JP2009098461A - 導体層転写シートおよび積層型チップ素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 導体層転写シート22によれば、感光性導体ペースト18は転写支持体12の一面にビヒクル層10を介して塗着されていることから、所定のパターンの導体層18を形成するための露光および現像時において、必ずしも十分な露光・現像性能を必要とせず、感光性樹脂、重合開始剤等の樹脂成分である樹脂量の少ない導体ペーストを用いることができる。したがって、感光性導体ペースト18中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題が生じない。
【選択図】図1
Description
12:転写支持体
16:第1基材シート
18:感光性導体ペースト層( 導体層)
20:第2基材シート
22:導体層転写シート
26:誘電体層転写シート
30:積層体
32:積層型チップコンデンサ( 積層型チップ素子)
P1〜P5:導体層転写シートを用意する工程
P2:ビヒクル塗工工程
P4:感光性導体ペースト塗工工程
P5:露光・現像工程
P6〜P7:誘電体層転写シートを用意する工程
P8:ラミネート工程( 第1転写工程)
P9:転写・積層工程( 第2転写工程)
P10:焼成工程
Claims (6)
- 金属粉末、感光性樹脂、重合開始剤を含む感光性導体ペーストから成る導体層が転写支持体の一面に塗着された導体層転写シートであって、
前記感光性導体ペーストは前記転写支持体の一面にビヒクル層を介して塗着されていることを特徴とする導体層転写シート。 - 前記ビヒクル層は、感光性樹脂および重合開始剤を含む消失可能な物質から成るものである請求項1の導体層転写シート。
- 前記転写支持体の一面にビヒクル層を介して塗着されている前記導体層は、露光・現像によって所定のパターンに形成されているものである請求項1または2の導体層転写シート。
- 前記感光性導体ペーストは、10重量%以下の樹脂成分を含有しているものである請求項1乃至3のいずれか1の導体層転写シート。
- 複数の誘電体層と該誘電体層の間に介在する導体層とが焼結されることにより構成された積層型チップ素子の製造方法であって、
請求項4の導体層転写シートを用意する工程と、
誘電体層が転写支持体の一面に塗着された誘電体層転写シートを用意する工程と、
前記導体層転写シートを用いて、所定の誘電体層上に導体層を転写する第1転写工程と、
前記誘電体層転写シートを用いて、該第1転写工程で転写された導体層の上に、前記誘電体層を転写する第2転写工程と、
前記第1転写工程および第2転写工程を繰り返し実行することにより交互に積層された、前記第1誘電体層と第2誘電体層との積層体を焼成処理することにより焼結させる焼成工程と
を、含むことを特徴とする積層型チップ素子の製造方法。 - 前記導体層転写シートを用意する工程は、
前記転写支持体の一面にビヒクルを層状に塗着するビヒクル塗工工程と、
該層状に塗着されたビヒクルの上に、金属粉末、感光性樹脂、重合開始剤を含む感光性導体ペーストを層状に塗着する感光性導体ペースト塗工工程と、
該感光性導体ペースト塗工工程により層状に塗着された感光性導体ペーストを露光・現像することにより所定パターンの導体層を前記転写支持体の一面上に形成する露光・現像工程と
を、含むことを特徴とする請求項5に記載の積層型チップ素子の製造方法。
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Citations (4)
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|---|---|---|---|---|
| JPH05212833A (ja) * | 1991-11-29 | 1993-08-24 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 薄膜状光重合性導電ペースト組成物積層体 |
| JPH06242604A (ja) * | 1993-02-19 | 1994-09-02 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光重合性導電体組成物積層体及び導電体パターンの形成方法 |
| JP2001264965A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-28 | Murata Mfg Co Ltd | 感光性導体ペーストならびに電子部品、電子装置 |
| JP2003131365A (ja) * | 2001-10-23 | 2003-05-09 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 光硬化性組成物及びそれを用いて電極形成したプラズマディスプレイパネル |
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2007
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