明または不透明であることができるが、典型的には透
明である。一般的に、そのようなシートは、導電性被覆
物を施した後に基体として使用される。そのような基体
は、しばしば、光学的透明性、平滑性および最小の複屈
折のための厳しい規格を有し、典型的には、ガスおよび
溶剤の浸透に対して高い抵抗性を有していなければなら
ない。また、可撓性、対衝撃性、硬度およびひっかき抵
抗性のような機械的性質も重要な考慮すべき事項であ
る。ガラスまたは石英のシートは、これらの物質が光学
的および平滑性についての必要条件を満足させることが
可能であり、かつ良好な耐熱性および耐薬品性およびバ
リヤー性を有しているので、ディスプレー用途に使用さ
れてきた。しかし、これらの物質は、いくつかの所望さ
れる機械的性質、特に、低密度、可撓性および耐衝撃性
を有していない。
【０００３】光学的またはディスプレー用途におけるガ
ラスシートまたは石英シートの機械的限界のために、そ
のような用途にプラスチックシートを使用することが望
ましい。プラスチックシートは、等しい厚さのガラスシ
ートまたは石英シートよりも、より大きい可撓性を有
し、破損に対してより大きな抵抗性があり、そしてより
軽量であるが、妥当なコストで光学的用途およびディス
プレー用途に使用するために要求される必要な光学的特
性を有するプラスチックシートを造ることは非常に難し
かった。更に、多くのタイプのプラスチックシートは、
ディスプレー装置の製造中における加工条件、特に温度
についてかかる加工条件に基体を暴露したときに許容で
きない寸法のゆがみを与える。
ラスシートまたは石英シートの機械的限界のために、そ
のような用途にプラスチックシートを使用することが望
ましい。プラスチックシートは、等しい厚さのガラスシ
ートまたは石英シートよりも、より大きい可撓性を有
し、破損に対してより大きな抵抗性があり、そしてより
軽量であるが、妥当なコストで光学的用途およびディス
プレー用途に使用するために要求される必要な光学的特
性を有するプラスチックシートを造ることは非常に難し
かった。更に、多くのタイプのプラスチックシートは、
ディスプレー装置の製造中における加工条件、特に温度
についてかかる加工条件に基体を暴露したときに許容で
きない寸法のゆがみを与える。
【０００４】プラスチックシートおよびフィルムを製造
するために、キャスティング、押し出し、成形、延伸を
はじめとする、いくつかの工業上に利用されている方法
がある。これらの方法の内で、いくつかは高品質のプラ
スチックシートを製造するのに適当でない。本明細書を
通して使用されている用語「高品質」は、次の特性を有
するプラスチックシートを記述するのに用いられてい
る：小さな表面あらさ（ｌｏｗ ｓｕｒｆａｃｅ ｒｏ
ｕｇｈｎｅｓｓ）、小さな波打ち（ｌｏｗ ｗａｖｉｎ
ｅｓｓ）、小さな厚さ変動、および最小限のポリマー鎖
の配向（例えば、非対称な（ａｓｙｎｍｅｔｒｉｃ）物
理的性質、複屈折または熱収縮によって測定される）。
するために、キャスティング、押し出し、成形、延伸を
はじめとする、いくつかの工業上に利用されている方法
がある。これらの方法の内で、いくつかは高品質のプラ
スチックシートを製造するのに適当でない。本明細書を
通して使用されている用語「高品質」は、次の特性を有
するプラスチックシートを記述するのに用いられてい
る：小さな表面あらさ（ｌｏｗ ｓｕｒｆａｃｅ ｒｏ
ｕｇｈｎｅｓｓ）、小さな波打ち（ｌｏｗ ｗａｖｉｎ
ｅｓｓ）、小さな厚さ変動、および最小限のポリマー鎖
の配向（例えば、非対称な（ａｓｙｎｍｅｔｒｉｃ）物
理的性質、複屈折または熱収縮によって測定される）。
【０００５】例えば、射出形成法は、溶融プラスチック
の金型の中への流れに起因して、特に薄いシート（例え
ば、１ｍｍの厚さまたはそれ以下）において、多量のポ
リマー鎖配向を生じさせ、許容できないほど複屈折を増
加させ、無視できない光弾性（光学的ストレス）係数を
有するポリマーを生じやすい。射出圧縮成形法は、表面
の品質を改良し、ポリマー鎖の配向を減少させるため
に、射出後のポリマーをスクィーズ（ｓｑｕｅｅｚｉｎ
ｇ）させる改良された成形方法である。しかし、これら
の改良をしてさえ、射出圧縮成形方法の高品質シート製
造能力は限られたものである。
の金型の中への流れに起因して、特に薄いシート（例え
ば、１ｍｍの厚さまたはそれ以下）において、多量のポ
リマー鎖配向を生じさせ、許容できないほど複屈折を増
加させ、無視できない光弾性（光学的ストレス）係数を
有するポリマーを生じやすい。射出圧縮成形法は、表面
の品質を改良し、ポリマー鎖の配向を減少させるため
に、射出後のポリマーをスクィーズ（ｓｑｕｅｅｚｉｎ
ｇ）させる改良された成形方法である。しかし、これら
の改良をしてさえ、射出圧縮成形方法の高品質シート製
造能力は限られたものである。
【０００６】圧縮成形法およびプレスつや出し法は、良
好な表面品質を有するシートを製造するのに使用でき
る。しかし、そのような方法に固有なスクィーズ流れ
は、ポリマー鎖の配向をもたらし、熱サイクル中に許容
できない収縮を生じる。更に、これらの方法は連続的に
操作できず、それ故、労務コストおよび製造コストが増
加する。例えば、一軸延伸フィルムまたは二軸延伸フィ
ルムのための、延伸操作およびインフレーション法（ｂ
ｌｏｗｎ ｆｉｌｍ ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ）は、大量の
ポリマー鎖の配向を生じ、高品質のプラスチックシート
を製造するには不適当である。ソルベントキャスト法
は、高品質フィルムを製造するのに使用することができ
る。しかし、この方法によって製造できるフィルムの最
大の厚さには実施上の制限がある。更に、キャスティン
グに使用する溶剤はシートの形成後に除かなければなら
ない。シート押し出し法は、連続操作として行われる
が、この方法は、ダイおよびロールスタック（ｒｏｌｌ
ｓｔａｃｋ）におけるつや出しローラーの間における
ポリマー流れに起因して、許容できないポリマー鎖の配
向を生じる。それ故、連続法において、比較的安価に高
品質プラスチックシートを製造でき、得られたプラスチ
ックシートが、光学的および電子的ディスプレー用途の
基体として使用できる、プラスチックシートの製造方法
が求められている。
好な表面品質を有するシートを製造するのに使用でき
る。しかし、そのような方法に固有なスクィーズ流れ
は、ポリマー鎖の配向をもたらし、熱サイクル中に許容
できない収縮を生じる。更に、これらの方法は連続的に
操作できず、それ故、労務コストおよび製造コストが増
加する。例えば、一軸延伸フィルムまたは二軸延伸フィ
ルムのための、延伸操作およびインフレーション法（ｂ
ｌｏｗｎ ｆｉｌｍ ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ）は、大量の
ポリマー鎖の配向を生じ、高品質のプラスチックシート
を製造するには不適当である。ソルベントキャスト法
は、高品質フィルムを製造するのに使用することができ
る。しかし、この方法によって製造できるフィルムの最
大の厚さには実施上の制限がある。更に、キャスティン
グに使用する溶剤はシートの形成後に除かなければなら
ない。シート押し出し法は、連続操作として行われる
が、この方法は、ダイおよびロールスタック（ｒｏｌｌ
ｓｔａｃｋ）におけるつや出しローラーの間における
ポリマー流れに起因して、許容できないポリマー鎖の配
向を生じる。それ故、連続法において、比較的安価に高
品質プラスチックシートを製造でき、得られたプラスチ
ックシートが、光学的および電子的ディスプレー用途の
基体として使用できる、プラスチックシートの製造方法
が求められている。
【０００７】本発明は、高品質プラスチックシートの１
以上の層、該シートの少なくとも１つの面に配置された
反射性または半反射性の層、および任意に該シートの少
なくとも１つの面に配置された保護層を有する光学的記
憶媒体（ｏｐｔｉｃａｌ ｓｔｏｒａｇｅ ｍｅｄｉｕ
ｍ）であって、該プラスチックシートが以下の工程を含
む方法によって製造される光学的記憶媒体： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程；および （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程、を提供する。
以上の層、該シートの少なくとも１つの面に配置された
反射性または半反射性の層、および任意に該シートの少
なくとも１つの面に配置された保護層を有する光学的記
憶媒体（ｏｐｔｉｃａｌ ｓｔｏｒａｇｅ ｍｅｄｉｕ
ｍ）であって、該プラスチックシートが以下の工程を含
む方法によって製造される光学的記憶媒体： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程；および （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程、を提供する。
【０００８】本発明はさらに、 （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供するためのソー
ス； （ｂ） 長さおよび幅を有するオーバーフローダイであ
って、前記ダイは、頂点に達する実質的に卵形の断面、
導管の開口、および前記導管の開口と連結した計量装置
を含み、溶融プラスチック樹脂は、導管の開口を通って
ダイの中に流れ、計量装置を通ってダイの外へ流れ、そ
してダイの側面のまわりに流れて、前記頂点において溶
融ウェブを形成する、前記のダイ； （ｃ） 前記ソースから前記オーバーフローダイに、前
記溶融プラスチック樹脂を送出するための手段； （ｄ） 前記溶融ウェブを、前記オーバーフローダイか
ら遠くに導くための誘導手段、 （ｅ） 前記の送出手段とオ−バ−フローダイの間に配
置された濾過手段、および （ｆ） 前記の濾過手段とオ−バ−フローダイの間に配
置された混合手段を包む、高品質のプラスチックシート
を製造するための装置、も提供する。
ス； （ｂ） 長さおよび幅を有するオーバーフローダイであ
って、前記ダイは、頂点に達する実質的に卵形の断面、
導管の開口、および前記導管の開口と連結した計量装置
を含み、溶融プラスチック樹脂は、導管の開口を通って
ダイの中に流れ、計量装置を通ってダイの外へ流れ、そ
してダイの側面のまわりに流れて、前記頂点において溶
融ウェブを形成する、前記のダイ； （ｃ） 前記ソースから前記オーバーフローダイに、前
記溶融プラスチック樹脂を送出するための手段； （ｄ） 前記溶融ウェブを、前記オーバーフローダイか
ら遠くに導くための誘導手段、 （ｅ） 前記の送出手段とオ−バ−フローダイの間に配
置された濾過手段、および （ｆ） 前記の濾過手段とオ−バ−フローダイの間に配
置された混合手段を包む、高品質のプラスチックシート
を製造するための装置、も提供する。
【０００９】本発明はさらに、シートの少なくとも１つ
の面に配置された電子部品を有する高品質プラスチック
シートを含む液晶ディスプレイ用の基体であって、該プ
ラスチックシートが以下の工程を含む方法によって製造
される基体： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程；および （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程、ここでプラスチック樹脂がポリカーボネートの
時には、ビスフェノール成分として（１）１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル
シクロヘキサン；（２）２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパンと１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとの
混合物；（１）と（２）のブレンド；（１）または
（２）とビスフェノール成分として２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパンを含む第２のポリカーボ
ネートとのブレンドを含まない、を提供する。
の面に配置された電子部品を有する高品質プラスチック
シートを含む液晶ディスプレイ用の基体であって、該プ
ラスチックシートが以下の工程を含む方法によって製造
される基体： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程；および （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程、ここでプラスチック樹脂がポリカーボネートの
時には、ビスフェノール成分として（１）１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル
シクロヘキサン；（２）２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパンと１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとの
混合物；（１）と（２）のブレンド；（１）または
（２）とビスフェノール成分として２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパンを含む第２のポリカーボ
ネートとのブレンドを含まない、を提供する。
【００１０】本発明はさらに、シートの少なくとも１つ
の面に配置された磁気層を有する高品質プラスチックシ
ートを含む磁気的記憶媒体（ｍａｇｎｅｔｉｃ ｓｔｏ
ｒａｇｅ ｍｅｄｉｕｍ）であって、該プラスチックシ
ートが以下の工程を含む方法によって製造される磁気的
記憶媒体： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程；および （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程、を提供する。
の面に配置された磁気層を有する高品質プラスチックシ
ートを含む磁気的記憶媒体（ｍａｇｎｅｔｉｃ ｓｔｏ
ｒａｇｅ ｍｅｄｉｕｍ）であって、該プラスチックシ
ートが以下の工程を含む方法によって製造される磁気的
記憶媒体： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程；および （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程、を提供する。
【００１１】本発明はさらに、１以上の顔料、染料また
はそれらの混合物がその内部に分散された高品質プラス
チックシートを有する３次元光学的記憶媒体であって、
該顔料、染料またはそれらの混合物が光に暴露されるこ
とにより局部的に光学特性の変化を起こすものであり、
光学的記憶媒体が以下の工程によって製造される光学的
記憶媒体： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 顔料、染料またはそれらの混合物を溶融プラス
チック樹脂と混合し、溶融樹脂をオーバーフローダイを
使用してウェブに成形する工程； （ｅ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程； （ｆ） 前記溶融ウェブを冷却して固体を形成する工
程、を提供する。
はそれらの混合物がその内部に分散された高品質プラス
チックシートを有する３次元光学的記憶媒体であって、
該顔料、染料またはそれらの混合物が光に暴露されるこ
とにより局部的に光学特性の変化を起こすものであり、
光学的記憶媒体が以下の工程によって製造される光学的
記憶媒体： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 顔料、染料またはそれらの混合物を溶融プラス
チック樹脂と混合し、溶融樹脂をオーバーフローダイを
使用してウェブに成形する工程； （ｅ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程； （ｆ） 前記溶融ウェブを冷却して固体を形成する工
程、を提供する。
【００１２】本発明はさらに、エンコード（ｅｎｃｏｄ
ｅ）された情報を有する光学的記憶媒体の製造方法であ
って、以下の工程を含む方法によって高品質プラスチッ
クシートを製造することを含む方法： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程； （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程； （ｆ） ポリマーフィルムで該シートを被覆する工程；
および （ｇ） 被覆されたシートにエンボッシング（ｅｍｂｏ
ｓｓｉｎｇ）することにより情報をエンコードする工
程、を提供する。
ｅ）された情報を有する光学的記憶媒体の製造方法であ
って、以下の工程を含む方法によって高品質プラスチッ
クシートを製造することを含む方法： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程； （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程； （ｆ） ポリマーフィルムで該シートを被覆する工程；
および （ｇ） 被覆されたシートにエンボッシング（ｅｍｂｏ
ｓｓｉｎｇ）することにより情報をエンコードする工
程、を提供する。
【００１３】本発明はさらに、構造化された表面を有す
る高品質プラスチックシートを含むライトマネージメン
トフィルムであって、以下の工程によってフィルムが製
造されるライトマネージメントフィルム： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程； （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程；および （ｆ） 冷却前、冷却中、または冷却後にシートに構造
化された表面を提供する工程、を提供する。
る高品質プラスチックシートを含むライトマネージメン
トフィルムであって、以下の工程によってフィルムが製
造されるライトマネージメントフィルム： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程； （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程；および （ｆ） 冷却前、冷却中、または冷却後にシートに構造
化された表面を提供する工程、を提供する。
【００１４】図１は、本発明の典型的装置の正面図であ
る。図２は、図１の装置の側面図である。図３Ａ〜３Ｃ
は、オーバーフローダイ２０の拡大図である。図３Ａ
は、加熱用マニホールドが取り付けられたダイの透視図
である。図３Ｂは、ダイの上面図である。そして図３Ｃ
は、ダイの側面図である。図４は、オーバーフローダイ
２０の断面図である。図５−７は、本発明のオーバーフ
ローダイの別の態様である。図５は、ダイ２０のスロッ
ト（ｓｌｏｔ）２２の代わりに一連の孔を有するオーバ
ーフローダイを例示している。図６は、非テーパースロ
ット（ｎｏｎ−ｔａｐｅｒｉｎｇ ｓｌｏｔ）を有する
オーバーフローダイを例示している。図７は、「コート
ハンガー（ｃｏａｔｈａｎｇｅｒ）」装置を有するオー
バーフローダイを例示している。
る。図２は、図１の装置の側面図である。図３Ａ〜３Ｃ
は、オーバーフローダイ２０の拡大図である。図３Ａ
は、加熱用マニホールドが取り付けられたダイの透視図
である。図３Ｂは、ダイの上面図である。そして図３Ｃ
は、ダイの側面図である。図４は、オーバーフローダイ
２０の断面図である。図５−７は、本発明のオーバーフ
ローダイの別の態様である。図５は、ダイ２０のスロッ
ト（ｓｌｏｔ）２２の代わりに一連の孔を有するオーバ
ーフローダイを例示している。図６は、非テーパースロ
ット（ｎｏｎ−ｔａｐｅｒｉｎｇ ｓｌｏｔ）を有する
オーバーフローダイを例示している。図７は、「コート
ハンガー（ｃｏａｔｈａｎｇｅｒ）」装置を有するオー
バーフローダイを例示している。
【００１５】本明細書に使用されている次の用語は、特
記のない限り、次の定義を有する。「ガラス転移温度」
または「Ｔｇ」は、ポリマーが相対的に硬くかつもろい
状態から相対的に軟らかいかつ粘性のある状態（ゴム
状）に変化する狭い温度範囲の中点である。「プラスチ
ック」は、シートを形成することができるポリマーをい
い、たとえば熱可塑性プラスチックのようなポリマーを
いう。用語「ポリマー」および「樹脂」は、明細書を通
して交換可能で用いられる。「シート」は、約２５ｍｍ
以下の厚さを有するシートを称し、かつ「フィルム」
（０．５ｍｍ未満の厚さを有するシート）も含むように
意図されている。「収縮」は、加熱−冷却のサイクルに
かけられたシートに起こる不可逆の寸法変化を称する。
「ビスフェノールＡ」および「２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン」の用語は、本明細書におい
て交換可能なものとして使用される。「ビスフェノール
Ａポリカーボネート」の用語は、ビスフェノールＡとフ
ォスゲンとを含むポリカーボネートを意味する。次の略
字が本明細書において使用される：ｃｍ＝センチメート
ル；ｍｍ＝ミリメートル；ｎｍ＝ナノメートル；μ＝ミ
クロン（マイクロメーター）；ｇ＝グラム；ｍＬ＝ミリ
リットル；Ｐａ＝パスカル；ｋＰａ＝キロパスカル；Ｐ
ａ−ｓ＝パスカル−秒；ｓｅｃ＝秒；ｍｉｎ＝分；ｈｒ
ｓ＝時間、ＵＶ＝紫外線；およびＩＲ＝赤外線。すべて
の温度表示は、特にことわりがなければ、℃である。特
定した範囲の境界値は、特にことわりがなければ包含さ
れる。
記のない限り、次の定義を有する。「ガラス転移温度」
または「Ｔｇ」は、ポリマーが相対的に硬くかつもろい
状態から相対的に軟らかいかつ粘性のある状態（ゴム
状）に変化する狭い温度範囲の中点である。「プラスチ
ック」は、シートを形成することができるポリマーをい
い、たとえば熱可塑性プラスチックのようなポリマーを
いう。用語「ポリマー」および「樹脂」は、明細書を通
して交換可能で用いられる。「シート」は、約２５ｍｍ
以下の厚さを有するシートを称し、かつ「フィルム」
（０．５ｍｍ未満の厚さを有するシート）も含むように
意図されている。「収縮」は、加熱−冷却のサイクルに
かけられたシートに起こる不可逆の寸法変化を称する。
「ビスフェノールＡ」および「２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン」の用語は、本明細書におい
て交換可能なものとして使用される。「ビスフェノール
Ａポリカーボネート」の用語は、ビスフェノールＡとフ
ォスゲンとを含むポリカーボネートを意味する。次の略
字が本明細書において使用される：ｃｍ＝センチメート
ル；ｍｍ＝ミリメートル；ｎｍ＝ナノメートル；μ＝ミ
