JP2000353654A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理液吐出ノズルの吐出位置の調整を容易に
かつ短時間で行うことが可能な基板処理装置を提供す
る。 【解決手段】 操作パネル２０に表示されるティーチン
グ画面２１は、処理液吐出ノズルの吐出位置の調整を行
うノズルユニットを選択するためのノズル選択部２２、
ノズルユニットをＸ軸またはＹ軸方向へ移動させるため
の軸位置操作部２３、基板の回転動作を操作するための
回転操作部２５および処理液吐出ノズルから基板上への
処理液の吐出を操作するための吐出操作部２６を備え
る。ノズル選択部２２でノズルユニットを選択し、回転
操作部２５および吐出操作部２６のそれぞれの開始ボタ
ン２５ａ，２６ａを押すことにより、処理液吐出ノズル
から基板上へ処理液が吐出される。作業者は、基板上の
処理液の塗り広がり状態を観察しながら軸位置操作部２
３を操作し、処理液吐出ノズルの吐出位置を調整する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、処理液を吐出する
処理液吐出ノズルを備えた基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板等の基板に処理液を供給して所定の処理を行うために
基板処理装置が用いられている。基板処理装置には、基
板表面にレジスト液等の塗布液を供給して回転塗布する
回転式塗布装置、基板表面に現像液を供給して現像処理
を行う回転式現像装置、あるいは基板表面に処理液を供
給して洗浄処理を行う回転式洗浄装置等がある。

【０００３】これらの基板処理装置は、基板表面に各処
理液を供給するための処理液吐出ノズルを備えている。
また、処理内容に応じて異なる処理液を供給するため、
１台の基板処理装置が複数の処理液吐出ノズルを備える
場合もある。

【０００４】処理液吐出ノズルは、待機時には、基板の
外方の待機位置で待機し、処理液の供給時には、基板の
上方に移動し、基板表面に処理液を供給する。処理液の
供給が終了すると、処理液吐出ノズルは、待機位置に戻
り、次の供給動作に備える。

【０００５】処理液は、所定のタイミングでかつ所定の
量ずつ処理液吐出ノズルから基板上に供給される。例え
ば、処理液としてレジスト液を供給する回転式塗布装置
では、基板の低速回転時に、処理液吐出ノズルからレジ
スト液を基板のほぼ中央に所定量供給する。その後、基
板を高速回転させ、基板の全面にわたってレジスト液を
所定の膜厚に塗り広げる。

【０００６】設計上、処理液吐出ノズルは、基板の回転
中心に移動するようになっている。ところが、実際は、
組み立て誤差等により、処理液吐出ノズルの吐出位置が
基板の回転中心と一致しないことがある。そして、基板
の回転中心からずれた位置にある処理液吐出ノズルから
基板上に処理液を供給すると、基板表面の処理液の膜厚
が不均一となり、基板に不均一な処理を施すこととな
る。したがって、処理液吐出ノズルの吐出位置が基板の
回転中心と一致するように、処理液吐出ノズルの吐出位
置を予め調整する（以下、ティーチングと呼ぶ）必要が
ある。

【０００７】回転式塗布装置に設けられた操作パネルか
ら処理液吐出ノズルをティーチングする方法について説
明する。

【０００８】図５は従来の回転式塗布装置における処理
液吐出ノズルの吐出位置を調整するための操作パネルを
示す図である。なお、回転式塗布装置は複数の処理液吐
出ノズルを有するものとする。

【０００９】図５（ａ）に示すように、操作パネル５０
にはティーチング画面５１が表示されている。ティーチ
ング画面５１は、複数の処理液吐出ノズルからティーチ
ングする処理液吐出ノズルを選択するためのノズル選択
部５２、選択した処理液吐出ノズルをＸ軸方向またはＹ
軸方向へ水平移動させる移動ボタン５３ａを有する軸位
置操作部５３、選択した処理液吐出ノズルのＸ軸および
Ｙ軸における位置を表示する表示部５４、基板を回転さ
せる開始ボタン５５ａおよび基板を停止させる停止ボタ
ン５５ｂを有する回転操作部５５、および吐出メニュー
画面を開くための吐出メニューボタン５６を備える。吐
出メニューボタン５６を押すことにより操作パネル５０
は、ティーチング画面５１から図５（ｂ）の吐出メニュ
ー画面５７へ切り替わる。

