JP2000332384A - 転写シートおよびパターン形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 高精細な電極パターンの形成が可能な転写シ
ートと、電極パターンを高い精度で簡便に形成するため
のパターン形成方法を提供する。 【解決手段】 ベースフィルム２の一方の面に、導電性
粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な
感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有す
る転写層３を剥離可能に設け、転写層およびベースフィ
ルムの少なくとも一方に、紫外線吸収剤および着色剤の
少なくとも１種を含有させて転写シートとし、この転写
シートの転写層側を基板上に圧着し、ベースフィルム側
から所望のパターンで転写層を露光し、その後、ベース
フィルムを剥離して現像し、焼成して有機成分を除去す
ることにより電極パターンを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電極パターンを高
い精度で形成するための転写シートおよびパターン形成
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル（Ｐ
ＤＰ）等における電極パターンの形成は、より高い精度
で、かつ、低い製造コストで実施可能なことが要求され
ている。従来、ＰＤＰにおける電極パターンの形成は、
導電性粉体を含有するパターン形成用ペーストを用いて
スクリーン印刷やオフセット印刷等の印刷法により所定
のパターンを形成し、乾燥後に焼成する印刷法等により
行われていた。

【０００３】しかし、上記の印刷法は、工程が簡略であ
り製造コストの低減が期待されるが、スクリーン印刷法
ではスクリーン印刷版を構成するメッシュ材料の伸びに
よる印刷精度の限界があり、また、形成したパターンに
メッシュ目が生じたりパターンのにじみが発生し、パタ
ーンの表面状態が悪いという問題がある。また、オフセ
ット印刷法では、印刷回数が進むにつれてパターン形成
用ペーストが完全に基板に転写されずにブランケットに
残るようになり、層厚やパターンの精度の低下が生じ
る。したがって、ブランケットの交換を随時行いペース
トのブランケット残りを防止してパターン精度を維持す
る必要があり、このため作業が極めて煩雑であるという
問題があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このような問題を解消
するものとして、電極パターン形成用等の感光性樹脂組
成物を用いてベースフィルム上に剥離可能に転写層を設
けて転写シートとし、この転写シートを用いて転写層を
被転写体に熱転写した後、焼成することにより電極パタ
ーン等を形成する方法がある。

【０００５】しかし、被転写体に熱転写された転写層
は、上述のような印刷法により形成された被膜に比べて
転写性付与のために樹脂、可塑剤等の有機バインダ成分
が多いためゴミが付着しやすく、一度ゴミが付着する
と、エアーブロー等によって取り除くことが困難であ
り、製造歩留の向上に支障を来していた。

【０００６】このため、転写シートの転写層を被転写体
に圧着した後、ベースフィルムを剥離せずに残し、この
ベースフィルムを介して転写層を露光し、その後、ベー
スフィルムを剥離して現像し、焼成することにより電極
パターンを形成することが考えられる。しかし、上記の
転写層は、含有する金属微粉末の作用により、照射され
た光を反射しやすい性質を示す。転写層での反射で生じ
た散乱光は、ベースフィルムと転写層との界面に沿って
進むことになるが、ここではほとんど酸素が存在しない
ため、酸素によるラジカルの捕捉が生じることがなく、
このため、散乱光による転写層の反応が進行する。した
がって、形成された電極パターンの線幅に太りが生じ
て、精度の高い電極パターンを形成することが困難にな
る。

【０００７】本発明は、上述のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、高精細な電極パターンの形成が可能な
転写シートと、電極パターンを高い精度で簡便に形成す
るためのパターン形成方法を提供することを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の転写シートは、ベースフィルムと、
該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた転
写層とを備え、該転写層は導電性粉体とガラスフリット
を含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含
む有機成分とを少なくとも含有し、前記転写層および前
記ベースフィルムの少なくとも一方が、紫外線吸収剤お
よび着色剤の少なくとも１種を含有するような構成とし
た。

【０００９】また、本発明の転写シートは、前記転写層
が重合停止剤を含有するような構成とした。

【００１０】本発明の転写シートは、ベースフィルム
と、該ベースフィルムの一方の面に設けられた光吸収層
と、該光吸収層上に剥離可能に形成された転写層とを備
え、前記光吸収層は紫外線吸収剤および着色剤の少なく
とも１種を含有し、前記転写層は導電性粉体とガラスフ
リットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成
物を含む有機成分とを少なくとも含有するような構成と
した。

【００１１】本発明の転写シートは、ベースフィルム
と、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられ
た焼成除去可能な光吸収層と、該光吸収層上に形成され
た転写層とを備え、前記光吸収層は紫外線吸収剤および
着色剤の少なくとも１種を含有し、前記転写層は導電性
粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な
感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有す
るような構成とした。

【００１２】また、本発明の転写シートは、前記転写層
および前記ベースフィルムの少なくとも一方が、紫外線
吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するような
構成とした。

【００１３】さらに、本発明の転写シートは、前記転写
層が重合停止剤を含有するような構成とした。

【００１４】また、本発明の転写シートは、前記ベース
フィルムの他方の面に、紫外線吸収剤および着色剤の少
なくとも１種を含有する光吸収背面層を備えるような構
成とした。

【００１５】本発明のパターン形成方法は、上述の転写
シートを用いて基板上に前記転写層を圧着し、ベースフ
ィルム側から所望のパターンで前記転写層を露光し、そ
の後、前記ベースフィルムを剥離して現像し、焼成して
有機成分を除去するような構成とした。

【００１６】また、本発明のパターン形成方法は、上述
の転写シートを用いて基板上に前記転写層を圧着し、ベ
ースフィルム側から紫外線吸収剤および着色剤の少なく
とも１種を含有する光吸収性フィルムを介して所望のパ
ターンで前記転写層を露光し、その後、前記ベースフィ
ルムを剥離して現像し、焼成して有機成分を除去するよ
うな構成とした。

【００１７】上記のような本発明では、ベースフィルム
側から転写シートに照射された光は、ベースフィルムを
透過して転写層に到達するが、導電性粉体を含有する転
写層等の転写シート内部で反射された散乱光は、転写シ
ート内に含有される紫外線吸収剤や着色剤等により吸収
されるので、ベースフィルムと転写層との界面に沿って
照射部位の外に拡散することが防止される。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。転写シートの第１の実施形態 図１は、本発明の転写シートの一実施形態を示す概略断
面図である。図１において、転写シート１はベースフィ
ルム２と、このベースフィルム２上に剥離可能に設けら
れた転写層３と、さらに、転写層３上に剥離可能に設け
られた保護フィルム４とを備えている。転写層３は導電
性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可
能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含
有する。そして、ベースフィルム２および転写層３の少
なくとも一方は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくと
も１種を含有する。さらに、転写層３は、重合停止剤を
含むものであってもよい。