クロン（マイクロメーター）；ｇ＝グラム；ｍＬ＝ミリ
リットル；Ｐａ＝パスカル；ｋＰａ＝キロパスカル；Ｐ
ａ−ｓ＝パスカル−秒；ｓｅｃ＝秒；ｍｉｎ＝分；ｈｒ
ｓ＝時間、ＵＶ＝紫外線；およびＩＲ＝赤外線。すべて
の温度表示は、特にことわりがなければ、℃である。特
定した範囲の境界値は、特にことわりがなければ包含さ
れる。
【００１６】本発明方法によって形成された高品質のプ
ラスチックシートは、多くの用途に使用することがで
き、これらには、ＬＣＤおよびエレクトロルミネセンス
ディスプレーのような電子的ディスプレー装置のための
基体；マイクロ光学レンズアレイ（ｍｉｃｒｏｏｐｔｉ
ｃ ｌｅｎｓ ａｒｒａｙｓ）および光ディレクティン
グフィルム（ｌｉｇｈｔ ｄｉｒｅｃｔｉｎｇ ｆｉｌ
ｍ）用の基体；光窓および光学フィルター；導波路光学
部品（ｗａｖｅｇｕｉｄｅ ｏｐｔｉｃｓ）；光学的、
磁気的、化学的または他のタイプの記憶または記録用媒
体のための基体；写真用またはＸ線用の用途のような映
像のための基体；診断システムのための基体；および電
子回路のための基体が含まれるが、それらに限定されな
い。
ラスチックシートは、多くの用途に使用することがで
き、これらには、ＬＣＤおよびエレクトロルミネセンス
ディスプレーのような電子的ディスプレー装置のための
基体；マイクロ光学レンズアレイ（ｍｉｃｒｏｏｐｔｉ
ｃ ｌｅｎｓ ａｒｒａｙｓ）および光ディレクティン
グフィルム（ｌｉｇｈｔ ｄｉｒｅｃｔｉｎｇ ｆｉｌ
ｍ）用の基体；光窓および光学フィルター；導波路光学
部品（ｗａｖｅｇｕｉｄｅ ｏｐｔｉｃｓ）；光学的、
磁気的、化学的または他のタイプの記憶または記録用媒
体のための基体；写真用またはＸ線用の用途のような映
像のための基体；診断システムのための基体；および電
子回路のための基体が含まれるが、それらに限定されな
い。
【００１７】本発明のシートまたはフィルムは、液晶デ
ィスプレーデバイスのような電子的ディスプレーデバイ
スの基体として使用するのに適している。そのような基
体はしばしば導電性コーティングまたは薄膜トランジス
ターやダイオードのような能動電子素子（ａｃｔｉｖｅ
ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ ｄｅｖｉｃｅｓ）を施す前に
１以上の被覆層で被覆される。施用する事のできるコー
ティングの種類としては、架橋性コーティング、バリヤ
コーティングおよび導電性コーティングがあげられる。
ィスプレーデバイスのような電子的ディスプレーデバイ
スの基体として使用するのに適している。そのような基
体はしばしば導電性コーティングまたは薄膜トランジス
ターやダイオードのような能動電子素子（ａｃｔｉｖｅ
ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ ｄｅｖｉｃｅｓ）を施す前に
１以上の被覆層で被覆される。施用する事のできるコー
ティングの種類としては、架橋性コーティング、バリヤ
コーティングおよび導電性コーティングがあげられる。
【００１８】架橋性コーティング層は耐溶剤性、耐摩耗
性を改良し、プラスチック基体と引き続くコーティング
層との接着を促進する事ができる。たとえば、有機コー
ティングと無機コーティングとの間の接着を促進する。
架橋性コーティング層を使用する場合は、プラスチック
基体の１面または両面に塗布することができる。バリヤ
層はガスまたは湿分の透過を減少させるコーティングで
ある。バリア層の組成は、有機物であっても無機物であ
ってもよい。バリヤコーティングの材料が耐溶剤性であ
り、溶媒のプラスチックシートへの移行を有意に防止ま
たは減少させることができる場合には、バリアコーティ
ングは耐溶剤性コーティングとしても有用である。使用
される場合には、バリヤ層はプラスチックシートの１面
または両面に施用する事ができる。
性を改良し、プラスチック基体と引き続くコーティング
層との接着を促進する事ができる。たとえば、有機コー
ティングと無機コーティングとの間の接着を促進する。
架橋性コーティング層を使用する場合は、プラスチック
基体の１面または両面に塗布することができる。バリヤ
層はガスまたは湿分の透過を減少させるコーティングで
ある。バリア層の組成は、有機物であっても無機物であ
ってもよい。バリヤコーティングの材料が耐溶剤性であ
り、溶媒のプラスチックシートへの移行を有意に防止ま
たは減少させることができる場合には、バリアコーティ
ングは耐溶剤性コーティングとしても有用である。使用
される場合には、バリヤ層はプラスチックシートの１面
または両面に施用する事ができる。
【００１９】光学的ディスプレーに使用される場合に
は、本発明の基体は導電層で被覆されることができる。
たとえば、基体が液晶ディスプレー（ＬＣＤ）に使用さ
れる場合には、基体の少なくとも１つの面には電子部品
が必要とされる。典型的には、電子部品は基体の１つの
面に設けられ、その面はＬＣＤセルの内部とされ、液晶
に最も近くされる。別法として、基体の両方の面に電子
部品を設けることもできる。その他の態様では、保護コ
ーティング、カラーフィルターコーティング、またはバ
リヤコーティングの１以上の層が、基体と電子部品の間
に配置される。好適な電子部品としては、能動電子素子
の層および導電性層があげられるが、これらに限定され
るものではない。能動電子素子の層を含む基体は、特に
ＬＣＤにおける使用に適している。
は、本発明の基体は導電層で被覆されることができる。
たとえば、基体が液晶ディスプレー（ＬＣＤ）に使用さ
れる場合には、基体の少なくとも１つの面には電子部品
が必要とされる。典型的には、電子部品は基体の１つの
面に設けられ、その面はＬＣＤセルの内部とされ、液晶
に最も近くされる。別法として、基体の両方の面に電子
部品を設けることもできる。その他の態様では、保護コ
ーティング、カラーフィルターコーティング、またはバ
リヤコーティングの１以上の層が、基体と電子部品の間
に配置される。好適な電子部品としては、能動電子素子
の層および導電性層があげられるが、これらに限定され
るものではない。能動電子素子の層を含む基体は、特に
ＬＣＤにおける使用に適している。
【００２０】本発明の基体は、Ｗ．Ｃ．Ｏ’Ｍａｒａ，
Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ
Ｄｉｓｐｌａｙｓ，Ｖａｎ Ｎｏｓｔｒａｎｄ Ｒｅ
ｉｎｈｏｌｄ， Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９９３）に開示
されているものと同様の物質および方法を使用して、液
晶ディスプレーセルに導入することができる。基体から
液晶セルを形成する方法は、以下の工程の１以上を含む
ことができる：フォトリソグラフィックプロセスを使用
して、少なくとも１つの基体の上に透明導電性フィルム
のパターンを作成する工程、液晶アラインメント材料を
２つの基体の上の導電性コーティングに施す工程、アラ
インメント層をラビングして、基体に対するアラインメ
ント特性を付与する工程、少なくとも１つの基体にスペ
ーサー粒子を施す工程、少なくとも１つの基体にエッジ
シールを施す工程、２つの基体を導電層が互いに向き合
わせ正しい方向で接触させる工程、エッジシールを硬化
させる工程、基体の間に形成された狭い隙間に液晶を射
出する工程、および隙間をシールする工程。本発明の基
体はすべてのタイプの液晶ディスプレーセルに使用する
ことができ、たとえば液晶とポリマーの複合体を有する
もの、基体上の電子部品によりディスプレー画素がアク
ティブにアドレスされているもの（アクティブマトリッ
クスディスプレー）、ディスプレー画素がパッシブにア
ドレスされているもの（いわゆるパッシブマトリックス
ディスプレー）があげられる。
Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ
Ｄｉｓｐｌａｙｓ，Ｖａｎ Ｎｏｓｔｒａｎｄ Ｒｅ
ｉｎｈｏｌｄ， Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９９３）に開示
されているものと同様の物質および方法を使用して、液
晶ディスプレーセルに導入することができる。基体から
液晶セルを形成する方法は、以下の工程の１以上を含む
ことができる：フォトリソグラフィックプロセスを使用
して、少なくとも１つの基体の上に透明導電性フィルム
のパターンを作成する工程、液晶アラインメント材料を
２つの基体の上の導電性コーティングに施す工程、アラ
インメント層をラビングして、基体に対するアラインメ
ント特性を付与する工程、少なくとも１つの基体にスペ
ーサー粒子を施す工程、少なくとも１つの基体にエッジ
シールを施す工程、２つの基体を導電層が互いに向き合
わせ正しい方向で接触させる工程、エッジシールを硬化
させる工程、基体の間に形成された狭い隙間に液晶を射
出する工程、および隙間をシールする工程。本発明の基
体はすべてのタイプの液晶ディスプレーセルに使用する
ことができ、たとえば液晶とポリマーの複合体を有する
もの、基体上の電子部品によりディスプレー画素がアク
ティブにアドレスされているもの（アクティブマトリッ
クスディスプレー）、ディスプレー画素がパッシブにア
ドレスされているもの（いわゆるパッシブマトリックス
ディスプレー）があげられる。
【００２１】本発明のシートは光学的記憶媒体における
基体として使用するのに適している。好適な光学的記憶
媒体としては、たとえばコンパクトディスク、リコーダ
ブル（ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）コンパクトディスク、リ
ード／ライトコンパクトディスク、デジタルバーサタイ
ルディスク（ｄｉｇｉｔａｌ ｖｅｒｓａｔｉｌｅｄｉ
ｓｋｓ）、リコーダブルデジタルバーサタイルディス
ク、リード／ライトデジタルバーサタイルディスク、お
よび光磁気ディスク（ｍａｇｎｅｔｏ−ｏｐｔｉｃａｌ
ｄｉｓｋｓ）があげられるが、これらに限定されるも
のではない。
基体として使用するのに適している。好適な光学的記憶
媒体としては、たとえばコンパクトディスク、リコーダ
ブル（ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）コンパクトディスク、リ
ード／ライトコンパクトディスク、デジタルバーサタイ
ルディスク（ｄｉｇｉｔａｌ ｖｅｒｓａｔｉｌｅｄｉ
ｓｋｓ）、リコーダブルデジタルバーサタイルディス
ク、リード／ライトデジタルバーサタイルディスク、お
よび光磁気ディスク（ｍａｇｎｅｔｏ−ｏｐｔｉｃａｌ
ｄｉｓｋｓ）があげられるが、これらに限定されるも
のではない。
【００２２】コンパクトディスク（ＣＤ）およびデジタ
ルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）はポリマー基体の上
のピット（ｐｉｔｓ）とグルーブ（ｇｒｏｏｖｅｓ）と
してエンコードされた情報を有する。ピットのシーケン
スと長さが情報をエンコードし、これは焦点あわせされ
たレーザービームにより基体から読み込まれる。コンパ
クトディスクの典型的な製造においては、ピットとグル
ーブはモールド中のスタンパーから基体上に複写され
る。基体が成型されると、アルミニウムまたは金のよう
な反射性金属の薄膜の蒸着によりメタライズされる。基
体はついで任意にラッカーまたは樹脂で被覆されること
ができ、これにインクを塗布し、たとえばラベルを付与
することができる。光学的データ記憶における進歩はよ
り多量の情報をエンコードすることを要求し、これはピ
ットとグルーブの間の距離を減少させる。そのような密
に詰められた情報（つまり高密度）の読み込みの際のエ
ラーを防止するために、基体が製造の間、および書き込
み可能なディスクの場合には書き込みの間に、ピットと
グルーブの周囲で変形しないよう、十分に高品質である
ことが重要である。このような変形はエンコードされた
情報の読み込みの際にエラーを引き起こす。本発明の利
点は、製造された高品質光学プラスチックシートが、公
知の射出成型された基体に比較して、小さな複屈折、小
さい表面粗さ、および高い寸法安定性を有することであ
る。これは、ピットとグルーブの周辺の変形が非常に小
さい、高密度でエンコードされた情報を可能とし、光デ
ィストーションのないエンコードされた情報の読みとり
および書き込みを提供し、より大きなＳＮ比を与える。
ルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）はポリマー基体の上
のピット（ｐｉｔｓ）とグルーブ（ｇｒｏｏｖｅｓ）と
してエンコードされた情報を有する。ピットのシーケン
スと長さが情報をエンコードし、これは焦点あわせされ
たレーザービームにより基体から読み込まれる。コンパ
クトディスクの典型的な製造においては、ピットとグル
ーブはモールド中のスタンパーから基体上に複写され
る。基体が成型されると、アルミニウムまたは金のよう
な反射性金属の薄膜の蒸着によりメタライズされる。基
体はついで任意にラッカーまたは樹脂で被覆されること
ができ、これにインクを塗布し、たとえばラベルを付与
することができる。光学的データ記憶における進歩はよ
り多量の情報をエンコードすることを要求し、これはピ
ットとグルーブの間の距離を減少させる。そのような密
に詰められた情報（つまり高密度）の読み込みの際のエ
ラーを防止するために、基体が製造の間、および書き込
み可能なディスクの場合には書き込みの間に、ピットと
グルーブの周囲で変形しないよう、十分に高品質である
ことが重要である。このような変形はエンコードされた
情報の読み込みの際にエラーを引き起こす。本発明の利
点は、製造された高品質光学プラスチックシートが、公
知の射出成型された基体に比較して、小さな複屈折、小
さい表面粗さ、および高い寸法安定性を有することであ
る。これは、ピットとグルーブの周辺の変形が非常に小
さい、高密度でエンコードされた情報を可能とし、光デ
ィストーションのないエンコードされた情報の読みとり
および書き込みを提供し、より大きなＳＮ比を与える。
【００２３】ＤＶＤはコンパトディスクと同じ方法によ
り一般に製造される。しかし、第１の複写された表面の
上にエンコードするための１以上の追加の情報の層とし
て、追加の半反射層およびポリマー層を有することがで
きる。またＤＶＤは情報の内容量を増加させるために透
明な接着剤で互いに接着された２以上のディスクを有す
ることができる。典型的には、ＤＶＤは２から４つの層
を有する。
り一般に製造される。しかし、第１の複写された表面の
上にエンコードするための１以上の追加の情報の層とし
て、追加の半反射層およびポリマー層を有することがで
きる。またＤＶＤは情報の内容量を増加させるために透
明な接着剤で互いに接着された２以上のディスクを有す
ることができる。典型的には、ＤＶＤは２から４つの層
を有する。
【００２４】本発明のシートが光学的記憶媒体の基体と
して使用される場合には、光学的記憶媒体はａ）本発明
の方法により製造された高品質プラスチックシート、
ｂ）シートの少なくとも１つの面に配置された反射層ま
たは半反射層、および任意にｃ）シートの少なくとも１
つの面に配置された保護層を含む。反射層または半反射
層は任意の反射性または半反射性物質から形成すること
ができる。反射層が使用される場合には、反射層はアル
ミニウムまたは金のような金属を含むことが好ましい。
そのような反射層は典型的にはスパッタリングまたは真
空蒸着により基体に施される。半反射層が使用される場
合には、半反射層は金属を含むことが好ましい。半反射
層に使用するのに好適な金属としては、金、アルミニウ
ム、およびアルミニウム合金のような合金があげられる
が、これらに限定されるものではない。金属が半反射層
として使用される場合には、金属の非常に薄い層のみが
必要とされる。保護層は望まれる光学特性を妨害しな
い、プラスチック基体または反射層の上に施された任意
のコーティングであることができる。保護層はラッカー
または樹脂であることが好ましい。プラスチック基体
が、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアクリル、
ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアクリレートのホ
モポリマーおよびコポリマー、並びにこれらの混合物か
らなる群から選択されることがさらに好ましい。
して使用される場合には、光学的記憶媒体はａ）本発明
の方法により製造された高品質プラスチックシート、
ｂ）シートの少なくとも１つの面に配置された反射層ま
たは半反射層、および任意にｃ）シートの少なくとも１
つの面に配置された保護層を含む。反射層または半反射
層は任意の反射性または半反射性物質から形成すること
ができる。反射層が使用される場合には、反射層はアル
ミニウムまたは金のような金属を含むことが好ましい。
そのような反射層は典型的にはスパッタリングまたは真
空蒸着により基体に施される。半反射層が使用される場
合には、半反射層は金属を含むことが好ましい。半反射
層に使用するのに好適な金属としては、金、アルミニウ
ム、およびアルミニウム合金のような合金があげられる
が、これらに限定されるものではない。金属が半反射層
として使用される場合には、金属の非常に薄い層のみが
必要とされる。保護層は望まれる光学特性を妨害しな
い、プラスチック基体または反射層の上に施された任意
のコーティングであることができる。保護層はラッカー
または樹脂であることが好ましい。プラスチック基体
が、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアクリル、
ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアクリレートのホ
モポリマーおよびコポリマー、並びにこれらの混合物か
らなる群から選択されることがさらに好ましい。
【００２５】情報は本発明のシートを含む光学的記憶媒
体に公知の手段、たとえばエンボッシングやイメージン
グ（ｉｍａｇｉｎｇ）によりエンコードすることができ
る。たとえば、光学的記憶媒体はＭ．Ｔ．Ｇａｌｅ，Ｍ
ｉｃｒｏ−Ｏｐｔｉｃｓ，（Ｅｄ．Ｈ．Ｐ．Ｈｅｒｚｉ
ｇ），Ｔａｙｌｏｒ＆Ｆｒａｎｃｉｓ，Ｌｏｎｄｏｎ，
ＵＫ，ｃｈａｐｔｅｒ６（１９９７）に開示されている
ような、熱エンボッシングプロセスにより製造すること
ができる。熱エンボッシングは加熱されたスタンパーを
使用し、基体に情報をエンコードする。熱スタンパーは
ロールトゥロール（ｒｏｌｌ ｔｏ ｒｏｌｌ）の連続
プロセス、または圧縮成型のような非連続プロセスにお
いて使用することができる。別法として、基体を最初に
薄いポリマーフィルムで被覆した後、エンボッシングす
ることができる。好適なポリマーフィルムとしては、ラ
テックス、フォトポリマー、および紫外線硬化性樹脂が
あげられるが、これらに限定されるものではない。ポリ
マーコーティングの厚さは一般に０．０５から１０ミク
ロン、好ましくは０．１から１ミクロンである。そのよ
うなポリマーフィルムはより速いエンボッシングと、エ
ンコードされた情報のよりよい複写をもたらす。
体に公知の手段、たとえばエンボッシングやイメージン
グ（ｉｍａｇｉｎｇ）によりエンコードすることができ
る。たとえば、光学的記憶媒体はＭ．Ｔ．Ｇａｌｅ，Ｍ
ｉｃｒｏ−Ｏｐｔｉｃｓ，（Ｅｄ．Ｈ．Ｐ．Ｈｅｒｚｉ
ｇ），Ｔａｙｌｏｒ＆Ｆｒａｎｃｉｓ，Ｌｏｎｄｏｎ，
ＵＫ，ｃｈａｐｔｅｒ６（１９９７）に開示されている
ような、熱エンボッシングプロセスにより製造すること
ができる。熱エンボッシングは加熱されたスタンパーを
使用し、基体に情報をエンコードする。熱スタンパーは
ロールトゥロール（ｒｏｌｌ ｔｏ ｒｏｌｌ）の連続
プロセス、または圧縮成型のような非連続プロセスにお
いて使用することができる。別法として、基体を最初に
薄いポリマーフィルムで被覆した後、エンボッシングす
ることができる。好適なポリマーフィルムとしては、ラ
テックス、フォトポリマー、および紫外線硬化性樹脂が
あげられるが、これらに限定されるものではない。ポリ
マーコーティングの厚さは一般に０．０５から１０ミク
ロン、好ましくは０．１から１ミクロンである。そのよ
うなポリマーフィルムはより速いエンボッシングと、エ
ンコードされた情報のよりよい複写をもたらす。
【００２６】別法として、光学的記憶媒体上に情報をエ
ンボッシングするためにフォトポリマーを使用すること
ができる。フォトポリマーを使用する場合には、それは
最初に基体の上に塗布される。被覆された基体はつい
で、半導体工業において使用されるもののような公知の
任意のリソグラフィックプロセスを使用して画像形成さ
れる。
ンボッシングするためにフォトポリマーを使用すること
ができる。フォトポリマーを使用する場合には、それは
最初に基体の上に塗布される。被覆された基体はつい
で、半導体工業において使用されるもののような公知の
任意のリソグラフィックプロセスを使用して画像形成さ
れる。
【００２７】情報が基体の上にエンコードされた後、基
体は反射性または半反射性層で被覆され、任意に、反射
性または半反射性表面を保護するために紫外線硬化性樹
脂で被覆される。反射性または半反射性層はスパッタリ
ングまたは真空蒸着により施されることができる。ＤＶ
Ｄの製造においては、エンコードされた基体は好ましく
は半反射性層で被覆される。最終層の上の反射性または
半反射性表面は、典型的には紫外線硬化性樹脂で被覆さ
れる。
体は反射性または半反射性層で被覆され、任意に、反射
性または半反射性表面を保護するために紫外線硬化性樹
脂で被覆される。反射性または半反射性層はスパッタリ
ングまたは真空蒸着により施されることができる。ＤＶ
Ｄの製造においては、エンコードされた基体は好ましく
は半反射性層で被覆される。最終層の上の反射性または
半反射性表面は、典型的には紫外線硬化性樹脂で被覆さ
れる。
【００２８】情報をエンコードするために使用されるピ
ットは０．０１から１ミクロン、好ましくは０．０４か
ら０．１５ミクロンの深さであることができ、０．４か
ら１０ミクロンの長さであることができる。光学的記憶
媒体は典型的には０．６から１．２ミリの厚さである。
光学的記憶媒体に使用される基体の複屈折は典型的には
５０ナノメーター未満であり、好ましくは３０ナノメー
ター未満である。
ットは０．０１から１ミクロン、好ましくは０．０４か
ら０．１５ミクロンの深さであることができ、０．４か
ら１０ミクロンの長さであることができる。光学的記憶
媒体は典型的には０．６から１．２ミリの厚さである。
光学的記憶媒体に使用される基体の複屈折は典型的には
５０ナノメーター未満であり、好ましくは３０ナノメー
ター未満である。
【００２９】本発明の方法により製造される高品質シー
トは光学的相変化媒体（ｏｐｔｉｃａｌ ｐｈａｓｅ−
ｃｈａｎｇｅ ｍｅｄｉａ）の基体として有用である。
