JP4634794B2 - とりわけ減摩用ワニスの製造に有用なシリコン組成物、前記ワニスの基材への塗布方法、及び処理された基材 - Google Patents

Description

本発明は基材に減摩性を付与可能なポリマーコーティング又はワニスの分野全般に関する。
より正確には、本発明は摩擦係数の低減が求められる基材へ適用可能なワニスの製造に特に有用なシリコン組成物に関する。問題となっている基材には多様な種類があり、これらは特に：
・ 保護又は機械的強化の目的で、（例えばシリコンエラストマー型の）被覆用ポリマーをベースとした少なくとも１層で被覆された織布又は不織布の基材；
・ ポリマー又はエラストマー基材、とりわけ熱転写プリンタ中のインク基材として特に使用可能な熱転写リボンのようなプラスチックフィルム；又は保護用包装フィルム；
で構成される。

本発明は更に、問題となっている減摩用ワニスを種々の基材へ塗布するための方法に関する。

最後に、本発明は上記減摩用ワニスで被覆された、とりわけ：
・ 減摩用ワニスが塗布されたエラストマー層で被覆したテキスタイルクロス（前記クロスはテキスタイル建築、家具用ファブリック又は乗員の個別保護用のクッション（エアバッグとも呼ばれる）の部材の製造に有用である。）；
・ インクを運び、熱転写プリンタで使用可能な、例えば（例えばポリエステル製の）プラスチックフィルムで構成された熱転写リボン；
・ 保護用包装フィルム；
・ シリコンエラストマー製の部品；
に関する。

本発明の基礎となる一般的な課題は減摩用シリコンワニスの開発である。摩擦係数の低減の課題はとりわけ架橋シリコンエラストマー被膜を有する基材の場合に重要である。事実、シリコンエラストマー被覆層はしばしば粘着感を有することが当業者にはよく知られており、このことは多くの用途、とりわけエアバッグの用途に対して不利である。エアバッグは乗員の個別保護用の可膨張性クッションであり、低温で重付加（ＥＶＦ−II）又は重縮合（ＥＶＦ−Ｉ）により架橋又は硬化するシリコンエラストマー、熱的作用下でペルオキシドとの重縮合又は重付加により架橋又は硬化するシリコンエラストマー（ＥＶＣ）、或いは重付加により架橋又は硬化するＬＳＲ型の粘着性シリコンエラストマーとすることのできるエラストマーの層で少なくとも片側が被覆された、例えばポリアミド製（Ｎｙｌｏｎ（登録商標））の、合成繊維クロスから製造される。
シリコンエラストマーで被覆されていようとなかろうと、フレキシブル基材（例えば織布又は不織布基材）用の被膜に関する低摩擦係数の探索は他の用途、例えばとりわけテキスタイル建築又は家具用ファブリックで特に有用なシリコンエラストマーで被覆されたファブリック、にも関係する。
テキスタイル基材上のシリコンエラストマー被膜はシリコン固有の性質に関連した多くの利点を有する。製造された複合物は良好な機械的強度と共に良好な柔軟性を有する。更に、伝統的なエラストマーと対照的に、シリコンは前記基材に対して特に、高い熱抵抗及び長い耐用年数を与える。

この表面滑りの重要性は（例えばポリエステル製の）熱転写リボン又は（例えばポリエチレン又はポリプロピレン製の）保護用包装フィルム用の被膜にも関係する。
熱転写リボンは熱転写プリンタにおいて使用できる。熱転写リボンは非常に薄く（数ミクロン）、片面がインク（ワックス又は樹脂）の層で、その反対面が保護被膜で被覆されている。フィルム表面を保護し、塗布基材へのインクの伝達にひずみを与えることなくプリントヘッドのインパクトを向上させるために使用される保護用被膜は一般に非常に薄く０．１〜１マイクロメートルの厚さである。
印刷速度が１５０〜３００ｍｍ／秒のプリンタでは、リボンの保護被膜を打つときに、プリントヘッド（平坦又は楔状）が１００〜２００℃の高温で被膜表面を滑走可能であることが非常に重要である。
保護用包装フィルムに関しては、該フィルムに粘着防止性を与えるためにシリコンベースの上塗りワニスを該フィルムに塗布することがある。しかしながら、この上塗りワニスは少なくとも（印刷された又は印刷されていない）プラスチックフィルムの当初の滑り性に等しい滑り性を有しているべきである。

例示的に上述したすべてのケースにおいて、複合物は滑り性の欠如の問題を抱えており、これはシリコンの機械的特性及び表面特性（過度に高い摩擦係数）と関連性を有し得る。
テキスタイル用途においては、該不都合は作業台上の被覆されたファブリックの（生産性を妥協する）低移動性によって実際に明示される。より具体的には、エアバッグの場合は、エアバッグ作動時の展開が不利なことに非常に遅くなり得る。
該困難を克服するために、様々な型式の処理が想定できる。しかしながら、表面滑りと使用特性の間の妥協はワニスを塗ることがもっとも好適な手段の一つと思われる。

国際公開第００／５９９９２号には摩擦係数の低減が求められる基材への塗布が可能なワニスの製造に特に有用なシリコン組成物が記載されている。該組成物の一つは、架橋性基（ＣＦＧ）を介してカチオン及び／又はフリーラジカルプロセスによって架橋可能な少なくとも１種のポリオルガノシロキサンＡ（ＰＯＳ）とオニウムボレートから選択される開始剤Ｃとを含み、更にケイ素原子に保有され、少なくとも一つのアルコキシ及び／又はエポキシ及び／又はカルボキシ単位を含む官能基から選択される第二官能基（ＳＦＧ）で置換されたＰＯＳ分子Ｄをも含有することを特徴とし、随意的に充填剤（例えばシリカ）を含む。

上記組成物は充填剤（とりわけ珪質充填剤）を含有することもでき、例えば、ヘキサメチルジシラザン又はオクタメチルシクロテトラシロキサンで処理した燃焼シリカ（比表面積は最大約３００ｍ²／ｇ）、溶融シリカ、合成又は天然（ポリマー）繊維粉末、炭酸カルシウム、滑石、粘土、二酸化チタン等とすることができる。
上記組成物はエアバッグのファブリック、熱転写リボン又は包装フィルム用のＲＴＶシリコン被膜への減摩用ワニスとして使用される。
上記ワニスは滑り摩擦係数の観点で改良の可能性が残されている。また、ＵＶ活性下でのカチオンプロセスによって架橋可能な特定のシリコンの使用を必要とし、このことが経済的観点及び採用される手段の簡素化の観点から改良の余地を与える。

国際公開第０１／１２８９５号は摩擦係数の低減のために被膜に小板充填剤を使用することについて特許請求している。ワニスは最大１５ｇ／ｍ²の割合で塗布される。列挙された充填剤は随意的である。充填剤には：補強用（最大３重量％、好ましくは０：沈降又は溶融シリカ）及び非補強用の二つの型式がある。薄層をなす非補強用充填剤は特に、マイカ、滑石、グラファイト、バーミキュライト、スメクタイト、パイロフィライト、石英、ゼオライト、粘土等とすることができる。