【００１０】図５（ｂ）に示すように、吐出メニュー画
面５７は、処理液吐出ノズルからのレジスト液の吐出条
件、例えば連続吐出あるいは間欠吐出等を選択するため
の吐出条件選択部５８、レジスト液の吐出を開始させる
開始ボタン５９ａおよびレジスト液の吐出を停止させる
停止ボタン５９ｂを有する吐出操作部５９、およびティ
ーチング画面５１へ戻るための復帰ボタン６０を備え
る。

【００１１】次に、ティーチング処理について説明す
る。まず、ティーチング画面５１のノズル選択部５２に
おいて、ティーチングを行う処理液吐出ノズルを選択す
る。次に、回転操作部５５の開始ボタン５５ａを押す。
これにより、基板が回転する。

【００１２】吐出メニューボタン５６を押し、吐出メニ
ュー画面５７を開く。吐出メニュー画面５７の吐出条件
選択部５８において、処理液吐出ノズルからレジスト液
が間欠的に吐出される条件を選択する。次に、吐出操作
部５９の開始ボタン５９ａを押す。これにより、処理液
吐出ノズルは、基板外方の待機位置から基板上方の吐出
位置に移動する。その後、処理液吐出ノズルから基板上
にレジスト液が間欠的に吐出される。

【００１３】次に、基板上に吐出されたレジスト液の塗
り広がり状態を観察する。レジスト液が基板の全面に一
様な膜厚で塗り広げられている場合、処理液吐出ノズル
の吐出位置が基板の回転中心と一致しているものと判断
される。一方、基板上に塗り広げられたレジスト液の膜
厚が不均一である場合、処理液吐出ノズルの吐出位置が
基板の回転中心と一致していないものと判断される。

【００１４】処理液吐出ノズルの位置が基板の回転中心
と一致していないと判断した場合、基板の回転中心と処
理液吐出ノズルの吐出位置とのずれ量を目視により推測
し、推測したずれ量を記憶する。次に、吐出操作部５９
の停止ボタン５９ｂを押す。これにより、処理液吐出ノ
ズルからのレジスト液の吐出が停止し、処理液吐出ノズ
ルは基板上方の吐出位置から基板外方の待機位置に移動
する。

【００１５】次に、復帰ボタン６０を押し、ティーチン
グ画面５１を開く。そして、先程記憶した基板の回転中
心と処理液吐出ノズルの吐出位置とのずれ量だけ処理液
吐出ノズルを移動させるため、表示部５４に表示される
処理液吐出ノズルの位置を確認しながら、軸位置操作部
５３の移動ボタン５３ａを押す。

【００１６】吐出メニューボタン５６を押して、上記と
同様に、吐出メニュー画面５７の吐出条件選択部５８に
おいて間欠吐出条件を選択し、吐出操作部５９の開始ボ
タン５９ａを押す。基板上に吐出されたレジスト液の塗
り広がり状態を観察し、処理液吐出ノズルの吐出位置と
基板の回転中心との一致または不一致の判断を行う。

【００１７】上記の処理液吐出ノズルの移動操作および
基板上への処理液の吐出操作を、処理液吐出ノズルの吐
出位置が基板の回転中心と一致していると判断されるま
で行う。

【００１８】その後、回転操作部５５の停止ボタン５５
ｂを押し、基板の回転を停止する。これにより、処理液
吐出ノズルのティーチングは終了する。

【００１９】一方、処理液吐出ノズルの吐出位置と基板
の回転中心とのずれ量が小さい場合には、回転式塗布装
置を覆うカバーを開き、処理液吐出ノズルを手でずらす
ことも行われる。この作業も基板上に吐出されたレジス
ト液の塗り広がり状態を観察しながら行われる。