光学的相変化媒体は、１回の書き込みができ何回も読み
込みができるもの、および何回も書き込みと読み込みが
できるものが含まれる。好適な光学的相変化媒体には１
回記録できるコンパクトディスク（ｒｅｃｏｒｄ ｏｎ
ｃｅ ｃｏｍｐａｃｔｄｉｓｋ：ＣＤ−Ｒ）、１回記録
できるデジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ−Ｒ）、
光磁気媒体（ＭＯ）、相変化媒体（ＰＤ）、リード／ラ
イトコンパクトディスク（ＣＤ−ＲＷ）、およびリード
／ライトデジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ−Ｒ
Ｗ）が挙げられるが、これらに限定されない。たとえ
ば、種々の相変化媒体が、Ｈ．Ｂｅｎｎｅｔｔ，Ｅｍｅ
ｄｉａ Ｐｒｏｆｅｓｓｉｏｎａｌ，Ｏｎｌｉｎｅ Ｉ
ｎｃ．，Ｗｉｌｔｏｎ，ＣＴ，１９９８年７月、第３１
頁に開示されている。光学的相変化媒体は典型的には、
レーザートラッキングのためのスパイラルグルーブを有
する高品質基体、反射性または半反射性層、基体と反射
性または半反射性層との間に配置された相変化媒体、お
よび反射性または半反射性層のための紫外線硬化性保護
被覆からなる。
トは光学的相変化媒体（ｏｐｔｉｃａｌ ｐｈａｓｅ−
ｃｈａｎｇｅ ｍｅｄｉａ）の基体として有用である。
光学的相変化媒体は、１回の書き込みができ何回も読み
込みができるもの、および何回も書き込みと読み込みが
できるものが含まれる。好適な光学的相変化媒体には１
回記録できるコンパクトディスク（ｒｅｃｏｒｄ ｏｎ
ｃｅ ｃｏｍｐａｃｔｄｉｓｋ：ＣＤ−Ｒ）、１回記録
できるデジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ−Ｒ）、
光磁気媒体（ＭＯ）、相変化媒体（ＰＤ）、リード／ラ
イトコンパクトディスク（ＣＤ−ＲＷ）、およびリード
／ライトデジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ−Ｒ
Ｗ）が挙げられるが、これらに限定されない。たとえ
ば、種々の相変化媒体が、Ｈ．Ｂｅｎｎｅｔｔ，Ｅｍｅ
ｄｉａ Ｐｒｏｆｅｓｓｉｏｎａｌ，Ｏｎｌｉｎｅ Ｉ
ｎｃ．，Ｗｉｌｔｏｎ，ＣＴ，１９９８年７月、第３１
頁に開示されている。光学的相変化媒体は典型的には、
レーザートラッキングのためのスパイラルグルーブを有
する高品質基体、反射性または半反射性層、基体と反射
性または半反射性層との間に配置された相変化媒体、お
よび反射性または半反射性層のための紫外線硬化性保護
被覆からなる。
【００３０】レーザー光を反射性層の上のサブミクロン
のスポットの上に焦点あわせし、劣化（すなわちピット
の形成）または相変化（結晶の非晶質への転移）を起こ
して反射率を変化させることにより、相変化媒体の上に
情報をエンコードする。これに対し、光磁気記憶媒体で
は、反射された光の偏光の変化が起こる。
のスポットの上に焦点あわせし、劣化（すなわちピット
の形成）または相変化（結晶の非晶質への転移）を起こ
して反射率を変化させることにより、相変化媒体の上に
情報をエンコードする。これに対し、光磁気記憶媒体で
は、反射された光の偏光の変化が起こる。
【００３１】光学的相変化媒体におけるスパイラルグル
ーブは、エンボッシングまたはイメージングにより製造
することができる。たとえば、本発明の高品質シートを
ポリマー層で被覆し、ついで熱スタンパーでエンボッシ
ングしてスパイラルグルーブを形成することができる。
別法として、フォトポリマーを本発明の高品質シートに
塗布し、リソグラフプロセスによりグルーブが画定さ
れ、その後被覆が硬化される。相変化媒体に使用される
高品質光学的シートを被覆するために有用なポリマー
は、引き続くエンコードプロセスにおける高温蒸着工程
に耐えるだけの充分に高いガラス転移温度を有していな
ければならない。スパイラルグルーブの幅とピッチは具
体的な媒体の構成に応じて変化するが、典型的には０．
１から１０ミクロンの範囲であり、好ましくは０．４か
ら２ミクロンの範囲である。エンコードされた情報のス
ポットサイズは典型的には０．４から１０ミクロンの範
囲である。
ーブは、エンボッシングまたはイメージングにより製造
することができる。たとえば、本発明の高品質シートを
ポリマー層で被覆し、ついで熱スタンパーでエンボッシ
ングしてスパイラルグルーブを形成することができる。
別法として、フォトポリマーを本発明の高品質シートに
塗布し、リソグラフプロセスによりグルーブが画定さ
れ、その後被覆が硬化される。相変化媒体に使用される
高品質光学的シートを被覆するために有用なポリマー
は、引き続くエンコードプロセスにおける高温蒸着工程
に耐えるだけの充分に高いガラス転移温度を有していな
ければならない。スパイラルグルーブの幅とピッチは具
体的な媒体の構成に応じて変化するが、典型的には０．
１から１０ミクロンの範囲であり、好ましくは０．４か
ら２ミクロンの範囲である。エンコードされた情報のス
ポットサイズは典型的には０．４から１０ミクロンの範
囲である。
【００３２】記録可能な光学的相変化媒体において有用
な記録可能媒体は具体的な相変化媒体に応じて変化し、
これらは公知である。たとえば、ＣＤ−Ｒにおいては記
録可能な媒体は、典型的にはシアニンまたはフタロシア
ニンのような染料と溶剤中の他のポリマー添加剤とから
なり、これはグルーブの形成された基体の上にスピンコ
ートされる。高品質プラスチック基体と相互作用を起こ
してグルーブパターンをゆがめたり基体をそらしたりし
なければ、任意の染料が好適である。好適な染料として
は、有機染料、無機顔料、およびこれらの混合物が挙げ
られる。染料コーティングはついで乾燥され、メタライ
ズされ、紫外線硬化性樹脂で被覆され最終のＣＤ−Ｒが
製造される。
な記録可能媒体は具体的な相変化媒体に応じて変化し、
これらは公知である。たとえば、ＣＤ−Ｒにおいては記
録可能な媒体は、典型的にはシアニンまたはフタロシア
ニンのような染料と溶剤中の他のポリマー添加剤とから
なり、これはグルーブの形成された基体の上にスピンコ
ートされる。高品質プラスチック基体と相互作用を起こ
してグルーブパターンをゆがめたり基体をそらしたりし
なければ、任意の染料が好適である。好適な染料として
は、有機染料、無機顔料、およびこれらの混合物が挙げ
られる。染料コーティングはついで乾燥され、メタライ
ズされ、紫外線硬化性樹脂で被覆され最終のＣＤ−Ｒが
製造される。
【００３３】ＭＯ記憶媒体は高品質基体、基体の少なく
とも１つの面に配置された光−磁気層（ｍａｇｎｅｔｏ
−ｏｐｔｉｃａｌ ｌａｙｅｒ）、光−磁気層の上に配
置された反射性または半反射性層、および任意の基体の
少なくとも１つの面に配置された保護層を含む。ＭＯ媒
体においては、ＧｄＦｅＣｏまたはＴｂＦｅＣｏのよう
な種々のコバルト合金のような光磁気層が、グルーブの
形成された基体の上にスパッタされる。追加の層をコバ
ルト合金の層の上に設け、基体からのまたは基体への熱
移動を助けることができる。ついで局部的な加熱を提供
するための焦点あわせされたレーザーおよび領域の極性
を反転させる磁気ヘッドを使用して、磁気領域に書き込
みが行われる。ＣＤ−ＲＷおよびＤＶＤ−ＲＷでは、た
とえばＭ．Ｅｌｐｈｉｃｋ，Ｄａｔａ Ｓｔｏｒａｇ
ｅ，Ｐｅｎｗｅｌｌ，Ｎａｓｈｕａ，ＮＨ，１９９８年
９月の第８５頁に記載されているように、複数の層がグ
ルーブの形成された高品質プラスチック基体の上に設け
られる。そのような層は下層のＺｎＳ．ＳｉＯ２のよう
な保護層、Ｇｅ２Ｓｂ２Ｔｅ５のような記録可能な層、
上部の保護層、上部の反射性金属層および最後の紫外線
硬化性ラッカーの保護層を含む。
とも１つの面に配置された光−磁気層（ｍａｇｎｅｔｏ
−ｏｐｔｉｃａｌ ｌａｙｅｒ）、光−磁気層の上に配
置された反射性または半反射性層、および任意の基体の
少なくとも１つの面に配置された保護層を含む。ＭＯ媒
体においては、ＧｄＦｅＣｏまたはＴｂＦｅＣｏのよう
な種々のコバルト合金のような光磁気層が、グルーブの
形成された基体の上にスパッタされる。追加の層をコバ
ルト合金の層の上に設け、基体からのまたは基体への熱
移動を助けることができる。ついで局部的な加熱を提供
するための焦点あわせされたレーザーおよび領域の極性
を反転させる磁気ヘッドを使用して、磁気領域に書き込
みが行われる。ＣＤ−ＲＷおよびＤＶＤ−ＲＷでは、た
とえばＭ．Ｅｌｐｈｉｃｋ，Ｄａｔａ Ｓｔｏｒａｇ
ｅ，Ｐｅｎｗｅｌｌ，Ｎａｓｈｕａ，ＮＨ，１９９８年
９月の第８５頁に記載されているように、複数の層がグ
ルーブの形成された高品質プラスチック基体の上に設け
られる。そのような層は下層のＺｎＳ．ＳｉＯ２のよう
な保護層、Ｇｅ２Ｓｂ２Ｔｅ５のような記録可能な層、
上部の保護層、上部の反射性金属層および最後の紫外線
硬化性ラッカーの保護層を含む。
【００３４】本発明の高品質シートは、読み取り用レー
ザービームが反射され基体を透過しない記憶媒体の基体
として使用されるのに有用である。そのような記憶媒体
においては、読み取り用のレーザービームは固体液浸レ
ンズ（ＳＩＬ：ｓｏｌｉｄｉｍｍｅｒｓｉｏｎ ｌｅｎ
ｓ）を使用して、基体および記録媒体の上に焦点あわせ
される。これらのレンズは表面の上を、光の波長のフラ
クション（ｆｒａｃｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ ｗａｖｅ
ｌｅｎｇｔｈ ｏｆ ｌｉｇｈｔ）の距離、典型的には
１０から１００ナノメーターの距離でなめらかに動く。
この用途では基体は光学的に透明でなければならないわ
けではない。しかし、記録媒体が非常に小さな表面粗さ
を有することが重要である。これに近い領域の光学の用
途については、Ｍａｎｓｆｉｅｌｄ ｅｔａｌ．，Ａｐ
ｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，５７，１９９０、第２６
１５頁に記載されている。
ザービームが反射され基体を透過しない記憶媒体の基体
として使用されるのに有用である。そのような記憶媒体
においては、読み取り用のレーザービームは固体液浸レ
ンズ（ＳＩＬ：ｓｏｌｉｄｉｍｍｅｒｓｉｏｎ ｌｅｎ
ｓ）を使用して、基体および記録媒体の上に焦点あわせ
される。これらのレンズは表面の上を、光の波長のフラ
クション（ｆｒａｃｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ ｗａｖｅ
ｌｅｎｇｔｈ ｏｆ ｌｉｇｈｔ）の距離、典型的には
１０から１００ナノメーターの距離でなめらかに動く。
この用途では基体は光学的に透明でなければならないわ
けではない。しかし、記録媒体が非常に小さな表面粗さ
を有することが重要である。これに近い領域の光学の用
途については、Ｍａｎｓｆｉｅｌｄ ｅｔａｌ．，Ａｐ
ｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，５７，１９９０、第２６
１５頁に記載されている。
【００３５】多層記憶媒体はデータ記憶密度を大きくす
る１つの手段である。そのような記憶媒体では、ＣＤに
おける複写されたピットの単一層、および標準的なＤＶ
Ｄにおける２から４の層の代わりに、２以上の層がデー
タを記憶するために使用される。たとえば、米国特許第
４，４５０，５５３号、５，２０２，８７５号、５，２
６３，０１１号、５，３７３，４９９号、および５，６
２７，８１７号に多層記憶媒体が記載されている。多層
媒体においては、最近の標準に適合するように、媒体の
全体の厚さが１．２ミリであることが望ましい。すなわ
ち、６または１２層の媒体では、各基体の層の厚さがそ
れぞれ０．２または０．１ミリであることが必要とされ
る。近年の射出成型法では、必要とされる光学特性を有
するそのような薄い基体を製造することができないこと
は公知である。そのような薄い射出成形された基体は、
そってしまい、大きな応力と複屈折を有する。一方、本
発明の高品質シートは、非常になめらかな表面、小さい
応力および小さい複屈折を有する薄い基体を製造するた
めに使用することができる。
る１つの手段である。そのような記憶媒体では、ＣＤに
おける複写されたピットの単一層、および標準的なＤＶ
Ｄにおける２から４の層の代わりに、２以上の層がデー
タを記憶するために使用される。たとえば、米国特許第
４，４５０，５５３号、５，２０２，８７５号、５，２
６３，０１１号、５，３７３，４９９号、および５，６
２７，８１７号に多層記憶媒体が記載されている。多層
媒体においては、最近の標準に適合するように、媒体の
全体の厚さが１．２ミリであることが望ましい。すなわ
ち、６または１２層の媒体では、各基体の層の厚さがそ
れぞれ０．２または０．１ミリであることが必要とされ
る。近年の射出成型法では、必要とされる光学特性を有
するそのような薄い基体を製造することができないこと
は公知である。そのような薄い射出成形された基体は、
そってしまい、大きな応力と複屈折を有する。一方、本
発明の高品質シートは、非常になめらかな表面、小さい
応力および小さい複屈折を有する薄い基体を製造するた
めに使用することができる。
【００３６】単一層のＣＤにピット構造を複写するため
に上記に記載された方法は、多層記憶媒体についても効
果的に適用することができる。たとえば、１以上のポリ
マー層（被覆）を基体に、たとえば連続法により適用す
ることができる。１度被覆したら熱スタンパーを使用し
たエンボッシングによりシートの上にデータがエンコー
ドされる。別法として、フォトポリマーを基体の上に塗
布し、データを光学的な画像形成法（リソグラフィー）
によりエンコードすることができる。一度基体にデータ
がエンコードされたら半反射性金属性層または狭い波長
帯の誘電層がそれぞれの基体の層に施され、光がそれぞ
れの基体の層から反射されるようにする。このそれぞれ
の基体の層はついで、接着結合層を使用して互いに積層
され、所望の多層記憶媒体が形成される。
に上記に記載された方法は、多層記憶媒体についても効
果的に適用することができる。たとえば、１以上のポリ
マー層（被覆）を基体に、たとえば連続法により適用す
ることができる。１度被覆したら熱スタンパーを使用し
たエンボッシングによりシートの上にデータがエンコー
ドされる。別法として、フォトポリマーを基体の上に塗
布し、データを光学的な画像形成法（リソグラフィー）
によりエンコードすることができる。一度基体にデータ
がエンコードされたら半反射性金属性層または狭い波長
帯の誘電層がそれぞれの基体の層に施され、光がそれぞ
れの基体の層から反射されるようにする。このそれぞれ
の基体の層はついで、接着結合層を使用して互いに積層
され、所望の多層記憶媒体が形成される。
【００３７】本発明の高品質シートは多層の書き換え可
能な記憶媒体における基体としても有用である。そのよ
うな媒体では、それぞれのシートが形成され被覆された
後は、それらはスパイラルグルーブパターンでエンボッ
シングされる。相変化媒体またはＭＯ媒体のような媒体
では、ついでプラスチック基体上にスパッタされ、つい
で半反射性金属性層または狭い波長帯の誘電層が施され
る。それぞれの基体の層はついで、接着結合層を使用し
て互いに積層され、所望の多層記憶媒体が形成される。
能な記憶媒体における基体としても有用である。そのよ
うな媒体では、それぞれのシートが形成され被覆された
後は、それらはスパイラルグルーブパターンでエンボッ
シングされる。相変化媒体またはＭＯ媒体のような媒体
では、ついでプラスチック基体上にスパッタされ、つい
で半反射性金属性層または狭い波長帯の誘電層が施され
る。それぞれの基体の層はついで、接着結合層を使用し
て互いに積層され、所望の多層記憶媒体が形成される。
【００３８】本発明の高品質シートが磁気記憶媒体に使
用される場合には、磁気記憶媒体は本発明の方法により
製造された高品質プラスチックシートであり、シートの
すくなくとも１つの面に磁気合金（ｍａｇｎｅｔｉｃ
ａｌｌｏｙ）が配置されたシートを含む。任意の本発明
の高品質プラスチックシートが磁気記憶媒体の基体とし
ての使用に適する。磁気合金は高品質シートにスパッタ
リングにより適用されることが好ましい。任意に、高品
質シートはさらに剛化剤（ｓｔｉｆｆｅｎｉｎｇ ａｇ
ｅｎｔ）を含むことができる。剛化剤は高品質シートが
より大きな弾性率（剛性）を必要とする場合に有用であ
る。好適な剛化剤としては、ガラス繊維、タルク、窒化
ケイ素、クレイおよびこれらの混合物が挙げられるが、
これらに限定されるものではない。アルミニウムディス
クのような磁気記憶媒体として公知の他の基体に比較し
て、本発明のシートはより軽く、なめらかであり、剛性
があり、強靱であるという利点を有する。
用される場合には、磁気記憶媒体は本発明の方法により
製造された高品質プラスチックシートであり、シートの
すくなくとも１つの面に磁気合金（ｍａｇｎｅｔｉｃ
ａｌｌｏｙ）が配置されたシートを含む。任意の本発明
の高品質プラスチックシートが磁気記憶媒体の基体とし
ての使用に適する。磁気合金は高品質シートにスパッタ
リングにより適用されることが好ましい。任意に、高品
質シートはさらに剛化剤（ｓｔｉｆｆｅｎｉｎｇ ａｇ
ｅｎｔ）を含むことができる。剛化剤は高品質シートが
より大きな弾性率（剛性）を必要とする場合に有用であ
る。好適な剛化剤としては、ガラス繊維、タルク、窒化
ケイ素、クレイおよびこれらの混合物が挙げられるが、
これらに限定されるものではない。アルミニウムディス
クのような磁気記憶媒体として公知の他の基体に比較し
て、本発明のシートはより軽く、なめらかであり、剛性
があり、強靱であるという利点を有する。
【００３９】本発明の高品質シートは３次元（３−Ｄ）
光学的記憶媒体用の基体としても有用である。３−Ｄ光
学的記憶媒体は、コンピーターのハードドライブや同様
なデータ記憶装置のような、高密度のデータ記憶を必要
とする全ての用途において有用である。そのような３−
Ｄ光学的記憶媒体は、ＣＤ−ＲＯＭや磁気記憶媒体のよ
うな従来の２次元の記憶媒体とは異なり、情報は３次元
の空間に記憶され、基体の面上のみにはない。これによ
り記憶容量が何倍にもなり、１平方インチ（６．４５平
方センチ）あたりギガバイトから１立方インチ（１６．
３９立方センチ）あたりテラバイトになる。３−Ｄ光学
的記憶媒体のいくつかの例が公知である。これらにはた
とえばＬｉＮｂＯ３のような無機物質（または顔料）、
有機物質（または染料）に基づくものが含まれている。
３−Ｄ光学的記憶媒体において有用な有機物質の例とし
ては、可逆的な着色を示し偏光したレーザービームによ
り光学的に励起され白くなるフォトクロミック染料；レ
ーザービームの電場内で配向し局部的な複屈折の変化を
引き起こす側鎖液晶ポリマー；染料分子がフレキシブル
スペーサーとともに主鎖に結合し、偏光したレーザービ
ーム内で配向し局部的な複屈折の変化を引き起こす、染
料分子を含む側鎖を有する非晶質ポリマー；側鎖にアゾ
基を含む染料分子を有するポリマー；レーザービーム内
で励起して電子遷移を起こす光感受性タンパク質分子；
光屈折性物質；およびフォトポリマーが挙げられる。
光学的記憶媒体用の基体としても有用である。３−Ｄ光
学的記憶媒体は、コンピーターのハードドライブや同様
なデータ記憶装置のような、高密度のデータ記憶を必要
とする全ての用途において有用である。そのような３−
Ｄ光学的記憶媒体は、ＣＤ−ＲＯＭや磁気記憶媒体のよ
うな従来の２次元の記憶媒体とは異なり、情報は３次元
の空間に記憶され、基体の面上のみにはない。これによ
り記憶容量が何倍にもなり、１平方インチ（６．４５平
方センチ）あたりギガバイトから１立方インチ（１６．
３９立方センチ）あたりテラバイトになる。３−Ｄ光学
的記憶媒体のいくつかの例が公知である。これらにはた
とえばＬｉＮｂＯ３のような無機物質（または顔料）、
有機物質（または染料）に基づくものが含まれている。
３−Ｄ光学的記憶媒体において有用な有機物質の例とし
ては、可逆的な着色を示し偏光したレーザービームによ
り光学的に励起され白くなるフォトクロミック染料；レ
ーザービームの電場内で配向し局部的な複屈折の変化を
引き起こす側鎖液晶ポリマー；染料分子がフレキシブル
スペーサーとともに主鎖に結合し、偏光したレーザービ
ーム内で配向し局部的な複屈折の変化を引き起こす、染
料分子を含む側鎖を有する非晶質ポリマー；側鎖にアゾ
基を含む染料分子を有するポリマー；レーザービーム内
で励起して電子遷移を起こす光感受性タンパク質分子；
光屈折性物質；およびフォトポリマーが挙げられる。
【００４０】典型的には、３−Ｄ光学的記憶媒体は偏光
を利用し、たとえば複屈折や吸収のような光学特性の局
部的な変化を引き起こす。レーザー、好ましくは偏光し
たレーザーが３−Ｄ光学的記憶媒体の光源として典型的
に使用される。これは媒体が光源に対して一般にサブミ
クロンのサイズである具体的な点に焦点あわせすること
ができることを要求するからである。レーザーの狭い線
幅がそのような具体的な点に対する焦点あわせを可能と
する。たとえば、そのような有機物質を使用した３−Ｄ
光学的記憶媒体では、偏光したレーザービームは染料の
シス−トランス転移を引き起こし、これは吸収スペクト
ルと局部的な光学濃度を変化させる。したがって、分子
に書き込みするために使用されるレーザービームにディ
ストーションを生じさせないために、媒体が非常に小さ
な複屈折を有することが重要である。記憶された情報を
読みとるときには、媒体は非常に小さな複屈折を有して
いなければならない。書き込み用レーザービームが局部
的な光学特性の適度な変化を引き起こすことはＳＮ比の
増大をもたらすので、マトリックスが非常に小さな複屈
折を有することは、当該技術分野の当業者にとって望ま
しいことである。マトリックスが大きな複屈折を有して
いると、ＳＮ比は小さくなり、３−Ｄ空間に記憶された
データを読みとることが非常に困難になる。
を利用し、たとえば複屈折や吸収のような光学特性の局
部的な変化を引き起こす。レーザー、好ましくは偏光し
たレーザーが３−Ｄ光学的記憶媒体の光源として典型的
に使用される。これは媒体が光源に対して一般にサブミ
クロンのサイズである具体的な点に焦点あわせすること
ができることを要求するからである。レーザーの狭い線
幅がそのような具体的な点に対する焦点あわせを可能と
する。たとえば、そのような有機物質を使用した３−Ｄ
光学的記憶媒体では、偏光したレーザービームは染料の
シス−トランス転移を引き起こし、これは吸収スペクト
ルと局部的な光学濃度を変化させる。したがって、分子
に書き込みするために使用されるレーザービームにディ
ストーションを生じさせないために、媒体が非常に小さ
な複屈折を有することが重要である。記憶された情報を
読みとるときには、媒体は非常に小さな複屈折を有して
いなければならない。書き込み用レーザービームが局部
的な光学特性の適度な変化を引き起こすことはＳＮ比の
増大をもたらすので、マトリックスが非常に小さな複屈