実施例として与えられた組成物は簡略的に以下の処方を有する。
− 粘度が２０ｍＰａｓのα，ω−ビニル化ＰＤＭＳオイルを３４部、
− ２．５％のＶｉを含有するｄｉＭｅＶｉＭｅシロキサンオイルを２０部、
− ポリメチルヒドロゲノシロキサンを１１部、
− 滑石を３５部、
− 白金触媒＋調節剤。

使用される非補強用充填剤の量は非常に多く、３５〜４０重量％程度である。そのような添加量は従来技術に係るこのシリコンワニスを含有する複合物の機械的特性及び使用特性を不安定にするだけとなり得る。摩擦係数の観点で得られる最良の結果はアルミニウム三水和物で構成される非補強用充填剤を用いてガラス上で０．４６である。改良が必要であることは明らかである。

国際公開第００／５９９９２号パンフレット 国際公開第０１／１２８９５号パンフレット

前記先行技術から見て、公知のシリコンワニスは改良可能であり、上記組成物の一部を形成可能なものとして列挙された充填剤は非常に多種多様であることが明らかである。その上、上記充填剤は多量に存在し、非常に面倒であることが分かる。

このような状況の下で、本発明の重要な課題の一つは種々の基材（特にシリコンエラストマーで被覆されたテキスタイル基材）のための、経済的で、基材（とりわけ被覆されたエラストマーの層）に完全に結合し、所望の表面滑りを与え、光沢のある外観と共に良好な耐汚れ性をもつという特質を有する減摩用シリコンワニスを提供することである。
本発明の別の重要な課題の一つは種々の基材に容易に塗布可能な減摩用ワニスを提供することである。
本発明の別の重要な課題の一つは利用し易く経済的な架橋性減摩用ワニスを提供することである。
本発明の別の重要な課題の一つは減摩用ワニスの製造に特に有用なシリコン組成物（前記組成物は適正な費用・価格を有し、製造が簡単である。）を提供することである。
本発明の別の重要な課題の一つは被覆された又は被覆されていない種々の基材の摩擦係数を有意に低減することが可能な架橋性シリコン組成物で構成された減摩用ワニスを提供することである。
本発明の別の重要な課題の一つはシリコン組成物をベースとした減摩用ワニスを用いて、随意的に例えば架橋シリコンエラストマーの層で被覆された、例えば織布又は不織布基材で形成された種々の基材にワニスを塗るための簡単で経済的な方法を提供することである。
本発明の別の重要な課題の一つはエラストマーの少なくとも１層で随意的に被覆され、上で規定したシリコンワニスで覆われた基材を含む複合物、例えば高い表面滑りを有する架橋シリコンエラストマーで被覆されたクロス、を提供することである。
本発明の別の重要な課題の一つは堆積量Ｄ＜２５ｇ／ｍ²に対して静止摩擦係数（Ｋｓ）≦１である、架橋エラストマーで被覆された繊維状の基材（例えばファブリック）を提案することである。静止摩擦係数（Ｋｓ）は、例えば、平坦なガラス基材上で問題となっているファブリックで覆われた直方形の質点が変位し始めるのに必要な力に対応する。

上記及びその他の課題が本発明によって達成され、第一に、とりわけ減摩特性を有するワニスとして特に有用な架橋性シリコン組成物に関し、前記組成物は一方では架橋を可能とする触媒Ｃの存在下で互いに反応する少なくとも２種類の有機ケイ素種Ａ及びＢ（上記２種の少なくとも１種はポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）で構成される。）を含み、他方では少なくとも１種の粒子状成分Ｄを含むタイプであって：
・ 該組成物は重付加により架橋可能なタイプであり；
・ 該粒子状成分Ｄは：
− 粒子が実質的に丸い形状であり、及び
− 平均粒径Φ_mdが０．１〜２００μｍ、好ましくは５〜１００μｍ、特に好ましくは１０〜５０μｍである、
粉末状（コ）ポリアミド（好ましくは（コ）ポリアミド６，１２及び６／１２）を含む群から選択され；
・ 平均粒径Φ_mdが約０．１μｍ以下であり、ＢＥＴ比表面積が５０ｍ²／ｇ以上で、好ましくは５０〜４００ｍ²／ｇであり、特に１５０〜３５０ｍ²／ｇである粉末状シリカを含む群から選択される少なくとも１種の他の粒子状成分Ｅを更に含有する、
ことを特徴とする。

本発明に係るシリコンワニスは摩擦係数を大幅に低減してより多くの滑り感を与えることを可能としつつ、同時に光沢のある外観を有し、及び耐汚れ性に優れているという点で有利である。
本発明に係る組成物でワニス塗りされた基材の機械的特質及び使用特性は影響を受けない。
更に、本ワニス組成物は安定である。

シリコンワニスの可能な成分として一般に列挙される莫大な数の粒子状充填剤の中から特定の粒子状成分を選択したことは本発明の特徴点である。事実、この注意深く選択された粒子状成分が上述した有利な結果のすべてを達成することができるだろうということは如何にしても予測できなかったのである。

本発明によれば、密度が１〜１．２ｇ／ｃｍ³の粉末状（コ）ポリアミドが好ましい。

本発明の好ましい特徴の一つによれば、粒子状成分Ｄはワニス組成物の全重量を基準にして０．１〜２０重量％存在する。
この限定的な量のために、該成分がワニス塗りされた基材の機械的特質及び使用特性に影響を与える充填剤とは関連し得ないという事実をもたらす。

前記粒子状成分Ｅは、組成物の全重量を基準にして０．００１〜５重量％の量で存在する。

好ましいワニス組成物は重付加により架橋可能であり：
（Ａ） 各分子中に、ケイ素に結合したアルケニル基（好ましくはＣ₂〜Ｃ₆のアルケニル基）を少なくとも二つ有する少なくとも１種のポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）を１００重量部と；
（Ｂ） 各分子中に、ケイ素に結合した水素原子を少なくとも三つ有する少なくとも１種のポリオルガノシロキサンを１〜５０重量部と；
（Ｃ） 好ましくは白金族に属する少なくとも１種の金属で構成される、少なくとも１種の触媒を０．００１〜１重量部と；
（Ｄ） （コ）ポリアミドで構成される少なくとも１種の粒子状成分を０．１〜２０重量部と；
（Ｅ） 少なくとも１種の珪質粒子状成分を０．００１〜５重量部と；
（Ｆ） 少なくとも１種の接着促進剤を０〜３０重量部と；
（Ｇ） 少なくとも１種の架橋抑制剤を０〜１重量部と；
（Ｈ） 少なくとも１種のポリオルガノシロキサン樹脂を０〜１０重量部と；
（Ｉ） 随意的に、特定の特性を付与するための少なくとも１種の機能性添加剤と；
を含む。

基材に塗布される未架橋液状ワニスの粘度は本発明の重量なパラメータである。従って、ＰＯＳ Ａ及びＢと随意的に成分Ｈ又はＩとで構成されるワニスのシリコン相の粘性率η（ｍＰａｓ、２５℃）は：
２００≦η≦３０００、
好ましくは、３００≦η≦２０００、
特に好ましくは、４００≦η≦９００
である。

本明細書において考慮されるすべてのシリコンポリマーの２５℃における粘性率は、１９７２年２月の規格ＡＦＮＯＲ ＮＦＴ ７６ １０２に準拠して、ブルックフィールド（BROOKFIELD）粘度計で測定可能である。

