JP2000357722A - ウェハ処理方法および装置 - Google Patents

ウェハ処理方法および装置

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JP2000357722A JP2000118042A JP2000118042A JP2000357722A JP 2000357722 A JP2000357722 A JP 2000357722A JP 2000118042 A JP2000118042 A JP 2000118042A JP 2000118042 A JP2000118042 A JP 2000118042A JP 2000357722 A JP2000357722 A JP 2000357722A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体ウェハのイオン注入室に適用され、一
度に一つの半導体ウェハを処理するウェハ処理方法およ
び装置を得ることを目的とする。 【解決手段】 ウェハ処理装置は、真空室１を有し、前
記真空室にウェハを互いに重ねて離隔配置された１対の
ロードロック３、４を介して装入する。真空室１内のロ
ボットは１対の把持アーム２２、２９を有し、前記把持
アームは垂直軸２３に沿って可動かつこれを中心にして
回転可能であり、ロードロック３、４とウェハ処理位置
間を可動となる。各ロードロック３、４は上下可動部
８，２６を有し、前記上下可動部は他方のロードロック
から離隔移動可能であり、把持アーム２２、２９の一方
の水平面への接近路を準備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェハ処理方法お
よび装置に関する。本発明は特に、半導体ウェハのイオ
ン注入室に適用される。
【０００２】
【従来の技術】このようなイオン注入室において、ウェ
ハはイオンビームを横切ってスキャンされ、制御された
ドーズの不純物がウェハに添加される。ウェハが処理さ
れる室は排気される。
【０００３】ウェハを真空室に装入するためロードロッ
ク室が用いられ、外気からウェハを装入する時真空状態
を維持する。ロードロック室は外気から真空室を封止す
る外部バルブと、真空室からロードロック室を封止する
内部バルブとを有する。内部バルブが閉、外部バルブが
開の状態でウェハが大気側からロードロック室に装入さ
れる。次に、外部バルブが閉止されロードロック室が排
気されてから、内部バルブが開放されウェハが真空室に
搬送され処理される。このようなロードロックの例は欧
州特許公報ＥＰ−Ａ−６０４，０６６に開示されてい
る。
【０００４】イオンビームを最有効利用し、従って装置
の処理能力をアップさせるため、真空室へのウェハの装
入・取出しはできる限り迅速に行う必要がある。本発明
の目的は、この観点から装置性能を向上させることであ
る。
【０００５】
【問題を解決する手段】本発明によれば、ウェハ処理装
置であって、ウェハ処理位置でウェハを連続的に処理す
る真空室と、ウェハを真空室に装入する２つのロードロ
ックと、ウェハをロードロックからウェハ処理位置へ搬
送する機構とを備え、各ロードロックは、選択的に操作
されて外気からロードロックを封止する外部バルブ、選
択的に操作されて真空室からロードロックを封止する内
部バルブ、ロードロックの排気・加圧用ポートを有し、
一方のロードロックは、他方のロードロックの上方に位
置するよう構成される。単一ウェハロードロックである
のが好ましいが、２つのロードロックを用いることによ
って、ウェハを両ロードロックを通って平行に搬送する
ことができる。軸を中心にして回転してロードロックに
接近する把持アームを具備し、両ロードロックは前記軸
から同一径距離に配置されるのが好ましい。これによっ
て、両ロードロックをロードロックの一方の側に装入・
取出しする機構に一定の共通部品を使用することができ
る。ロードロックは一方を他方の略真上にして配置さ
れ、装置の設置面積の増大がほとんどないか又は全くな
しに達成可能であるのが好ましい。
【０００６】各ロードロックの内部バルブおよび外部バ
ルブはスリットバルブであってよく、前記スリットバル
ブ内でゲート部材が上昇・下降してロードロックへの接
近を可能にする。実際のところ、このようなロードロッ
クは外部バルブのほうが好ましい。しかし、各ロードロ
ックは２部分構成であり、前記２つの部分は同時にウェ
ハ面に略垂直方向に移動して内部バルブを封止及び準備