折を有することは、当該技術分野の当業者にとって望ま
しいことである。マトリックスが大きな複屈折を有して
いると、ＳＮ比は小さくなり、３−Ｄ空間に記憶された
データを読みとることが非常に困難になる。
【００４１】すなわち、シート内に１以上の顔料、染
料、またはこれらの混合物を分散させることにより、本
発明の高品質光学シートを３−Ｄ光学的記憶媒体を製造
するために使用することができる。顔料、染料、または
これらの混合物は、ＬｉＮｂＯ ３、フォトクロミック染
料、側鎖液晶ポリマー、染料分子を含む側鎖を有する非
晶質ポリマー、；側鎖にアゾ基を含む染料分子を有する
ポリマー、光感受性タンパク質分子、光屈折性物質、お
よびフォトポリマーから選択されることが好ましい。偏
光したレーザービームの電場内で電子遷移を起こしてそ
の吸収、配向の変化を引き起こし、局部的な屈折率の変
化を引き起こしたり、または架橋のような化学反応を起
こして屈折率の変化を引き起こす任意の分子、ポリマ
ー、顔料または他の無機物質をブレンドすることも可能
である。典型的には、顔料、染料、またはこれらの混合
物を溶融プラスチック樹脂と混合した後、溶融樹脂をオ
ーバーフローダイを使用してウェブに成型することによ
り、顔料、染料、またはこれらの混合物と本発明の光学
的シートを一緒にすることができる。
料、またはこれらの混合物を分散させることにより、本
発明の高品質光学シートを３−Ｄ光学的記憶媒体を製造
するために使用することができる。顔料、染料、または
これらの混合物は、ＬｉＮｂＯ ３、フォトクロミック染
料、側鎖液晶ポリマー、染料分子を含む側鎖を有する非
晶質ポリマー、；側鎖にアゾ基を含む染料分子を有する
ポリマー、光感受性タンパク質分子、光屈折性物質、お
よびフォトポリマーから選択されることが好ましい。偏
光したレーザービームの電場内で電子遷移を起こしてそ
の吸収、配向の変化を引き起こし、局部的な屈折率の変
化を引き起こしたり、または架橋のような化学反応を起
こして屈折率の変化を引き起こす任意の分子、ポリマ
ー、顔料または他の無機物質をブレンドすることも可能
である。典型的には、顔料、染料、またはこれらの混合
物を溶融プラスチック樹脂と混合した後、溶融樹脂をオ
ーバーフローダイを使用してウェブに成型することによ
り、顔料、染料、またはこれらの混合物と本発明の光学
的シートを一緒にすることができる。
【００４２】本発明の方法により製造されるシートは回
路板製造、特に回路層の基体としての使用に適する。多
層印刷回路板は種々の用途に使用され、重量とスペース
の節約に大きな効果を有する。多層板は２以上の回路の
層を含み、それぞれの回路の層は誘電性物質の１以上の
層で互いに分離されている。回路の層はポリマー基体の
上に銅の層を施すことにより形成される。印刷回路がつ
いで銅の層の上に、たとえば印刷およびエッチングのよ
うな、回路図形の画定および形成のための公知の技術に
より形成される。
路板製造、特に回路層の基体としての使用に適する。多
層印刷回路板は種々の用途に使用され、重量とスペース
の節約に大きな効果を有する。多層板は２以上の回路の
層を含み、それぞれの回路の層は誘電性物質の１以上の
層で互いに分離されている。回路の層はポリマー基体の
上に銅の層を施すことにより形成される。印刷回路がつ
いで銅の層の上に、たとえば印刷およびエッチングのよ
うな、回路図形の画定および形成のための公知の技術に
より形成される。
【００４３】積層後、多層回路の層は板の表面を通して
スルーホールをあけることにより接続される。スルーホ
ールをあけた際の樹脂の汚れが、たとえば濃硫酸または
熱過マンガン酸アルカリによる処理のようなかなり厳し
い条件で除去され、ついでスルーホールはさらに加工さ
れ、メッキされて導電性の互いに接続された表面が提供
される。積層の前に、回路の層は典型的には接着促進剤
で処理され、それぞれの回路の層と内部に残される樹脂
層との間の接着強度が改良される。接着強度の改良のた
めの１つの好ましい方法は、回路の層を酸化処理し、酸
化銅の被覆を上に形成することである。
スルーホールをあけることにより接続される。スルーホ
ールをあけた際の樹脂の汚れが、たとえば濃硫酸または
熱過マンガン酸アルカリによる処理のようなかなり厳し
い条件で除去され、ついでスルーホールはさらに加工さ
れ、メッキされて導電性の互いに接続された表面が提供
される。積層の前に、回路の層は典型的には接着促進剤
で処理され、それぞれの回路の層と内部に残される樹脂
層との間の接着強度が改良される。接着強度の改良のた
めの１つの好ましい方法は、回路の層を酸化処理し、酸
化銅の被覆を上に形成することである。
【００４４】本発明の方法により製造されたシートがマ
イクロ光学レンズアレイ用の基体として使用される場合
には、アレイは任意の好適な光学的記憶媒体を製造する
手段によって製造することができる。好適なマイクロ光
学レンズアレイとしては、レクティリニヤプリズム（ｒ
ｅｃｔｉｌｉｎｅａｒ ｐｒｉｓｍｓ）、ピラミッドの
２次元アレイ（ｔｗｏ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ ａｒ
ｒａｙｓ ｏｆ ｐｙｒａｍｉｄｓ）、回折レンズおよ
びホログラフィックレンズアレイがあげられるがこれら
に限定されるものではない。たとえば、本発明のシート
の上にレンズのアレイをエンボスするために熱エンボッ
サーを使用することができる。熱エンボッサーを圧縮成
型プレス内で使用することが好ましい。本発明のシート
は、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアクリル、
ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアクリレートのホ
モポリマーおよびコポリマー、並びにこれらの混合物か
らなる群から選択されることが好ましい。そのようなマ
イクロ光学レンズアレイは光の屈折または回折を必要と
するディスプレイおよびイメージング用途に有用であ
る。そのような用途としては、ヘッド−アップディスプ
レイ（ｈｅａｄｓ−ｕｐ ｄｉｓｐｌａｙ）、大スクリ
ーンディスプレイ、並びにたとえばフォトコピーおよび
ファクシミリ機の様な事務機器におけるレンズアレイが
あげられるがこれらに限定されるものではない。マイク
ロ光学アレイにおいて使用されるレンズは典型的には１
０から１００ミクロンである。ホログラフィックレンズ
においては、高さは典型的には光の波長のフラクション
（ｆｒａｃｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ ｗａｖｅｌｅｎｇ
ｔｈ ｏｆ ｌｉｇｈｔ）であり、横方向の寸法は典型
的には１０から１００ミクロンである。
イクロ光学レンズアレイ用の基体として使用される場合
には、アレイは任意の好適な光学的記憶媒体を製造する
手段によって製造することができる。好適なマイクロ光
学レンズアレイとしては、レクティリニヤプリズム（ｒ
ｅｃｔｉｌｉｎｅａｒ ｐｒｉｓｍｓ）、ピラミッドの
２次元アレイ（ｔｗｏ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ ａｒ
ｒａｙｓ ｏｆ ｐｙｒａｍｉｄｓ）、回折レンズおよ
びホログラフィックレンズアレイがあげられるがこれら
に限定されるものではない。たとえば、本発明のシート
の上にレンズのアレイをエンボスするために熱エンボッ
サーを使用することができる。熱エンボッサーを圧縮成
型プレス内で使用することが好ましい。本発明のシート
は、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアクリル、
ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアクリレートのホ
モポリマーおよびコポリマー、並びにこれらの混合物か
らなる群から選択されることが好ましい。そのようなマ
イクロ光学レンズアレイは光の屈折または回折を必要と
するディスプレイおよびイメージング用途に有用であ
る。そのような用途としては、ヘッド−アップディスプ
レイ（ｈｅａｄｓ−ｕｐ ｄｉｓｐｌａｙ）、大スクリ
ーンディスプレイ、並びにたとえばフォトコピーおよび
ファクシミリ機の様な事務機器におけるレンズアレイが
あげられるがこれらに限定されるものではない。マイク
ロ光学アレイにおいて使用されるレンズは典型的には１
０から１００ミクロンである。ホログラフィックレンズ
においては、高さは典型的には光の波長のフラクション
（ｆｒａｃｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ ｗａｖｅｌｅｎｇ
ｔｈ ｏｆ ｌｉｇｈｔ）であり、横方向の寸法は典型
的には１０から１００ミクロンである。
【００４５】本発明の光学的高品質シートが構造化され
た表面（ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ ｓｕｒｆａｃｅ）を有
する場合には、そのようなシートはライトマネージメン
ト（ｌｉｇｈｔ ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ）またはライト
ディレクティングフィルム（ｌｉｇｈｔ ｄｉｒｅｃｔ
ｉｎｇ ｆｉｌｍ）に使用するのに好適である。ライト
ディレクティングフィルムは透過特性を有し、それは光
の入射角度により制御される。たとえば、ライトディレ
クティングフィルムは構造化された表面である、１つの
表面にエンボスされた角度を付けたプリグムのレクティ
リニアペリオディクアレイ（ｒｅｃｔｉｌｉｎｅａｒ
ｐｅｒｉｏｄｉｃ ａｒｒａｙ）を有するポリマーフィ
ルムからなる。このライトディレクティングフィルム
は、その平らな表面で光源からの光を受け、その構造化
された面へと光を透過するコリメーターとして作用す
る。このフィルムのなめらかな面に比較的大きな入射角
で入射する光は、フィルムのなめらかな表面と構造化さ
れた表面とで屈折され、フィルムのなめらかな表面に垂
直な方向に向けられ、シートから出てゆく。さらに、臨
界角よりも大きな角度で内部から構造化された表面にぶ
つかる光は、プリズム要素の両方の表面ないしファセッ
ト（ｆａｃｅｔｓ）から内部全反射（ｔｏｔａｌｉｎｔ
ｅｒｎａｌ ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）を起こし、光源の
方向に向けられる。しかし、光がフィルムの構造化され
た表面に入射しフィルムのなめらかな表面に透過してゆ
くときは、完全に反対の挙動が観察される。すなわち、
ライトディレクティングフィルムに垂直に近い角度で光
が入射して透過すると、大きな角度で入射した光線は内
部全反射により反射され戻される。そのようなライチマ
ネージメントフィルムまたはライトディレクティングフ
ィルムは、バックライト照明のようなＬＣＤ照明システ
ム用途に特に適する。
た表面（ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ ｓｕｒｆａｃｅ）を有
する場合には、そのようなシートはライトマネージメン
ト（ｌｉｇｈｔ ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ）またはライト
ディレクティングフィルム（ｌｉｇｈｔ ｄｉｒｅｃｔ
ｉｎｇ ｆｉｌｍ）に使用するのに好適である。ライト
ディレクティングフィルムは透過特性を有し、それは光
の入射角度により制御される。たとえば、ライトディレ
クティングフィルムは構造化された表面である、１つの
表面にエンボスされた角度を付けたプリグムのレクティ
リニアペリオディクアレイ（ｒｅｃｔｉｌｉｎｅａｒ
ｐｅｒｉｏｄｉｃ ａｒｒａｙ）を有するポリマーフィ
ルムからなる。このライトディレクティングフィルム
は、その平らな表面で光源からの光を受け、その構造化
された面へと光を透過するコリメーターとして作用す
る。このフィルムのなめらかな面に比較的大きな入射角
で入射する光は、フィルムのなめらかな表面と構造化さ
れた表面とで屈折され、フィルムのなめらかな表面に垂
直な方向に向けられ、シートから出てゆく。さらに、臨
界角よりも大きな角度で内部から構造化された表面にぶ
つかる光は、プリズム要素の両方の表面ないしファセッ
ト（ｆａｃｅｔｓ）から内部全反射（ｔｏｔａｌｉｎｔ
ｅｒｎａｌ ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）を起こし、光源の
方向に向けられる。しかし、光がフィルムの構造化され
た表面に入射しフィルムのなめらかな表面に透過してゆ
くときは、完全に反対の挙動が観察される。すなわち、
ライトディレクティングフィルムに垂直に近い角度で光
が入射して透過すると、大きな角度で入射した光線は内
部全反射により反射され戻される。そのようなライチマ
ネージメントフィルムまたはライトディレクティングフ
ィルムは、バックライト照明のようなＬＣＤ照明システ
ム用途に特に適する。
【００４６】典型的には構造化された表面は、シートが
暖かい内にシート表面に構造をエンボッシングすること
により、または冷却された表面に熱エンボッサーを使用
する事により、本発明の光学的シートに付与することが
できる。適当な粘度を有する硬化可能なプレポリマーで
本発明の光学的シートをコーティングし、プレポリマー
コーティング上に所望の構造化された表面をエンボッシ
ングし、ついでプレポリマーを硬化することにより、構
造化された表面を付与することが好ましい。プレポリマ
ーが紫外線硬化性のものであることが好ましい。本発明
の光学的シートを被覆することができ、硬化の間任意の
エンボスされた構造を保持することのできるプレポリマ
ーは、ライチマネージメントフィルムに使用するために
適当な粘度を有するものである。
暖かい内にシート表面に構造をエンボッシングすること
により、または冷却された表面に熱エンボッサーを使用
する事により、本発明の光学的シートに付与することが
できる。適当な粘度を有する硬化可能なプレポリマーで
本発明の光学的シートをコーティングし、プレポリマー
コーティング上に所望の構造化された表面をエンボッシ
ングし、ついでプレポリマーを硬化することにより、構
造化された表面を付与することが好ましい。プレポリマ
ーが紫外線硬化性のものであることが好ましい。本発明
の光学的シートを被覆することができ、硬化の間任意の
エンボスされた構造を保持することのできるプレポリマ
ーは、ライチマネージメントフィルムに使用するために
適当な粘度を有するものである。
【００４７】本発明により製造されるシートは、導波路
光学部品（ｗａｖｅｇｕｉｄｅ ｏｐｔｉｃｓ）の分野
での使用にも適する。好適な導波路光学部品としては、
導波路、能動および受動光スイッチ（ｐｈｏｔｏｎｉｃ
ｓｗｉｔｃｈ）、波長分割マルチプレクサー（ｗａｖ
ｅｌｅｎｇｔｈ ｄｉｖｉｓｉｏｎ ｍｕｌｔｉｐｌｅ
ｘｅｒｓ）、エレクトロルミネセント光源、および電気
光学モジュレーターがあげられるがこれらに限定される
ものではない。これらの用途で使用される場合には、導
波路光学部品はマイクロ光学アレイと同様の方法でシー
ト上にエンボスされることができる。本発明のシートか
ら作られた導波路の利点は、それらが大きなシートに形
成可能であること、および公知技術における製造のコス
トの高さと困難さが避けられることである。導波路部品
用途では、シートが、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリアクリル、ポリエステル、ポリオレフィン、ポ
リアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、並び
にこれらの混合物からなる群から選択されることが好ま
しい。
光学部品（ｗａｖｅｇｕｉｄｅ ｏｐｔｉｃｓ）の分野
での使用にも適する。好適な導波路光学部品としては、
導波路、能動および受動光スイッチ（ｐｈｏｔｏｎｉｃ
ｓｗｉｔｃｈ）、波長分割マルチプレクサー（ｗａｖ
ｅｌｅｎｇｔｈ ｄｉｖｉｓｉｏｎ ｍｕｌｔｉｐｌｅ
ｘｅｒｓ）、エレクトロルミネセント光源、および電気
光学モジュレーターがあげられるがこれらに限定される
ものではない。これらの用途で使用される場合には、導
波路光学部品はマイクロ光学アレイと同様の方法でシー
ト上にエンボスされることができる。本発明のシートか
ら作られた導波路の利点は、それらが大きなシートに形
成可能であること、および公知技術における製造のコス
トの高さと困難さが避けられることである。導波路部品
用途では、シートが、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリアクリル、ポリエステル、ポリオレフィン、ポ
リアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、並び
にこれらの混合物からなる群から選択されることが好ま
しい。
【００４８】本発明のシートはマイクロ流体装置（ｍｉ
ｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃ ｄｅｖｉｃｅｓ）の製造にも使
用することができる。そのような装置としては、生体薬
剤用途のための微少診断システム、微少流体誘導装置、
薬剤および生化学用途のための微少センサー装置、およ
び３次元マイクロ流体システムがあげられるがこれらに
限定されるものではない。これらの用途において使用さ
れる際には、シートはポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリアクリル、ポリエステル、ポリオレフィン、ポ
リアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、並び
にこれらの混合物からなる群から選択されることが好ま
しい。
ｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃ ｄｅｖｉｃｅｓ）の製造にも使
用することができる。そのような装置としては、生体薬
剤用途のための微少診断システム、微少流体誘導装置、
薬剤および生化学用途のための微少センサー装置、およ
び３次元マイクロ流体システムがあげられるがこれらに
限定されるものではない。これらの用途において使用さ
れる際には、シートはポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリアクリル、ポリエステル、ポリオレフィン、ポ
リアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、並び
にこれらの混合物からなる群から選択されることが好ま
しい。
【００４９】本発明方法によって造られるシートのため
の具体的な用途により、低収縮性、低複屈折および表面
の品質のようなシート特性の相対的な重要さは変化す
る。また、所望するシートの厚さも具体的な用途により
変化する。一般的には、約２５ｍｍ以下、好ましくは１
０〜５０００μ、そして最も好ましくは５０〜１０００
μである。シートの厚さは、溶融ポリマーをダイに供給
する速度を変えることにより、または引き取り手段の速
度を変えることにより、調節することができる。４００
ｍｍの試料の長さについての厚さの変動は、一般的に、
１０％以下、好ましくは５％以下、そして最も好ましく
は１％以下である。
の具体的な用途により、低収縮性、低複屈折および表面
の品質のようなシート特性の相対的な重要さは変化す
る。また、所望するシートの厚さも具体的な用途により
変化する。一般的には、約２５ｍｍ以下、好ましくは１
０〜５０００μ、そして最も好ましくは５０〜１０００
μである。シートの厚さは、溶融ポリマーをダイに供給
する速度を変えることにより、または引き取り手段の速
度を変えることにより、調節することができる。４００
ｍｍの試料の長さについての厚さの変動は、一般的に、
１０％以下、好ましくは５％以下、そして最も好ましく
は１％以下である。
【００５０】本発明の典型的な装置を図１〜４に示す。
当業者に明らかように、これらの図の中に例示された装
置からの変動は、本発明の範囲内に含まれる。
当業者に明らかように、これらの図の中に例示された装
置からの変動は、本発明の範囲内に含まれる。
【００５１】ソース１０からの溶融ポリマーは、流路１
２を経由してオーバーフローダイ２０に供給され（好ま
しくは、供給手段１４によって調節される）、導管の開
口２１から導管２２を通してダイ２０に導入される。溶
融ポリマーをダイ２０に供給するときの溶融ポリマーの
温度は、ダイ２０に近接して設置されているヒーター１
５を使用することによって維持される。溶融ポリマーが
開口２１を満たすと、溶融ポリマーは計量装置、スロッ
ト２３を通って、ダイのリップ上に押し出され、ダイ２
０の側面２４および２５を流れ出る。ダイ２０の頂点２
６において、側面２４および２５から流れる溶融ポリマ
ーは収束され、溶融ウェブ２７の始まりが形成される。
２を経由してオーバーフローダイ２０に供給され（好ま
しくは、供給手段１４によって調節される）、導管の開
口２１から導管２２を通してダイ２０に導入される。溶
融ポリマーをダイ２０に供給するときの溶融ポリマーの
温度は、ダイ２０に近接して設置されているヒーター１
５を使用することによって維持される。溶融ポリマーが
開口２１を満たすと、溶融ポリマーは計量装置、スロッ
ト２３を通って、ダイのリップ上に押し出され、ダイ２
０の側面２４および２５を流れ出る。ダイ２０の頂点２
６において、側面２４および２５から流れる溶融ポリマ
ーは収束され、溶融ウェブ２７の始まりが形成される。
【００５２】溶融ウェブ２７は、溶融ウェブをダイ２０
から遠くに導く２組の誘導手段（例えば、タンクトレッ
ド（ｔａｎｋ ｔｒｅａｄｓ）３１、３２、３３および
３４）によって、その端部においてピックアップされ
る。溶融ウェブ２７はダイ２０から離れるように導かれ
ながら、ウェブの温度が、ポリマーのガラス転移温度以
下に徐々に落とされ、その結果冷却されたシート４０を
生じる。任意的な態様において、誘導手段３１、３２、
３３、３４に近接して設置された冷却手段３６は、ウェ
ブの温度が低下するのを助ける。
から遠くに導く２組の誘導手段（例えば、タンクトレッ
ド（ｔａｎｋ ｔｒｅａｄｓ）３１、３２、３３および
３４）によって、その端部においてピックアップされ
る。溶融ウェブ２７はダイ２０から離れるように導かれ
ながら、ウェブの温度が、ポリマーのガラス転移温度以
下に徐々に落とされ、その結果冷却されたシート４０を
生じる。任意的な態様において、誘導手段３１、３２、
３３、３４に近接して設置された冷却手段３６は、ウェ
ブの温度が低下するのを助ける。
【００５３】溶融樹脂は任意の方法により供給すること
ができる。例えば、溶融樹脂は、重合反応器、混合機、
脱蔵用装置〔例えば、フラッシュカラム、フォーリング
