JP3169574B2 - 4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法 - Google Patents
4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法Info
- Publication number
- JP3169574B2 JP3169574B2 JP35536097A JP35536097A JP3169574B2 JP 3169574 B2 JP3169574 B2 JP 3169574B2 JP 35536097 A JP35536097 A JP 35536097A JP 35536097 A JP35536097 A JP 35536097A JP 3169574 B2 JP3169574 B2 JP 3169574B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bps
- reaction
- solvent
- benzyl
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 34
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 title claims description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 56
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 27
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- -1 benzyl halide Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 14
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 13
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 claims description 12
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 10
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XJTQJERLRPWUGL-UHFFFAOYSA-N iodomethylbenzene Chemical compound ICC1=CC=CC=C1 XJTQJERLRPWUGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzylether Substances C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 14
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 12
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 5
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 2
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000012156 elution solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- GQKZBCPTCWJTAS-UHFFFAOYSA-N methoxymethylbenzene Chemical group COCC1=CC=CC=C1 GQKZBCPTCWJTAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJLRCPYQIPAQCA-UHFFFAOYSA-N phenoxathiine 10,10-dioxide Chemical compound C1=CC=C2S(=O)(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 XJLRCPYQIPAQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- NTUCQKRAQSWLOP-UHFFFAOYSA-N propan-2-yloxymethylbenzene Chemical group CC(C)OCC1=CC=CC=C1 NTUCQKRAQSWLOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000010887 waste solvent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
- C07C315/04—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides by reactions not involving the formation of sulfone or sulfoxide groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、写真用カップラー
原料や、感熱記録紙に保存安定性の良い顕色剤として用
いられている下記一般式(1)の化合物4−ヒドロキシ
−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン(以下、B
PS−モノベンジルエーテルと略す)の製造方法に関す
る。
原料や、感熱記録紙に保存安定性の良い顕色剤として用
いられている下記一般式(1)の化合物4−ヒドロキシ
−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン(以下、B
PS−モノベンジルエーテルと略す)の製造方法に関す
る。
【0002】
【化1】
【0003】
【従来の技術】BPS−モノベンジルエーテルは、原料
として、4、4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン
(以下、BPSと略す)と、ベンジルハライド(X−C
H2C6H5、Xはハロゲン元素を示す)とを、アルカリ
触媒の存在下で反応させることにより製造することがで
きることが知られている。また、反応溶媒についても有
機溶媒系および水溶媒系とも知られている。
として、4、4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン
(以下、BPSと略す)と、ベンジルハライド(X−C
H2C6H5、Xはハロゲン元素を示す)とを、アルカリ
触媒の存在下で反応させることにより製造することがで
きることが知られている。また、反応溶媒についても有
機溶媒系および水溶媒系とも知られている。
【0004】係るBPS−モノベンジルエーテル製造方
法、特に工業的製造方法において問題となる1つは、反
応原料たるBPSがフェノール性水酸基を2個有するた
めに、4、4’−ジベンジルオキシジフェニルスルホン
(以下、BPS−ジベンジルエーテルと略す)が副生成
するという反応選択性の問題である。係る反応選択性の
問題は、反応条件の制御の困難性、および生成物単離工
程の必要性等を生じる原因となる。さらに、他の問題と
しては、反応に要する溶媒の量であり、製造装置、製造
条件制御の容易性、製造コスト等から可能なかぎり少な
い方が好ましい。
法、特に工業的製造方法において問題となる1つは、反
応原料たるBPSがフェノール性水酸基を2個有するた
めに、4、4’−ジベンジルオキシジフェニルスルホン
(以下、BPS−ジベンジルエーテルと略す)が副生成
するという反応選択性の問題である。係る反応選択性の
問題は、反応条件の制御の困難性、および生成物単離工
程の必要性等を生じる原因となる。さらに、他の問題と
しては、反応に要する溶媒の量であり、製造装置、製造
条件制御の容易性、製造コスト等から可能なかぎり少な
い方が好ましい。
【0005】特開昭58−82788号公報は、BPS
とベンジルクロライドとによる、アルカリ金属炭酸化物
を触媒とした有機溶媒(ジメチルホルムアミド)中での
製造方法が開示されているが、該反応は、反応選択性が
十分でなく、抽出、再結晶による精製工程をさらに必要
とするものである。また、特開昭59−225157号
公報や特開平4−210955号公報では、水を反応溶
媒として、アルカリ化合物によりBPSを溶解し、さら
にベンジルクロライドを反応させ、生成物を分離するこ
とによりBPS−モノベンジルエーテルを製造する方法
を、また、特開平5−117224号公報は、同様の条
件で反応させる際に、反応水溶液のpHを7.5〜8.
5になるようにアルカリ化合物を加える製造方法を開示
されている。 係る水溶媒反応系においては、BPS−
ジベンジルエーテル生成を抑制する目的のため、生成物
混合物内に未反応BPSが多量に存在することとなり、
溶媒抽出や再結晶等の複雑な精製工程が必要となる。さ
らに、溶媒としての水の量が、BPSに対して10倍量
程度必要となり、製造装置の単位体積当たりの生産量が
小さいという問題があると同時に、係る多量の廃溶媒処
理の問題もある。
とベンジルクロライドとによる、アルカリ金属炭酸化物
を触媒とした有機溶媒(ジメチルホルムアミド)中での
製造方法が開示されているが、該反応は、反応選択性が
十分でなく、抽出、再結晶による精製工程をさらに必要
とするものである。また、特開昭59−225157号
公報や特開平4−210955号公報では、水を反応溶
媒として、アルカリ化合物によりBPSを溶解し、さら
にベンジルクロライドを反応させ、生成物を分離するこ
とによりBPS−モノベンジルエーテルを製造する方法
を、また、特開平5−117224号公報は、同様の条
件で反応させる際に、反応水溶液のpHを7.5〜8.
