JP2000507949A - ピペラジンおよびピペリジン化合物 - Google Patents

ピペラジンおよびピペリジン化合物

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、興味深い薬理学的特性を有する一群のピペラジンおよびピペリジン化合物に関する。式（ａ）の化合物（式中、Ａは５−７環原子の複素環式基を表し、ここで基Ｏ、ＮおよびＳからの１−３個のヘテロ原子が存在し；Ｒ1は、水素またはフルオロであり；Ｒ2は、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシまたはオキソ基であり、そしてｐは０、１または２であり；Ｚは、炭素または窒素を表し、そしてＺが窒素である時、点線は単結合であり、そしてＺが炭素である時は単または二重結合であり；Ｒ3およびＲ4は、独立して水素またはＣ1-4アルキルであり；ｎは１または２の値を有し；Ｒ5はハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1-4アルコキシまたはＣ1-4アルキルであり、そしてｑは０、１、２または３であり；Ｙはフェニル、フラニルまたはチエニルであり、これらの基はヒドロキシ、ハロゲン、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4アルキル、シアノ、アミノカルボニル、モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキルアミノカルボニルの群の１−３個の置換基で置換されてもよい）、ならびにそれらの塩は、ドパミンＤ2およびセロトニン５−ＨＴ1Aレセプターの両方に高い親和性を表すことが見いだされた。

Description

【発明の詳細な説明】 ピペラジンおよびピペリジン化合物 本発明は、興味深い薬理学的特性を有する一群の新規ピペラジンおよびピペリ ジン化合物に関する。 式（ａ） 式中、 −Ａは５−７環原子の複素環式基を表し、ここで基Ｏ、ＮおよびＳからの１−３ 個のヘテロ原子が存在し、 −Ｒ1は、水素またはフルオロであり、 −Ｒ2は、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシまたはオキソ基であり、そしてｐは ０、１または２であり、 −Ｚは、炭素または窒素を表し、そしてＺが窒素である時は点線は単結合であり 、そしてＺが炭素である時は単または二重結合であり、 −Ｒ3およびＲ4は、独立して水素またはＣ1-4アルキルであり、 −ｎは１または２の値を有し、 −Ｒ5はハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1-4アルコキシまたはＣ1-4アルキルであり、 そしてｑは０、１、２または３であり、 −Ｙはフェニル、フラニルまたはチエニルであり、これらの基はヒドロキシ、ハ ロゲン、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4アルキル、シアノ、アミノカ ルボニル、モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキルアミノカルボニルの群の１−３個の 置換基で置換されてもよい、 の化合物およびそれらの塩が興味深い薬理学的特性を有することが見いだされた 。 本発明に従い好適な化合物は、式中、Ａがフェニル基と一緒に式ｂ−ｍの基 ここで、Ｒ1および（Ｒ2）p、ｎは１であり、Ｒ3、Ｒ4、（Ｒ5）q、 ＹおよびＺは上記意味を有する、 を表す式（ａ）の化合物、ならびにそれらの塩である。 特に好適であるのは、Ａがフェニル基と一緒に、オキソ基によりヘテロ環が置 換されている式（ｂ）の基または式（ｌ）の基を表し、そしてＹが上記のように 置換されてもよいフェニルであり、そして式中、ｎが１であり、Ｒ3およびＲ4が 水素であり、Ｒ5がヒドロキシ、メトキシまたはハロゲンであり、ｑが０または １であり、Ｚが窒素である式（ａ）の化合物およびそれらの塩である。 特に好適であるのは、Ａがフェニル基と一緒に、オキソ基によりヘテロ環が置 換された式（ｌ）の基であり、ｑが０であり、そしてＹがフェニルである式（ａ ）の化合物およびそれらの塩である。 欧州特許出願公開第0650964号明細書から、フェニル基および／または複素環 式基および／またはピペラジン基で置換され得る式 式中、 Ｒ0はＣ1-4アルキルである、 の化合物は、5-HTレセプターと結合することにより中枢神経系に作用することが 知られている。特に、これらの化合物は5-HTレセプターのサブタイプ、すなわち 5-HT1Aおよび5-HT1Dレセプターに結合する。 驚くべきことには、本発明の化合物がドパミンＤ2およびセロトニン5-HT1Aレ セプターの両方に高い親和性(両レセプター型について7.0−9.5pKi範囲)を示す ことがここに見いだされた。