本明細書において言及する粘度は２５℃における粘性率又はニュートン（Newtonian）粘度、すなわち、測定される粘度が速度勾配から独立するのに充分に低い剪断速度勾配で、それ自体公知の方法で、測定される粘性率である。

本発明に係るシリコンワニス組成物の種々の成分の詳細な性質に関し、ＰＯＳ Ａ及び随意的な樹脂Ｈは好ましくは次式：
Ｗ_aＺ_bＳｉＯ_(4-(a+b))/2 （１）
（ここで：
− 記号Ｗは、同一又は異なるもので、それぞれアルケニル基（好ましくはＣ₂〜Ｃ₆のアルケニル基）であり；
− 記号Ｚは、同一又は異なるもので、それぞれ触媒の活性に不都合な作用を及ぼすことがなく、随意的にハロゲン化された、非加水分解性の一価炭化水素基であり（好ましくは、１〜８個の炭素原子（両端含む）をもつアルキル基、及びアリール基から選択される。）；
− ａは１又は２であり、ｂは０、１又は２であり、ａ＋ｂは１〜３であり；
− 随意的に、少なくともいくつかの他の単位は次の実験式：
Ｚ_cＳｉＯ_(4-c)/2 （２）
（式中、Ｚは上で定義したとおりであり、ｃは０〜３の値である。）
で表される単位である。）
で表されるシロキシ単位を有する。

ＰＯＳ Ａの大部分が式（１）の単位で形成されることが可能であり、又は式（２）の単位も含有することができる。その上、これらは線状構造を有することができる。これらの重合度は好ましくは２〜５０００である。
Ｚは一般にメチル、エチル及びフェニル基から選択され、少なくとも６０ｍｏｌ％の基Ｚはメチル基である。
式（１）のシロキシ単位の例はビニルジメチルシロキサン単位、ビニルフェニルメチルシロキサン単位及びビニルシロキサン単位である。
式（２）のシロキシ単位の例はＳｉＯ_4/2、ジメチルシロキサン、メチルフェニルシロキサン、ジフェニルシロキサン、メチルシロキサン及びフェニルシロキサン単位である。
ＰＯＳ Ａの例はジメチルビニルシリル末端をもつジメチルポリシロキサン、トリメチルシリル末端をもつメチルビニルジメチルポリシロキサン共重合体、ジメチルビニルシリル末端をもつメチルビニルジメチルポリシロキサン共重合体、及び環状メチルビニルポリシロキサンである。

該ＰＯＳ Ａの粘性係数η_dは０．０１〜５００Ｐａｓ、好ましくは０．０１〜３００Ｐａｓである。

好ましくは、該ＰＯＳ Ａはシロキシ単位Ｄ：−Ｒ₂ＳｉＯ_2/2を少なくとも９８％含む。ここで、ＲはＺ又はＷと同様に定義され、該パーセンテージはケイ素原子１００個当たりの数に対応する。

好ましくは、アルケニル単位Ｗはシロキシ単位Ｄと随意的にＭ及び／又はＴによって保有されるビニルである。

好ましいＰＯＳ Ｂは次式で表されるシロキシ単位を含むものから選択される。
Ｈ_dＬ_eＳｉＯ_(4-(d+e))/2 （３）
（ここで、
− 記号Ｌは、同一又は異なるもので、それぞれ触媒の活性に対して不都合な作用のない、随意的にハロゲン化された非加水分解性の一価炭化水素基であり（好ましくは１〜８個の炭素原子をもつアルキル基（両端を含む）、及びアリール基から選択される。）；
− ｄは１又は２であり、ｅは０、１又は２であり、ｄ＋ｅは１〜３の値であり；
− 随意的に、少なくともいくつかの他の単位は次の実験式：
Ｌ_gＳｉＯ_(4-g)/2 （４）
（式中、Ｌは上と同様に定義され、ｇは０〜３の値をもつ。）
で表される単位である。）

ＰＯＳ Ｂの例としてはポリ（ジメチルシロキサン）−（メチルヒドロゲノシロキシ）−α，ω−ジメチルヒドロゲノシロキサンが挙げられる。
ＰＯＳ Ｂは式（１）の単位のみで形成されることが可能であり、式（２）の単位を含有することもできる。
ＰＯＳ Ｂは線状、分枝状、環状又は網目構造を有することができる。重合度は２以上であり、より一般的には１００未満である。
該ＰＯＳ Ｂの粘性率η_dは５〜１０００ｍＰａｓ、好ましくは１０〜５００ｍＰａｓである。
基Ｌは上の基Ｚと同様に定義される。
式（１）の単位の例はＨ（ＣＨ₃）₂ＳｉＯ_1/2、ＨＣＨ₃ＳｉＯ_2/2及びＨ（Ｃ₆Ｈ₅）ＳｉＯ_2/2である。
式（２）の単位の例は式（２）の単位に関して与えたものと同じである。
ＰＯＳ Ｂの例は、
− ヒドロゲノジメチルシリル末端をもつジメチルポリシロキサン、
− トリメチルシリル末端をもつジメチルヒドロゲノメチルポリシロキサン単位含有共重合体、
− ヒドロゲノジメチルシリル末端をもつジメチルヒドロゲノメチルポリシロキサン単位含有共重合体、
− トリメチルシリル末端をもつヒドロゲノメチルポリシロキサン、
− 環状ヒドロゲノメチルポリシロキサン、
− シロキシ単位Ｍ：Ｒ₃ＳｉＯ_1/2、Ｑ：ＳｉＯ_4/2及び／又はＴ：ＲＳｉＯ_3/2及び随意的にＤ：−Ｒ₂ＳｉＯ_2/2（ここで、ＲはＨであるか、又はＬと同様に定義される。）を含有するヒドロゲノシロキサン樹脂、
である。

上述のＰＯＳ Ａ／Ｂ中に存在することのできる一価炭化水素基Ｚ又はＬの他の例として、メチル；エチル；ｎ−プロピル；ｉ−プロピル；ｎ−ブチル；ｉ−ブチル；ｔ−ブチル；クロロメチル；ジクロロメチル；α−クロロエチル；α，β−ジクロロエチル；フルオロメチル；ジフルオロメチル；α，β−ジフルオロエチル；３，３，３−トリフルオロプロピル；トリフルオロシクロプロピル；４，４，４，−トリフルオロブチル；３，３，５，５，５，５−ヘキサフルオロペンチル；β−シアノエチル；γ−シアノプロピル；フェニル；ｐ−クロロフェニル；ｍ−クロロフェニル；３，５−ジクロロフェニル；トリクロロフェニル；テトラクロロフェニル；ｏ−，ｐ−又はｍ−トリル；α，α，α−トリフルオロトリル；並びに２，３−ジメチルフェニル及び３，４−ジメチルフェニルのようなキシリルが挙げられる。
上記基は随意的にハロゲン化することができ、又はシアノアルキル基から選択することができる。
ハロゲンは例えばフッ素、塩素、臭素及び沃素であり、塩素又はフッ素が好ましい。
ＰＯＳ Ａ／Ｂは種々のシリコンオイルの混合物で構成することができる。