5になるようにアルカリ化合物を加える製造方法を開示
されている。 係る水溶媒反応系においては、BPS−
ジベンジルエーテル生成を抑制する目的のため、生成物
混合物内に未反応BPSが多量に存在することとなり、
溶媒抽出や再結晶等の複雑な精製工程が必要となる。さ
らに、溶媒としての水の量が、BPSに対して10倍量
程度必要となり、製造装置の単位体積当たりの生産量が
小さいという問題があると同時に、係る多量の廃溶媒処
理の問題もある。
【0006】従って、BPS−モノベンジルエーテルの
製造方法において、高い反応選択性を有し、抽出・再結
晶等による複雑な精製工程を経ることなく高純度の生成
物を与え、しかも反応溶媒単位体積当たりの生産量が多
く反応廃液を最小限に抑えることが可能な製造方法が強
く望まれている。
製造方法において、高い反応選択性を有し、抽出・再結
晶等による複雑な精製工程を経ることなく高純度の生成
物を与え、しかも反応溶媒単位体積当たりの生産量が多
く反応廃液を最小限に抑えることが可能な製造方法が強
く望まれている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
BPS−モノベンジルエーテルの製造方法の欠点を解決
し、高い反応選択性を有し、抽出・再結晶等による複雑
な精製工程を経ることなく高純度の生成物を与え、しか
も反応溶媒単位体積当たりの生産量が多く反応廃液を最
小限に抑えることが可能な製造方法を提供することを目
的としてなされたものである。
BPS−モノベンジルエーテルの製造方法の欠点を解決
し、高い反応選択性を有し、抽出・再結晶等による複雑
な精製工程を経ることなく高純度の生成物を与え、しか
も反応溶媒単位体積当たりの生産量が多く反応廃液を最
小限に抑えることが可能な製造方法を提供することを目
的としてなされたものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、低級アルコー
ルを特定量反応時の溶媒として水を併用することによ
り、反応の選択性を向上させるとともに容積当たりの生
産量も向上できることを見出し、かかる知見に基づき本
発明を完成させるに至った。
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、低級アルコー
ルを特定量反応時の溶媒として水を併用することによ
り、反応の選択性を向上させるとともに容積当たりの生
産量も向上できることを見出し、かかる知見に基づき本
発明を完成させるに至った。
【0009】すなわち、本発明は、4、4’−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンとベンジルハライドとを、アル
カリ触媒の存在下で反応させ、4−ヒドロキシ−4’−
ベンジルオキシジフェニルスルホンを製造する方法にお
いて、低級アルコールを含有する水を溶媒とすることを
特徴とする方法を提供するものである。
キシジフェニルスルホンとベンジルハライドとを、アル
カリ触媒の存在下で反応させ、4−ヒドロキシ−4’−
ベンジルオキシジフェニルスルホンを製造する方法にお
いて、低級アルコールを含有する水を溶媒とすることを
特徴とする方法を提供するものである。
【0010】また、本発明は、前記低級アルコールが、
メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロ
パノールからなる群から選択される1つ、又はそれらの
混合物である上記4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキ
シジフェニルスルホンの製造方法を提供するものであ
る。
メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロ
パノールからなる群から選択される1つ、又はそれらの
混合物である上記4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキ
シジフェニルスルホンの製造方法を提供するものであ
る。
【0011】また、本発明は、前記アルカリ触媒が、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムからなる群から選択される
1つ、又はそれらの混合物である上記4−ヒドロキシ−
4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法を
提供するものである。
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムからなる群から選択される
1つ、又はそれらの混合物である上記4−ヒドロキシ−
4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法を
提供するものである。
【0012】また、本発明は、前記ベンジルハライド
が、ベンジルクロライド、ベンジルイオダイド、ベンジ
ルブロマイドからなる群から選択される1つ、又はそれ
らの混合物である上記4−ヒドロキシ−4’−ベンジル
オキシジフェニルスルホンの製造方法を提供するもので
ある。
が、ベンジルクロライド、ベンジルイオダイド、ベンジ
ルブロマイドからなる群から選択される1つ、又はそれ
らの混合物である上記4−ヒドロキシ−4’−ベンジル
オキシジフェニルスルホンの製造方法を提供するもので
ある。
【0013】さらに、本発明は、前記溶媒が、前記低級
アルコールを5〜25重量%含有する水である上記4−
ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン
の製造方法を提供するものである。
アルコールを5〜25重量%含有する水である上記4−
ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン
の製造方法を提供するものである。
【0014】また、本発明は、前記溶媒が、4、4’−
ジヒドロキシジフェニルスルホン1重量部に対し、3〜
5重量部である上記4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオ
キシジフェニルスルホンの製造方法を提供するものであ
る。
ジヒドロキシジフェニルスルホン1重量部に対し、3〜
5重量部である上記4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオ
キシジフェニルスルホンの製造方法を提供するものであ
る。
【0015】また、本発明は、4、4’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン1モルに対し、ベンジルハライドが
0.9〜1.2当量、かつアルカリ触媒が0.8〜1.
2当量である上記4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキ
シジフェニルスルホンの製造方法を提供するものであ
る。
ジフェニルスルホン1モルに対し、ベンジルハライドが
0.9〜1.2当量、かつアルカリ触媒が0.8〜1.
