JP2001237481A - レーザダイオード用マウント構造及びその実装方法 - Google Patents
レーザダイオード用マウント構造及びその実装方法Info
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Abstract
の高い装置と低工数とで実現する。 【解決手段】 セラミックス等の高熱伝導材料から成る
マウント2の上面にメタライズパターン3を形成し、そ
の寸法を幅は発光素子1の幅と略等しく、長さは発光素
子1の長さLよりαだけ短くしておく。また、メタライ
ズパターン2の長手方向の中央部から両幅方向にL/2
以下の幅の引き出しパターン3aを形成しておく。マウ
ント2への発光素子1の搭載に際しては、メタライズパ
ターン3の上に半田リボン4を位置を合わせて載置し、
次ぎに発光素子1をその上から載置する。この状態のま
まを保って加熱すると、半田が溶融して半田の表面張力
の作用により発光素子1にセルフアライメント作用が働
いて、メタライズパターン3に沿った高精度な実装が出
来上がる。
Description
ド用マウント構造及びその実装方法に関する。
という)は光センサの発光光源として各種精密測長器、
リモートコントロール、情報の記録再生、自動機械の位
置決め用などに広く用いられている。発光素子は動作時
の電流密度が1〜4kA/cm2 と高いため、動作電
流による発熱が大きく、これを効率よく外部へ伝達して
放熱しないと、その熱により発光素子の発光効率が低下
して光量が減少する。そこで光量を維持するためには更
に動作電流を増加させることになる。この繰り返しから
動作電流が増大して発光素子の寿命が極端に短くなって
しまう。従って、放熱を効率よく行うことが重要にな
る。そこで、発光素子は熱伝導率の高い放熱用ブロック
(ヒートシンク)にマウントした上で、電極の配線等が
なされ、パッケージに納められて製品とされている。こ
のような発光素子の従来のマウント構造を図面により説
明する。図5、図6、図7は従来の発光素子のマウント
構造を示す斜視図である。図8は発光素子の搭載位置を
示す要部側面図である。
成について説明する。図5において、53は発光素子で
あり、51は銅、銅合金等の熱伝導率の高い金属材料を
切削・研磨や粉末成型等の方法で形成した1乃至10数
mm3 程度の直方体形状の放熱用ブロックである。発
光素子53をブロック51へマウントする際には、発光
素子53とブロック51との熱膨張係数の差が無視でき
ないほど大きいために、インジウム合金等の柔らかい半
田を用いて接合しその差を吸収させている。ところが、
このマウント構造では、半田が柔らかいので初期位置精
度が悪いのと長期的には無視できない位置ズレを起こす
ので、発光素子の信頼性を高めるのが難しい。
いマウント構造である。図6において、52は熱膨張係
数の値が発光素子53と近い値を持つ高熱伝導のセラミ
ックス薄板から成るマウントであり、発光素子53とブ
ロック51との間に介在する。マウント52は発光素子
53及びブロック51との接合のために接合面を金等で
メタライズしてある。発光素子53を搭載するに当たっ
ては、まずマウント52とブロック51とを接合する
が、これは半田接続用のダイボンダを用いて行う。レー
ザー光を所望の方向に出射させるために後述する所定の
組立精度が必要であり、発光素子53をマウント52に
マウントするには画像認識装置を持つ専用の高精度ダイ
ボンダーを用いる。接続材料としては金合金等の高熱伝
導材料を用いている。
せについて説明する。54はパッケージの基台であり、
ブロック51を基台54に組み立て後に発光素子53を
搭載する。このときに、光軸Kの位置と傾きとが基台5
4外形を基準として所定の精度に入っている必要があ
る。光軸Kは発光素子53の外形と略平行であるから、
まず、互いの外形を基準としてマウント52をブロック
51に搭載しておき、次ぎにブロック1の外形を基準と
して発光素子53をマウント52にマウントする。発光
素子53の組立精度は、一般的に図7、図8に示すよう
に、位置については、xyz軸方向に各々±30μm、
傾きについては、±3度以内とし、発光素子53の発光
部53aのある端面がマウント52の上端から僅かに
(40μm未満)突き出るようにする。発光素子53の
マウントには1個につき3秒から30秒の工数を要して
いる。
ウント構造の場合、ブロックとマウント間、マウントと
発光素子間の2回もの高精度マウントを行う必要があ
り、専用の高精度なダイボンダーを用いて多くの時間を
かけて発光素子を固着実装している。そのための設備
費、工数ともに大きく、製品コストを増大させている。
るためになされたものであり、その目的は、汎用性の高
い装置を用いて、工数及び設備費用の低減に寄与するこ
とのできるレーザダイオード用マウント構造とその実装
方法を提供することである。
に、本発明は、レーザダイオードをマウントを介して放
熱ブロックに搭載するレーザダイオード用マウント構造
において、前記マウントの長さを前記レーザダイオード
の長さより短くしたことを特徴とする。
の発明において、前記マウントには、前記レーザダイオ
ードの幅と略等しい幅で、前記マウントの長さと等しい
長さのメタライズパターンを設けたことを特徴とする。
の発明において、前記メタライズパターンには中央部両
側に引き出された引き出しパターンを持つことを特徴と
する。
の発明において、前記引き出しパターンの幅は前記レー
ザダイオードの長さの半分以下であることを特徴とする
ことを特徴とする。
ードをマウントを介して放熱ブロックに搭載するレーザ
ダイオード用マウントの実装方法において、前記レーザ
ダイオードの長さより短い長さと前記レーザダイオード
の幅と略等しい幅を持つメタライズパターンを有し、該
メタライズパターンと長さの等しいマウントを形成する
工程と、該マウントにレーザダイオードを搭載する工程
と、放熱ブロックを形成する工程と、前記放熱ブロック
にマウントを搭載する工程とを有することを特徴とす
る。
載の発明において、前記マウントに前記レーザダイオー
ドを搭載する工程において、前記メタライズパターン上
に半田リボンを載置する段階と、前記レーザダイオード
を該半田リボン上に載置する段階と、前記レーザダイオ
ードと前記半田リボンとを載置した前記マウントを加熱
する段階とを有することを特徴とする。
に基づいて詳細に説明する。図1は発光素子の実装方法
を示す斜視図である。図2は本発明の実施の形態である
発光素子用マウント構造を示す斜視図、図3は発光素子
の斜視図、図4はマウントの斜視図である。
用マウント構造の構成を説明する。図2において、1は
図3に示す発光素子であり、外形は発光部1aを通る光
軸K方向の長さLの方が幅Wよりも大きい直方体であ
る。2は図4に詳細を示すセラミックス等の高熱伝導絶
縁材料から成る直方体形状のマウントであり、一辺の長
さL−αは発光素子1の長さLに比べてα(3μmから
30μm)短く形成されている。3はマウント2上に外
形線に平行に形成されたメタライズパターンであり、発
光素子1の幅Wと略等しい幅とマウント2と同じ長さと
を持っており、長さ方向のほぼ中央部から幅方向の両側
に延在するように、長さLの半分以下の幅で適宜な長さ
を持つ引き出しパターン3aが設けられている。発光素
子1は図2に示すように、光軸に直角な端面がマウント
2の端面から突き出して予めマウントへ搭載されてか
ら、図示しない放熱ブロックへと搭載され、レンズ他の
光学部品と共にパッケージされ、製品となる。
る。図1において、4はメタライズパターン3と略同一
寸法で厚さが10μmから30μmの半田リボンであ
る。半田リボン4をマウント2のメタライズパターン3
へ位置を合わせて供給後、発光素子1を半田リボン4上
に配置し、窒素等の非酸化雰囲気中で無加圧で加熱す
る。これにより半田リボン4が溶解し、発光素子1の下
面とメタライズパターン3が溶融半田に濡れる。溶融半
田には表面張力が発生して発光素子1をメタライズパタ
−ン3の位置に合わせようとするセルフアライメント作
用が働く。そこでそのまま冷却すれば発光素子1をマウ
ントの外形に対して高精度で位置決めし半田付けするこ
とができる。
素子1の長さLよりも短く設定してあるために、図2に
示すように発光素子1の両端がマウント2よりも僅かに
(ほぼα/2づつ)突出する。また、メタライズパター
ン3の幅と発光素子1の幅Wとを略等しく形成してある
ために両者の側縁が一致するようになる。また、半田溶
融時に発光素子1を位置決め移動させた余分の半田が引
き出しパターン3aに流れ出すことにより、発光素子1
下面の半田量を減少させることができる。
る。溶融半田によるセルフアライメント作用が働くの
で、予めメタライズパターン3をマウント2の外形に対
して精度よく平行に設けておくことによって、発光素子
1をマウント2に搭載するときには0.1mm程度と低
い位置決め精度しか要求されない。また、引き出しパタ
ーン3aにより発光素子1下の半田膜を薄くできるから
発光素子1の発熱を効率よくマウント2に伝達させるこ
とができる。また、発光素子の電極を配線する際にもこ
の引き出しパターンが用いられる。更に、発光部1aが
マウント2端面より確実に突出した構造になるために、
出射光がマウント2表面で反射してしまう、いわゆる
「ケラレ」が発生することがない。
マウントにメタライズパターンを形成しておき、半田リ
ボンを介して発光素子を0.1mm程度の精度で配置
し、加熱・冷却するのみで高精度の実装が汎用装置によ
り達成できる。
を加熱する時には多数個を同時に処理できるため、大量
高速の処理が可能になった。故に低工数で高精度のマウ
ントへの実装が確保できる。
トの実装方法を示す斜視図である。
ある。
Claims (6)
- 【請求項1】 レーザダイオードをマウントを介して放
熱ブロックに搭載するレーザダイオード用マウント構造
において、前記マウントの長さを前記レーザダイオード
の長さより短くしたことを特徴とする光半導体用マウン
ト構造。 - 【請求項2】 前記マウントには、前記レーザダイオー
ドの幅と略等しい幅で、前記マウントの長さと等しい長
さのメタライズパターンを設けたことを特徴とする請求
項1記載のレーザーダイオード用マウント構造。 - 【請求項3】 前記メタライズパターンには中央部両側
に引き出された引き出しパターンを持つことを特徴とす
る請求項2記載のレーザーダイオード用マウント構造。 - 【請求項4】 前記引き出しパターンの幅は前記レ−ザ
ダイオードの長さの半分以下であることを特徴とする請
求項3記載のレーザーダイオード用マウント構造。 - 【請求項5】 レーザダイオードをマウントを介して放
熱ブロックに搭載するレーザダイオード用マウントの実
装方法において、前記レーザダイオードの長さより短い
長さと前記レーザダイオードの幅と略等しい幅を持つメ
タライズパターンを有し、該メタライズパターンと長さ
の等しいマウントを形成する工程と、該マウントにレー
ザダイオードを搭載する工程と、放熱ブロックを形成す
る工程と、前記放熱ブロックにマウントを搭載する工程
とを有することを特徴とするレーザーダイオード用マウ
ントの実装方法。 - 【請求項6】 前記マウントに前記レーザダイオードを
搭載する工程において、前記メタライズパターン上に半
田リボンを載置する段階と、前記レーザダイオードを該
半田リボン上に載置する段階と、前記レーザダイオード
と前記半田リボンとを載置した前記マウントを加熱する
段階とを有することを特徴とする請求項5記載のレーザ
ーダイオード用マウントの実装方法。
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| JP2000048376A JP4547063B2 (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | レーザダイオード用マウント構造及びその実装方法 |
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- 2000-02-24 JP JP2000048376A patent/JP4547063B2/ja not_active Expired - Lifetime
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