上記ＰＯＳ Ａ／Ｂは、
・ 上で定義したＲＴＶ、並びに米国特許第３，２２０，９７２号、第３，２８４，４０６号、第３，４３６，３６６号、第３，６９７，４７３号及び第４，３４０，７０９号に記載のＲＴＶ；
・ 上で定義したＬＳＲ；
・ 或いは、上で定義したＥＶＣ；
とすることができる。

好ましくは、ＰＯＳ Ａ及び／又は随意的なＰＯＳ樹脂Ｈのアルケニル基Ｗは、シロキシ単位Ｄと随意的にＭ及び／又はＴによって保有されるビニル基Ｖｉである。

本発明によれば、上で定義した（線状及び／又は環状の）種々のＰＯＳ Ａと種々のＰＯＳ Ｂの混合物の使用を想定することが完全に可能である。

ＰＯＳ樹脂Ｈが存在するときは好ましくはその構造中に少なくとも一つのアルケニル基を含有し、アルケニル基の含有量が０．１〜２０重量％、好ましくは０．２〜１０重量％であるものから選択される。

上記樹脂は、市販されている周知の分枝状オルガノポリシロキサンオリゴマー又はポリマーである。これらは溶液、好ましくはシロキサン溶液の形態をとる。これらの構造は式Ｒ’₃ＳｉＯ_0.5（単位Ｍ）、Ｒ’₂ＳｉＯ（単位Ｄ）、Ｒ’ＳｉＯ_1.5（単位Ｔ）及びＳｉＯ₂（単位Ｑ）の式で表されるものから選択される少なくとも二つの異なる単位（該単位の少なくとも一つはＴ又はＱである。）を含有する。
基Ｒ’は同一の又は異なるものであり、線状又は分枝状のＣ₁〜Ｃ₆のアルキル基、Ｃ₂〜Ｃ₄のアルケニル基、フェニル基及び３，３，３−トリフルオロプロピル基から選択される。アルキル基Ｒ’の例としてはメチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル及びｎ−ヘキシル基が挙げられ、アルケニル基Ｒ’の例としてはビニル基が挙げられる。
前述したタイプのＰＯＳ樹脂Ｈにおいていくつかの基Ｒ’はアルケニル基であることを理解しなければならない。

分枝状オルガノポリシロキサンオリゴマー又はポリマーの例としては樹脂ＭＱ、樹脂ＭＤＱ、樹脂ＴＤ及び樹脂ＭＤＴが挙げられ、アルケニル基は単位Ｍ、Ｄ及び／又はＴによって保有されることが可能である。とりわけ好適な樹脂の例としてはビニル基（該ビニル基は単位Ｍ及び／又はＤによって保有される。）の含有量が０．２〜１０重量％のビニル化した樹脂ＭＤＱ又はＭＱが挙げられる。
上記構造の樹脂は有利には前記組成物の全成分を基準にして１０〜７０重量％、好ましくは３０〜６０重量％、特に好ましくは４０〜６０重量％の濃度で存在する。

本発明に係るワニスの架橋機構に特有の重付加反応は当業者に良く知られている。この反応においては触媒を使用することもできる。該触媒は特に白金及びロジウム化合物から選択することができる。とりわけ、米国特許第３ １５９ ６０１号、同第３ １５９ ６０２号及び同第３ ２２０ ９７２号並びに欧州特許第０ ０５７ ４５９号、同第０ １８８ ９７８号及び同第０ １９０ ５３０号に記載の白金と有機製品の錯体、米国特許第３ ４１９ ５９３号、同第３ ７１５ ３３４号、同第３ ３７７ ４３２号及び同第３ ８１４ ７３０号に記載の白金とビニル化オルガノシロキサンの錯体を使用することが可能である。一般には好ましい触媒は白金である。この場合、触媒Ｃの量は、白金金属の重量で計算して、ＰＯＳ（Ａ及びＡ’）、（Ｂ及びＢ’）の全重量を基準に通常２〜４００ｐｐｍであり、好ましくは５〜１００ｐｐｍである。

前記付加反応の抑制剤Ｇは以下の化合物から選択される。
− （有利には環状で少なくとも一つのアルケニルによって置換された）ポリオルガノシロキサン（テトラメチルビニルテトラシロキサンが特に好ましい。）、
− ピリジン、
− 有機ホスフィン及びホスファイト、
− 不飽和アミド、
− アルキル化マレアート、
− 及びアセチレン型アルコール。

上記アセチレン型アルコール（ＦＲ−Ｂ−１ ５２８ ４６４号及びＦＲ−Ａ−２ ３７２ ８７４号参照）は、ヒドロシリル化反応の好ましい熱遮断剤に入り、次式を有する。
Ｒ−（Ｒ’）Ｃ（ＯＨ）−Ｃ≡ＣＨ
（式中、
− Ｒは線状若しくは分枝状のアルキル基又はフェニル基であり；
− Ｒ’はＨ、線状若しくは分枝状のアルキル基又はフェニル基であり；
− 基Ｒ、Ｒ’及び３重結合に対してα位にある炭素原子は環を形成することが随意的に可能であり；
− Ｒ及びＲ’中に存在する炭素原子の全数は少なくとも５個、好ましくは９〜２０個である。）

前記アルコールは好ましくは２５０℃を超える沸点を有するものから選択される。例示的には：
− １−エチニルシクロヘキサン−１−オール；
− ３−メチル−１−ドデシン−３−オール；
− ３，７，１１−トリメチル−１−ドデシン−３−オール；
− １，１−ジフェニル−２−プロピン−１−オール；
− ３−エチル−６−エチル−１−ノニン−３−オール；
− ３−メチル−１−ペンタデシン−３−オール；
が挙げられる。
上記のα−アセチレン型アルコールは市販されている。

上記抑制剤（Ｉ．１）は、オルガノポリシロキサンＡ及びＢの全重量を基準にして最大３０００ｐｐｍ、好ましくは１００〜２０００ｐｐｍの量で存在する。

接着促進剤Ｆは、例えば：
（Ｆ．１） 次の一般式に従う少なくとも一種のアルコキシ化オルガノシラン：

（式中、
− Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は互いに同一の又は異なる水素化基又は炭化水素基であり、そして水素、線状若しくは分枝状のＣ₁〜Ｃ₄のアルキル又は少なくとも一つのＣ₁〜Ｃ₃のアルキルによって随意的に置換されたフェニルであり；
− Ａは線状又は分枝状のＣ₁〜Ｃ₄のアルキレンであり；
− Ｇは原子価結合であり；
− Ｒ⁴及びＲ⁵は同一の又は異なる基であり、そして線状又は分枝状のＣ₁〜Ｃ₄のアルキルであり；
− ｘ’は０又は１であり；
− ｘは０〜２である。）
（ここで、化合物（Ｆ．１）は好ましくはビニルトリメトキシシラン（ＶＴＭＳ）又はγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランである。）；
（Ｆ．２） 少なくとも一つのエポキシ基を含む少なくとも１種の有機ケイ素化合物（ここで、化合物（Ｆ．２）は好ましくは３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＬＹＭＯ）である。）；
（Ｆ．３） 少なくとも１種の金属Ｍのキレート及び／又は一般式Ｍ（ＯＪ）_n（式中、ｎはＭの原子価であり、Ｊは線状又は分枝状のＣ₁〜Ｃ₈のアルキルであり、ＭはＴｉ，Ｚｒ，Ｇｅ，Ｌｉ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ａｌ及びＭｇを含む群から選択される。）で表される金属アルコキシド（ここで、化合物（Ｆ．３）は好ましくはｔ−ブチルチタネートである。）；
を含むことができる。

