JP3492425B2 - X線遮蔽積層体 - Google Patents

X線遮蔽積層体

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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明はX線遮蔽積層体に関し、
例えばX線の影響を受け易いフィルム等の収納に好適に
用いられる包材に利用可能なX線遮蔽積層体に関する。 【0002】 【従来の技術】X線を利用した非破壊試験は、被検物を
破壊することなく被検物内部の状態を知ることができる
ことから、種々の分野で行われるに至っており、例えば
世界各地の空港においては、航空機への危険物の持ち込
みを防止するため乗客の手荷物についてX線透視検査が
行われている。 【0003】しかしながら、X線透視検査は上記のよう
な利点を有する一方、フィルム、カメラ、各種トランジ
スター製品、医薬品等の物品については、X線の影響に
より機能を損ねることがあるという欠点を有している。 【0004】そこで、上記のようなX線の影響を受け易
い物品をX線から保護するために、X線遮蔽層を有する
積層体を用いたX線遮蔽袋が実用化されている。すなわ
ち、このX線遮蔽袋に、フィルム、カメラ、各種トラン
ジスター製品、医薬品等、X線の影響を受け易い物品を
収納し、その状態でX線透視検査に付することにより収
納物をX線から保護するものである。 【0005】従来のX線遮蔽袋の形成材料に用いられて
いるX線遮蔽積層体の層構成としては、例えば、基材/
基材/X線遮蔽層/シール層からなる4層構成のものが
知られている。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
X線遮蔽積層体においては、X線遮蔽層が鉛の箔により
形成されているため、使用時にかさばりやごわつきがあ
り、また軽量化、コンパクト化が困難であるという問題
がある。さらに、X線遮蔽層の厚みをコントロールする
ためには、必要に応じて所望の厚みの鉛箔を用意しなけ
ればならないという製造上の不都合もある。 【0007】本発明はかかる事情に基づいてなされたも
のであり、本発明の目的は、使用時にかさばりやごわつ
きがなく、また軽量化、コンパクト化が容易であり、し
かもX線遮蔽層の厚みのコントロールが容易であって製
造効率の優れたX線遮蔽積層体を提供することにある。 【0008】 【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明のX線遮蔽積層体は、基材、X線遮蔽層およ
びシール層を有する3層以上の層構成からなる積層体で
あって、前記X線遮蔽層は金属成分とバインダー成分と
を含有するX線遮蔽性コート剤により形成され、前記金
属成分は該金属成分の構成金属の原子番号をZ、密度を
ρ[g・cm-2]としたときに、Z・ρ>1,000で
ある構成とした。 【0009】 【作用】本発明のX線遮蔽積層体は、基材、X線遮蔽層
およびシール層を有する3層以上の層構成からなる積層
体であって、前記X線遮蔽層は金属成分とバインダー成
分とを含有するX線遮蔽性コート剤により形成され、か
つ前記金属成分は該金属成分の構成金属の原子番号を
Z、密度をρ[g・cm-2]としたときに、Z・ρ>
1,000を満足するものである。 【0010】ここで、金属のX線吸収特性は、X線の線
質が同じ場合には、重い金属ほど、また原子番号が大き
いものほど吸収係数が大きく、X線の透過度は減少す
る。すなわち、波長λのX線に対する物質の吸収係数μ
は、次式; μ=C・λ3 ・Z・ρ[cm3 ] (ただし、上記式中、Cは定数であり、λは波長であ
り、Zは原子番号であり、ρは物質の密度である)で表
わされることから、上記のZ・ρ値がZ・ρ>1,00