この組み合わせは、精神分裂病および他の精神障害 に有用であり、そしてすべての疾患症状（例えば陽性症状、陰性症状および認知 欠如）の処置に、より完全な処置を可能とするかもしれない。 これらの化合物は、ドパミンＤ2-、Ｄ3-およびＤ4-レセプターで、部分的なア ゴニストまたはアンタゴニストのいずれかとして、変化する活性を表す。幾つか の化合物は、マウスにおいてアゴニスト−様の効果をドパミンレセプターで表す が、それらはモルホリン−誘導化登攀行動を強力に弱める(ED50値＜１mg/kg p.o )。この化合物は5-HT1Aレセプターアゴニストとして変化する活性を表し、そし てセロトニンの行動症候群 の外観を異なる強さで誘導する。 これらの化合物は、臨床的に関連性のある抗精神病薬(例えば、条件回避反応 ；Van der Heyden & Bradford,Behav.Brain Res.,1988,31:61-67)、抗鬱薬(例え ば、低反応率分化強化;van Hestら、Psychopharmacology,1992,107:474-479)お よび抗不安薬（例えば、ストレス−誘導化発声の抑制；van der Poelら、Psycho pharmacology,1989,97:147-148）に感受性の治療モデルで活性である。 臨床的に関連性のあるドパミンＤ2レセプターアンタゴニストとは対照的に、 記載した化合物は齧歯類に強硬症を誘導する傾向が低く、しかもそれ自体は、現 存する抗精神病薬よりも錐体外路の副作用を誘導することが少ないようである。 これらの化合物に固有の5-HT1Aレセプターアゴニズムは、錐体外路効果を誘導 する性質の減少、ならびに抗鬱薬または抗不安薬のいずれかに感受性の行動性モ デルで観察される治療効果の原因であり得る。 これらの化合物は、ドパミン作用系またはセロトニン作用系のいずれか、例え ばパーキンソン病、攻撃、不安障害、自閉症、めまい、鬱、認知または記憶障害 、そして特に精神分裂病または他の精神障害での妨害により引き起こされる中枢 神経系の影響または疾患を処置するために価値があるようである。 これらの化合物と医薬的に許容できる酸付加塩を形成できる適当な酸は、例え ば塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、ならびにクエン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石 酸、酢酸、安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸およびナフタ レン−スルホン酸のような有機酸である。 本発明の化合物は、液体または固体キャリアー材料のような補助物質 を使用して、通例の方法により投与剤形に形成することができる。 本発明の化合物は、以下に記載する多数の方法（ＡからＥ）に従い得ることが できる。これらの方法で使用するピペラジン、ホモピペラジンおよびピペリジン はＩ−ＨからＸIX−Ｈとして示し、ここでＩからＸIXは以下の基を表す： 本発明の化合物の製造で使用するピペリジンＸVIII−ＨからＸVIII−Ｈ（図Ａ １）の合成は、国際公開第94-GB1507号明細書に記載されている手法に準じる。 本発明の化合物の製造で使用するピペラジン（図１Ａ）の合成は、XI−Ｈ、Ｘ III−ＨおよびＸＶ−Ｈ（以下参照）を除き、欧州特許出願公開第01890612号明 細書に記載されている。 ホモピペラジンXI−ＨおよびピペラジンＸIII−ＨおよびＸＶ−Ｈは新規であ り、そしてそれらの製造を以下に与える（スキームＡ.iからＡ.iii）。製造XI−Ｈ ： 製造XIII−Ｈ： 工程１−３（スキームＡ.iii）： 7-ニトロ-インドールは、S.M.Parmerterら、J.Am.Chem.Soc.80,(1958),4621-2 により記載された。工程１、２および３は、欧州特許出願公開第0650964号明細 書に記載された合成と同様に行った。製造ＸＶ−Ｈ ； スキームＡ.iの工程１−３、およびスキームＡ.iiiの工程１は、実施例に詳細 に記載し、そしてスキームＡ.iiiの工程２および３の手法は、欧州特許出願公開 第0189612号明細書に記載されているものと同様である。 化合物Ｉ−ＨからＸIX−ＨのＮ−Ｈ部分のＨ−原子は、５つの異なる化学的方 法（Ａ、Ｂ、Ｃ、ＤおよびＥ、以下を参照にされたい）で基Ｑにより置換するこ とができ、その結果、本発明の化合物を生成する。図Ａ２では、Ｑ１−Ｑ３４の 意味を与える。 合成経路Ａ 化合物Ａ１−Ａ１４およびＡ１６−Ａ２８は、スキームＡ１（以下を参照にさ れたい）に描いた合成に従い製造した。ピペラジン（Ｉ−ＨからVI−ＨおよびＶ III−ＨからＸVII−Ｈ）を、アセトニトリル中で塩基として作用するEt(i-Pr)2N を用いて、場合によってはKIを加えて、Ｑ−Ｘ（Ｘ＝Cl、Br、OMs）と反応させ た。