JP2964144B2 - 病気に対して植物体を免疫性にするための方法及び組成物 - Google Patents

病気に対して植物体を免疫性にするための方法及び組成物

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は病気による攻撃に対する防御機構を植物体に
人工的に産生する方法および組成物、並びに該方法を実
施するための手段および物質に関するものである。
〔従来の技術〕
植物体は、該植物体上に寄生するバクテリア、ウィル
スおよび菌類による非常に多種類の微生物の影響に晒さ
れている。
植物保護の分野における従来の努力は、一般に例えば
栽培および肥沃化により植物体を強化すること、および
直接作用を有するセーフナー（safener）（＝殺微生物
剤）の施用により徴候のあるまたは存在する病気の攻撃
を予防するかまたは防除することに概して限られてい
た。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の底流となっている問題点は、植物体自身が病
原体による攻撃を識別し、そしてそれと戦うことができ
るように、植物体に潜在する防御機構を一般的な方法で
活性化することである。この方法は免疫化と呼んで良い
であろう。
本発明に従って植物体における病気を防除する問題の
解決は、病原性の微生物学的影響に対する植物体自身の
防御機構の人工的化学的活性化にある。ただ一回の化学
的施用でさえも数週間ないし数ケ月間続くある種の病原
体に対する延長された耐性を産生することができる。そ
れ故に病気を防除する慣用的方法に関する基本的な相違
は、それら自身の殺微生物作用をもたないが、しかし微
生物の感染に対してそれ自身を防御する植物体の能力を
刺激し、そしてそれらの低い施用率の結果として植物体
自身またはそれらの作付地を害しない物質の使用にあ
る。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は下記式Ｉで表わされる７−シアノ−1,2,3−
ベンゾチアジアゾール誘導体または1,2,3−ベンゾチア
ジアゾール−７−カルボン酸の誘導体の少量を保護され
るべき植物体、植物体の部分またはそれらの作付地に施
用することを特徴とする病気による攻撃に対して植物体
を免疫性にする方法に関する。
上記式Ｉにおいて、 Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル
基、メトキシ基、HOOC基またはMOOC基を表わし、 Ｙは水素原子、ハロゲン原子、SO3H基、 SO3M基、ニトロ基、ヒドロキシ基またはアミノ基を表わ
し、 Ｍは相当する塩基または塩基性化合物から形成される
モル当量のアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属
イオンを表わし、そして Ｚはシアノ基または−CO−Ａ （式中、Ａは水素原子がモル当量の無機もしくは有機
カチオン残基により置換されても良い−OHまたは−SHの
いずれかを表わすか、または Ａは900より低い分子量を有し、そして１個もしくは
１個より多い異原子を含有しても良いあらゆるその他の
有機残基を表わす。）で表わされる基を表わす。
上記式Ｉで表わされる1,2,3−ベンゾチアジアゾール
−７−カルボン酸およびその塩を含むＸおよびＹは、植
物体に病原体に対する防御機構を誘発する主要な活性素
因（active principle）を実質的に構成する。また、植
物代謝において７−カルボン酸への変換およびその逆の
変換を受け得る式Ｉによるカバーされる７−シアノ化合
物も包含する。置換基Ａにより与えられる生物学的有効
性への寄与はより重要性が低いであろうことは容易に理
解されるであろう。従って、置換基Ａの幅広く異なる構
造の変化にもかかわらず、実質的に等価な生物学的応答
は式Ｉで表わされる化合物で誘導されるであろう。
しかしながら、置換基Ａは７−置換1,2,3−ベンゾチ
アジアゾールの活性素因をあまり強く妨げるべきでな
い。
好ましい置換基Ａはそれ故に600より低い分子量を有
するカチオン残基またはあらゆるその他の有機残基であ
るが、400より低い分子量の物が特に好ましい。
７−シアノ化合物の中で、式Ｉ中Ｘが水素原子、ハロ
ゲン原子またはメチル基を表わし、そしてＹが水素原子
またはハロゲン原子を表わすものが好ましい。
本発明の重要な目的は次式I: で表わされる化合物、相当する植物保護組成物およびそ
れらの施用のための方法を提供することである。
上記式Ｉにおいて、 Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル
基、メトキシ基、HOOC基またはMOOC基を表わし、 Ｙは水素原子、ハロゲン原子、SO3H基、SO3M基、ニト
ロ基、ヒドロキシ基またはアミノ基を表わし、 Ｍは相当する塩基または塩基性化合物から形成される
モル当量のアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属
イオンを表わし、 そしてＺはシアノ基または−CO−Ａで表わされる基を
表わし、ＡはUR,N（R1）R2またはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4
で表わされる基を表わし、Ｍは相当する塩基または塩基
性化合物から形成されたモル当量のアルカリ金属イオン
またはアルカリ土類金属イオンを表わし、 Ｕは酸素原子または硫黄原子を表わし、 U1は酸素原子または−Ｎ（R5）−で表わされる基を表
わし、 Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、Ｕ
−炭素原子数１ないし３のアルキル基もしくは炭素原子
数２ないし４のジアルキルアミノ基により置換されるか
またはCO基により中断された炭素原子数１ないし８のア
ルキル基、（Ｔ）−COOHもしくは（Ｔ）−COO炭素原子
数１ないし４のアルキル基、炭素原子数３ないし６のア
ルケニル基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数３な
いし６のアルケニル基、炭素原子数３ないし６のアルキ
ニル基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数３ないし
６のアルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし８の
シクロアルキル基を表わすか、または以下の式： （Ｔ）n−Si（炭素原子数１ないし８のアルキル）3， （炭素原子数１ないし４のアルキル）， および（Ｔ）ｎ−Ｗ から選択される基を表わし、 Xa，XbおよびXcの各々はお互いに独立して水素原子、
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、HOOC基、MOOC
基、炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基、炭素原
子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４の
アルコキシ基、ハロゲン原子特に弗素原子を５個まで有
する炭素原子数１または２のハロアルキル基を表わす
か、または Xaはハロゲン原子を５個まで有する炭素原子数１また
は２のハロアルコキシ基、ニトロ基、ジメチルアミノ
基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ス
ルファモイル基を表わし、そしてXbおよびXcは両方とも
水素原子を表わすか、または Xaはフェニル基、フェノキシ基またはベンジルオキシ
基を表わし、そしてXbはハロゲン原子またはメチル基を
表わし、そしてXcは水素原子を表わすか、または Xa，XbおよびXcは一緒に４または５個の弗素原子を表
わし、 naphtは非置換またはハロゲン原子、メチル基、メト
キシ基もしくはニトロ基により置換されたナフチル基を
表わし、 Ｗは非置換またはハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、炭素原子数１もしくは２のアルキル基も
しくは炭素原子数１もしくは２のアルコキシカルボニル
−炭素原子数２ないし４のアルキレンアミノ（イミノ）
基により置換され、群O,NおよびＳからの１ないし３個
の異原子を有する５ないし７員の飽和または不飽和複素
環式基を表わすか、またはモノサッカリド基を表わし、 Ｔは−CH2−，−CH2CH2−，−CH（CH3）−，−CCH
3（CH3）−，−CH2CH2CH2−または−CH2CH2O−で表わさ
れる橋を表わし、 R1は水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基、
酸素原子または硫黄原子により中断された炭素原子数１
ないし５のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、HOOC
基または炭素原子数１もしくは２のアルキル−OOC基に
より置換された炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸
素原子もしくは硫黄原子により中断されそしてハロゲン
原子、シアノ基、HOOC基もしくは炭素原子数１もしくは
２のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数１な
いし５のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニ
ル基、炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基により
置換された炭素数３ないし５のアルケニル基、炭素原子
数３ないし５のアルキニル基、炭素原子数１ないし３の
アルキル−OOC基により置換された炭素原子数３ないし
５のアルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし６の
シクロアルキル基、炭素原子数１ないし３のアルキル−
OOC基により置換された（Ｔ）n−炭素原子数３ないし６
のシクロアルキル基、（Ｔ）n−フェニル基、またはフ
ェニル部分においてハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチ
ル基、メトキシ基、CF3基、シアノ基、HOOC基もしくはM
OOC基により置換された（Ｔ）n−フェニル基を表わし、 R2は水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし３
のアルキル基、シアノ基もしくは炭素原子数１ないし３
のアルコキシ基により置換された炭素原子数１ないし３
のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、
異原子としてO,NもしくはＳを含有する３ないし６員の
飽和もしくは不飽和複素環式基を表わすか、または R1およびR2は一緒になって複素環式基Ｗを表わし、 R3は水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のア
ルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
メチル基、メトキシ基、HOOC基もしくはMOOC基により置
換されたフェニル基、または複素環式基Ｗを表わし、 R4は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、
CONH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキ
ル基、炭素原子数１ないし３のアルカノイル基、ハロゲ
ン原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基に
より置換された炭素原子数１ないし３のアルカノイル
基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基またはハロ
ゲン原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基
により置換された炭素原子数３ないし５のアルケノイル
基を表わすか、または R3およびR4は一緒になって複素環式基Ｗまたは炭素環
式基Ｗ′を表わし、 Ｗ′は３ないし７個の環炭素原子を有する炭素環式基
を表わし、 R5は水素原子またはメチル基を表わし、 R6は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル
基を表わし、そして ｎは０または１を表わし、 そして式Ｉで表わされる化合物中、有機基Ａは900よ
り低い分子量を有し、そして式Ｉ中Ｕが酸素原子または
硫黄原子を表わす場合には、第一、第二もしくは第三ア
ミンとのまたは無機塩基との植物生理学的に許容性の７
−カルボン酸の塩が含有される。
本発明に係る方法のための有効成分の特別な群は、上
記式Ｉ中、 Ｘが水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル
基、メトキシ基、HOOC基またはMOOC基を表わし、 Ｙが水素原子、ハロゲン原子、SO3H基、 SO3M基、ニトロ基、ヒドロキシ基またはアミノ基を表わ
し、 Ｚがシアノ基または−CO−Ａで表わされる基を表わ
し、ＡがUR,N（R1）R2またはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4で表
わされる基を表わし、Ｍが相当する塩基または塩基性化
合物から形成されたモル当量のアルカリ金属イオンまた
はアルカリ土類金属イオンを表わし、 Ｕが酸素原子または硫黄原子を表わし、 U1が酸素原子または−Ｎ（R5）−で表わされる基を表
わし、 Ｒが水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基もしくはＵ−炭素原子数１ないし３のアルキ
ル基により置換された炭素原子数１ないし８のアルキル
基または（Ｔ）−COOHもしくは（Ｔ）−COO炭素原子数
１ないし４のアルキル基、炭素原子数２ないし６のアル
ケニル基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数３ない
し６のアルケニル基、炭素原子数３ないし６のアルキニ
ル基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数３ないし６
のアルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし８のシ
クロアルキル基を表わすか、または以下の式： （Ｔ）n−ナフチル， （Ｔ）n−Si（炭素原子数１ないし８のアルキル）3， （炭素原子数１ないし４のアルキル）， および（Ｔ）n−Ｗ から選択される基を表わし、 Ｗが非置換またはハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、炭素原子数１もしくは２のアルキル基も
しくは炭素原子数１もしくは２のアルコキシカルボニル
−炭素原子数２ないし４のアルキレンアミノ基により置
換された群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を
有する５ないし７員の飽和または不飽和複素環式基を表
わし、 Ｔが−CH2−，−CH2CH2−，−CH（CH3）−または−CC
H3（CH3）−で表わされる橋を表わし、 R1は水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基、
酸素原子または硫黄原子により中断された炭素原子数１
ないし５のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、HOOC
基、または炭素原子数１もしくは２のアルキル−OOC基
により置換された炭素原子数１ないし５のアルキル基、
酸素原子もしくは硫黄原子により中断されそしてハロゲ
ン原子、シアノ基、HOOC基もしくは炭素原子数１もしく
は２のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数１
ないし５のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケ
ニル基、炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基によ
り置換された炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭
素原子数３ないし５のアルキニル基、炭素原子数１ない
し３のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数３
ないし５のアルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ない
し６のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし３のアル
キル−OOC基により置換された（Ｔ）n−炭素原子数３な
いし６のシクロアルキル基、（Ｔ）n−フェニル基、ま
たはフェニル部分においてハロゲン原子、ヒドロキシ
基、メチル基、メトキシ基、CF3基、シアノ基、HOOC基
もしくはMOOC基により置換された（Ｔ）n−フェニル基
を表わし、 R2は水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし３
のアルキル基、シアノ基もしくは炭素原子数１ないし３
のアルコキシ基により置換された炭素原子数１ないし３
のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、
異原子としてO,NもしくはＳを含有する３ないし６員の
飽和もしくは不飽和複素環式基を表わすか、または R1およびR2は一緒になって複素環式基Ｗを表わし、 R3は水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のア
ルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
メチル基、メトキシ基、HOOC基もしくはMOOC基により置
換されたフェニル基、または複素環式基Ｗを表わし、 R4は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、
CONH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキ
ル基、炭素原子数１ないし３のアルカノイル基、ハロゲ
ン原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基に
より置換された炭素原子数１ないし３のアルカノイル
基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基またはハロ
ゲン原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基
により置換された炭素原子数３ないし５のアルケノイル
基を表わすか、または R3およびR4は一緒になって複素環式基Ｗまたは炭素環
式基Ｗ′を表わし、 Ｗ′は３ないし７個の環炭素原子を有する炭素環式基
を表わし、 R5は水素原子またはメチル基を表わし、 R6は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル
基を表わし、そして ｎは０または１を表わす化合物からなり、そして第
一、第二および第三アミンとの７−カルボン酸および７
−チオカルボン酸の植物生理学的許容性の塩も含まれ
る。
本発明は、有効成分として式Ｉで表わされる化合物を
含有する植物の病気に対する使用のための組成物にも関
する。本発明はまた前記組成物の製造および新規である
それら有効成分の製造にも関する。本発明はまた植物病
原性微生物例えば菌類、バクテリアおよびウイルスによ
る攻撃に対して植物体を保護するための有効成分または
組成物の使用にも関する。
上記のように式Ｉで表わされる化合物は、病原体に対
して直接作用を有する通常の認識における殺微生物剤で
はないが、しかし以下に示され得るように植物体の不存
下で（＝試験管内で）そのような病原体に対して原理的
には効果がない。それにもかかわらずそのような直接の
殺微生物作用を時おり生じる時には、それは一般にその
ような二次的作用を付加する分子内のある種の構造要素
により生じた付加的作用であるが、しかし存在する免疫
化効果を置き代えるものではない。
免疫化作用を引き起こす原理は、酸機能により７位で
置換された式Ｉで表わされる特定の塩基性1,2,3−ベン
ゾチアジアゾール構造に実質的に基づいており、一方植
物体およびそれらの代謝を通り抜ける1,2,3−ベンゾチ
アジアゾール誘導体の能力は、Ａおよび７−酸の塩で規
定された基に依存している〔賦形剤機能（vehicle func
tion）〕。
それ故にそれらの免疫化能力に関する好ましい式Ｉで
表わされる化合物は、有機基Ａが600より低い分子量、
そしてさらに好ましくは400より低い分子量を有するも
のである。Ｚ＝CNを有する化合物もまた好ましい。
特定の変形において、植物免疫化のために好ましい式
Ｉで表わされる化合物は、置換基Ｚがシアノ基を表わす
か、または基Ａの分子量が式Ｉで表わされる全体の分子
の分子量の5.0％ないし85％、好ましくは7.8ないし60％
を構成するものである。
式Ｉで表わされるそのような免疫化剤の施用比率は1k
g有効成分／ヘクタール、好ましくは500g有効成分／ヘ
クタール、そしてさらに好ましくは50ないし300g有効成
分／ヘクタールより低い。
「異原子」の語はまたN,OおよびＳ以外の原子、例え
ばSiまたはＰをも含む。
Ｍ−OOCもとのための適当なカチオン基は、金属原子
または有機塩基である。アルカリ金属およびアルカリ土
類金属が金属原子として有利であるが、しかしその他の
あらゆるものも考慮に入れて良い。適当な有機塩基は特
に脂肪族、芳香族、芳香脂肪族および／または脂環式基
を有するアミンである。
それ自身またはもう一つの置換基の構成要素としての
ハロゲン原子は、弗素原子、塩素原子、臭素原子または
沃素原子、好ましくは弗素原子、塩素原子または臭素原
子である。
それ自身またはもう一つの置換基の構成沃素としての
アルキル基は、直鎖または枝分れアルキル基を意味する
として理解される。示された炭素原子の数に応じて、そ
れらは例えば下記の群：メチル基、エチル基、およびプ
ロピル基、ブチル基、ベンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基またはオクチル基の異性体、例えばイソプロピル
基、イソブチル基、第三ブチル基、第二ブチル基または
イソベンチル基である。シクロアルキル基は例えばシク
ロプロピル基、シクロブチル基、シクロベンチル基また
はシクロへキシル基である。
アルケニル基は例えばプロペニ−１−イル基、ブテニ
−１−イル基、ブテニ−２−イル基またはブテニ−３−
イル基および種々の二重結合を有する鎖である。アルキ
ニル基は例えばプロピニル−２−イル基、ブチニ−１−
イル基、ブチニ−２−イル基、ベンチニ−４−イル基−
その他であり、プロパルギル基が好ましい。
適当な塩基または塩基性を有する化合物は無機塩基ま
たは塩基形成剤であり、例えばアルカリ金属およびアル
カリ土類金属の水酸化物、炭酸塩および炭酸水素塩、好
ましくはLiOH,NaOH,KOH,Mg（OH）2またはCa(OH)2；そし
てまたNaHCO3，KHCO3，Na2CO3およびK2CO3である。
複素環は、例えばフラン、テトラヒドロフラン、チオ
フェン、テトラヒドロピラン、ピロール、ピロリジン、
イミダゾール、1,2,4−トリアゾール、ピペリジン、ピ
リジン、ピリミジン、モルホリンまたはアザシクロヘプ
タンであると理解すべきである。それらは特にフラニ−
２−イル、テトラヒドロフラニ−２−イル、テトラヒド
ロフラニ−３−イル、テトラヒドロピラニ−２−イル、
1,3−ジオキソラニ−５−イル、ピロリ−１−イル、ピ
ロリ−２−イル、ピロリジニ−１−イル、イソキサゾリ
−３−イル、イソキサゾリ−４−イル、1,2−ジチアゾ
リニ−５−イル、イミダゾリニ−１−イル、1,2,4−ト
リアゾリ−１−イル、1,3,4−トリアゾリ−１−イル、
チオフェニ−２−イル、ピペリジニ−１−イル、ピペリ
ジニ−４−イル、ピリジニ−２−イル、ピリジニ−３−
イル、ピリジニ−４−イル、ピリミジニ−２−イル、ピ
リミジニ−４−イル、ピリミジニ−５−イル、モルホリ
ニ−１−イル、アザシクロヘプタニ−１−イルまたはベ
ンゾ−1,2,3−チアジアゾリ−７′−イルである。
塩形成アミンは、例えば以下のもの：トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、トリベンジルアミン、トリシクロヘキシルア
ミン、トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、N,N−
ジメチルアニリン、N,N−ジメチルトルイジン、N,N−ジ
メチル−ｐ−アミノピリジン、Ｎ−メチルピロリジン、
Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メ
チルイミダゾール、Ｎ−メチルピロール、Ｎ−メチルモ
ルホリン、Ｎ−メチルヘキサメチレンイミン、ピリジ
ン、キノリン、α−ピコリン、β−ピコリン、イソキノ
リン、ピリミジン、アクリジン、N,N,N′,N′−テトラ
メチルエチレンジアミン、N,N,N′,N′−テトラエチル
エチレンジアミン、キノキサリン、Ｎ−プロピルジイソ
プロピルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミ
ン、2,6−ルチジン、2,4−ルチジン、トリエチレンジア
ミンおよびモルホリンタイプの複素環式アミンとして見
なされるべきである。
モノサッカリド基は、例えばグルコフラノシル基、ガ
ラクトピラノシル基、アロフラノシル基またはマンニチ
ル基、遊離であるかまたはメチル基、ベンジル基もしく
はイソプロピリデニル基によりアセチル化もしくはエー
テル化されたOH基であると理解されるべきである。記載
された基のうち、ジイソプロピリデニル基誘導体が好ま
しく、これらのうち順に下記の基が特に好ましい：ジア
セトン−Ｄ−グルコシジル基、1,2,3,4−ジ−Ｏ−イソ
プロピリデン−Ｄ−ガラクトピラノシ−６−イル基、1,
2,5,6−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−Ｄ−マンニチ−３
−イル基、1,2,5,6−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−？−
アロフラノシ−３−イル基、Ｄ−グルコフラノシ−３−
イル基、Ｄ−ガラクト−ピラノシ−６−イル基、Ｄ−マ
ンニチ−３−イル基、Ｄ−アロフラノシ−４−イル基、
マンノピラノシ−１−イル基、２−メチル−Ｄ−グルコ
シジ−６−イル基、1,2,5,6−テトラアセチル−Ｄ−ガ
ラクトピラノシ−３−イル基および2,3,5−トリベンジ
ルリボフラノシ−１−イル基。
植物病原性微生物による攻撃に対するそれらの顕著な
保護特性の結果として、好ましい有効成分は構造が下記
の置換基またはこれらのお互いの組合せを有する化合物
である： ＸおよびＹが水素原子を表わし、 Ｚがシアノ基またはCOAで表わされる基を表わし、 ＡがURまたはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4で表わされる基を
表わし、 Ｕが酸素原子を表わし、 U1が酸素原子または−Ｎ（R5）−で表わされる基を表
わし、 Ｒが水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
ハロゲン原子または炭素原子数１ないし３のアルコキシ
基により置換された炭素原子数１ないし８のアルキル