し、逆方向に離隔移動してウェハ面に略垂直な単一軸で
回動する把持アームによって封止を解放しウェハへの接
近を可能にするのが好ましい。
【０００７】よりコンパクトな構造とするため、上部ロ
ードロックは上面部の上方移動により操作される内部バ
ルブを有し、下部ロードロックは下面部の下方移動によ
り操作される内部バルブを有するのが好ましい。
【０００８】両ロードロック室からのウェハは、把持ア
ームが周りを回動する軸の方向への軸移動と、前記軸を
中心とした回転運動のみが必要とされるロボットによっ
てピックアップ・配置可能である。実際のところ、処理
済のウェハをロードロックに装入し、未処理のウェハを
取出し可能にするには、第１把持アームとともに軸方向
に可動な第２把持アームを備える。第２把持アームは第
１把持アームの軸の反対側に配置され第１把持アームと
ともに回転可能であるか、第１把持アームの真下に配置
され第１把持アームとは無関係に軸を中心にして回転可
能である。別のケースでは（これは融通性が大きいので
好ましい）、真空室のロボットは直線軸１、回転軸２の
３軸ロボットである。これは従来の４軸ロボットより有
利であるが、真空室に必要な各補助軸が装置のコストお
よび保守を増大させるからである。
【０００９】ロボットは本発明の別の態様をなし、ある
位置から他の位置への平面部材搬送ロボットであって、
使用時平面部材の面に垂直に伸長する１対の同軸シャフ
トであって、各シャフトは平面部材を把持する把持部を
有し、両シャフトは軸を中心として別個に回転可能であ
る１対の同軸シャフトと、軸方向移動および回転運動を
行う動力源とを備えた平面部材搬送ロボットとして広く
規定可能である。
【００１０】また同軸シャフトは各把持アームの空気機
構に空気を供給する空気ダクトを含み、把持アームを開
閉するのが好ましい。同軸シャフトは、好ましくは親ね
じによって一体に軸方向に可動である。また本発明は、
大気源から真空室内の処理位置へのウェハ装入方法であ
って、ウェハを大気圧の第１ロードロック室に装入する
工程と、ロードロック室の外部バルブを閉止しロードロ
ック室を排気する工程と、ロードロック室と真空室間の
内部バルブを開放する工程と、ウェハを処理位置に搬送
する工程と、第１ロードロック室下方の第２ロードロッ
ク室の処理を繰返す工程とを含むウェハ装入方法にも適
用される。ロードロックへの接近には軸を中心にして回
転可能な把持アームが必要であり、両ロードロックは前
記軸から同一径距離に配置されているのが好ましい。第
２ロードロック室は、第１ロードロック室の略真下にあ
るのが好ましい。
【００１１】処理室へのウェハ搬送は、ロードロック室
が分離される方向に略平行な軸に沿って上方に可動かつ
前記軸を中心にして回転可能な把持アームを有するロボ
ットによって行われ、前記方法は第１ロードロック室と
一直線上にある第１高さ方向位置に把持アームを移動す
る工程と、軸を中心として把持アームを回転させ第１ロ
ードロック室に挿入し第１ロードロック室からウェハを
ピックアップする工程と、軸を中心として把持アームを
回転させウェハを処理位置に搬送する工程と、ウェハを
処理位置に配置する工程と、把持アームを第２ロードロ
ック室に沿った第２高さ方向場所に軸方向移動する工程
と、第２ロードロック室からのウェハの把持、移動、配
置操作を繰返す工程とをさらに含むのが好ましい。
【００１２】
【発明の実施の形態】イオン注入装置は、国際公開ＷＯ
９９／１３４８８に開示された装置と略同一である。
【００１３】この装置は真空室を含み、前記真空室には
ウェハが静電チャックとは別に装入される。作動中個々
のウェハは静電チャックにより静電気的に把持され、垂
直保持されて水平スキャンイオンビームによってスキャ
ンされる。
【００１４】静電チャックを支持するアームは真空室か
ら伸長し、静電チャックを上下方向に往復移動させる直
線運動機構によって支持されるので、静電チャック上の
ウェハ全面はイオンビームによってスキャンされる。直
線運動機構自体は水平傾斜軸を中心にして回転可能に取
付けられ、前記水平傾斜軸によってウェハとイオンビー
ム間の角度は可変となる。静電チャックはウェハの中心
を通りかつウェハ面に垂直な軸を中心にしてウェハを回
転させる機構をさらに備える。上述の機構は、国際公開
ＷＯ９９／１３４８８に示された機構である。さらに、
アーム自体は単独で水平傾斜軸を中心にして９０゜まで
回転可能であるので、垂直スキャン位置から水平装入位
置まで可動である。
【００１５】ウェハを本発明の真空室に装入する装置を