【００１９】このような転写シート１は、シート状、長
尺状のいずれであってもよく、長尺状の場合はコアに巻
き回したロール形状とすることができる。使用するコア
は、ごみ発生、紙粉発生を防止するためにＡＢＳ樹脂、
塩化ビニル樹脂、ベークライト等で成形されたコア、樹
脂を含浸させた紙管等が好ましい。

【００２０】次に、上記の転写シート１の構成について
説明する。 （ベースフィルム）転写シート１を構成するベースフィ
ルム２は、転写層３を形成するときのインキ組成物に対
して安定であり、かつ、転写層３の露光に用いる光に対
して透過性を有し、また、柔軟性を有するとともに張力
もしくは圧力で著しい変形を生じない材料を使用する。

【００２１】用いる材料としては、まず、樹脂フィルム
を挙げることができる。樹脂フィルムの具体例として
は、ポリエチレンフィルム、エチレンー 酢酸ビニル共
重合体フィルム、エチレン- ビニルアルコール共重合体
フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィ
ルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリ塩化ビ
ニルフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビ
ニルブチラールフィルム、ナイロンフィルム、ポリエー
テルケトンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィ
ルム、ポリサルフォンフィルム、ポリエーテルサルフォ
ンフィルム、ポリテトラフルオロエチレン−パーフルオ
ロアルキルビニルエーテルフィルム、ポリビニルフルオ
ライドフィルム、テトラフルオロエチレン−エチレンフ
ィルム、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロ
ピレンフィルム、ポリクロロトリフルオロエチレンフィ
ルム、ポリビニリデンフルオライドフィルム、ポリエチ
レンテレフタレートフィルム、１，４−ポリシクロヘキ
シレンジメチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレ
ンナフタレートフィルム、ポリエステルフィルム、トリ
酢酸セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、
ポリウレタンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエー
テルイミドフィルム、これらの樹脂材料にフィラーを配
合したフィルム、これらの樹脂材料を用いたフィルムを
１軸延伸もしくは２軸延伸したもの、これらの樹脂材料
を用いて流れ方向より幅方向の延伸倍率を高めた２軸延
伸フィルム、これらの樹脂材料を用いて幅方向より流れ
方向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらのフ
ィルムのうちの同種または異種のフィルムを貼り合わせ
たもの、および、これらのフィルムに用いられる原料樹
脂から選ばれる同種または異種の樹脂を共押し出しする
ことによって作成される複合フィルム等を挙げることが
できる。また、上記の樹脂フィルムに処理を施したも
の、例えば、シリコン処理ポリエチレンテレフタレー
ト、コロナ処理ポリエチレンテレフタレート、シリコン
処理ポリプロピレン、コロナ処理ポリプロピレン等を使
用してもよい。

【００２２】ベースフィルム２として、紫外線吸収剤お
よび着色剤の少なくとも１種を含有するものを使用する
場合、上述の樹脂に紫外線吸収剤や着色剤を含有させて
フィルム成形した樹脂フィルムを使用することができ
る。

【００２３】使用する紫外線吸収剤としては、従来公知
の紫外線吸収剤を挙げることができ、例えば、アゾ系染
料、サリチル酸系染料、アミノケトン系染料、キサンテ
ン系染料、ベンゾエート系染料、キノリン系染料、アン
トラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニル
シアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−ア
ミノ安息香酸系染料、ベンゾトリアゾール系染料、ニッ
ケルチオカーバメイト化合物等、３００〜４５０ｎｍの
光を吸収するものがよく、これらの１種または２種以上
を使用することができる。また、着色剤としては、従来
公知の黒色顔料、黒色染料、赤色顔料、赤色染料、黄色
顔料、黄色染料等の１種または２種以上を使用すること
ができる。

【００２４】ベースフィルム２における紫外線吸収剤や
着色剤の含有量は、０．０１〜２０重量％、好ましくは
０．０５〜１０重量％の範囲で設定することができる。

【００２５】上記のようなベースフィルム２の厚みは、
４〜４００μｍ、好ましくは１０〜１５０μｍの範囲で
設定することができる。

【００２６】（転写層）転写層３は、導電性粉体とガラ
スフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な感光性樹
脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有するインキ
組成物を、ベースフィルム２上にダイレクトグラビアコ
ーティング法、グラビアリバースコーティング法、リバ
ースロールコーティング法、スライドダイコーティング
法、スリットダイコーティング法、コンマコーティング
法、スリットリバースコーティング法等の公知の塗布手
段により塗布、乾燥して形成することができる。

【００２７】このような転写層３を、紫外線吸収剤、着
色剤、重合停止剤の少なくとも１種を含有したものとす
る場合、紫外線吸収剤や着色剤、重合停止剤を含有させ
たインキ組成物を塗布、乾燥して形成することができ
る。

【００２８】使用する紫外線吸収剤としては、従来公知
の紫外線吸収剤のなかで、焼成によって揮発、分解し
て、焼成後の膜中に炭化物を残存させることのないもの
であり、例えば、アゾ系染料、サリチル酸系染料、アミ
ノケトン系染料、キサンテン系染料、ベンゾエート系染
料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフ
ェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、
トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料、ベンゾ
トリアゾール系染料、ニッケルチオカーバメイト化合物
等、３００〜４５０ｎｍの光を吸収するものがよく、こ
れらの１種または２種以上を使用することができる。

【００２９】また、着色剤としては、従来公知の耐火性
の黒色顔料、赤色顔料、黄色顔料等を使用することがで
きる。

【００３０】さらに、重合停止剤は、従来公知の重合停
止剤のなかで、焼成によって揮発、分解して、焼成後の
膜中に炭化物を残存させることのないものであり、例え
ば、ハイドロキノン系化合物、チオール系化合物、ニト
ロ基含有化合物、ニッケルチオカーバメイト化合物等の
１種または２種以上を使用することができる。

【００３１】転写層３における紫外線吸収剤、着色剤、
重合停止剤の含有量は、０．０１〜１０重量％、好まし
くは０．０５〜３重量％の範囲で設定することができ
る。

【００３２】（１）無機成分 導電性粉体としては、Ａｕ粉体、Ａｇ粉体、Ｃｕ粉体、
Ｎｉ粉体、Ａｌ粉体、Ａｇ−Ｐｄ粉体等の１種または２
種以上を使用することができる。この導電性粉体の形状
は、球状、板状、塊状、円錐状、棒状等の種々の形状で
あってよいが、凝集性がなく分散性が良好な球状の導電
性粉体が好ましく、その平均粒径は０．０５〜１０μｍ
の範囲が好ましい。転写層３における導電性粉体とガラ
スフリットとの含有割合は、導電性粉末１００重量部に
対してガラスフリットが２〜２０重量部、好ましくは２
〜１５重量部の範囲とすることができる。