2当量である上記4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキ
シジフェニルスルホンの製造方法を提供するものであ
る。
【0016】さらに、本発明は、上記記載の方法であっ
て、さらに前記反応終了後、前記反応溶液から4−ヒド
ロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンを濾
過により分離することを特徴とする4−ヒドロキシ−
4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法を
提供するものである。
て、さらに前記反応終了後、前記反応溶液から4−ヒド
ロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンを濾
過により分離することを特徴とする4−ヒドロキシ−
4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法を
提供するものである。
【0017】すなわち、本発明のより具体的な態様とし
て、4、4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン1重量
部に対し3〜5重量部となる量の5〜25重量%−低級
アルコール水溶液に4、4’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンを加え、及び、4、4’−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン1モルに対し0.8〜1.2当量のアルカ
リ金属の水酸化物及び/又は塩を加えて4、4’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンのモノアルカリ金属塩とし
て溶解し、更に0.9〜1.2当量のベンジルハライド
を加えて反応、反応終了後、スラリー液を濾過分離して
得られることを特徴とす高純度の4−ヒドロキシ−4’
−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法を提供
するものである。
て、4、4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン1重量
部に対し3〜5重量部となる量の5〜25重量%−低級
アルコール水溶液に4、4’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンを加え、及び、4、4’−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン1モルに対し0.8〜1.2当量のアルカ
リ金属の水酸化物及び/又は塩を加えて4、4’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンのモノアルカリ金属塩とし
て溶解し、更に0.9〜1.2当量のベンジルハライド
を加えて反応、反応終了後、スラリー液を濾過分離して
得られることを特徴とす高純度の4−ヒドロキシ−4’
−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法を提供
するものである。
【0018】以下、本発明を実施の形態に即し、本発明
に係る4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニ
ルスルホンの製造方法について詳細に説明する。
に係る4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニ
ルスルホンの製造方法について詳細に説明する。
【0019】
【発明の実施の形態】(反応溶媒)本発明に係るBPS
−モノベンジルエーテルの製造方法は、原料として、B
PSと、ベンジルハライド(X−CH2C6H5、Xはハ
ロゲン元素を示す)とを、アルカリ触媒の存在下で反応
させる方法において、反応溶媒として低級アルコールを
含有する水を用いるものである。
−モノベンジルエーテルの製造方法は、原料として、B
PSと、ベンジルハライド(X−CH2C6H5、Xはハ
ロゲン元素を示す)とを、アルカリ触媒の存在下で反応
させる方法において、反応溶媒として低級アルコールを
含有する水を用いるものである。
【0020】ここで水と共に溶媒として用いる低級アル
コールとしては、特に制限されないが、炭素数1〜3個
のアルコールであることが好ましく、具体的にはメタノ
ール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノー
ルが挙げられる。
コールとしては、特に制限されないが、炭素数1〜3個
のアルコールであることが好ましく、具体的にはメタノ
ール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノー
ルが挙げられる。
【0021】係る低級アルコールの含有量(濃度)は特
に制限されないが、水に対し好ましくは5〜25重量%
(特に好ましくは5〜15重量%)である。低級アルコ
ールの濃度が25重量%以上の溶媒を使用すると反応の
選択性が低下し、未反応のBPSやBPS−ジベンジル
エーテルが副生成しやすくなる傾向がある。また、低級
アルコールの濃度が5重量%以下では未反応のBPSが
多量に残る傾向がある。
に制限されないが、水に対し好ましくは5〜25重量%
(特に好ましくは5〜15重量%)である。低級アルコ
ールの濃度が25重量%以上の溶媒を使用すると反応の
選択性が低下し、未反応のBPSやBPS−ジベンジル
エーテルが副生成しやすくなる傾向がある。また、低級
アルコールの濃度が5重量%以下では未反応のBPSが
多量に残る傾向がある。
【0022】また、本発明において好ましい上記反応溶
媒の使用量は特に制限されないが、BPSの1重量部に
対して3〜5重量部であることが好ましい。すなわち、
BPSに対して3重量部以下では原料のBPSが十分溶
解せずに反応溶媒中に残り、反応後もBPSが未反応の
まま残る傾向があり、反応の選択性および収率が低下す
る。一方、溶媒量がBPSの1重量部に対して5重量部
以上使用する場合では、反応溶媒の容積当たりの生産量
を低下させることとなり、反応装置、反応操作、分離処
理等において工業的に操作する際に不利となり、また、
多量の廃液を排出することになり廃液処理上不利とな
る。
媒の使用量は特に制限されないが、BPSの1重量部に
対して3〜5重量部であることが好ましい。すなわち、
BPSに対して3重量部以下では原料のBPSが十分溶
解せずに反応溶媒中に残り、反応後もBPSが未反応の
まま残る傾向があり、反応の選択性および収率が低下す
る。一方、溶媒量がBPSの1重量部に対して5重量部
以上使用する場合では、反応溶媒の容積当たりの生産量
を低下させることとなり、反応装置、反応操作、分離処
理等において工業的に操作する際に不利となり、また、
多量の廃液を排出することになり廃液処理上不利とな
る。