図１、２に示す。この装置は一般に（図示しない）静電
チャックを含む真空室１と、上部ロードロック３および
下部ロードロック４を含むロードロックアッシー２と、
外部大気部５とを含む。両ロードロック内に保持された
各ウェハが同一垂直軸上に中心を有するという意味にお
いて、上部ロードロック３は下部ロードロック４の真上
にある。
【００１６】外部大気部５内には多数のマガジンがあ
り、処理するウェハソースをイオン注入装置に供給し、
イオン注入装置から処理済ウェハを受取る。
【００１７】ロードロックアッシー２はロードロックハ
ウジング６を含み、前記ロードロックハウジング６は上
部ロードロック３および下部ロードロック４を離隔する
中央板を有する。上部ロードロック３および下部ロード
ロック４は上下方向でできる限り相互に近接するよう配
置され、両ロードロックへウェハを装入・取出しする際
の動きをできるだけ少なくしている。上部ロードロック
３はリッドバルブ８を備え、前記リッドバルブ８は上部
ロードロック３の真上に取付けられたカム機構９によっ
て高さ方向に可動である。ベローズ１０はカムアクチュ
エータ９の真空シールを行い、ばね１１はリッドバルブ
８の予負荷の度合いを設定してリッドバルブ８とハウジ
ング６間の寸法公差を吸収する。真空室へのウェハ１２
の接近路を準備するため、リッドバルブ８は図１に示す
位置まで上昇し、以下で述べるように把持アームの補助
脚部上のウェハに側面からの接近を可能とする。図１に
おいて、上部ロードロック３は真空室１に対して開状態
で示され、ウェハは真空室に移動中である。ロードロッ
クの大気側への接近路はスリットバルブ１３によって準
備され、ゲート要素１４は活性装置１３Ａ上を上昇・下
降してスリット１５を封止可能である。前記スリット１
５を介してウェハは上部ロードロックに挿入可能となっ
ている。
【００１８】上部ロードロック３からのウェハ３の装入
・取出し機構を図３に詳細に示す。この図は略図であっ
て、この図では真空室１のバルブと大気５のバルブの両
方が開であり、一方側からウェハを搬送する各機構がロ
ードロックに配置されているからである。もちろん実際
には、一方のバルブだけがある時間に開となり、一方の
配置機構だけが所定位置にある。
【００１９】大気ロボットのエンドエフェクタ１６はス
リット１５から突出している。ロードロック内におい
て、エンドエフェクタは１対の平行指部１７によって表
されているが、実際にはウェハ１２の真下に突出してウ
ェハを支持している。ウェハ１２の概略は図３にのみ示
す。ロードロック内にウェハを支持するためロードロッ
クキャリア１８が具備される。ロードロックキャリア１
８はウェハの円形形状と略対応する外部形状をしてい
る。ロードロックキャリア１８の裏側には直線切欠き部
１９が設けられ、後で述べるようにエンドエフェクタ１
６、１７が上方からロードロックキャリアを通過し得る
ような形状となっている。ロードロックキャリア１８は
上方に突出したフランジを有し、前記フランジはこれと
一体のブラケット２０に接続している。ブラケット２０
はリッドバルブ８に固着しているので、ロードロックキ
ャリア１８全体はリッドバルブ８とともに上下動する。
ウェハを受けるため３本の脚部２１がロードロックキャ
リアの上面に具備される。リッドバルブ８が上昇する
と、ロードロック３は垂直軸２３を中心にして水平面内
を移動する把持アーム２２によって接近可能となる。
【００２０】ウェハ１２をロードロックキャリア１８に
配置するため、ウェハ１２を搬送するエンドエフェクタ
１７が図３に示すスリット１５を通って移動する。エン
ドエフェクタはロードロックキャリア１８の切欠き部１
９を通って下方移動し、ウェハが３本の脚部２１によっ
て支持される。その後エンドエフェクタはさらに下方移
動してウェハ１２から離隔し、スリット１５を通って引
出される。こうしたすべてはリッドバルブ８が下降ある
いは閉の状態で行われる。ロードロック室が排気される
とリッドバルブ８が上昇し、それと共にロードロックキ
ャリア１８およびウェハ１２も上昇する。次に把持アー
ム２２が図３に示す位置に揺動して下方移動するか、あ
るいはロードロックキャリア１８が上方移動するので、
ウェハ１２の縁端部を把持しロードロックから回収可能
となる。
【００２１】下部ロードロック４の構成は上部ロードロ
ックと同様である。逆配置とはいえカム機構２４および
スリット弁２５が同様の構成であるからである。下部ロ
ードロックにおいては、ウェハを下部リッドバルブ２６
の上面に脚部によって直接支持可能であるので、ウェハ
を支持するロードロックキャリアを具備する必要はな
い。下部リッドバルブは脚部間に同一形状の切欠き部を
備え、エンドエフェクタがウェハを脚部に配置・回収で
きるようになっている。
【００２２】図１ではロードロックは上昇・閉状態で示
され、この状態において下部リッドバルブ２６はハウジ
ング６とともにその周囲を封止し、これにより下部ロー
ドロック４と真空室１間のシールを行うとともに、ハウ
ジング６の板７の下面と下部リッドバルブ２６の上面間
に封止されたロードロック室２７を画成する。上部ロー
ドロック３および下部ロードロック４のロードロック室
の容量は、必要となる排気および通気を最小とするため
できる限り少なくされる。
【００２３】図１の構成、またスリットバルブ２５が開
の状態で、ウェハをロードロック室２７に装入して下部
リッドバルブの脚部によって支持可能である。次にスリ
ット弁２５が閉止され、ロードロック室２７が排気ポー
ト２８から排気される。下部リッドバルブ２６が下降可
能となり、真空室側のシールが解かれて真空室１からロ
ードロック室２７への接近路が準備される。
【００２４】ロードロック機構２から静電チャックへの
ウェハ搬送ロボット機構について詳細に説明する。図３
に示す把持アーム（以後下部把持アームと称する）に加
え、ロボットは同一構成の上部把持アーム２９をさらに
有する。両アームは互いに隣接して取付けられ、垂直軸
２３に沿って一体に可動であるとともに垂直軸２３を中
心にして別個に回転可能である。
【００２５】把持アームの操作機構を図４に示す。下部
把持アーム２２はハブ３０を介して内軸３１に結合され
ている。上部把持アーム２９はハブ３２を介して外軸３
３に結合されている。内軸３１はモータ３５によって回
転し、外軸３３はモータ３６によって回転する。両軸の
真空シールは鉄・流体シールによって行われる。空気ダ
クト３７、３８によって把持アームへの送気が可能とな
り、これらのアームの空気圧による開閉操作が行われ
る。第３モータ３９は送りねじ軸３９Ａを回転し、軸２
３に沿って両把持アーム２２、２９を一体的に軸方向に
移動させる。
【００２６】１対の把持アーム２２、２９を有すること
によって、一方が特定の場所でウェハを取出した際、前
記第１把持アームが次の装入ウェハを伴って戻るのを待
つことなく、その場所で他方がウェハを直ちに装入する
ことができる。静電チャックはロードチャック３、４の
いずれか一方と同一高さであってよい。把持アーム２
２、２９の高さ方向の移動は静電チャックと前記静電チ
ャックと高さ方向にオフセットしているロードロックと
の間でウェハを移動させる時だけ必要であるからであ
る。一方、静電チャックは高さ方向で両ロードロック間
にあり、ウェハ搬送毎の把持アームの高さ方向の移動は
小さくてよい。
【００２７】この装置の装入・取出し操作全体について
図５を参照して説明する。この図の鍵は５つの構成要
素、すなわち静電チャック（ｃ）、上部アーム、下部ア
ーム、上部ロードロック（ＬＵ）、下部ロードロック
（ＬＬ），ウェハを大気側から両ロードロックに装入す
るロボットが左欄に記載されていることである。ある時
間の各構成要素の動作を各構成要素のすぐ右側にある陰
影部で示す。陰影部内の文字は構成要素が特定時間に移
動した場所を示す。例えば、下部アーム手段の位置を示
す行に（ｃ）のある陰影部は、この時、下部アームが静
電チャックにあることを意味する。ロボットでは行中の
文字（Ｍ）はウェハを注入装置に供給する大気側マガジ
ンを示し、また行中の文字（or）はウェハをロードロッ
ク機構２に配置するに先立ちウェハを正しく配向するイ
オン配向装置を示す。
【００２８】未処理ウェハがマガジン（Ｍ）を離れてか
ら処理済ウェハがマガジン（Ｍ）に戻った時までの単一
ウェハの装置内移動を参照すると、装置の動作を最も分
かりやすく説明できる。ウェハを特定場所に配置する毎
に、前記ウェハより１工程先のウェハはこの場所から除
去される。またウェハを特定場所からピックアップする
毎に、１段階あとの工程のウェハが置き換わる。
【００２９】ウェハは大気ロボットによってマガジン
（Ｍ）からピックアップされ、配向機構（or）に搬送さ
れ、図５の４０に示す正しい向きに回転される。次の工
程で大気ロボットは配向機構（or）からウェハをピック
アップし、下部ロードロック４に搬送する。この時、装
置は下部スリットバルブ２５が開、下部リッドバルブ２
６が上昇となっている。ウェハが所定の場所に置かれる
と、スリットバルブ２５が閉止され、ロードロック室２
７が図５の４１に示すように排気される。大気ロボット
は図５の最下行に示すように上部ロードロック３および
下部ロードロック４を交互に装荷する。
【００３０】ロードロック室２７が排気されると、下部
リッドバルブ２６がカム機構２４によって下降する。ウ
ェハは図５の４２に示すように上部把持アーム２９によ
って把持可能な位置にある。上述のように、下部アーム
２２は図５の４３に示すように処理済ウェハを下部ロー
ドロック４へと逆方向に移動させる。次にウェハを把持
した上部把持アーム２９が軸２３を中心にして静電チャ
ック側に回転し、待機する。この間、ウェハを搬送して
いない下部把持アーム２２は静電チャック側へ移動し、
図５の４４に示すようにスキャンが終了したウェハをピ
ックアップする。次にウェハは図５の４５に示すように
静電チャックに載置される。静電チャックは静電作動さ
れウェハをチャックに吸引し、水平装入状態から垂直ス
キャン状態へ回転される。これには略１秒かかるが、図
５の４６に図示してある。前述のように、ウェハは図５
の４７に示すようにイオンビームによってスキャンされ
る。この操作が終了すると静電チャックは図５の４８に
示すように水平装入状態に戻り、下部把持アーム２２は
図５の４９に示すようにウェハを回収する。上部把持ア
ーム２９は図５の５０に示すように処理する次のウェハ
を静電チャックに装入する。次に下部アームは軸３３を
中心にして回転し、図５の５１に示すようにウェハを下
部ロードロック４に搬送する。この時、下部リッドバル
ブ２６は下降位置にあり、スリットバルブ２５は閉止さ
れている。ウェハが所定の位置に置かれると、下部リッ
ドバルブ２６は上昇し、ロードロック室２７はポート２
８あるいは別のポートを介して図５の５２に示すように
大気圧と通気される。ロードロック室が通気されるとス
リットバルブ２５が開放し、ウェハは大気ロボットによ
って収集され、完成ウェハを収納するマガジンに戻され
る。
【００３１】図５から明らかなように、ロードロック
３，４の一方が真空状態に排気され、他方はほとんど同
時だがやや遅れて大気に通気される。これは処理済ウェ
ハが一方のロードロックを通って真空室から搬送され、
未処理ウェハが他方のロードロックを通って真空室に搬
送されることを意味する。これによって、ウェハを静電
チャックに規則的に供給可能となり、各注入操作間のと
ぎれを低減できる。
【００３２】この発明の装置によって１時間２７０枚の
ウェハを処理可能であるが、従来技術では１時間２００
枚である。
【図面の簡単な説明】
【図１】２つのロードロック室および真空室の一部の一
側面からの概略断面図である。
【図２】図１に示す装置の概略平面図である。
【図３】リッドバルブを取外した状態の上部ロードロッ
クの斜視図である。
【図４】真空室の両把持アームの駆動機構の断面図であ
る。
【図５】装置の各構成要素の動きを示す処理能力の線図
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロバート ジェイ． シー． ミッチェル イギリス国， ウエスト サセックス ア ールエイチ20 ２イーイー， プルボラ フ， ウエスト チルティングトン， サ ウスウッド（番地なし) (72)発明者 キース ディ． レリーン イギリス国， ウエスト サセックス ア ールエイチ13 ６ビーエフ， ホーシャ ム， オーク ツリー ウェイ 56 (72)発明者 ジョン ラッフェル アメリカ合衆国， カリフォルニア州， サニーヴェイル， ホワイト パイン テ ラス 1153

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ウェハ処理装置であって、 ウェハ処理位置でウェハを連続的に処理する真空室と、 ウェハを真空室に装入する２つのロードロックと、 ウェハをロードロックからウェハ処理位置へ搬送する機
    構とを備え、各ロードロックは、選択的に操作されて外
    気からロードロックを封止する外部バルブ、選択的に操
    作されて真空室からロードロックを封止する内部バル
    ブ、およびロードロックの排気・加圧用ポートを有し、
    一方のロードロックは、もう一方のロードロックの上方
    に位置するウェハ処理装置。
  2. 【請求項２】 軸を中心にして回転して前記ロードロッ
    クに接近する把持アームをさらに備え、前記両ロードロ
    ックは、前記軸から同一径距離に配置されている請求項
    １に記載のウェハ処理装置。
  3. 【請求項３】 前記ロードロックは、一方を他方の略真
    上に備えられた請求項１あるいは２に記載のウェハ処理
    装置。
  4. 【請求項４】 各ロードロックは２部分構成であり、こ
    れら２つの部分は同時にウェハ面に略垂直方向に移動し
    て内部バルブを封止及び準備し、逆方向に離隔移動して
    ウェハ面に略垂直な単一軸で回動する把持アームによっ
    て封止を解放し、ウェハへの接近を可能にする請求項２
    に記載のウェハ処理装置。
  5. 【請求項５】 上部ロードロックは、上面部の上方移動
    により操作される内部バルブを有し、下部ロードロック
    は下面部の下方移動により操作される内部バルブを有す
    る請求項４に記載のウェハ処理装置。
  6. 【請求項６】 前記把持アームは、把持アームが周りを
    回動する軸の方向への軸移動と、前記軸を中心とした回
    転運動のみが必要とされるロボットによって駆動される
    請求項４あるいは５に記載のウェハ処理装置。
  7. 【請求項７】 第１把持アームとともに軸方向に可動で
    あり、第１把持アームとは無関係に軸を中心にして回転
    可能である第２把持アームが具備されている請求項４に
    記載のウェハ処理装置。
  8. 【請求項８】 各外部バルブはスリットバルブであり、
    前記スリットバルブ内でゲート部材が上昇・下降してロ
    ードロックへの接近を可能にするスリットを覆うよう構
    成された請求項１に記載のウェハ処理装置。
  9. 【請求項９】 各ロードロックは単一ウェハロードロッ
    クである請求項１に記載のウェハ処理装置。
  10. 【請求項１０】 ある位置から他の位置への平面部材搬
    送ロボットであって、前記ロボットは、 使用時平面部材の面に垂直に伸長する１対の同軸シャフ
    トであって、各シャフトは平面部材を把持する把持部を
    有し、両シャフトは軸を中心として別個に回転可能であ
    る１対の同軸シャフトと、 軸方向移動および回転運動を行う動力源とを備えた平面
    部材搬送ロボット。
  11. 【請求項１１】 各同軸シャフトは、各把持アームの空
    気機構に空気を供給して把持アームを開閉する空気ダク
    トを含む請求項１０に記載の平面部材搬送ロボット。
  12. 【請求項１２】 各同軸シャフトは、親ねじによって一
    体に軸方向に可動である請求項１０に記載の平面部材搬
    送ロボット。
  13. 【請求項１３】 大気源から真空室内の処理位置へのウ
    ェハ装入方法であって、 ウェハを大気圧の第１ロードロック室に装入する工程
    と、 ロードロック室の外部バルブを閉止しロードロック室を
    排気する工程と、 ロードロック室と真空室間の内部バルブを開放する工程
    と、 ウェハを処理位置に搬送する工程と、 第１ロードロック室下方の第２ロードロック室の処理を
    繰返す工程とを含むウェハ装入方法。
  14. 【請求項１４】 ロードロックへの接近には、軸を中心
    にして回転可能な把持アームが必要であり、両ロードロ
    ックは前記軸から同一径距離に配置されている請求項１
    ３に記載のウェハ装入方法。
  15. 【請求項１５】 第２ロードロック室は、第１ロードロ
    ック室の略真下にある請求項１４に記載のウェハ装入方
    法。
  16. 【請求項１６】 処理室へのウェハ搬送は、ロードロッ
    ク室が分離される方向に略平行な軸に沿って高さ方向に
    可動かつ前記軸を中心にして回転可能な把持アームを有
    するロボットによって行われ、前記方法は、第１ロード
    ロック室と一直線上にある第１高さ方向位置に把持アー
    ムを移動する工程と、軸を中心として把持アームを回転
    させ第１ロードロック室に挿入し第１ロードロック室か
    らウェハをピックアップする工程と、軸を中心として把
    持アームを回転させウェハを処理位置に搬送する工程
    と、ウェハを処理位置に配置する工程と、把持アームを
    第２ロードロック室に沿った第２高さ方向場所に軸方向
    移動する工程と、第２ロードロック室からのウェハの把
    持、移動、配置操作を繰返す工程とをさらに含む請求項
    １３に記載のウェハ装入方法。
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