【００２０】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、処理液
吐出ノズルの吐出位置の移動は、目視により推測した基
板の回転中心と処理液吐出ノズルの吐出位置とのずれ量
に基づいて行われる。そのため、処理液吐出ノズルの吐
出位置の調整を繰り返し行わないと、基板の回転中心と
処理液吐出ノズルの吐出位置とが一致しない。それによ
り、ティーチング画面５１と吐出メニュー画面５７とを
何度も切り替えることが必要となる。そのため、ティー
チングに要する時間が長くなる。また、目視により推測
したずれ量を記憶しておく必要がある。

【００２１】一方、処理液吐出ノズルを手でずらして吐
出位置の調整を行う場合、基板の回転中に回転式塗布装
置を覆うカバーを開く必要がある。これにより、処理液
のミスト（飛沫）が回転式塗布装置外に飛散し、周囲を
汚染する恐れがある。

【００２２】本発明の目的は、処理液吐出ノズルの吐出
位置の調整を容易にかつ短時間で行うことが可能な基板
処理装置を提供することである。

【００２３】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板処理装置は、基板を保持する基板保持手
段と、基板保持手段を回転させる回転駆動手段と、基板
保持手段に保持された基板に処理液を吐出する処理液吐
出ノズルと、処理液吐出ノズルを基板保持手段に保持さ
れた基板の上方の吐出位置と基板の上方から外れた待機
位置とに移動させる移動手段と、吐出位置にある処理液
吐出ノズルを移動させることにより吐出位置を調整する
調整手段と、回転駆動手段による基板保持手段の回転動
作、移動手段による処理液吐出ノズルの移動動作、処理
液吐出ノズルからの処理液の吐出動作および調整手段に
よる吐出位置の調整動作を制御する制御手段と、回転駆
動手段による基板保持手段の回転動作、移動手段による
処理液吐出ノズルの移動動作、および処理液吐出ノズル
からの処理液の吐出動作を制御手段に指令するととも
に、処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作中に調整
手段による吐出位置の調整動作を制御手段に指令するた
めの操作パネルとを備えたものである。

【００２４】第１の発明に係る基板処理装置において
は、操作パネルを操作することにより操作パネルから制
御手段へ指令が与えられる。操作パネルにより基板保持
手段の回転を指令すると、制御手段は、回転駆動手段に
より基板保持手段を回転させる。操作パネルにより処理
液吐出ノズルの移動を指令すると、制御手段は、移動手
段により処理液の吐出ノズルを待機位置から吐出位置ま
で移動させる。操作パネルにより処理液吐出ノズルから
の処理液の吐出を指令すると、制御手段は、処理液吐出
ノズルから回転する基板上に処理液を吐出させる。この
状態で操作パネルを操作することにより、基板上での処
理液の塗り広がり状態を観察しながら調整手段により処
理液吐出ノズルを移動させて処理液吐出ノズルの吐出位
置の調整を行うことができる。

【００２５】これにより、容易にかつ短時間で処理液吐
出ノズルの吐出位置を基板の回転中心に一致させること
ができる。この吐出位置の調整の際には、処理液吐出ノ
ズルの吐出位置と基板の回転中心とのずれ量を記憶して
おく必要がない。

【００２６】さらに、操作パネルからの操作だけで処理
液吐出ノズルの吐出位置の調整ができるため、作業中に
処理液吐出ノズルの吐出位置を手で直接調整する必要が
ない。それにより、処理液が基板処理装置外に飛散する
ことがない。

【００２７】第２の発明に係る基板処理装置は、第１の
発明に係る基板処理装置の構成において、操作パネル
は、基板保持手段の回転動作を指令するための回転操作
部と、処理液吐出ノズルの移動動作を指令するための移
動操作部と、処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作
を指令するための吐出操作部と、吐出位置の調整動作を
指令するための吐出位置操作部とを備えたものである。

【００２８】この場合、操作パネルの回転操作部から基
板保持手段の回転動作を指令し、操作パネルの移動操作
部から処理液吐出ノズルの移動動作を指令し、操作パネ
ルの吐出操作部から処理液吐出ノズルからの処理液の吐
出動作を指令し、操作パネルの吐出位置操作部から処理
液吐出ノズルの吐出位置の調整動作を指令することがで
きる。

【００２９】第３の発明に係る基板処理装置は、第２の
発明に係る基板処理装置の構成において、回転操作部、
移動操作部、吐出操作部および吐出位置操作部は画面上
に表示されるものである。