【0023】(アルカリ触媒)本発明で好ましく使用可
能なアルカリ触媒としては特に制限されないが、アルカ
リ金属の水酸化物またはその塩が好ましく使用可能であ
る。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙
げられ、特に好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムである。
能なアルカリ触媒としては特に制限されないが、アルカ
リ金属の水酸化物またはその塩が好ましく使用可能であ
る。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙
げられ、特に好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムである。
【0024】アルカリ触媒の使用量は特に制限はない
が、上記のアルカリ金属の水酸化物またはその塩の場合
は、BPSの1モルに対して0.8〜1.2当量が好ま
しい。この場合の1当量とは、BPSが2個の水酸基を
有していることから、BPS1モルに対し水酸基に換算
して1モルのアルカリ触媒を意味する。BPSの1モル
に対して0.8当量以下では、未反応BPSが大量に残
る傾向があり、一方BPSの1モルに対して1.2当量
以上使用する場合には、BPS−ジベンジルエーテルが
生成しやすくなり、従って反応収率が低下する。
が、上記のアルカリ金属の水酸化物またはその塩の場合
は、BPSの1モルに対して0.8〜1.2当量が好ま
しい。この場合の1当量とは、BPSが2個の水酸基を
有していることから、BPS1モルに対し水酸基に換算
して1モルのアルカリ触媒を意味する。BPSの1モル
に対して0.8当量以下では、未反応BPSが大量に残
る傾向があり、一方BPSの1モルに対して1.2当量
以上使用する場合には、BPS−ジベンジルエーテルが
生成しやすくなり、従って反応収率が低下する。
【0025】アルカリ触媒の添加条件についても特に制
限はないが、BPSを溶解した後に添加することにより
BPSのモノアルカリ金属塩として溶解させることが好
ましい。本発明の反応溶媒を使用することにより、上記
BPSはほぼ完全にモノアルカリ金属塩として溶液中に
存在する。
限はないが、BPSを溶解した後に添加することにより
BPSのモノアルカリ金属塩として溶解させることが好
ましい。本発明の反応溶媒を使用することにより、上記
BPSはほぼ完全にモノアルカリ金属塩として溶液中に
存在する。
【0026】(ベンジルハライド)本発明において使用
するベンジルハライドとしては特に制限はないが、ベン
ジルクロライド(塩化物)、ベンジルイオダイオ(ヨウ
化物)、ベンジルブロマイド(臭化物)が好ましく使用
可能であり、特に好ましくはベンジルクロライドであ
る。
するベンジルハライドとしては特に制限はないが、ベン
ジルクロライド(塩化物)、ベンジルイオダイオ(ヨウ
化物)、ベンジルブロマイド(臭化物)が好ましく使用
可能であり、特に好ましくはベンジルクロライドであ
る。
【0027】ベンジルハライドの使用量は特に制限はな
いが、BPSの1モルに対して0.8〜1.2当量が好
ましい。ここで1当量とは、BPSが2個の水酸基を有
することから、1つの水酸基と反応するベンジルハライ
ドの量を意味する。ここで、BPSの1モルに対して
0.8当量以下ではBPSが未反応として反応溶液中に
大量に残る傾向があり、一方BPSの1モルに対して
1.2当量以上使用した場合にはBPS−ジベンジルエ
ーテルが副生成しやすくなる。
いが、BPSの1モルに対して0.8〜1.2当量が好
ましい。ここで1当量とは、BPSが2個の水酸基を有
することから、1つの水酸基と反応するベンジルハライ
ドの量を意味する。ここで、BPSの1モルに対して
0.8当量以下ではBPSが未反応として反応溶液中に
大量に残る傾向があり、一方BPSの1モルに対して
1.2当量以上使用した場合にはBPS−ジベンジルエ
ーテルが副生成しやすくなる。
【0028】(反応条件)本発明において好ましい反応
温度は特に制限はないが、好ましくは40〜90℃の範
囲であり、より好ましくは50〜70℃の範囲である。
反応の初期は反応原料が溶解していることが好ましく、
溶解するに十分な温度とすることが好ましい。一般に5
0℃以下では反応前は、原料、又は生成物の一部が固体
として析出するが、この場合であっても係るスラリー状
態から反応させてもよい。一方、90℃以上では反応の
選択性が低下し、BPS−ジベンジルエーテルが副生成
しやすくなる傾向がある。
温度は特に制限はないが、好ましくは40〜90℃の範
囲であり、より好ましくは50〜70℃の範囲である。
反応の初期は反応原料が溶解していることが好ましく、
溶解するに十分な温度とすることが好ましい。一般に5
0℃以下では反応前は、原料、又は生成物の一部が固体
として析出するが、この場合であっても係るスラリー状
態から反応させてもよい。一方、90℃以上では反応の
選択性が低下し、BPS−ジベンジルエーテルが副生成
しやすくなる傾向がある。
【0029】本発明において好ましい反応時間は特に制
限はなく、反応の進行をモニターすることにより最適化
可能である。好ましくは、ベンジルハライドを添加した
後も同じ温度で十分反応を完了させる。反応に必要な時
間は、例えば、反応混合物かの一部を採りだし、高速液
体クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、ガス
クロマトグラフィー等の公知の手段を用いることで、原
料又は生成物を迅速にモニターすることが可能である。
限はなく、反応の進行をモニターすることにより最適化
可能である。好ましくは、ベンジルハライドを添加した
後も同じ温度で十分反応を完了させる。反応に必要な時
間は、例えば、反応混合物かの一部を採りだし、高速液
体クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、ガス
クロマトグラフィー等の公知の手段を用いることで、原
料又は生成物を迅速にモニターすることが可能である。
【0030】上記説明した本発明に係る製造条件におい
ては、反応終了した反応混合液を20〜40℃程度に冷
却すると生成物たるBPS−モノベンジルエーテルが結
晶となって析出する。この際、冷却温度が20℃より低
い場合には、副生物や未反応原料が混在する傾向があ
り、また、高温度にすると純度は高くなるが収率が低下
する傾向がある。従って、収量および純度を考慮して適
当な冷却温度を設定することは可能である。一般には2
0〜60℃で濾過することにより、未反応のBPSは濾
液に移行し、BPS−モノベンジルエーテルが高純度
(96%以上)でかつ高収率(80%以上)で得られ
る。
ては、反応終了した反応混合液を20〜40℃程度に冷
却すると生成物たるBPS−モノベンジルエーテルが結
晶となって析出する。この際、冷却温度が20℃より低
い場合には、副生物や未反応原料が混在する傾向があ
り、また、高温度にすると純度は高くなるが収率が低下