（Ｆ．１）、（Ｆ．２）及び（Ｆ．３）の比率は上記三つの全重量を基準に重量％で表して、好ましくは以下の通りである。
（Ｆ．１） ≧ １０、
（Ｆ．２） ≧ １０、
（Ｆ．３） ≦ ８０。

更に、この接着促進剤Ｆは、処方物の全成分を基準に０．１〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重量％、特に好ましくは１〜２．５重量％の量で好適に存在する。

粒子状化合物Ｅはコロイドシリカ、粉末燃焼(powdered combustion)シリカ及び沈降シリカ、並びにこれらの混合物から選択される。

これらの粉末は平均粒径が一般に０．１μｍ未満であり、ＢＥＴ比表面積は５０ｍ²／ｇよりも大きく、好ましくは１００〜３００ｍ²／ｇである。
上記充填剤は有利にはヘキサメチルジシラザンのような相溶化剤で処理することができる。
該成分は０．００１〜５重量部、好ましくは１〜５重量部の量で使用するのが好ましい。

使用可能な機能性添加剤Ｉに関しては、例えば顔料／着色剤のような被覆用製品（Ｉ．１）、安定化剤（Ｉ．２）又は充填剤（Ｉ．３）とすることができる。

本発明に係る処方物が充填剤（Ｉ．３）を含むときは、それは好ましくは鉱物充填剤である。充填剤は珪質（又は非珪質）の材料から選択される生成物で構成することができる。
珪質充填剤はコロイドシリカ、粉末燃焼(powdered combustion)シリカ及び沈降シリカ、並びにこれらの混合物から選択される。
従って、珪藻土又は石英粉末のような珪質充填剤も採用可能である。

更に、非珪質の充填剤は、単独で又は混合させて使用可能であるが、例示的にはカーボンブラック、二酸化チタン、酸化アルミニウム、アルミナ水和物、膨脹バーミキュライト、ジルコニア、ジルコン酸塩、非膨張バーミキュライト、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、マイカ、滑石、酸化鉄、硫酸バリウム及び消石灰である。これらの充填剤は粒径が一般に０．０１〜３００μｍであり、ＢＥＴ表面積は１００ｍ²／ｇ未満である。

本発明に係る方法においては、処方物の前駆物質として二成分系を用いることも有利に可能である。

本発明に係るワニス組成物は、例えば、任意の適切な含浸手段（例えばパジング）及び随意的に任意の適切な被覆手段（例えばナイフ又はシリンダー）によって基材に塗布することができる。

被覆されるべき基材へ塗布される液状シリコンワニス組成物の架橋は通常、例えば含浸又は塗布された基材を、基材の最大熱抵抗を当然に考慮して、５０〜２００℃の間に加熱することによって促進する。

本発明に係るシリコンワニスの製造の容易さ、低コスト及び減摩特性を考慮すると、本シリコンワニスは多数の応用分野、とりわけ織布又は不織布のコア部を有する基材を被覆する分野で利用が有望である。

本発明の別の特徴によれば、ワニス塗りの方法は上で規定した組成物が減摩用ワニスとして、（随意的にシリコンエラストマーの少なくとも１層で被覆された）基材に塗布されるという点で特徴付けられる。
好ましくは、該方法では本質的に：
− 上で規定した組成物で基材を被覆する、
− ワニスの層を、随意的に熱的活性化によって、架橋する、
− そして、随意的に上記２工程を少なくとも１回繰り返す。

本発明の有利な一実施形態によれば、ワニス組成物は２５ｇ／ｍ²以下、好ましくは５〜２０ｇ／ｍ²の被覆割合で基材に塗布する。

未架橋ワニスの層を基材に塗布する手段は本目的に適切な公知のものである（例えば、ナイフ、被覆用シリンダー又は噴霧）。同様のことが活性化手段についても言える（例えば、熱による活性化又はＩＲ放射による活性化）。
上記観点についての更なる詳細は下記の実施例において与えられる。

本発明は更に、上述した方法によって得ることのできる、減摩特性及び滑り感を有するワニス塗りされた基材（又は複合物）に関する。この複合物は：
− 基材、
− 随意的に、シリコンエラストマーの少なくとも１層で構成され、基材の少なくとも片側に堅く結合した被膜、
− 上で規定した組成物をベースとした少なくとも１層のワニス、
を含むという点で特徴付けられる。

基材自体がシリコンのときは不可欠ではないのでシリコン被膜は随意的である。

基材は好ましくはフレキシブル基材であり、好ましくは：
− テキスタイル、
− 不織布基材、
− ポリマーフィルム（とりわけポリエステル、ポリアミド等）。

有利な一実施形態においては、このワニス塗りされた基材−好ましくはテキスタイル基材−は：
− 重付加又は重縮合ＲＴＶシリコン、
− 及び／又はペルオキシドＥＶＣシリコン、
− 及び／又は重付加ＬＳＲシリコン、
から好ましく選択される少なくとも片側が架橋性の又は少なくとも部分的に架橋されたシリコンエラストマーの少なくとも一層で被覆される。
上で規定した組成物から得られる減摩用ワニスはシリコンエラストマーの（最上）層に塗布される。
ＲＴＶ、ＬＳＲ及びＥＶＣなる用語は当業者に周知である。ＲＴＶはＲｏｏｍ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ Ｖｕｌｃａｎｉｚｉｎｇ（室温硬化）の略語であり、ＬＳＲはＬｉｑｕｉｄ Ｓｉｌｉｃｏｎｅ Ｒｕｂｂｅｒ（液状シリコンゴム）の略語であり、ＥＶＣはＥｌａｓｔｏｍｅｒｅ Ｖｕｌｃａｎｉｓａｂｌｅ ａ Ｃｈａｕｄ（熱硬化エラストマー）の略語である。
実際的には、本発明はより正確には、上で規定した減摩シリコンワニスで被覆されたＲＴＶ、ＥＶＣ又はＬＳＲの架橋シリコンエラストマーの層で片側又は両側が被覆された基材（例えば、エアバッグの製造に使用されるようなテキスタイル）に関する。
減摩特性の付与の問題は、既に述べたように、粘着感を有する性質のためにこれらの架橋シリコンエラストマー被膜の場合にとりわけ重要である。
本発明に係るワニスを塗布することのできる架橋エラストマーの粘着性層の主成分であるポリオルガノシロキサンは線状、分枝状又は架橋されていることが可能であり、炭化水素基及び／又は水酸基、加水分解性基、アルケニル基及び水素原子のような反応性基を含有することができる。ポリオルガノシロキサン組成物は文献、特にウォルター・ノル（Walter NOLL）著、“シリコンの化学及び技術（Chemistry and Technology of Silicones）”、アカデミック出版（Academic Press）、１９６８年、第２版、ｐ３８６〜４０９に詳細に説明されていることを指摘しておく。