【００３０】この場合、画面上で処理液吐出ノズルの吐
出位置の調整に関する全ての操作ができるため、作業効
率が高くなる。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板処理装置
の一例として回転式塗布装置について説明する。

【００３２】図１は本発明の一実施例における回転式塗
布装置の断面図、図２は図１の回転式塗布装置の平面図
である。

【００３３】図１に示すように、回転式塗布装置１００
は、塗布ユニット５０およびノズルユニット４０を備え
る。塗布ユニット５０は、基板Ｗを水平姿勢で吸引保持
する基板保持部１を備える。基板保持部１は、モータ３
の回転軸４の先端部に固定され、鉛直方向の軸の周りで
回転可能に構成されている。基板保持部１の周囲には、
基板Ｗを取り囲むように円形のカップ２が上下動自在に
設けられている。

【００３４】回転式塗布装置１００の底面に２軸駆動装
置１１が固定されており、２軸駆動装置１１の上面に扇
形テーブル１０が取り付けられている。また、図２に示
すように、扇形テーブル１０の上面には複数のノズルユ
ニット４０が放射状に配設されている。

【００３５】図１に示す２軸駆動装置１１は、支持部材
１１ａと、支持部材１１ａの上面に配置されたＸ方向用
部材１１ｂと、Ｘ方向用部材１１ｂの上面に配置された
Ｙ方向用部材１１ｃとを備える。以下、図２に示すよう
に、水平面上で互いに直交する２方向をＸ軸方向および
Ｙ軸方向と呼ぶ。

【００３６】Ｘ方向用部材１１ｂは、支持部材１１ａに
対してＸ軸方向に移動可能に形成されている。支持部材
１１ａとＸ方向用部材１１ｂとの間には、正逆回転可能
なＸ軸モータ１２ａの回転軸１１ｄが、Ｘ軸方向に沿っ
て設けられている。回転軸１１ｄには雄ねじ（図示せ
ず）が形成されており、支持部材１１ａ、Ｘ方向用部材
１１ｂおよび回転軸１１ｄでＸ軸方向の送り機構を構成
している。これによりＸ軸モータ１２ａを駆動すること
により、Ｘ方向用部材１１ｂをＸ軸方向に移動させるこ
とが可能となる。

【００３７】Ｙ方向用部材１１ｃは、Ｘ方向用部材１１
ｂに対してＹ軸方向に移動可能に形成されている。Ｘ方
向用部材１１ｂとＹ方向用部材１１ｃとの間には、正逆
回転可能なＹ軸モータ１２ｂの回転軸１１ｅが、Ｙ軸方
向に沿って設けられている。回転軸１１ｅには雄ねじ
（図示せず）が形成されており、Ｘ方向用部材１１ｂ、
Ｙ方向用部材１１ｃおよび回転軸１１ｅでＹ軸方向の送
り機構を構成している。Ｙ軸モータ１２ｂを駆動するこ
とにより、Ｙ方向用部材１１ｃをＹ軸方向に移動させる
ことが可能となる。したがって、Ｘ軸モータ１２ａおよ
びＹ軸モータ１２ｂを駆動することにより、ノズルユニ
ット４０をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させることが
できる。

【００３８】ノズルユニット４０は、ノズルアーム７、
ノズルアーム案内部材１３、ノズルアーム支持部材９お
よびエアシリンダ８を備える。ノズルアーム支持部材９
はエアシリンダ８のロッド８ａの上端面に取り付けられ
ており、ロッド８ａの伸縮動作に伴い昇降する。

【００３９】ノズルアーム７の一端部には、処理液吐出
ノズル６を保持する保持部材１５が取り付けられてい
る。処理液吐出ノズル６には、レジスト液を供給する配
管が取り付けられ、配管には開閉弁１７が設けられてい
る。

【００４０】ノズルアーム７はノズルアーム支持部材９
に対し、軸部材７ａにより回転可能に取り付けられてい
る。

【００４１】ノズルアーム７の他端部には突起部材７ｂ
が取り付けられている。突起部材７ｂは、ノズルアーム
案内部材１３に設けられた上下方向に延びる溝部１３ａ
に係合している。溝部１３ａは、下側が軸部材７ａより
塗布ユニット５０側に位置し、上側が軸部材７ａより塗
布ユニット５０と反対側に位置するように形成されてい
る。