する傾向がある。従って、収量および純度を考慮して適
当な冷却温度を設定することは可能である。一般には2
0〜60℃で濾過することにより、未反応のBPSは濾
液に移行し、BPS−モノベンジルエーテルが高純度
(96%以上)でかつ高収率(80%以上)で得られ
る。
【0031】上記条件で濾過して得られたBPS−モノ
ベンジルエーテルの純度は、公知の分析手段で確認する
ことが可能である。具体的には、標準品として、通常の
操作で反応し得られた反応物をシリカゲルカラムを用い
てクロロホルム溶媒で分離精製を行い、得られたBPS
−モノベンジルエーテルを用いて高速液体クロマトグラ
フィー(例えば(株)島津製作所製LC−10型)、ガ
スクロマトグラフィー(例えば(株)島津製作所製GC
−16A型)、核磁気共鳴吸収スペクトル(例えば
(株)日立製作所製R−90H型)、赤外線吸収スペク
トル(PERKINELMER社製 1600FTI
R)、元素分析(PERKIN ELMER社製 24
00 CHN Elemental Analyze
r)等の各種方法が好ましく使用可能である。さらに、
得られるBPS−モノベンジルエーテルの融点も熱流束
示差走査熱量計(例えば(株)島津製作所製 DSC−
50型)等で測定可能である。
ベンジルエーテルの純度は、公知の分析手段で確認する
ことが可能である。具体的には、標準品として、通常の
操作で反応し得られた反応物をシリカゲルカラムを用い
てクロロホルム溶媒で分離精製を行い、得られたBPS
−モノベンジルエーテルを用いて高速液体クロマトグラ
フィー(例えば(株)島津製作所製LC−10型)、ガ
スクロマトグラフィー(例えば(株)島津製作所製GC
−16A型)、核磁気共鳴吸収スペクトル(例えば
(株)日立製作所製R−90H型)、赤外線吸収スペク
トル(PERKINELMER社製 1600FTI
R)、元素分析(PERKIN ELMER社製 24
00 CHN Elemental Analyze
r)等の各種方法が好ましく使用可能である。さらに、
得られるBPS−モノベンジルエーテルの融点も熱流束
示差走査熱量計(例えば(株)島津製作所製 DSC−
50型)等で測定可能である。
【0032】本発明に係る製造方法で副成する副生物、
又は混在する不純物は、未反応のBPS、BPSのジベ
ンジルエーテルの他、ベンジルハライドと低級アルコー
ルとの反応生成物であるベンジルエーテル、C6H5CH
2ORが検出可能である。ここでRは反応に使用した低
級アルコールROHのアルキル基である。具体的には、
例えばメチルアルコールを使用した場合には、ベンジル
メチルエーテルであり、イソプロピルアルコールを使用
した場合には、イソプロピロベンジルエーテルである。
かかる副生成物は本発明に係る方法に特徴的であり、そ
の検出方法は、種々の公知の微量有機分析方法により可
能である。具体的には、ガスクロマトグラフィー、質量
分析、高速液体クロマトグラフィー等である。
又は混在する不純物は、未反応のBPS、BPSのジベ
ンジルエーテルの他、ベンジルハライドと低級アルコー
ルとの反応生成物であるベンジルエーテル、C6H5CH
2ORが検出可能である。ここでRは反応に使用した低
級アルコールROHのアルキル基である。具体的には、
例えばメチルアルコールを使用した場合には、ベンジル
メチルエーテルであり、イソプロピルアルコールを使用
した場合には、イソプロピロベンジルエーテルである。
かかる副生成物は本発明に係る方法に特徴的であり、そ
の検出方法は、種々の公知の微量有機分析方法により可
能である。具体的には、ガスクロマトグラフィー、質量
分析、高速液体クロマトグラフィー等である。
【0033】さらに、本発明に係る製造方法についの特
徴は、反応廃液が水のみならず低級アルコールを所定量
含むことである。従って、該反応廃液の一部を通常の有
機分析手段を用いることで、所定の量の低級アルコール
が存在することを確認することが可能である。具体的に
は、廃液のガスクロマトグラフィー、質量分析、高速液
体クロマトグラフィー等による分析が可能である。
徴は、反応廃液が水のみならず低級アルコールを所定量
含むことである。従って、該反応廃液の一部を通常の有
機分析手段を用いることで、所定の量の低級アルコール
が存在することを確認することが可能である。具体的に
は、廃液のガスクロマトグラフィー、質量分析、高速液
体クロマトグラフィー等による分析が可能である。
【0034】
【実施例】以下、実施例を挙げてこの発明を詳細に説明
するが、この発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。
するが、この発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。
【0035】(実施例1)BPS(250g、1.0モル)と
水酸化ナトリウム(40g、1.0モル)を5重量%のメタノ
ール含有水溶液1250gに溶解し、60℃でベンジルクロラ
イド(126.6g、1.0モル)を4時間かけて滴下した。滴下
終了後、更に60℃で6時間反応を完結させた。反応終了
後、反応溶液を35℃まで冷却して析出した精製物を濾過
分別し、水で数回洗浄した後、減圧下で乾燥した(乾燥
後収量290.7g、BPSからの収率85.5%)。
水酸化ナトリウム(40g、1.0モル)を5重量%のメタノ
ール含有水溶液1250gに溶解し、60℃でベンジルクロラ
イド(126.6g、1.0モル)を4時間かけて滴下した。滴下
終了後、更に60℃で6時間反応を完結させた。反応終了
後、反応溶液を35℃まで冷却して析出した精製物を濾過
分別し、水で数回洗浄した後、減圧下で乾燥した(乾燥
後収量290.7g、BPSからの収率85.5%)。
【0036】得られた結晶は、以下の条件で行った高速
液体クロマトグラフィー(カラム:Shim-packCLC−
ODS、溶出溶媒:65%アセトニトリル水溶液、標準物
質:前述の手法で得た純度99.9%のBPS−モノベンジ
ルエーテルにより、純度97.4%のBPS−モノベンジル
エーテルであった。さらに、上記高速液体クロマトグラ
フィーには、副生成物として、BPS−ジベンジルエー
テル(0.8%)が認められた。融点(熱流束示差走査熱
量計で測定)は164℃であった。
液体クロマトグラフィー(カラム:Shim-packCLC−
ODS、溶出溶媒:65%アセトニトリル水溶液、標準物
質:前述の手法で得た純度99.9%のBPS−モノベンジ
ルエーテルにより、純度97.4%のBPS−モノベンジル
エーテルであった。さらに、上記高速液体クロマトグラ
フィーには、副生成物として、BPS−ジベンジルエー
テル(0.8%)が認められた。融点(熱流束示差走査熱
量計で測定)は164℃であった。
【0037】(実施例2)BPS(250g、1.0モル)と
水酸化ナトリウム(40g、1.0モル)を20重量%のメタノ
ール含有水溶液750gに溶解し、75℃でベンジルクロライ
ド(126.6g、1.0モル)を4時間かけて滴下した。滴下終
了後、更に75℃で6時間反応を完結させた。反応終了