より正確には、上記のワニス塗り可能なポリオルガノシロキサンは一般式：

で表されるシロキシ単位及び／又は式：

で表されるシロキシ単位で構成される。
式中、種々の記号は以下のように定義される。
− 記号Ｒ°は同一又は異なるもので、それぞれ非加水分解性の炭化水素基で：
・ １〜５個の炭素原子を有し、１〜６個の塩素及び／又はフッ素原子を含有するアルキル又はハロゲノアルキル基、
・ ３〜８個の炭素原子を有し、１〜４個の塩素及び／又はフッ素原子を含有するシクロアルキル及びハロゲノシクロアルキル基、
・ ６〜８個の炭素原子を有し、１〜４個の塩素及び／又はフッ素原子を含有するアリール、アルキルアリール及びハロゲノアリール基、
・ ３〜４個の炭素原子を有するシアノアルキル基、
とすることができ；
− 記号Ｚ°は同一又は異なるもので、それぞれ水素原子、Ｃ₂〜Ｃ₆のアルケニル基、水酸基、加水分解性原子又は加水分解性基であり；
− ｎ₁は０、１、２又は３に等しい整数であり；
− ｘ₁は０、１、２又は３に等しい整数であり；
− ｙ₁は０、１又は２に等しい整数であり；
− ｘ＋ｙは１〜３である。

例示的に、ケイ素原子に直接結合した有機基Ｒ°の中では、メチル；エチル；プロピル；イソプロピル；ブチル；イソブチル；ｎ−ペンチル；ｔ−ブチル；クロロメチル；ジクロロメチル；α−クロロエチル；α，β−ジクロロエチル；フルオロメチル；ジフルオロメチル；α，β−ジフルオロエチル；３，３，３−トリフルオロプロピル；トリフルオロシクロプロピル；４，４，４−トリフルオロブチル；３，３，４，４，５，５−ヘキサフルオロペンチル；β−シアノエチル；γ−シアノプロピル；フェニル；ｐ−クロロフェニル；ｍ−クロロフェニル；３，５−ジクロロフェニル；トリクロロフェニル；テトラクロロフェニル；ｏ−，ｐ−，ｍ−トリル；α，α，α−トリフルオロトリル；並びに２，３−ジメチルフェニル及び３，４−ジメチルフェニルのようなキシリルを挙げることができる。
好ましくは、ケイ素原子に結合した有機基Ｒ°はメチル又はフェニル基（これらは随意的にハロゲン化することができる。）又はシアノアルキル基である。
記号Ｚ°は水素原子、ハロゲン原子、とりわけ塩素原子のような加水分解性原子、ビニル基、水酸基、又はアミノ、アミド、アミノキシ、オキシム、アルコキシ、アルケニルオキシ若しくはアシルオキシのような加水分解性基とすることができる。
ポリオルガノシロキサンの種類、すなわちシロキシ単位（Ｉ’）及び（II’）の比率並びにそれらの配分はエラストマーに変換するために硬化性（又は加硫性）組成物に実施される架橋処理に応じて選択されることが知られている。
金属触媒の存在下、随意的にアミン及び架橋剤の存在下で、重付加又は重縮合反応によって架橋する多種類の一成分系又は二成分系組成物を使用することが可能である。
一般的に（好ましくは白金をベースとする）金属触媒の存在下で、室温で（ＲＴＶ）又は熱的作用下で（ＥＶＣ）重付加反応（本質的にヒドロゲノシリル基とアルケニルシリル基の反応）により架橋する二成分系又は一成分系のポリオルガノシロキサン組成物は、例えば米国特許第３，２２０，９７２号、同第３，２８４，４０６号、同第３，４３６，３６６号、同第３，６９７，４７３号及び同第４，３４０，７０９号に記載されている。これらの組成物の一部を形成するポリオルガノシロキサンは一般的に、一方で、随意的に単位（Ｉ’）と組み合わせた、単位（II）（式中、基Ｚ°はＣ₂〜Ｃ₆のアルケニル基で、ｘ₁は１以上である。）で構成された線状、分枝状又は架橋ポリシロキサンと、他方で、随意的に単位（Ｉ’）と組み合わせた、単位（II’）（式中、基Ｚ°は今度は水素原子で、ｘ₁は１以上である。）で構成された線状、分枝状又は架橋ヒドロゲノポリシロキサンをベースとしたペアよりなる。
一般的に金属触媒（例えばスズ化合物）の存在下で、水分の作用下で重縮合反応によって室温で（ＲＴＶ）架橋する二成分系又は一成分系ポリオルガノシロキサン組成物は、例えば、一成分系組成物の場合は米国特許第３ ０６５ １９４号、同第３ ５４２ ９０１号、同第３ ７７９ ９８６号及び同第４ ４１７ ０４２号並びに仏国特許第２ ６３８ ７５２号に、二成分系組成物の場合は米国特許第３ ６７８ ００２号、同第３ ８８８ ８１５号、同第３ ９３３ ７２９号及び同第４ ０６４ ０９６号に記載されている。これらの組成物の一部を形成するポリオルガノシロキサンは一般的に、随意的に単位（Ｉ’）と組み合わせた、単位（II’）（式中、基Ｚ°は水酸基又は加水分解性原子若しくは基で、ｘ₁は１以上である。ｘ₁が２又は３のときは、水酸基又は加水分解性原子若しくは基である基Ｚ°を少なくとも一つとアルケニル基である基Ｚ°を少なくとも一つ有することが可能である。）で構成された線状、分枝状又は架橋ポリシロキサンである。上記組成物は架橋剤を含有することもでき、これは特に少なくとも三つの加水分解性基を有するシラン、例えばシリケート、アルキルトリアルコキシシラン又はアミノアルキルトリアルコキキシランである。
重付加又は重縮合反応によって架橋するこれらのＲＴＶポリオルガノシロキサン組成物は有利には２５℃で最大１００，０００ｍＰａｓ、好ましくは１０〜５０，０００ｍＰａｓの粘度を有する。
重付加又は重縮合反応によって室温で架橋し、２５℃で１００，０００ｍＰａｓを超える粘度、例えば１００，０００ｍＰａｓを超えて３００，０００ｍＰａｓまでの範囲の粘度を有するＲＴＶ組成物を使用することが可能である。使用する充填剤が沈殿により分離する傾向がある充填剤入り硬化性組成物の製造が望まれるときはこの態様が推奨される。
２５℃で少なくとも５００，０００ｍＰａｓ、好ましくは１百万ｍＰａｓ〜１０百万ｍＰａｓ、更にはそれよりも高い粘度を有する、重付加反応によって熱的作用下で架橋する組成物、より正確にはいわゆる重付加ＥＶＣ型の組成物を使用することも可能である。
２，４−ジクロロベンゾイルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルベンゾアート、クミルペルオキシド又はジ−ｔ−ブチルペルオキシドのような有機ペルオキシドの作用下で高温にて硬化する組成物を使用することも可能である。従って、（簡単にはＥＶＣ型として知られる）上記組成物の一部を形成するポリオルガノシロキサン又はガムは、随意的に単位（II’）（式中、基Ｚ°はＣ₂〜Ｃ₆のアルケニル基で、ｘは１に等しい。）と組み合わせて、本質的にシロキシ単位（Ｉ’）で構成される。そのようなＥＶＣは、例えば、米国特許第３ １４２ ６５５号、同第３ ８２１ １４０号、同第３ ８３６ ４８９号及び同第３ ８３９ ２６６号に記載されている。これらの組成物は有利には２５℃で少なくとも１百万ｍＰａｓ、好ましくは２〜１０百万ｍＰａｓ、更にはそれを超える粘度を有する。
本発明に係るシリコンワニス組成物でワニス塗り可能な他のポリオルガノシロキサン組成物は、ＬＳＲ組成物と呼ばれる、重付加反応によって熱的作用下で架橋する一成分系又は二成分系のポリオルガノシロキサン組成物である。これらは、粘度が１００，０００ｍＰａｓを超えて５００，０００ｍＰａｓまでの範囲であることを除き、ＲＴＶと呼ばれる好ましい組成物に関して上で与えた定義に対応する。
限定を意味するものではないが、摩擦係数を低減するために本発明に係るワニスを塗布することのできるシリコンエラストマー被膜はより特別には重付加により低温で（ＲＴＶ）硬化する（とりわけ二成分型（ＲＴＶ２）の）シリコンエラストマー組成物から得られる被膜である。

シリコンで被覆されたテキスタイル基材とは別に、本発明に係る減摩用ワニスは：
− 熱転写プリンタ用の熱転写リボンとして使用する（例えば、ポリエステル製の）プラスチックフィルム、
− 又は、（例えば、ポリエチレン又はポリプロピレン製の）保護包装用プラスチックフィルム、
に塗布することができる。

すべての用途において、本発明に係る減摩用ワニスはプラスチックフィルムの少なくとも片側（該側はシリコンの少なくとも一層で被覆することができる。）において滑りを促進する。

最後に、本発明は上で規定した複合物を含有するいかなる製品にも関係する。

以下の実施例にて本発明に係るワニスの性能及び従来技術と比較した利点を示す。

Ｉ／複合物の作製
２００ｇ／ｍ²のポリエステルファブリックを以下のようにして得られたシリコンエラストマーの層でまず被覆した。
粘度１．５Ｐａｓのα，ω−ジビニル化シリコンオイル４０ｋｇ（オイル１ｇ当たり０．１ｍｅｑのビニル（Ｖｉ）を含有）、飲料水０．２４ｋｇ及びヘキサメチルジシラザン０．２４ｋｇを攪拌アーム付きの１００Ｌのミキサーへ導入した。均質化した後に、比表面積が２００ｍ²／ｇであることに特徴付けられる燃焼シリカ１３．９ｋｇを約２時間かけて分けて添加した。約１時間の混合後、ヘキサメチルジシラザン２．２７ｋｇを約１時間かけて添加した。２時間後、加熱段階を開始した。この間、該混合物を窒素流（３０ｍ³／ｈ）中に置いた。加熱は 温度が約１４０℃に達するまで続け、揮発性物質を組成物から追い出すためにこの温度状態を２時間維持した。次いで該懸濁液を放冷した。

この懸濁液を適切な反応器中で部分Ａ及び部分Ｂを処方するのに使用した。

部分Ａは：
− 該懸濁液を３２０ｇ、
− 粘度が１００Ｐａｓのα，ω−ジビニル化オイルを１１１ｇ（オイル１ｇ当たり０．０３ｍｅｑのＶｉ含有）、
− 平均粒径（ｄ５０）が約２．５μｍの石英粉末を３５ｇ、
− 粘度が０．３Ｐａｓのポリヒドロゲノオイルを１２ｇ（オイル１ｇ当たり１．６ｍｅｑのＳｉＨ含有）、
− α，ω−ジヒドロゲノオイルを１２ｇ（オイル１ｇ当たり１．９ｍｅｑのＳｉＨ含有）、
− γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを５ｇ、
− γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを５ｇ、
− エチニルシクロヘキサノールを０．７ｇ、
含有する。

部分Ｂは：
− 該懸濁液を４８０ｇ、
− ブチルオルトチタネートを２０ｇ、
− １０％の白金を含有する触媒を１．１ｇ、
含有する。

部分Ａ及びＢは１００：１０の比率で混合し、気泡を除去した後に、前記テキスタイル基材を被覆するのに使用した。次いでこの被膜を加熱して架橋した。

次いでワニスをメイヤーバー（Meyer bar）の手段により堆積させた。この条件において堆積量は１５〜２０ｇ／ｍ²程度であった。次にワニスを乾燥及び架橋するために全部をオーブンに入れた。

II／滑り摩擦係数の測定
該複合物をガラス板上に置いて、表面積が４０ｃｍ²で重量ｍが２００ｇの平行六面体を載せた。次いで１５０ｍｍ／分の変位速度でこれを変位するのに必要な力Ｆを計測した。無次元摩擦係数は掛けられた重量に対するこの力の比率で表される。
Ｋ＝Ｆ／ｍｇ
この測定結果を該複合物に触れたときに体験する感触で補完した。

III／視覚外観
ワニスが光沢又は無光沢の外観を与えるかを記録した。

IV／耐汚れ性
カーボンブラックをワニス被膜の上に堆積し、該基材を洗浄できる容易さを０〜５段階で記録した。
０＝黒い状態が残ったままであった。
５＝わずかに黒い痕跡が残った。

比較例１：ワニス１
以下を示した比率（重量部）で室温にて反応器中で段階的に混合した。
− 粘度が２０ｍＰａｓのα，ω−ｄｉＭｅＶｉ−ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を３８．５部、
− 基Ｄ^Viの形態にあるＶｉを約２．５％含有するＰＤＭＳを２２．５部、
− 滑石を３９部、
− 粘度が２０ｍＰａｓのポリメチルヒドロゲノシロキサンを１３部、
− エチニルシクロヘキサノールを０．０５２部、
− ｇの白金触媒を０．０５部、
− トルエンを１００部。

比較例２：ワニス２
以下を示した比率（重量部）で室温にて反応器中で段階的に混合した。
− 基Ｄ^Viの形態にあるＶｉを約２．５％含有するＰＤＭＳを８５部、
− 粘度が６００ｍＰａｓのα，ω−ｄｉＭｅＶｉＰＤＭＳを１５部、
− 粘度が１００Ｐａｓのα，ω−ｄｉＭｅＶｉＰＤＭＳを２０部、
− エチニルシクロヘキサノールを０．０５２部、
− γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを１０部、
− 粘度が２０ｍＰａｓのポリメチルヒドロゲノシロキサンを１５部、
− ｇの白金触媒を０．１部。

実施例３：ワニス３
以下をワニス２の処方に加えた。
− Ｏｒｇａｓｏｌ（登録商標）２００２ ＥＳ３（平均径が３０μｍのＰＡ１２粉末）を５部。

実施例４：ワニス４
以下をワニス３の処方に加えた。
− デグサ（DEGUSSA）社のＲ８１２シリカ（２６０ｍ²／ｇの疎水化Ａｅｒｏｓｉｌ（登録商標））を１．５部。

結果

注釈
示された結果は：
− 摩擦係数はワニスにより大きく減少した。
− 摩擦係数は充填剤の存在により更に改善した。
− 感触は摩擦係数と相関してより滑り性が良くなった。
− Ｏｒｇａｓｏｌ（登録商標）を使用すると光沢のある外観が維持された。
− 耐汚れ性はワニス２〜４の場合にかなり改善した。

表面滑り又は反射率への影響とは別に、シリカの存在がデカンテーション現象（decantationpphenomena）に関して懸濁液に付加的な安定性を提供し、また、ワニス処方物の粘度をある程度調節した。

Claims (15)

1. 一方では、架橋を可能とする触媒Ｃの存在下で互いに反応する少なくとも２種類の有機ケイ素種Ａ及びＢ（上記２種の少なくとも１種はポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）で構成される。）を含み、他方では、少なくとも１種の粒子状成分Ｄを含むタイプの組成物であって：
   ・ 該組成物は重付加により架橋可能なタイプであり；
   ・ 該粒子状成分Ｄは：
   − 粒子が実質的に丸い形状であり、及び
   − 平均粒径Φ_md が５〜１００μｍである、
   粉末状（コ）ポリアミドを含む群から選択され；
   ・ 平均粒径Φ_md が０．１μｍ以下であり、ＢＥＴ比表面積が５０ｍ²／ｇ以上である粉末状シリカを含む群から選択される少なくとも１種の他の粒子状成分Ｅを更に含有し、
   前記粒子状成分Ｄが前記組成物の全重量を基準にして０．１〜２０重量％存在し、
   前記粒子状成分Ｅが前記組成物の全重量を基準にして０．００１〜５重量％の量で存在し、
   有機ケイ素種Ａは、各分子中に、ケイ素に結合したアルケニル基を少なくとも二つ有するポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ Ａ）であり；
   有機ケイ素種Ｂは、各分子中に、ケイ素に結合した水素原子を少なくとも三つ有するポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ Ｂ）である；
   ことを特徴とする減摩特性を有する架橋性シリコンワニス組成物。
2. （Ａ） 各分子中に、ケイ素に結合したアルケニル基を少なくとも二つ有する少なくとも１種のポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ Ａ）を１００重量部と；
   （Ｂ） 各分子中に、ケイ素に結合した水素原子を少なくとも三つ有する少なくとも１種のポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ Ｂ）を１〜５０重量部と；
   （Ｃ） 白金族に属する少なくとも１種の金属で構成される、少なくとも１種の触媒を０．００１〜１重量部と；
   （Ｄ） 平均粒径Φ _md が５〜１００μｍである（コ）ポリアミドで構成される少なくとも１種の粒子状成分を０．１〜２０重量部と；
   （Ｅ） 平均粒径Φ _md が０．１μｍ以下であり、ＢＥＴ比表面積が５０ｍ ² ／ｇ以上である少なくとも１種の珪質粒子状成分を０．００１〜５重量部と；
   （Ｆ） 少なくとも１種の接着促進剤を０〜３０重量部と；
   （Ｇ） 少なくとも１種の架橋抑制剤を０〜１重量部と；
   （Ｈ） （Ａ）及び（Ｂ）以外の、少なくとも１種のポリオルガノシロキサン樹脂を０〜１０重量部と；
   を含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
3. ＰＯＳ Ａ及びＢで構成されるシリコン相の粘性率η（ｍＰａｓ、２５℃）が：
   ２００≦η≦３０００、
   であることを特徴とする請求項１又は２に記載の組成物。
4. １種又は複数種のＰＯＳ Ａ及び樹脂Ｈが次式：
   Ｗ_aＺ_bＳｉＯ_(4-(a+b))/2 （１）
   （ここで：
   − 記号Ｗは、同一又は異なるもので、それぞれアルケニル基であり；
   − 記号Ｚは、同一又は異なるもので、それぞれ触媒の活性に不都合な作用を及ぼすことがない、非加水分解性の一価炭化水素基であり、１〜８個の炭素原子（両端含む）をもつアルキル基、及びアリール基から選択され；
   − ａは１又は２であり、ｂは０、１又は２であり、ａ＋ｂは１〜３であり；
   − 少なくともいくつかの他の単位は次の実験式：
   Ｚ_cＳｉＯ_(4-c)/2 （２）
   （式中、Ｚは上で定義したとおりであり、ｃは０〜３の値である。）
   で表される単位である。）
   で表されるシロキシ単位を有することを特徴とする請求項２又は３に記載の組成物。
5. １種又は複数種のＰＯＳ Ｂが次式：
   Ｈ_dＬ_eＳｉＯ_(4-(d+e))/2 （３）
   （ここで、
   − 記号Ｌは、同一又は異なるもので、それぞれ触媒の活性に対して不都合な作用のない、非加水分解性の一価炭化水素基であり、１〜８個の炭素原子をもつアルキル基（両端を含む）、及びアリール基から選択され；
   − ｄは１又は２であり、ｅは０、１又は２であり、ｄ＋ｅは１〜３の値であり；
   − 少なくともいくつかの他の単位は次の実験式：
   Ｌ_gＳｉＯ_(4-g)/2 （４）
   （式中、Ｌは上と同様に定義され、ｇは０〜３の値をもつ。）
   で表される単位である。）
   で表されるシロキシ単位を有することを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の組成物。
6. ＰＯＳ Ａ及びＰＯＳ樹脂Ｈのアルケニル基Ｗは、シロキシ単位ＤとＭ及び／又はＴとによって保有されるビニル基Ｖｉであることを特徴とする請求項２〜５の何れか一項に記載の組成物。
7. 請求項１〜６の何れか一項に記載の組成物が減摩用ワニスとして基材に塗布されることを特徴とするワニス塗り方法。
8. 請求項１〜６の何れか一項に記載の組成物が減摩用ワニスとしてシリコンエラストマーの少なくとも１層で被覆された基材に塗布されることを特徴とするワニス塗り方法。
9. 本質的に：
   − 請求項１〜６の何れか一項に記載の組成物で基材を被覆すること、
   − ワニスの層を架橋すること、
   よりなることを特徴とする請求項７又は８に記載の方法。
10. 被覆工程及び架橋工程を少なくとも１回繰り返すことを特徴とする請求項９に記載の方法。
11. ワニス組成物が５〜２０ｇ／ｍ²の被覆割合で基材に塗布されることを特徴とする請求項７〜１０の何れか一項に記載の方法。
12. − 基材、
    − シリコンエラストマーの少なくとも１層で構成され、基材の少なくとも片側に堅く結合した被膜、
    − 請求項１〜６の何れか一項に記載の組成物をベースとした少なくとも１層のワニス、
    を含むことを特徴とする、請求項７〜１１の何れか一項に記載の方法によって得ることのできる複合物。
13. − 基材、
    − 請求項１〜６の何れか一項に記載の組成物をベースとした少なくとも１層のワニス、
    を含むことを特徴とする、請求項７〜１１の何れか一項に記載の方法によって得ることのできる複合物。
14. 前記基材が：
    − テキスタイル、
    − 不織布基材、
    − ポリマーフィルム
    を含む群から選択されるフレキシブル基材であることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の複合物。
15. 請求項１２〜１４の何れか一項に記載の複合物を含有することを特徴とする製品。