Et3Nは、Et(iPr)2Nの代わりに使用できる。 以下の合成経路Ｂ-Ｅは、ピペラジンの合成に限定されず、ピペリジンの製造 にも使用できる。合成経路Ｂ ． 化合物は、スキームＢ１（以下を参照にされたい）に描いた合成に従い製造す ることもできる。ピペラジンＩ−Ｈを、2-フェニル-フェノールおよびホルムア ルデヒドとEtOH中で反応させた。 合成経路Ｃ． 化合物Ｃ１−Ｃ４は、スキームＣ１（以下を参照にされたい）に描いた合成に 従い製造できる。フェニルピペラジンを、幾つかのメタ−置換されたフェニル安 息香酸クロライドと反応させて、対応するアミドを生成した。このアミドは引を 続き、LiAlH4により化合物Ｃ１−Ｃ４に還元した。 化合物Ｃ２およびＣ３は、スキームＣ２に描いたように製造した。 合成経路Ｄ． 化合物Ｄ１−Ｄ１８およびＤ２１−Ｄ２３は、スキームＤ１（以下を 参照にされたい）に描いた合成に従い製造した。アリールボロン酸を、塩基性条 件下で触媒量のPd(PPh3)4の存在中で芳香族臭化物と反応させた。このいわゆる 「スズキ(Suzuki)」反応は、Ｃ−Ｃ結合した最終生成物Ｄを生じる。 化合物Ｄ１９およびＤ２０は、スキームＤ２に描いた変更合成に従い製造した 。 上記のスズキ反応を行った後、さらなる加水分解工程で保護ベンジル基を標準 的手法（例えば、熱く濃いHCl）により除去する、例えば手法Ｅ２（スキームＥ ２）も参照にされたい。合成経路Ｅ ． 化合物Ｅ２およびＥ３は、スキームＥ１に描く合成に従い製造した。中間体は 異なるが、合成経路Ｄに記載したものと同じスズキ反応をここでも適用する。 化合物Ｅ１は、スキームＥ２に描く変更合成に従い製造した。スキームＥ１に 描いた合成に加えた工程は、保護ベンジル基の加水分解であった。 式（ａ）の化合物および多数の中間体化合物の製造を、これから以下の実施例 で詳細に記載する。実施例１ 手法Ａ１（スキームＡ１）；1.0g(4.3ミリモル)のピペラジンIII−Ｈおよび1. 2g(4.7ミリモル)のＱ１−Ｂｒを、20mlのCH3CNに加えた後、0.52g(5.1ミリモル) のEt3Nおよび少量のKIを加えた。反応混合物を撹拌 し、そして16時間、窒素雰囲気下で還流した。混合物を冷却した後、溶媒を真空 で除去し、残った残渣をCH2Cl2に溶解し、そして続いて0.5N NaOHおよび塩水(２ ×)で洗浄した。有機画分をMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去した後、溶媒を真空 下で除去して残渣を生じた。この残渣はフラッシュカラムクロマトグラフィー（ SiO2、溶出液：CH2Cl2/MeOH 99/1)の後に、化合物Ａ１１(遊離塩基、表１))を生 じた。続いて残渣をエーテルに溶解し、これに１当量の１N HCl/EtOHを加えた。 沈殿が生じ、そして0.98g(2.3ミリモル、52％)の純粋なＡ１１.HClを得た。融点 228−30℃。1H-NMR(CDCl3,δ):2.18(m,2H),3.09(広い,2H),3.3-3.7（広いクラス ター,6H),4.21(m,4H),4.30(s,2H),6.59(dd,J=1および8Hz,1H),6.71(dd,J=1およ び8Hz,1H),6.82(t,J=8Hz,1H),7.37(m,1H),7.47(m,2H),7.53(t,J=8Hz,1H),7.62-7 .74(クラスター,4H),7.90(t,J=2Hz,1H),12.9（広い,1H). 上記の合成に従い、化合物Ａ１−Ａ１４およびＡ１６−Ａ２８を同様に製造し 、まとめについては表Ａ１を参照にされたい。化合物Ａ１５は手法５と同様に、 化合物Ａ１４からLiAlH4/THFを用いて還元することにより製造した（以下を参照 にされたい、Ａ１４の還元は室温の代わりに還流温度で行った）。 表Ａ１ ｄ＝分解 経路Ａで使用する中間体 中間体Ｑ−Ｘ ： Ｑ２−ＯＨ、Ｑ３−ＯＨおよびＱ５−ＯＨからＱ９−ＯＨは：実施例（Ｑ２−Ｏ Ｈ）、スキームＡ２を参照にされたい；アリールボロン酸を、芳香族臭化物と塩 基性条件下で触媒量のPd(PPh3)4の存在下で反応させた。このいわゆる「スズキ 」反応で、Ｃ−Ｃ結合した中間体Ｑ−ＯＨを生じ た。適用したボロン酸は、対応する臭化物を介して容易に得ることができる；例 えば一般的手法については、D.Janietzら、Synthesis,(1993)33.および本明細書 に引用した技術文献を参照にされたい。手法Ａ２（スキームＡ２） ： 10mlのジメトキシ-エタンを窒素雰囲気下で還流した後、溶媒を冷却した。続 いて0.85ml(1.43g、8.8ミリモル)の2-ブロモ-チオフェンを加え、そして窒素を 溶液に10分間通した。次に0.4g(0.35ミリモル、0.04eq)のPd(PPh3)4を溶液に加 えた。