【００４２】上記の構成により、ノズルアーム７は、ロ
ッド８ａが縮退している場合に起立姿勢となる。一方、
ロッド８ａが伸長すると、ノズルアーム７は、軸部材７
ａを中心として回転する。その結果、ノズルアーム７が
水平姿勢となり、処理液吐出ノズル６を基板Ｗの上方の
吐出位置に移動させることができる。

【００４３】回転式塗布装置１００の外側面には操作パ
ネル２０が設けられている。操作パネル２０からの設定
により、処理液吐出ノズル６の吐出位置が基板Ｗの回転
中心と一致するように処理液吐出ノズル６の吐出位置を
予め調整する操作（ティーチング）が行われる。

【００４４】操作パネル２０からの入力に基づく設定信
号は、制御部１８に与えられる。制御部１８は、設定信
号に基づいてモータ３、Ｘ軸モータ１２ａ、Ｙ軸モータ
１２ｂ、エアシリンダ８および開閉弁１７を制御する。

【００４５】図３は図１の回転式塗布装置１００の操作
パネル２０に表示される設定画面の図である。

【００４６】図３に示すように、操作パネル２０にはテ
ィーチング画面２１が表示される。ティーチング画面２
１は、ノズル選択部２２、軸位置操作部２３、回転操作
部２５および吐出操作部２６を備える。図１を参照しな
がらティーチング画面２１の各部の機能について説明す
る。

【００４７】ノズル選択部２２は、複数のノズルユニッ
ト４０の中からティーチングするノズルユニット４０を
選択するためものである。ノズル選択部２２によりティ
ーチングするノズルユニット４０を選択し、後で説明す
る吐出操作部２６の開始ボタン２６ａを押すと、ノズル
ユニット４０のノズルアーム７が水平姿勢となり、基板
Ｗの上方に選択されたノズルユニット４０の処理液吐出
ノズル６が移動する。そして、処理液吐出ノズル６から
基板Ｗ上にレジスト液が吐出される。

【００４８】軸位置操作部２３は、選択したノズルユニ
ット４０をＸ軸方向またはＹ軸方向へ移動させるための
ものである。軸位置操作部２３は、ノズルユニット４０
をＸ軸方向に移動させるＸ方向移動ボタン２３ａ，２３
ｂおよびＹ軸方向に移動させるＹ方向移動ボタン２３
ｃ，２３ｄから構成されている。Ｘ方向移動ボタン２３
ａおよびＹ方向移動ボタン２３ｃは、ノズルユニット４
０をそれぞれＸ軸およびＹ軸に沿った正方向に移動させ
るためのものであり、Ｘ方向移動ボタン２３ｂおよびＹ
方向移動ボタン２３ｄは、ノズルユニット４０をそれぞ
れＸ軸およびＹ軸に沿った負方向に移動させるためのも
のである。Ｘ方向移動ボタン２３ａ，２３ｂまたはＹ方
向移動ボタン２３ｃ，２３ｄが押されている間、制御部
１８はＸ軸モータ２３ａまたはＹ軸モータ２３ｂを駆動
する。これにより、ノズルユニット４０をＸ軸方向およ
びＹ軸方向に移動させることができる。

【００４９】回転操作部２５は、基板Ｗを回転または停
止させるためのものである。回転操作部２５の開始ボタ
ン２５ａを押すと、制御部１８はモータ３を駆動する。
これにより、基板Ｗを保持する基板保持部１が回転す
る。また、停止ボタン２５ｂを押すと、制御部１８はモ
ータ３の駆動を停止する。これにより、基板Ｗを保持す
る基板保持部１が停止する。