ストランド デボラティライザー（ｆａｌｌｉｎｇ
ｓｔｒａｎｄ ｄｅｖｏｌａｔｉｌｉｚｅｒ）またはワ
ィプド フィルム エバポレイター（ｗｉｐｅｄ ｆｉ
ｌｍ ｅｖａｐｏｒａｔｅｒ）〕または押し出し機から
供給してもよい。押し出し機が好ましい、なぜなら、そ
れは、また、ポリマーを供給する手段として機能するか
らである（後述の議論を参照）。一軸スクリュー押し出
し機を使用することがもっとも好ましい。ただし、二軸
スクリュー押し出し機または多軸スクリュー押し出し機
も使用できる。二軸または多軸のスクリュー押し出し機
を使用するならば、それらは、例えば逆方向回転式、同
方向回転式、かみ合い式または非かみ合い式のいずれの
タイプでもよい。樹脂の取り扱いおよび製造に関する公
知の技術を本発明の方法において使用することができ
る。そのような技術としては、乾燥、不活性雰囲気の利
用、ペレット制塵などがあげられる。
ができる。例えば、溶融樹脂は、重合反応器、混合機、
脱蔵用装置〔例えば、フラッシュカラム、フォーリング
ストランド デボラティライザー（ｆａｌｌｉｎｇ
ｓｔｒａｎｄ ｄｅｖｏｌａｔｉｌｉｚｅｒ）またはワ
ィプド フィルム エバポレイター（ｗｉｐｅｄ ｆｉ
ｌｍ ｅｖａｐｏｒａｔｅｒ）〕または押し出し機から
供給してもよい。押し出し機が好ましい、なぜなら、そ
れは、また、ポリマーを供給する手段として機能するか
らである（後述の議論を参照）。一軸スクリュー押し出
し機を使用することがもっとも好ましい。ただし、二軸
スクリュー押し出し機または多軸スクリュー押し出し機
も使用できる。二軸または多軸のスクリュー押し出し機
を使用するならば、それらは、例えば逆方向回転式、同
方向回転式、かみ合い式または非かみ合い式のいずれの
タイプでもよい。樹脂の取り扱いおよび製造に関する公
知の技術を本発明の方法において使用することができ
る。そのような技術としては、乾燥、不活性雰囲気の利
用、ペレット制塵などがあげられる。
【００５４】溶融樹脂に、１種以上のプラスチック添加
剤、例えば酸化防止剤、紫外線（ＵＶ）吸収剤、ＵＶ安
定剤、蛍光または吸光染料、静電防止用添加剤、剥離
剤、充填剤および粒状物を含有させてもよい。具体的な
目的のために具体的な樹脂と共に使用する添加剤のタイ
プおよび量は、プラスチック業界の当業者に知られてお
り、従って本明細書の中に更に詳細に記述しない。
剤、例えば酸化防止剤、紫外線（ＵＶ）吸収剤、ＵＶ安
定剤、蛍光または吸光染料、静電防止用添加剤、剥離
剤、充填剤および粒状物を含有させてもよい。具体的な
目的のために具体的な樹脂と共に使用する添加剤のタイ
プおよび量は、プラスチック業界の当業者に知られてお
り、従って本明細書の中に更に詳細に記述しない。
【００５５】樹脂が加工される温度は、樹脂の組成に依
存し、かつ加工する間に変化することができる。温度
は、樹脂が流れるほどに充分高くなければならないが、
樹脂を劣化するほど高くしてはならない。操作条件は、
加工すべきポリマーのタイプによって変わるが、当業者
に知られている範囲内である。しかし、一般的な指針と
して、操作温度は１００〜４００℃である。例えば、Ｐ
ＭＭＡは、１５０〜２６０℃の押し出し機バレル温度を
有する押し出し機で、そして１５０〜２６０℃の溶融温
度において加工できる。また、ポリカーボネートまたは
ポリメチルメタクリルイミドのような他のポリマーは、
より高い溶融温度（２００〜３３０℃）において適当に
使用できる。揮発性物質および望ましくないある種の物
質は、シートを形成する前に溶融樹脂から除くことが好
ましい。これは、当業者に知られている方法によって達
成させることができる。
存し、かつ加工する間に変化することができる。温度
は、樹脂が流れるほどに充分高くなければならないが、
樹脂を劣化するほど高くしてはならない。操作条件は、
加工すべきポリマーのタイプによって変わるが、当業者
に知られている範囲内である。しかし、一般的な指針と
して、操作温度は１００〜４００℃である。例えば、Ｐ
ＭＭＡは、１５０〜２６０℃の押し出し機バレル温度を
有する押し出し機で、そして１５０〜２６０℃の溶融温
度において加工できる。また、ポリカーボネートまたは
ポリメチルメタクリルイミドのような他のポリマーは、
より高い溶融温度（２００〜３３０℃）において適当に
使用できる。揮発性物質および望ましくないある種の物
質は、シートを形成する前に溶融樹脂から除くことが好
ましい。これは、当業者に知られている方法によって達
成させることができる。
【００５６】溶融ポリマーを一定の流量で供給するため
の供給手段１４は、流速を調節するために、そして溶融
ポリマーを流路１２、導管の開口２１および導管２２を
通ってダイ２０に供給するのに必要とする圧力を提供す
るために必要である。供給手段には、たとえば前述した
ような任意の適当な押し出し機、ギアポンプ、またはそ
れらの組み合わせ物のような任意の機械式溶融ポンプの
あらゆるタイプが使用できる。簡単な形態において、供
給手段は、重力供給または静水圧であってもよい。供給
手段は、当業者に知られた方法によって選ぶことができ
る。ギアタイプの溶融ポンプを使用することが好まし
い、なぜなら、それは、流速を調節し、そして流速の変
動を最小にし、その結果としてより均一な厚さのシート
が得られるからである。更に、溶融ポンプの使用は、ポ
リマーのせん断による加熱を減少させることによって、
溶融樹脂の劣化を減少させることができる。溶融ポンプ
のための温度は、使用するプラスチック樹脂によって決
められ、標準の押し出しプロセスに使用される温度と同
等であるが、典型的には樹脂のＴｇより５０〜２００℃
高い温度である。例えば、広いシートの製造のために
は、複数の供給手段を使用してもよい。本発明において
は、供給手段は、５０〜７０，０００ｋＰａ、好ましく
は３００〜７０００ｋＰａ、そして最も好ましくは１０
００〜３５００ｋＰａの範囲において、溶融ポリマーを
オーバーフローダイの入口に提供する。
の供給手段１４は、流速を調節するために、そして溶融
ポリマーを流路１２、導管の開口２１および導管２２を
通ってダイ２０に供給するのに必要とする圧力を提供す
るために必要である。供給手段には、たとえば前述した
ような任意の適当な押し出し機、ギアポンプ、またはそ
れらの組み合わせ物のような任意の機械式溶融ポンプの
あらゆるタイプが使用できる。簡単な形態において、供
給手段は、重力供給または静水圧であってもよい。供給
手段は、当業者に知られた方法によって選ぶことができ
る。ギアタイプの溶融ポンプを使用することが好まし
い、なぜなら、それは、流速を調節し、そして流速の変
動を最小にし、その結果としてより均一な厚さのシート
が得られるからである。更に、溶融ポンプの使用は、ポ
リマーのせん断による加熱を減少させることによって、
溶融樹脂の劣化を減少させることができる。溶融ポンプ
のための温度は、使用するプラスチック樹脂によって決
められ、標準の押し出しプロセスに使用される温度と同
等であるが、典型的には樹脂のＴｇより５０〜２００℃
高い温度である。例えば、広いシートの製造のために
は、複数の供給手段を使用してもよい。本発明において
は、供給手段は、５０〜７０，０００ｋＰａ、好ましく
は３００〜７０００ｋＰａ、そして最も好ましくは１０
００〜３５００ｋＰａの範囲において、溶融ポリマーを
オーバーフローダイの入口に提供する。
【００５７】実施態様の１つにおいて、溶融ポリマーは
供給手段１４とダイ２０の間のメルトフィルターまたは
ミキサーを通過する。溶融ポリマーはメルトフィルター
を通過し、ついでミキサーを通過することが好ましい。
このフィルターはゲル物、汚れ、異物粒子を溶融物から
除去する。ミキサーはポリマーをブレンドし、溶融物中
の熱勾配を最小とし、メルトフィルターに起因するフロ
ーラインを取り去る。任意のメルトフィルターを本発明
方法において使用することができる。好適なメルトフィ
ルターとしてはキャンドルフィルターおよびディスクフ
ィルターがあげられる。ディスクフィルターが好まし
い。本発明方法においては任意のミキサーを使用するこ
とができ、たとえばスタティックミキサーおよびロータ
リーミキサーが使用できる。メルトフィルターおよびミ
キサーを使用すると、なめらかさと厚さの制御の点にお
いて優れたプラスチックシートが得られる。
供給手段１４とダイ２０の間のメルトフィルターまたは
ミキサーを通過する。溶融ポリマーはメルトフィルター
を通過し、ついでミキサーを通過することが好ましい。
このフィルターはゲル物、汚れ、異物粒子を溶融物から
除去する。ミキサーはポリマーをブレンドし、溶融物中
の熱勾配を最小とし、メルトフィルターに起因するフロ
ーラインを取り去る。任意のメルトフィルターを本発明
方法において使用することができる。好適なメルトフィ
ルターとしてはキャンドルフィルターおよびディスクフ
ィルターがあげられる。ディスクフィルターが好まし
い。本発明方法においては任意のミキサーを使用するこ
とができ、たとえばスタティックミキサーおよびロータ
リーミキサーが使用できる。メルトフィルターおよびミ
キサーを使用すると、なめらかさと厚さの制御の点にお
いて優れたプラスチックシートが得られる。
【００５８】オーバーフローダイを使用して溶融プラス
チック樹脂からシートを形成する。ダイは、計量装置お
よび断面における頂点に達する収束側面（ｃｏｎｖｅｒ
ｇｉｎｇ ｓｉｄｅｓ）を有するオーバーフローダイ表
面を有する。ダイの長さ方向は、実質的に、直線、曲
線、卵形、または円形にすることができる。ダイの高
さ：幅の比は、一般的に、１：１〜１０：１、好ましく
は２：１〜５：１、そして最も好ましくは２．５：１〜
４：１の範囲にすべきである。長さ（または外周）：高
さの比は、一般的に、少なくとも１：２、好ましくは少
なくとも２：１、そしてもっとも好ましくは少なくとも
３：１にすべきである。
チック樹脂からシートを形成する。ダイは、計量装置お
よび断面における頂点に達する収束側面（ｃｏｎｖｅｒ
ｇｉｎｇ ｓｉｄｅｓ）を有するオーバーフローダイ表
面を有する。ダイの長さ方向は、実質的に、直線、曲
線、卵形、または円形にすることができる。ダイの高
さ：幅の比は、一般的に、１：１〜１０：１、好ましく
は２：１〜５：１、そして最も好ましくは２．５：１〜
４：１の範囲にすべきである。長さ（または外周）：高
さの比は、一般的に、少なくとも１：２、好ましくは少
なくとも２：１、そしてもっとも好ましくは少なくとも
３：１にすべきである。
【００５９】オーバーフローダイの計量装置部分は、例
えば孔、スロット、「コートハンガー（ｃｏａｔｈａｎ
ｇｅｒ）」装置またはそれらの組み合わせのような流れ
を分配する要素からなり、それらは、ダイを横切る溶融
樹脂の流れの分布を調節し、それによって、シートの厚
さプロフィールが調節される。そのような計量装置は、
図５−７に例示されている。当業者に知られているよう
な他の計量装置を使用してもよい。スロット装置が好ま
しい。ダイの長さは造るべきシートの幅によるが、平均
スロット間げき（スロット２３の平均の幅）：平均導管
直径（導管２２の平均の直径）の比は、一般的に、少な
くとも１：５、好ましくは少なくとも１：１０、そして
最も好ましくは少なくとも１：２０にすべきである。１
ｍｍ以下の仕上げ厚さを有するシートのためには、ダイ
を横切る実質的に一定なスロット幅が好ましい。より大
きい厚さのためには、スロットが供給の末端においてよ
り薄く、そして反対の末端においてより厚くなってい
る、テーパースロット（ｔｅｐｅｒｅｄ ｓｌｏｔ）が
好ましい。もし幅の広いシートを所望するならば、導管
の開口２１および２１’（図６を参照）をダイの両末端
において設置することができ、両端においてテーパーさ
れたスロット２３を有することが可能である。
えば孔、スロット、「コートハンガー（ｃｏａｔｈａｎ
ｇｅｒ）」装置またはそれらの組み合わせのような流れ
を分配する要素からなり、それらは、ダイを横切る溶融
樹脂の流れの分布を調節し、それによって、シートの厚
さプロフィールが調節される。そのような計量装置は、
図５−７に例示されている。当業者に知られているよう
な他の計量装置を使用してもよい。スロット装置が好ま
しい。ダイの長さは造るべきシートの幅によるが、平均
スロット間げき（スロット２３の平均の幅）：平均導管
直径（導管２２の平均の直径）の比は、一般的に、少な
くとも１：５、好ましくは少なくとも１：１０、そして
最も好ましくは少なくとも１：２０にすべきである。１
ｍｍ以下の仕上げ厚さを有するシートのためには、ダイ
を横切る実質的に一定なスロット幅が好ましい。より大
きい厚さのためには、スロットが供給の末端においてよ
り薄く、そして反対の末端においてより厚くなってい
る、テーパースロット（ｔｅｐｅｒｅｄ ｓｌｏｔ）が
好ましい。もし幅の広いシートを所望するならば、導管
の開口２１および２１’（図６を参照）をダイの両末端
において設置することができ、両端においてテーパーさ
れたスロット２３を有することが可能である。
【００６０】オーバーフロー表面はダイ２０の外面によ
って形成され、そして計量装置と連結し、かつ溶融ポリ
マーを収束側面２４および２５に導く、一組のダイリッ
プスからなっている。収束性側面は溶融流れを頂点２６
に導き、そこで溶融ウェブがダイから出される。オーバ
ーフロー表面は、テキスチャー（ｔｅｘｔｕｒｅ）があ
るかまたはなめらかであり得るが、好ましくはなめらか
である。更に、好ましくは、オーバーフロー表面は高度
につやを出し、シートの変動および欠陥を最小にする。
オーバーフロー表面を被覆処理して（例えば、電気メッ
キまたは他の付着技術）、ダイ表面のなめらかさを改良
し、腐食抵抗性を提供し、またはダイ上の流れ特性を改
良することができる。
って形成され、そして計量装置と連結し、かつ溶融ポリ
マーを収束側面２４および２５に導く、一組のダイリッ
プスからなっている。収束性側面は溶融流れを頂点２６
に導き、そこで溶融ウェブがダイから出される。オーバ
ーフロー表面は、テキスチャー（ｔｅｘｔｕｒｅ）があ
るかまたはなめらかであり得るが、好ましくはなめらか
である。更に、好ましくは、オーバーフロー表面は高度
につやを出し、シートの変動および欠陥を最小にする。
オーバーフロー表面を被覆処理して（例えば、電気メッ
キまたは他の付着技術）、ダイ表面のなめらかさを改良
し、腐食抵抗性を提供し、またはダイ上の流れ特性を改
良することができる。
【００６１】ダイの構成物質は重要である。金属は、高
い熱伝導性、良好な耐腐食性、高モジュラス、およびつ
や出しされる能力のために好ましい。しかし、原理的に
は、ガラスおよびセラミックのような他の物質も使用で
きる。ステンレス鋼または成形用具グレードの鋼を使用
することが好ましい。
い熱伝導性、良好な耐腐食性、高モジュラス、およびつ
や出しされる能力のために好ましい。しかし、原理的に
は、ガラスおよびセラミックのような他の物質も使用で
きる。ステンレス鋼または成形用具グレードの鋼を使用
することが好ましい。
【００６２】非平面シートを所望するならば、ダイのジ
オメトリーを、その所望に従って、当業者に知られてい
る方法を使用して、改良することができる。例えば、も
し曲がったシートを所望であれば、ダイをその長さ方向
の軸に沿って曲げることができる。
オメトリーを、その所望に従って、当業者に知られてい
る方法を使用して、改良することができる。例えば、も
し曲がったシートを所望であれば、ダイをその長さ方向
の軸に沿って曲げることができる。
【００６３】一般的に、１０秒−１のせん断速度で、溶
融プラスチックの粘度を、１〜１０，０００Ｐａ−ｓ、
好ましくは５〜１，０００Ｐａ−ｓ、そして最も好まし
くは１０〜５００Ｐａ−ｓに維持することが望ましい。
更に、ダイの単位長さあたりの溶融流量（長さによって
割った流量）は、典型的には、１．０×１０−３〜１０
ｇ／ｓ／ｃｍ、好ましくは１．０×１０−２〜１．０ｇ
／ｓ／ｃｍ、そして最も好ましくは２．０×１０−２〜
２．０×１０−１ｇ／ｓ／ｃｍの範囲である。粘度は温
度を変えることによって調節できる。ダイの設計に依存
するが、温度の調節はいくぶん重要である。ダイの横方
向の温度が一定であるほど、シートの厚さは均一にな
る。溶融温度かダイの横方向において均一であることが
好ましい。ダイの長さ方向における一定でない温度分布
から生じる厚さの変動は、スロットまたは他の計量装置
の設計を変えることによって最小にすることができる。
例えば、温度調節は次の１つ以上によって達成される：
電気カートリッジヒーター、赤外線ランプヒーター、加
熱された油（または他の熱媒流体）、熱パイプ、または
マイクロ波ヒーター。加熱された油または他の熱媒流体
が好ましい。なぜなら、温度はサーモスタットによって
調節することができ、そして温度の均一性が容易に達成
されるからである。好ましくは、ダイは、温度の変動を
最小にするために、部分的に密閉された領域の中に収容
される。不活性を雰囲気を使用することも好ましい。そ
のような不活性雰囲気は樹脂の着色と劣化を最小限にす
る。
融プラスチックの粘度を、１〜１０，０００Ｐａ−ｓ、
好ましくは５〜１，０００Ｐａ−ｓ、そして最も好まし
くは１０〜５００Ｐａ−ｓに維持することが望ましい。
更に、ダイの単位長さあたりの溶融流量（長さによって
割った流量）は、典型的には、１．０×１０−３〜１０
ｇ／ｓ／ｃｍ、好ましくは１．０×１０−２〜１．０ｇ
／ｓ／ｃｍ、そして最も好ましくは２．０×１０−２〜
２．０×１０−１ｇ／ｓ／ｃｍの範囲である。粘度は温
度を変えることによって調節できる。ダイの設計に依存
するが、温度の調節はいくぶん重要である。ダイの横方
向の温度が一定であるほど、シートの厚さは均一にな
る。溶融温度かダイの横方向において均一であることが
好ましい。ダイの長さ方向における一定でない温度分布
から生じる厚さの変動は、スロットまたは他の計量装置
の設計を変えることによって最小にすることができる。
例えば、温度調節は次の１つ以上によって達成される：
電気カートリッジヒーター、赤外線ランプヒーター、加
熱された油（または他の熱媒流体）、熱パイプ、または
マイクロ波ヒーター。加熱された油または他の熱媒流体
が好ましい。なぜなら、温度はサーモスタットによって
調節することができ、そして温度の均一性が容易に達成
されるからである。好ましくは、ダイは、温度の変動を
最小にするために、部分的に密閉された領域の中に収容
される。不活性を雰囲気を使用することも好ましい。そ
のような不活性雰囲気は樹脂の着色と劣化を最小限にす
る。
【００６４】必要ではないが、好ましくは溶融プラスチ
ック流れは、ダイ上を通過した後に下方へ流される。な
ぜなら、下方への流れは重力によって影響されるからで
ある。流れの速度は、重力の影響と引き取り手段により
適用される張力との組み合わせによって決められる。プ
ラスチックの流れをダイから下方方向へ導くことによ
り、重力はシートの流れと同じ方向に作用し、それによ
って引き取り手段で必要とする張力を減少させ、シート
の品質を改良できる。ダイの通過後の溶融プラスチック
は、「ウェブ」として知られている形態になる。
ック流れは、ダイ上を通過した後に下方へ流される。な
ぜなら、下方への流れは重力によって影響されるからで
ある。流れの速度は、重力の影響と引き取り手段により
適用される張力との組み合わせによって決められる。プ
ラスチックの流れをダイから下方方向へ導くことによ
り、重力はシートの流れと同じ方向に作用し、それによ
って引き取り手段で必要とする張力を減少させ、シート
の品質を改良できる。ダイの通過後の溶融プラスチック
は、「ウェブ」として知られている形態になる。
【００６５】引き取り手段は、調節された速度におい
て、ダイから溶融プラスチックウェブを移動し、ウェブ
を冷却する。例えば、引き取り手段は、ローラーまたは
「タンクトレッド」装置であり、それによってシートの
外縁だけが引き取り手段と接触する。「タンクトレッ
ド」装置は、シート表面の平滑性を最大にするので、好
ましい。タンクトレッド装置は、図１および図２の装置
の１部として、３１、３２、３３および３４として例示
されている。
て、ダイから溶融プラスチックウェブを移動し、ウェブ
を冷却する。例えば、引き取り手段は、ローラーまたは
「タンクトレッド」装置であり、それによってシートの
外縁だけが引き取り手段と接触する。「タンクトレッ
ド」装置は、シート表面の平滑性を最大にするので、好
ましい。タンクトレッド装置は、図１および図２の装置
の１部として、３１、３２、３３および３４として例示
されている。
【００６６】引き取り装置は、プラスチックシートが製
造される速度を調節し、所定のポリマー流量においてシ
ートの厚さを決める。それ故、引き取り手段の速度を調
節することは、極めて重要である。また、引き取り手段
はシートの重量を支持し、それによってシートの幅およ
び厚さが維持される。引き取り手段は、支持されない溶
融樹脂の量を最小にするように、ダイにできるだけ近く
位置させることが望ましい。ダイの頂点から引き取り系
への距離（例えば、タンクトレッド装置の上部のニップ
領域）は、典型的には、２５ｃｍ未満、好ましくは１０
ｃｍ未満、そして最も好ましくは５ｃｍ未満である。
造される速度を調節し、所定のポリマー流量においてシ
ートの厚さを決める。それ故、引き取り手段の速度を調
節することは、極めて重要である。また、引き取り手段
はシートの重量を支持し、それによってシートの幅およ
び厚さが維持される。引き取り手段は、支持されない溶
融樹脂の量を最小にするように、ダイにできるだけ近く
位置させることが望ましい。ダイの頂点から引き取り系
への距離（例えば、タンクトレッド装置の上部のニップ
領域）は、典型的には、２５ｃｍ未満、好ましくは１０
ｃｍ未満、そして最も好ましくは５ｃｍ未満である。
【００６７】シートの引き取り速度は、所望するシート
のタイプおよび厚さによって変わる。例えば、０．４ｍ
ｍの厚さを有するシートのためには、シートの引き取り
速度は、一般的に、１０〜１０００ｃｍ／分、好ましく
は２０〜２００ｃｍ／分、そして最も好ましくは５０〜
１００ｃｍ／分の範囲であり、これに対して、１ｍｍの
厚さを有するシートのためには、引き取り速度は、一般
的に、５〜５００ｃｍ／分、好ましくは１０〜１００ｃ
ｍ／分、そして最も好ましくは２５〜５０ｃｍ／分の範
囲である。同様に、曲げる前の引き取り系における冷却
中の滞留時間は変わる。例えば、０．４ｍｍの厚さを有
するシートのためには、曲げる前の滞留時間は、一般的
に、１０秒以上、好ましくは１分以上、そして最も好ま
しくは２以上分であり、これに対して、０．２ｍｍの厚
さを有するシートのためには、曲げる前の滞留時間は、
一般的に、５秒以上、好ましくは３０秒以上、そして最
も好ましくは１分以上である。
のタイプおよび厚さによって変わる。例えば、０．４ｍ
ｍの厚さを有するシートのためには、シートの引き取り
速度は、一般的に、１０〜１０００ｃｍ／分、好ましく
は２０〜２００ｃｍ／分、そして最も好ましくは５０〜