10分間撹拌した後、8.5mlの2N Na2CO3/H2Oを、そして次に1.25g(8.2ミリ モル)の3-(ヒドロキシメチル)-フェニルボロン酸(約２mlのEtOHに溶解した)を反 応混合物に加えた。この反応混合物を加熱し、そして４時間還流した後、加熱を 止め、反応は室温でさらに16時間撹拌した。形成した沈殿をCelite上で濾過し、 そしてフィルターをEtOAc/H2Oで洗浄した。濾液をEtOAcで抽出し、合わせた有機 画分をMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去した後、溶媒の蒸発後の濾液から2.1gの 油が生成した。フラッシュカラムクロマトグラフィー(SiO2、溶出液メチル-tert -ブチル-エーテル／ヘキサン1／1)により、0.85g(4.5ミリモル、51％)の所望の 生成物Ｑ２−ＯＨを得た。 同様に、以下のメタ−置換されたベンジルアルコールＱ−ＯＨを、以下の表Ａ ２に与える芳香族臭化物およびボロン酸の組み合わせから製造した。 表Ａ２ 表Ａ２に掲げたすべてのＱ−ＯＨは、標準的手法を通してそれらの対応するメ シレートへ成功裏に転換された（例えばMsClおよびEt3N、EtOAc中）。しかしＱ ８−ＯＨおよびＱ９−ＯＨの場合は、対応するメシレートは得られず、２N HCl を用いた処理により対応するクロラィドＱ８−ClおよびＱ９−Clを得た。この２ つの化合物も、スキームＡ１に描いた反応で優れたアルキル化剤であった。中間体Ｑ１−Ｂｒ、スキームＡ３を参照のこと ： メタ-フェニル-トルエン(Ｓ1＝Ｈ)を、N-ブロモ-スクシンイミド(NBS)の作用 により、触媒量のジベンゾイルペルオキシドの存在下での臭化 に供した。 手法Ａ３（スキームＡ３）： Ｑ１−Ｂｒ：３g(29.8ミリモル)の3-フェニル-トルエンおよび5.3g(29.8ミリ モル)のN-ブロモ-スクシンイミド(NBS)を、30mlのCCl4に溶解した。少量のジベ ンゾイルペルオキシドを加え、そして反応混合物を10時間還流した。この期間、 過剰な少量のジベンゾイルペルオキシドを加えた。冷却した後、反応混合物をCC l4および水で希釈した。この二相系を２N NaOHでアルカリ性とし、その後に撹拌 した。有機層を１N NaOHおよび水で洗浄し、そして続いてMgSO4で乾燥した。乾 燥剤を除去した後、真空で溶媒を除去して8.0gの残渣を得た。この残渣をカラム クロマトグラフィー(SiO2、溶出液：Et2O／石油エーテル1／9)により精製し、5. 3g(21.5ミリモル、72％)の純粋な中間体Ｑ１−Ｂｒを得た。 Ｑ１０−Ｂｒの場合には、所望の2-フルオロ-5-フェニル-トルエン（Ｓ1＝Ｆ ）をフェニルボロン酸および2-フルオロ-5-ブロモ-トルエンから、手法Ａ２に準 じてスズキ反応を介して製造した。スキームＡ３を参照にされたい。 Ｑ４；実施例（Ｑ４−ＯＨ）、スキームＡ４を参照にされたい ： Mel/KOtBuの作用による3-フェニル-4-ヒドロキシ-安息香酸（製造に関しては 米国特許第4873367号明細書を参照にされたい）のジ-メチル化で、対応するメト キシ-安息香酸メチルエステルを生成し、これを次にＱ４−ＯＨに還元できた(Li AlH4)。手法Ａ４（スキームＡ４） ： 工程１：4.0g(19ミリモル)の3-フェニル-4-ヒドロキシ-安息香酸を、70mlのDMF に溶解し、これに4.6g(41ミリモル)のKOtBuを加え、そして混合物を30分間撹拌 した。この期間の後、3.0g(21ミリモル)のMelを加え、そして反応混合物を室温 で14時間撹拌し、この間、Melの第２当量を加えた。溶媒を真空で除去して残渣 を残し、これをEtoAcに溶解した。この溶液を２N NaOHと震盪した。有機画分をN a2SO4で乾燥した。乾燥剤および溶媒を除去した後、3.65g(16.0ミリモル、84％) のかなり純粋な3-フェニル-4-メトキシ-安息香酸メチルエステルを得た。このバ ッチをさらに精製することなく手法Ａ５に記載の還元に使用した。 手法Ａ５（スキームＡ４）： 工程２：0.68g(18ミリモル)のLiAlH4を、20mlの乾燥THFに加え、そして窒素雰囲 気下で撹拌した。続いて3.65g(16.0ミリモル)の3-フェニル-4-メトキシ-安息香 酸メチルエステル(60mlの乾燥THFに溶解したもの)を、 LiAlH4/THF混合物に滴下した。撹拌を室温で１時間続行した。反応混合物を冷却 （氷／水）し、そしてTHFと混合した0.7mlの水を加え、そしてに1.4mlの２N NaO Hを加えた。次に混合物を10分間還流し、その後、塩を取り出すために濾過した 。塩を熱THFで洗浄し、そして洗浄液を濾液と合わせた。溶媒を真空下で除去す ると、3.1g(14.５ミリモル、90％)のかなり純粋なＱ４−ＯＨを得た。このバッ チをさらに精製することなくメシレートＱ４−ＭＯｓの製造に使用し、これを次 にスキームＡ１に示した反応で使用し、最終的に化合物Ａ８を得た。