【００５０】吐出操作部２６は、選択したノズルユニッ
ト４０の処理液吐出ノズル６から基板Ｗ上へのレジスト
液の吐出を開始または停止させるためものである。吐出
操作部２６の開始ボタン２６ａを押すと、制御部１８は
選択されたノズルユニット４０のロッド８ａが伸長する
ようにエアシリンダ８を制御する。これにより、基板Ｗ
の上方に処理液吐出ノズル６が移動する。次に、制御部
１８は開閉弁１７が開くように制御する。これにより、
処理液吐出ノズル６から基板Ｗ上にレジスト液が吐出さ
れる。

【００５１】レジスト液が吐出している間、制御部１８
は、開閉弁１７が一定のサイクルで開閉するように開閉
弁１７を制御する。これにより、基板Ｗ上にレジスト液
が間欠的に吐出される。

【００５２】吐出操作部２６の停止ボタン２６ｂを押す
と、制御部１８は開閉弁１７が閉じるように開閉弁１７
を制御する。これにより、レジスト液の吐出が停止され
る。次に、制御部１８はロッド８ａが縮退するようにエ
アシリンダ８を制御する。これにより、ノズルユニット
４０は待機状態に戻る。

【００５３】本実施例では、基板保持部１が基板保持手
段に相当し、モータ３が回転駆動手段に相当し、処理液
吐出ノズル６が処理液吐出ノズルに相当し、ノズルアー
ム７、エアシリンダ８、ノズルアーム支持部材９および
ノズルアーム案内部材１３が移動手段を構成し、２軸駆
動装置１１が調整手段に相当し、制御部１８が制御手段
に相当し、操作パネル２０が操作パネルに相当し、回転
操作部２５が回転操作部に相当し、ノズル選択部２２が
移動操作部に相当し、吐出操作部２６が吐出操作部に相
当し、軸位置操作部２３が吐出位置操作部に相当する。

【００５４】図４は図１のノズルユニット４０のティー
チング処理を示すフローチャートである。次に、図１〜
図４を参照しながらティーチング処理について説明す
る。

【００５５】図３のティーチング画面２１のノズル選択
部２２において、ティーチングを行うノズルユニット４
０を選択する（ステップＳ１）。このとき、ノズルユニ
ット４０は待機状態となっている。

【００５６】次に、回転操作部２５の開始ボタン２５ａ
を押す。これにより、基板Ｗが回転する（ステップＳ
２）。

【００５７】さらに、吐出操作部２６の開始ボタン２６
ａを押す（ステップＳ３）。これにより、選択されたノ
ズルユニット４０の処理液吐出ノズル６が基板Ｗの上方
に移動する。その後、レジスト液が処理液吐出ノズル６
から基板Ｗ上に間欠的に吐出される。

【００５８】次に、基板Ｗ上に吐出されたレジスト液の
塗り広がり状態を観察し、処理液吐出ノズル６の吐出位
置が基板Ｗの回転中心に一致しているか否かを判断する
（ステップＳ４）。レジスト液が基板Ｗの全面に一様な
膜厚で塗り広げられている場合、処理液吐出ノズル６の
吐出位置が基板Ｗの回転中心と一致しているものと判断
される。一方、基板Ｗ上に塗り広げられたレジスト液の
膜厚が不均一である場合、処理液吐出ノズル６の吐出位
置が基板Ｗの回転中心と一致していないものと判断され
る。

【００５９】処理液吐出ノズル６の吐出位置が基板Ｗの
回転中心と一致していないと判断した場合、基板Ｗ上に
吐出されたレジスト液の塗り広がり状態を観察しながら
Ｘ方向移動ボタン２３ａ，２３ｂおよびＹ方向移動ボタ
ン２３ｃ，２３ｄを操作し、処理液吐出ノズル６を基板
Ｗの回転中心まで移動させ（ステップＳ５）、ステップ
Ｓ４に戻る。

【００６０】ステップＳ４で処理液吐出ノズル６の吐出
位置が基板Ｗの回転中心と一致していると判断した場
合、吐出操作部２６の停止ボタン２６ｂを押す（ステッ
プＳ６）。これにより、レジスト液の吐出が停止する。
その後、エアシリンダ８のロッド８ａが縮退し、ノズル
ユニット４０は待機状態に戻る。