基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、ハロゲン原
子で置換された炭素原子数３ないし６のアルケニル基、
炭素原子３ないし６のアルキニル基、ハロゲン原子で置
換された炭素原子数３ないし６のアルキニル基、（Ｔ）
n−炭素原子数３ないし８のシクロアルキル基、ベンジ
ル基、ハロゲン化ベンジル基、メトキシベンジル基、
（Ｔ）n−Si（CH3）3，（Ｔ）−Ｐ（Ｏ）（炭素原子数
１ないし４のアルキル）CH3，（Ｔ）−Ｐ（Ｏ）（０炭
素原子数１ないし４のアルキル）2または（Ｔ）n−Ｗで
表わされる基を表わし、 Ｗが群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を有
する５ないし７員の飽和または不飽和非置換複素環式基
を表わすか、またはジアセトン−Ｄ−グルコシジル基を
表わし、 Ｔが−CH2−，−CH2CH2−，−CH（CH3）−， −CCH3（CH3）−または−CH2CH2CH2−で表わされる橋を
表わし、 R3が水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のア
ルキル基、フェニル基または複素環式基Ｗを表わし、 R4が水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、
CONH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキ
ル基、炭素原子数１ないし３のアルカノイル基または炭
素原子数２ないし５のアルケノイル基を表わすか、また
は R3およびR4が一緒になって複素環式基Ｗまたは炭素環
式基Ｗ′を表わし、 Ｗが群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を有
する５ないし７員の飽和または不飽和複素環式基を表わ
し、 Ｗ′が群： からの基を表わし、そして ｎが０または１を表わす。
植物病原性微生物に対する好ましい殺微生物作用を有
する有効成分の特別な群は、下記の置換基またはそれら
のお互いの組合せを有する化合物からなる： ＸおよびＹが水素原子を表わし、 Ｚがシアノ基またはCOAで表わされる基を表わし、 ＡがURまたはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4で表わされる基を
表わし、 Ｕが酸素原子を表わし、 U1が酸素原子または−Ｎ（R5）−で表わされる基を表
わし Ｒが水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
ハロゲン原子または炭素原子数１ないし３のアルコキシ
基により置換された炭素原子数１ないし８のアルキル
基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、ハロゲン原
子で置換された炭素原子数３ないし６のアルケニル基、
炭素原子数３ないし６のアルキニル基、ハロゲン原子で
置換された炭素原子数３ないし６のアルキニル基、
（Ｔ）n−炭素原子数３ないし８のシクロアルキル基、
ベンジル基、ハロゲン化ベンジル基、（Ｔ）nSi（CH3）
3，（Ｔ）−Ｐ（Ｏ）（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）CH3，（Ｔ）−Ｐ（Ｏ）（０炭素原子数１ないし４
のアルキル）2または（Ｔ）n−Ｗで表わされる基を表わ
し、 Ｗが群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を有
する５ないし７員の飽和または不飽和非置換複素環式基
を表わすか、またはジアセトン−Ｄ−グルコシジル基を
表わし、 Ｔが−CH2−，−CH2CH2−，−CH（CH3）−，または−
CCH3（CH3）−で表わされる橋を表わし、 R3が水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のア
ルキル基、フェニル基または複素環式基Ｗを表わし、 R4が水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、
CONH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキ
ル基、炭素原子数１ないし３のアルカノイル基または炭
素原子数３ないし５のアルケノイル基を表わすか、また
は R3およびR4が一緒になって複素環式基ＷまたはＷ′を
表わし、 Ｗが群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を有
する５ないし７員の飽和または不飽和複素環式基を表わ
し、 Ｗ′が群： からの基を表わし、そして ｎが０または１を表わす。
式Ｉの範囲内に収まる化合物のほとんどが新規であ
り、その他は公知である。例えば西ドイツ国特許公開第
1695786号公報およびフランス国特許第1541415号明細書
は、除草剤、殺虫剤およらび殺菌剤組成物中の使用のた
めの殺生物有効成分として一般的な形態にあるいくつか
の化合物を開示している。しかしながら、本発明の式Ｉ
の範囲内に収まるこれらの公知の個個の化合物は殺菌有
効性を有するとしてはっきりと記載されてはいない。さ
らにベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸
は、J.Chem.Soc.（Ｃ）1971,3997から公知であるが，し
かし生物学的特性の詳細は与えられていない。
本発明の新規化合物は以下の群において明示される。
次式Ｉ′： （式中、 Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル
基、メトキシ基、HOOC基またはMOOC基を表わし、 Ｙは水素原子、ハロゲン原子、SO3H基、SO3M基、ニト
ロ基、ヒドロキシ基またはアミノ基を表わし、 Ｚはシアノ基または−CO−Ａで表わされる基を表わ
し、 ＡはUR,N（R1）R2またはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4で表わ
される基を表わし、 Ｍは相当する塩基または塩基性化合物から形成された
モル当量のアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属
イオンを表わし、 Ｕは酸素原子または硫黄原子を表わし、 U1は酸素原子または−Ｎ（R5）−で表わされる基を表
わし、 Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基もし
くはＵ−炭素原子数１ないし３のアルキル基により置換
された炭素原子数１ないし８のアルキル基、（Ｔ）−CO
OHもしくは（Ｔ）−COO炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、ハロゲン
原子で置換された炭素原子数３ないし６のアルケニル
基、炭素原子数３ないし６のアルキニル基、ハロゲン原
子で置換された炭素原子数３ないし６のアルキニル基、
（Ｔ）n−炭素原子数３ないし８のシクロアルキル基を
表わすか、または以下の式： （Ｔ）n−napht, （Ｔ）n−Si（炭素原子数１ないし８のアルキル）3， （炭素原子数１ないし４のアルキル）， および（Ｔ）n−Ｗ から選択される基を表わし、 Xa，XbおよびXcの各々はお互いに独立して水素原子、
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、HOOC基、MOOC
基、炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基、炭素原
子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４の
アルコキシ基、ハロゲン原子特に弗素原子を５個まで有
する炭素原子数１または２のハロアルキル基を表わす
か、または Xaはハロゲン原子を５個まで有する炭素原子数１また
は２のハロアルコキシ基、ニトロ基、ジメチルアミノ
基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ま
たはスルファモイルオキシ基を表わし、そしてXbおよび
Xcは両方とも水素原子を表わすか、または Xaはフェニル基、フェノキシ基またはベンジルオキシ
基を表わし、そしてXbはハロゲン原子またはメチル基を
表わし、そしてXcは水素原子を表わすか、または Xa，XbおよびXcは一緒に４または５個の弗素原子を表
わし、 naphtは非置換またはハロゲン原子、メチル基、メト
キシ基もしくはニトロ基により置換されたナフチル基を
表わし、 Ｗは非置換またはハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、炭素原子数１もしくは２のアルキル基も
しくは炭素原子数１もしくは２のアルコキシカルボニル
−炭素原子数２ないし４のアルキレンイミノ基により置
換され、群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を
有する５ないし７員の飽和または不飽和複素環式基を表
わすか、またはモノサッカリド基を表わし、 Ｔは−CH2−，−CH2CH2−,CH（CH3）−，−CH2CH2CH2
−または−CH2CH2O−で表わされる橋を表わし、 R1は水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基、
酸素原子または硫黄原子により中断された炭素原子数１
ないし５のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、HOOC
基または炭素原子数１もしくは２のアルキル−OOC基に
より置換された炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸
素原子もしくは硫黄原子により中断されそしてハロゲン
原子、シアノ基、HOOC基もしくは炭素原子数１もしくは
２のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数１な
いし５のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニ
ル基、炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基により
置換された炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素
原子数３ないし５のアルキニル基、炭素原子数１ないし
３のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数３な
いし５のアルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし
６のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし３のアルキ
ル−OOC基により置換された（Ｔ）n−炭素原子数３ない
し６のシクロアルキル基、（Ｔ）n−フェニル基、また
はフェニル部分においてハロゲン原子、ヒドロキシ基、
メチル基、CF3基、シアノ基、メトキシ基、HOOC基もし
くはMOOC基により置換された（Ｔ）n−フェニル基を表
わし、 R2は水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし３
のアルキル基、シアノ基もしくは炭素原子数１ないし３
のアルコキシ基により置換された炭素原子数１ないし３
のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基ま
たは異原子としてO,NもしくはＳを含有する３ないし６
員の飽和もしくは不飽和複素環式基を表わすか、または R1およびR2は一緒になって複素環式基Ｗを表わし、 R3は水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のア
ルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
メチル基、メトキシ基、HOOC基もしくはMOOC基により置
換されたフェニル基、または複素環式基Ｗを表わし、 R4は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、
CONH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキ
ル基、炭素原子数１ないし６のアルカノイル基、ハロゲ
ン原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基に
より置換された炭素原子数１ないし３のアルカノイル
基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基またはハロ
ゲン原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基
により置換された炭素原子数３ないし５のアルケノイル
基を表わすか、または R3およびR4は一緒になって複素環式基Ｗまたは炭素環
式基Ｗ′を表わし、 Ｗ′は３ないし７個の環炭素原子を有する炭素環式基
を表わし、 R5は水素原子またはメチル基を表わし、 R6は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル
基を表わし、そして ｎは０または１を表わす。）で表わされる化合物； ただし、１）以下の化合物： ７−シアノベンゾ−1,2,3−チアジアゾール； ４−クロロ−７−シアノべンゾ−1,2,3−チアジアゾ
ール； 4,6−ジブロモ−７−シアノベンゾ−1,2,3−チアジア
ゾール； ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸； ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸メ
チルエステル；は除いて、また ２）但し、Ｚがシアノ基、HOOC基またはメトキシカルボ
ニル基を表わす場合、ＸおよびＹの各々はお互いに独立
して、水素原子、塩素原子または臭素原子を表わさな
い；また ３）但し、Ｚがシアノ基、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基またはHOOC基を表わす場合、Ｘは水素
原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル基、または
メトキシ基を表わさず；そしてＹは水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基またはアミノ基を表わさない；また ４）但し、Ｚがシアノ基、炭素原子数１ないし４のアル
コキシカルボニル基またはHOOC基を表わす場合、Ｘは水
素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル基または
メトキシ基を表わさず、そしてＹは水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基またはアミノ基を表わさない。
新規な有効成分の特別な群は、上記式Ｉ′中、Ｘは水
素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル基、メト
キシ基、HOOC基またはMOOC基を表わし、 Ｙは水素原子、ハロゲン原子、SO3H基、SO3M基、ニト
ロ基、ヒドロキシ基またはアミノ基を表わし、 Ｚはシアノ基または−CO−Ａで表わされる基を表わ
し、 ＡはUR,N（R1）R2またはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4で表わ
される基を表わし、 Ｍは相当する塩基または塩基性化合物から形成された
モル当量のアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属
イオンを表わし、 Ｕは酸素原子または硫黄原子を表わし、 U1は酸素原子または−Ｎ（R5）−で表わされる基を表
わし、 Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基もしくはＵ−炭素原子数１ないし３のアルキ
ル基により置換された炭素原子数１ないし８のアルキル
基、（Ｔ）−COOHもしくは（Ｔ）−COO炭素原子数１な
いし４のアルキル基、炭素原子数２ないし６のアルケニ
ル基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数３ないし６
のアルケニル基、炭素原子数３ないし６のアルキニル
基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数３ないし６の
アルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし８のシク
ロアルキル基を表わすか、または以下の式： （Ｔ）n−ナフチル， （Ｔ）n−Si（炭素原子数１ないし８のアルキル）3， （炭素原子数１ないし４のアルキル）， および（Ｔ）n−Ｗ から選択される基を表わし、 Ｗは非置換またはハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、炭素原子数１もしくは２のアルキル基も
しくは炭素原子数１もしくは２のアルコキシカルボニル
−炭素原子数２ないし４のアルキレンイミノ基により置
換され、群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を
有する５ないし７員の飽和または不飽和複素環式基を表
わすか、またはモノサッカリド基を表わし、 Ｔは−CH2−，−CH2CH2−または−CH（CH3）−で表わ
される橋を表わし、 R1は水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基、
酸素原子または硫黄原子により中断された炭素原子数１
ないし５のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、HOOC
基または炭素原子数１もしくは２のアルキル−OOC基に
より置換された炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸
素原子もしくは硫黄原子により中断されそしてハロゲン
原子、シアノ基、HOOC基もしくは炭素原子数１もしくは
２のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数１な
いし５のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニ
ル基、炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基により
置換された炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素
原子数３ないし５のアルキニル基、炭素原子数１ないし
３のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数３な
いし５のアルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし
６のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし３のアルキ
ル−OOC基により置換された（Ｔ）n−炭素原子数３ない
し６のシクロアルキル基、（Ｔ）n−フェニル基、また
はフェニル部分においてハロゲン原子、ヒドロキシ基、
メチル基、CF3基、シアノ基、メトキシ基、HOOC基もし
くはMOOC基により置換された（Ｔ）n−フェニル基を表
わし、 R2は水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし３
のアルキル基、シアノ基もしくは炭素原子数１ないし３
のアルコキシ基により置換された炭素原子数１ないし３
のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基ま
たは異原子としてO,NもしくはＳを含有する３ないし６
員の飽和もしくは不飽和複素環式基を表わすか、または R1およびR2は一緒になって複素環式基Ｗを表わし、 R3は水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のア
ルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
メチル基、メトキシ基、HOOC基もしくはMOOC基により置
換されたフェニル基、または複素環式基Ｗを表わし、 R4は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、
CONH2基、CONH−CONH−−炭素原子数１ないし３のアル
キル基、炭素原子数１ないし３のアルカノイル基、ハロ
ゲン原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基
により置換された炭素原子数１ないし３のアルカノイル
基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基またはハロ
ゲン原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基
により置換された炭素原子数３ないし５のアルケノイル
基を表わすか、または R3およびR4は一緒になって複素環式基Ｗまたは炭素環
式環Ｗ′を表わし、 Ｗ′は３ないし７個の環炭素原子を有する炭素環式基
を表わし、 R5は水素原子またはメチル基を表わし、 R6は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル
基を表わし、そして ｎは０または１を表わすが、但し 以下の化合物： ７−シアノベンゾ−1,2,3−チアジアゾール； ４−クロロ−７−シアノベンゾ−1,2,3−チアジアゾ
ール； 4,6−ジブロモ−７−シアノベンゾ−1,2,3−チアジア
ゾール； ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸； ベンゾ1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸メチ
ルエステル；は除く。
以下の化合物はそれらの優れた生物学的有効性のため
に有効成分として好ましい： 群Ａ（公知化合物） ７−カルボン酸−ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール
（化合物1.1）： ７−メトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジアゾ
ール（化合物1.2）。
群B1（新規化合物） ７−エトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジアゾ
ール（化合物1.3）： ７−ｎ−ブロポキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チア
ジアゾール（化合物1.4）； ７−イソプロポキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チア
ジアゾール（化合物1.5）； ７−ｎ−ブトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジ
アゾール（化合物1.6）； ７−第２ブトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジ
アゾール（化合物1.7）； ７−第３ブトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジ
アゾール（化合物1.8） ７−シクロプロピルメトキシカルボニルベンゾ−1,2,
3−チアジアゾール（化合物1.28）； ７−（２′−フェンエトキシカルボニル）−ベンゾ−
1,2,3−チアジアゾール（化合物1.33）； ７−ベンジルオキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チア
ジアゾール（化合物1.34）； ７−アリルオキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジ
アゾール（化合物1.44）； ７−プロピニ−２−イルオキシカルボニルベンゾ−1,
2,3−チアジアゾール（化合物1.46）； Ｎ−エチルアミノカルボニル−２−シアノ−２−オキ
シイミノカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジアゾリ−７
−イルアセトアミド（化合物1.78）； ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸の
ナトリウム塩（化合物1.112）； ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸の
カリウム塩（化合物1.113）； ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸の
トリエチルアンモニウム塩（化合物1.114）； ７−（１−フェンエトキシカルボニル）−ベンゾ−1,
2,3−チアジアゾール（化合物1.119）； ７−（１−ナフチルメトキシカルボニル）−ベンゾ−
1,2,3−チアジアゾール（化合物1.116）； ７−（メチルチオカルボニル）−ベンゾ−1,2,3−チ
アジアゾール（化合物2.1）； ７−（エチルチオカルボニル）−ベンゾ−1,2,3−チ
アジアゾール（化合物2.2）； ７−（ベンジルチオカルボニル）−ベンゾ−1,2,3−
チアジアゾール（化合物2.5）； ７−〔（ジシアノメチル）−アミノカルボニル〕−ベ
ンゾ−1,2,3−チアジアゾール（化合物3.13）； １−アミノ−Ｎ−〔（1,2,3−チアジアゾール−２−
イル）−（Ｎ−ベンゾ−1,2,3−チアジアゾイル）〕−
２−メトキシカルボニル−１−プロベン（化合物3.2
8）； １−アミノ−Ｎ−〔（1,3,4−チアジアゾリ−２−イ
ル）−（Ｎ−ベンゾ−1,2,3−チアジアゾイル）〕−２
−メトキシカルボニル−１−ブテン（化合物3.29）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボ
ニル）−２−（α−メチルプロピリデン）−ヒドラジン
（化合物4.2）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボ
ニル）−２−（シクロブチリデン）−ヒドラジン（化合
物4.8）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボ
ニル）−２−（シクロベンチリデン）−ヒドラジン（化
合物4.9）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボ
ニル）−２−（シクロへキシリデン−ヒドラジン（化合
物4.10）； ２−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボ
ニル）−１−（２′第２ブチル）−ヒドラジン（化合物
5.2）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボ
ニル）−２−（シクロベンチル）−ヒドラジン（化合物
5.7）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボ
ニル）−２−（シクロヘキシル）−ヒドラジン（化合物
5.8）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−カルボニ
ル）−２−（シクロヘプチル）−ヒドラジン（化合物5.
9）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボ
ニル）−1,2−ジアセチルヒドラジン（化合物6.7）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボ
ニル）−２−フェニルヒドラジン（化合物6.8）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボニ
ル）−２−ピリジニ−２′−イルヒドラジン（化合物6.
9）。
群B2（（新規化合物） ７−ｎ−ペントキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チア
ジアゾール（化合物1.9）； ７−（４−メトキシベンジルオキシカルボニル）−ベ
ンゾ−1,2,3−チアジアゾール（化合物1.39）： ７−（シクロヘキシイミノ−オキシカルボニル）−ベ
ンゾ−1,2,3−チアジアゾール（化合物1.72）； ７−（３−ヒドロキシ−ｎ−プロポキシカルボニル）
−ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール（化合物1.79）； 1,2,5,6−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−３−（７−ベ
ンゾ−1,2,3−チアジアゾイル）−Ｄ−グリコフラノー
ス（化合物1.86）； ７−フルフリルオキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チ
アジアゾール（化合物1.96）； ７−（1,2,4−トリアゾリ−１−イル）−メトキシカ
ルボニルベンゾ−1,2,3−チアジアゾール（化合物1.10
0）； ７−（２−ピリジルメトキシカルボニル）−ベンゾ−
1,2,3−チアジアゾール（化合物1.101）； ７−トリメチルシリルメトキシカルボニルベンゾ−1,
2,3−チアジアゾール（化合物1.103）； ７−〔２−（トリメチルシリル）−エトキシカルボニ
ル〕−ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール（化合物1.10
4）； ７−ジメチルホスホノ−エトキシカルボニルベンゾ−
1,2,3−チアジアゾール（化合物1.108）； ７−シクロヘキシルオキシカルボニルベンゾ−1,2,3
−チアジアゾール（化合物1.135）； ７−（１−フェンエチルオキシカルボニル）−ベンゾ
−1,2,3−チアジアゾール（化合物1.140）； ７−（３−メトキシベンジル）−ベンゾ−1,2,3−チ
アジアゾール（化合物1.144）； ７−（エチルチオカルボニル）−ベンゾ−1,2,3−チ
アジアゾール（化合物2.2）； ７−（ｎ−プロピルチオカルボニル）−ベンゾ−1,2,
3−チアジアゾール（化合物2.3）； ７−（ベンジルチオカルボニル）−ベンゾ−1,2,3−
チアジアゾール（化合物2.5）； ７−カルバモイルベンゾ−1,2,3−チアジアゾール
（化合物3.1）； ７−Ｎ−フェニルカルバモイルベンゾ−1,2,3−チア
ジアゾール（化合物3.6）； Ｎ−（７−ベンゾ−1,2,3−チアジアゾイル）−グリ
シン（化合物3.9）； ７−（Ｎ−ジアリルカルバモイル）−ベンゾ−1,2,3
−チアジアゾール（化合物3.26）； ６−フルオロ−７−メトキシカルボニルベンゾ−1,2,
3−チアジアゾール（化合物7.6）； ６−フルオロ−７−カルボキシベンゾ−1,2,3−チア
ジアゾール（化合物7.8）； ５−フルオロ−７−ベンジルオキシカルボニルベンゾ
−1,2,3−チアジアゾール（化合物7.52）； ５−フルオロ−７−カルボキシベンゾ−1,2,3−チア
ジアゾール（化合物7.59）； ５−フルオロ−７−エトキシカルボニルベンゾ−1,2,
3−チアジアゾール（化合物7.61）。
驚くべきことに、本発明に従って使用される式Ｉで表
わされる化合物は、最初から有害微生物により攻撃され
ることから健常な植物体を予防し、そしてそのような攻
撃により引き起こされる損傷から前記植物体を保護する
ことを今見い出した。本発明に従って植物体を保護する
方法の大きな利点は、植物損傷性微生物に直接作用する
化学物質の代わりに、植物体自身の生物学的防御系を植
物体が攻撃される前に活性化および刺激し、その結果処
理植物体がその生長期間中さらに殺微生物剤の直接使用
なしに、それら自身の資源によって健常に保たれること
ができるという事実にある。それ故に式Ｉで表わされる
化合物が環境に安全な施用比率で使用される場合、それ
らは有害生物に直接作用しないが、しかしその代りに植
物の病気に対して健常な植物体を免疫性にする作用を有
するということが、この化合物の顕著な特徴である。こ
れに関連して、菌類の最も重要な群のもの（例えば不完
全菌類、卵菌類）に対する直接作用を検出することは不
可能だった。従って、本発明に係る式Ｉで表わされる化
合物は、不利な副作用即ち、他の場合には化学物質によ
り植物体上の寄生虫の直接防除の場合に多かれ少なかれ
観察される副作用を避け、そしてこれは植物体の生長が
全く乱されることはないという有利な結果を有する。さ
らに、式Ｉ′の範囲内に収まる新規な化合物のいくつか
の場合、殺微生物有効性特に植物病原菌防除有効性が、
植物免疫性有効性に加えてそしてそれとは独立して生じ
得る。
本発明の根底をなす式Ｉで表わされる化合物の作用の
態様は、同時にそれら自身を防御するために処理された
植物体の能力を一般的に増加させる目的を有し、その結
果広範囲の有害微生物に対する一般的な抗微生物耐性が
それにより達成される。本発明に係る方法はそれ故に実
際の使用に特に適当である。式Ｉで表わされる化合物に
固有の浸透作用は、保護作用が後に生長する処理植物の
部分にも及ぶことを意味する。
本発明に係る免疫性にする方法は、下記の網に属する
植物病原菌に対して有効である： 不完全菌類〔例えばハイイロカビ、ヘルミントスポリ
ウム（Helminthosporium）、フサリウム（Fusarium）、
スペトリア（Spetoria）、セルコスポラ（Cercospora）
およびアルテルナリア（Alternaria）〕；担子菌類〔例
えばヘミレィア（Hemileia）属、リゾコトニア（Rhizoc
otonia）、プシニア（Puccinia）；および子嚢菌類〔例
えばベンチュリア（Venturia）、ポドスファエラ（Podo
sphaera）、エリシフェ（Erysiphe）、モニリニア（Mon
ilinia）、ウンシヌラ（Uncinula）〕。
この免疫性にする方法は下記の有害生物に対して特に
有利に使用し得る：菌類、例えば卵菌類〔例えばプラズ
モパラ ヴィチコラ）、フィトフソーラ インフェスタ
ンス（Phytophthora infestans）〕、不完全菌類〔例え
ば、コッレトトリチャム ラゲナリウム（Colletotrich
um lagenarium）、ピリクラリア オリザエ（Piricular
ia oryzae）、セルコスポラ ニコチナエ（Cercospora
nicotinae）、子嚢菌類〔例えば、ヴェンチュリア イ
ナエクアリス（Venturia inaequalis）；バクテリア、
例えばプソイドモナドス（Pseudomonads）〔プソイドモ
ナス ラクリマンス（Pseudomonas lachrymans）、プソ
イドモナス トマト（Pseudomonas tomato）、プソイド
モナス タバチ（Pseudomonas tabaci）〕；キサントモ
ナドス（Xanthomonads）〔例えばキサントモナス オリ
ザエ（Xanthomonas oryzae）、キサントモナス ヴェシ
カトリア（Xanthomonas vesicatoria）〕、エルウィニ
ア属〔例えばエルウィニア アミロヴォラ（Erwinia am
ylovora）〕；およびウィルス、例えばタバコモザイク
ウィルス。
本発明に係る方法は、有用植物の異なる作物から植物
の保護のために使用され得る。
本発明の範囲内で本明細書に開示された表示の領域
は、例えば下記の植物種に当てはまる：穀類（小麦、大
麦、ライ麦、オート麦、稲、さとうもろこしおよび関連
作物）；ビート（砂糖大根および飼料用ビート）；核
果、梨状果および軟果実（りんご、梨、プラム、桃、ア
ーモンド、さくらんぼ、いちご、ラズベリーおよびブラ
ックベリー）；まめ科植物（そら豆、レンズ豆、えんど
う豆、大豆）；油用植物（あぶらな、マスタード、ポピ
ー、オリーブ、サンフラワー、ココナッツ、ヒマシ油植
物、ココア豆、落花生）；うり科植物（きゅうり、かぼ
ちゃ、メロン）；繊維植物（綿、亜麻、大麻、黄麻）；
橙属植物（オレンジ、レモン、グレープフルーツ、マン
ダリン）；野菜（ホウレンソウ、レタス、アスパラガ
ス、キャベツ、にんじん、玉ねぎ、トマト、ばれいし
ょ、パプリカ）；クスノキ科（アボガド、シナモン、樟
脳）；とうもろこし、タバコ、ナッツ、コーヒー、甘蔗
糖、茶、ぶどうのつる、ホップ、バナナおよび天然ゴム
植物、並びに鑑賞植物（花、低木、落葉樹および毬果植
物）。
この記述は限定を意味するものではない。
以下の植物は本発明方法を使用するのに特に適する対
象作物として重要視される：キュウリ、タバコ、ぶど
う、米、穀類（例えば小麦）、梨、コショウ、じゃがい
も、トマト及びりんご。
式Ｉで表わされる化合物は次の方法により製造するこ
とができる： 1.次式Ia （R,X,Y及びＵは式Ｉで定義された意味を表わす） で表わされる化合物は、 1.1 次式II: （Ｌ′は脱離基、例えばハロゲン原子、Ｏ−アシル基、
例えば酸Ibの対称的無水物に属するアシル基、又は１−
イミダゾリル基を表わす） で表わされる化合物と、次式III RUH （III） で表わされる化合物を、 ａ）反応剤RUHを過剰にして、又は ｂ）有機塩基の存在下、触媒としての４−ジアルキルア
ミノピリジンと共に又はそれ無しに、不活性溶媒中で、
又は ｃ）無機塩基の存在下で、 反応させ、各場合において反応は−10°ないし180℃、
好ましくは０°ないし100℃で行なう：また、 1.2 次式Ib で表わされる化合物と前記式IIIで表わされる化合物
を、それを過剰にして、又は不活性溶媒中、酸例えば硫
酸、塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸もしくは三弗化ホウ
素／ジエチルエーテル錯体の存在下で、又はジシクロヘ
キシルカルボジイミドの存在下で、−10°ないし180
℃、好ましくは０°ないし140℃の温度で反応させる：
また ２ 次式Ic （R1，R2,X及びＹは式Ｉで定義された意味を表わす） で表わされる化合物は： 2.1 前記式IIで表わされる化合物と次式IV で表わされる化合物を、 ａ）反応剤HN(R1)R2を過剰にして、又は ｂ）有機塩基の存在下、触媒としての４−ジアルキルア
ミノピリジンと共に又はそれ無しに、不活性溶媒中で、
又は ｃ）無機塩基の存在下で 反応させ、各場合において反応は−10°ないし160℃、
好ましくは０°ないし100℃で行なう：また 3.次式Id （Ａは基U1N（＝Ｃ）n（R3）R4を表わし、Ｘ、Ｙ、R3、
R4、R5及びｎは式Ｉで定義された意味を表わす） で表わされる化合物は： 3.1 次式Ie （Ｚ′は基COOH、COCl、COOAlK1又はアシルオキシカル
ボニル基例えば ベンゾイルオキシカルボニル基又はアセトキシカルボニ
ル基を表わし、AlK1は炭素原子数１ないし４のアルキル
基を表わす） で表わされる化合物と、次式Ｖ又はVI で表わされるヒドラジン誘導体を、不活性溶媒中、−10
°ないし180℃好ましくは０°ないし100℃の温度で反応
させるか：又は 3.2 前記式Ieで表わされる化合物を初めにヒドラジン
と除々に反応させ、次いで得られたヒドラジン化合物
を、 3.2.1.アルキル化剤R3−ＬもしくはR4−Ｌ（Ｌは脱離基
を表わす）と、不活性溶媒中、０°ないし160℃好まし
くは20°ないし120℃の温度で反応させるか：又は 3.2.2 式R3(R4)C＝Ｏ（R3及びR4は式Ｉで定義された意
味を表わす）で表わされるアルデヒドもしくはケトン
と、有機もしくは無機酸を添加するか又は添加せずに、
−10°ないし150℃好ましくは20ないし100℃の温度で反
応させ：所望により続いて 3.2.3 アルキル化剤Ｌ−R5（Ｌは脱離基を表わす）
と、強塩基の存在下、不活性溶媒中−80°ないし120℃
好ましくは−40°ないし80℃の温度で反応させるか：又
は所望により、 3.2.4a）（3.2.1）で製造されたヒドラゾン誘導体を水
素で、１ないし30×105Paの圧力のもと、活性炭素と混
合された触媒の存在下、不活性有機溶媒中０°ないし10
0℃の温度で水素添加するか、又は 3.2.4b）（3.2.1）で製造されたヒドラゾン誘導体を錯
体金属水素化物（complex metal hydride）例えばナト
リウムシアノボロハイドライドで、不活性溶媒中−10°
ないし80℃好ましくは０°ないし50℃の温度で処理す
る；及び 4.次式If （Ｘ及びＹは式Ｉで定義された意味を表わす） で表わされる化合物は、次式Ig で表わされる化合物〔製法（２）によって製造される〕
を、不活性溶媒中で又は溶媒を用いずに、−10°ないし
250℃の温度で脱水剤で処理することにより製造される
が、適当な脱水剤は： ａ）塩基例えばピリジンの存在下、不活性溶媒例えばテ
トラヒドロフランもしくはジオキサン中、−10°ないし
40℃の温度でのトリフルオロ酢酸無水物；又は ｂ）不活性溶媒例えばテトラヒドロフラン中、０°ない
し65℃の温度での、その後にジメチルホルムアミドで処
理〔オルガニック シンセシス（Org.Synth.）第50巻第
18頁又はヒェーミッシェ ベリヒテ（Chem.Ber.）第100
巻第2719頁参照〕することを伴なうクロロスルホニル
イソシアネート；又は ｃ）不活性溶媒例えば1,2−ジクロロエタン、キシレン
又はクロロベンゼンを用いるか又は用いずに、場合によ
りボンベ中の高めた圧力下、50°ないし250℃での五酸
化リン〔フィーザー（Fieser）著、「有機合成用試薬
（Reagents for Organic Synthesis）」第１巻第871頁
参照〕である； 5.1 次式IL1 （R3、R4、Ｘ及びＹは式Ｉで定義された意味を表わす） で表わされる化合物は、次式 HO−Ｎ＝C(R3)R4 で表わされるオキシム誘導体を次式 （AKSはハロゲン原子、Ｏ−アシル基例えば上記式の遊
離酸のＯ−アシル基、アセトキシ基もしくはベンゾイル
オキシ基、又は１−イミダゾリル基を表わす） で表わされる活性化された酸誘導体と、不活性溶媒中及
び塩基の存在下、−20°ないし120℃、好ましくは０°
ないし50℃にて反応させるか、或は同一条件下でジシク
ロヘキシルカルボジイミドの存在下、遊離酸（＝Ib）と
反応させる〔Lit.Ber第83巻第186頁（1950年）;Houben
−Weyl E5第773頁参照〕ことにより製造される； 5.2 次式IL2 （R3、R4、Ｘ及びＹはＩで定義した意味を表わす） で表わされる化合物は、次式IL1 で表わされる化合物を ａ）シラン例えばトリエチルシランで、酸例えばトリフ
ルオロ酢酸の存在下、０ないし80℃の温度で、又は ｂ）ナトリウムシアノボロハイドライドで、有機酸例え
ば酢酸の存在下０°ないし80℃にて、又は ｃ）触媒方法により、例えばPt/Hzで還元することによ
り製造される。
特定の合成方法として、R3及びR4が水素原子である式
IL2の化合物は、次式Ib で表わされる酸の酸ハライドもしくは酸無水物を、N,O
−ビス−トリメチルシリルヒドロキシルアミンと、塩基
例えばブチルリチウムの存在下、不活性溶媒中−80°な
いし60℃好ましくは−50°ないし50℃にて反応させるこ
とにより製造される。
上記各式（式中、Ｕは酸素原子を表わし、Ｒは式Ｉで
定義された意味を表わすが、OH基又はケイ素もしくは燐
−含有機を含む基ではない）で表わされる７−カルボン
酸エステルは文献記載のエステル交換方法に従って他の
ものに変えることができる。
式Ib、Ie及びIIで表わされる前駆化合物は公知方法、
例えば以下に示す合成方法の範囲内で製造することがで
きる。
（上記各式中、 Ｙ′は水素原子、ハロゲン原子、SO3H、SO3M又はヒド
ロキシ基を表わし、 Ｘ′は水素原子、ハロゲン原子、メチル基、メトキシ
基又はCOOHを表わし、 Eaは容易に除去できる基、例えば水素原子又は炭素原
子数１ないし４のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基もしくはイソプロピル基、又はベンジル基を表わし、 Ｌはハロゲン原子又はニトロ基を表わし、 Eaは基COOH又はCOO−炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基を表わす）。
もしEaが遊離酸基（−COOH）を表わす場合、該基は慣
用方法を用いて、エステル基例えばメチルエステルに、
酸ハライド例えば酸クロライドに、或は対称的酸無水物
もしくは混合酸無水物（例えばアセチル基又はベンゾイ
ル基を有するもの）に変えることができる。
同様の合成方法により、次式Ｉ′b 〔Zbは、第一アミノもしくは第二アミノ基、UHもしくは
ニトロ基、Si（炭素原子数１ないし８のアルキル基）3
又は燐原子含有基を含む基ではないという条件で式Ｉの
Ｚに与えた意味を表わし、 Ｘ′及びＹ′は式Iiaで定義された意味を表わす〕 で表わされる式Ｉの化合物が製造される： 〔反応式中、Ebは容易に除去できる基、例えば水素原
子、炭素原子数１ないし16のアルキル基、例えばメチル
基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ドデシル基、又は
ベンジル基、又はアシル基例えばアセチル基、又はスル
ホン酸基（−SO3H−）又はシアノ基、或はジスルフィド
架橋部分としての第二基 を表わし、そしてＬは式VIIIaで定義された意味を表わ
す〕。
更に次式Ik で表わされる化合物は、特定の製法（ｃ）に従い、次式
XI′ （Ｘ′、Eb及びZbは式XI′で定義された意味を表わす） で表わされる化合物を酸性媒質中、亜硝酸塩化合物でジ
アゾ化し、そして同じ反応容器中もしくは第二の反応容
器中、還元剤で−40°ないし80℃好ましくは−30°ない
し30℃で処理することにより製造することができ、還元
剤は亜硝酸塩化合物の加入前、加入後又は加入と同時に
加えることができる。
製法（ｃ）の特別の形態において、上記式XI′及びIk
中のZbは酸エステル（COORa）を表わし、Ｘ′は水素原
子を表わし、そしてRaはUHもしくはニトロ基及びケイ素
もしくはリン原子含有基を除いてＲと同じ意味を表わ
し、その際次式 で表わされる化合物は次式 で表わされる化合物を酸性媒質中、亜硝酸塩化合物で−
20°ないし30℃の温度でジアゾ化し、そして同反応容器
中−20°ないし80℃好ましくは20°ないし30℃の温度で
還元することにより製造されるが、還元剤は亜硝酸塩化
合物の加入前、加入後又は加入と同時に加えることがで
きる。
更に特別の製法を用いると、次式Ik′ で表わされる化合物は、次式XI′ （Ｘ′、Eb及びZbは前記式XI′で定義された意味を表わ
す） で表わされる化合物を酸性媒質中、亜硝酸塩化合物で−
40°ないし30℃にてジアゾ化し、そして ａ）そのジアゾニウム塩をハロゲン化銅と、−30°ない
し180℃にて反応させるか、又は ｂ）もしHalがフッ素原子である場合、ジアゾニウム塩
を、場合により銅フッ化塩の存在下、フッ化水素酸又は
テトラフルオロ硼酸で処理する（Kit.Houben−Weyl、5/
3第216頁）ことにより製造することができる。
上記製法（ｃ）において、使用される酸性反応媒質
は、例えばハロゲン化水素酸、燐酸、硫酸又はヒドロフ
ルオロ硼酸のような無機質の水性希釈液であってよい；
しかしながら不活性有機溶媒例えばテトラヒドロフラン
又はジオキサンに加えて適当な有機酸を使用することも
可能である。適当な亜硝酸塩は無機亜硝酸塩化合物例え
ばアルカリ金属及びアルカリ土類金属塩、及び有機亜硝
酸塩化合物例えば亜硝酸アルキルエステルの両方であ
る。還元剤は例えば、アルコール例えばエタノール、又
は次亜燐酸、金属銅又はトリアルキルシラン、例えばト
リエチルシラン、及びフェロシアン化物又はフェロセ
ン、例えばデカメチルフェロセンであってよい。還元工
程は、所望により他の添加剤例えばクラウンエーテル又
はポリエチングリコールの存在下で行なうことができ
る。
上記製法（ｃ）は、都合より方法によって縮合チアゾ
ール化合物を得ることのできる化学的に特異な性質の新
規製法である。
次式XI′ で表わされる前駆体の合成は、次式VIII′、VIII″及び
IX 〔各式中、 Ｘ′は水素原子、ハロゲン原子、メチル基、メトキシ
基又はCOOHを表わし、 Eaは容易に除去できる基、例えば水素原子又は炭素原
子数１ないし４のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基もしくはイソプロピル基、又はベンジル基を表わし、 Ebは容易に除去できる基、例えば水素原子，炭素原子
数１ないし16のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基、イソプロピル基、ｎ−ドデシル基、又はベンジル
基、又はアシル基例えばアセチル基、又はスルホン酸基
（−SO3H−）又はシアノ基、或はジスルフィド架橋部分
としての第二基 を表わし、 Ｌはハロゲン原子又はニトロ基を表わし、 Ｌは脱離基、例えばハロゲン原子、Ｏ−アシル基、例
えば酸Ibの対称的無水物に属するアシル基、又は１−イ
ミダゾリル基を表わし Zaは基COOH又はCOO−炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基を表わし、 Zbは、第一アミノもしくは第二アミノ基、UHもしくは
ニトロ基、Si（炭素原子数１ないし８のアルキル基）3
又は燐原子含有基を含む基ではないという条件で式Ｉの
Ｚに与えた意味を表わす〕 で表わされる化合物を、式HS−Ea又はHS−Ebで表わされ
る化合物と、塩基例えばアルカリ金属炭酸塩（例えばNa
2CO3又はK2CO3）もしくはアルカリ土類金属炭酸塩（例
えばMgCO3）、アルコキシド（例えばナトリウムアルコ
ラート又はカリウム第三−ブトキシド）又はアルカリ金
属水素化物（例えば水素化ナトリウム）の存在下、溶媒
好ましくは二極性（dipolar）の非プロトン性溶媒（例
えばジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ヘ
キサメチル燐酸トリアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ア
セトニトリル、ジオキサン又はテトラヒドロフラン）
中、−10°ないし120℃好ましくは０°ないし60℃で反
応させて次式Ｘ′ で表わされる化合物を生じさせ、それを接触還元（cata
lytic reduction）又は金属還元（metallic reductio
n）のいずれかによって次式XI′ で表わされる化合物に変換させることにより行う。
接触還元のために、例えばラネーニッケル及びパラジ
ウム、白金又はロジウム触媒を用いることができる；そ
の還元は常圧もしくは僅かに高めた圧力下、０°ないし
150℃の温度で行なう。適当な溶媒は例えばテトラヒド
ロフラン又はジオキサンである。
金属還元のために、例えば鉄／塩酸、鉄／酢酸、錫／
塩酸、亜鉛／塩酸、亜鉛／酢酸、銅／蟻酸を使用するこ
とができる。
他の適当な還元剤は、錫（II）／塩酸、ニッケル／ヒ
ドラジン、三塩化チタン、アルカリ金属硫化物又はナト
リウムジチオナイトである。還元は０°ないし120℃の
温度で行なわれ、水又はアルコール例えばメタノール、
エタノール、ｎ−プロパノール又はイソプロパノールが
溶媒として使用できる。
更に、もしZaが酸基（−COOH）である場合、Zbが基−
COUR′−、−CON(R1)R2又は−CON(R5)N(R3(R4)である式
IXの特別の誘体は、 ａ）最初に合成された式VIIIaの誘導体（Ｙ′＝NO2）
を、式HUR′で表わされるアルコールと、又は式NH(R1)R
2で表わされるアミンと、又は式NH(R5)N(R3)R4で表わさ
れるヒドラジドと、適当な塩基の存在下、場合によりジ
メチルアミノピリジンの添加によって触媒させ、不活性
溶媒中−20℃ないし170℃好ましくは０°ないし110℃の
温度で公知方法により反応させるか、又は ｂ）式VIII′（Za＝COOH）の化合物をジシクロヘキシル
カルボジイミドの存在下、式HUR′で表わされるアルコ
ールと、又は式NH(R1)R2で表わされるアミンと、又は式
NH(R5)N(R3)R4で表わされるヒドラジドと、不活性有機
溶媒中０°ないし120℃好ましくは10°ないし80℃の温
度で反応させることにより製造することができる。
基R1ないしR5及び記号Ｕは本明細書上部にて既記した
意味を表わし、そしてＲ′は、基（Ｔ）−P(O)(OR6)−
（炭素原子数１ないし４のアルキル基）、（Ｔ）−PO(O
R6)2及び（Ｔ）n−Si（炭素原子数１ないし８のアルキ
ル基）3を除いてＲと同じ意味を表わす。
次式XI′ （Ｘ′は水素原子、ハロゲン原子、メチル基、メトキシ
基又はCOOH基を表わし、 Eaは容易に除去できる基、例えば水素原子又は炭素原
子数１ないし４のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基もしくはイソプロピル基、又はベンジル基を表わし、 Ebは容易に除去できる基、例えば水素原子、炭素原子
数１ないし16のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基、イソプロピル基、ｎ−ドデシル基、又はベンジル
基、又はアシル基例えばアセチル基、又はスルホン酸基
（−SO3H−）又はシアノ基、或はジスルフィド架橋部分
としての第二基 を表わし、 Zaは基COOH又はCOO−炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基を表わし、 Zbは、第一アミノもしくは第二アミノ基、UHもしくは
ニトロ基、Si（炭素原子数１ないし８のアルキル基）3
又は燐原子含有基を含む基ではないという条件で、式Ｉ
のＺに与えられた意味を表わす〕 で表わされる化合物は新規であり、本発明の部分を構成
する。
式XI′で表わされる化合物は殺微生物活性、特に植物
病原性菌及びバクテリアに対して活性を有する。
式Ｘ′で表わされる化合物は公知であるか又は文献で
知られている方法によって製造することができる。これ
ら誘導体の幾つかは以下に示す特定の製法に従って製造
することができる： 次式 で表わされる化合物を、２当量の塩基、例えばアルカリ
金属炭酸塩（例えばNa2CO3又はK2CO3）もしくはアルカ
リ土類金属炭酸塩（例えばMgCO3）又は金属水素化物
（例えばNaH又はLiH）の存在下、式HS−Ea又はHS−Ebで
表わされる化合物と、不活性溶媒好ましくは二極性非プ
ロトン性溶媒例えばジメチルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド、ヘキサメチル燐酸トリアミド又はＮ−メチ
ルピロリドン中で最初反応させ、そして得られた誘導体
をアルキル化剤Ra−Ｌ〔Ｌは脱離基、例えばハロゲン原
子好ましくはヨウ素原子、又は−OSO2Ra（Raは例えばジ
メチルサルサルフェート： であることができる）を表わす〕でエステル化する：上
記両式において、Raは式ＩのＲについて定義された脂肪
族又は芳香脂肪族基を表わし、また基Ｌ、Ｓ−Ea、Ｓ−
Eb及びＸ′は式VIII′、VIII″及びIXで定義された意味
を表わす。
上記各製法において、特に指示されていなければ塩基
は無機塩基と有機塩基の両方であると理解されるべきで
ある。これらには、無機塩基として例えばリチウム、ナ
トリウム、カリウム、カルシウム及びバリウムの水酸化
物、炭酸水素塩、炭酸塩及び水素化物、並びにアルカリ
金属アミド例えばNaNH2又はアルキルリチウム化合物例
えばｎ−ブチルリチウムが含まれる。有機塩基の例とし
ては次のものが挙げられる：アミン特に第三アミン、例
えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピ
ルアミン、トリブチルアミン、トリペンジルアミン、ト
リシクロヘキシルアミン、トリアミルアミン、トリヘキ
シルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルト
ルイジン、N,N−ジメチル−ｐ−アミノピリジン、Ｎ−
メチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチル
ピロリジン、Ｎ−メチルイミダゾリン、Ｎ−メチルピロ
ール、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルヘキサメチレ
ンイミン、ピリジン、キノリン、α−ピコリン、β−ピ
コリン、イソキノリン、ピリミジン、アクリジン、N,N,
N′,N′−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N′,N′
−テトラエチルエチレンジアミン、キノキサリン、Ｎ−
プンロピルジイソプロピルアミン、N,N−ジメチルシク
ロヘキシルアミン、2,6−ルチジン、2,4−ルチジン又は
トリエチレンジアミン。
特定の反応条件に従って使用することのできる不活性
溶媒として以下のものが挙げられる： ハロゲン化炭化水素、特に塩化炭化水素、例えばテト
ラクロロエチレン、テトラクロロエタン、ジクロロプロ
パン、塩化メチレン、ジクロロブタン、クロロホルム、
クロロナフタレン、ジクロロナフタレン、四塩化炭素、
トリクロロエタン、トリクロロエチレン、ペンタクロロ
エタン、ジフルオロベンゼン、1,2−ジクロロエタン、
1,1−ジクロロエタン、1,2−シス−ジクロロエチレン、
クロロベンゼン、フルオロベンゼン、ブロモベンゼン、
ヨードベンゼン、ジクロロベンゼン、ジブロモベンゼ
ン、クロロトルエン及びトリクロロベンゼン；エーテ
ル、例えばエチルプロピルエーテル、メチル−第三ブチ
ルエーテル、ｎ−ブチルエチルエーテル、ジ−ｎ−ブチ
ルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジイソアミルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、アニソール、フェネト
ール、シクロヘキシルメチルエーテル、ジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、チオアニソール及びジクロロジ
エチルエーテル、メチルセルソルブ；アルコール、例え
ばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプ
ロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール；ニトロ
化炭化水素、例えばニトロメタン、ニトロエタン、ニト
ロベンゼン、クロロニトロベンゼン及びｏ−ニトロトル
エン；ニトリル、例えばアセトニトリル、ブチロニトリ
ル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル及びｍ−クロ
ロベンゾニトリル；脂肪族又は脂環式炭化水素、例えば
ヘプタン、ノナン、シモール、沸点範囲が70°ないし19
0℃の石油留分、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、デカリン、石油エーテル、ヘキサン、リグロイン、
トリメチルペンタン、2,3,3−トリメチルペンタン及び
オクタン；エステル、例えば酢酸エチル、エチルアセト
アセテート及び酢酸イソブチル；アミド、例えばホルム
アミド、メチルホルムアミド及びジメチルホルムアミ
ド；及びまた適当であれば水。上記溶媒及び希釈剤の混
合物もまた適当である。
上記製造方法は、方法自体新規ではなく、以下の文献
中に見ることのできる公知合成方法に基づいている： 「窒素及び硫黄域は窒素、硫黄及び酸素原子を伴う複
素環化合物の化学（The Chemistry of Heterocyclic Co
mpounds with Nitrogen and Sulfur or Nitrogen,Sulfu
r and Oxygen）」、インターサイエンス出版（Intersci
ence Publ.）、ニューヨーク1952年；ピー．キルビーら
（P.Kirby et al.）、ジャーナル オブ ケミカル ソ
サイエティ（J.Chem.Soc.）（ｃ）321（1967）及び2250
（1970）及び3994（1971）；フランス特許第1541415号
明細書；ジャーナル オブ オルガニック ケミストリ
ー（J.Org.Chem.）第27巻第4675頁（1962年）；西独特
許出願公開第2400887及び2504383号明細書;SU特許第400
574号明細書〔ケミカル アブストラクト（Chem.Abst
r.）80（９）47661h〕；オルガニック シンセシス コ
レクト．ボリューム（Org.Synth.Coll.Vol.）I.第125
頁；テトラヘドロンレターズ（Tetrahedr.）第21巻第66
3頁（1965年）。
式Ｘ、Ｘ′、XI及びXI′で表わされる化合物は新規物
質であるが、式VIII、VIII′及びIXで表わされる化合物
はその幾つかが新規である。新規化合物は本発明の部分
を構成する。
活性成分として式Ｉの化合物を含む、本発明の範囲内
で使用される植物保護用組成物は、同様に本発明の部分
を構成するとみなされるべきである。
式Ｉで表わされる化合物は通常組成物の形態で適用さ
れ、そして作物の地面または処理すべき植物に、同時に
または連続して、別の化合物と共に適用し得る。これら
の化合物は肥料または微量養分供給体、あるいは植物生
長に影響を及ぼす他の製剤でもあり得る。所望により更
に製剤業界にて慣用の担体、表面活性剤または施用促進
用補助剤と共に使用して、選択的除草剤、殺虫剤、殺菌
剤、殺バクテリア剤、殺線虫剤、殺軟体動物剤またはこ
れらの製剤のいくつかの混合物となり得る。
適当な担体および補助剤は固体又は液体であり得、そ
して製剤技術において通常使用される物質、例えば天然
または再生鉱物、溶媒、分散剤、湿潤剤、増粘剤、粘着
付与剤、結合剤または肥料に相当する。
式Ｉで表わされる化合物または該化合物を少なくとも
１種含有する農薬組成物の好ましい適用方法は、葉への
散布である。しかしながら式Ｉで表わされる化合物はま
た、液体製剤を植物の生育場所に含浸することにより、
または土壌に固体の形態で例えば粒剤の形体で（土壌散
布）化合物を適用することにより、土壌を通して根を通
過して植物に侵入させ得る（浸透作用）。式Ｉで表わさ
れる化合物はまた、種子に式Ｉで表わされる化合物を含
む液体製剤を含浸させるかあるいは種子を固体製剤で被
覆することにより、種子への適用する（被覆）こともで
きる。特別の場合は別のタイプの適用例えば植物の茎ま
たは芽の選択的処理も可能である。
式Ｉで表わされる化合物は非変形の形態で、あるいは
好ましくは製剤業界で慣用の補助剤と共に使用され、公
知の方法により乳剤原液、被覆性ペースト（coatable p
aste）、直接噴霧可能なまたは希釈可能な溶液、希釈乳
剤、水和剤、水溶剤、粉剤、顆粒剤、及びカプセル化剤
例えばポリマー物質に製剤化される。組成物の性質と同
様、噴霧、霧化、散粉、散水、被覆または注水のような
適用方法は、目的とする対象および一般的環境に依存し
て選ばれる。有利な適用量は通常１ヘクタール当り有効
成分（a.i.）50gないし5kg、好ましくは100gないし2kg
a.i./ha、最も好ましくは100gないし600ga.i./haであ
る。
製剤、即ち式Ｉで表わされる化合物（有効成分）及び
適当な場合には固体または液体の補助剤を含む組成物、
製剤または混合物は、公知の方法により、例えば有効成
分を溶媒、固体担体および適当な場合には表面活性化合
物（界面活性剤）のような増量剤と均一に混合及び／ま
たは摩砕することにより、製造される。
適当な溶媒は次のものである：芳香族炭化水素、好ま
しくは炭素原子数８ないし12の部分、例えばキシレン混
合物または置換ナフタレン；ジブチルフタレートまたは
ジオクチルフタレートのようなフタレート；シクロヘキ
サンまたはパラフィンのような脂肪族炭化水素；エタノ
ール、エチレングリコールモノメチルまたはモノエチル
エーテルのようなアルコール及びグリコール並びにそれ
らのエーテル及びエステル；シクロヘキサノンのような
ケトン;N−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキ
シドまたはジメチルホルムアミドのような強極性溶媒；
並びにエポキシ化ココナッツ油または大豆油のような植
物油またはエポキシ化植物油；または水。
例えば粉剤及び分散性粉末に使用できる固体担体は通
常、方解石、タルク、カオリン、モンモリロナイトまた
はアタパルジャイトのような天然鉱物充填剤である。物
性を改良するために、高分散珪酸または高分散吸収性ポ
リマーを加えることも可能である。適当な粒状化吸収性
担体は多孔性型のもので、例えば軽石、破砕レンガ、セ
ピオライトまたはベントナイトであり；そして適当な非
吸収性担体は方解石または砂のような物質である。更に
非常に多くの予備粒状化した無機質または有機質の物
質、例えば特にドロマイトまたは粉状化植物残ガイ、が
使用し得る。ケファリン及びレシチンの種類の天然（動
物又は植物）の又は合成のホスホリピッド類もまた、特
に有用な施用を促進する補助剤である。
製剤化すべき式Ｉで表わされる化合物の性質による
が、適当な表面活性剤は良好な乳化性、分散性及び湿潤
性を有する非イオン性、カチオン性及び／またはアニオ
ン性表面活性剤である。“表面活性剤”の用語は表面活
性剤の混合物をも含むものと理解されたい。
カチオン性表面活性剤は、好ましくはＮ−置換基とし
て少なくとも一つの炭素原子数８ないし22のアルキル基
と、他の置換基として非置換またはハロゲン化アルキル
基、ベンジル基又はヒドロキシ低級アルキル基とを含む
第四アンモニウム塩である。
適当なアニオン性表面活性剤は、水溶性石ケン及び水
溶性合成表面活性化合物の両者であり得る。
適当な石ケンは高級脂肪酸（炭素原子数10ないし22）
のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、または非置換
または置換のアンモニウム塩、例えばオレイン酸または
ステアリン酸、あるいは例えばココナッツ油または獣脂
から得られる天然脂肪酸混合物のナトリウムまたはカリ
ウム塩である。
合成界面活性剤、特に脂肪族スルホネート、脂肪族サ
ルフェート、スルホン化ベンズイミダゾール誘導体また
はアルキルアリールスルホネート、が更に頻繁に使用さ
れる。脂肪族スルホネートまたはサルフェートは通常ア
ルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩あるいは非置換また
は置換のアンモニウム塩の形体にあり、そして炭素原子
数８ないし22のアルキル基を含む。
非イオン性表面活性剤は、好ましくは脂肪族または脂
環式アルコール、または飽和または不飽和脂肪酸及びア
ルキルフェノールのポリグリコールエーテル誘導体であ
り、該誘導体は３ないし30個のグリコールエーテル基及
び（脂肪族）炭化水素部分に８ないし20個の炭素原子、
そしてアルキルフェノールのアルキル部分に６ないし18
個の炭素原子を含む。
組成物はまた他の補助剤、たとえば、安定剤、消泡
剤、粘度調整剤、結合剤、粘着付与剤ならびに肥料、ま
たは特殊な効果を得るための他の有効成分を含有しても
よい。
農業薬品組成物は、一般に、式Ｉで表わされる化合物
を0.1ないし99％好ましくは0.1ないし95％、固体または
液体の助剤を１ないし99.9％好ましくは５ないし99.8％
及び界面活性剤を０ないし25％好ましくは0.1ないし25
％含有する。
〈実施例、発明の効果〉 以下の実施例によって本発明をより詳細に説明する
が、これに何ら限定されるものではない。
製造実施例 実施例1.1:2−クロロ−３−ニトロ安息香酸メチルエス
テル（中間体）の製造 ２−クロロ−３−ニトロ安息香酸50.0g（0.248モル）
を、メタノール500ml中に溶解し、その後、そこに濃硫
酸20mlを添加する。24時間環流させた後、混合物を氷水
中に注ぎ、得られた白色沈殿を過により単離し、水洗
した後、乾燥する。
収量:53g（理論量の99％）m.p.68℃ 実施例1.2:2−ベンジルチオ−３−ニトロ安息香酸メチ
ルエステル（中間体）の製造 ２−クロロ−３−ニトロ安息香酸メチルエステル45.4
g（0.21モル）及びベンジルメルカプタン24.8ml（0.21
モル）をジメチルホルムアミド420mlに溶解し、その
後、炭酸カリウム29.2g（0.21モル）を添加し、そして
バッチを80℃で８時間撹拌する。その後、これを氷／水
に注ぎ、酢酸エチルエステルで２回抽出する。抽出物を
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発により濃縮す
る。
収量:62.7g（理論量の98.5％）油状物質。
実施例1.3:3−アミノ−２−ベンジルチオ安息香酸メチ
ルエステル（中間体）の製造 ２−ベンジルチオ−３−ニトロ安息香酸メチルエステ
ル62.7g（0.207モル）を、テトラヒドロフラン700ml中
に溶解し、ラネーニッケル14gを添加し、そしてバッチ
を20〜28℃で水素化する。
収量:54.5g（理論量の96％） 実施例1.4:5−ブロモ−２−クロロ−３−ニトロ安息香
酸メチルエステル（中間体）の製造 ５−ブロモ−２−クロロ−３−ニトロ安息香酸51.0g
（0.182モル）及びメタノール500mlに、濃硫酸20mlを滴
下する。その後、混合物を還流下で16時間煮沸し、その
後続いて氷浴で冷却し、得られた沈殿を過により単離
する。母液を濃縮し水を加え、生じた沈殿を過により
単離する。
収量:50.2g（理論量の94％）；融点69℃ 実施例1.5:2−ベンジルメルカプト−５−ブロモ−３−
ニトロ安息香酸メチルエステル（中間体）の製造 ベンジルメルカプタン71.6g（0.58モル）をメタノー
ル／水（8:2）2.9l中に溶解し、その後炭酸カリウム79.
8g（0.58モル）を添加する。０〜５℃で、５−ブロモ−
２−クロロ−３−ニトロ安息香酸メチルエステル170g
（0.58モル）を、いくつかに分けて2.5時間かけて、撹
拌しながら添加する。その後、撹拌をさらに２時間続
け、その後内部の温度は20℃に上がる。その後、得られ
た沈殿を過により単離し、少量の水で洗浄し、続いて
500mlのメタノール／水で洗浄する。乾燥した後、淡黄
色の生成物208g（94％）が得られる。メタノール400ml
から再結晶すると、融点65〜66℃の生成物190g（理論量
の86％）が得られる。
実施例1.6:3−アミノ−２−ベンジルチオ安息香酸メチ
ルエステル（中間体）の製造 ２−ベンジルチオ−５−ブロモ−３−ニトロ安息香酸
メチルエステル156.25g（0.408モル）をPd/C（５％）60
gの存在下、テトラヒドロフラン3l中で水素化する。ニ
トロ基を還元した後、さらに30gのPd/C（５％）及び45.
4g（0.448モル）のトリエチルアミンを添加し、水素化
を続ける。その後、触媒を過により単離し、溶液を濃
縮する。油状の残渣を酢酸エチル中で処理し、水で３回
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、過し、得ら
れた溶液を蒸発により濃縮する。得られた生成物（111
g）は直接さらに反応させる。
実施例1.7:7−メトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チア
ジアゾールの製造 ３−アミノ−２−ベンジルチオ安息香酸メチルエステ
ル475g（1.74モル）を、水520ml中の濃塩酸1.18lに35℃
で添加して塩酸塩とする。バッチを同温で15分間撹拌
し、その後−５℃に冷却する。その後、水520ml中の亜
硝酸ナトリウム120gの溶液を2.5時間かけて滴下する。
滴下が完了したら、バッチを０℃で２時間、さらに20℃
で２時間撹拌する。反応材料を過により単離し、水洗
し、プレスオフする。酢酸エチル／ヘキサンから再結晶
すると、融点が134〜135℃である生成物292g（論理量の
86％）が得られる。
実施例1.8:ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カル
ボン酸の製造 ７−メトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジアゾ
ール100g（0.51モル）を水1000ml中に懸濁し、その後2N
の水酸化ナトリウム溶液310ml及びジオキサン5mlを添加
する。反応混合物を40℃に加熱し、その温度で４時間撹
拌し、その後、10℃に冷却する。さらに1000mlの水を添
加し、バッチを2Nの塩酸310mlで中和する。得られた沈
殿を過により単離し、空気流中で軽度に乾燥した後、
テトラヒドロフランに溶解し、溶液を硫酸マグネシウム
で乾燥し、過し、その後濃縮する。結晶をヘキサン中
に懸濁し、過により単離した後、乾燥する。収量:91g
（理論量の98％）；融点261〜263℃。
実施例1.9a:ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カル
ボン酸クロライド（中間体）の製造 ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸12.
54g（0.070モル）をチオニルクロライド80mlと混合す
る。混合物を加熱し、90℃の浴温で８時間維持する。過
剰のチオニルクロライドを、40℃の浴温でロータリーエ
バポレーターで蒸発させることにより除去する。得られ
た油は固化する。融点107℃ 次の反応のために、得られた酸クロライドをトルエン
に溶解し、直接使用する。
実施例1.9b:1,2,3−ベンゾ−チアジアゾール−７−カル
ボン酸の対称的な無水物の製造 1,2,3−ベンゾチアジアゾール−７−カルボン酸3g
を、無水酢酸50ml中、還流下で24時間煮沸する。その
後、得られた薄い懸濁液を減圧下、蒸発により濃縮し、
得られた固体残渣をエーテル中に懸濁し、過により単
離することにより、融点117〜119℃の無水物4.3gが得ら
れる。例えば、カルボン酸をビス−（２−オキソ−３−
オキサゾリジニル）−ホスフィン酸クロライドと共に、
乾燥テトラヒドロフラン中で加熱することによっても同
じ化合物が得られる。〔シンセシス（Synthesis）1981,
616〕。
実施例1.10:7−シアノベンゾ−1,2,3−チアジアゾール
の製造 ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−イルカルボン
酸アミド4.0g（0.022モル）をテトラヒドロフラン35ml
中に溶解し、ピリジン3.6ml（0.045モル）を添加する。
その後、バッチを３℃に冷却し、テトラヒドロフラン12
ml中のトリフルオロ酢酸無水物3.9ml（0.028モル）の溶
液を滴下する。続いて反応混合物を室温で22時間撹拌
し、氷／水に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出する。抽出物
を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、シリカゲルの層
を通して過する。蒸発により濃縮すると、融点119〜1
22℃の結晶性生成物3.5g（理論量の99％）が得られる。
実施例1.11:ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カル
ボン酸ヒドラジドの製造 ７−メトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジアゾ
ール9.7gを、水30ml中、50℃でヒドラジンヒドレート4.
8gと19時間反応させ、その後、さらに80〜90℃で６時間
反応させる。懸濁液をわずかに冷却し、熱時過し、水
洗すると、融点270〜272℃の白色結晶8.8gが得られる。
実施例1.12:2−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７
−カルボニル）−１−（α−メチルプロピリデン）−ヒ
ドラジンの製造 ベンゾチアジアゾール−７−カルボン酸ヒドラジド2
1.5g及びメチルエチルケトン150mlを、氷酢酸150ml中、
８時間かけて70℃に加熱する。その後、反応混合物を減
圧下で蒸発させることにより濃縮し、残渣をジクロロメ
タン１中にとり、溶液を700mlの氷水で２回洗浄す
る。硫酸ナトリウム上で乾燥し、過し、蒸発により濃
縮し、そしてその後、残渣を酢酸エチル中に懸濁し、
過し、その後乾燥する。上記で示した生成物は159〜162
℃で溶融する。
実施例1.13:2−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７
−カルボニル）−１−（２′−ｎ−ブチル）−ヒドラジ
ン ２−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボ
ニル）−１−（α−メチルプロピリデン）ヒドラジン1
0.5gを、ジメチルホルムアミド150ml及びメチルセロソ
ルブ100ml中に溶解し、その溶液を室温で、常圧下、白
金／炭素7g上で水素化する。その後、該触媒を過によ
り単離し、液を蒸発により濃縮した後に残留する生成
物をシリカゲル上で酢酸エチルを用いてクロマトグラフ
ィーにかけると、融点が148〜150℃である白色結晶の形
態の生成物が得られる。
実施例1.14:2−ベンジルチオ−3,5−ジニトロ安息香酸
メチルエステル（中間体）の製造 炭酸カリウム332g（2.40モル）をジメチルホルム500m
lに導入し、−５℃に冷却する。その後、ジメチルホル
ムアミド1.1中の２−クロロ−3,5−ジニトロ安息香酸
（化合物75％と水25％からなる運搬及び貯蔵型）375g
（1.14モル）を30分かけて添加する。この間、内部の温
度は−５℃ないし４℃に維持する。その後、ベンジルメ
ルカプタン142g（1.14モル）を０ないし３℃で2.5時間
かけて滴下する。続いて、温度を16時間かけて20℃に上
げる。その後、ヨウ化メチル170g（1.2モル）を室温で
５時間かけて滴下する。その後、反応混合物を室温で16
時間撹拌し、その後、氷／水3lに注ぎ、撹拌し、過す
る。吸引過により得られた材料を各回700mlの水で４
回洗浄し、まだ湿っている間に次の段階で水素化する。
（実施例1.15参照）。乾燥した生成物は113〜114℃の融
点を有する。
実施例1.15:2−ベンジルチオ−3,5−ジアミノ安息香酸
メチルエステル（中間体）の製造 前段階（実施例1.14参照）で得られた、まだ湿ってい
る２−ベンジルチオ−3,5−ジニトロ安息香酸メチルエ
ステルをテトラヒドロフラン2lに溶解し、ラネーニッケ
ル40gを３回添加して30〜35℃で水素化する。その後、
触媒を過により除去し、液を濃縮し、その後、酢酸
エチル中で残渣を処理する。硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、活性炭及びフラー土（fuller′s earth）で処理
し、液を濃縮した後、ジエチルエーテルの添加により
生成物を結晶化させる。
収量:253g（３工程を通じての収率77％）； 融点:84〜86℃ 実施例1.16:7−メトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チ
アジアゾールの製造 ａ）２−ベンジルチオ−3,5−ジアミノ安息香酸メチル
エステル100g（0.35モル）を濃塩酸250ml及び水110mlに
いくつかに分けて添加し、室温で1.5時間撹拌する。そ
の後、混合物を−５℃に冷却し、撹拌しながら2.5時間
かけて、水210ml中の亜硝酸ナトリウム48.5g（0.70モ
ル）の溶液を滴下する。撹拌操作は０℃でさらに２時間
続ける。その後、50％の次亜リン酸190mlを2.5時間かけ
て滴下する。その後、温度を19時間かけて20℃に上げ
る。得られた生成物を過により単離し、水洗した後、
乾燥する。精製のために、生成物を酢酸エチル／メチレ
ンクロライドに溶解し、シリカゲルを通して過し、溶
媒を蒸発させ、ヘキサンの添加により結晶化する。
収量:44.4g（理論量の65％）； 融点:132℃ ｂ）3,5−ジアミノ−２−ベンジルチオ安息香酸メチル
エステル576g（２モル）を、1,4−ジオキサン500mlに溶
解し、そのバッチを5Nの塩酸3lに、撹拌及び０〜５℃に
冷却しながら滴下する。その後、微細な懸濁液を−17〜
−20℃に冷却し、水500ml中の亜硝酸ナトリウム294gを
表面下に1.25時間かけて滴下する。撹拌を続けながら、
内部の温度を１時間かけて−５℃に上げ、２時間維持す
る。その後、懸濁液を−15℃に冷却し、−10ないし−15
℃に冷却した次亜リン酸（1.1）に、撹拌しながら、
いくつかに分けて導入する。この操作の間に、窒素が発
生する。添加完了後、内部の温度を５〜６時間かけて室
温まで上げ、生じた沈殿を過により単離し、メチレン
クロライド2.5lと撹拌し、不溶部分を再び過により単
離し、液を水と分離する。その後、有機層を硫酸ナト
リウムで乾燥し、シリカゲル300gと撹拌し、再び過し
た後、メチレンクロライドで洗浄し、その後、液を蒸
発により濃縮する。メタノールから再結晶すると、合計
244.8g（理論量の63.1％）の融点130〜133℃のベージュ
色の結晶が得られる。
ｃ）ジオキサン200mlに溶解した3,5−ジアミノ−２−ｎ
−ドデシルチオ安息香酸メチルエステル183g（0.5モ
ル）を、０〜５℃で冷却及び撹拌しながら、5Nの塩酸1.
2lに滴下する。約１時間撹拌を続けると微細な沈殿が得
られる。その後、−15ないし−21℃に冷却し、該温度で
撹拌しながら、水130ml中の亜硝酸ナトリウム73.5gの溶
液を、１時間かけて表面下に滴下する。その後、内部の
温度を１時間かけて−５℃に上げ、該温度でさらに３時
間撹拌を続ける。その後、懸濁液を再び−10℃に冷却
し、同様に冷却された次亜リン酸（280ml）に、いくつ
かに分けて1.5時間かけて添加する。この操作の間に窒
素が発生する。最後に、撹拌を６時間続ける。この間に
室温になる。そして過により沈殿を単離し、実施例1.
16bに記載したように処理を行なうと、粗生成物が生成
する。さらに精製するために、シリカゲルを満たした吸
引フィルターを通して該粗生成物を過し、その後、メ
チレンクロライド／ヘキサン（10:1）で洗浄することも
できる。バッチを蒸発により濃縮し、残渣をメタノール
30mlと撹拌すると、ベージュ色の結晶46.3gが得られ
る。酢酸エチルから結晶させた後の液から、さらに7.
2gの粗生成物が得られる。従って、総収量は53.5g（理
論量の55.2％）、融点130〜133℃となる。
ｄ）1,2,3−ベンゾチアジアゾール−７−カルボン酸1.4
8gを、窒素雰囲気下で無水テトラヒドロフラン40mlに導
入し、０〜３℃に冷却しながら、１−クロロ−N,N−２
−トリメチルプロペニルアミン1.46gを滴下する。この
バッチを室温で一晩撹拌し、翌日、再び冷却し、そこに
ピリジン1.18g及び無水メタノール0.64gを滴下する。そ
の後、バッチを室温で７時間撹拌し、メチレンクロライ
ドで希釈し、そして、氷／水を添加する。有機層を分離
し、水層をメチレンクロライドで３回抽出し、抽出物を
水洗し、乾燥し、蒸発により濃縮する。結晶性残渣を高
度真空下、50℃で乾燥し、少量のヘキサンで粉砕し、
過し、得られた沈殿をヘキサンで完全に洗浄すると、融
点128〜130℃の純粋な生成物1.38g（理論量の87％）が
得られる。
ｅ）実施例1.16bと同様の方法を用いて、3,5−ジアミノ
−２−メチルチオ安息香酸メチルエステルを標記化合物
に転化する。
実施例1.17:7−（２−トリメチルシリルエトキシカルボ
ニル）−ベンゾ−1,2,3−チアジアゾールの製造 トルエン18ml中の７−ベンゾチアジアゾールカルボン
酸クロライド1.99g（0.01モル）を２−トリメチルシリ
ルエタノール1.9ml（0.013モル）、トリエチルアミン2.
4ml（0.017モル）及びトルエン18mlからなる溶液に25分
間かけて滴下する。その後、反応混合物を室温で16時間
撹拌し、その後、氷／水上へ注ぎ、酢酸エチルエステル
で２回抽出する。抽出物を併せ、水洗し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、過し、濃縮し、その後、同量のヘキサ
ンを添加し、バッチをシリカゲルを通して過する。濃
縮により、融点37〜39℃の生成物2.0g（理論量の71％）
が得られる。
実施例1.18:7−（カルボニルオキシメチル−Ｏ−エチル
−メチルホスフィン酸エステル）−ベンゾ−1,2,3−チ
アジアゾールの製造 ジオキサン26ml中のベンゾ−1,2,3−チアジアゾール
−７−カルボン酸クロライド2.6g（0.013モル）を、ヒ
ドロキシメチル−メチル−ホスフィン酸エチルエステル
2.2g、トリエチルアミン3.2ml（0.023モル）及びジオキ
サン26mlからなる溶液に滴下する。その後、反応混合物
を室温で16時間撹拌し、その後シリカゲルの層を通して
過し、濃縮する。生成物を酢酸エチル／ヘキサンから
再結晶する。
収量:2.2g（56％）；融点89〜92℃ 実施例1.19:2−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７
−カルボニル）−１−（２′−ブチル）−ヒドラジンの
製造 ２−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボ
ニル）−１−（α−メチルプロピリジンヒドラジン10.5
gを、ジメチルホルムアミド150ml及びメチルセロソルブ
100mlに溶解し、室温で、常圧下、白金／炭素7g上で水
素化する。その後、過により触媒を溶液から単離し、
液を蒸発により濃縮した後に残る生成物をシリカゲル
（酢酸エチル）のクロマトグラフィーにかける。生成物
は融点148〜150℃の白色結晶の形態で得られる。
実施例1.20:2−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７
−カルボニル−１−（２′−ブチル）−ヒドラジンの製
造 ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸ヒ
ドラジド4.8gをテトラフラン300mlに溶解し、メチルエ
チルケトン9.3g及び５％の白金／炭素触媒0.6gを添加す
る。その後、バッチを20〜25℃の温度で、常圧下、反応
が停止するまで水素化する。この間に、各回2gの触媒を
３回添加する。その後、触媒を過により単離し、液
を蒸発により濃縮し、酢酸エチルエステルから再結晶す
ると、融点147〜150℃の白色結晶が得られる。
実施例1.21:2−ベンジルチオ−３−ニトロ安息香酸（中
間体）の製造 ベンジルメルカプタン6.85g（0.055モル）ジメチルホ
ルムアミド150mlに溶解する。その後、バッチを０℃に
冷却し、炭酸カリウム15.2g（0.11モル）を添加する。
その後、2,3−ジニトロ安息香酸10.6g（0.050モル）を
０ないし５℃の温度でいくつかに分けて添加する。その
後、内部の温度を24時間かけて室温に上げる。その後、
反応混合物を氷／水上に注ぎ、塩酸で酸性にする。得ら
れた生成物を過し、水洗した後、乾燥する。収量:11.
8g（理論量の82％）；融点:152〜153℃ 実施例1.22:3−アミノ−２−ベンジルチオ安息香酸の製
造 ２−ベンジルチオ−３−ニトロ安息香酸11.0g（0.038
モル）をテトラヒドロフラン110mlに溶解し、20ないし2
5℃の温度で、ラネーニッケルの存在下、常圧で水素化
する。その後、触媒を過により単離し、液を濃縮
し、得られた生成物を直接次の段階（実施例1.23）に使
用する。
実施例1.23:ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カル
ボン酸の製造 実施例1.22で得られた生成物を実施例1.7と同様の方
法により、塩酸及び亜硝酸ナトリウムと反応させ、融点
260〜262℃の標記化合物を得る。
実施例1.24:3,5−ジニトロ−２−イソプロピルチオ安息
香酸メチルエステルの製造 炭酸カリウム33.2g（0.240モル）をジメチルホルムア
ミド100mlに導入し、−５℃に冷却する。その後、ジメ
チルホルムアミド110ml中の２−クロロ−3,5−ジニトロ
安息香酸37.5g（0.114モル）（化合物75％及び水25％）
を20分間かけて添加する。この間に温度は−７℃ないし
−３℃に維持される。その後、ジメチルホルムアミド20
ml中のイソプロピルメルカプタン（97％）11.0ml（0.11
4モル）を−８〜−１℃の温度で45分間かけて滴下す
る。その後、バッチを０℃で１時間撹拌し、その後、温
度を24時間かけて25℃に上げる。その後、ヨウ化メチル
7.5ml（0.12モル）を室温で30分間かけて滴下する。続
いて、反応混合物を室温で16時間撹拌し、氷／水500ml
上に注ぎ、撹拌した後、過する。吸引過により得ら
れた材料を水洗し、室温で乾燥する。
収量:32.6g（理論量の95％）； 融点:62〜63℃ 実施例1.25:3,5−ジアミノ−２−イソプロピルチオ安息
香酸メチルエステルの製造 3,5−ジニトロ−２−イソプロピルチオ安息香酸メチ
ルエステル26.6g（0.0886モル）をテトラヒドロフラン2
70mlに溶解し、30ないし35℃でラネーニッケル10gを添
加することにより水素化する。触媒を過により単離
し、液を濃縮し、残渣を酢酸エチル／ヘキサンから結
晶化する。
収量:20.1g（理論量の94％）；融点:109〜111℃。
実施例1.26:7−メトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チ
アジアゾールの製造 3,5−ジアミノ−２−イソプロピルチオ安息香酸メチ
ルエステル17.0g（0.0707モル）を濃塩酸100ml及び水50
mlにいくつかに分けて添加し、そのバッチを室温で１時
間攪拌する。その後、−５℃に冷却し、水20ml中の亜硝
酸ナトリウム9.80g（0.142モル）の溶液を攪拌しながら
２時間かけて滴下する。攪拌を０℃でさらに２時間続
け、50％の次亜リン酸23ml（0.21モル）を30分間かけて
滴下する。その後、温度を24時間かけて20℃に上げる。
水150mlを反応混合物に添加し、生成物を過により単
離し、水洗した後、乾燥する。精製のために、生成物を
酢酸エチル300ml中で処理し、還流下で煮沸し、熱時
過する。濃縮した液にヘキサンを加える。得られた生
成物を過により単離した後、乾燥する。
収量:7.5g（理論量の55％）；融点:130〜131℃。
実施例1.27:3,5−ジニトロ−２−エチルチオ安息香酸エ
チルエステルの製造 炭酸カリウム33.2g（0.240モル）をジメチルホルムア
ミド100mlに導入し、−５℃に冷却する。その後、ジメ
チルホルムアミド120mlに溶解した２−クロロ−3,5−ジ
ニトロ安息香酸（化合物75％及び水25％）37.5g（0.114
モル）を20分間かけて添加する。この間に内部の温度は
−５ないし０℃に維持される。その後、ジメチルホルム
アミド20ml中のエチルメルカプタン8.9ml（0.12モル）
を−８℃で20分間かけて滴下する。その後、バッチを同
温で１時間攪拌した後、温度を19時間かけて室温に上げ
る。その後、ジメチルホルムアミド20ml中の臭化エチル
9.0ml（0.12モル）を10分間かけて滴下し、続いて反応
混合物を室温で24時間攪拌し、その後、氷／水500ml上
に注ぎ、攪拌した後、過する。吸引過により得られ
た物質を水洗し、減圧下、室温で、五酸化リンの存在下
で乾燥する。
収量:28.7g（理論量の84％）；融点:80〜81℃ 実施例1.28:3,5−ジアミノ−２−エチルチオ安息香酸エ
チルエステルの製造 3,5−ジニトロ−２−エチルチオ安息香酸エチルエス
テル25.9g（0.0862モル）をテトラヒドロフラン260ml中
に溶解し、30〜35℃で、ラネーニッケル10gの存在下で
水素化する。その後、触媒を過により単離し、残渣を
酢酸エチル中で処理し、硫酸マグネシウムで乾燥し、
過し、濃縮する。
収量:19.3g（理論量の93％） 実施例1.29:5−フルオロ−1,2,3−ベンゾチアゾール−
７−カルボン酸エチルエステルの製造 3,5−ジアミノ−２−エチルチオ安息香酸エチルエス
テル18.7g（0.078モル）を無水の乾燥フッ化水素100g中
に、０ないし−12℃で導入する。その後、亜硝酸ナトリ
ウム12.9g（0.187モル）を０ないし５℃で２時間かけて
計量しながら供給し、反応混合物をさらに２時間攪拌す
る。その後、ジアゾニウム溶液をテフロン被覆したオー
トクレーブに移し、その中で146℃に加熱する。反応
後、フッ化水素を蒸発により除去し、残渣をメチレンク
ロライド中で処理する。炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、該溶液を過
し、濃縮する。得られた粗生成物をシリカゲルのカラム
で精製する（溶媒：石油エーテル／ジエチルエーテル＝
2:1）。
収量：融点68〜69℃の黄色結晶1.5g。
実施例1.30:2−ベンジルチオ−3,5−ジアミノ安息香酸
メチルエステルの製造 鉄の削り屑17.7gを酢酸（５％）80ml中で完全に攪拌
しながら66℃に加熱する。その後、テトラヒドロフラン
20ml中の２−ベンジルチオ−3,5−ジニトロ安息香酸メ
チルエステル12.0g（0.034モル）の溶液をゆっくり滴下
する。冷却後、バッチを炭酸水素ナトリウムの飽和溶液
で中和し、酢酸エチルで３回抽出する。抽出物を水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、過した後、濃縮す
る。ジエチルエーテルから結晶化させると生成物8.1g
（理論量の82％）が得られる。融点:80〜82℃。
実施例1.31:3,5−ジアミノ−２−メチルチオ安息香酸メ
チルエステルの製造 実施例1.30に記載された方法を用いて、3,5−ジニト
ロ−２−メチルチオ安息香酸メチルエステルを鉄の削り
屑により還元して融点102〜104℃の標記化合物を得る。
上記の実施例と同様に方法により、下記の化合物を製
造することができる。
化合物の表に付された記号は下記の基を表わすために
使用される。
上記の複素環は低分子量の基、例えば６個以下の炭素
原子を有する脂肪族の基、またはハロゲン原子もしくは
他の基により置換されていてもよい。
2.式Ｉで表される液体有効成分のための配合例（パーセ
ントは重量による） 必要な濃度の乳濁液は、この型の濃厚物から水で希釈
することにより調製し得る。
該溶液は、微細な滴の形態で適用するのに適する。
2.3顆粒剤 ａ） ｂ） 表１〜７の化合物 ５％ 10％ カオリン 94％ − 高分散ケイ酸 １％ − アタパルガイド − 90％ 有効成分を塩化メチレン中に溶解し、得られた溶液を
担体上に噴霧し、次いで溶媒を減圧下にて蒸発させる。
2.4粉剤 ａ） ｂ） 表１〜７の化合物 ２％ ５％ 高分散ケイ酸 １％ ５％ タルク 97％ − カオリン − 90％ そのまま使用し得る粉剤は、有効成分を担体と混合す
ることにより得られる。
式Ｉで表される固体化合物のための配合例（パーセント
は重量による） 有効成分を助剤とよく混合し、そして混合物を適当な
ミルで十分に摩砕する。水で希釈することにより所望濃
度の懸濁液とし得る水和剤が得られる。
2.6乳濁液濃厚物 表１〜７の化合物 10％ オクチルフェノールポリエチレン ３％ グリコールエーテル（エチレンオキシド４ないし５モ
ル） ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム ３％ ヒマシ油ポリグリコールエーテル ４％ （エチレンオキシド35モル） シクロヘキサノン 30％ キシレン混合物 50％ 必要な濃度のエマルジョンは、この濃厚物を水で希釈
することにより得ることができる。
2.7粉剤 ａ） ｂ） 表１〜７の化合物 ５％ ８％ タルク 95％ − カオリン − 92％ そのまま使用し得る粉剤は、有効成分を担体と混合
し、そして混合物を適当なミル中で摩砕することにより
得られる。
2.8押出成形粒剤 表１〜７の化合物 10％ リグノスルホン酸ナトリウム ２％ カルボキシメチルセルロール １％ カオリン 87％ 有効成分を助剤と混合及び摩砕し、続いて混合物を水
で湿らせる。この混合物を押出成形しそして空気流中で
乾燥する。
2.9被覆粒剤 表１〜７の化合物 ３％ ポリエチレングリコール（分子量200） ３％ カオリン 94％ 微粉砕有効成分をミキサー中で、ポリエチレングリコ
ールで湿らせたカオリンに均一に塗布する。このように
して非粉塵性被覆粒剤が得られる。
2.10懸濁液濃厚物 表１〜７の化合物 40％ エチレングリコール 10％ ノニルフェノールポリエチレング ６％ リコールエーテル（エチレンオキシド15モル） リグノスルホン酸ナトリウム 10％ カルボキシメチルセルロース １％ 37％ホルムアルデヒド水溶液 0.2％ 75％水性乳濁液の形態のシリコン油 0.8％ 水 32％ 微粉砕有効成分を助剤と均質に混合する。このように
して懸濁液濃厚物が得られ、それから水で希釈すること
により、所望濃度の懸濁液が得られる。
3.生物学的実施例 実施例3.1:ククミス サティバスＬ（Cucumis sativus
L）に付いたコレトトリクム ラゲナリウム（Colletotr
ichum lagenarium）に対する免疫作用 Ａ）葉施用 栽培後２週間のキュウリ植物に試験化合物の水和剤か
ら調製した噴霧用混合物（濃度:0.02％有効成分）を噴
霧する。
１週間後、この植物にかびの胞子懸濁液（1.5×105胞
子/ml）を感染させ、暗中に高湿23℃で36時間培養す
る。
保護作用の評価を感染後７ないし８日目にかびの攻撃
を基礎として行なう。
Ｂ）土壌施用 栽培後２週間のキュウリ植物に試験化合物の水和剤か
ら調製した噴霧用混合物（濃度：土壌の容量を基礎とし
て0.002％有効成分）の土壌施用により処理する。
１週間後、この植物にかびの胞子懸濁液（1.5×105胞
子/ml）を感染させ、暗中に高湿23℃で36時間培養す
る。次いで感染状態を通常湿度及び22ないし23℃で継続
する。
保護作用の評価を感染後７ないし８日目にかびの攻撃
を基礎として行なう。
Ｃ）粉衣 キュウリの種子に試験化合物の溶液（濃度:100kgの種
子当り180gの有効成分）を粉衣する。この種子を蒔き、
４週間後、この植物にかびの胞子懸濁液（1.5×105胞子
/ml）を感染させ、暗中に高温23℃で36時間培養する。
次いで感染状態を通常湿度及び22ないし23℃で継続す
る。保護作用の評価を感染後７ないし８日目にかびの攻
撃を基礎として行なう。
試験Ａ及びＢにおける未処理の感染対照植物及び試験
Ｃでの種子の処理をしていない感染植物は100％のかび
攻撃を示す。
表１ないし７の化合物はコレトトリクムラゲナリウム
に対し良好な免疫作用を示す。この様に、例えば化合物
No.1.1,1.2,1.3,1.4,1.5,1.34,1.39,1.46,1.79,1.81,1.
86,1.101,1.1116,1.136,1.139,1.140,1.144,2.5,3.29,
7.6又は7.26で処理した植物な実質的に完全にコレトト
リクムのない状態（20ないし０％攻撃）にある。
実施例3.2比較試験：コレトトリクムラゲナリウムに対
する直接作用 製剤化された試験化合物を、高圧蒸気処理した後冷却
し、次いで103胞子/mlを含有させた栄養物質（野菜ジュ
ース）と種々の濃度（100,10,1,0.1ppm）で混合し、こ
の混合物を微滴定量板上に注ぐ。次いでこの板を暗中22
℃で培養する。２ないし３日後かびの成長を分光測定法
で測定し、EC50値を測定する。
例えば、化合物1.1,1.2,1.4,1.34,1.39,1.79,1.81,1.
86,1.100,1.101,1.116,1.135,1.136,1.139,1.140,1.14
4,2.5,3.26,3.29あるいは7.6の場合、かびの成長の抑制
は観察されない。これに対して防かび剤ベノミル（市販
品） を0.2ppmで比較物質として使用した場合、コレトトリク
ム ラゲナリウムの50％抑制（EC50）が起る。
実施例3.3:稲植物に付いたピリクラリアオリザエ（Pyri
cularia oryzae）に対する免疫作用 Ａ）葉施用 栽培後３週間の稲植物を試験化合物の水和剤から調製
した噴霧用混合物（濃度:0.02％有効成分）の葉施用に
より処理する。２ないし３日後、この植物に胞子懸濁液
（350,000胞子/ml）を接種し、７日間高湿24℃で培養す
る。保護作用の評価を接種後７ないし８日目にかびの攻
撃を基礎として行なう。
未処理の感染させた対照植物はこの試験において100
％の攻撃を示す。表１ないし８の化合物はピリクラリア
オリザエに対し良好な免疫作用を示す。この様に例え
ば化合物1.2,1.34,1.37,1.38,1.39,1.72,1.79,1.86,1.9
6,1.103,1.119,1.135,2.2,2.3,3.1,3.2,3.8,3.9,3.13,
4.2,5.2又は7.2で処理した植物は実質的に完全にピリク
ラリア オリザエのない状態（20ないし０％攻撃）にあ
る。
Ｂ）土壌施用 栽培後３週間の稲植物に試験化合物の水和剤から調製
した噴霧用混合物（濃度：土壌の容量を基礎として0.00
2％有効成分）の土壌施用により処理する。２ないし３
日後、この植物にかびの胞子懸濁液（35×105胞子/ml）
を接種し、７日間高湿24℃で培養する。保護作用の評価
を接種後７ないし８日間にかびの攻撃を基礎として行な
う。未処理の感染させた対照植物はこの試験において10
0％の攻撃を示す。表１ないし７の化合物はピリクラリ
ア オリザエに対し良好な免疫作用を示す。この様に例
えば化合物1.2,1.34,1.37,1.38,1.39,1.79,1.96,1.103,
1.119,1.135,2.2,2.3,3.1,3.9,3.13又は7.3で処理した
植物は実質的に完全にピリクラリア オリザエのない状
態（20ないし０％）にある。
実施例3.4:比較試験：ピリクラリア オリザエに対する
直接作用 製剤化された試験化合物を、高圧蒸気処理した後冷却
し、次いで103胞子/mlを含有させた栄養物質（野菜ジュ
ース）と種々の濃度（100,10,1,0.1ppm）で混合し、こ
の混合物を微滴定量板上に注ぐ。次いでこの板を暗中22
℃で培養する。２ないし３日後かびの成長を分光測定法
で測定し、EC50を測定する。
例えば、化合物1.1,1.2,1.3,1.4,1.5,1.34,1.37,1.3
9,1.72,1.86,1.96,1.100,1.101,1.103,1.108,1.140,2.
5,3.1,3.9,3.26,7.26又は7.6の場合、かびの成長の抑制
は観察されない。これに対して防かび剤ベノミル（市販
品／実施例3.2参照）を0.1ppmで比較物質として使用し
た場合、ピリクラリア オリザエの50％抑制（EC50）が
起る。
実施例3.5:ククミス サティバスＬ（Cucumis sativus
L）に付いたシュードモナス ラクリマンス（Pseudomon
as lachrymans）に対する免疫作用 Ａ）葉施用 栽培後２週間のキュウリ植物に試験化合物の水和剤か
ら調製した噴霧用混合物（濃度:0.02％有効成分）を噴
霧する。
１週間後、この植物にバクテリア懸濁液（108バクテ
リア/ml）を感染させ、高湿23℃で７日間培養する。
保護作用の評価を感染後７ないし８日目にバクテリア
の攻撃を基礎として行なう。
表１ないし８の化合物はシュードモナスラクリマンス
に対し良好な免疫作用を示す。この様に例えば化合物1.
2,1.3,1.4,1.5,1.9,1.34,1.38,1.46,1.72,1.79,1.81,1.
119,1.135,2.2,2.3,3.1,3.28,3.29又は7.26で処理した
植物は実質的に完全にシュードモナス ラクリマンスの
ない状態（20ないし０％攻撃）にある。
Ｂ）土壌施用 栽培後２週間のキュウリ植物に試験化合物の水和剤か
ら調製した噴霧用混合物（濃度：土壌の容量を基礎とし
て0.002％有効成分）の土壌施用により処理する。
１週間後、この植物にバクテリア懸濁液（108バクテ
リア/ml）を感染させ、高湿23℃で７日間培養する。
保護作用の評価を感染後７ないし８日目にバクテリア
の攻撃を基礎として行なう。
表１ないし７の化合物はシュードモナスラクリマンス
に対し良好な免疫作用を示す。この様に例えば化合物1.
1,1.2,1.3,1.4,1.5,1.9,1.34,1.38,1.46,1.72,1.79,1.8
1,1.119,1.135,2.2,2.3,3.1,3.9,3.28,3.29又は7.26で
処理した植物は実質的に完全にシュードモナスのない状
態（20ないし０％攻撃）にある。
未処理の感染させた対照植物は試験Ａ及びＢにおいて
疫病の100％の攻撃を示す。
実施例3.6:比較試験：シュードモナスラクリマンスに対
する直接作用 製剤化された試験化合物を、高圧蒸気処理した後冷却
し、次いで106バクテリア/mlを含有させた栄養スープ
（0.8％）と種々の濃度（100,10,1,0.1ppm）で混合し、
この混合物を微滴定量板上に注ぐ。次いで振動テーブル
（120rpm）上暗中22℃で培養する。２ないし３日の感染
期間の後バクテリアの成長を分光測定法で測定する。
例えば、化合物1.1,1.2,1.3,1.4,1.5,1.34,1.38,1.7
2,1.79,1.81,1.96,1.101,1.119,1.140,2.2,2.3,2.5,3.
1,3.6,3.9,3.26,3.28,3.29又は7.26の場合、バクテリア
の成長の抑制は観察されない。これに対して殺バクテリ
ア剤のストレプトマイシンを0.4ppmで比較物質として使
用した場合、シュードモナス ラクリマンスの50％抑制
（EC50）が起る。
実施例3.7稲植物に付いたキサントモナスオリザエ（Xan
thomonas oryzae）に対する免疫作用 Ａ）葉施用 栽培後３週間の稲植物を試験化合物の水和剤製剤から
調製した噴霧用混合物（濃度:0.02％有効成分）の葉施
用により処理する。２ないし３日後、この植物にバクテ
リア懸濁液（108バクテリア/ml）を接種し、７日間高湿
24℃で培養する。保護作用の評価を接種後７ないし８日
目にバクテリアの攻撃に対して行なう。前記表の化合物
はキサントモナス オリザエに対して良好な免疫作用を
示す。この様に例えば化合物1.3,1.5,1.16,1.37,1.38,
1.72,1.81,1.86,1.95,1.102,1.103,1.108,1.136,1.139,
2.2,2.5又は3.29で処理した植物は実質的に完全にキサ
ントモナス オリザエのない状態（20ないし０％攻撃）
にある。
Ｂ）土壌施用 栽培後３週間の稲植物に試験化合物の水和剤製剤から
調製した噴霧用混合物（濃度：土壌の容量を基礎として
0.002％有効成分）の土壌施用により処理する。２ない
し３日後、この植物にバクテリア懸濁液（108バクテリ
ア/ml）を接種し７日間高湿24℃で培養する。
保護作用の評価を接種後７ないし８日目にバクテリア
の攻撃を基礎として行なう。
表１ないし７の化合物はキサントモナス オリザエに
対して良好な免疫作用を示す。化合物1.2,1.3,1.4,1.5,
1.6,1.9,1.16,1.34,1.35,1.38,1.44,1.46,1.68,1.71,1.
72,1.81,1.86,1.96,1.102,1.103,1.119,1.135,1.136,2.
2,2.3,2.5,3.1,3.13,3.28,3.29,7.2,7.5又は7.26で処理
した植物は実質的に完全にキサントモナス オリザエの
ない状態（20ないし０％攻撃）にある。
未処理の感染した対照植物は試験Ａ及びＢにおいて10
0％の攻撃を示す。
実施例3.8比較試験：キサントモナス オリザエに対す
る直接作用 製剤化された試験化合物を、高圧蒸気処理した後冷却
し、次いで106バクテリア/mlを含有させた栄養スープ
（0.8％）と種々の濃度（100,10,1,0.1ppm）で混合し、
この混合物を微滴定量板上に注ぐ。次いで振動テーブル
（120rpm）上暗中22℃で培養する。２ないし３日の感染
期間の後バクテリアの成長を分光測定法で測定する。
例えば、化合物1.1,1.2,1.3,1.4,1.5,1.9,1.34,1.38,
1.81,1.101,1.119,1.135,1.140,2.3又は2.5の場合、バ
クテリアの成長の抑制は観察されない。これに対して殺
バクテリア剤のストレプトマイシンを0.4ppmで比較物質
として使用した場合、キサントモナス オリザエの50％
抑制（EC50）が起る。
実施例3.9:パプリカ植物に付いたキサントモナス ベシ
カトリア（Xanthomonas vesicatoria）に対する免疫作
用 Ａ）葉施用 栽培後４週間のパプリカ植物に試験化合物の水和剤製
剤から調製した噴霧用混合物（濃度:0.02％有効成分）
の葉施用で処理する。２ないし３日後、この植物にバク
テリア懸濁液（108バクテリア/ml）を接種し、６日間高
湿25℃で培養する。保護作用の評価を接種後７ないし８
日目にバクテリアの攻撃を基礎として行なう。
未処理の感染した対照植物はこの試験において100％
攻撃を示す。
表１ないし７の化合物はキサントモナス ベシカトリ
アに対して良好な免疫作用を示す。この様に例えば化合
物1.2,1.5,1.9,1.16,1.34,1.35,1.37,1.72,1.81,1.86,
1.96,1.102,1.103,1.108,1.136,3.1,3.13,3.28,3.29,5.
2,7.26又は7.5は実質的に完全にキサントモナス ベシ
カトリアのない状態（20ないし０％攻撃）にある。
Ｂ）土壌施用 栽培後４週間のパプリカ植物に試験化合物の水和剤製
剤から調製した噴霧用混合物（濃度：土壌の容量を基礎
として60ppm）の土壌施用により処理する。２ないし３
日後、この植物にバクテリア懸濁液（108バクテリア/m
l）を接種し、６日間高湿25℃で培養する。
保護作用の評価を接種後７ないし８日目にバクテリア
攻撃を基礎として行なう。
未処理の感染した対照植物はこの試験において100％
攻撃を示す。
表１ないし７の化合物はキサントモナス ベシカトリ
アに対して良好な免疫作用を示す。この様に例えば化合
物1.2,1.5,1.6,1.9,1.11,1.16,1.34,1.35,1.36,1.37,1.
39,1.68,1.71,1.72,1.81,1.86,1.95,1.100,1.102,1.10
3,1.108,1.116,1.140,1.144,2.5,3.1,3.13,3.28,3.29,
5.2,7.2,又は7.26で処理した植物は実質的に完全にキサ
ントモナス ベシカトリアのない状態（20ないし０％攻
撃）にある。
実施例3.10トマト植物に付いたヒトフトラ インフェス
タンス（Phytophtora infestans）に対する免疫作用 栽培後３週間のトマト植物を試験化合物の水和剤製剤
から調製した噴霧用混合物（0.02％有効成分）を噴霧す
る。２ないし３日後この処理植物にかびの胞嚢懸濁液
（５×104胞嚢/ml）を感染させる。保護作用の評価を感
染植物の５日間90ないし100％相対湿度及び20℃での培
養の後に行なう。
未処理の感染した植物はこの試験において100％攻撃
を示す。
表１ないし７の化合物はヒトフトラ インフェクタン
スに対して良好な免疫作用を示す。この様に例えば化合
物1.6,1.16,1.34,1.44,1.68,1.71,1.72,1.96,1.101,3.9
又は7.26で処理された植物は実質的にヒトフトラのない
状態（20ないし０％攻撃）にある。
土壌施用 ３週間の栽培期間の後、試験化合物の水和剤製剤から
調製した噴霧用混合物（土壌の容量を基礎として0.006
％有効成分）をトマト植物上に注ぐ。この際、土の上の
植物部分に噴霧混合物が接触しない様に注意する。４日
後に処理した植物にかびの胞嚢懸濁液（５×104胞嚢/m
l）を感染させる。保護作用の評価を感染植物の５日間9
0ないし100％相対湿度及び20℃での培養の後に行なう。
未処理の感染対照植物はこの試験において100％攻撃
を示す。
表１ないし７の化合物はヒトフトラインフェスタンス
に対して良好な免疫作用を示す。この様に例えば化合物
1.6,1.34,1.44,1.68,1.71,1.72,1.101,3.2,3.4,3.6,3.
8,3.9,3.13又は7.26で処理した植物は実質的にヒトフト
ラのない状態（20ないし０％攻撃）にある。
実施例3.11:比較試験：ヒトフトラ インフェスタンス
に対する直接作用 製剤化された試験化合物を、無菌過して106胞嚢/ml
を含有させた栄養物質（豆／かんてん）と種々の濃度
（100,10,1,0.1ppm）で混合し、この混合物を微滴定量
板上に注ぐ。次いでこの板を暗中22℃で培養する。２日
ないし３日後かびの成長を分光測定法により測定する。
例えば化合物1.1,1.2,1.4,1.34,1.72,1.86,1.104,1.1
08,1.116,1.135,1.140,1.144,2.5,3.1,3.6,3.9,3.13,3.
26,7.6又は7.26の場合、かびの成長の抑制は観察されな
い。これに対し、リドミル（市販品）を比較物質として
0.2ppm使用した場合、ヒトフトラ インフェスタンスの
50％抑制が起る。
実施例3.12ブドウ植物に付いたプラスモパラ ビチコラ
（Plasmopara viticola）に対する免疫作用 ４−ないし５葉段階のブドル植物の若木に試験化合物
の水和剤製剤から調製された噴霧用混合物（0.02％有効
成分）を噴霧する。１週間後、処理した植物にかびの胞
嚢懸濁液（５×104胞嚢）を感染させる。保護作用の評
価を６日間の95ないし100％相対湿度及び20℃での培養
の後に行なう。
未処理の感染対照植物はこの試験において100％攻撃
を示す。
表１ないし８の化合物はプラスモパラ ビチコラに対
して良好な免疫作用を示す。この様に例えば化合物1.1,
1.2又は1.5で処理したブドウ植物は実質的にプラスモパ
ラ ビチコラのない状態（20ないし０％攻撃）にある。
実施例3.13:トマト植物に付いたシュードモナス トマ
ト（Pseudomonas tomato）に対する免疫作用 Ａ）葉施用 ３週の栽培期間の後のトマト植物を試験化合物の水和
剤から調製した噴霧用混合物（濃度:0.02％有効成分）
の葉施用により処理する。２ないし３日後この植物にバ
クテリア懸濁液（108バクテリア/ml）を接種し、６日間
高湿、25℃の温度で培養する。保護作用の評価を接種後
７ないし８日目にバクテリア攻撃を基礎として行なう。
未処理の感染対照植物はこの試験において100％攻撃
を示す。
表１ないし８の化合物はシュードモナス トマトに対
して良好な免疫作用を示す。この様に例えば化合物1.1
6,1.95又は7.5で処理した植物は実質的にシュードモナ
スのない状態（20ないし０％攻撃）にある。
Ｂ）土壌施用 ３週の栽培期間の後のトマト植物を試験化合物の水和
剤製剤から調製した噴霧用混合物（濃度：土壌の容量を
基礎として0.002％有効成分）の土壌施用により処理す
る。２ないし３日後この植物にバクテリア懸濁液（108
バクテリア/ml）を接種し、６日間高湿、25℃の温度で
培養する。
この保護作用の評価を接種後７ないし８日目にバクテ
リア攻撃を基礎として行なう。
未処理の感染対照植物はこの試験において100％攻撃
を示す。
表１ないし７の化合物はシュードモナス トマトに対
して良好な免疫作用を示す。この様に、例えば化合物1.
44,1.95又は7.5で処理した植物は実質的に完全にシュー
ドモナスのない状態（20ないし０％攻撃）にある。
実施例3.14:タバコ植物についたヒトフトラ パラジチ
カ バル・ニコチアナエ（Phytophthora pararitica va
r・nicotianae）に対する免疫作用 土壌施用 タバコ植物（８週令）を試験化合物の製剤化された溶
液で土壌施用（濃度：土壌の容量を基礎として2ppm）又
は葉の注入（濃度:0.02％有効成分）することにより処
理する。４週間後この植物にヒトフトラ パラジチカを
感染させる。2mlの遊走子懸濁液（８×104遊走子）を茎
の根元のまわりにピペットで注ぎ、水で土中に洗い流
す。この植物を24°ないし26℃で３週間保つ。
症候の評価を植物の枯れた程度に基づいて行なう。
未処理の感染植物は完全に枯死した。
表１ないし７の化合物はヒトフトラ パラジチカに対
して良好な作用を示す。この様に例えば化合物1.2は枯
れを０ないし５％に減少する。
実施例3.15ヒトフトラ パラジチカ バル・ニコチアナ
エ（Phytophtora pararitica var・nicotianae）に対す
る免接作用 試験化合物を100ppmの濃度で栄養物質（Ｖ−８かんて
ん）と混合し、混合物をペトリ皿に注入する。冷却の
後、菌子体（8mm）の円板を皿の中央に置くかあるいは1
00μｌのかびの遊走子懸濁液（105胞子/ml）を皿上に塗
る。この皿を22℃で培養する。
化合物1.2は有効成分のない対照皿に比較して菌の発
芽や成長に対して何ら抑制作用を示すことはない。
実施例3.16:タバコ植物に付いたペロノスポラタバシナ
（Peronospora tabacina）に対する免疫作用 Ａ）葉施用 タバコ植物（８週令）に試験化合物の製剤化された溶
液（濃度:0.02％有効成分）を噴霧する。４日後処理し
た植物にペロノスポラ タバシナの胞嚢懸濁液（104胞
嚢/ml）を接種し、25℃及び高湿で20時間暗中に保存
し、更に通常の昼／夜の経過を伴う培養を行なう。
Ｂ）土壌施用 タバコ植物（８週令）を試験化合物の製剤化された溶
液（濃度：土壌の容量を基礎として0.006％有効濃度）
の土壌施用により処理する。４日後、この植物にペロノ
スポラ タバシナの胞嚢懸濁液を接種し、20時間、高湿
25℃の暗中に保存し、更に通常の昼／夜の経過を伴う培
養を行なう。
試験Ａ及びＢにおける症候の評価はかびによって攻撃
された葉の表面領域を基礎として行なう。
対照植物は90ないし100％攻撃を示す。化合物1.2によ
り試験Ａ及びＢで処理された植物は０ないし35％攻撃を
示す。
実施例3.17:ペロノスポラ タバシナ（Peronospora tab
acina）に対する直接作用 製剤化された試験化合物を種々の濃度（10,1,0.1pp
m）で水かんてんと混合し、この混合物をペトリ皿に注
入する。冷却の後、100μｌの胞嚢懸濁液（106胞子/m
l）を皿に塗る。この皿を18℃で16時間培養する。
例えば、化合物1.2の場合、ペロノスポラタバシナの
発芽抑制は観察されない。
実施例3.18:タバコ植物に付いたセルコスポラ ニコチ
アナエ（Cercospora nicotianae）に対する免疫作用 Ａ）葉施用 タバコ植物（８週令）に試験化合物の製剤化された溶
液（濃度:200ppm）を噴霧する。４日後にこの処理植物
にセルコスポラ ニコチアナエの胞子懸濁液（105胞子/
ml）を接種し、５日間高湿、22℃ないし25℃の温度で培
養する。次いで通常湿度、20℃ないし22℃で培養を継続
する。
Ｂ）土壌施用 タバコ植物（８週令）を試験化合物の製剤化された溶
液（濃度:0.002％有効成分）の土壌施用により処理す
る。４日後にこの植物にセルコスポラ ニコチアナエの
胞子懸濁液（105胞子/ml）を接種し、５日間高湿、22°
ないし25℃の温度で培養する。次いで通常湿度、20°な
いし22℃で培養を継続する。
試験Ａ及びＢにおいて症候の評価は接種後12ないし14
日目のかび攻撃を基礎として行なう。
対照植物は100％攻撃を示す。試験Ａ及びＢで化合物
1.2により処理された植物は０ないし20％攻撃を示す。
実施例3.19セルコスポラ ニコチアナエ（Cercospora n
icotianae）に対する直接作用 試験化合物を種々の濃度（100,10,1,0.1ppm）で栄養
物質（Ｖ−８かんてん）と混合し、この混合物をペトリ
皿に注ぐ。冷却の後、菌子体（8mm）の円板を皿の中央
に置くかあるいは100μｌのかびの遊走子懸濁液（105胞
子/ml）を皿上に塗る。この皿を22℃で培養する。
化合物1.2は有効成分のない対照皿に比較して菌の発
芽や成長に対して何ら抑制作用を示すことはない。
実施例3.20タバコ植物に付いたシュードモナス タバシ
（Pseudomonas tabaci）に対する免疫作用 Ａ）葉施用 タバコ植物（８週令）に試験化合物の製剤化された溶
液で噴霧（濃度:200ppm）又は注入（濃度:200,60,20pp
m）により処理する。４日後この植物にバクテリア懸濁
液（２×107バクテリア/ml）を噴霧し、高湿及び22°な
いし25℃で３日間保存する。次いで培養を３日間通常の
湿度及び22°ないし25℃で継続する。
Ｂ）土壌施用 タバコ植物（８週令）を試験化合物の製剤化された溶
液（濃度:0.002％ないし0.0002％有効成分）の土壌施用
により処理する。４日後、この植物にバクテリア懸濁液
（２×107バクテリア/ml）を噴霧し、高湿及び22°ない
し25℃で３日間保存する。次いで培養を３日間通常湿度
及び22°ないし25℃で継続する。
試験Ａ及びＢにおいて症候の評価はバクテリア攻撃を
基礎として行なう。
対照植物は100％攻撃を示す。
試験Ａ及びＢで化合物1.2又は1.46で処理された植物
は０ないし20％攻撃を示す。
実施例3.21シュードモナス タバシ（Pseudomonas taba
ci）に対する直接作用 試験化合物を種々の濃度（100,10,1,0.1ppm）106バク
テリア/mlを含む液状栄養物質（栄養スープ）と混合
し、この混合物を微滴定量板に注入する。この板を22℃
で培養し、バクテリアの成長を16時間後、光学濃度の測
定により測定する。
例えば、化合物1.2の場合、シュードモナス タバシ
の成長抑制は観察されない。これに対して、ストレプト
マイシンは0.1ppmで成長の50％抑制（EC50）を生じる。
実施例3.22:タバコ植物に付いたタバコモザイクビール
ス及びポテトＹ−ビールスに対する免疫作用 タバコ植物（８週令）を試験化合物の製剤化された溶
液で噴霧（濃度:200ppm）又は注入（濃度:0.02％ないし
0.0002％有効成分）により処理する。４日後、この植物
に機械的手段によりタバコモザイクビールス（0.5μg/m
l＋カーボンランダム）又はポテトＹ−ビールス（感染
した葉のジュース、1g/100mlH2O＋カーボンランダム）
の懸濁液を接種し、20°ないし22℃で培養する。
保護作用の評価をタバコモザイルビールスの場合接種
後７日目の局部病巣の数とサイズを基礎として、ポテト
Ｙ−ビールスの場合接種後７ないし10日目のビールスの
数の血清学的測定により行なう。
試験において、化合物1.2で処理した植物はタバコモ
ザイクビールスの場合、対応する対照（100％損傷）に
比べて88ないし100％の病巣の発達の抑制を示し、ポテ
トＹ−ビールスの場合、対応する対照（100％損傷）に
比べて70ないし100％のビールス増加の抑制を示す。
実施例3.23:タバコモザイクビールスに対する直接作用 製剤化された試験化合物を直接タバコモザイクビール
スの接種材料（200ppm＋0.5μg/mlビールス＋カーボラ
ンダム）に加える。１時間後タバコ植物にこの混合物を
機械的手段により接種する。
このタバコモザイクビールス及び化合物1.2の混合物
で処理された植物は保護作用を示さない。
実施例3.24小麦に付いたエリシヘ グラミニス（Erysip
he graminis）に対する免疫作用 ５日の栽培期間の後の小麦植物に試験化合物の水和剤
製剤から調製した噴霧用混合物（濃度:0.02％）を噴霧
する。１日後この植物にエリシヘ グラミニスの分生子
を感染させ、20℃で培養する。
保護作用の評価を接種後８ないし10日目にかび攻撃に
基いて行なう。
有効成分として使用される表１ないし８の化合物はこ
の試験においてエリシヘ グラミニスに対して良好な作
用を示す。この様に、例えば化合物1.2で処理した植物
は実質的にエリシヘ攻撃のない状態（０ないし20％損
傷）にある。他方、未処理の感染植物（対照）において
はエリシヘ攻撃は100％であった。
実施例3.25a:ピリクラリア オリザエ（Pyricularia or
yzae），コレトトリクム ラゲナリウム（Colletotrich
um lagenarium）又はヒトフトラ インフェスタンス（P
hytophthora infestans）に対する直接作用の試験管中
試験 試験化合物の有効成分をａ）ピリクラリア オリザエ
又はコレトトリクム ラゲナリウムの104胞子/mlを含む
液体Ｖ−８媒体（野菜混合物）に、そしてｂ）ヒトフト
ラ インンフェスタンスの104胞嚢/mlを含む液体豆媒体
に、両者の場合の有効成分の最終濃度を60ppmとして加
える。この調製された栄養媒体を微滴定量板上に置き、
暗中、２日間22℃及び100％相対湿度で、ピラクラリア
オリザエ及びコレトトリクム ラゲナリウムを含む試
料は振とうしながら保存する。
次いでかびの成長を595nmにおける媒体の分光吸収測
定（濁度測定）により測定する。
実施例3.25b:キサントモナス オリザエ（Xanthomonas
oryzae）及びシュードモナス ラクリマンス（Pseudomo
nas lachrymans）に対する直接作用の試験管中試験 試験化合物の有効成分をキサントモナス オリザエ又
はシュードモナス ラクリマンスの106有機体/mlを含む
栄養媒体（バクト−ヌトリエント ブロス ディフコ;B
acto−Nutrient Broth Difco）に加え、有効成分の最終
濃度を60ppmとする。この調製された栄養媒体を微滴定
量板上に置き、暗中で２日間、22℃及び100％相対湿度
で振とうする。
次いでバクテリアの成長を595nmにおける媒体の分光
吸収測定（濁度測定）により測定する。
この上記試験中の有効成分の試験の間、対照実験を有
効成分を使用しない他は記載された方法で平行に行な
う。対照実験で測定された濁度を使用する評価基準のた
め100％とする。
評価を下記評価基準に基き行なう。
かびの成長（％）評価かびの成長（％） 評 価 81−100 ９＊ 71− 80 ８＊ 61− 70 ７＊ 51− 60 6 41− 50 5 31− 40 4 21− 30 3 11− 20 2 0- 10 1 ＊評価が７以上の場合、直接の殺微生物作用はないと結
論される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 417/12 ２３３ Ｃ０７Ｄ 417/12 ２３９ ２３９ ２４９ ２４９ ２６１ ２６１ ２６５ ２６５ ２７７ ２７７ ３０７ ３０７ ３０９ ３０９ ３１７ ３１７ ３３３ ３３３ Ｃ０７Ｆ 7/10 Ｖ Ｃ０７Ｆ 7/10 9/6541 9/6541 Ｃ０７Ｈ 13/10 Ｃ０７Ｈ 13/10 Ａ０１Ｎ 43/82 １０２ (56)参考文献 仏国特許1541415（ＦＲ，Ａ１) Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，［18］, （1970），ｐ．2514−2518 Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，［23］, （1971），ｐ．3994−3999 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 285/00 - 285/38 C07D 417/00 - 417/14 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (49)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】次式I: （式中、 Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル
    基、メトキシ基、HOOC基またはMOOC基を表し、 Ｙは水素原子、ハロゲン原子、SO3H基、SO3M基、ニトロ
    基、ヒドロキシ基またはアミノ基を表し、 Ｍは相当する塩基または塩基性化合物から形成されるモ
    ル当量のアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イ
    オンを表し、そして Ｚはシアノ基または−CO−Ａで表される基を表し、 ＡはUR、Ｎ（R1）R2またはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4で表さ
    れる基を表し、 Ｕは酸素原子または硫黄原子を表し、 U1は酸素原子または−Ｎ（R5）−で表される基を表し、 Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、ハ
    ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、Ｕ−
    炭素原子数１ないし３のアルキル基もしくは炭素原子数
    ２ないし４のジアルキルアミノ基により置換されるか、
    またはCO基により中断された炭素原子数１ないし８のア
    ルキル基、（Ｔ）−COOHまたは （Ｔ）−COO炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素
    原子数３ないし６のアルケニル基、ハロゲン原子で置換
    された炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子
    数３ないし６のアルキニル基、ハロゲン原子で置換され
    た炭素原子数３ないし６のアルキニル基、（Ｔ）n−炭
    素原子数３ないし８のシクロアルキル基を表すか、また
    は以下の式： （Ｔ）n−napht,（Ｔ）n−Si（炭素原子数１ないし８の
    アルキル）3， （炭素原子数１ないし４のアルキル）， および（Ｔ）ｎ−Ｗから選択される基を表し、 Xa，XbおよびXcの各々は互いに独立して水素原子、ハロ
    ゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、HOOC基、MOOC基、
    炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基、炭素原子数
    １ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアル
    コキシ基、ハロゲン原子特にフッ素原子を５個まで有す
    る炭素原子数１または２のハロアルキル基を表すか、ま
    たは Xaはハロゲン原子を５個まで有する炭素原子数１または
    ２のハロアルコキシ基、ニトロ基、ジメチルアミノ基、
    フェニル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、スルフ
    ァモイル基を表し、そしてXbおよびXcは両方とも水素原
    子を表すか、または Xaはフェニル基、フェノキシ基またはベンジルオキシ基
    を表し、Xbはハロゲン原子またはメチル基を表し、そし
    てXcは水素原子を表すか、または Xa，XbおよびXcは一緒に４または５個のフッ素原子を表
    し、 naphtは非置換またはハロゲン原子、メチル基、メトキ
    シ基もしくはニトロ基により置換されたナフチル基を表
    し、 Ｗは非置換またはハロゲン原子、トリフルオロメチル
    基、シアノ基、炭素原子数１もしくは２のアルキル基も
    しくは炭素原子数１もしくは２のアルコキシカルボニル
    −炭素原子数２ないし４のアルキレンアミノ（イミノ）
    基ににより置換され、群O,NおよびＳからの１ないし３
    個の異原子を有する５ないし７員の飽和または不飽和複
    素環式基、またはモノサッカリド基を表し、 Ｔは−CH2−，−CH2CH2−，−CH(CH3)−，−CCH3（C
    H3）−，−CH2CH2CH2−または−CH2CH2O−で表される橋
    員を表し、 R1は水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸
    素原子または硫黄原子により中断された炭素原子数１な
    いし５のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、HOOC基
    または炭素原子数１もしくは２のアルキル−OOC基によ
    り置換された炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸素
    原子もしくは硫黄原子により中断され、そしてハロゲン
    原子、シアノ基、HOOC基もしくは炭素原子数１もしくは
    ２のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数１な
    いし５のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニ
    ル基、炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基により
    置換された炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素
    原子数３ないし５のアルキニル基、炭素原子数１ないし
    ３のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数３な
    いし５のアルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし
    ６のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし３のアルキ
    ル−OOC基により置換された（Ｔ）n−炭素原子数３ない
    し６のシクロアルキル基、（Ｔ）n−フェニル基、また
    はフェニル部分においてハロゲン原子、ヒドロキシ基、
    メチル基、メトキシ基、CF3基、シアノ基、HOOC基もし
    くはMOOC基により置換された（Ｔ）n−フェニル基を表
    し、 R2は水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし３の
    アルキル基、シアノ基もしくは炭素原子数１ないし３の
    アルコキシ基により置換された炭素原子数１ないし３の
    アルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、異
    原子としてO,NもしくはＳを含有する３ないし６員の飽
    和もしくは不飽和複素環式基を表すか、または R1およびR2は一緒になって複素環式基Ｗを表し、 R3は水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のアル
    キル基、フェニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メ
    チル基、メトキシ基、HOOC基もしくはMOOC基により置換
    されたフェニル基、または複素環式基Ｗを表し、 R4は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、CO
    NH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキル
    基、炭素原子数１ないし３のアルカノイル基、ハロゲン
    原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数１ないし３のアルカノイル基、
    炭素原子数３ないし５のアルケノイル基またはハロゲン
    原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数３ないし５のアルケノイル基を
    表すか、または R3およびR4は一緒になって複素環式基Ｗまたは炭素環式
    環Ｗ′を表し、 Ｗ′は３ないし７個の環炭素原子を有する炭素環式基を
    表し、 R5は水素原子またはメチル基を表し、 R6は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基
    を表し、そして ｎは０または１を表し、 そして式Ｉで表される化合物中、有機基Ａは900より低
    い分子量を有する）で表される化合物、および式Ｉ中、
    Ｕが酸素原子または硫黄原子を表す場合には、第一、第
    二もしくは第三アミンとの、または無機塩基との植物生
    理学的に許容される７−カルボン酸の塩を有効成分とし
    て植物体および／またはそれらの生育地に施用すること
    からなる植物病原性微生物による攻撃に対して植物に免
    疫を与えるための方法。
  2. 【請求項２】施用率が１ヘクタールあたり1kg未満の有
    効成分である請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】施用率が１ヘクタールあたり500g未満の有
    効成分である請求項２記載の方法。
  4. 【請求項４】施用率が１ヘクタールあたり50ないし300g
    の有効成分である請求項３記載の方法。
  5. 【請求項５】有機基Ａの分子量が600未満である請求項
    １記載の方法。
  6. 【請求項６】有機基Ａの分子量が400未満である請求項
    ５記載の方法。
  7. 【請求項７】置換基Ｚがシアノ基または式Ｉで表される
    分子全体の5.0％ないし85％の分子量からなる分子量の
    基Ａを表す請求項１記載の方法。
  8. 【請求項８】基Ａの分子量が式Ｉで表される分子全体の
    7.8％ないし60％の分子量からなる請求項７記載の方
    法。
  9. 【請求項９】上記式Ｉ中、 Ｘが水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル
    基、メトキシ基、HOOC基またはMOOC基を表し、 Ｙが水素原子、ハロゲン原子、SO3H基、SO3M基、ニトロ
    基、ヒドロキシ基またはアミノ基を表し、 Ｚがシアノ基または−CO−Ａで表される基を表し、 ＡがUR、Ｎ（R1）R2またはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4で表さ
    れる基を表し、 Ｍが相当する塩基または塩基性化合物から形成されるモ
    ル当量のアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イ
    オンを表し、 Ｕが酸素原子または硫黄原子を表し、 U1が酸素原子または−Ｎ（R5）−で表される基を表し、 Ｒが水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、ハ
    ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アル
    コキシ基もしくはＵ−炭素原子数１ないし３のアルキル
    基により置換された炭素原子数１ないし８のアルキル
    基、（Ｔ）−COOHまたは（Ｔ）−COO炭素原子数１ない
    し４のアルキル基、炭素原子数２ないし６のアルケニル
    基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数３ないし６の
    アルケニル基、炭素原子数３ないし６のアルキニル基、
    ハロゲン原子で置換された炭素原子数３ないし６のアル
    キニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし８のシクロア
    ルキル基を表すか、または以下の式： （Ｔ）n−ナフチル，（Ｔ）n−Si（炭素原子数１ないし
    ８のアルキル）3， （炭素原子数１ないし４のアルキル）， および（Ｔ）n−Ｗから選択される基を表し、 Ｗが非置換またはハロゲン原子、トリフルオロメチル
    基、シアノ基、炭素原子数１もしくは２のアルキル基も
    しくは炭素原子１もしくは２のアルコキシカルボニル−
    炭素原子数２ないし４のアルキレンイミノ基により置換
    され、群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を有
    する５ないし７員の飽和または不飽和複素環式基、また
    はモノサッカリド基を表し、 Ｔが−CH2−，−CH2CH2−，−CH（CH3）−または−CCH3
    （CH3）−で表される橋員を表し、 R1が水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸
    素原子または硫黄原子により中断された炭素原子数１な
    いし５のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、HOOC基
    または炭素原子数１もしくは２のアルキル−OOC基によ
    り置換された炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸素
    原子もしくは硫黄原子により中断され、そしてハロゲン
    原子、シアノ基、HOOC基もしくは炭素原子数１もしくは
    ２のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数１な
    いし５のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニ
    ル基、炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基により
    置換された炭素原子数３なしい５のアルケニル基、炭素
    原子数３ないし５のアルキニル基、炭素原子数１ないし
    ３のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数３な
    いし５のアルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし
    ６のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし３のアルキ
    ル−OOC基により置換された（Ｔ）n−炭素原子数３ない
    し６のシクロアルキル基、（Ｔ）n−フェニル基、また
    はフェニル部分においてハロゲン原子、ヒドロキシ基、
    メチル基、メトキシ基、CF3基、シアノ基、HOOC基もし
    くはMOOC基により置換された（Ｔ）n−フェニル基を表
    し、 R2が水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし３の
    アルキル基、シアノ基もしくは炭素原子数１ないし３の
    アルコキシ基により置換された炭素原子数１ないし３の
    アルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、異
    原子としてO,NもしくはＳを含有する３ないし６員の飽
    和もしくは不飽和複素環式基を表すか、または R1およびR2が一緒になって複素環式基Ｗを表し、 R3が水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のアル
    キル基、フェニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メ
    チル基、メトキシ基、HOOC基もしくはMOOC基により置換
    されたフェニル基、または複素環式基Ｗを表し、 R4が水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、CO
    NH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキル
    基、炭素原子数１ないし３のアルカノイル基、ハロゲン
    原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数１ないし３のアルカノイル基、
    炭素原子数３ないし５のアルケノイル基またはハロゲン
    原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数３ないし５のアルケノイル基を
    表すか、または R3およびR4が一緒になって複素環式基Ｗまたは炭素環式
    環Ｗ′を表し、 Ｗ′が３ないし７個の環炭素原子を有する炭素環式基を
    表し、 R5が水素原子またはメチル基を表し、 R6が水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基
    を表し、そして ｎが０または１を表す化合物、およびＵが酸素原子を表
    す場合には、第一、第二または第三アミンとの植物生理
    学的に許容される７−カルボン酸の塩をも使用する請求
    項１記載の方法。
  10. 【請求項１０】上記式Ｉ中、 ＸおよびＹが水素原子を表し、 Ｚがシアノ基またはCOAで表される基を表し、 ＡがURまたはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4で表される基を表
    し、 Ｕが酸素原子を表し、 U1が酸素原子または−Ｎ（R5）−で表される基を表し、 Ｒが水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、ハ
    ロゲン原子または炭素原子数１ないし３のアルコキシ基
    により置換された炭素原子数１ないし８のアルキル基、
    炭素原子数３ないし６のアルケニル基、ハロゲン原子で
    置換された炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素
    原子数３ないし６のアルキニル基、ハロゲン原子で置換
    された炭素原子数３ないし６のアルキニル基、（Ｔ）n
    −炭素原子数３ないし８のシクロアルキル基、ベンジル
    基、ハロゲン化ベンジル基、メトキシベンジル基、
    （Ｔ）n−Si（CH3）3，（Ｔ）−Ｐ（Ｏ）（炭素原子数
    １ないし４のアルキル）CH3，（Ｔ）−Ｐ（Ｏ）（Ｏ−
    炭素原子数１ないし４のアルキル）2または（Ｔ）n−Ｗ
    で表される基を表し、 Ｗが群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を有す
    る５ないし７員の飽和または不飽和非置換複素環式基を
    表すか、またはジアセトン−Ｄ−グルコシジル基を表
    し、 Ｔが−CH2−，−CH2CH2−，−CH（CH3）−，−CCH3（CH
    3）−または−CH2CH2CH2−で表される橋員を表し、 R3が水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のアル
    キル基、フェニル基または基Ｗを表し、 R4が水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、CO
    NH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキル
    基、炭素原子数１ないし３のアルカノイル基または炭素
    原子数３ないし５のアルケノイル基を表すか、または R3およびR4が一緒になって基ＷまたはＷ′を表し、 Ｗが群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を有す
    る５ないし７員の飽和または不飽和複素環式基を表し、 Ｗ′が群： からの基を表し、そして ｎが０または１を表す化合物を使用する請求項１記載の
    方法。
  11. 【請求項１１】上記式Ｉ中、 ＸおよびＹが水素原子を表し、 Ｚがシアノ基またはCOAで表される基を表し、 ＡがURまたはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4で表される基を表
    し、 Ｕが酸素原子を表し、 U1が酸素原子または−Ｎ（R5）−で表される基を表し、 Ｒが水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、ハ
    ロゲン原子または炭素原子数１ないし３のアルコキシ基
    により置換された炭素原子数１ないし８のアルキル基、
    炭素原子数３ないし６のアルケニル基、ハロゲン原子で
    置換された炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素
    原子数３ないし６のアルキニル基、ハロゲン原子で置換
    された炭素原子数３ないし６のアルキニル基、（Ｔ）n
    −炭素原子数３ないし８のシクロアルキル基、ベンジル
    基、ハロゲン化ベンジル基、 （Ｔ）n−Si（CH3）3，（Ｔ）−Ｐ（Ｏ）（炭素原子数
    １ないし４のアルキル）CH3，（Ｔ）−Ｐ（Ｏ）（Ｏ−
    炭素原子数１ないし４のアルキル）2または（Ｔ）n−Ｗ
    で表される基を表し、 Ｗが群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を有す
    る５ないし７員の飽和または不飽和非置換複素環式基を
    表すか、またはジアセトン−Ｄ−グルコシジル基を表
    し、 Ｔが−CH2−，−CH2CH2−，−CH（CH3）−または―CCH3
    （CH3）−で表される橋員を表し、 R3が水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のアル
    キル基、フェニル基または基Ｗを表し、 R4が水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、CO
    NH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキル
    基、炭素原子数１ないし３のアルカノイル基または炭素
    原子数３ないし５のアルケノイル基を表すか、またはR3
    およびR4が一緒になって基ＷまたはＷ′を表し、 Ｗが群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を有す
    る５ないし７員の飽和または不飽和複素環式基を表し、 Ｗ′が群： からの基を表し、そして ｎが０または１を表す化合物を使用する請求項１記載の
    方法。
  12. 【請求項１２】次式Ｉ′： （式中、 Ｘは水素原子を表し、 Ｙは水素原子を表し、 Ｚは−CO−Ａで表される基を表し、 ＡはUR、Ｎ（R1）R2またはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4で表さ
    れる基を表し、 Ｍは相当する塩基または塩基性化合物から形成されるモ
    ル当量のアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イ
    オンを表し、 Ｕは酸素原子または硫黄原子を表し、 U1は酸素原子または−Ｎ（R5）−で表される基を表し、 Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、ハ
    ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アル
    コキシ基もしくはＵ−炭素原子数１ないし３のアルキル
    基により置換された炭素原子数１ないし８のアルキル
    基、（Ｔ）−COOHもしくは（Ｔ）−COO−炭素原子数１
    ないし４のアルキル基、炭素原子数２ないし６のアルケ
    ニル基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数３ないし
    ６のアルケニル基、炭素原子数３ないし６のアルキニル
    基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数３ないし６の
    アルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし８のシク
    ロアルキル基を表すか、または以下の式： （Ｔ）n−ナフチル，（Ｔ）n−Si（炭素原子数１ないし
    ８のアルキル）3， （炭素原子数１ないし４のアルキル）， および（Ｔ）n−Ｗから選択される基を表し、 Ｗは非置換またはハロゲン原子、トリフルオロメチル
    基、シアノ基、炭素原子数１もしくは２のアルキル基も
    しくは炭素原子数１もしくは２のアルコキシカルボニル
    −炭素原子数２ないし４のアルキレンイミノ基により置
    換され、群O,NおよびＳからの１ないし３個の異原子を
    有する５ないし７員の飽和または不飽和複素環式基、ま
    たはモノサッカリド基を表し、 Ｔは−CH2−，−CH2CH2−または−CH（CH3）−で表され
    る橋員を表し、 R1は水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸
    素原子または硫黄原子により中断された炭素原子数１な
    いし５のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、HOOC基
    または炭素原子数１もしくは２のアルキル−OOC基によ
    り置換された炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸素
    原子もしくは硫黄原子により中断され、そしてハロゲン
    原子、シアノ基、HOOC基もしくは炭素原子数１もしは２
    のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数１ない
    し５のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル
    基、炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基により置
    換された炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素原
    子数３ないし５のアルキニル基、炭素原子数１ないし３
    のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数３ない
    し５のアルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし６
    のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし３のアルキル
    −OOC基により置換された（Ｔ）n−炭素原子数３ないし
    ６のシクロアルキル基、（Ｔ）n−フェニル基、または
    フェニル部分においてハロゲン原子、ヒドロキシ基、メ
    チル基、CF3基、シアノ基、メトキシ基、HOOC基もしく
    はMOOC基により置換された（Ｔ）n−フェニル基を表
    し、 R2は水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし３の
    アルキル基、シアノ基もしくは炭素原子数１ないし３の
    アルコキシ基により置換された炭素原子数１ないし３の
    アルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、異
    原子としてO,NもしくはＳを含有する３ないし６員の飽
    和もしくは不飽和複素環式基を表すか、または R1およびR2は一緒になって複素環式基Ｗを表し、 R3は水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のアル
    キル基、フェニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メ
    チル基、メトキシ基、HOOC基もしくはMOOC基により置換
    されたフェニル基、または複素環式基Ｗを表し、 R4は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、CO
    NH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキル
    基、炭素原子数１ないし３のアルカノイル基、ハロゲン
    原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数１ないし３のアルカノイル基、
    炭素原子数３ないし５のアルケノイル基またはハロゲン
    原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数３ないし５のアルケノイル基を
    表すか、または R3およびR4は一緒になって複素環式基Ｗまたは炭素環式
    環Ｗ′を表し、 Ｗ′は３ないし７個の環炭素原子を有する炭素環式基を
    表し、 R5は水素原子またはメチル基を表し、 R6は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基
    を表し、そして ｎは０または１を表す）で表される化合物であるが、 ただし、以下の化合物： ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸； ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸メチ
    ルエステルは除外される前記化合物。
  13. 【請求項１３】以下の群： ７−ｎ−ペントキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジ
    アゾール（化合物1.9）； ７−（４−メトキシベンジルオキシカルボニル）−ベン
    ゾ−1,2,3−チアジアゾール（化合物1.39）； ７−（シクロヘキシイミノ−オキシカルボニル）−ベン
    ゾ−1,2,3−チアジアゾール（化合物1.72）； ７−（３−ヒドロキシ−ｎ−プロポキシカルボニル）−
    ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール（化合物1.79）； 1,2,5,6−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−３−（７−ベン
    ゾ−1,2,3−チアジアゾイル）−Ｄ−グルコフラノース
    （化合物1.86）； ７−フルフリルオキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チア
    ジアゾール（化合物1.96）； ７−（1,2,4−トリアゾール−１−イル）−メトキシカ
    ルボニルベンゾ−1,2,3−チアジアゾール（化合物1.10
    0）； ７−（２−ピリジルメトキシカルボニル）−ベンゾ−1,
    2,3−チアジアゾール（化合物1.101）； ７−トリメチルシリルメトキシカルボニルベンゾ−1,2,
    3−チアジアゾール（化合物1.103）； ７−〔２−（トリメチルシリル）−エトキシカルボニ
    ル〕−ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール（化合物1.10
    4）； ７−ジメチルホスホノ−エトキシカルボニルベンゾ−1,
    2,3−チアジアゾール（化合物1.108）； ７−シクロヘキシルオキシカルボニルベンゾ−1,2,3−
    チアジアゾール（化合物1.135）； ７−（１−フェネチルオキシカルボニル）−ベンゾ−1,
    2,3−チアジアゾール（化合物1.140）； ７−（３−メトキシベンジル）−ベンゾ−1,2,3−チア
    ジアゾール（化合物1.144）； ７−（エチルチオカルボニル）−ベンゾ−1,2,3−チア
    ジアゾール（化合物2.2）； ７−（ｎ−プロピルチオカルボニル）−ベンゾ−1,2,3
    −チアジアゾール（化合物2.3）； ７−（ベンジルチオカルボニル）−ベンゾ−1,2,3−チ
    アジアゾール（化合物2.5）； ７−カルバモイルベンゾ−1,2,3−チアジアゾール（化
    合物3.1）； ７−Ｎ−フェニルカルバモイルベンゾ−1,2,3−チアジ
    アゾール（化合物3.6）； Ｎ−（７−ベンゾ−1,2,3−チアジアゾイル）−グリシ
    ン（化合物3.9）； ７−（Ｎ−ジアリルカルバモイル）−ベンゾ−1,2,3−
    チアジアゾール（化合物3.26）からの請求項12記載の式
    Ｉ′で表される化合物。
  14. 【請求項１４】以下の群： ７−エトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジアゾー
    ル（化合物1.3）； ７−ｎ−プロポキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジ
    アゾール（化合物1.4）； ７−イソプロポキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジ
    アゾール（化合物1.5）； ７−ｎ−ブトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジア
    ゾール（化合物1.6）； ７−第二ブトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジア
    ゾール（化合物1.7）； ７−第三ブトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジア
    ゾール（化合物1.8）； ７−シクロプロピルメトキシカルボニルベンゾ−1,2,3
    −チアジアゾール（化合物1.28）； ７−（２′−フェネトキシカルボニル）−ベンゾ−1,2,
    3−チアジアゾール（化合物1.33）； ７−ベンジルオキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジ
    アゾール（化合物1.34）； ７−アリルオキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジア
    ゾール（化合物1.44）； ７−プロピニ−２−イルオキシカルボニルベンゾ−1,2,
    3−チアジアゾール（化合物1.46）； Ｎ−エチルアミノカルボニル−２−シアノ−２−オキシ
    イミノカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジアゾリ−７−
    イルアセトアミド（化合物1.78）； ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸のナ
    トリウム塩（化合物1.112）； ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸のカ
    リウム塩（化合物1.113）； ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボン酸のト
    リエチルアンモニウム塩（化合物1.114）； ７−（１′−フェネトキシカルボニル）−ベンゾ−1,2,
    3−チアジアゾール（化合物1.119）； ７−（１′−ナフチルメトキシカルボニル）−ベンゾ−
    1,2,3−チアジアゾール（化合物1.116）； ７−（メチルチオカルボニル）−ベンゾ−1,2,3−チア
    ジアゾール（化合物2.1）； ７−（エチルチオカルボニル）−ベンゾ−1,2,3−チア
    ジアゾール（化合物2.2）； ７−（ベンジルチオカルボニル）−ベンゾ−1,2,3−チ
    アジアゾール（化合物2.5）； ７−〔（ジシアノメチル）−アミノカルボニル〕−ベン
    ゾ−1,2,3−チアジアゾール（化合物3.13）； １−アミノ−Ｎ−〔（1,3,4−チアジアゾリ−２−イ
    ル）−（Ｎ−ベンゾ−1,2,3−チアジアゾイル）〕−２
    −メトキシカルボニル−１−プロペン（化合物3.28）； １−アミノ−Ｎ−〔（1,3,4−チアジアゾリ−２−イ
    ル）−（Ｎ−ベンゾ−1,2,3−チアジアゾイル）〕−２
    −メトキシカルボニル−１−ブテン（化合物3.29）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボニ
    ル）−２−（α−メチルプロピリデン）−ヒドラジン
    （化合物4.2）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボニ
    ル）−２−（シクロブチリデン）−ヒドラジン（化合物
    4.8）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボニ
    ル）−２−（シクロペンチリデン）−ヒドラジン（化合
    物4.9）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボニ
    ル）−２−（シクロヘキシリデン）−ヒドラジン（化合
    物4.10）； ２−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボニ
    ル）−１−（２′−第二ブチル）−ヒドラジン（化合物
    5.2）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボニ
    ル）−２−（シクロペンチル）−ヒドラジン（化合物5.
    7）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボニ
    ル）−２−（シクロヘキシル）−ヒドラジン（化合物5.
    8）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボニ
    ル）−２−（シクロヘプチル）−ヒドラジン（化合物5.
    9）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボニ
    ル）−1,2−ジアセチルヒドラジン（化合物6.7）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボニ
    ル）−２−フェニルヒドラジン（化合物6.8）； １−（ベンゾ−1,2,3−チアジアゾール−７−カルボニ
    ル）−２−ピリジン−２′−イルヒドラジン（化合物6.
    9）からの請求項12記載の式Ｉ′で表される化合物。
  15. 【請求項１５】請求項12記載の式Ｉ′で表される化合物
    を使用する請求項１記載の方法。
  16. 【請求項１６】1,2,3−ベンゾチアジアゾール−７−カ
    ルボン酸または塩基性化合物とそれらの塩を有効成分と
    して使用する請求項１記載の方法。
  17. 【請求項１７】使用される塩が第一、第二もしくは第三
    アミンまたはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属化
    合物との塩である請求項16記載の方法。
  18. 【請求項１８】７−メトキシカルボニルベンゾ−1,2,3
    −チアジアゾールを有効成分として使用する請求項１記
    載の方法。
  19. 【請求項１９】７−ベンジルオキシカルボニルベンゾ−
    1,2,3−チアジアゾールを有効成分として使用する請求
    項１記載の方法。
  20. 【請求項２０】７−シアノベンゾ−1,2,3−チアジアゾ
    ールを有効成分として使用する請求項１記載の方法。
  21. 【請求項２１】７−炭素原子数２ないし４のアルコキシ
    カルボニルベンゾ−1,2,3−チアジアゾールの化合物を
    有効成分として使用する請求項１記載の方法。
  22. 【請求項２２】植物病原性微生物が菌類である請求項１
    記載の方法。
  23. 【請求項２３】上記菌類が子嚢菌類、担子菌類または不
    完全菌類である請求項１記載の方法。
  24. 【請求項２４】植物病原性微生物がバクテリアである請
    求項１記載の方法。
  25. 【請求項２５】植物病原性微生物がウイルスである請求
    項１記載の方法。
  26. 【請求項２６】植物病原性微生物による攻撃に対する植
    物の免疫化のための請求項１記載の式Ｉで表される化合
    物の使用方法。
  27. 【請求項２７】少なくとも１種の請求項１記載の式Ｉで
    表される化合物を有効成分として含有する、植物病原性
    微生物による攻撃に対する植物の免疫化のための組成
    物。
  28. 【請求項２８】少なくとも１種の請求項９記載の式Ｉで
    表される化合物を有効成分として含有する、植物病原性
    微生物による攻撃に対する植物の免疫化のための組成
    物。
  29. 【請求項２９】少なくとも１種の請求項12記載の式Ｉ′
    で表される化合物を有効成分として含有する、植物病原
    性微生物による攻撃に対する植物の免疫化のための組成
    物。
  30. 【請求項３０】少なくとも１種の請求項13または14記載
    の化合物を有効成分として含有する請求項27記載の組成
    物。
  31. 【請求項３１】有効成分として少なくとも１種の化合
    物:7−カルボン酸−ベンゾ−1,2,3−チアジアゾールお
    よび７−メトキシカルボニルベンゾ−1,2,3−チアジア
    ゾールを含有する請求項27記載の組成物。
  32. 【請求項３２】有効成分として1,2,3−チアゾチアジア
    ゾール−７−カルボン酸または塩基性化合物とそれらの
    塩を含有する請求項27記載の組成物。
  33. 【請求項３３】使用される塩が第一、第二もしくは第三
    アミンまたはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属化
    合物との塩である請求項32記載の組成物。
  34. 【請求項３４】式Ｉで表される有効成分0.1ないし99％
    と固体または液体補助剤99.9ないし１％と界面活性剤０
    ないし25％を含有する請求項27記載の組成物。
  35. 【請求項３５】式Ｉで表される有効成分0.1ないし95％
    と固体または液体補助剤99.8ないし５％と界面活性剤0.
    1ないし25％を含有する請求項34記載の組成物。
  36. 【請求項３６】少なくとも１種の式Ｉで表される化合物
    を適当な固体または液体補助剤および界面活性剤と十分
    に混合することからなる請求項27記載の組成物の製造方
    法。
  37. 【請求項３７】（Ａ）次式II: （式中、 Ｌ′は脱離基、例えばハロゲン原子、Ｏ−アシル基、例
    えば酸Ibの対称的な無水物に属するアシル基、または１
    −イミダゾリル基を表す）で表される化合物を次式III: RUH （III） で表される化合物と ａ）過剰の反応体RUH中で、または ｂ）有機塩基の存在下、触媒として４−ジアルキルアミ
    ノピリジンを用いて、または用いずに、不活性溶媒中
    で、または ｃ）無機塩基の存在下で 反応させるか（各々の場合における上記反応は−10℃な
    いし180℃、好ましくは０℃ないし100℃の温度範囲行わ
    れる）、または （Ｂ）次式Ib: で表される化合物を上記式IIIで表される化合物と、過
    剰にして、もしくは不活性溶媒中、硫酸、塩酸、ｐ−ト
    ルエンスルホン酸もしくは三フッ化ホウ素／ジエチルエ
    ーテル錯体のような酸の存在下、またはジシクロヘキシ
    ルカルボジイミドの存在下、−10℃ないし180℃、好ま
    しくは０℃ないし140℃の温度で反応させることからな
    る、次式Ia: （式中、R,X,YおよびＵは式Ｉに対して定義する意味を
    表す）で表される化合物の製造方法。
  38. 【請求項３８】次式II: （式中、Ｌ′は脱離基、例えばハロゲン原子、Ｏ−アシ
    ル基、例えば酸Ibの対称的な無水物に属するシアル基、
    または１−イミダゾリル基を表す）で表される化合物を
    次式IV: で表される化合物と ａ）過剰の反応体HN（R1）R2中で、または ｂ）有機塩基の存在下、触媒として４−ジアルキルアミ
    ノピリジンを用いて、または用いずに、不活性溶媒中
    で、または ｃ）無機塩基の存在下で 反応させる（各々の場合における上記反応は−10℃ない
    し160℃、好ましくは０℃ないし100℃の温度範囲で行わ
    れる）ことからなる、次式Ic: （式中、R1，R2,XおよびＹは式Ｉに対して定義する意味
    を表す）で表される化合物の製造方法。
  39. 【請求項３９】（Ａ）次式Ie: 〔式中、Ｚ′は基COOH、基COCl、基COOAlk1（式中、Alk
    1は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す）または
    アシルオキシカルボニル基、例えば次式： で表される基、ベンゾイルオキシカルボニル基またはア
    セトキシカルボニル基を表す〕で表される化合物を塩基
    の存在下で次式ＶまたはVI: で表されるヒドラジン誘導体と不活性溶媒中−10℃ない
    し180℃、好ましくは０℃ないし100℃の温度で反応させ
    るか；または （Ｂ）上記式Ieで表される化合物を順にまずヒドラジン
    と反応させ、そして得られたヒドラジン化合物を （Ｂ）−１ アルキル化剤R3−ＬまたはR4−Ｌ（式中、
    Ｌは脱離基を表す）と不活性溶媒中０℃ないし160℃、
    好ましくは20℃ないし120℃の温度で反応させるか、ま
    たは （Ｂ）−２ 次式：R3（R4）Ｃ＝Ｏ（式中、R3およびR4
    は式Ｉに対して定義する意味を表す）で表されるアルデ
    ヒドまたはケトンと有機酸または無機酸を添加し、また
    は添加せずに−10℃ないし150℃、好ましくは20℃ない
    し100℃の温度で反応させ、そして次に所望により （Ｂ）−３ アルキル化剤Ｌ−R5（式中、Ｌは脱離基を
    表す）と、強塩基の存在下、不活性溶媒中−80℃ないし
    120℃、好ましくは−40℃ないし80℃の温度で反応させ
    るか、または所望により （Ｂ）−４ ａ）（Ｂ）−１で製造したヒドラゾン誘導
    体を１ないし30×105Paの圧力で触媒の存在下、活性炭
    と混合して不活性溶媒中０℃ないし100℃の温度で水素
    で水素化するか、または （Ｂ）−４ ｂ）（Ｂ）−１で製造したヒドラゾン誘導
    体を不活性溶媒中−10℃ないし80℃、好ましくは０℃な
    いし50℃の温度で、例えばシアノ水素化ホウ素ナトリウ
    ムのような水素化金属錯体で処理することからなる、次
    式Id: （式中、Ａ′は基U1N（＝Ｃ）n（R3）R4を表し、そして
    X,Y,R3，R4，R5およびｎは式Ｉに対して定義する意味を
    表す）で表される化合物の製造方法。
  40. 【請求項４０】次式Ig: で表される化合物を不活性溶媒中または溶媒を用いずに
    −10℃ないし250℃の温度で下記の適する脱水剤： ａ）塩基、例えばピリジンの存在下で不活性溶媒、例え
    ばテトラヒドロフランまたはジオキサン中、−10℃ない
    し40℃の温度でのトリフルオロ酢酸無水物； ｂ）不活性溶媒、例えばテトラヒドロフラン中、０℃な
    いし65℃の温度でのクロロスルホニルイソシアネート、
    引続きジメチルホルムアミドでの処理；または ｃ）不活性溶媒、例えば1,2−ジクロロエタン、キシレ
    ンまたはクロロベンゼンを使用して、または使用せず
    に、場合により高められた圧力下のボンベ管中、50℃な
    いし250℃での五酸化リン、 で処理することからなる、次式If: （式中、ＸおよびＹは式Ｉに対して定義する意味を表
    す）で表される化合物の製造方法。
  41. 【請求項４１】次式： HO−Ｎ＝Ｃ（R3）R4 で表されるオキシム誘導体を次式： （式中、AKSはハロゲン原子、Ｏ−アシル基、例えば上
    記式の遊離酸のＯ−アシル基、アセトキシ基またはベン
    ゾイルオキシ基、または１−イミダゾリル基を表す）で
    表される活性化された酸誘導体と不活性溶媒および塩基
    中、−20℃ないし120℃、好ましくは０℃ないし50℃で
    反応させるか、またはジシクロヘキシルカルボジイミド
    の存在下、同じ条件で、請求項37記載の式Ibで表される
    遊離酸と反応させることからなる、次式IL1： （式中、R3，R4,XおよびＹは式Ｉに対して定義する意味
    を表す）で表される化合物の製造方法。
  42. 【請求項４２】次式IL1： で表される化合物を ａ）シラン、例えばトリエチルシランで酸、例えばトリ
    フルオロ酢酸の存在下０℃ないし80℃にて還元するか、
    または ｂ）有機酸、例えば酢酸の存在下０℃ないし80℃にてシ
    アノ水素化ホウ素ナトリウムで還元するか、または ｃ）例えばPt/H2で触媒法により還元することからな
    る、次式IL2： （式中、R3，R4,XおよびＹは式Ｉに対して定義する意味
    を表す）で表される化合物の製造方法。
  43. 【請求項４３】次式XI′： （式中、 Ｘ′は水素原子、ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基
    またはCOOH基を表し、 Ebは容易に除去しうる基を表し、 Zbはシアノ基または基COAを表し、 ＡはUR,N（R1）R2またはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4で表され
    る基を表し、 Ｍは相当する塩基または塩基性化合物から形成されるモ
    ル当量のアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イ
    オンを表し、 Ｕは酸素原子または硫黄原子を表し、 U1は酸素原子または−Ｎ（R5）−で表される基を表し、 Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、ハ
    ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基もしく
    はＵ−炭素原子数１ないし３のアルキル基により置換さ
    れた炭素原子数１ないし８のアルキル基、（Ｔ）−COOH
    もしくは（Ｔ）−COO炭素原子数１ないし４のアルキル
    基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、ハロゲン原
    子で置換された炭素原子数３ないし６のアルケニル基、
    炭素原子数３ないし６のアルキニル基、ハロゲン原子で
    置換された炭素原子数３ないし６のアルキニル基、
    （Ｔ）n−炭素原子数３ないし８のシクロアルキル基を
    表すか、または以下の式： （Ｔ）n−napht,（Ｔ）n−Si（炭素原子数１ないし８の
    アルキル）3， （炭素原子数１ないし４のアルキル）， および（Ｔ）ｎ−Ｗから選択される基を表し、 Xa，XbおよびXcの各々は互いに独立して水素原子、ハロ
    ゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、HOOC基、MOOC基、
    炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基、炭素原子数
    １ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアル
    コキシ基、ハロゲン原子特にフッ素原子を５個まで有す
    る炭素原子数１または２のハロアルキル基を表すか、ま
    たは Xaはハロゲン原子を５個まで有する炭素原子数１または
    ２のハロアルコキシ基、ニトロ基、ジメチルアミノ基、
    フェニル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、スルフ
    ァモイル基を表し、そしてXbおよびXcは両方とも水素原
    子を表すか、または Xaはフェニル基、フェノキシ基またはベンジルオキシ基
    を表し、Xbはハロゲン原子またはメチル基を表し、そし
    てXcは水素原子を表すか、または Xa，XbおよびXcは一緒に４または５個のフッ素原子を表
    し、 naphtは非置換またはハロゲン原子、メチル基、メトキ
    シ基もしくはニトロ基により置換されたナフチル基を表
    し、 Ｗは非置換またはハロゲン原子、トリフルオロメチル
    基、シアノ基、炭素原子数１もしくは２のアルキル基も
    しくは炭素原子数１もしくは２のアルコキシカルボニル
    −炭素原子数２ないし４のアルキレンアミノ（イミノ）
    基により置換され、群O,NおよびＳからの１ないし３個
    の異原子を有する５ないし７員の飽和または不飽和複素
    環式基、またはモノサッカリド基を表し、 Ｔは−CH2−，−CH2CH2−，−CH（CH3）−，−CCH3（CH
    3）−，−CH2CH2CH2−または−CH2CH2O−で表される橋
    員を表し、 R1は水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸
    素原子または硫黄原子により中断された炭素原子数１な
    いし５のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、HOOC基
    または炭素原子数１もしくは２のアルキル−OOC基によ
    り置換された炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸素
    原子もしくは硫黄原子により中断され、そしてハロゲン
    原子、シアノ基、HOOC基もしくは炭素原子数１もしくは
    ２のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数１な
    いし５のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニ
    ル基、炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基により
    置換された炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素
    原子数３ないし５のアルキニル基、炭素原子数１ないし
    ３のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数３な
    いし５のアルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし
    ６のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし３のアルキ
    ル−OOC基により置換された（Ｔ）n−炭素原子数３ない
    し６のシクロアルキル基、（Ｔ）n−フェニル基、また
    はフェニル部分においてハロゲン原子、ヒドロキシ基、
    メチル基、CF3基、シアノ基、メトキシ基、HOOC基もし
    くはMOOC基により置換された（Ｔ）n−フェニル基を表
    し、 R2は水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし３の
    アルキル基、シアノ基もしくは炭素原子数１ないし３の
    アルコキシ基により置換された炭素原子数１ないし３の
    アルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、異
    原子としてO,NもしくはＳを含有する３ないし６員の飽
    和もしくは不飽和複素環式基を表すか、または R1およびR2は一緒になって複素環式基Ｗを表し、 R3は水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のアル
    キル基、フェニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メ
    チル基、メトキシ基、HOOC基もしくはMOOC基により置換
    されたフェニル基、または複素環式基Ｗを表し、 R4は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、CO
    NH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキル
    基、炭素原子数１ないし６のアルカノイル基、ハロゲン
    原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数１ないし３のアルカノイル基、
    炭素原子数３ないし５のアルケノイル基またはハロゲン
    原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数３ないし５のアルケノイル基を
    表すか、または R3およびR4は一緒になって複素環式基Ｗまたは炭素環式
    環Ｗ′を表し、 Ｗ′は３ないし７個の環炭素原子を有する炭素環式基を
    表し、 R5は水素原子またはメチル基を表し、 R6は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基
    を表し、そして ｎは０または１を表し、 第一もしくは第二アミノ基、UH基またはニトロ基、Si
    （炭素原子数１ないし８のアルキル）3またはリン含有
    基を除く）で表される化合物を酸性媒体中、亜硝酸化合
    物で−40℃ないし30℃にてジアゾ化し、そして同じ反応
    容器中で、または第２の反応容器中で−40℃ないし80
    ℃、好ましくは−30℃ないし30℃にて還元剤を亜硝酸化
    合物と同時に、または添加前もしくは添加後に添加して
    処理することからなる次式Ik: で表される化合物の製造方法。
  44. 【請求項４４】次式： （式中、 Raは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、ハ
    ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基もしく
    はＵ−炭素原子数１ないし３のアルキル基により置換さ
    れた炭素原子数１ないし８のアルキル基、（Ｔ）−COOH
    もしくは（Ｔ）−COO炭素原子数１ないし４のアルキル
    基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、ハロゲン原
    子で置換された炭素原子数３ないし６のアルケニル基、
    炭素原子数３ないし６のアルキニル基、ハロゲン原子で
    置換された炭素原子数３ないし６のアルキニル基、
    （Ｔ）n−炭素原子数３ないし８のシクロアルキル基を
    表すか、または以下の式： （Ｔ）n−napht,（Ｔ）n−Si（炭素原子数１ないし８の
    アルキル）3， （炭素原子数１ないし４のアルキル）， および（Ｔ）ｎ−Ｗから選択される基を表し、 Xa，XbおよびXcの各々は互いに独立して水素原子、ハロ
    ゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、HOOC基、MOOC基、
    炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基、炭素原子数
    １ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアル
    コキシ基、ハロゲン原子特にフッ素原子を５個まで有す
    る炭素原子数１または２のハロアルキル基を表すか、ま
    たは Xaはハロゲン原子を５個まで有する炭素原子数１または
    ２のハロアルコキシ基、ニトロ基、ジメチルアミノ基、
    フェニル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、スルフ
    ァモイル基を表し、そしてXbおよびXcは両方とも水素原
    子を表すか、または Xaはフェニル基、フェノキシ基またはベンジルオキシ基
    を表し、Xbはハロゲン原子またはメチル基を表し、そし
    てXcは水素原子を表すか、または Xa，XbおよびXcは一緒に４または５個のフッ素原子を表
    し、 naphtは非置換またはハロゲン原子、メチル基、メトキ
    シ基もしくはニトロ基により置換されたナフチル基を表
    し、 Ｗは非置換またはハロゲン原子、トリフルオロメチル
    基、シアノ基、炭素原子数１もしくは２のアルキル基も
    しくは炭素原子数１もしくは２のアルコキシカルボニル
    −炭素原子数２ないし４のアルキレンアミノ（イミノ）
    基により置換され、群O,NおよびＳからの１ないし３個
    の異原子を有する５ないし７員の飽和または不飽和複素
    環式基、またはモノサッカリド基を表し、 Ｔは−CH2−，−CH2CH2−，−CH（CH3）−，−CCH3（CH
    3）−，−CH2CH2CH2−または−CH2CH2O−で表される橋
    員を表し、 R1は水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸
    素原子または硫黄原子により中断された炭素原子数１な
    いし５のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、HOOC基
    または炭素原子数１もしくは２のアルキル−OOC基によ
    り置換された炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸素
    原子もしくは硫黄原子により中断され、そしてハロゲン
    原子、シアノ基、HOOC基もしくは炭素原子数１もしくは
    ２のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数１な
    いし５のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニ
    ル基、炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基により
    置換された炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素
    原子数３ないし５のアルキニル基、炭素原子数１ないし
    ３のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数３な
    いし５のアルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし
    ６のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし３のアルキ
    ル−OOC基により置換された（Ｔ）n−炭素原子数３ない
    し６のシクロアルキル基、（Ｔ）n−フェニル基、また
    はフェニル部分においてハロゲン原子、ヒドロキシ基、
    メチル基、CF3基、シアノ基、メトキシ基、HOOC基もし
    くはMOOC基により置換された（Ｔ）n−フェニル基を表
    し、 R2は水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし３の
    アルキル基、シアノ基もしくは炭素原子数１ないし３の
    アルコキシ基により置換された炭素原子数１ないし３の
    アルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、異
    原子としてO,NもしくはＳを含有する３ないし６員の飽
    和もしくは不飽和複素環式基を表すか、または R1およびR2は一緒になって複素環式基Ｗを表し、 R3は水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のアル
    キル基、フェニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メ
    チル基、メトキシ基、HOOC基もしくはMOOC基により置換
    されたフェニル基、または複素環式基Ｗを表し、 R4は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、CO
    NH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキル
    基、炭素原子数１ないし６のアルカノイル基、ハロゲン
    原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数１ないし３のアルカノイル基、
    炭素原子数３ないし５のアルケノイル基またはハロゲン
    原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数３ないし５のアルケノイル基を
    表すか、または R3およびR4は一緒になって複素環式基Ｗまたは炭素環式
    環Ｗ′を表し、 Ｗ′は３ないし７個の環炭素原子を有する炭素環式基を
    表し、 R5は水素原子またはメチル基を表し、 R6は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基
    を表し、そして ｎは０または１を表し、 基UHまたはニトロ基、およびケイ素−またはリン−含有
    基を含む基は除外し、そして Ebは容易に除去しうる基を表す）で表される化合物を酸
    性媒体中、亜硝酸化合物で−20℃ないし30℃にてジアゾ
    化し、そして同じ反応容器中で−20℃ないし80℃、好ま
    しくは20℃ないし30℃にて還元剤を亜硝酸化合物と同時
    に、または添加前もしくは添加後に添加して処理するこ
    とからなる次式： で表される化合物の製造方法。
  45. 【請求項４５】次式XI′： （式中、 Ｘ′は水素原子、ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基
    またはCOOH基を表し、 Ebは容易に除去しうる基を表し、 Zbはシアノ基または基COAを表し、 ＡはUR,N（R1）R2またはU1N（＝Ｃ）n（R3）R4）で表さ
    れる基を表し、 Ｍは相当する塩基または塩基性化合物から形成されるモ
    ル当量のアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イ
    オンを表し、 Ｕは酸素原子または硫黄原子を表し、 U1は酸素原子または−Ｎ（R5）−で表される基を表し、 Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、ハ
    ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、Ｕ−
    炭素原子数１ないし３のアルキル基により置換された炭
    素原子数１ないし８のアルキル基、（Ｔ）−COOHもしく
    は（Ｔ）−COO−炭素原子数１ないし４のアルキル基、
    炭素原子数３ないし６のアルケニル基、ハロゲン原子で
    置換された炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素
    原子数３ないし６のアルキニル基、ハロゲン原子で置換
    された炭素原子数３ないし６のアルキニル基、（Ｔ）n
    −炭素原子数３ないし８のシクロアルキル基を表すか、
    または以下の式： （Ｔ）n−napht,（Ｔ）n−Si（炭素原子数１ないし８の
    アルキル）3， （炭素原子数１ないし４のアルキル）， および（Ｔ）ｎ−Ｗから選択される基を表し、 Xa，XbおよびXcの各々は互いに独立して水素原子、ハロ
    ゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、HOOC基、MOOC基、
    炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基、炭素原子数
    １ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアル
    コキシ基、ハロゲン原子特にフッ素原子を５個まで有す
    る炭素原子数１または２のハロアルキル基を表すか、ま
    たは Xaはハロゲン原子を５個まで有する炭素原子数１または
    ２のハロアルコキシ基、ニトロ基、ジメチルアミノ基、
    フェニル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、スルフ
    ァモイル基を表し、そしてXbおよびXcは両方とも水素原
    子を表すか、または Xaはフェニル基、フェノキシ基またはベンジルオキシ基
    を表し、Xbはハロゲン原子またはメチル基を表し、そし
    てXcは水素原子を表すか、または Xa，XbおよびXcは一緒に４または５個のフッ素原子を表
    し、 naphtは非置換またはハロゲン原子、メチル基、メトキ
    シ基もしくはニトロ基により置換されたナフチル基を表
    し、 Ｗは非置換またはハロゲン原子、トリフルオロメチル
    基、シアノ基、炭素原子数１もしくは２のアルキル基も
    しくは炭素原子数１もしくは２のアルコキシカルボニル
    −炭素原子数２ないし４のアルキレンアミノ（イミノ）
    基により置換され、群O,NおよびＳからの１ないし３個
    の異原子を有する５ないし７員の飽和または不飽和複素
    環式基、またはモノサッカリド基を表し、 Ｔは−CH2−，−CH2CH2−，−CH（CH3）−，―CCH3（CH
    3）−，−CH2CH2CH2−または−CH2CH2O−で表される橋
    員を表し、 R1は水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸
    素原子もしくは硫黄原子により中断された炭素原子数１
    ないし５のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、HOOC
    基または炭素原子数１もしくは２のアルキル−OOC基に
    より置換された炭素原子数１ないし５のアルキル基、酸
    素原子または硫黄原子により中断され、そしてハロゲン
    原子、シアノ基、HOOC基もしくは炭素原子数１もしくは
    ２のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数１な
    いし５のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニ
    ル基、炭素原子数１ないし３のアルキル−OOC基により
    置換された炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素
    原子数３ないし５のアルキニル基、炭素原子数１ないし
    ３のアルキル−OOC基により置換された炭素原子数３な
    いし５のアルキニル基、（Ｔ）n−炭素原子数３ないし
    ６のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし３のアルキ
    ル−OOC基により置換された（Ｔ）n−炭素原子数３ない
    し６のシクロアルキル基、（Ｔ）n−フェニル基、また
    はフェニル部分においてハロゲン原子、ヒドロキシ基、
    メチル基、CF3基、シアノ基、メトキシ基、HOOC基もし
    くはMOOC基により置換された（Ｔ）n−フェニル基を表
    し、 R2は水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし３の
    アルキル基、シアノ基もしくは炭素原子数１ないし３の
    アルコキシ基により置換された炭素原子数１ないし３の
    アルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、異
    原子としてO,NもしくはＳを含有する３ないし６員の飽
    和もしくは不飽和複素環式基を表すか、または R1およびR2は一緒になって複素環式基Ｗを表し、 R3は水素原子、シアノ基、炭素原子数１ないし６のアル
    キル基、フェニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メ
    チル基、メトキシ基、HOOC基もしくはMOOC基により置換
    されたフェニル基、または複素環式基Ｗを表し、 R4は水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、CO
    NH2基、CONH−CONH−炭素原子数１ないし３のアルキル
    基、炭素原子数１ないし６のアルカノイル基、ハロゲン
    原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数１ないし３のアルカノイル基、
    炭素原子数３ないし５のアルケノイル基またはハロゲン
    原子もしくは炭素原子数１ないし３のアルコキシ基によ
    り置換され炭素原子数３ないし５のアルケノイル基を表
    すか、または R3およびR4は一緒になって複素環式基Ｗまたは炭素環式
    環Ｗ′を表し、 Ｗ′は３ないし７個の環炭素原子を有する炭素環式基を
    表し、 R5は水素原子またはメチル基を表し、 R6は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基
    を表し、そして ｎは０または１を表し、 第一もしくは第二アミノ基、UH基またはニトロ基、Si
    （炭素原子数１ないし８のアルキル）3またはリン含有
    基を除く）で表される化合物。
  46. 【請求項４６】次式I: （式中、 Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル
    基、メトキシ基、HOOC基またはMOOC基を表し、 Ｙは水素原子、ハロゲン原子、SO3H基、SO3M基、ニトロ
    基、ヒドロキシ基またはアミノ基を表し、 Ｍは相当する塩基または塩基性化合物から形成されるモ
    ル当量のアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イ
    オンを表し、そして Ｚはシアノ基または−CO−Ａで表される基を表し、 Ａは水素原子がモル当量の無機または有機カチオン残基
    で置換されてもよい−OH基または−SH基のいずれかを表
    すか、またはＡは900より低い分子量を有し、かつ１種
    または１種以上の異原子を含有してもよいその他の有機
    残基を表す）で表される化合物を有効成分として植物体
    および／またはそれらの生育地に施用することからなる
    植物病原性微生物による攻撃に対する植物の免疫化方
    法。
  47. 【請求項４７】Ａが600より低い分子量を有する式Ｉで
    表される化合物を施用することからなる請求項46記載の
    方法。
  48. 【請求項４８】Ａが400より低い分子量を有する式Ｉで
    表される化合物を施用することからなる請求項46記載の
    方法。
  49. 【請求項４９】Ｚがシアノ基を表し、Ｘが水素原子、ハ
    ロゲン原子またはメチル基を表し、そしてＹが水素原子
    またはハロゲン原子を表す式Ｉで表される化合物を施用
    することからなる請求項46記載の方法。
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