実施例２ 手法Ｂ１（スキームＢ１） ： 3.74g(17.0ミリモル)のピペラジンＩ−Ｈおよび3.0g(17.0ミリモル)の2-フェ ニル-フェノールを、80mlの無水EtOHに溶解した。溶液を撹拌している間、2.0ml (24.0ミリモル)の37％CH2O／H2Oを加え、撹拌を48時間続行した。この期間の後 、反応混合物を真空下で濃縮して残渣を得、これをフラッシュカラムクロマトグ ラフィー(SiO2、溶出液CH2Cl2／石油エーテル1／1)にかけた。最初に、未反応の 2-フェニル-フェノール部分が単離され、溶出液を100％CH2Cl2からCH2Cl2／MeOH 99／1に変えることにより、1.70g(4.2ミリモル、25％)の化合物Ｂ１を遊離塩 実施例３ 手法Ｃ１（スキームＣ１） ：工程１ ：窒素雰囲気下で、0.8g(3.4ミリモル)の3-(3-メトキシ-フェニル)安息香 酸を、15mlの乾燥THFに0.65mlのEt3Nと一緒に溶解した。溶液を０℃に冷却し、 そして撹拌しながら0.42mlのi-ButO(CO)Clを加えた。30分後、0.71g(3.2ミリモ ル)のＩ−Ｈ（５mlの乾燥THFに溶解したもの）を前の溶液に加えた。反応混合物 を室温とし、そして撹拌を16時間続行した。この期間の後、反応混合物を２N Na OHで処理し、続いて２相系をEtOAcで抽出した。有機画分をMgSO4で乾燥した。乾 燥剤を除去し、そして溶媒を真空下で除いた後、残渣が残り、これをカラムクロ マトグラフィー(SiO2、溶出液：EtOAc／石油エーテル1／1)にかけた。収量：0.7 5g（1.7ミリモル、52％）の対応するアミドを得た。工程２ ：0.9gのLiAlH4を20mlの乾燥THFに懸濁し、この懸濁液を還流温度にした 後、0.7g(1.6ミリモル)のアミド(工程１の生成物、15mlの乾燥THFに溶解したも の)を懸濁液に加えた。還流を15分間続行した後、反応混合物を冷却（氷／水） し、そして0.9gのH2Oを慎重に滴下した。続いて、1.8mlの2N NaOHおよび0.9gのH2 Oを加えた後、混合物を再度20分間、還流温度とした。室温に冷却し、そして濾 過すると残渣が残り、これをEtOAcで洗浄した。合わせた濾液および洗浄液をMgS O4で乾燥した。乾燥剤を除去し、そして溶媒を真空で除去した後、残渣が残り、 これを カラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液：EtOAc)にかけた。収量：0.57g(1.4 ミリモル、85％)の純粋な遊離塩基Ｃ１を得た。これをEtOAcに溶解し、１当量の 1N HCl/MeOHを加えることによりそのHCl塩に転換し、 手法Ｃ２（スキームＣ２）：工程１および２ ：これらの反応は、手法１、工程１および２（スキームＣ１）に 準じた。工程３ ：1.1g(2.4ミリモル)の酢酸エステルを、150mlのEtOHに15mlのH2Oと共に 懸濁した後、1.5g(37.5ミリモル)のNaOHを加えた。反応混合物を16時間撹拌した 後、EtOHを真空下で除去した。残りの画分を飽和NH4Cl溶液で処理し、そしてCH2 Cl2で抽出した。合わせた有機画分を飽和NaHCO3溶液で洗浄し、そしてMgSO4で乾 燥した。乾燥剤を除去し、そして溶媒を真空下で除去した後、対応する純粋なフ ェノール誘導体を含有する0.97g(2.3ミリモル、97％)の残渣が残った。工程４ ：0.98g(2.3ミリモル)のフェノール誘導体(工程３で得たもの)を、15mlの アセトンに溶解し、これに1.5gの粉末化K2CO3を加えた。撹拌しながら、0.3mlの (CH3)2SO4を加えた後、反応混合物を２時間還流した。反応混合物が室温に達し た後、溶媒を真空下で除去した。残りの画分に、30mlのH2Oを加え、続いて混合 物を45分間煮沸した。混合物を冷却した 後、CH2Cl2を用いた抽出を行い、有機画分をMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去し 、そして溶媒を真空下で除去した後、0.95g(2.2ミリモル、96％)の対応する純粋 なO-メチル化フェノール性誘導体の残渣が残った。 化合物Ｃ４の合成は、Ｃ２に記載した合成と同様であった。 表Ｃには、化合物をまとめる。 表Ｃ ｄ＝分解 経路Ｃで使用する中間体 3-(3-メトキシ-フェニル)-安息香酸(スキームＣ３)を、W.G.Daubenら、J.Am.C hem.Soc.,75,(1953),4969-73により記載された手法に準じて製造した。3-フェニ ル-4-アセトキシ-安息香酸(スキームＣ３)は、3-フェニル-4-ヒドロキシ-安息香 酸から標準的手法(スキームＣ３を参照にされ たい)により製造した。この化合物の合成は、米国特許第4873367号明細書に記載 された。実施例４ 手法Ｄ１（スキームＤ１） ： 窒素雰囲気下で、0.4g(2.8ミリモル)の4-ブロモ-フェノールを５mlのトルエン に溶解した。