【００６１】最後に、回転操作部２５の停止ボタン２５
ｂを押す（ステップＳ７）。これにより、基板Ｗの回転
が停止する。

【００６２】このように、基板Ｗ上に吐出されるレジス
ト液の塗り広がり状態を観察しながら、処理液吐出ノズ
ル６の吐出位置を調整することができる。これにより、
容易にかつ短時間で処理液吐出ノズル６の吐出位置を基
板Ｗの回転中心に一致させることができる。

【００６３】また、ティーチング画面２１だけでティー
チングに関する全ての操作ができるため、作業効率が高
くなる。また、処理液吐出ノズル６の吐出位置と基板Ｗ
の回転中心とのずれ量を記憶しておく必要もない。

【００６４】さらに、操作パネル２０からの操作により
ティーチングを行うことができるため、手で処理液吐出
ノズル６をずらす必要がない。そのため、ティーチング
中に回転式塗布装置１００を覆うカバー（図示せず）を
開く必要がない。したがって、レジスト液が回転式塗布
装置１００外に飛散することなくティーチングを行うこ
とができる。

【００６５】上記実施例では、本発明を回転式塗布装置
のレジスト液を吐出する処理液吐出ノズル（レジストノ
ズル）に適用した場合を説明したが、本発明は、回転式
塗布装置のエッジクリーナノズルにも適用することがで
き、回転式現像装置の現像ノズルまたは純水ノズル、回
転式洗浄装置の純水ノズル等の種々の基板処理装置の処
理液吐出ノズルに適用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における回転式塗布装置の断
面図である。

【図２】図１の回転式塗布装置の平面図である。

【図３】図１の回転式塗布装置の操作パネルに表示され
る設定画面の図である。

【図４】図１のノズルユニットのティーチング処理を示
すフローチャートである。

【図５】従来の回転式塗布装置の操作パネルに表示され
る設定画面の図である。

【符号の説明】

１ 基板保持部 ３ モータ ６ 処理液吐出ノズル ７ ノズルアーム ８ エアシリンダ ９ ノズルアーム支持部材 １１ ２軸駆動装置 １３ ノズルアーム案内部材 １８ 制御部 ２０ 操作パネル ２２ ノズル選択部 ２３ 軸位置操作部 ２５ 回転操作部 ２６ 吐出操作部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４３ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４３Ａ ５Ｆ０４６ 21/306 21/30 ５６９Ｃ 21/306 Ｒ Ｆターム(参考） 2H025 AB08 AB16 EA05 2H096 AA24 AA25 CA14 CA20 GA30 4F041 AA05 BA22 BA34 BA38 BA56 4F042 AA06 BA08 EB05 EB09 EB18 EB29 5F043 CC14 DD13 EE07 EE08 EE40 5F046 JA02 JA05 JA16 LA04

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段を回転させる回転駆動手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する
   処理液吐出ノズルと、 前記処理液吐出ノズルを前記基板保持手段に保持された
   基板の上方の吐出位置と前記基板の上方から外れた待機
   位置とに移動させる移動手段と、 前記吐出位置にある前記処理液吐出ノズルを移動させる
   ことにより前記吐出位置を調整する調整手段と、 前記回転駆動手段による前記基板保持手段の回転動作、
   前記移動手段による前記処理液吐出ノズルの移動動作、
   前記処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作および前
   記調整手段による前記吐出位置の調整動作を制御する制
   御手段と、 前記回転駆動手段による前記基板保持手段の回転動作、
   前記移動手段による前記処理液吐出ノズルの移動動作、
   および前記処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作を
   前記制御手段に指令するとともに、前記処理液吐出ノズ
   ルからの処理液の吐出動作中に前記調整手段による前記
   吐出位置の調整動作を前記制御手段に指令するための操
   作パネルとを備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記操作パネルは、 前記基板保持手段の回転動作を指令するための回転操作
   部と、 前記処理液吐出ノズルの移動動作を指令するための移動
   操作部と、 前記処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作を指令す
   るための吐出操作部と、 前記吐出位置の調整動作を指令するための吐出位置操作
   部とを備えたことを特徴とする請求項１記載の基板処理
   装置。
3. 【請求項３】 前記回転操作部、前記移動操作部、前記
   吐出操作部および前記吐出位置操作部は画面上に表示さ
   れることを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。