【００３３】ガラスフリットとしては、例えば、軟化温
度が３５０〜６５０℃であり、熱膨張係数α₃₀₀ が６０
×１０^-7〜１００×１０^-7／℃であるガラスフリットを
使用することができる。ガラスフリットの軟化温度が６
５０℃を超えると焼成温度を高くする必要があり、例え
ば、被パターン形成体の耐熱性が低い場合には焼成段階
で熱変形を生じることになり好ましくない。また、ガラ
スフリットの軟化温度が３５０℃未満では、焼成により
有機成分が完全に分解、揮発して除去される前にガラス
フリットが融着するため、空隙を生じやすく好ましくな
い。さらに、ガラスフリットの熱膨張係数α₃₀₀ が６０
×１０^-7／℃未満、あるいは、１００×１０^-7／℃を超
えると、被パターン形成体の熱膨張係数との差が大きく
なりすぎる場合があり、歪み等を生じることになり好ま
しくない。このようなガラスフリットの平均粒径は０．
１〜１０μｍの範囲が好ましい。このようなガラスフリ
ットとしては、例えばＢｉ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＯまたはＰｂＯ
を主成分とするガラスフリットを使用することができ
る。

【００３４】また、転写層３は、無機粉体として酸化ア
ルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、酸化マグ
ネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化
バリウム、炭酸カルシウム等の無機粉体をガラスフリッ
ト１００重量部に対して３０重量部以下の範囲で含有す
ることができる。このような無機粉体は、平均粒径が
０．１〜１０μｍの範囲が好ましく、骨材として焼成時
のパターン流延防止の作用をなし、また、反射率を制御
する作用をなすものである。

【００３５】（２）有機成分 転写層３に含有される焼成除去可能な感光性樹脂組成物
は、少なくともポリマー、モノマーおよび開始剤を含有
するものであり、焼成によって揮発、分解して、焼成後
の膜中に炭化物を残存させることのないものである。ポ
リマーとしては、メチルアクリレート、メチルメタクリ
レート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、
ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレー
ト、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリ
レート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリ
レート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリ
レート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタ
クリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ペンチル
メタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキ
シルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレー
ト、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチル
アクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−デシ
ルアクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、ヒドロキ
シエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、
Ｎ−ビニル−２−ピロリドンの１種以上と、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸の二量体（例えば、東亜
合成（株）製Ｍ−５６００）、コハク酸２−メタクリロ
イルオキシエチル、コハク酸２−アクリロイルオキシエ
チル、フタル酸２−メタクリロイルオキシエチル、フタ
ル酸２−アクリロイルオキシエチル、ヘキサヒドロフタ
ル酸２−メタクリロイルオキシエチル、ヘキサヒドロフ
タル酸２−アクリロイルオキシエチル、イタコン酸、ク
ロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これら
の酸無水物等の１種以上からなるポリマーまたはコポリ
マー、カルボキシル基含有セルロース誘導体等が挙げら
れる。

【００３６】また、上記のコポリマーにグリシジル基ま
たは水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させ
たポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。

【００３７】上記のポリマーの分子量は、５，０００〜
３００，０００、好ましくは３０，０００〜１５０，０
００の範囲である。また、上記のポリマーに他のポリマ
ー、例えば、メタクリル酸エステルポリマー、ポリビニ
ルアルコール誘導体、Ｎ−メチル−２−ピロリドンポリ
マー、セルロース誘導体、スチレンポリマー等を混合す
ることができる。

【００３８】感光性樹脂組成物を構成する反応性モノマ
ーとしては、少なくとも１つの重合可能な炭素−炭素不
飽和結合を有する化合物を用いることができる。具体的
には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブ
トキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコー
ルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシク
ロペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリ
レート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレー
ト、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレ
ート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアク
リレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、
フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジア
クリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３
−プロパンジオールアクリレート、１，４−シクロヘキ
サンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプ
ロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロー
ルトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチ
レンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、プロピレンオキサイド
変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピル
トリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレング
リコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオー
ルトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３
−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレー
ト、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレート、
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、および、上
記のアクリレートをメタクリレートに変えたもの、γ−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニ
ル−２−ピロリドン等が挙げられる。上記の反応性モノ
マーは、１種または２種以上の混合物として、あるい
は、その他の化合物との混合物として使用することがで
きる。

【００３９】感光性樹脂組成物を構成する光重合開始剤
としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メ
チル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノ
ン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、
α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾ
フェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケト
ン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエト
キシアセトフォノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニ
ルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピ
オフェノン、ｐ−tert−ブチルジクロロアセトフェノ
ン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−
クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサント
ン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケター
ル、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキ
ノン、２−tert−ブチルアントラキノン、２−アミルア
ントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロ
ン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンア
ントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６
−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、
２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチル
シクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン
−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェ
ニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニ
ル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン
−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェ
ニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベ
ンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−
１−プロパン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ナフ
タレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロ
ライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビ
スイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベン
ズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、
カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニル
スルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブル
ー等の光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノー
ルアミン等の還元剤の組み合わせ等が挙げられ、これら
の光重合開始剤を１種または２種以上使用することがで
きる。

【００４０】このような感光性樹脂組成物の転写層３に
おける含有量は、上述の無機成分１００重量部に対して
３〜５０重量部、好ましくは５〜３０重量部の範囲で設
定することができる。感光性樹脂組成物の含有量が３重
量部未満であると、転写層３の形状保持性が低く、特
に、ロール状態での保存性、取扱性に問題を生じ、ま
た、転写シート１を所望の形状に切断（スリット）する
場合に無機成分がごみとして発生し、プラズマディスプ
レイパネル作製に支障を来すことがある。一方、感光性
樹脂組成物の含有量が５０重量部を超えると、焼成によ
り有機成分を完全に除去することができず、焼成後の膜
中に炭化物が残り品質が低下するので好ましくない。

【００４１】さらに、上述の感光性樹脂組成物には、添
加剤として、増感剤、連鎖移動剤、レベリング剤、分散
剤、転写性付与剤、安定剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止
剤、剥離剤等を必要に応じて含有することができる。

【００４２】転写性付与剤は、転写性、インキ組成物の
流動性を向上させることを目的として添加され、例え
ば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−ｎ
−オクチルフタレート等のノルマルアルキルフタレート
類、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジイソデシル
フタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニル
フタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチ
ルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸エステル
類、トリ−２−エチルヘキシルトリメリテート、トリ−
ｎ−アルキルトリメリテート、トリイソノニルトリメリ
テート、トリイソデシルトリメリテート等のトリメリッ
ト酸エステル、ジメチルアジペート、ジブチルアジペー
ト、ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジイソデシル
アジペート、ジブチルジグリコールアジペート、ジ−２
−エチルヘキシルアゼテート、ジメチルセバケート、ジ
ブチルセバケート、ジ−２−エチルヘキシルセバケー
ト、ジ−２−エチルヘキシルマレート、アセチル−トリ
−（２−エチルヘキシル）シトレート、アセチル−トリ
−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリブチルシトレー
ト等の脂肪族二塩基酸エステル類、ポリエチレングリコ
ールベンゾエート、トリエチレングリコール−ジ−（２
−エチルヘキソエート）、ポリグリコールエーテル等の
グリコール誘導体、グリセロールトリアセテート、グリ
セロールジアセチルモノラウレート等のグリセリン誘導
体、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸
等からなるポリエステル系、分子量３００〜３０００の
低分子量ポリエーテル、同低分子量ポリ−α−スチレ
ン、同低分子量ポリスチレン、トリメチルホスフェー
ト、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェー
ト、トリ−２−エチルヘキシルホスフェート、トリブト
キシエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、
トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェー
ト、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフ
ェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホ
スフェート等の正リン酸エステル類、メチルアセチルリ
シノレート等のリシノール酸エステル類、ポリ−１，３
−ブタンジオールアジペート、エポキシ化大豆油等のポ
リエステル・エポキシ化エステル類、グリセリントリア
セテート、２−エチルヘキシルアセテート等の酢酸エス
テル類を挙げることができる。

【００４３】また、分散剤、沈降防止剤は、上記の無機
粉体の分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであ
り、例えば、リン酸エステル系、シリコーン系、ひまし
油エステル系、各種界面活性剤等が挙げられ、消泡剤と
しては、例えば、シリコーン系、アクリル系、各種界面
活性剤等が挙げられ、剥離剤としては、例えば、シリコ
ーン系、フッ素油系、パラフィン系、脂肪酸系、脂肪酸
エステル系、ひまし油系、ワックス系、コンパウンドタ
イプ等が挙げられ、レベリング剤としては、例えば、フ
ッ素系、シリコーン系、各種界面活性剤等が挙げられ、
それぞれ適量添加することができる。

【００４４】また、転写層３形成のために感光性樹脂組
成物とともに用いる溶剤としては、例えば、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノー
ル、エチレングリコール、プロピレングリコール等のア
ルコール類、α−もしくはβ−テルピネオール等のテル
ペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジエチルケト
ン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン等のケトン類、ト
ルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭
化水素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカ
ルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル
類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、
エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテ
ート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールア
セテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、２−メトキ
シエチルアセテート、シクロヘキシルアセテート、２−
エトキシエチルアセテート、３−メトキシブチルアセテ
ート等の酢酸エステル類、ジエチレングリコールジアル
キルエーテル、ジプロピレングリコールジアルキルエー
テル、３−エトキシプロピオン酸エチル、安息香酸メチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド等が挙げられる。

【００４５】上述のような無機成分と有機成分とを含有
し、必要に応じて紫外線吸収剤、着色剤、重合停止剤の
少なくとも１種を含有する転写層３の厚みは、５〜２０
μｍ、好ましくは５〜１５μｍの範囲で設定することが
できる。

【００４６】（保護フィルム）転写シート１を構成する
保護フィルム４は、柔軟で、張力もしくは圧力で著しい
変形を生じない材料を使用することができる。具体的に
は、ポリエチレンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重
合体フィルム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フ
ィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィル
ム、ポリメタクリル酸フィルム、ポリ塩化ビニルフィル
ム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルブチラ
ールフィルム、ナイロンフィルム、ポリエーテルエーテ
ルケトンフィルム、ポリサルフォンフィルム、ポリエー
テルサルフォンフィルム、ポリテトラフルオロエチレン
−パーフルオロアルキルビニルエーテルフィルム、ポリ
ビニルフルオライドフィルム、テトラフルオロエチレン
−エチレンフィルム、テトラフルオロエチレン−ヘキサ
フルオロプロピレンフィルム、ポリクロロトリフルオロ
エチレンフィルム、ポリビニリデンフルオライドフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレ
ンナフタレートフィルム、ポリエステルフィルム、トリ
酢酸セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、
ポリウレタンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエー
テルイミドフィルム、これらの樹脂材料にフィラーを配
合したフィルム、これらの樹脂材料を用いたフィルムを
１軸延伸もしくは２軸延伸したもの、これらの樹脂材料
を用いて流れ方向より幅方向の延伸倍率を高めた２軸延
伸フィルム、これらの樹脂材料を用いて幅方向より流れ
方向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらのフ
ィルムのうちの同種または異種のフィルムを貼り合わせ
たもの、および、これらのフィルムに用いられる原料樹
脂から選ばれる同種または異種の樹脂を共押し出しする
ことによって作成される複合フィルム等を挙げることが
できる。これらのフィルムのうちで、特に２軸延伸ポリ
エステルフィルムを使用することが好ましい。また、上
記の樹脂フィルムに処理を施したもの、例えば、シリコ
ン処理ポリエチレンテレフタレート、コロナ処理ポリエ
チレンテレフタレート、メラミン処理ポリエチレンテレ
フタレート、コロナ処理ポリエチレン、コロナ処理ポリ
プロピレン、シリコン処理ポリプロピレン等を使用して
もよい。

【００４７】上記のような保護フィルム４の厚みは、４
〜４００μｍ、好ましくは６〜１５０μｍの範囲で設定
することができる。

【００４８】このような保護フィルム４を備えた本発明
の転写シート１を使用する場合、保護フィルム４を剥離
除去した後に転写工程に供することができる。尚、本発
明の転写シートは、保護フィルムを備えていないもので
あってもよい。

【００４９】転写シートの第２の実施形態 図２は、本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略
断面図である。図２において、転写シート１１はベース
フィルム１２と、このベースフィルム１２上に設けられ
た光吸収層１５と、この光吸収層１５上に剥離可能に形
成された転写層１３と、さらに、転写層１３上に剥離可
能に設けられた保護フィルム１４とを備えている。光吸
収層１５は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１
種を含有する層である。また、転写層１３は導電性粉体
とガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な感
光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有す
る。さらに、転写シート１１では、ベースフィルム１２
および転写層１３の少なくとも一方が、紫外線吸収剤お
よび着色剤の少なくとも１種を含有する層であってもよ
く、また、転写層１３は、重合停止剤を含むものであっ
てもよい。

【００５０】このような転写シート１１は、上述の転写
シート１と同様に、シート状、長尺状のいずれであって
もよく、長尺状の場合はコアに巻き回したロール形状と
することができる。

【００５１】次に、上記の転写シート１１の構成につい
て説明する。尚、転写シート１１を構成するベースフィ
ルム１２、転写層１３および保護フィルム１４は、上述
の転写シート１を構成するベースフィルム２、転写層３
および保護フィルム４と同様であり、ここでの説明は省
略する。

【００５２】（光吸収層）光吸収層１５は、紫外線吸収
剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層であり、
光吸収層１５を形成する材料は、転写層１３を形成する
ときのインキ組成物に対して安定であり、かつ、ベース
フィルム１２に固着され、転写層１３が剥離可能となる
材料を使用する。

【００５３】光吸収層１５に用いることができる有機成
分としては、アクリレート樹脂、メタクリレート樹脂、
セルロース樹脂、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エーテ
ル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂を挙げ
ることができる。また、他の有機成分として、可塑剤、
安定剤、消泡剤、レベリング剤等を使用することができ
る。

【００５４】光吸収層１５に使用する紫外線吸収剤およ
び着色剤は、上述の転写シート１のベースフィルム２に
使用できる紫外線吸収剤および着色剤と同じものを挙げ
ることができ、露光に使用する光源に応じて適宜選択す
ることができる。

【００５５】光吸収層１５は、上述のような樹脂と紫外
線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するイン
キ組成物を、ベースフィルム１２上にダイレクトグラビ
アコーティング法、グラビアリバースコーティング法、
リバースロールコーティング法、スライドダイコーティ
ング法、スリットダイコーティング法、コンマコーティ
ング法、スリットリバースコーティング法等の公知の塗
布手段により塗布、乾燥して形成することができる。

【００５６】尚、上述の本発明の転写シート１１は、保
護フィルム１４を剥離除去した後に転写工程に供するこ
とができるが、本発明の転写シートは、保護フィルムを
備えていないものであってもよい。

【００５７】転写シートの第３の実施形態 図３は、本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略
断面図である。図３において、転写シート２１はベース
フィルム２２と、このベースフィルム１２上に剥離可能
に設けられた光吸収層２５と、この光吸収層２５上に積
層された転写層２３と、さらに、転写層２３上に剥離可
能に設けられた保護フィルム２４とを備えている。光吸
収層２５は、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１
種を含有する焼成除去可能な層である。また、転写層２
３は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、焼
成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少な
くとも含有する。さらに、転写シート２１では、ベース
フィルム２２および転写層２３の少なくとも一方が、紫
外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する層
であってもよく、また、転写層２３は、重合停止剤を含
むものであってもよい。

【００５８】このような転写シート２１は、上述の転写
シート１と同様に、シート状、長尺状のいずれであって
もよく、長尺状の場合はコアに巻き回したロール形状と
することができる。

【００５９】次に、上記の転写シート２１の構成につい
て説明する。尚、転写シート２１を構成するベースフィ
ルム２２、転写層２３および保護フィルム２４は、上述
の転写シート１を構成するベースフィルム２、転写層３
および保護フィルム４と同様であり、ここでの説明は省
略する。

【００６０】（光吸収層）光吸収層２５は、紫外線吸収
剤および着色剤の少なくとも１種を含有する焼成除去可
能な層であり、光吸収層２５を形成する材料は、転写層
２３を形成するときのインキ組成物に対して安定であ
り、ベースフィルム２２に対して剥離可能な程度の粘着
性を有し、転写層２３に対して十分な接着力を有する材
料を使用する。

【００６１】光吸収層２５に用いることができる有機成
分としては、アクリレート樹脂、メタクリレート樹脂、
セルロース樹脂、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エーテ
ル樹脂等の樹脂を挙げることができる。また、他の有機
成分として、可塑剤、安定剤、消泡剤、レベリング剤等
を使用することができる。

【００６２】光吸収層２５に使用する紫外線吸収剤およ
び着色剤は、上述の転写シート１の転写層３に使用でき
る紫外線吸収剤および着色剤を挙げることができ、露光
に使用する光源に応じて適宜選択することができる。

【００６３】光吸収層２５は、上述のような焼成除去可
能な樹脂と紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種
を含有するインキ組成物を、ベースフィルム２２上にダ
イレクトグラビアコーティング法、グラビアリバースコ
ーティング法、リバースロールコーティング法、スライ
ドダイコーティング法、スリットダイコーティング法、
コンマコーティング法、スリットリバースコーティング
法等の公知の塗布手段により塗布、乾燥して形成するこ
とができる。

【００６４】尚、上述の本発明の転写シート２１は、保
護フィルム２４を剥離除去した後に転写工程に供するこ
とができるが、本発明の転写シートは、保護フィルムを
備えていないものであってもよい。

【００６５】転写シートの第４の実施形態 図４は、本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略
断面図である。図４において、転写シート３１はベース
フィルム３２と、このベースフィルム３２上に剥離可能
に形成された転写層３３と、転写層３３上に剥離可能に
設けられた保護フィルム３４、および、ベースフィルム
３２の他方の面に形成された光吸収背面層３６とを備え
ている。光吸収背面層３６は、紫外線吸収剤および着色
剤の少なくとも１種を含有する層である。また、転写層
３３は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と、
焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少
なくとも含有する。さらに、転写シート３１では、ベー
スフィルム３２および転写層３３の少なくとも一方が、
紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する
層であってもよく、また、転写層３３は、重合停止剤を
含むものであってもよい。

【００６６】このような転写シート３１は、上述の転写
シート１と同様に、シート状、長尺状のいずれであって
もよく、長尺状の場合はコアに巻き回したロール形状と
することができる。

【００６７】上記の転写シート３１を構成するベースフ
ィルム３２、転写層３３および保護フィルム３４は、上
述の転写シート１を構成するベースフィルム２、転写層
３および保護フィルム４と同様のものとすることがで
き、ここでの説明は省略する。

【００６８】また、転写シート３１を構成する光吸収背
面層３６は、転写層３３を露光するために照射された光
の強度を、転写層３３を露光するには十分な強度で、転
写層３３内の反射で生じた散乱光による照射部位外の露
光を防止できる程度の強度に弱めるためのものである。
この光吸収背面層３６は、上述の転写シート１１を構成
する光吸収層１５の説明で挙げたような樹脂と紫外線吸
収剤および着色剤の少なくとも１種を含有するインキ組
成物を用いて、公知の塗布手段により塗布、乾燥して形
成することができる。

【００６９】尚、上述の本発明の転写シート３１は、保
護フィルム３４を剥離除去した後に転写工程に供するこ
とができるが、本発明の転写シートは、保護フィルムを
備えていないものであってもよい。また、転写シート３
１のベースフィルム３２と転写層３３との間に、上述の
光吸収層１５と同様の光吸収層を設け、転写層３３をこ
の光吸収層に対して剥離可能としてもよく、あるいは、
転写シート３１のベースフィルム３２に対して剥離可能
に上述の光吸収層２５と同様の光吸収層を設け、この光
吸収層上に転写層３３を積層してもよい。

【００７０】パターン形成方法の第１の実施形態 次に、本発明のパターン形成方法を、プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）の電極パターン形成を例として説
明する。

【００７１】ここで、電極パターン形成を説明する前
に、ＡＣ型のＰＤＰについて説明する。図５はＡＣ型Ｐ
ＤＰを示す概略構成図であり、前面板と背面板を離した
状態を示したものである。図５において、ＰＤＰ５１は
前面板６１と背面板７１とが互いに平行に、かつ対向し
て配設されており、背面板７１の前面側には、立設する
ように障壁７６が形成され、この障壁７６によって前面
板６１と背面板７１とが一定間隔で保持される。前面板
６１は、前面ガラス基板６２を有し、この前面ガラス基
板６２の背面側に透明電極である維持電極６３と金属電
極であるバス電極６４とからなる複合電極が互いに平行
に形成され、これを覆って誘電体層６５が形成されてお
り、さらにその上にＭｇＯ層６６が形成されている。ま
た、背面板７１は、背面ガラス基板７２を有し、この背
面ガラス基板７２の前面側には下地層７３を介して上記
複合電極と直交するように障壁７６の間に位置してアド
レス電極７４が互いに平行に形成され、また、これを覆
って誘電体層７５が形成されており、さらに障壁７６の
壁面とセルの底面を覆うようにして蛍光体層７７が設け
られている。このＡＣ型ＰＤＰでは、前面ガラス基板６
２上の複合電極間に交流電源から所定の電圧を印加して
電場を形成することにより、前面ガラス基板６２と背面
ガラス基板７２と障壁７６とで区画される表示要素とし
ての各セル内で放電が行われる。そして、この放電によ
り生じる紫外線により蛍光体層７７が発光させられ、前
面ガラス基板６２を透過してくるこの光を観察者が視認
するようになっている。

【００７２】尚、図５に示されるＡＣ型ＰＤＰでは、下
地層７３を介して背面ガラス基板７２上にアドレス電極
７４等が設けられているが、下地層７３を形成しないも
のであってもよい。

【００７３】次に、上述のＰＤＰの背面板７１における
アドレス電極７４の形成を説明する。図６は、上述の本
発明の転写シート１を用いたアドレス電極７４のパター
ン形成を説明するための工程図である。尚、この場合の
転写シート１の転写層３は、焼成除去可能な感光性樹脂
組成物としてネガ型の感光性樹脂組成物を含有するもの
とする。

【００７４】図６において、まず、下地層７３が設けら
れた背面ガラス基板７２（下地層７３が設けられていな
い背面ガラス基板７２に直接でもよい）に転写シート１
の転写層３側を圧着する（図６（Ａ））。この転写層３
の圧着において加熱が必要な場合、背面ガラス基板７２
の加熱、圧着ロール等により加熱を行ってもよい。

【００７５】次に、電極パターン用のフォトマスクＭを
介し、ベースフィルム２側から転写層３を露光する（図
６（Ｂ））。本発明のパターン形成方法では、フォトマ
スクＭを介して照射された光は、ベースフィルム２を透
過して転写層３に到達するが、転写層３で反射されて生
じた散乱光は、転写層３に含有される紫外線吸収剤や着
色剤等により吸収され、あるいは、ベースフィルム２に
含有される紫外線吸収剤や着色剤等により吸収されるの
で、散乱光がベースフィルム２と転写層３との界面に沿
って照射部位の外に拡散することが防止される。また、
転写層３に重合停止剤が含有される場合、仮に照射部位
の外に散乱光が拡散しても、散乱光程度の光量では、重
合停止剤によって転写層３の感光性樹脂組成物の重合反
応が抑制される。したがって、ベースフィルム２を剥離
せず残した状態で、ベースフィルム２側から転写層３の
露光を行っても、露光パターンに忠実な高精細な露光が
可能となる。また、露光時に存在するベースフィルム２
が外部酸素によるラジカル捕捉を抑制するので、ベース
フィルムを剥離した状態での露光に比べ、露光に要する
時間を大幅に短縮することができる。

【００７６】さらに、本発明のパターン形成方法では、
このようにベースフィルム２を剥離することなく残した
ままで露光を行うので、上記の圧着工程から露光工程ま
での間に、粘着性の高い転写層３に直接ゴミが付着する
ことが防止され、また、ベースフィルム２上に付着した
ゴミはエアーブロー等により容易に取り除くことがで
き、ゴミ付着による欠陥発生が防げるとともに、露光時
に使用するフォトマスクＭへのゴミ、汚れ付着も防止で
きる。尚、露光においては、フォトマスクＭをベースフ
ィルム２に密着してもよく、図示例のように所定の間隙
を設けて配設してもよい。

【００７７】次いで、ベースフィルム２を剥離し、転写
層３を現像することにより、導電性の感光性樹脂層から
なるパターン３´を下地層７３上に形成し（図６
（Ｃ））、その後、焼成してパターン３´の有機成分を
除去することにより、アドレス電極パターン７４を形成
する（図６（Ｄ））。

【００７８】上述の例では、図１に示されるような本発
明の転写シートが使用されているが、図２乃至図４に示
される転写シート１１、２１、３１のいずれを使用して
も、同様の操作により電極パターン形成を行うことが可
能である。

【００７９】パターン形成方法の第２の実施形態 図７は、上述の本発明の転写シート１を用いたアドレス
電極７４のパターン形成を説明するための工程図であ
る。尚、この場合の転写シート１の転写層３は、焼成除
去可能な感光性樹脂組成物としてネガ型の感光性樹脂組
成物を含有するものとする。

【００８０】図７において、まず、下地層７３が設けら
れた背面ガラス基板７２に転写シート１の転写層３側を
圧着する（図７（Ａ））。この転写層３の圧着において
加熱が必要な場合、背面ガラス基板７２の加熱、圧着ロ
ール等により加熱を行ってもよい。

【００８１】次に、ベースフィルム２上に光吸収性フィ
ルム４１と電極パターン用のフォトマスクＭを配設し、
ベースフィルム２側から転写層３を露光する（図７
（Ｂ））。光吸収性フィルム４１は、照射された光の強
度を、転写層３を露光するには十分であるが、転写層３
内の反射で生じた散乱光による照射部位外の露光を抑制
する程度に弱めるためのものである。このような光吸収
性フィルム４１は、紫外線吸収剤や着色剤を含有した熱
可塑性樹脂を用いてフィルム成形することにより形成す
ることができる。使用できる樹脂材料、紫外線吸収剤、
着色剤等は、上述の転写シート１のベースフィルム２の
説明で記載した各材料を挙げることができる。光吸収性
フィルム４１の厚み、含有される紫外線吸収剤や着色剤
の量は、露光に使用する光源、転写層３に含有される感
光性樹脂組成物等を考慮して適宜設定することができ
る。

【００８２】上述のような露光では、フォトマスクＭを
介して照射された光は、光吸収性フィルム４１、ベース
フィルム２を透過して転写層３に到達し、転写層３で反
射により散乱光が生じても、この散乱光により照射部位
外の転写層３が露光されることはない。また、上述のパ
ターン形成方法と同様に、散乱光がベースフィルム２と
転写層３との界面に沿って照射部位の外に拡散すること
が防止される。また、露光時に存在するベースフィルム
２が外部酸素によるラジカル捕捉を抑制するので、ベー
スフィルムを剥離した状態での露光に比べ、露光に要す
る時間を大幅に短縮することができる。

【００８３】さらに、本発明のパターン形成方法では、
上述のパターン形成方法と同様に、ゴミ付着による欠陥
発生を防げるとともに、露光時に使用するフォトマスク
Ｍへのゴミ、汚れ付着も防止できる。

【００８４】尚、露光においては、フォトマスクＭを光
吸収性フィルム４１に密着してもよく、図示例のように
所定の間隙を設けた配設してもよい。

【００８５】次いで、ベースフィルム２を剥離し、転写
層３を現像することにより、導電性の感光性樹脂層から
なるパターン３´を下地層７３上に形成し（図７
（Ｃ））、その後、焼成してパターン３´の有機成分を
除去することにより、アドレス電極パターン７４を形成
する（図７（Ｄ））。

【００８６】上述の例では、図１に示されるような本発
明の転写シートが使用されているが、図２および図３に
示される転写シート１１、２１を使用しても、同様の操
作により電極パターン形成を行うことが可能である。

【００８７】

【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。

【００８８】［実施例１］ （１）材料の準備 （ベースフィルム）ベースフィルムとして、厚み２５μ
ｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）
製Ｔ−６０）を準備した。

【００８９】（転写層形成用インキ組成物）転写層形成
用のインキ組成物Ａとして、紫外線吸収剤を含有した下
記組成の感光性樹脂組成物を調製した。 転写層形成用インキ組成物Ａ ・銀粉（球形状、平均粒径１μｍ） … ９５重量部 ・ガラスフリット … ５重量部 （主成分：Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，ＳｉＯ₂ ，Ｂ₂ Ｏ₃ （無アルカリ） 平均粒径＝１μｍ、熱膨張係数＝７８×１０^-7／℃、 軟化点＝５００℃） ・ｎ−ブチルメタクリレート／２−ヒドロキシプロピルメタクリレート ／メタクリル酸共重合体（グリシジルメタクリレート付加） （分子量＝８万、酸価＝１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ） … １３重量部 ・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート … １０重量部 ・光重合開始剤（チバガイギ社製イルガキュア３６９）… １．５重量部 ・３−メトキシブチルアセテート … ２０重量部 ・紫外線吸収剤 … ０．３重量部 （住友化学工業（株）製アンチゲンＮＢＣ）

【００９０】また、転写層形成用のインキ組成物Ｂとし
て、紫外線吸収剤を含有しない下記組成の感光性樹脂組
成物を調製した。 転写層形成用インキ組成物Ｂ ・銀粉（球形状、平均粒径１μｍ） … ９５重量部 ・ガラスフリット … ５重量部 （主成分：Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，ＳｉＯ₂ ，Ｂ₂ Ｏ₃ （無アルカリ） 平均粒径＝１μｍ、熱膨張係数＝７８×１０^-7／℃、 軟化点＝５００℃） ・ｎ−ブチルメタクリレート／２−ヒドロキシプロピルメタクリレート ／メタクリル酸共重合体（グリシジルメタクリレート付加） （分子量＝８万、酸価＝１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ） … １３重量部 ・ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート … １０重量部 ・光重合開始剤（チバガイギ社製イルガキュア３６９）… １．５重量部 ・３−メトキシブチルアセテート … ２０重量部

【００９１】（光吸収層用インキ組成物）光吸収層形成
用のインキ組成物として、紫外線吸収剤を含有した下記
組成の感光性樹脂組成物を調製した。 光吸収層形成用インキ組成物 ・ポリメチルメタクリレート … １００重量部 ・紫外線吸収剤 … ３重量部 （共同薬品（株）製バイオソープ５８０） ・メチルエチルケトン … ５０重量部 ・トルエン … ５０重量部

【００９２】（２）転写シートの作製 上記の各材料を下記の表１に示す組み合わせで使用し、
下記の２種の層構成Ｉ、IIからなる転写シート（試料１
〜３）を作製した。 層構成Ｉ ：ベースフィルム／転写層／保護フィルム
（ベースフィルムと転写層間で剥離） 層構成II ：ベースフィルム／光吸収層／転写層／保護
フィルム（ベースフィルムと光吸収層間で剥離）

【００９３】ベースフィルム上への転写層（厚み１０μ
ｍ）の形成は、転写層形成用のインキ組成物をブレード
コート法により塗布し乾燥（１００℃、１０分間）する
ことにより行った。

【００９４】また、ベースフィルム上への光吸収層（厚
み５μｍ）の形成は、光吸収層形成用のインキ組成物を
ブレードコート法により塗布し乾燥（８０℃、５分間）
することにより行った。

【００９５】また、保護フィルムとしては、シリコン処
理ポリエチレンテレフタレートフィルム（東セロ（株）
製ＳＰ−ＰＥＴ−０３−２５−Ｃ）を転写層上にラミネ
ートして設けた。

【００９６】（３）電極パターンの形成 次いで、上記の各転写シート（試料１〜３）を所定の幅
にスリットし、保護フィルムを剥離した後、６０℃に加
温したガラス基板上に旭化成工業（株）製ラミネータＡ
Ｌ−７００を用いて６０℃の熱ロールで圧着した。次
に、室温まで冷却した後、プラズマディスプレイパネル
の電極のネガパターンマスク（開口部線幅１２０μｍ）
を介して紫外線（光源：超高圧水銀ランプ）を照射（５
０ｍＪ／ｃｍ² ）して転写層を露光した。

【００９７】次いで、ベースフィルムを剥離して転写層
をガラス基板に転写した。この転写工程において、層構
成Ｉの転写シートを使用した場合は、転写層のみがガラ
ス基板上に転写され、層構成IIの転写シートを使用した
場合は、転写層と光吸収層とがガラス基板上に転写され
た。

【００９８】次いで、０．５％炭酸ナトリウム水溶液を
用いて現像し、所定のパターンを得た。その後、ガラス
基板を５５０℃で焼成して、電極パターンを形成した。

【００９９】このように形成された電極パターンの厚
み、線幅を測定して、下記の表１に示した。

【０１００】

【表１】 表１に示されるように、本発明の転写シート（試料１、
２）を用いて形成した電極パターンは、厚み、線幅が均
一であり、高い精度で形成されていることが確認され
た。

【０１０１】これに対して、比較の転写シート（試料
３）を用いて形成した電極パターンは、パターンの太り
が発生して直線性の悪いものであった。

【０１０２】［実施例２］実施例１で作製した本発明の
転写シート（試料１）を使用し、ベースフィルムを剥離
せずに残した状態で紫外線の照射量を５０ｍＪ／ｃｍ²
として転写層を露光し、実施例１と同様にして電極パタ
ーンを形成した。形成した電極パターンは、厚みが４±
１μｍ、線幅が１００±５μｍで均一な高精度のパター
ンであった。

【０１０３】また、比較として、実施例１で作製した本
発明の転写シート（試料１）を使用し、保護フィルムを
剥離した後、６０℃に加温したガラス基板上に旭化成工
業（株）製ラミネータＡＬ−７００を用いて６０℃の熱
ロールで圧着した。次に、室温まで冷却した後、ベース
フィルムを剥離して転写層をガラス基板に転写した。

【０１０４】次に、プラズマディスプレイパネルの電極
のネガパターンマスク（開口部線幅１２０μｍ）を介し
て紫外線（光源：超高圧水銀ランプ）を種々の照射量で
照射して転写層の露光を行った。

【０１０５】次いで、０．５％炭酸ナトリウム水溶液を
用いて現像し、所定のパターンを得た。その後、ガラス
基板を５５０℃で焼成して、電極パターンを形成した。

【０１０６】このように形成された比較の電極パターン
の厚み、線幅を測定した結果、本発明にしたがってベー
スフィルムを剥離せずに残した状態で転写層を露光した
場合と同様の厚み、線幅が均一な電極パターンを形成す
るためには、２５０ｍＪ／ｃｍ² の照射量が必要であっ
た。このことから、本発明のパターン形成方法により、
露光に要する時間を大幅に短縮できることが確認され
た。

【０１０７】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば転
写シートは、ベースフィルム側から照射された光を透過
して転写層に到達させるが、導電性粉体を含有する転写
層等の転写シート内部での反射により生じた散乱光を、
転写シート内に含有される紫外線吸収剤や着色剤等によ
り吸収するので、散乱光がベースフィルムと他の層との
界面に沿って照射部位の外に拡散することが防止され、
これにより、転写シートの転写層を基板に圧着し、ベー
スフィルムを剥離せずに残した状態でベースフィルム側
から転写層の露光を行っても、露光パターンに忠実な高
精細な露光が可能となり、かつ、露光時に存在するベー
スフィルムが外部酸素によるラジカル捕捉を抑制するの
で、露光に要する時間が大幅に短縮でき、同時に、従
来、転写工程から露光工程までの間に発生していた転写
層へのゴミ付着が防止され、ゴミ付着による欠陥発生が
防止できるとともに、露光時に使用するフォトマスクへ
のゴミ、汚れ付着も防止でき、工程管理および効率が大
幅に向上し、高精細な電極パターンを高い精度で形成す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の転写シートの一実施形態を示す概略断
面図である。

【図２】本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略
断面図である。

【図３】本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略
断面図である。

【図４】本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略
断面図である。

【図５】プラズマディスプレイパネルの一例を示す概略
構成図である。

【図６】本発明のパターン形成方法の一実施形態を説明
するための工程図である。

【図７】本発明のパターン形成方法の他の実施形態を説
明するための工程図である。

【符号の説明】

１，１１，２１，３１…転写シート ２，１２，２２，３２…ベースフィルム ３，１３，２３，３３…転写層 ４，１４，２４，３４…保護フィルム １５，２５…光吸収層 ３６…光吸収背面層 ４１…光吸収性フィルム ５１…プラズマディスプレイパネル ６１…前面板 ７１…背面板 ７４…アドレス電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小坂 陽三 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 5C028 FF16 HH14 5C040 FA01 GA03 GB02 GG09 JA19 KA09 KA16 MA22 MA23 MA24 MA26 5E343 AA26 BB25 BB72 BB73 EE42 EE52 ER32 GG08

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ベースフィルムと、該ベースフィルムの
   一方の面に剥離可能に設けられた転写層とを備え、該転
   写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼
   成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少な
   くとも含有し、前記転写層および前記ベースフィルムの
   少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なく
   とも１種を含有することを特徴とする転写シート。
2. 【請求項２】 前記転写層は重合停止剤を含有すること
   を特徴とする請求項１に記載の転写シート。
3. 【請求項３】 ベースフィルムと、該ベースフィルムの
   一方の面に設けられた光吸収層と、該光吸収層上に剥離
   可能に形成された転写層とを備え、前記光吸収層は紫外
   線吸収剤および着色剤の少なくとも１種を含有し、前記
   転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と
   焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少
   なくとも含有することを特徴とする転写シート。
4. 【請求項４】 ベースフィルムと、該ベースフィルムの
   一方の面に剥離可能に設けられた焼成除去可能な光吸収
   層と、該光吸収層上に形成された転写層とを備え、前記
   光吸収層は紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも１種
   を含有し、前記転写層は導電性粉体とガラスフリットを
   含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む
   有機成分とを少なくとも含有することを特徴とする転写
   シート。
5. 【請求項５】 前記転写層および前記ベースフィルムの
   少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なく
   とも１種を含有することを特徴とする請求項３または請
   求項４に記載の転写シート。
6. 【請求項６】 前記転写層は重合停止剤を含有すること
   を特徴とする請求項３乃至請求項５のいずれかに記載の
   転写シート。
7. 【請求項７】 ベースフィルムの他方の面に、紫外線吸
   収剤および着色剤の少なくとも１種を含有する光吸収背
   面層を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項６の
   いずれかに記載の転写シート。
8. 【請求項８】 請求項１乃至請求項７のいずれかに記載
   の転写シートを用いて基板上に前記転写層を圧着し、ベ
   ースフィルム側から所望のパターンで前記転写層を露光
   し、その後、前記ベースフィルムを剥離して現像し、焼
   成して有機成分を除去することを特徴としたパターン形
   成方法。
9. 【請求項９】 請求項１乃至請求項６のいずれかに記載
   の転写シートを用いて基板上に前記転写層を圧着し、ベ
   ースフィルム側から紫外線吸収剤および着色剤の少なく
   とも１種を含有する光吸収性フィルムを介して所望のパ
   ターンで前記転写層を露光し、その後、前記ベースフィ
   ルムを剥離して現像し、焼成して有機成分を除去するこ
   とを特徴としたパターン形成方法。