0を満足する金属成分を含有するX線遮蔽性コート剤か
らなるX線遮蔽層を有する本発明のX線遮蔽積層体にお
いては、X線遮蔽層にX線が吸収されるので、X線の透
過度は減少し、結果的にこのX線遮蔽積層体によりX線
が遮蔽されることになる。 【0011】また、このようなX線遮蔽層はX線遮蔽性
コート剤を基材に塗布することにより形成されているの
で、塗布厚を調整することによりX線遮蔽層の厚さを容
易にコントロール可能である。 【0012】 【実施例】次に本発明の実施例について、図面に基づい
て説明する。図1に示すように、本実施例のX線遮蔽積
層体1は、第一基材層2、第二基材層3、X線遮蔽層4
およびシール層5がこの順に積層されて4層構成とさ
れ、各層間の接着には、適宜、アンカーコート剤や接着
剤が使用されている。 【0013】第一基材層2は第二基材層3とともに、X
線遮蔽層4およびシール層5を支持する作用乃至機能を
有し、さらに必要に応じて印刷がなされる層である。こ
のような作用乃至機能を有する第一基材層2の形成材料
としては、たとえば延伸ポリエステル、延伸ポリプロピ
レン、延伸ポリアミドなどが挙げられる。 【0014】第一基材層2の厚さは、このX線遮蔽積層
体の用途、目的等により相違するので一様に決定するこ
とはできないが、例えばこのX線遮蔽積層体をX線遮蔽
袋の形成材料とする場合には、通常、8〜50μm、好
ましくは15〜40μmである。 【0015】この第一基材層2には、第二基材層3が積
層されている。第二基材層3は、前述の通り、第一基材
層2とともにX線遮蔽層4およびシール層5を支持する
作用乃至機能を有し、さらに金属成分を含有するX線遮
蔽層4の着色を隠す作用乃至機能を有する層である。 【0016】このような第二基材層3の形成材料として
は、例えば白色ポリエチレン、白色ポリエステル、白色
ポリプロピレン等の着色フィルムが挙げられる。第二基
材層3の厚さも前記第一基材層2の厚さと同様に、この
X線遮蔽積層体の用途、目的等により相違するので一様
に決定することはできないが、例えばこのX線遮蔽積層
体1をX線遮蔽袋の形成材料とする場合には、通常、2
0〜50μm、好ましくは30〜40μmである。 【0017】なお、この実施例では基材を第一基材層2
および第二基材層3の二層で構成したが、X線遮蔽積層
体1の用途・目的等に応じて基材を一層のみで構成して
もよいし、三層以上の構成としてもよい。 【0018】図1に示すように、第二基材層3にはX線
遮蔽層4が積層されている。X線遮蔽層4は、それ自体
がX線を吸収してこのX線遮蔽積層体1をX線が透過す
るのを防止する作用乃至機能を有する層である。 【0019】このX線遮蔽層4は第二基材層3上にX線
遮蔽性コート剤を塗布することにより形成されている。
X線遮蔽層4の形成に用いられるX線遮蔽性コート剤
は、金属成分とバインダー成分とを含有し、かつ該金属
成分を構成する金属の原子番号をZ、密度をρ[g・c
-2]としたときに、Z・ρ>1,000を満足するも
のである。 【0020】ここで、上記のZ・ρ値が1,000を超
える金属としては、例えば、W(Z・ρ値:1,42
8.2)、Ir(Z・ρ値:1,732.5)、Pt
(Z・ρ値:1,673.1)、Au(Z・ρ値:1,
526.28)などが挙げられる。 【0021】金属成分は、バインダー成分の硬化速度が
早くなり過ぎないよう、物質的に安定した酸化物の状態
で用いることが好ましい。バインダー成分は、ビヒクル
として例えばオーバーコート剤、接着剤、粘着剤等の用
途に分けて使用される。 【0022】具体的には、例えばレジン系バインダー成
分、エラストマー系バインダー成分、天然系バインダー
成分等が挙げられる。上記のレジン系バインダー成分の
うち、熱硬化性のものとしては、例えばユリア系、メラ
ミン系、レゾルシノール系、フェノール系(水溶性、ア
ルコール溶性、ノボラック)、エポキシ系、ポリウレタ
ン系、ポリアロマティック系(ポリイミド、ポリベンズ
イミダゾール、ポリアミドイミド等)、ポリエステル系
(アルキッド形、不飽和ポリエステル、ジアリルフタレ
ート形、ポリエステルアクリレート、アクリル酸ジエス
テル等)などが挙げられる。また、熱可塑性のものとし
ては、例えば酢酸ビニル系(エマルジョン、溶液)、ポ
リビニルアルコール系、ポリビニルアセタール系(ブチ
ラール、アセタール、ホルマール等)、塩化ビニル系、
アクリル系(エマルジョン、溶液、反応形)、ポリオレ
フィン系(PE、EVA等)、セルロース系(セルロー
ス、ニトロセルロース、酢酸セルロース、エチルセルロ
ース、水溶性セルロース等)、シリコーン系、ポリアク
リルアミド系、ポリビニルメチルエーテル系、ポリイソ
ブチレン系、ポリビニルエーテルなどが挙げられる。 【0023】エラストマー系バインダー成分としては、
例えばクロロプレンゴム系(溶液、ラテックス)、ニト
リルゴム系(溶液、ラテックス)、SBR系、スチレン
−エチレン−ブチレンブロック共重合体(SEBS)
系、スチレン−イソプレンブロック共重合体(SIS)
系、スチレン−ブタジエンブロック共重合体(SBS)
系、ポリサルファイド系、ブチルゴム系、シリコンゴム
系(RTV形、加硫形、感圧形)、イソブチレンゴム
系、イソプレンゴム系、ブチルゴム系などが挙げられ
る。 【0024】また、これらの混合系として、例えばフェ
ノーリック・ビニル系、エポキシ・フェノール系、フェ
ノール・クロロプレン系、フェノール・ニトリル系、エ
ポキシ・ポリアミド系、エポキシ・ポリサルファイド
系、ニトリル・エポキシ系、エポキシ・ナイロン系など
が挙げられる。 【0025】天然系バインダー成分としては、例えば天
然ゴム系のものなどが挙げられる。また、特に好ましい
バインダー成分としては、OH化合物が挙げられ、単体
でもしくは2,3種類混合して使用される。なお、この
とき、硬化剤としてイソシアネート(NCO)が使用さ
れる。 【0026】このようなX線遮蔽性コート剤の溶剤とし
ては、たとえばトルエン、メチルエチルケトン(ME
K)、酢酸エチル、酢酸ブチル、キシレン、メチルイソ
ブチルケトン(MIBK)、イソプロピルアルコール
(IPA)などが挙げられる。 【0027】例えばこれらの溶剤を用いたX線遮蔽性コ
ート剤における各成分の配合割合は、金属成分が、通
常、20〜70重量部、バインダー成分が、通常、10
〜30重量部、溶剤が、通常、20〜60重量部であ
る。 【0028】また、このX線吸収性コート剤におけるピ
グメント(P)とビヒクル(V)との比(P/V比)
は、通常、40〜90、好ましくは70〜80である。
このP/V比が60以上と高くなる場合には、各種沈澱
防止剤を用いてもよい。 【0029】このX線遮蔽性コート剤を塗布してなるX
線遮蔽層4の乾燥厚は、通常、10〜60μm程度であ
り、好ましくは30〜50μm程度である。このX線遮
蔽層4上には、シール層5が設けられている。 【0030】シール層5はヒートシール性を有し、例え
ばこのX線遮蔽積層体1を用いてX線遮蔽袋を作成する
場合にシール層5同士が所定の部位で熱融着される。ま
た、このシール層5は金属成分を含有するX線遮蔽層4
の着色を隠す作用乃至機能を有する。 【0031】このようなシール層5の形成材料として
は、シール性のあるポリオレフィン系樹脂が挙げられ
る。具体的には、例えば低密度ポリエチレン(高圧法低
密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン等)、中
密度ポリエチレンおよび高密度ポリエチレンのいずれを
も使用することができる。また、エチレン単独重合体の
他に、エチレンとプロピレン、ブテン−1、ペンテン−
1などのα−オレフィンまたは酢酸ビニルとの共重合
体、あるいはこれらの混合物などを使用することもでき
る。プロピレン系樹脂ではプロピレンとエチレン、ブテ
ン−1、ペンテン−1、3−メチルブテン−1、4−メ
チルペンテン−1等のα−オレフィンとのランダム共重
合体やこれらの混合物が、特に低温シール性に優れたも
のとして挙げられる。 【0032】さらに、このシール層5は、バリウム(B
a)化合物を含有していてもよい。シール層5がバリウ
ム(Ba)化合物を含有すると、このX線遮蔽積層体1
によるX線遮蔽効果がさらに向上する。すなわち、シー
ル層5がバリウム(Ba)化合物を含有するとき、その
ようなシール層5はX線遮蔽を補助する作用乃至機能を
有する。 【0033】シール層5の厚さは、通常、30〜80μ
m、好ましくは40〜80μmである。以上の構成のX
線遮蔽積層体1は、例えばX線検査の際に、フィルム、
カメラ、各種トランジスター製品、医薬品等のX線の影
響を受け易い物品を収納してこれらの物品をX線から保
護するX線遮蔽袋の形成材料に好適に利用可能である。 【0034】次に、本発明の実験例を示し、本発明につ
いてさらに具体的に説明する。実験例1 X線遮蔽性コート剤の調製 アクリルポリオール(加熱残分50%、OH価30)1
3重量部、塩酢ビ6重量部およびセルロース1重量部の
混合物にトルエンおよびメチルエチルケトン(MEK)
をそれぞれ20重量部づつ加え、回転数1,200rp
mのミキサーで撹拌しながら三酸化タングステン(Wの
Z・ρ値:1,428.8)80重量部を少量づつ加え
て充分に分散させ、X線遮蔽性コート剤試料液140重
量部を得た。 【0035】次に、イソシアネート硬化剤[ザ・インク
テック社製XEL硬化剤(D)]を、上記の試料液とイ
ソシアネート硬化剤とを、試料液中のバインダー成分と
イソシアネート硬化剤との比が(バインダー成分)/
(イソシアネート硬化剤)=100/5となるように混
合し、これを撹拌してX線遮蔽性コート剤塗工液とし
た。X線遮蔽積層体およびX線遮蔽袋の作成 上記の塗工液をコンマコートにより、厚さ80μmのポ
リエチレン(PE)フィルムにコーティングし、40
℃、48時間の条件でキュアリングを行ない、塗工厚み
15μm、30μm、45μmの3種類の試料を作成
し、各試料の塗工面に厚さ35μmの乳白色ポリエチレ
ンフィルム、厚さ25μmの2軸延伸ポリエチレンテレ
フタレートフィルムをこの順に貼り合わせて3種類のX
線遮蔽積層体とし、さらに各X線遮蔽積層体を製袋して
X線遮蔽袋を作成した。非破壊検査試験 上記の各X線遮蔽袋にフィルム感度ISO400の35
mmフィルムを収納してX線非破壊検査試験機にかけ、
X線遮蔽能を次の4段階で評価した。 【0036】結果を表1に示す。 A:フィルムに全く損傷がない B:フィルムに一部損傷が見られた C:フィルムの1/5〜1/2が損傷していた D:フィルムの半分以上が損傷していた また、非破壊検査試験の試験条件は次の通りである。 【0037】 使用試験機:株式会社ユニハイト製EV−150 管電圧:70kv 管電流:3mA 【0038】 【表1】 比較例1 前記実験例1のにおいて、三酸化タングステン80重
量部に代えて硫酸バリウム(BaのZ・ρ値:202.
72)80重量部を用いたほかは、前記実験例1のと
同様にしてX線遮蔽性コート剤塗工液を調製し、以後、
前記実験例1と同様にしてX線遮蔽積層体およびX線遮
蔽袋を作成するとともに非破壊検査試験を行なった。結
果を表1に示す。実験例2 X線遮蔽性コート剤の調製 アクリルポリオール(加熱残分50%、OH価16)3
2.5重量部、塩酢ビ15重量部およびセルロース2.
5重量部の混合物にトルエンおよびメチルエチルケトン
(MEK)をそれぞれ50重量部づつ加え、回転数1,
200rpmのミキサーで撹拌しながら三酸化タングス
テン(WのZ・ρ値:1,428.8)50重量部を少
量づつ加えて充分に分散させ、X線遮蔽性コート剤試料
液200重量部を得た。 【0039】次に、イソシアネート硬化剤[ザ・インク
テック社製XEL硬化剤(D)]を、上記の試料液とイ
ソシアネート硬化剤とを、試料液中のバインダー成分と
イソシアネート硬化剤との比が(バインダー成分)/
(イソシアネート硬化剤)=100/5となるように混
合し、これを撹拌してX線吸収性コート剤塗工液とし
た。X線遮蔽積層体およびX線遮蔽袋の作成 上記の塗工液を用いたほかは、前記実験例1のと同様
にして塗工液の塗工厚みが、15μm、30μmおよび
45μmの3種類のX線遮蔽積層体とし、さらに各X線
遮蔽積層体を製袋してX線遮蔽袋を作成した。非破壊検査試験 上記の各X線遮蔽袋を使用したほかは、前記実験例1の
と同様にして各X線遮蔽袋のX線遮蔽能を評価した。 【0040】結果を表1に示す。比較例2 前記実験例2のにおいて、三酸化タングステン50重
量部に代えて硫酸バリウム(BaのZ・ρ値:202.
72)50重量部を用いたほかは、前記実験例2のと
同様にしてX線遮蔽性コート剤塗工液を調製し、以後、
前記実験例2と同様にしてX線遮蔽積層体およびX線遮
蔽袋を作成するとともに非破壊検査試験を行なった。結
果を表1に示す。比較例3 厚さ75μmのポリエチレン(PE)フィルムに厚さ5
0μmの鉛箔を貼り合わせ、この鉛箔上に、さらに厚さ
35μmの乳白色ポリエチレンフィルム、厚さ25μm
の2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムをこの
順に貼り合わせてX線遮蔽積層体とし、このX線遮蔽積
層体を製袋してX線遮蔽袋を作成した。 【0041】得られたX線遮蔽袋について、前記実験例
1のと同様にしてX線遮蔽能を評価した。結果を表1
に示す。結果の検討 表1から明らかなように、実験例1および実験例2で得
られたX線遮蔽積層体を用いてなるX線遮蔽袋のX線遮
蔽能は、いずれも比較例1および比較例2で得られたX
線遮蔽積層体を用いてなるX線遮蔽袋のX線遮蔽能に比
較して優れていることが確認された。 【0042】また、比較例3で得られたX線遮蔽積層体
を用いてなるX線遮蔽袋のX線遮蔽能は実験例1および
実験例2で得られたX線遮蔽積層体を用いてなるX線遮
蔽袋のX線遮蔽能に比べて若干優れてはいたものの、使
用時にかさばりやごわつきがあり、その使用感は実験例
1および実験例2のX線遮蔽袋の使用感に比べて格段に
劣っていた。これより、実験例1および実験例2で得ら
れたX線遮蔽積層体を用いてなるX線遮蔽袋は、従来品
に比べて使用感が優れていることが確認された。 【0043】 【発明の効果】以上に詳述したように、本発明のX線遮
蔽積層体は、バインダー成分と一定以上のX線遮蔽能を
有する金属成分とを含有するX線遮蔽性コート剤からな
るX線遮蔽層を有する構成としたので、X線遮蔽能が優
れているとともに、例えば製袋した場合の袋の使用時に
かさばりやごわつきがなくて使用感に優れ、しかもX線
遮蔽性コート剤の塗布厚を調整するだけでX線遮蔽層の
厚さを容易に制御することができて製造効率に優れてい
る。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明のX線遮蔽積層体の一例を示す説明図で
ある。 【符号の説明】 1…X線遮蔽積層体 2…第一基材 3…第二基材 4…X線遮蔽層 5…シール層

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 基材、X線遮蔽層およびシール層を有す
    る3層以上の層構成からなるX線遮蔽袋用積層体であっ
    て、前記X線遮蔽層は金属成分とバインダー成分とを含
    有するX線遮蔽性コート材により形成され、前記金属成
    分は該金属成分の構成金属の原子番号をZ、密度をρ
    [g・cm−2]としたときに、Z・ρ>1000であ
    るものであり、また、前記X線遮蔽層は乾燥厚で、10
    〜60μmであることを特徴とするX線遮蔽積層体。
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