この溶液に、５mlの熱EtOHに溶解した97.5mg(0.084ミリモル、0.03 eq)のPd(PPh3)4、2.8mlの2N Na2CO3および1.0g(2.8ミリモル)のボロン酸ｄ１(Ｓ5 ＝Ｈ)を加えた。生成した混合物を90℃で４時間、激しく撹拌した。反応混合物 が室温に達した後、この溶液をEtOAcおよび少量の水で希釈した。次にEtOAcを用 いて抽出を行い、合わせた有機画分を塩水で洗浄し、そしてMgSO4で乾燥した。 乾燥剤を除去し、引き続いて溶媒を真空で除去した後、1.52gの残渣が残り、こ れをカラムクロマトグラフィー(SiO2、溶出液EtOAc／石油エーテル１／１)にか けた。収量：0.53g(1.3ミリモル、47％)の純粋な遊離塩基Ｄ２２を得た。この遊 離塩基をその二−HCl塩に転換し（EtOAc／エーテルから結 上記の合成に従い、以下の化合物を製造した（表Ｄ）。 表Ｄ ｄ＝分解 経路Ｄで使用する中間体 スキームＤ１およびＤ２で使用する臭化物は、標準的方法により容易に入手で き、あるいは市販されている。スキームＤ１およびら２で適用するボロン酸は、 対応する臭化物（スキームＤ３）を介して容易に得ることができ、一般的な手法 に関してはD.Janietzら、Synthesis,(1993),33およびそこに引用した技術文献を 参照にされたい。 使用した臭化物(Ｓ5＝Ｈ、OCH2Ph、スキームＤ３)は、手法Ｅ３（スキームＥ ３）に記載の手法に準じて合成される。実施例５ 手法Ｅ１（スキームＥ１） ； 5.1g(12.0ミリモル)の1-[(2-メトキシ-5-ブロモ-フェニル)メチル]-4-(2,3-ジ ヒドロ-1,4-ベンゾジオキシン-5-イル)ピペラジンを、20mlのトルエンに溶解し 、これに12mlの2N Na2CO3/H2Oおよび0.45g(0.39ミリモル、0.03eq)のPd(PPh3)4 を加えた。次に温めた３mlのEtOHに溶解した1.46g(12.0ミリモル)のフェニル-ボ ロン酸をこの溶液に加えた。反応混合物を85℃の温度で激しく撹拌した。４時間 後、二相反応混合物を室温とした後、有機（トルエン）画分を分離した。水層を EtOAcで抽出した。合わせたトルエン-およびEtOAc画分を水および塩水でそれぞ れ洗浄した後、有機画分をNa2SO4で乾燥した。乾燥剤を除去し、続いて溶媒を真 空で除去した後、残渣が残り、これをカラムクロマトグラフィー(SiO2、溶出液E tOAc／石油エーテル１／２)にかけた。単離した純粋な遊離塩基Ｅ２を、EtOAc/E tOH 1／1に溶解し、そしてこの溶液を１当量の１N HCl/EtOHに溶解し、そしてこ の溶液を１当量の１N HCl/EtOHで処理した。 手法Ｅ２（スキームＥ２）： 3.0g(5.9ミリモル)のO-ベンジル保護化合物Ｅ１を、35mlの濃HClに溶解した後 、混合物を撹拌し、還流温度にした。45分間後、過剰量の30ml濃HClを加え、そ して還流をさらに45分間続行した。この期間の後、反応混合物を室温とし、そし て溶媒を真空下で除去した。残渣を飽和NaHCO3溶液で処理し、そしてこれをEtOA cで抽出した。有機画分を塩水で洗浄し、そして続いてMgSO4で乾燥した。乾燥剤 を除去し、そして続いて溶媒を真空で除去した後、残った残渣をフラッシュカラ ムクロマトグラフィー(SiO2、溶出液CH2Cl2／MeOH 95／5)にかけた。Ｅ１の遊離 塩基を単離し、そしてＩN HCl／EtOHで処理することにより、そのHCl塩に転換し た。EtOH／H2Oからの再結晶により1.45g（3.2ミリモル、54％）の純粋なＥ１.HC lを得た。 上述した化合物を表Ｅにまとめる。 表Ｅ ｄ＝分解 経路Ｅで使用する中間体 スキームＥ１に描いたスズキ反応に使用した臭化物は、フェニル-ピペラジン および所望の置換された3-ブロモ-フェニル-メチル-Ｘ中間体(式中、ＸはCl、Br またはOMsを表してよい)から合成できる（スキームＥ３を参照にされたい）。 手法Ｅ３（スキームＥ３）： 6.6g(23.0ミリモル)の(2-メトキシ-5-ブロモーフェニル)-メチル-ブロミドお よび5.4g(21ミリモル)のＩ−Ｈ.HClを、80mlのCH3CNに加えた後、5.2g(51.0ミリ モル)のEt3Nおよび少量のKIを加えた。反応混合物を撹拌し、還流温度に16時間 維持した。この時間の後、反応混合物を濾過し、そして濾液を真空下で濃縮した 。残渣をカラムクロマトグラフィー(SiO2、溶出液EtOAc／石油エーテル１／２) にかけ、最終的に5.1g(12.2ミリモル、58％)の純粋な1-[(2-メトキシ-5-ブロモ- フェニル)メチル]-4-(2,3-ジヒドロ-1,4-ベンゾジオキシン-5-イル)ピペラジン を得た。 適用したボロン酸は、対応する臭化物を通して容易に得ることができ、一般的 な手法に関してはD.Janietzら、Synthesis,(1993),33および本明細書に引用した 技術文献を参照にされたい。スキームＡ.ｉによる中間体XI−Ｈの製造 工程１（スキームＡ.ｉ） ： 5.1g(25ミリモル)の1-(フェニルメチル)-ヘキサヒドロ-5H-1,4-ジ-アゼピン-5 -オン(製造に関してはDickermanら、J.0rg.Chem.,19,(1954),1855-61を参照にさ れたい)および7.39g(37.5ミリモル)の7-ブロモベンズフランを、3.45(25ミリモ ル)の乾燥K2CO3および0.48g(2.5ミリモル)のCulと共にフラスコに入れ、そして1 20℃で90時間、混合物を撹拌しながら加熱した。反応混合物を室温とした後、40 mlのトルエンを加えた。この懸濁液をCeliteで濾過し、残渣を温めたトルエンで 洗浄した。合わせた洗浄液および濾液を真空で蒸発させ、12.4gの茶色い油を得 た。これをCH2Cl2で希釈し、そして２Ｎ NaOH、NaHCO3（飽和）および水でそれ ぞれ処理した。有機画分をMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去し、そして溶媒を真 空下で蒸発させた後、11.7gの茶色い油が残った。この残渣をフラッシュカラム クロマトグラフィー(SiO2、溶出液：CH2Cl2／MeOH 98／2)にかけ、そして5.7g（ 83％）の所望の生成物を得た。工程２（スキームＡ.ｉ） ： 40mlの乾燥THFに溶解した5.9g(18.6ミリモル)の工程１の生成物を、2.14g(55. 8ミリモル)のLiAlH4混合物(100mlのEt2O中)に滴下し、撹拌を３時間続行した。 この期間の後、反応混合物をそれぞれ2.1mlのH2O（THF中）、4.2mlの2N NaOHそ して2.4mlのH2Oで処理した。撹拌を２時間続行した後、混合物をCeliteで濾過し 、残渣をそれぞれTHFそしてCH2Cl2で洗浄した。合わせた洗浄液および濾液を、 真空で蒸発させて5.4gの茶色い油を得た。この残渣をフラッシュカラムクロマト グラフィー(SiO2、溶出液：CH2Cl2／MeOH 98／1)にかけ、そして4.83g（85％） のジアゼピン同族体を得た。工程３（スキームＡ.ｉ） ： 4.83g(15.8ミリモル)の工程２の生成物を、65mlの1,2-ジクロロエタンに撹拌 しながら溶解した。窒素雰囲気下、２−４℃で、25mlの1,2-ジクロロエタンに溶 解した2.3g(15.8ミリモル)のCl(CO)O(CHCl)CH3（「ACE-クロライド）」を、前の溶 液に10分間で滴下した。次に反応混合物を10時間還流した。この時間の後、反応 混合物を真空で濃縮し、5.1gの残渣が残った。これをMeOHで希釈し、そして得ら れた溶液を16時間還流した。反応混合物を室温とした後、溶媒を真空下で除去し て4.2gの残渣を得、これをフラッシュカラムクロマトグラフィー(SiO2、溶出液 ：CH2Cl2／MeOH/NH4OH 92／7.5／0.5)にかけた。収量：2.8g（82％）の1-(7-ベ ンズフラニル)-ヘキサ-ヒドロ-1,4-ジアゼピン。ＸＶ−Ｈの製造、スキームＡ.iiiを参照にされたい ：工程１(スキームＡ.iii) 3.94g(21.9ミリモル)の7-ニトロ-2-ベンゾキサゾリノン(この化合物の製造に 関しては、欧州特許出願公開第0189612号明細書およびそこに引用されている技 術文献を参照にされたい)を、40mlのDMSOに溶解した後、1.72gの85％粉末化KOH( 26.2ミリモル)を加えた。撹拌および冷却（水）しながら、６mlのDMSOに溶解し た3.72g(26.2ミリモル)のMelを10分間にわたって滴下した。撹拌を室温で16時間 続行し、この間に過剰量のMel(0.5g)を加えた。反応が完了した後、反応混合物 を水で希釈した後、CH2Cl2で抽出を行った。合わせた有機画分を、水および塩水 でそれぞれ洗浄した後、有機画分をMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去し、そして 溶媒を真空下で除去した後、4.1gの固体残渣が残った。これのフラッシュカラム クロマトグラフィー（SiO2、溶出液：CH2Cl2）により、3.6g（85％）の純粋な3- メチル-7-ニトロ-2-ベンゾキサゾリノンを得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 31/496 Ａ６１Ｋ 31/42 ６０３ 31/5513 31/495 ６０１ Ｃ０７Ｄ 215/38 31/55 ６０２ 263/58 Ｃ０７Ｄ 215/38 307/79 263/58 317/66 307/79 319/08 317/66 319/14 319/08 321/10 319/14 327/06 321/10 333/54 327/06 405/04 333/54 407/12 405/04 409/12 407/12 413/12 409/12 413/12 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ， ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，Ｇ Ｂ，ＧＥ，ＧＨ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ， ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，Ｎ Ｏ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ， ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ (72)発明者 トウルプ，マルテイヌス・テオドルス・マ リア オランダ・エヌエル―1381シーピー ウエ ースプ・シージエイバンホウテンラーン36 (72)発明者 クイペルス，ウイルマ オランダ・エヌエル―1381シーピー ウエ ースプ・シージエイバンホウテンラーン36 (72)発明者 ロング，スチーブン・ケネス オランダ・エヌエル―1381シーピー ウエ ースプ・シージエイバンホウテンラーン36

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １．式（ａ） 式中、 −Ａは５−７環原子の複素環式基を表し、ここで基Ｏ、ＮおよびＳからの１−３ 個のヘテロ原子が存在し、 −Ｒ1は、水素またはフルオロであり、 −Ｒ2は、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシまたはオキソ基であり、そしてｐは ０、１または２であり、 −Ｚは、炭素または窒素を表し、そしてＺが窒素である時、点線は単結合であり 、そしてＺが炭素である時は単または二重結合であり、 −Ｒ3およびＲ4は、独立して水素またはＣ1-4アルキルであり、 −ｎは１または２の値を有し、 −Ｒ5はハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1-4アルコキシまたはＣ1-4アルキルであり、 そしてｑは０、１、２または３であり、 −Ｙはフェニル、フラニルまたはチエニルであり、これらの基はヒドロキシ、ハ ロゲン、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4アルキル、シアノ、アミノカルボニル、モノ− またはジ−Ｃ1-4アルキルアミノカルボニルの群の１−３個の置換基で置換され てもよい、 の化合物およびそれらの塩。 ２．Ａがフェニル基と一緒に式ｂ−ｍの基 式中、Ｒ1および（Ｒ2）pは請求の範囲第１項に与えた意味を有し、 そしてｎは１であり、Ｒ3、Ｒ4、（Ｒ5）q、ＹおよびＺは請求の範囲第１項に 与えた意味を有する、 を表すことを特徴とする、請求の範囲第１項に記載の化合物およびそれらの塩。 ３．Ａがフェニル基と一緒に、オキソ基によりヘテロ環が置換された式（ｂ）の 基または式（ｌ）の基を表し、そしてＹが請求の範囲第１項に述べたように置換 されてもよいフェニルであり、そしてＺが窒素であることを特徴とする、請求の 範囲第２項に記載の化合物およびそれらの塩。 ４．Ｒ3およびＲ4が水素であり、Ｒ5が水素、ヒドロキシ、メトキシまたはハロ ゲンであり、そしてＹが請求の範囲第３項に与えた意味を有することを特徴とす る、請求の範囲第３項に記載の化合物およびそれらの塩。 ５．Ａがフェニル基と一緒に、オキソ基によりヘテロ環が置換された式（１）の 基であり、Ｒ5が水素であり、そしてＹがフェニルであることを特徴とする、請 求の範囲第４項に記載の化合物およびそれらの塩。 ６．請求の範囲第１項に記載の化合物の製造法であって、 ａ）式（ｎ） の化合物を、式 式中、Ｘは脱離基である、 の化合物と反応させることにより、あるいは ｂ）式（ｎ）の化合物を式 の化合物およびホルムアルデヒドと反応させることにより、あるいは ｃ）式（ｎ）の化合物を式 の化合物と反応させ、続いてケト−基を還元することにより、あるいは ｄ）式 の化合物を化合物Ｙ−Ｂｒと反応させることにより、あるいは ｅ）式 の化合物を式 Ｂ（ＯＨ）2−Ｙ の化合物と反応させることによる、 上記式中、記号は請求の範囲第１項に与えた意味を有する、 上記化合物の製造法。 ７．有効成分として請求の範囲第１項に記載の少なくとも１つの化合物を含む医 薬組成物。 ８．請求の範囲第７項に記載の組成物が、請求の範囲第１項に記載の化合物を投 与に適する剤形とすることにより調製されることを特徴とする、医薬組成物の調 製法。 ９．請求の範囲第１項に記載の化合物が使用されることを特徴とする、ＣＮＳ疾 患の処置法。
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