１００ｃｍ／分の範囲であり、これに対して、１ｍｍの
厚さを有するシートのためには、引き取り速度は、一般
的に、５〜５００ｃｍ／分、好ましくは１０〜１００ｃ
ｍ／分、そして最も好ましくは２５〜５０ｃｍ／分の範
囲である。同様に、曲げる前の引き取り系における冷却
中の滞留時間は変わる。例えば、０．４ｍｍの厚さを有
するシートのためには、曲げる前の滞留時間は、一般的
に、１０秒以上、好ましくは１分以上、そして最も好ま
しくは２以上分であり、これに対して、０．２ｍｍの厚
さを有するシートのためには、曲げる前の滞留時間は、
一般的に、５秒以上、好ましくは３０秒以上、そして最
も好ましくは１分以上である。
【００６８】プラスチックシートは、引き取り系による
移動中に自然の対流により、または強制された対流によ
り、冷却することができる。自然の対流は、空気または
流体浴を通過する間のシートの受動的冷却からなってい
る。強制された対流は、熱伝達を大きくするために、シ
ートに沿って、またはシートに対して、熱伝達流体をポ
ンピングまたはブローイングすることにより達成され
る。自然対流は、シートの波しわおよび表面のきずあと
を最小にするので好ましい。シートを冷却するために微
粒状物のないきれいな流体を使用して表面の汚染または
欠陥を防止するのが好ましい。例えば、この目的のため
に空気またはガス冷却剤をＨＥＰＡフィルターとともに
使用することができる。どんな流体または流体の組み合
わせ物もシートを冷却するのに使用できるが、ただし使
用する流体は加工されるプラスチック物質に有害でない
ことが必要である。有用な冷却用流体の例には、空気、
窒素、水、油類およびグリコール類がある。被覆剤とし
て作用し、かつ冷却浴からでるときにプラスチックシー
ト上にフィルムとして付着される適当な冷却剤を使用す
ることにより、冷却工程と被覆工程を組み合わせること
も可能である。
移動中に自然の対流により、または強制された対流によ
り、冷却することができる。自然の対流は、空気または
流体浴を通過する間のシートの受動的冷却からなってい
る。強制された対流は、熱伝達を大きくするために、シ
ートに沿って、またはシートに対して、熱伝達流体をポ
ンピングまたはブローイングすることにより達成され
る。自然対流は、シートの波しわおよび表面のきずあと
を最小にするので好ましい。シートを冷却するために微
粒状物のないきれいな流体を使用して表面の汚染または
欠陥を防止するのが好ましい。例えば、この目的のため
に空気またはガス冷却剤をＨＥＰＡフィルターとともに
使用することができる。どんな流体または流体の組み合
わせ物もシートを冷却するのに使用できるが、ただし使
用する流体は加工されるプラスチック物質に有害でない
ことが必要である。有用な冷却用流体の例には、空気、
窒素、水、油類およびグリコール類がある。被覆剤とし
て作用し、かつ冷却浴からでるときにプラスチックシー
ト上にフィルムとして付着される適当な冷却剤を使用す
ることにより、冷却工程と被覆工程を組み合わせること
も可能である。
【００６９】引き取り手段の次に種々の任意的な装置を
使用してもよいことは、当業者によって認められるであ
ろう。任意に使用できる装置の例には、フィルム巻き取
り機、ヘリ切断機、シート切断機、および包装用装置の
ような公知のフィルム取扱い装置が含まれる。更に、他
の後工程の装置、例えば成形用装置、被覆用装置、装飾
用装置、および積層用装置を利用することもできる。
使用してもよいことは、当業者によって認められるであ
ろう。任意に使用できる装置の例には、フィルム巻き取
り機、ヘリ切断機、シート切断機、および包装用装置の
ような公知のフィルム取扱い装置が含まれる。更に、他
の後工程の装置、例えば成形用装置、被覆用装置、装飾
用装置、および積層用装置を利用することもできる。
【００７０】本発明方法は、あらゆる適当なプラスチッ
ク樹脂を使用することができ、好ましくは熱可塑性樹脂
を使用する。熱可塑性樹脂は、可逆的に熱にさらされた
ときは軟化し、冷却により硬くなるポリマー樹脂であ
る。熱可塑性樹脂は、実質的に架橋されていない線状ま
たは分枝鎖のポリマーである。本発明方法に有用な熱可
塑性樹脂は、実質的に架橋していないで、かつ、溶融加
工温度、すなわち、１０ ３Ｐａ−ｓのオーダーの粘度を
有する温度において、１０分以上の滞留時間での熱安定
性を有していることが好ましい。本発明方法に有用であ
る熱可塑性樹脂の例には、アクリル酸、メタクリル酸お
よびそれらのエステルのホモポリマーまたはコポリマ
ー、これらにはスチレンおよびその誘導体、Ｎ−アルキ
ルマレイミド、アクリロニトリル、および酢酸ビニルと
生成したコポリマーが含まれるが、それらに限定されな
い；フェノキシエーテル；ポリフェニレンオキサイド樹
脂；エポキシ樹脂；セルロース樹脂；ポリ塩化ビニル
（ＰＶＣ）のようなビニルポリマー；フッ素化エチレン
−プロピレンおよびポリ（フッ化ビニリデン）のような
フルオロポリマー；ポリスチレン；ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ−４−メチルペンテン−１のようなポ
リオレフィン、そしてこれらにはノルボルネンおよび官
能性ノルボルネンモノマーに基づく環状オレフィンポリ
マーおよびコポリマーも含まれる；ポリスルホン；ポリ
エーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエーテル
イミド；ポリフェニレンスルフィド；ポリアリーレンエ
ステル樹脂；ポリエステル；Ｎ−Ｈおよび／またはＮ−
アルキルグルタルイミドのホモポリマーまたはコポリマ
ー；アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（Ａ
ＢＳ）；スチレン−アクリロニトリル樹脂（ＳＡＮ）；
スチレン−無水マレイン酸樹脂（ＳＭＡ）；イミド化Ｓ
ＭＡ；およびポリアミド（ナイロン）；高温ホモポリマ
ーおよびコポリマーをはじめとするポリカーボネート；
ポリカーボネート−ポリエステル；ポリアリーレート；
液晶ポリマー；およびこれらの混合物が含まれるが、こ
れらに限定されない。
ク樹脂を使用することができ、好ましくは熱可塑性樹脂
を使用する。熱可塑性樹脂は、可逆的に熱にさらされた
ときは軟化し、冷却により硬くなるポリマー樹脂であ
る。熱可塑性樹脂は、実質的に架橋されていない線状ま
たは分枝鎖のポリマーである。本発明方法に有用な熱可
塑性樹脂は、実質的に架橋していないで、かつ、溶融加
工温度、すなわち、１０ ３Ｐａ−ｓのオーダーの粘度を
有する温度において、１０分以上の滞留時間での熱安定
性を有していることが好ましい。本発明方法に有用であ
る熱可塑性樹脂の例には、アクリル酸、メタクリル酸お
よびそれらのエステルのホモポリマーまたはコポリマ
ー、これらにはスチレンおよびその誘導体、Ｎ−アルキ
ルマレイミド、アクリロニトリル、および酢酸ビニルと
生成したコポリマーが含まれるが、それらに限定されな
い；フェノキシエーテル；ポリフェニレンオキサイド樹
脂；エポキシ樹脂；セルロース樹脂；ポリ塩化ビニル
（ＰＶＣ）のようなビニルポリマー；フッ素化エチレン
−プロピレンおよびポリ（フッ化ビニリデン）のような
フルオロポリマー；ポリスチレン；ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ−４−メチルペンテン−１のようなポ
リオレフィン、そしてこれらにはノルボルネンおよび官
能性ノルボルネンモノマーに基づく環状オレフィンポリ
マーおよびコポリマーも含まれる；ポリスルホン；ポリ
エーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエーテル
イミド；ポリフェニレンスルフィド；ポリアリーレンエ
ステル樹脂；ポリエステル；Ｎ−Ｈおよび／またはＮ−
アルキルグルタルイミドのホモポリマーまたはコポリマ
ー；アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（Ａ
ＢＳ）；スチレン−アクリロニトリル樹脂（ＳＡＮ）；
スチレン−無水マレイン酸樹脂（ＳＭＡ）；イミド化Ｓ
ＭＡ；およびポリアミド（ナイロン）；高温ホモポリマ
ーおよびコポリマーをはじめとするポリカーボネート；
ポリカーボネート−ポリエステル；ポリアリーレート；
液晶ポリマー；およびこれらの混合物が含まれるが、こ
れらに限定されない。
【００７１】好適なポリカーボネートは１以上のビスフ
ェノールと１以上のカルボン酸を含む。好適なカルボン
酸としては、フォスゲン、ジフォスゲン、トリフォスゲ
ン、クルロ蟻酸エステルのようなカルボン酸エステル、
およびこれらの混合物があげられるがこれらに限定され
るものではない。好適なビスフェノールとしては、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）アルカンおよびシクロアル
カン；ビス（３−置換−４−ヒドロキシフェニル）アル
キル−シクロアルカン；ビス（３，５−ジ置換−４−ヒ
ドロキシフェニル）アルキルシクロアルカン；たとえば
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン；
２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン；２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン；１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−フ
ェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；２，２−
ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタ
ン；９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレ
ン；９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニ
ル）フルオレン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル
シクロヘキサン；１，１−ビス（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサン；１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
−５，７−ジメチルアダマンタン；１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン；４，４’
−ジヒドロキシ−テトラフェニルメタン；および６，
６’−ジヒドロキシ−３，３，３’，３’−テトラメチ
ル−１，１’−スピロ（ビス）インダン；およびそれら
の混合物があげられるがこれらに限定されるものではな
い。本発明において有用なポリエステル−ポリカーボネ
ートは１以上のビスフェノール、１以上のカルボン酸、
および１以上のさらなる酸、たとえばテレフタル酸およ
びイソフタル酸を含む。本発明において有用なポリカー
ボネートおよびポリエステル−ポリカーボネートは公知
である。
ェノールと１以上のカルボン酸を含む。好適なカルボン
酸としては、フォスゲン、ジフォスゲン、トリフォスゲ
ン、クルロ蟻酸エステルのようなカルボン酸エステル、
およびこれらの混合物があげられるがこれらに限定され
るものではない。好適なビスフェノールとしては、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）アルカンおよびシクロアル
カン；ビス（３−置換−４−ヒドロキシフェニル）アル
キル−シクロアルカン；ビス（３，５−ジ置換−４−ヒ
ドロキシフェニル）アルキルシクロアルカン；たとえば
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン；
２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン；２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン；１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−フ
ェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；２，２−
ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタ
ン；９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレ
ン；９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニ
ル）フルオレン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル
シクロヘキサン；１，１−ビス（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサン；１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
−５，７−ジメチルアダマンタン；１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン；４，４’
−ジヒドロキシ−テトラフェニルメタン；および６，
６’−ジヒドロキシ−３，３，３’，３’−テトラメチ
ル−１，１’−スピロ（ビス）インダン；およびそれら
の混合物があげられるがこれらに限定されるものではな
い。本発明において有用なポリエステル−ポリカーボネ
ートは１以上のビスフェノール、１以上のカルボン酸、
および１以上のさらなる酸、たとえばテレフタル酸およ
びイソフタル酸を含む。本発明において有用なポリカー
ボネートおよびポリエステル−ポリカーボネートは公知
である。
【００７２】熱可塑性樹脂の混合物を使用してもよい。
特に有用な熱可塑性樹脂混合物には、例えば、ＳＡＮ−
ポリグルタルイミド、ポリカーボネート−ポリエステ
ル、ＰＭＭＡ−ポリ（フッ化ビニリデン）、ポリスチレ
ン−ポリ（フェニレンオキサイド）、およびビスフェノ
ールＡポリカーボネートと高温ポリカーボネートコポリ
マーとのブレンドをはじめとするポリカーボネートブレ
ンド、たとえばバイエル社からＡＰＥＣポリカーボネー
トとして販売される２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパンおよび１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとの
コポリマーがあげられる。本発明方法および装置に使用
するのに好ましい樹脂は、ポリカーボネート；線状アク
リルホモポリマーおよびコポリマー；環状ポリオレフィ
ン；および線状イミド化アクリルポモポリマーおよびコ
ポリマー、例えば米国特許第４，７２７，１１７号（Ｈ
ａｌｌｄｅｎ−Ａｂｂｅｒｔｏｎ、等）および同第４，
２４６，３７４号（Ｋｏｐｃｈｉｋ）に記載された化合
物である。
特に有用な熱可塑性樹脂混合物には、例えば、ＳＡＮ−
ポリグルタルイミド、ポリカーボネート−ポリエステ
ル、ＰＭＭＡ−ポリ（フッ化ビニリデン）、ポリスチレ
ン−ポリ（フェニレンオキサイド）、およびビスフェノ
ールＡポリカーボネートと高温ポリカーボネートコポリ
マーとのブレンドをはじめとするポリカーボネートブレ
ンド、たとえばバイエル社からＡＰＥＣポリカーボネー
トとして販売される２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパンおよび１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとの
コポリマーがあげられる。本発明方法および装置に使用
するのに好ましい樹脂は、ポリカーボネート；線状アク
リルホモポリマーおよびコポリマー；環状ポリオレフィ
ン；および線状イミド化アクリルポモポリマーおよびコ
ポリマー、例えば米国特許第４，７２７，１１７号（Ｈ
ａｌｌｄｅｎ−Ａｂｂｅｒｔｏｎ、等）および同第４，
２４６，３７４号（Ｋｏｐｃｈｉｋ）に記載された化合
物である。
【００７３】本発明に有用なプラスチック樹脂は、典型
的には、付加重合法または縮合重合法から造られる。付
加重合法には、塊状重合および水または有機溶剤媒質中
の溶液重合または分散重合が含まれ、そのような方法は
当業界でよく知られており、カチオン性、アニオン性、
またはフリーラジカルによる開始および生長反応を含
む。縮合重合法には、塊状重合法、溶液重合法および分
散重合法が含まれる。塊状重合法以外の重合法によって
生成したプラスチック樹脂は、樹脂を単離するために、
その後の処理が必要である。
的には、付加重合法または縮合重合法から造られる。付
加重合法には、塊状重合および水または有機溶剤媒質中
の溶液重合または分散重合が含まれ、そのような方法は
当業界でよく知られており、カチオン性、アニオン性、
またはフリーラジカルによる開始および生長反応を含
む。縮合重合法には、塊状重合法、溶液重合法および分
散重合法が含まれる。塊状重合法以外の重合法によって
生成したプラスチック樹脂は、樹脂を単離するために、
その後の処理が必要である。
【００７４】次の実施例は、本発明の更に種々な面を例
示するために提示されており、すべての点において本発
明の範囲を限定することは意図されていない。
示するために提示されており、すべての点において本発
明の範囲を限定することは意図されていない。
【００７５】実施例１：アクリルフィルムの製造 この実施例は、光学的品質のアクリルシートを造るため
に使用した本発明方法を例示している。１１０，０００
の平均分子量を有するＰＭＭＡ樹脂を、３０：１のＬ：
Ｄ比を有する２インチ（５ｃｍ）直径の一軸スクリュー
ベント式２段押し出し機の中に、容量供給装置を使用
し、３．１ｇ／ｓの速度でスターブフィード（ｓｔａｒ
ｖｅ−ｆｅｅｄ）した。押し出し機のバレルは、供給端
における２０４℃から排出端における２７４℃までの温
度プロフィールを有していた。樹脂を、７２０〜７５０
ｍｍＨｇにおいて操作する脱蔵ベントを使用して脱蔵し
た。スクリューを３０ｒｐｍにおいて回転した。ギアタ
イプの溶融ポンプを使用し、スクリーンパックフィルタ
ーを通して溶融樹脂を、１．２７ｃｍ直径の内部導管お
よび１．２７ｃｍの間隔を有する一連の２２の計量用孔
を有する１２’’（３０ｃｍ）の長さのオバーフローダ
イに、ポンプで注入した。計量用孔の直径は、ダイの供
給端から下流端に向けて、３．１８ｍｍから３．７３ｍ
ｍに増加した。溶融ポンプ温度は２７４℃であった。溶
融ポンプの吸引圧は２１００ｋＰａ．であり、そして溶
融ポンプの排出圧は約４１００ｋＰａ．であった。オー
バーフローダイは、内部を３個の電気カートリッジヒー
ターを使用して加熱し、そして外部を３個のＩＲ加熱ユ
ニットを使用して２７４℃の温度に加熱した。ダイの頂
点において形成された溶融ウェブは、２組のタンクトレ
ッドを使用して運び、２個の空気プレナムを使用して適
用する冷却された強制空気を使用して冷却した。その結
果得られたシートは、０．３２５ｍｍの平均厚さ、１
４．６ｎｍの表面あらさＲｑ、および５ｎｍ未満のオプ
ティカルリターダンス（ｏｐｔｉｃａｌｒｅｔａｒｄａ
ｎｃｅ）を有していた。
に使用した本発明方法を例示している。１１０，０００
の平均分子量を有するＰＭＭＡ樹脂を、３０：１のＬ：
Ｄ比を有する２インチ（５ｃｍ）直径の一軸スクリュー
ベント式２段押し出し機の中に、容量供給装置を使用
し、３．１ｇ／ｓの速度でスターブフィード（ｓｔａｒ
ｖｅ−ｆｅｅｄ）した。押し出し機のバレルは、供給端
における２０４℃から排出端における２７４℃までの温
度プロフィールを有していた。樹脂を、７２０〜７５０
ｍｍＨｇにおいて操作する脱蔵ベントを使用して脱蔵し
た。スクリューを３０ｒｐｍにおいて回転した。ギアタ
イプの溶融ポンプを使用し、スクリーンパックフィルタ
ーを通して溶融樹脂を、１．２７ｃｍ直径の内部導管お
よび１．２７ｃｍの間隔を有する一連の２２の計量用孔
を有する１２’’（３０ｃｍ）の長さのオバーフローダ
イに、ポンプで注入した。計量用孔の直径は、ダイの供
給端から下流端に向けて、３．１８ｍｍから３．７３ｍ
ｍに増加した。溶融ポンプ温度は２７４℃であった。溶
融ポンプの吸引圧は２１００ｋＰａ．であり、そして溶
融ポンプの排出圧は約４１００ｋＰａ．であった。オー
バーフローダイは、内部を３個の電気カートリッジヒー
ターを使用して加熱し、そして外部を３個のＩＲ加熱ユ
ニットを使用して２７４℃の温度に加熱した。ダイの頂
点において形成された溶融ウェブは、２組のタンクトレ
ッドを使用して運び、２個の空気プレナムを使用して適
用する冷却された強制空気を使用して冷却した。その結
果得られたシートは、０．３２５ｍｍの平均厚さ、１
４．６ｎｍの表面あらさＲｑ、および５ｎｍ未満のオプ
ティカルリターダンス（ｏｐｔｉｃａｌｒｅｔａｒｄａ
ｎｃｅ）を有していた。
【００７６】実施例２：イミド化アクリルシートの製造 この実施例は、光学的品質のイミド化アクリルシートを
造るために使用した本発明方法を例示している。１０
８，０００の重量平均分子量および約１８０℃のガラス
転移温度を有するキャップ化イミド化アクリル樹脂を、
３０：１のＬ：Ｄ比を有する２インチ（５ｃｍ）直径の
一軸スクリューベント式２段押し出し機の中に、重量供
給装置を使用し、２．５ｇ／ｓの速度でスターブフィー
ドした。押し出し機のバレルは、供給端における２４６
℃から排出端における３２９℃までの温度プロフィール
を有していた。樹脂を、７２０〜７５０ｍｍＨｇにおい
て操作する脱蔵ベントを使用して脱蔵した。スクリュー
を３０ｒｐｍにおいて回転した。ギアタイプの溶融ポン
プを使用し、スクリーンパックフィルターを通して溶融
樹脂を、１．５８８ｃｍ直径の内部導管および０．０３
８インチから０．０４２インチ（０．９６５ｍｍから
１．０６７ｍｍ）にテーパーしている１６インチ（４０
ｃｍ）の長さのスロットを有する２５．５インチ（６５
ｃｍ）の長さのオーバーフローダイに、ポンプで注入し
た。溶融ポンプ温度は３２９℃であった。溶融ポンプの
吸引圧は約４１００ｋＰａ．であった。溶融ポンプの排
出圧は約１６５０ｋＰａ．であった。ダイは、ダイ中の
内部の孔を経由する熱油系（油の温度＝３４３℃）を使
用して加熱し、そしてダイのまわりの空気を強制空気オ
ーブン（温度＝２８０℃）で加熱した。ダイの頂点にお
いて形成された溶融ウェブは、１．２ｃｍ／ｓの速度に
おいて操作する２組のタンクトレッドを使用して運び、
部屋の空気の自然対流により冷却した。冷却されたシー
トから２００ｍｍ×２００ｍｍの試験片を切断し、そし
て試験した。得られたシートは、±０．０１５ｍｍの変
動を持つ０．３９０ｍｍの厚さを有していた。表面の波
打ちＷｙおよびＷｑは、それぞれ０．５μ未満および
０．１８μであり、表面のあらさＲｑは７．６ｎｍであ
り、そしてオプティカルリターダンスは６ｎｍ未満であ
った。１６０℃の温度において測定された熱収縮は０．
０３％以下であった。
造るために使用した本発明方法を例示している。１０
８，０００の重量平均分子量および約１８０℃のガラス
転移温度を有するキャップ化イミド化アクリル樹脂を、
３０：１のＬ：Ｄ比を有する２インチ（５ｃｍ）直径の
一軸スクリューベント式２段押し出し機の中に、重量供
給装置を使用し、２．５ｇ／ｓの速度でスターブフィー
ドした。押し出し機のバレルは、供給端における２４６
℃から排出端における３２９℃までの温度プロフィール
を有していた。樹脂を、７２０〜７５０ｍｍＨｇにおい
て操作する脱蔵ベントを使用して脱蔵した。スクリュー
を３０ｒｐｍにおいて回転した。ギアタイプの溶融ポン
プを使用し、スクリーンパックフィルターを通して溶融
樹脂を、１．５８８ｃｍ直径の内部導管および０．０３
８インチから０．０４２インチ（０．９６５ｍｍから
１．０６７ｍｍ）にテーパーしている１６インチ（４０
ｃｍ）の長さのスロットを有する２５．５インチ（６５
ｃｍ）の長さのオーバーフローダイに、ポンプで注入し
た。溶融ポンプ温度は３２９℃であった。溶融ポンプの
吸引圧は約４１００ｋＰａ．であった。溶融ポンプの排
出圧は約１６５０ｋＰａ．であった。ダイは、ダイ中の
内部の孔を経由する熱油系（油の温度＝３４３℃）を使
用して加熱し、そしてダイのまわりの空気を強制空気オ
ーブン（温度＝２８０℃）で加熱した。ダイの頂点にお
いて形成された溶融ウェブは、１．２ｃｍ／ｓの速度に
おいて操作する２組のタンクトレッドを使用して運び、
部屋の空気の自然対流により冷却した。冷却されたシー
トから２００ｍｍ×２００ｍｍの試験片を切断し、そし
て試験した。得られたシートは、±０．０１５ｍｍの変
動を持つ０．３９０ｍｍの厚さを有していた。表面の波
打ちＷｙおよびＷｑは、それぞれ０．５μ未満および
０．１８μであり、表面のあらさＲｑは７．６ｎｍであ
り、そしてオプティカルリターダンスは６ｎｍ未満であ
った。１６０℃の温度において測定された熱収縮は０．
０３％以下であった。
【００７７】実施例３：ポリカーボネートシートの製造 この実施例は、光学的品質のポリカーボネートシートを
造るために使用した本発明方法を例示している。押し出
しグレードのポリカーボネート樹脂（ＧＥプラスチック
社製 Ｌｅｘａｎ １０１）を、３０：１のＬ：Ｄ比を
有する２インチ（５ｃｍ）直径の一軸スクリューベント
式２段押し出し機の中に、重力供給装置を使用し、４．
４ｇ／ｓの速度でスターブフィードした。押し出し機の
バレルは、供給端における２３２℃から排出端における
３１５℃までの温度プロフィールを有していた。樹脂
を、７２０〜７５０ｍｍＨｇにおいて操作する脱蔵ベン
トを使用して脱蔵した。スクリューを３０ｒｐｍにおい
て回転した。ギアタイプの溶融ポンプを使用し、スクリ
ーンパックフィルターを通して溶融樹脂を、１．９０５
ｃｍ直径の内部導管および０．０３８インチから０．０
４５インチ（０．９６５ｍｍから１．１４３ｍｍ）にテ
ーパーしている２８インチ（７１ｃｍ）の長さのスロッ
トを有する３７．５インチ（９５ｃｍ）の長さのオーバ
ーフローダイに、ポンプで注入した。溶融ポンプ温度は
３１５℃であった。溶融ポンプの吸引圧は約３４００ｋ
Ｐａ．であった。溶融ポンプの排出圧は約１３００ｋＰ
ａ．であった。ダイは、ダイ中の内部の孔を経由する熱
油系（油の温度＝３１５℃）を使用して加熱し、そして
ダイのまわりの空気を強制空気オーブン（２６０℃）で
加熱した。ダイの頂点において形成された溶融ウェブ
は、１．２ｃｍ／ｓの速度において操作する２組のタン
クトレッドを使用して運び、部屋の空気の自然対流によ
り冷却した。冷却されたシートから４００ｍｍ×４００
ｍｍの試験片を切断し、そして試験した。得られたシー
トは、横方向および機械方向の両方において±０．０２
ｍｍの変動を持つ０．４３ｍｍの平均厚さを有してい
た。Ｗｙは１μ未満であり、Ｗｑは０．１５μであり、
表面のあらさＲｑは１０ｎｍ未満であり、そして平均オ
プティカルリターダンスは２０ｎｍであり、１０ｎｍの
変動を有していた。１３０℃において測定された熱収縮
は０．０２％であった。
造るために使用した本発明方法を例示している。押し出
しグレードのポリカーボネート樹脂（ＧＥプラスチック
社製 Ｌｅｘａｎ １０１）を、３０：１のＬ：Ｄ比を
有する２インチ（５ｃｍ）直径の一軸スクリューベント
式２段押し出し機の中に、重力供給装置を使用し、４．
４ｇ／ｓの速度でスターブフィードした。押し出し機の
バレルは、供給端における２３２℃から排出端における
３１５℃までの温度プロフィールを有していた。樹脂
を、７２０〜７５０ｍｍＨｇにおいて操作する脱蔵ベン
トを使用して脱蔵した。スクリューを３０ｒｐｍにおい
て回転した。ギアタイプの溶融ポンプを使用し、スクリ
ーンパックフィルターを通して溶融樹脂を、１．９０５
ｃｍ直径の内部導管および０．０３８インチから０．０
４５インチ（０．９６５ｍｍから１．１４３ｍｍ）にテ
ーパーしている２８インチ（７１ｃｍ）の長さのスロッ
トを有する３７．５インチ（９５ｃｍ）の長さのオーバ
ーフローダイに、ポンプで注入した。溶融ポンプ温度は
３１５℃であった。溶融ポンプの吸引圧は約３４００ｋ
Ｐａ．であった。溶融ポンプの排出圧は約１３００ｋＰ
ａ．であった。ダイは、ダイ中の内部の孔を経由する熱
油系（油の温度＝３１５℃）を使用して加熱し、そして
ダイのまわりの空気を強制空気オーブン（２６０℃）で
加熱した。ダイの頂点において形成された溶融ウェブ
は、１．２ｃｍ／ｓの速度において操作する２組のタン
クトレッドを使用して運び、部屋の空気の自然対流によ
り冷却した。冷却されたシートから４００ｍｍ×４００
ｍｍの試験片を切断し、そして試験した。得られたシー
トは、横方向および機械方向の両方において±０．０２
ｍｍの変動を持つ０．４３ｍｍの平均厚さを有してい
た。Ｗｙは１μ未満であり、Ｗｑは０．１５μであり、
表面のあらさＲｑは１０ｎｍ未満であり、そして平均オ
プティカルリターダンスは２０ｎｍであり、１０ｎｍの
変動を有していた。１３０℃において測定された熱収縮
は０．０２％であった。
【００７８】実施例４：ポリカーボネートフィルムの製
造 この実施例は、光学的品質のポリカーボネートフィルム
を造るために使用した本発明方法を例示している。押し
出しグレードのポリカーボネート樹脂（ＧＥプラスチッ
ク社製 Ｌｅｘａｎ １０１）を、３０：１のＬ：Ｄ比
を有する２インチ（５ｃｍ）直径の一軸スクリューベン
ト式２段押し出し機の中に、重力供給装置を使用し、
２．５ｇ／ｓの速度でスターブフィードした。押し出し
機のバレルは、供給端における２３２℃から排出端にお
ける３１５℃までの温度プロフィールを有していた。樹
脂を、７２０〜７５０ｍｍＨｇにおいて操作する脱蔵ベ
ントを使用して脱蔵した。スクリューを３０ｒｐｍにお
いて回転した。ギアタイプの溶融ポンプを使用し、スク
リーンパックフィルターを通して溶融樹脂を、１．９０
５ｃｍ直径の内部導管および０．０３８インチから０．
０４５インチ（０．９６５ｍｍから１．１４３ｍｍ）に
テーパーしている２８インチ（７１ｃｍ）の長さのスロ
ットを有する３７．５インチ（９５ｃｍ）の長さのオバ
ーフローダイに、ポンプで注入した。溶融ポンプ温度は
３１５℃であった。溶融ポンプの吸引圧は約３４００ｋ
Ｐａ．であり、そして溶融ポンプの排出圧は約１３００
ｋＰａ．であった。ダイは、ダイ中の内部の穴を経由す
る熱油系（油の温度＝３１５℃）を使用して加熱し、そ
してダイのまわりの空気は強制オーブン（温度＝２５０
℃）で加熱した。ダイの頂点において形成された溶融ウ
ェブは、３．１ｃｍ／ｓの速度において操作する２組の
タンクトレッドを使用して運び、部屋の空気の自然対流
により冷却した。冷却されたシートから４００ｍｍ×４
００ｍｍの試験片を切断し、そして試験した。その結果
得られたフィルムは、横方向および機械方向の両方にお
いて±４μの変動を持つ５４μの平均厚さを有してお
り、そして１０ｎｍ未満のオプティカルリターダンスを
有していた。
造 この実施例は、光学的品質のポリカーボネートフィルム
を造るために使用した本発明方法を例示している。押し
出しグレードのポリカーボネート樹脂（ＧＥプラスチッ
ク社製 Ｌｅｘａｎ １０１）を、３０：１のＬ：Ｄ比
を有する２インチ（５ｃｍ）直径の一軸スクリューベン
ト式２段押し出し機の中に、重力供給装置を使用し、
２．５ｇ／ｓの速度でスターブフィードした。押し出し
機のバレルは、供給端における２３２℃から排出端にお
ける３１５℃までの温度プロフィールを有していた。樹
脂を、７２０〜７５０ｍｍＨｇにおいて操作する脱蔵ベ
ントを使用して脱蔵した。スクリューを３０ｒｐｍにお
いて回転した。ギアタイプの溶融ポンプを使用し、スク
リーンパックフィルターを通して溶融樹脂を、１．９０
５ｃｍ直径の内部導管および０．０３８インチから０．
０４５インチ（０．９６５ｍｍから１．１４３ｍｍ）に
テーパーしている２８インチ（７１ｃｍ）の長さのスロ
ットを有する３７．５インチ（９５ｃｍ）の長さのオバ
ーフローダイに、ポンプで注入した。溶融ポンプ温度は
３１５℃であった。溶融ポンプの吸引圧は約３４００ｋ
Ｐａ．であり、そして溶融ポンプの排出圧は約１３００
ｋＰａ．であった。ダイは、ダイ中の内部の穴を経由す
る熱油系（油の温度＝３１５℃）を使用して加熱し、そ
してダイのまわりの空気は強制オーブン（温度＝２５０
℃）で加熱した。ダイの頂点において形成された溶融ウ
ェブは、３．１ｃｍ／ｓの速度において操作する２組の
タンクトレッドを使用して運び、部屋の空気の自然対流
により冷却した。冷却されたシートから４００ｍｍ×４
００ｍｍの試験片を切断し、そして試験した。その結果
得られたフィルムは、横方向および機械方向の両方にお
いて±４μの変動を持つ５４μの平均厚さを有してお
り、そして１０ｎｍ未満のオプティカルリターダンスを
有していた。
【００７９】実施例５ 高温ポリカーボネートブレンド
シートの製造 バイエル社から販売されるＡＰＥＣ ＤＰ９−９３７１
ポリカーボネートコポリマー（Ｔｇ＝２０５℃）２．３
３部と同じくバイエル社から販売される低分子量ポリカ
ーボネートＭａｋｒｏｌｏｎ ＤＰ１−１２６５（Ｔｇ
＝１５０℃）１部との、あらかじめ配合されたブレンド
を、重量供給装置を使用し、２．５ｇ／ｓの速度で押し
出し機の中にスターブフィードした。押し出し機は、
５．０８ｃｍ（２インチ）の直径を有する一軸スクリュ
ーベント式２段押し出し機であり、３０：１のＬ：Ｄ
比、１０ｃｃ／ｒｅｖのギアタイプの溶融ポンプ、メル
トフィルター、ロータリーミキサーおよびオーバーフロ
ーダイを有していた。すべての装置は窒素でパージされ
た後に作動された。樹脂を、７２０〜７５０ｍｍＨｇに
おいて操作する脱蔵ベントを使用して脱蔵した。スクリ
ューを３０ｒｐｍにおいて回転した。ギアポンプを使用
し、５ミクロンの焼成金属繊維メルトフィルター（プリ
ーツ付きのキャンドルタイプ）を通して、溶融樹脂を計
量しながら供給した。フィルターを通過する樹脂の流れ
は、圧力降下３８００ｋＰａで８．６ｌｂ．／時間／平
方フィートであった。押し出し機のバレルは、供給端の
温度が２７３℃で、排出口で３０４℃という温度プロフ
ィールを有していた。溶融フィルターは３２２℃に維持
された。押し出し機の供給ホッパーとオーバーフローダ
イの周囲のオーブンは窒素で不活性化され、樹脂中の架
橋されたゲルの形成を最低限とした。メルトフィルター
を出た後、樹脂はロータリーミキサーに入り、１６５ｒ
ｐｍで溶融ポリマーは混合された。ミキサーバレルの温
度は３２５℃に維持された。溶融樹脂はミキサーから出
て、１．９０５ｃｍ直径の内部導管および０．０３８イ
ンチから０．０４５インチ（０．９６５ｍｍから１．１
４３ｍｍ）にテーパーしている２８インチ（７１ｃｍ）
の長さのスロットを有する３７．５インチ（９５ｃｍ）
の長さのオーバーフローダイに入れた。ダイの入り口の
圧力は約７００ｋＰａであり、内部流路を流れる循環熱
オイルにより温度は３２１℃とされた。ダイの周囲の窒
素は強制対流オーブンにより２４０℃に加熱された。ダ
イの頂点において形成された溶融ウェブは、０．７ｃｍ
／ｓの速度において操作するタンクトレッドを使用して
運び、部屋の空気の自然対流により冷却した。冷却され
たシートから４００ｍｍ×４００ｍｍの試験片を切断
し、そして試験した。得られたシートは、±０．０２０
ｍｍの変動を持つ０．４２０ｍｍの厚さを有していた。
ゲル物の数は２００／平方メートル未満であった。表面
の波打ちＷｙおよびＷｑは、それぞれ１μおよび０．１
７μであった。表面のあらさＲｑは１０ｎｍ未満であっ
た。そしてオプティカルリターダンスは２０ｎｍ未満で
あった。１６０℃の温度において測定された熱収縮は
０．０５％未満であった。
シートの製造 バイエル社から販売されるＡＰＥＣ ＤＰ９−９３７１
ポリカーボネートコポリマー（Ｔｇ＝２０５℃）２．３
３部と同じくバイエル社から販売される低分子量ポリカ
ーボネートＭａｋｒｏｌｏｎ ＤＰ１−１２６５（Ｔｇ
＝１５０℃）１部との、あらかじめ配合されたブレンド
を、重量供給装置を使用し、２．５ｇ／ｓの速度で押し
出し機の中にスターブフィードした。押し出し機は、
５．０８ｃｍ（２インチ）の直径を有する一軸スクリュ
ーベント式２段押し出し機であり、３０：１のＬ：Ｄ
比、１０ｃｃ／ｒｅｖのギアタイプの溶融ポンプ、メル
トフィルター、ロータリーミキサーおよびオーバーフロ
ーダイを有していた。すべての装置は窒素でパージされ
た後に作動された。樹脂を、７２０〜７５０ｍｍＨｇに
おいて操作する脱蔵ベントを使用して脱蔵した。スクリ
ューを３０ｒｐｍにおいて回転した。ギアポンプを使用
し、５ミクロンの焼成金属繊維メルトフィルター（プリ
ーツ付きのキャンドルタイプ）を通して、溶融樹脂を計
量しながら供給した。フィルターを通過する樹脂の流れ
は、圧力降下３８００ｋＰａで８．６ｌｂ．／時間／平
方フィートであった。押し出し機のバレルは、供給端の
温度が２７３℃で、排出口で３０４℃という温度プロフ
ィールを有していた。溶融フィルターは３２２℃に維持
された。押し出し機の供給ホッパーとオーバーフローダ
イの周囲のオーブンは窒素で不活性化され、樹脂中の架
橋されたゲルの形成を最低限とした。メルトフィルター
を出た後、樹脂はロータリーミキサーに入り、１６５ｒ
ｐｍで溶融ポリマーは混合された。ミキサーバレルの温
度は３２５℃に維持された。溶融樹脂はミキサーから出
て、１．９０５ｃｍ直径の内部導管および０．０３８イ
ンチから０．０４５インチ（０．９６５ｍｍから１．１
４３ｍｍ）にテーパーしている２８インチ（７１ｃｍ）
の長さのスロットを有する３７．５インチ（９５ｃｍ）
の長さのオーバーフローダイに入れた。ダイの入り口の
圧力は約７００ｋＰａであり、内部流路を流れる循環熱
オイルにより温度は３２１℃とされた。ダイの周囲の窒
素は強制対流オーブンにより２４０℃に加熱された。ダ
イの頂点において形成された溶融ウェブは、０．７ｃｍ
／ｓの速度において操作するタンクトレッドを使用して
運び、部屋の空気の自然対流により冷却した。冷却され
たシートから４００ｍｍ×４００ｍｍの試験片を切断
し、そして試験した。得られたシートは、±０．０２０
ｍｍの変動を持つ０．４２０ｍｍの厚さを有していた。
ゲル物の数は２００／平方メートル未満であった。表面
の波打ちＷｙおよびＷｑは、それぞれ１μおよび０．１
７μであった。表面のあらさＲｑは１０ｎｍ未満であっ
た。そしてオプティカルリターダンスは２０ｎｍ未満で
あった。１６０℃の温度において測定された熱収縮は
０．０５％未満であった。
【００８０】実施例６−８ 光学的記憶媒体の形成 実施例３に従って３枚の１．２ｍｍ厚のポリカーボネー
トシートが製造された。それぞれのシートに以下のよう
にポリマーコーティングが施された。シートがコーティ
ングされると熱スタンパーを使用してエンボスされた。
スタンパーはプラスチックシートにサブミクロンのピッ
トを形成するバンプ（ｂｕｍｐ）を有する。熱スタンパ
ーはそれぞれのシートに数秒間圧力下で適用された。エ
ンボッシング後、シートはついでスパッタリングコータ
ーを使用して反射性金属層で被覆された。それぞれのシ
ートの上の金属層はついで紫外線硬化性のポリアクリレ
ートで被覆された。ついでシートはプレスにより切断さ
れ、光学的記憶媒体としての使用に好適な１２００ｍｍ
のディスクが提供された。
トシートが製造された。それぞれのシートに以下のよう
にポリマーコーティングが施された。シートがコーティ
ングされると熱スタンパーを使用してエンボスされた。
スタンパーはプラスチックシートにサブミクロンのピッ
トを形成するバンプ（ｂｕｍｐ）を有する。熱スタンパ
ーはそれぞれのシートに数秒間圧力下で適用された。エ
ンボッシング後、シートはついでスパッタリングコータ
ーを使用して反射性金属層で被覆された。それぞれのシ
ートの上の金属層はついで紫外線硬化性のポリアクリレ
ートで被覆された。ついでシートはプレスにより切断さ
れ、光学的記憶媒体としての使用に好適な１２００ｍｍ
のディスクが提供された。
【００８１】 Ｅｕｄｅｒｍ５０ＵＤはローム・アンド・ハース・カン
パニーから販売されるラテックスコーティングである。
Ｓ１８２８は、シップレーカンパニーから販売されるフ
ォトポリマーである。Ｎｏｒｌａｎｄ６１は、Ｎｏｒｌ
ａｎｄから販売される紫外線硬化性樹脂である。
パニーから販売されるラテックスコーティングである。
Ｓ１８２８は、シップレーカンパニーから販売されるフ
ォトポリマーである。Ｎｏｒｌａｎｄ６１は、Ｎｏｒｌ
ａｎｄから販売される紫外線硬化性樹脂である。
【００８２】試験方法 次の試験方法を、前述の実施例において造られたシート
を試験するために用いた。これらの試験方法は、一例で
あり、かつそれらの結果は方法に依存しない。オプティカルリターダンス： ６３２．８ｎｍ波長におけ
る光のリターダンスを次の方法によって決めた。偏光さ
せたレーザービーム（実験フレームに対して−４５°に
おいて偏光させた）を、プラスチックシートを通して通
過させ、次いで実験フレームに対して０°にセットした
光学軸に配向された光弾性モジュレータ（ｐｈｏｔｏｅ
ｌａｓｔｉｃｍｏｄｕｌａｔｏｒ：ＰＥＭ）（Ｍｏｄｅ
ｌ ＰＥＭ−９０，Ｈｉｎｄｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ
ｓ，Ｉｎｃ．；Ｈｉｌｌｓｂｏｒｏ，Ｏｒｅｇｏｎ）を
通して通過させた。ＰＥＭの電圧を１／４波長リターダ
ンス（１５８．２ｎｍ）に設定した。次いで、光を第２
の線状ポーラライザー（偏光軸＋４５°）を通して通過
させ、そして強度をシリコンダイオード検出器（Ｍｏｄ
ｅｌ ＰＤＡ−５０，ＴｈｏｒＬａｂｓ Ｉｎｃ．；Ｎ
ｅｗｔｏｎ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）によって検出し
た。ＰＥＭおよび検出器をモジュレートし、そして検出
器からのシグナルを固定増幅器（ｌｏｃｋ−ｉｎ ａｍ
ｐｌｉｆｉｅｒ）（Ｍｏｄｅｌ ５２１０，ＥＧ＆Ｇ
Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｒｅｓｅａｒｃ
ｈ；Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）によ
って処理した。プラスチックシートをレーザービームに
対して直角に回転させて最大の信号を見出した。リター
ダンスは、最大の信号を標準１／４波長板に対して測定
した信号と比較することによって決めた。物質の複屈折
率は、物質のオプティカルリターダンスをその厚さによ
って割ることによって得ることができる。例えば、オプ
ティカルリターダンスが４ｎｍのプラスチックの０．４
ｍｍの厚さのシートでは、物質の複屈折率は０．０００
０１である。本発明方法によって造った光学的品質のプ
ラスチックシートにおいては、物質の複屈折率は、それ
が０．０００２以下、好ましくは０．００００５以下、
そして最もこのましくは０．００００１以下であるなら
ば低いものであると考えられる。
を試験するために用いた。これらの試験方法は、一例で
あり、かつそれらの結果は方法に依存しない。オプティカルリターダンス： ６３２．８ｎｍ波長におけ
る光のリターダンスを次の方法によって決めた。偏光さ
せたレーザービーム（実験フレームに対して−４５°に
おいて偏光させた）を、プラスチックシートを通して通
過させ、次いで実験フレームに対して０°にセットした
光学軸に配向された光弾性モジュレータ（ｐｈｏｔｏｅ
ｌａｓｔｉｃｍｏｄｕｌａｔｏｒ：ＰＥＭ）（Ｍｏｄｅ
ｌ ＰＥＭ−９０，Ｈｉｎｄｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ
ｓ，Ｉｎｃ．；Ｈｉｌｌｓｂｏｒｏ，Ｏｒｅｇｏｎ）を
通して通過させた。ＰＥＭの電圧を１／４波長リターダ
ンス（１５８．２ｎｍ）に設定した。次いで、光を第２
の線状ポーラライザー（偏光軸＋４５°）を通して通過
させ、そして強度をシリコンダイオード検出器（Ｍｏｄ
ｅｌ ＰＤＡ−５０，ＴｈｏｒＬａｂｓ Ｉｎｃ．；Ｎ
ｅｗｔｏｎ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）によって検出し
た。ＰＥＭおよび検出器をモジュレートし、そして検出
器からのシグナルを固定増幅器（ｌｏｃｋ−ｉｎ ａｍ
ｐｌｉｆｉｅｒ）（Ｍｏｄｅｌ ５２１０，ＥＧ＆Ｇ
Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｒｅｓｅａｒｃ
ｈ；Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）によ
って処理した。プラスチックシートをレーザービームに
対して直角に回転させて最大の信号を見出した。リター
ダンスは、最大の信号を標準１／４波長板に対して測定
した信号と比較することによって決めた。物質の複屈折
率は、物質のオプティカルリターダンスをその厚さによ
って割ることによって得ることができる。例えば、オプ
ティカルリターダンスが４ｎｍのプラスチックの０．４
ｍｍの厚さのシートでは、物質の複屈折率は０．０００
０１である。本発明方法によって造った光学的品質のプ
ラスチックシートにおいては、物質の複屈折率は、それ
が０．０００２以下、好ましくは０．００００５以下、
そして最もこのましくは０．００００１以下であるなら
ば低いものであると考えられる。
【００８３】シートの波打ち：シートの波打ち（Ｗｙお
よびＷｑ）は、スティラスプロファイラー（ｓｔｙｌｕ
ｓ ｐｒｏｆｉｌｅｒ）（Ｓｕｒｆａｎａｌｙｚｅｒ
Ｓｙｓｔｅｍ ５０００，Ｆｅｄｅｒａｌ Ｐｒｏｄｕ
ｃｔｓ；Ｐｒｏｖｉｄｅｎｃｅ，ＲｈｏｄｅＩｓｌａｎ
ｄ）を使用し、ＳＥＭＩ 標準 Ｄ１５−１２９６の手
順と同様の手順で測定した。測定されたプロフィール
は、ガウスの長波長カットオフ（８ｍｍ）（Ｇａｕｓｓ
ｉａｎ ｌｏｎｇ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ ｃｕｔｏｆ
ｆ）でデジタル的にフィルターした。Ｗｙは、２０ｍｍ
の試料の長さにおける最大値と最小値との間の差であ
り、Ｗｑは、８ｍｍについて計算した平均ラインからの
フィルターされたプロフィールの根平均二乗平均偏差
（ｒｏｏｔ ｍｅａｎ ｓｑｕａｒｅ ａｖｅｒａｇｅ
ｄｅｖｉａｔｉｏｎ）であり、８０ｍｍの評価の長さ
について平均した。本発明方法により造られた高品質の
シートのためには、Ｗｙは、２．０μ以下、好ましくは
１．０μ以下、そして最も好ましくは０．５μ以下であ
る。
よびＷｑ）は、スティラスプロファイラー（ｓｔｙｌｕ
ｓ ｐｒｏｆｉｌｅｒ）（Ｓｕｒｆａｎａｌｙｚｅｒ
Ｓｙｓｔｅｍ ５０００，Ｆｅｄｅｒａｌ Ｐｒｏｄｕ
ｃｔｓ；Ｐｒｏｖｉｄｅｎｃｅ，ＲｈｏｄｅＩｓｌａｎ
ｄ）を使用し、ＳＥＭＩ 標準 Ｄ１５−１２９６の手
順と同様の手順で測定した。測定されたプロフィール
は、ガウスの長波長カットオフ（８ｍｍ）（Ｇａｕｓｓ
ｉａｎ ｌｏｎｇ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ ｃｕｔｏｆ
ｆ）でデジタル的にフィルターした。Ｗｙは、２０ｍｍ
の試料の長さにおける最大値と最小値との間の差であ
り、Ｗｑは、８ｍｍについて計算した平均ラインからの
フィルターされたプロフィールの根平均二乗平均偏差
（ｒｏｏｔ ｍｅａｎ ｓｑｕａｒｅ ａｖｅｒａｇｅ
ｄｅｖｉａｔｉｏｎ）であり、８０ｍｍの評価の長さ
について平均した。本発明方法により造られた高品質の
シートのためには、Ｗｙは、２．０μ以下、好ましくは
１．０μ以下、そして最も好ましくは０．５μ以下であ
る。
【００８４】シートのあらさ：シートのあらさ（Ｒｑ）
は、スティラスプロファイラー（Ｄｅｋｔａｋ ３−３
０，Ｖｅｅｃｏ／Ｓｌｏａｎ；Ｓａｎｔａ Ｂａｒｂａ
ｒｅ，ＣＡ）を使用し、ＳＥＭＩ 標準 Ｄ７−９４の
手順と同様の手順で測定した。測定されたプロフィール
は、ガウス長波長カットオフ（０．０８ｍｍ）および短
波長カットオフ（０．００２５ｍｍ）でデジタル的にフ
ィルターした。評価長さは０．４ｍｍであった。あらさ
のパラメーター（Ｒｑ）は、平均ラインからのフィルタ
ーされたプロフィールの根平均二乗平均偏差である。３
つの異なった測定からの平均値を報告した。本発明方法
により造られた高品質のシートのためには、Ｒｑは、５
０ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以下、そして最も好ま
しくは５ｎｍ以下である。
は、スティラスプロファイラー（Ｄｅｋｔａｋ ３−３
０，Ｖｅｅｃｏ／Ｓｌｏａｎ；Ｓａｎｔａ Ｂａｒｂａ
ｒｅ，ＣＡ）を使用し、ＳＥＭＩ 標準 Ｄ７−９４の
手順と同様の手順で測定した。測定されたプロフィール
は、ガウス長波長カットオフ（０．０８ｍｍ）および短
波長カットオフ（０．００２５ｍｍ）でデジタル的にフ
ィルターした。評価長さは０．４ｍｍであった。あらさ
のパラメーター（Ｒｑ）は、平均ラインからのフィルタ
ーされたプロフィールの根平均二乗平均偏差である。３
つの異なった測定からの平均値を報告した。本発明方法
により造られた高品質のシートのためには、Ｒｑは、５
０ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以下、そして最も好ま
しくは５ｎｍ以下である。
【００８５】収縮：収縮は、熱処理前および処理後の試
料の長さを直接測定することにより決めた。多数の測定
を行い、プラスチックの乾燥試験片の長さを決めた。測
定の正確度は０．００５％であった。試料は、そのＴｇ
以下のセット温度に４時間加熱した。室温に冷却するこ
とにより、長さを多数の測定により再び求めた。加熱サ
イクルの前および後の長さの変化の百分率を収縮率とし
て報告した。本発明方法によって造られた高品質シート
のためには、収縮率は、０．１％以下、好ましくは０．
０７５％以下、そして最も好ましくは０．０５％以下で
ある。
料の長さを直接測定することにより決めた。多数の測定
を行い、プラスチックの乾燥試験片の長さを決めた。測
定の正確度は０．００５％であった。試料は、そのＴｇ
以下のセット温度に４時間加熱した。室温に冷却するこ
とにより、長さを多数の測定により再び求めた。加熱サ
イクルの前および後の長さの変化の百分率を収縮率とし
て報告した。本発明方法によって造られた高品質シート
のためには、収縮率は、０．１％以下、好ましくは０．
０７５％以下、そして最も好ましくは０．０５％以下で
ある。
【００８６】ゲル物数測定試験方法 ゲル物の数は、オーバヘッドプロジェクターでスクリー
ン上にシートの欠陥を投影する事により測定された。そ
れぞれ４００ｍｍ×４００ｍｍのシートの９つの３×３
ｃｍの領域について数が測定された。３×３ｃｍの領域
のそれぞれについてスクリーンに投影された表面の欠陥
の数が測定された。平均された数が、サンプルにおける
総ゲル物数とされた。
ン上にシートの欠陥を投影する事により測定された。そ
れぞれ４００ｍｍ×４００ｍｍのシートの９つの３×３
ｃｍの領域について数が測定された。３×３ｃｍの領域
のそれぞれについてスクリーンに投影された表面の欠陥
の数が測定された。平均された数が、サンプルにおける
総ゲル物数とされた。
【図１】図１は、本発明の典型的装置の正面図である。
【図２】図２は、図１の装置の側面図である。
【図３】図３Ａ〜図３Ｃは、オーバーフローダイ２０の
拡大図である。図３Ａは、加熱用マニホールドを取り付
けたダイの透視図である。図３Ｂは、ダイの上面図であ
る。そして図３Ｃは、ダイの側面図である。
拡大図である。図３Ａは、加熱用マニホールドを取り付
けたダイの透視図である。図３Ｂは、ダイの上面図であ
る。そして図３Ｃは、ダイの側面図である。
【図４】図４は、オーバーフローダイ２０の断面図であ
る。
る。
【図５】図５Ａ、および図５Ｂは、本発明のオーバーフ
ローダイの別の態様である。
ローダイの別の態様である。
【図６】図６Ａ、図６Ｂ、および図６Ｃは、本発明のオ
ーバーフローダイの別の態様である。
ーバーフローダイの別の態様である。
【図７】図７Ａおよび図７Ｂは、本発明のオーバーフロ
ーダイの別の態様である。
ーダイの別の態様である。
１０ ソース １２ 流路 １４ 供給手段 １５ ヒーター ２０ ダイ ２１，２１’ 導管の開口 ２２ 導管 ２３ スロット ２４，２５ 収束側面 ２６ 頂点 ２７ 溶融ウェブ ３１，３２，３３，３４ タンクトレッド ３６ 冷却手段 ４０ シート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３１ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３１Ａ 7/26 ５２１ 7/26 ５２１ 11/105 ５２１ 11/105 ５２１Ａ ５４６ ５４６Ｄ (72)発明者 ガロ・カーナリアン アメリカ合衆国ニュージャージー州08540, プリンストン，シェイディブルック・レー ン・184 (72)発明者 ジェフリー・ローレンス・ディーチャー アメリカ合衆国ニュージャージー州08081, シックラービル，ハンプシャー・コート・ １ (72)発明者 アラン・ダニエル・スタイン アメリカ合衆国マサチューセッツ州02465, ニュートン，スミス・アベニュー・70
Claims (29)
- 【請求項１】 高品質プラスチックシートの１以上の
層、該シートの少なくとも１つの面に配置された反射性
または半反射性の層、および任意に該シートの少なくと
も１つの面に配置された保護層を有する光学的記憶媒体
であって、該プラスチックシートが以下の工程を含む方
法によって製造される光学的記憶媒体： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程；および （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程。 - 【請求項２】 樹脂が、アクリル酸、メタクリル酸およ
びそれらのエステルのホモポリマーまたはコポリマー；
フェノキシエーテル；ポリフェニレンオキサイド樹脂；
セルロース樹脂；ビニルポリマー；フルオロポリマー；
ポリスチレン；ポリオレフィン；ポリスルホン；ポリエ
ーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエーテルイ
ミド；ポリフェニレンスルフィド；ポリアリーレンエス
テル樹脂；ポリエステル；Ｎ−Ｈおよび／またはＮ−ア
ルキルグルタルイミドのホモポリマーまたはコポリマ
ー；アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂；ス
チレン−アクリロニトリル樹脂；スチレン−無水マレイ
ン酸樹脂；イミド化スチレン−無水マレイン酸樹脂；ポ
リアミド；ポリカーボネート；ポリカーボネート−ポリ
エステル；ポリアリーレート；液晶ポリマー；およびそ
れらの混合物からなる群から選ばれた熱可塑性樹脂であ
る、請求項１記載の光学的記憶媒体。 - 【請求項３】 熱可塑性樹脂が、ポリカーボネート；線
状アクリルホモポリマーおよびコポリマー；環状ポリオ
レフィン；および線状イミド化アクリルホモポリマーお
よびコポリマーからなる群から選ばれる、請求項２記載
の光学的記憶媒体。 - 【請求項４】 前記樹脂が、ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）アルカンおよびシクロアルカン；ビス（３−置換
−４−ヒドロキシフェニル）アルキル−シクロアルカ
ン；ビス（３，５−ジ置換−４−ヒドロキシフェニル）
アルキルシクロアルカン；たとえば２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、９，９−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４
−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−ト
リメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−３，３−ジメチルシクロヘキサン、１，
１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，３
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチル
アダマンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−フェニルエタン、４，４’−ジヒドロキシ−
テトラフェニルメタン、および６，６’−ジヒドロキシ
−３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピ
ロ（ビス）インダン；およびそれらの混合物からなる群
から選択される１以上のビスフェノールを含むポリカー
ボネートまたはポリカーボネート−ポリエステルであ
る、請求項２記載の光学的記憶媒体。 - 【請求項５】 熱可塑性樹脂がビスフェノールＡポリカ
ーボネートである、請求項２記載の光学的記憶媒体。 - 【請求項６】 反射層が金属である、請求項１記載の光
学的記憶媒体。 - 【請求項７】 金属がアルミニウムまたは金である、請
求項６記載の光学的記憶媒体。 - 【請求項８】 保護層がラッカーまたは樹脂である、請
求項１記載の光学的記憶媒体。 - 【請求項９】 フォトポリマー層をさらに含む、請求項
１記載の光学的記憶媒体。 - 【請求項１０】 シートと反射または半反射性の層との
間に配置された相−変化媒体をさらに含む、請求項１記
載の光学的記憶媒体。 - 【請求項１１】 シートと反射または半反射性の層との
間に配置された磁気光学的層をさらに含む、請求項１記
載の光学的記憶媒体。 - 【請求項１２】 その上にエンコードされた情報をさら
に有する、請求項１記載の光学的記憶媒体。 - 【請求項１３】 情報がピットまたは相−変化ドメイン
の形態でエンコードされる、請求項１２記載の光学的記
憶媒体。 - 【請求項１４】（ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供す
るためのソース； （ｂ） 長さおよび幅を有するオーバーフローダイであ
って、前記ダイは、頂点に達する実質的に卵形の断面、
導管の開口、および前記導管の開口と連結した計量装置
を含み、溶融プラスチック樹脂は、導管の開口を通って
ダイの中に流れ、計量装置を通ってダイの外へ流れ、そ
してダイの側面のまわりに流れて、前記頂点において溶
融ウェブを形成する、前記のダイ； （ｃ） 前記ソースから前記オーバーフローダイに、前
記溶融プラスチック樹脂を送出するための手段； （ｄ） 前記溶融ウェブを、前記オーバーフローダイか
ら遠くに導くための誘導手段、 （ｅ） 前記の送出手段とオ−バ−フローダイの間に配
置された濾過手段、および （ｆ） 前記の濾過手段とオ−バ−フローダイの間に配
置された混合手段を包む、高品質のプラスチックシート
を製造するための装置。 - 【請求項１５】 濾過手段がディスクフィルターであ
る、請求項１４記載の装置。 - 【請求項１６】 混合手段がロータリーミキサーであ
る、請求項１４記載の装置。 - 【請求項１７】 シートの少なくとも１つの面に配置さ
れた電子部品を有する高品質プラスチックシートを含む
液晶ディスプレイ用の基体であって、該プラスチックシ
ートが以下の工程を含む方法によって製造される基体： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程；および （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程、 ここでプラスチック樹脂がポリカーボネートの時には、
ビスフェノール成分として（１）１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘ
キサン；（２）２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンと１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとの混合
物；（１）と（２）のブレンド；（１）または（２）と
ビスフェノール成分として２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパンを含む第２のポリカーボネートと
のブレンドを含まない。 - 【請求項１８】 樹脂が、アクリル酸、メタクリル酸お
よびそれらのエステルのホモポリマーまたはコポリマ
ー；フェノキシエーテル；ポリフェニレンオキサイド樹
脂；セルロース樹脂；ビニルポリマー；フルオロポリマ
ー；ポリスチレン；ポリオレフィン；ポリスルホン；ポ
リエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエーテ
ルイミド；ポリフェニレンスルフィド；ポリアリーレン
エステル樹脂；ポリエステル；Ｎ−Ｈおよび／またはＮ
−アルキルグルタルイミドのホモポリマーまたはコポリ
マー；アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂；
スチレン−アクリロニトリル樹脂；スチレン−無水マレ
イン酸樹脂；イミド化スチレン−無水マレイン酸樹脂；
ポリアミド；ポリカーボネート；ポリカーボネート−ポ
リエステル；ポリアリーレート；およびこれらの混合
物；からなる群から選択される熱可塑性樹脂である、請
求項１７記載の基体。 - 【請求項１９】 熱可塑性樹脂が、ポリカーボネート；
線状アクリル系ホモポリマーおよびコポリマー；環状ポ
リオレフィン；線状イミド化アクリル系ホモポリマーお
よびコポリマー；からなる群から選択される、請求項１
７記載の基体。 - 【請求項２０】 前記樹脂が、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）アルカンおよびシクロアルカン；ビス（３−置
換−４−ヒドロキシフェニル）アルキル−シクロアルカ
ン；ビス（３，５−ジ置換−４−ヒドロキシフェニル）
アルキルシクロアルカン；２，２−ビス（３−メチル−
４ヒドロキシフェニル）プロパン；２，２−ビス（３，
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン；２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン；２，２−ビス（３−イソプロピル−４
−ヒドロキシフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ブタン；９，９−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）フルオレン；９，９−ビス（４−ヒド
ロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン；１，１−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチルシク
ロヘキサン；１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘ
キサン；１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
５，７−ジメチルアダマンタン；１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−１−フェニルエタン；４，４’−
ジヒドロキシ−テトラフェニルメタン；２，４−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン；および６，６’
−ジヒドロキシ−３，３，３’，３’−テトラメチル−
１，１’−スピロ（ビス）インダン；およびそれらの混
合物からなる群から選択される１以上のビスフェノール
を含むポリカーボネートまたはポリカーボネート−ポリ
エステルである、請求項１７記載の基体。 - 【請求項２１】 電子部品が能動電子素子の層および導
電性層から選択される、請求項１７記載の基体。 - 【請求項２２】 プラスチックシートおよび電子部品と
の間に配置された、保護コーティング、カラーフィルタ
ーコーティング、またはバリヤコーティングの１以上の
層をさらに含む、請求項１７記載の基体。 - 【請求項２３】 シートの少なくとも１つの面に配置さ
れた磁気層を有する高品質プラスチックシートを含む磁
気的記憶媒体であって、該プラスチックシートが以下の
工程を含む方法によって製造される磁気的記憶媒体： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程；および （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程。 - 【請求項２４】 樹脂が、アクリル酸、メタクリル酸お
よびそれらのエステルのホモポリマーまたはコポリマ
ー；フェノキシエーテル；ポリフェニレンオキサイド樹
脂；セルロース樹脂；ビニルポリマー；フルオロポリマ
ー；ポリスチレン；ポリオレフィン；ポリスルホン；ポ
リエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエーテ
ルイミド；ポリフェニレンスルフィド；ポリアリーレン
エステル樹脂；ポリエステル；Ｎ−Ｈおよび／またはＮ
−アルキルグルタルイミドのホモポリマーまたはコポリ
マー；アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂；
スチレン−アクリロニトリル樹脂；スチレン−無水マレ
イン酸樹脂；イミド化スチレン−無水マレイン酸樹脂；
ポリアミド；ポリカーボネート；ポリカーボネート−ポ
リエステル；ポリアリーレート；液晶ポリマー；および
それらの混合物からなる群から選ばれた熱可塑性樹脂で
ある、請求項２３記載の磁気的記憶媒体。 - 【請求項２５】 樹脂がさらに剛化剤を含む、請求項２
３記載の磁気的記憶媒体。 - 【請求項２６】 剛化剤がガラス繊維、タルク、窒化珪
素、クレイおよびそれらの混合物からなる群から選択さ
れる、請求項２５記載の磁気的記憶媒体。 - 【請求項２７】 その上にエンコードされた情報を有す
る光学的記憶媒体の製造方法であって、以下の工程を含
む方法によって高品質プラスチックシートを製造するこ
とを含む方法： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程； （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程； （ｆ） ポリマーフィルムで該シートを被覆する工程；
および （ｇ） 被覆されたシートにエンボッシングすることに
より情報をエンコードする工程。 - 【請求項２８】 １以上の顔料、染料またはそれらの混
合物がその内部に分散された高品質プラスチックシート
を有する３次元光学的記憶媒体であって、該顔料、染料
またはそれらの混合物が光に暴露されることにより局部
的に光学特性の変化を起こすものであり、光学的記憶媒
体が以下の工程によって製造される光学的記憶媒体： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 顔料、染料またはそれらの混合物を溶融プラス
チック樹脂と混合し、溶融樹脂をオーバーフローダイを
使用してウェブに成形する工程； （ｅ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程； （ｆ） 前記溶融ウェブを冷却して固体を形成する工
程。 - 【請求項２９】 構造化された表面を有する高品質プラ
スチックシートを含むライトマネージメントフィルムで
あって、以下の工程によってフィルムが製造されるライ
トマネージメントフィルム： （ａ） 溶融プラスチック樹脂を提供する工程； （ｂ） この溶融プラスチック樹脂を、入口および出口
を有するオーバーフローダイに導く工程； （ｃ） 溶融プラスチック樹脂を、前記オーバーフロー
ダイを使用して溶融ウェブに成形する工程； （ｄ） 前記オーバーフローダイから遠くに前記溶融ウ
ェブを導く工程； （ｅ） 前記溶融ウェブを冷却して固体シートを形成す
る工程；および （ｆ） 冷却前、冷却中、または冷却後にシートに構造
化された表面を提供する工程。
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