後、反応溶液を35℃まで冷却して析出した精製物を濾過
分別し、水で数回洗浄した後、減圧下で乾燥した(乾燥
後収量286.3g、BPSからの収率84.2%)。
水酸化ナトリウム(40g、1.0モル)を20重量%のメタノ
ール含有水溶液750gに溶解し、75℃でベンジルクロライ
ド(126.6g、1.0モル)を4時間かけて滴下した。滴下終
了後、更に75℃で6時間反応を完結させた。反応終了
後、反応溶液を35℃まで冷却して析出した精製物を濾過
分別し、水で数回洗浄した後、減圧下で乾燥した(乾燥
後収量286.3g、BPSからの収率84.2%)。
【0038】得られた結晶は、以下の条件で行った高速
液体クロマトグラフィー(実施例1と同じ)により、純
度96.9%のBPS−モノベンジルエーテルであった。さ
らに、上記高速液体クロマトグラフィーには、副生成物
として、BPS−ジベンジルエーテル(1.0%)が認め
られた。融点(熱流束示差走査熱量計で測定)は163℃
であった。
液体クロマトグラフィー(実施例1と同じ)により、純
度96.9%のBPS−モノベンジルエーテルであった。さ
らに、上記高速液体クロマトグラフィーには、副生成物
として、BPS−ジベンジルエーテル(1.0%)が認め
られた。融点(熱流束示差走査熱量計で測定)は163℃
であった。
【0039】(実施例3)BPS(250g、1.0モル)と
水酸化ナトリウム(40g、1.0モル)を5重量%のイソプ
ロパノール含有水溶液1250gに溶解し、60℃でベンジル
クロライド(126.6g、1.0モル)を4時間かけて滴下し
た。滴下終了後、更に60℃で6時間反応を完結させた。
反応終了後、反応溶液を35℃まで冷却して析出した精製
物を濾過分別し、水で数回洗浄した後、減圧下で乾燥し
た(乾燥後収量273.4g、BPSからの収率80.4%)。
水酸化ナトリウム(40g、1.0モル)を5重量%のイソプ
ロパノール含有水溶液1250gに溶解し、60℃でベンジル
クロライド(126.6g、1.0モル)を4時間かけて滴下し
た。滴下終了後、更に60℃で6時間反応を完結させた。
反応終了後、反応溶液を35℃まで冷却して析出した精製
物を濾過分別し、水で数回洗浄した後、減圧下で乾燥し
た(乾燥後収量273.4g、BPSからの収率80.4%)。
【0040】得られた結晶は、以下の条件で行った高速
液体クロマトグラフィー(実施例1と同じ)により、純
度96.3%のBPS−モノベンジルエーテルであった。さ
らに、上記高速液体クロマトグラフィーには、副生成物
として、BPS−ジベンジルエーテル(1.2%)が認め
られた。融点(熱流束示差走査熱量計で測定)は161℃
であった。
液体クロマトグラフィー(実施例1と同じ)により、純
度96.3%のBPS−モノベンジルエーテルであった。さ
らに、上記高速液体クロマトグラフィーには、副生成物
として、BPS−ジベンジルエーテル(1.2%)が認め
られた。融点(熱流束示差走査熱量計で測定)は161℃
であった。
【0041】(比較例1)BPS(250g、1.0モル)と
水酸化ナトリウム(40g、1.0モル)を水2500gに溶解
し、60℃でベンジルクロライド(126.6g、1.0モル)を4
時間かけて滴下した。滴下終了後、更に60℃で6時間反
応を完結させた。反応終了後、反応溶液を35℃まで冷却
して析出した精製物を濾過分別し、水で数回洗浄した
後、減圧下で乾燥した(乾燥後収量286.6g、BPSから
の収率84.3%)。
水酸化ナトリウム(40g、1.0モル)を水2500gに溶解
し、60℃でベンジルクロライド(126.6g、1.0モル)を4
時間かけて滴下した。滴下終了後、更に60℃で6時間反
応を完結させた。反応終了後、反応溶液を35℃まで冷却
して析出した精製物を濾過分別し、水で数回洗浄した
後、減圧下で乾燥した(乾燥後収量286.6g、BPSから
の収率84.3%)。
【0042】得られた結晶は、以下の条件で行った高速
液体クロマトグラフィー(実施例1と同じ)により、純
度90.9%のBPS−モノベンジルエーテルであった。さ
らに、上記高速液体クロマトグラフィーには、副生成物
として、BPS−ジベンジルエーテル(5.7%)が認め
られた。融点(熱流束示差走査熱量計で測定)は154℃
であった。
液体クロマトグラフィー(実施例1と同じ)により、純
度90.9%のBPS−モノベンジルエーテルであった。さ
らに、上記高速液体クロマトグラフィーには、副生成物
として、BPS−ジベンジルエーテル(5.7%)が認め
られた。融点(熱流束示差走査熱量計で測定)は154℃
であった。
【0043】(比較例2)BPS(250g、1.0モル)と
水酸化ナトリウム(40g、1.0モル)を水1250gに溶解
し、80℃でベンジルクロライド(126.6g、1.0モル)を4
時間かけて滴下した。滴下終了後、更に80℃で6時間反
応を完結させた。反応終了後、反応溶液を35℃まで冷却
して析出した精製物を濾過分別し、水で数回洗浄した
後、減圧下で乾燥した(乾燥後収量306.7g、BPSから
の収率90.2%)。
水酸化ナトリウム(40g、1.0モル)を水1250gに溶解
し、80℃でベンジルクロライド(126.6g、1.0モル)を4
時間かけて滴下した。滴下終了後、更に80℃で6時間反
応を完結させた。反応終了後、反応溶液を35℃まで冷却
して析出した精製物を濾過分別し、水で数回洗浄した
後、減圧下で乾燥した(乾燥後収量306.7g、BPSから
の収率90.2%)。
【0044】得られた結晶は、以下の条件で行った高速
液体クロマトグラフィー(実施例1と同じ)により、純
度88.4%のBPS−モノベンジルエーテルであった。さ
らに、上記高速液体クロマトグラフィーには、副生成物
として、BPS−ジベンジルエーテル(6.8%)が認め
られた。融点(熱流束示差走査熱量計で測定)は153℃
であった。
液体クロマトグラフィー(実施例1と同じ)により、純
度88.4%のBPS−モノベンジルエーテルであった。さ
らに、上記高速液体クロマトグラフィーには、副生成物
として、BPS−ジベンジルエーテル(6.8%)が認め
られた。融点(熱流束示差走査熱量計で測定)は153℃
であった。
【0045】
【発明の効果】本発明のBPS−モノベンジルエーテル
製造方法によれば、反応溶媒として適当量の低級アルコ
ールを含有する水溶媒を用いることによって、反応選択
性が極めて高く、反応生成物を単に濾過・洗浄・乾燥する
ことにより高収量かつ高純度で単離することが可能とな
る。また、反応溶媒量を削減することが可能となる結
果、単位容積(装置及び溶媒)当たりの生産量を向上さ
せ、また、必要な製造コストを減少させ、さらに、必要
な廃液処理を削減することが可能となる。
製造方法によれば、反応溶媒として適当量の低級アルコ
ールを含有する水溶媒を用いることによって、反応選択
性が極めて高く、反応生成物を単に濾過・洗浄・乾燥する
ことにより高収量かつ高純度で単離することが可能とな
る。また、反応溶媒量を削減することが可能となる結
果、単位容積(装置及び溶媒)当たりの生産量を向上さ
せ、また、必要な製造コストを減少させ、さらに、必要
な廃液処理を削減することが可能となる。
【0046】以上から、本発明のBPS−モノベンジル
エーテル製造方法は、4−ヒドロキシ−4’−ベンジル
オキシジフェニルスルホンの工業的製造方法として好適
である。
エーテル製造方法は、4−ヒドロキシ−4’−ベンジル
オキシジフェニルスルホンの工業的製造方法として好適
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 317/22 C07C 315/04
Claims (8)
- 【請求項1】 4、4’−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンとベンジルハライドとを、アルカリ触媒の存在下で
反応させ、4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフ
ェニルスルホンを製造する方法において、低級アルコー
ルを含有する水を溶媒とすることを特徴とする方法。 - 【請求項2】 前記低級アルコールが、メタノール、エ
タノール、n−プロパノール、イソプロパノールからな
る群から選択される1つ、又はそれらの混合物である請
求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記アルカリ触媒が、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムからなる群から選択される1つ、又は
それらの混合物である請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 前記ベンジルハライドが、ベンジルクロ
ライド、ベンジルイオダイド、ベンジルブロマイドから
なる群から選択される1つ、又はそれらの混合物である
請求項1に記載の方法。 - 【請求項5】 前記溶媒が、前記低級アルコールを5〜
25重量%含有する水である請求項1に記載の方法。 - 【請求項6】 前記溶媒が、4、4’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン1重量部に対し、3〜5重量部である
請求項1に記載の方法。 - 【請求項7】 4、4’−ジヒドロキシジフェニルスル
ホン1モルに対し、ベンジルハライドが0.9〜1.2
当量、かつアルカリ触媒が0.8〜1.2当量である請
求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項8】 請求項1〜7のいずれか1項に記載の方
法であって、さらに前記反応終了後、前記反応溶液から
4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスル
ホンを濾過により分離することを特徴とする方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35536097A JP3169574B2 (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | 4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法 |
| EP98303962A EP0933357B1 (en) | 1997-12-24 | 1998-05-19 | Method of making 4-hydroxy-4'-benzyloxydiphenyl sulfone |
| DE69801559T DE69801559T2 (de) | 1997-12-24 | 1998-05-19 | Verfahren zur Herstellung von 4-Hydroxy-4'-benzyloxydiphenyl-sulfon |
| US09/081,275 US6046363A (en) | 1997-12-24 | 1998-05-20 | Method of making 4-hydroxy-4'-benzyloxydiphenyl sulfone |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35536097A JP3169574B2 (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | 4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11180946A JPH11180946A (ja) | 1999-07-06 |
| JP3169574B2 true JP3169574B2 (ja) | 2001-05-28 |
Family
ID=18443484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35536097A Expired - Fee Related JP3169574B2 (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | 4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6046363A (ja) |
| EP (1) | EP0933357B1 (ja) |
| JP (1) | JP3169574B2 (ja) |
| DE (1) | DE69801559T2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB0113788D0 (en) | 2001-06-06 | 2001-07-25 | Kvaerner Process Tech Ltd | Furnace and process |
| JP4807690B2 (ja) * | 2001-09-10 | 2011-11-02 | 小西化学工業株式会社 | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
| JP2018016000A (ja) * | 2016-07-28 | 2018-02-01 | 日華化学株式会社 | 感熱記録用顕色剤組成物の製造方法、感熱記録用顕色剤組成物及び感熱記録材料 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE251127C (ja) * | ||||
| US2378698A (en) * | 1943-05-01 | 1945-06-19 | Goodrich Co B F | Partial ethers of alkenyl substituted polyhydroxybenzenes |
| JPS5882788A (ja) * | 1981-11-11 | 1983-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
| JPS59225157A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-12-18 | Konishi Kagaku Kogyo Kk | 4−ヒドロキシ−4′−ベンジルオキシジフエニルスルホンの製造法 |
| JPS6013852A (ja) * | 1983-07-04 | 1985-01-24 | Shin Nisso Kako Co Ltd | ジフエニルスルホン誘導体およびそれを含有する発色性記録材料 |
| DD251127A1 (de) * | 1984-04-03 | 1987-11-04 | Wolfen Filmfab Veb | Verfahren zur gewinnung von reinem 4-benzyloxy-4'-hydroxy-diphenylsulfon |
| JP2500532B2 (ja) * | 1990-01-29 | 1996-05-29 | 吉富製薬株式会社 | ジフェニルスルホン化合物の製造法 |
| CA2049045A1 (en) * | 1990-01-29 | 1991-07-30 | Ryoichi Kinishi | Method for producing diphenyl sulfone compounds |
| US5284978A (en) * | 1990-01-29 | 1994-02-08 | Yoshitomi Pharmaceutical Industries, Ltd. | Method for producing diphenyl sulfone compounds |
| JP3089760B2 (ja) * | 1991-10-24 | 2000-09-18 | 日本曹達株式会社 | 4−ベンジルオキシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホンの製造法 |
| JP2681737B2 (ja) * | 1993-03-24 | 1997-11-26 | 日華化学株式会社 | 感熱記録材料 |
-
1997
- 1997-12-24 JP JP35536097A patent/JP3169574B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-05-19 EP EP98303962A patent/EP0933357B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-05-19 DE DE69801559T patent/DE69801559T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-05-20 US US09/081,275 patent/US6046363A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69801559T2 (de) | 2002-07-11 |
| US6046363A (en) | 2000-04-04 |
| DE69801559D1 (de) | 2001-10-11 |
| EP0933357A1 (en) | 1999-08-04 |
| JPH11180946A (ja) | 1999-07-06 |
| EP0933357B1 (en) | 2001-09-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0465665B1 (en) | Process for producing diphenyl sulfone compound | |
| JPH11180946A (ja) | 4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法 | |
| US5284978A (en) | Method for producing diphenyl sulfone compounds | |
| JPH0463875B2 (ja) | ||
| JP2500532B2 (ja) | ジフェニルスルホン化合物の製造法 | |
| US7507812B2 (en) | Process for producing 3-chloromethyl-3-cephem derivatives | |
| JP3663427B2 (ja) | シアノフルオロフェノ−ルの製造方法 | |
| JP3907787B2 (ja) | 安息香酸誘導体の製造方法 | |
| JP2000026350A (ja) | 2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン誘導体の製造方法 | |
| JPH0468301B2 (ja) | ||
| JP2853244B2 (ja) | ビス[3,5―ジブロモ―4―(ジブロモプロポキシ)フェニル]スルホンの製法 | |
| JP4807690B2 (ja) | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 | |
| JP3823385B2 (ja) | 2,4,5−トリフルオロ−3−ヨ−ド安息香酸およびそのエステル類の製造方法 | |
| JP4219593B2 (ja) | 4−置換ヒドロキシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 | |
| JP4942463B2 (ja) | アルキルオキシヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 | |
| JP4219606B2 (ja) | モノ置換ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 | |
| JP2928856B2 (ja) | ビス(4―アリルオキシ―3,5―ジブロモフェニル)スルホンの製造を行う方法 | |
| RU2133736C1 (ru) | Способ получения нитрилов алкоксифенилуксусных кислот (варианты) | |
| JP3257779B2 (ja) | タートラニル酸類の製造法 | |
| JPH11189566A (ja) | フルオロアルキルカルボン酸の製造方法 | |
| JP3581721B2 (ja) | N−置換−3−ヨードプロピオール酸アミドおよびその合成中間体の製造方法 | |
| WO2007122691A1 (ja) | 高純度α-(メタ)アクリロイロキシーγ-ブチロラクトン及びその製造方法 | |
| JP2004149440A (ja) | ベンジルカルバゼート化合物の製造法 | |
| JP2002275150A (ja) | カルボジヒドラジドの製造方法 | |
| JPH0699352B2 (ja) | p―またはm―〔2―(メトキシ)エチル〕フェノールの合成法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |