JP3203694B2 - 石英ガラスの製造方法 - Google Patents
石英ガラスの製造方法Info
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- JP3203694B2 JP3203694B2 JP20370291A JP20370291A JP3203694B2 JP 3203694 B2 JP3203694 B2 JP 3203694B2 JP 20370291 A JP20370291 A JP 20370291A JP 20370291 A JP20370291 A JP 20370291A JP 3203694 B2 JP3203694 B2 JP 3203694B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は石英ガラスの製造方法に
関し、特に気泡や脈理等の光学的不均質部分が存在しな
い石英ガラスの製造方法に関する。
関し、特に気泡や脈理等の光学的不均質部分が存在しな
い石英ガラスの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】マスク用基板、ディスプレイ等に使用さ
れる石英ガラス薄板は従来 イ.溶融及び合成石英ガラスインゴットより切り出し・
研削・研磨を行い石英ガラス薄板とする方法 ロ.珪素のアルコキシド、シリカ微粉末又はそれらの混
合物を出発原料とし、加水分解・脱水重合反応をおこさ
せ得られたゲルを乾燥・焼結し石英ガラス薄板とする方
法 等の方法により作製されている。現在は、イの方法が主
流である。
れる石英ガラス薄板は従来 イ.溶融及び合成石英ガラスインゴットより切り出し・
研削・研磨を行い石英ガラス薄板とする方法 ロ.珪素のアルコキシド、シリカ微粉末又はそれらの混
合物を出発原料とし、加水分解・脱水重合反応をおこさ
せ得られたゲルを乾燥・焼結し石英ガラス薄板とする方
法 等の方法により作製されている。現在は、イの方法が主
流である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法には以下のような問題がある。 イの方法 気泡や脈理等の光学的不均質部分が存在 歩留りが悪い 高価である 大面積の薄板を得ることが困難である ロの方法 気泡の存在 反りの発生 また従来の濾過成型法は濾過に長時間を要する場合があ
る。
の方法には以下のような問題がある。 イの方法 気泡や脈理等の光学的不均質部分が存在 歩留りが悪い 高価である 大面積の薄板を得ることが困難である ロの方法 気泡の存在 反りの発生 また従来の濾過成型法は濾過に長時間を要する場合があ
る。
【0004】本発明はこれらの問題点を解決するため
に、気泡や脈理等の光学的不均質部分が存在せず、反り
のない石英ガラス薄板を歩留りよく、安価に製造する方
法を提供するものである。
に、気泡や脈理等の光学的不均質部分が存在せず、反り
のない石英ガラス薄板を歩留りよく、安価に製造する方
法を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記問題点に鑑み鋭意研
究の結果、本発明者らはシリカ粉末を原料とし、この粉
末を分散媒中に分散させた懸濁液を比重が2.2g/c
m3以上の液体に浮かせ、遠心力を用いてシリカ粉末を
沈降、堆積させ湿潤成型体を得、その湿潤成型体を内部
を高湿度に保った恒温恒湿器内で徐々に乾燥させ乾燥成
型体とし、それを焼結する事により、30μm以上の気
泡や脈理等の光学的不均質部分が存在しない石英ガラス
を歩留まり良く、安価に製造できることを発見し、本発
明に到達した。
究の結果、本発明者らはシリカ粉末を原料とし、この粉
末を分散媒中に分散させた懸濁液を比重が2.2g/c
m3以上の液体に浮かせ、遠心力を用いてシリカ粉末を
沈降、堆積させ湿潤成型体を得、その湿潤成型体を内部
を高湿度に保った恒温恒湿器内で徐々に乾燥させ乾燥成
型体とし、それを焼結する事により、30μm以上の気
泡や脈理等の光学的不均質部分が存在しない石英ガラス
を歩留まり良く、安価に製造できることを発見し、本発
明に到達した。
【0006】すなわち本発明は、シリカ粉末を湿式成型
し焼結して石英ガラスを得る方法において、湿式成型が
シリカ粉末を液体の分散媒に分散させた後、予め容器に
入れてある比重2.2g/cm3以上の比重を持ち、分
散媒とは互いに溶解度をほとんど持たない液体(以下、
この液体を「重液」という)の上にスラリーを流し込
み、容器全体を毎分1000回転以上で回転する遠心分
離器にかけ、シリカ粉末を遠心力で重液上に沈降、堆積
させ成型することを特徴とする石英ガラス製造方法であ
る。本発明を以下詳細に説明する。
し焼結して石英ガラスを得る方法において、湿式成型が
シリカ粉末を液体の分散媒に分散させた後、予め容器に
入れてある比重2.2g/cm3以上の比重を持ち、分
散媒とは互いに溶解度をほとんど持たない液体(以下、
この液体を「重液」という)の上にスラリーを流し込
み、容器全体を毎分1000回転以上で回転する遠心分
離器にかけ、シリカ粉末を遠心力で重液上に沈降、堆積
させ成型することを特徴とする石英ガラス製造方法であ
る。本発明を以下詳細に説明する。
【0007】原料となるシリカ粉末は、好ましくは比表
面積40m2/g以下さらに好ましくは10〜20m2
/gの粉末を使用する。シリカ粉末の製法には特に限定
はないが、例えばSiCl4を火炎加水分解し、堆積さ
せたた多孔質体を粉砕したもの、または珪素のアルコキ
シドをアルコールで加水分解して得た粉末などを用いる
ことができる。この粉末を、分散媒に対して粉末の重量
百分率で好ましくは30パーセント以下、さらに好まし
くは10から25パーセントになるように、超音波を照
射しながら分散媒に分散させ均質な懸濁液の調製を行
う。超音波を照射する時間は60分間以上、好ましくは
120分間以上が良い。なお超音波照射中に懸濁液の温
度が上昇しないように、超音波伝搬媒体を一定割合でフ
ローするか冷却する等の工夫をするとよい。
面積40m2/g以下さらに好ましくは10〜20m2
/gの粉末を使用する。シリカ粉末の製法には特に限定
はないが、例えばSiCl4を火炎加水分解し、堆積さ
せたた多孔質体を粉砕したもの、または珪素のアルコキ
シドをアルコールで加水分解して得た粉末などを用いる
ことができる。この粉末を、分散媒に対して粉末の重量
百分率で好ましくは30パーセント以下、さらに好まし
くは10から25パーセントになるように、超音波を照
射しながら分散媒に分散させ均質な懸濁液の調製を行
う。超音波を照射する時間は60分間以上、好ましくは
120分間以上が良い。なお超音波照射中に懸濁液の温
度が上昇しないように、超音波伝搬媒体を一定割合でフ
ローするか冷却する等の工夫をするとよい。
【0008】上記のように調製された均質な懸濁液を、
孔径5〜20μmのナイロン製のフルイもしくはテフロ
ン製のフィルタ−等を通過させ異物や大きな粉末凝集体
等の除去を行なう。このようにして得た懸濁液をさらに
遠心分離機にかけ直径1μmより大きい二次粒子を取り
除くとよい。直径1μm以下の粒子のみを含む懸濁液に
再び超音波を照射し均質化を図る。
孔径5〜20μmのナイロン製のフルイもしくはテフロ
ン製のフィルタ−等を通過させ異物や大きな粉末凝集体
等の除去を行なう。このようにして得た懸濁液をさらに
遠心分離機にかけ直径1μmより大きい二次粒子を取り
除くとよい。直径1μm以下の粒子のみを含む懸濁液に
再び超音波を照射し均質化を図る。
【0009】このようにして得た懸濁液を比重がシリカ
粉末より大きい2.2g/cm3以上で、互いに溶解度
をほとんど持たない液体を予め入れてある容器の中に靜
かに流し込む。この容器を遠心分離機にセットし、毎分
1000回転以上、好ましくは毎分2000回転以上で
90分間以上、好ましくは120分間以上回転させる。
溶媒とシリカ粉末の遠心分離が終わった後、上澄み液を
捨て、比重が2.2g/cm3以上の液体上に浮いてい
る粉末成型体を静かに取り出す。この時成型体を変形さ
せないことが大切である。以上の遠心力を利用した成型
法をここでは遠心成型法と呼ぶ。遠心成型法による粉末
成型体を温度30〜60℃、湿度80〜90%の恒温恒
湿器内へ移し、粉末成型体中に残った分散媒を蒸発させ
る。
粉末より大きい2.2g/cm3以上で、互いに溶解度
をほとんど持たない液体を予め入れてある容器の中に靜
かに流し込む。この容器を遠心分離機にセットし、毎分
1000回転以上、好ましくは毎分2000回転以上で
90分間以上、好ましくは120分間以上回転させる。
溶媒とシリカ粉末の遠心分離が終わった後、上澄み液を
捨て、比重が2.2g/cm3以上の液体上に浮いてい
る粉末成型体を静かに取り出す。この時成型体を変形さ
せないことが大切である。以上の遠心力を利用した成型
法をここでは遠心成型法と呼ぶ。遠心成型法による粉末
成型体を温度30〜60℃、湿度80〜90%の恒温恒
湿器内へ移し、粉末成型体中に残った分散媒を蒸発させ
る。
【0010】得られた乾燥成型体を加熱時にシリカと反
応しない物、たとえばクリストバライトの微粉末を敷い
た無水溶融石英ガラス板上に置き、それを石英ガラスを
炉心管とする管状炉内にセットして透明ガラス化処理を
例えば以下のように行う。まず初めに成型体中に残った
有機分の除去を目的とし室温より800℃まで酸素雰囲
気中において加熱し、次に成型体表面および内部の水酸
基の除去を目的として、800〜1200℃まで10%
塩素ガスを含むヘリウムガス雰囲気中において試料を処
理した後、温度1600℃以下、好ましくは1400〜
1550℃、80%以上のヘリウムガスを含む雰囲気中
において、保持時間30分以上の条件において透明化処
理を行なう。
応しない物、たとえばクリストバライトの微粉末を敷い
た無水溶融石英ガラス板上に置き、それを石英ガラスを
炉心管とする管状炉内にセットして透明ガラス化処理を
例えば以下のように行う。まず初めに成型体中に残った
有機分の除去を目的とし室温より800℃まで酸素雰囲
気中において加熱し、次に成型体表面および内部の水酸
基の除去を目的として、800〜1200℃まで10%
塩素ガスを含むヘリウムガス雰囲気中において試料を処
理した後、温度1600℃以下、好ましくは1400〜
1550℃、80%以上のヘリウムガスを含む雰囲気中
において、保持時間30分以上の条件において透明化処
理を行なう。
【0011】以上のようにして反りがなく、かつ30μ
m以上の気泡が存在しない石英ガラスを得ることができ
る。
m以上の気泡が存在しない石英ガラスを得ることができ
る。
【0012】本発明では、分散媒及びそれと互いに溶解
度をほとんど持たない比重2.2g/cm3以上の液体
の組み合わせには特に限定はないが、例えば親水性の分
散媒と疎水性の液体、疎水性の分散媒と親水性の液体、
さらに具体的には蒸留水とヨードメタン、蒸留水とジヨ
ードメタン、親水性または疎水性の溶媒と水銀のなどの
組み合わせがあげられる。
度をほとんど持たない比重2.2g/cm3以上の液体
の組み合わせには特に限定はないが、例えば親水性の分
散媒と疎水性の液体、疎水性の分散媒と親水性の液体、
さらに具体的には蒸留水とヨードメタン、蒸留水とジヨ
ードメタン、親水性または疎水性の溶媒と水銀のなどの
組み合わせがあげられる。
【0013】
【作用】本発明のように比表面積が好ましくは40m2
/g以下のシリカ粉末を原料とし、液体を分散媒とする
この粉末の懸濁液を比重が2.2g/cm3以上の、分
散媒とは互いにほとんど溶解度を持たない液体に浮か
べ、遠心力によってシリカ粉末を沈降、堆積させ湿潤成
型体を得る方法においては、湿潤成型体の構造に次に挙
げるような、焼結法で良質なガラスを作製するのに都合
の良い点が有る。
/g以下のシリカ粉末を原料とし、液体を分散媒とする
この粉末の懸濁液を比重が2.2g/cm3以上の、分
散媒とは互いにほとんど溶解度を持たない液体に浮か
べ、遠心力によってシリカ粉末を沈降、堆積させ湿潤成
型体を得る方法においては、湿潤成型体の構造に次に挙
げるような、焼結法で良質なガラスを作製するのに都合
の良い点が有る。
【0014】泡の原因となるスラリー中に混入した固く
凝集した二次粒子は、粒径が他より大きいために遠心力
で底の表面部分に押し出されてしまう。また遠心成型に
利用されるスラリーはあらかじめ遠心分離により分級さ
れており、直径1μmより大きな粒子はスラリー中から
除かれている。かつ遠心成型では、スラリー中の非常に
細かい粒子は上澄み液中に含まれ多くが取り除かれるの
で、結局湿潤ゲル体を形成している粒子は粒径の比較的
揃ったものとなる。
凝集した二次粒子は、粒径が他より大きいために遠心力
で底の表面部分に押し出されてしまう。また遠心成型に
利用されるスラリーはあらかじめ遠心分離により分級さ
れており、直径1μmより大きな粒子はスラリー中から
除かれている。かつ遠心成型では、スラリー中の非常に
細かい粒子は上澄み液中に含まれ多くが取り除かれるの
で、結局湿潤ゲル体を形成している粒子は粒径の比較的
揃ったものとなる。
【0015】成型体の受ける歪の点から見ると、湿潤成
型体は液体上で作られるため、成型体は接している界面
からの摩擦抵抗をほとんど受けず、そのため湿潤成型体
中には気泡の原因となる歪が生じない。含水率について
も遠心分離機から取り出した時には、成型体の表と裏の
含水率はほぼ等しい。よって乾燥時に生じる歪も小さ
い。
型体は液体上で作られるため、成型体は接している界面
からの摩擦抵抗をほとんど受けず、そのため湿潤成型体
中には気泡の原因となる歪が生じない。含水率について
も遠心分離機から取り出した時には、成型体の表と裏の
含水率はほぼ等しい。よって乾燥時に生じる歪も小さ
い。
【0016】以上に挙げた利点が複合的に作用し、泡の
ない良質なガラスが作製できたものと推定される。
ない良質なガラスが作製できたものと推定される。
【0017】
【実施例】本発明を以下の実施例により詳細に説明す
る。しかし本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
る。しかし本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
【0018】実施例1 四塩化珪素を高温中において火炎加水分解後、堆積させ
た多孔質体の表面層を軽く粉砕することにより、BET
比表面積が25m2/g、平均粒径0.3μmのシリカ
粉末を得た。この粉末を重量百分率が17%になるよう
に蒸留水と混合し、超音波を照射しながら2時間分散さ
せ、懸濁液を調製した。
た多孔質体の表面層を軽く粉砕することにより、BET
比表面積が25m2/g、平均粒径0.3μmのシリカ
粉末を得た。この粉末を重量百分率が17%になるよう
に蒸留水と混合し、超音波を照射しながら2時間分散さ
せ、懸濁液を調製した。
【0019】この懸濁液を孔径10μmのナイロン製の
フルイを通過させた後、250〜280ml程度を直径
60mmの円筒形の容器に入れ遠心分離機にかけた。遠
心分離機を毎分2000回転で20分間作動させ容器中
の上澄み液を採集した。得られた上澄み液を良く撹はん
した後、さらに超音波を照射しながら1時間分散した。
フルイを通過させた後、250〜280ml程度を直径
60mmの円筒形の容器に入れ遠心分離機にかけた。遠
心分離機を毎分2000回転で20分間作動させ容器中
の上澄み液を採集した。得られた上澄み液を良く撹はん
した後、さらに超音波を照射しながら1時間分散した。
【0020】得られた懸濁液をあらかじめ底にジヨード
メタン(CH2I2、比重3.33g/cm3、疎水性
の液体)を入れておいた円筒形の容器に静かに流し込ん
だ。それらの容器を遠心分離機にセットし毎分2000
回転で2時間作動させた。遠心分離が終わった後、上澄
み液を取り除きジヨードメタン上に浮いている湿潤成型
体を静かに取り出した。取り出した成型体を内部を温度
30℃湿度90%に保った恒温恒湿器内にいれ徐々に四
日以上かけて乾燥させた。
メタン(CH2I2、比重3.33g/cm3、疎水性
の液体)を入れておいた円筒形の容器に静かに流し込ん
だ。それらの容器を遠心分離機にセットし毎分2000
回転で2時間作動させた。遠心分離が終わった後、上澄
み液を取り除きジヨードメタン上に浮いている湿潤成型
体を静かに取り出した。取り出した成型体を内部を温度
30℃湿度90%に保った恒温恒湿器内にいれ徐々に四
日以上かけて乾燥させた。
【0021】得られた直径51mm厚さ6mmの乾燥成
型体を、クリストバライトの微粉末を敷いた無水溶融石
英ガラス板上に置き、それを石英ガラスを炉心管とする
管状炉内にセットして透明ガラス化処理を以下のように
行った。室温より800℃まで酸素雰囲気中において毎
時200℃の速度で加熱し、800〜1000℃まで1
0%塩素ガスを含むヘリウムガス雰囲気中において毎時
200℃の速度で加熱後1000℃で1時間保持した
後、1550℃までヘリウムガス雰囲気中において毎時
200℃の速度で加熱し、1550℃で2時間保持をし
た後、炉内で冷却した。
型体を、クリストバライトの微粉末を敷いた無水溶融石
英ガラス板上に置き、それを石英ガラスを炉心管とする
管状炉内にセットして透明ガラス化処理を以下のように
行った。室温より800℃まで酸素雰囲気中において毎
時200℃の速度で加熱し、800〜1000℃まで1
0%塩素ガスを含むヘリウムガス雰囲気中において毎時
200℃の速度で加熱後1000℃で1時間保持した
後、1550℃までヘリウムガス雰囲気中において毎時
200℃の速度で加熱し、1550℃で2時間保持をし
た後、炉内で冷却した。
【0022】実施例2 四塩化珪素を高温中において火炎加水分解後、堆積させ
た多孔質体の表面層を軽く粉砕することにより、BET
比表面積が25m2/g、平均粒径0.3μmのシリカ
粉末を得た。この粉末を重量百分率が17%になるよう
に蒸留水と混合し、超音波を照射しながら2時間分散さ
せ懸濁液を調製した。
た多孔質体の表面層を軽く粉砕することにより、BET
比表面積が25m2/g、平均粒径0.3μmのシリカ
粉末を得た。この粉末を重量百分率が17%になるよう
に蒸留水と混合し、超音波を照射しながら2時間分散さ
せ懸濁液を調製した。
【0023】この懸濁液を孔径10μmのナイロン製の
フルイを通過させた後、250〜280ml程度を直径
60mmの円筒形の容器に入れ遠心分離機にかけた。遠
心分離機を毎分2000回転で20分間作動させ容器中
の上澄み液を採集した。この操作を繰り返すことにより
約1500mlの上澄み液を得た。得られた上澄み液を
良く撹拌した後、さらに超音波を照射しながら1時間分
散させた。
フルイを通過させた後、250〜280ml程度を直径
60mmの円筒形の容器に入れ遠心分離機にかけた。遠
心分離機を毎分2000回転で20分間作動させ容器中
の上澄み液を採集した。この操作を繰り返すことにより
約1500mlの上澄み液を得た。得られた上澄み液を
良く撹拌した後、さらに超音波を照射しながら1時間分
散させた。
【0024】得られた懸濁液200mlを、あらかじめ
底にジヨードメタン(CH2I2、比重3.33g/c
m3、疎水性の液体)を入れておいた円筒形の容器に静
かに流し込んだ。それらの容器を遠心分離機にセットし
毎分2000回転で2時間作動させた。遠心分離が終わ
った後、上澄み液を取り除き、新たに懸濁液を注ぎ足し
た。再び容器を遠心分離機にセットし毎分2000回転
で2時間作動させた。上澄み液を取り除き、懸濁液を遠
心分離機にかけるという操作を5回繰り返した。
底にジヨードメタン(CH2I2、比重3.33g/c
m3、疎水性の液体)を入れておいた円筒形の容器に静
かに流し込んだ。それらの容器を遠心分離機にセットし
毎分2000回転で2時間作動させた。遠心分離が終わ
った後、上澄み液を取り除き、新たに懸濁液を注ぎ足し
た。再び容器を遠心分離機にセットし毎分2000回転
で2時間作動させた。上澄み液を取り除き、懸濁液を遠
心分離機にかけるという操作を5回繰り返した。
【0025】遠心分離が終わった後、上澄み液を取り除
きジヨードメタン上に浮いている湿潤成型体を静かに取
り出した。取り出した成型体を内部を温度30℃湿度9
0%に保った恒温恒湿器内に入れ徐々に四日以上かけて
乾燥させた。
きジヨードメタン上に浮いている湿潤成型体を静かに取
り出した。取り出した成型体を内部を温度30℃湿度9
0%に保った恒温恒湿器内に入れ徐々に四日以上かけて
乾燥させた。
【0026】得られた直径51mm厚さ35mmの乾燥
成型体を、クリストバライトの微粉末を敷いた無水溶融
石英ガラス板上に置き、それを石英ガラスを炉心管とす
る管状炉内にセットして透明ガラス化処理を以下のよう
に行った。室温より800℃まで酸素雰囲気中において
毎時200℃の速度で加熱し、800〜1000℃まで
10%塩素ガスを含むヘリウムガス雰囲気中において毎
時200℃の速度で加熱後1000℃で1時間保持した
後、1550℃までヘリウムガス雰囲気中において毎時
200℃の速度で加熱し、1550℃で2時間保持をし
た後、炉内で冷却した。
成型体を、クリストバライトの微粉末を敷いた無水溶融
石英ガラス板上に置き、それを石英ガラスを炉心管とす
る管状炉内にセットして透明ガラス化処理を以下のよう
に行った。室温より800℃まで酸素雰囲気中において
毎時200℃の速度で加熱し、800〜1000℃まで
10%塩素ガスを含むヘリウムガス雰囲気中において毎
時200℃の速度で加熱後1000℃で1時間保持した
後、1550℃までヘリウムガス雰囲気中において毎時
200℃の速度で加熱し、1550℃で2時間保持をし
た後、炉内で冷却した。
【0027】実施例3 エチレンシリケート(Si(C2H5O)4)1248
gとエタノール17リットルと蒸留水1656gとアン
モニア水(29重量%)1200gを加え合わせ、温度
を50℃に保ちながら24時間撹はんし続けた。すると
平均粒径0.4μmの単分散球状シリカ粒子が得られ
た。エバポレーターを用いて液体分を取り除いた後、こ
の単分散球状シリカ粒子500gを石英ガラスボートに
乗せ酸素雰囲気中で900℃で6時間仮焼した。得られ
た粉末に蒸留水を加え、粉末と蒸留水の重量比が2:5
である懸濁液を作製した。この懸濁液をメノウ製ボール
ミルに入れて4時間粉砕した。粉砕後の懸濁液を孔径1
0μmのナイロン製のフルイに通した。この懸濁液に蒸
留水を加え、比重が1.063g/cm3になるように
調製した。
gとエタノール17リットルと蒸留水1656gとアン
モニア水(29重量%)1200gを加え合わせ、温度
を50℃に保ちながら24時間撹はんし続けた。すると
平均粒径0.4μmの単分散球状シリカ粒子が得られ
た。エバポレーターを用いて液体分を取り除いた後、こ
の単分散球状シリカ粒子500gを石英ガラスボートに
乗せ酸素雰囲気中で900℃で6時間仮焼した。得られ
た粉末に蒸留水を加え、粉末と蒸留水の重量比が2:5
である懸濁液を作製した。この懸濁液をメノウ製ボール
ミルに入れて4時間粉砕した。粉砕後の懸濁液を孔径1
0μmのナイロン製のフルイに通した。この懸濁液に蒸
留水を加え、比重が1.063g/cm3になるように
調製した。
【0028】得られた懸濁液200ml程度を、あらか
じめ底にジヨードメタン(CH2I 2、比重3.33g
/cm3、疎水性の液体)を入れておいた直径55mmの
円筒形の容器に静かに流し込んだ。それらの容器を遠心
分離機にセットし、毎分2000回転で2時間作動させ
た。遠心分離が終わった後、上澄み液を取り除きジヨー
ドメタン上に浮いている湿潤成型体を静かに取り出し
た。取り出した成型体を内部を温度30℃湿度90%に
保った恒温恒湿器内にいれ徐々に四日以上かけて乾燥さ
せた。
じめ底にジヨードメタン(CH2I 2、比重3.33g
/cm3、疎水性の液体)を入れておいた直径55mmの
円筒形の容器に静かに流し込んだ。それらの容器を遠心
分離機にセットし、毎分2000回転で2時間作動させ
た。遠心分離が終わった後、上澄み液を取り除きジヨー
ドメタン上に浮いている湿潤成型体を静かに取り出し
た。取り出した成型体を内部を温度30℃湿度90%に
保った恒温恒湿器内にいれ徐々に四日以上かけて乾燥さ
せた。
【0029】得られた直径51mm厚さ6mmの乾燥成
型体を、クリストバライトの微粉末を敷いた無水溶融石
英ガラス板上に置き、それを石英ガラスを炉心管とする
管状炉内にセットして透明ガラス化処理を以下のように
行った。室温より800℃まで酸素雰囲気中において毎
時200℃の速度で加熱し、800〜1000℃まで1
0%塩素ガスを含むヘリウムガス雰囲気中において毎時
200℃の速度で加熱後1000℃で1時間保持した
後、1550℃までヘリウムガス雰囲気中において毎時
200℃の速度で加熱し、1550℃で2時間保持をし
た後、炉内で冷却した。
型体を、クリストバライトの微粉末を敷いた無水溶融石
英ガラス板上に置き、それを石英ガラスを炉心管とする
管状炉内にセットして透明ガラス化処理を以下のように
行った。室温より800℃まで酸素雰囲気中において毎
時200℃の速度で加熱し、800〜1000℃まで1
0%塩素ガスを含むヘリウムガス雰囲気中において毎時
200℃の速度で加熱後1000℃で1時間保持した
後、1550℃までヘリウムガス雰囲気中において毎時
200℃の速度で加熱し、1550℃で2時間保持をし
た後、炉内で冷却した。
【0030】実施例1〜3で得られた石英ガラスの表面
は滑らかであり、かつ厚さも均質であった。
は滑らかであり、かつ厚さも均質であった。
【0031】比較例 1 四塩化珪素を高温中において火炎加水分解後、堆積させ
た多孔質体を石英ガラス製の乳鉢を使用し粉砕すること
により、比表面積が18m2/g、平均粒径0.15μ
mのシリカ粉末を得た。この粉末を蒸留水と重量比が蒸
留水:粉末=3:2になるように混合し、超音波を照射
しながら120分間分散させ懸濁液を調製した。この懸
濁液を孔径10μm のナイロン製のフルイを通過させた
後、懸濁液をSiO2 量が200gになるように分取
し孔径0.2μmのテフロン製のフィルター及び内径1
40mmのテフロン製の型を使用し、減圧濾過を行っ
た。減圧濾過の過程でシリカの懸濁液は充分に溶媒があ
る時は液状であるが、溶媒が少なくなるとゲル化し湿潤
ゲルとなり、さらに溶媒が少なくなると無数の割れが生
じた。よって割れの生じた時点で実験を中止した。
た多孔質体を石英ガラス製の乳鉢を使用し粉砕すること
により、比表面積が18m2/g、平均粒径0.15μ
mのシリカ粉末を得た。この粉末を蒸留水と重量比が蒸
留水:粉末=3:2になるように混合し、超音波を照射
しながら120分間分散させ懸濁液を調製した。この懸
濁液を孔径10μm のナイロン製のフルイを通過させた
後、懸濁液をSiO2 量が200gになるように分取
し孔径0.2μmのテフロン製のフィルター及び内径1
40mmのテフロン製の型を使用し、減圧濾過を行っ
た。減圧濾過の過程でシリカの懸濁液は充分に溶媒があ
る時は液状であるが、溶媒が少なくなるとゲル化し湿潤
ゲルとなり、さらに溶媒が少なくなると無数の割れが生
じた。よって割れの生じた時点で実験を中止した。
【0032】比較例 2 四塩化珪素を高温中において火炎加水分解後、堆積させ
た多孔質体を石英ガラス製の乳鉢を使用し粉砕すること
により比表面積が18m2/g、平均粒径0.15μm
のシリカ粉末を得た。この粉末を蒸留水と重量比が蒸留
水:粉末=3:2になるように混合し、超音波を照射し
ながら120分間分散させ懸濁液を調製した。この懸濁
液を孔径10μm のナイロン製のフルイを通過させた
後、懸濁液をSiO2量が200gになるように分取
し、孔径0.2μmのテフロン製のフィルター及び内径
140mmのテフロン製の型を使用し、減圧濾過を行っ
た。減圧濾過の過程で、シリカの懸濁液は充分に溶媒が
ある時は液状であるが、溶媒が少なくなるとゲル化し湿
潤ゲルとなった。懸濁液に水が少なくなりゲル化した時
点で吸引を中止し、フィルター上の成型体を取り出し
た。その成型体を、内部を60℃湿度90%に保った恒
温恒湿器内に移し10日間乾燥させた。
た多孔質体を石英ガラス製の乳鉢を使用し粉砕すること
により比表面積が18m2/g、平均粒径0.15μm
のシリカ粉末を得た。この粉末を蒸留水と重量比が蒸留
水:粉末=3:2になるように混合し、超音波を照射し
ながら120分間分散させ懸濁液を調製した。この懸濁
液を孔径10μm のナイロン製のフルイを通過させた
後、懸濁液をSiO2量が200gになるように分取
し、孔径0.2μmのテフロン製のフィルター及び内径
140mmのテフロン製の型を使用し、減圧濾過を行っ
た。減圧濾過の過程で、シリカの懸濁液は充分に溶媒が
ある時は液状であるが、溶媒が少なくなるとゲル化し湿
潤ゲルとなった。懸濁液に水が少なくなりゲル化した時
点で吸引を中止し、フィルター上の成型体を取り出し
た。その成型体を、内部を60℃湿度90%に保った恒
温恒湿器内に移し10日間乾燥させた。
【0033】得られた直径130mm厚さ4mmの乾燥
ゲルを石英ガラス上に置き、石英ガラスを炉芯管とする
管状炉内にセットし、透明ガラス化処理を以下のように
行った。室温より800℃まで酸素ガス雰囲気中におい
て毎時200℃の速度で加熱し、800〜1000℃ま
で10%塩素ガスを含むヘリウムガス雰囲気中において
毎時200 ℃の速度で加熱後1000℃で2時間保持をし
た後、1550℃までヘリウムガス雰囲気中において毎
時100℃の速度で加熱し、1550℃で1時間保持を
した後、炉内で冷却した。
ゲルを石英ガラス上に置き、石英ガラスを炉芯管とする
管状炉内にセットし、透明ガラス化処理を以下のように
行った。室温より800℃まで酸素ガス雰囲気中におい
て毎時200℃の速度で加熱し、800〜1000℃ま
で10%塩素ガスを含むヘリウムガス雰囲気中において
毎時200 ℃の速度で加熱後1000℃で2時間保持をし
た後、1550℃までヘリウムガス雰囲気中において毎
時100℃の速度で加熱し、1550℃で1時間保持を
した後、炉内で冷却した。
【0034】得られた石英ガラスの表面にはかなりの凹
凸が見られた。その成因は濾過に使用した濾紙に存在す
る凹凸であり、それがそのまま湿潤ゲル成型体に写し取
られ、焼結後の石英ガラス上にも残ったのである。また
乾燥成型体の厚さは濾過器が水平でない場合は不均質に
なり、しいては焼結してできた石英ガラスの厚さも不均
質となった。
凸が見られた。その成因は濾過に使用した濾紙に存在す
る凹凸であり、それがそのまま湿潤ゲル成型体に写し取
られ、焼結後の石英ガラス上にも残ったのである。また
乾燥成型体の厚さは濾過器が水平でない場合は不均質に
なり、しいては焼結してできた石英ガラスの厚さも不均
質となった。
【0035】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように本発明
によれば、シリカ粉末を原料としこの粉末を遠心力を利
用した成型法により効率良く成型することができ、その
後成型体を焼結することにより、泡のない大型の石英ガ
ラスを容易に歩留り良くかつ安価に製造できる。
によれば、シリカ粉末を原料としこの粉末を遠心力を利
用した成型法により効率良く成型することができ、その
後成型体を焼結することにより、泡のない大型の石英ガ
ラスを容易に歩留り良くかつ安価に製造できる。
Claims (1)
- 【請求項1】シリカ粉末を湿式成型し焼結して石英ガラ
スを得る方法において、湿式成型がシリカ粉末を液体の
分散媒に分散させた後、予め容器に入れてある比重2.
2g/cm3以上の比重を持ち、分散媒とは互いに溶解
度をほとんど持たない液体の上にスラリーを流し込み、
容器全体を毎分1000回転以上で回転する遠心分離器
にかけ、シリカ粉末を遠心力で前記比重2.2g/cm
3 以上の比重を持ち、分散媒とは互いに溶解度をほとん
ど持たない液体上に沈降、堆積させ成型することを特徴
とする石英ガラス製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20370291A JP3203694B2 (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | 石英ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20370291A JP3203694B2 (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | 石英ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0524853A JPH0524853A (ja) | 1993-02-02 |
| JP3203694B2 true JP3203694B2 (ja) | 2001-08-27 |
Family
ID=16478438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20370291A Expired - Fee Related JP3203694B2 (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | 石英ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3203694B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6294698B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-09-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoinitiators and applications therefor |
| US6331056B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-12-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Printing apparatus and applications therefor |
| US6342305B1 (en) | 1993-09-10 | 2002-01-29 | Kimberly-Clark Corporation | Colorants and colorant modifiers |
| US6368395B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same |
| US6368396B1 (en) | 1999-01-19 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
| US6503559B1 (en) | 1998-06-03 | 2003-01-07 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Neonanoplasts and microemulsion technology for inks and ink jet printing |
| US6524379B2 (en) | 1997-08-15 | 2003-02-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
| US10220602B2 (en) | 2011-03-29 | 2019-03-05 | Apple Inc. | Marking of fabric carrying case for a portable electronic device |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4504036B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2010-07-14 | 東ソー株式会社 | 非晶質シリカ成形体およびその製造方法 |
| DE102006014689A1 (de) | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarot Bestrahlungseinheit |
| KR102789380B1 (ko) * | 2021-01-21 | 2025-03-31 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 | 석영 유리체 |
-
1991
- 1991-07-19 JP JP20370291A patent/JP3203694B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6342305B1 (en) | 1993-09-10 | 2002-01-29 | Kimberly-Clark Corporation | Colorants and colorant modifiers |
| US6524379B2 (en) | 1997-08-15 | 2003-02-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
| US6503559B1 (en) | 1998-06-03 | 2003-01-07 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Neonanoplasts and microemulsion technology for inks and ink jet printing |
| US6368396B1 (en) | 1999-01-19 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
| US6331056B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-12-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Printing apparatus and applications therefor |
| US6294698B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-09-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoinitiators and applications therefor |
| US6368395B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same |
| US10220602B2 (en) | 2011-03-29 | 2019-03-05 | Apple Inc. | Marking of fabric carrying case for a portable electronic device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0524853A (ja) | 1993-02-02 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |