JPH01106833A - パラヒドロキシメチルフェノール類の合成法 - Google Patents
パラヒドロキシメチルフェノール類の合成法Info
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- JPH01106833A JPH01106833A JP62265085A JP26508587A JPH01106833A JP H01106833 A JPH01106833 A JP H01106833A JP 62265085 A JP62265085 A JP 62265085A JP 26508587 A JP26508587 A JP 26508587A JP H01106833 A JPH01106833 A JP H01106833A
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はバラヒドロキシメチルフェノール類の合成方法
に関する。
に関する。
バラヒドロキシメチルフェノール類は、各種有用化合物
の合成中間体として、また抗ガン剤、医薬、農薬、およ
び染料などの合成中間体であるパラヒドロキシベンズア
ルデヒド類の合成原料として、その重要性が最近とみに
増している。
の合成中間体として、また抗ガン剤、医薬、農薬、およ
び染料などの合成中間体であるパラヒドロキシベンズア
ルデヒド類の合成原料として、その重要性が最近とみに
増している。
従来、アルカリの存在下にフェノール類とホルムアルデ
ヒドを反応せしめることによりバラヒドロキシメチルフ
ェノール類を合成する方法は公知であった。しかし、こ
の反応におけるバラヒドロキシメチルフェノール類の生
成の選択率は50%程度であシ、大量のオルソヒドロキ
シメチルフェノール類が生成する。従って、この方法で
バラヒドロキシメチルフェノール類を得るためには、大
量の原料が必要であると同時に9分離に多くのエネルギ
ーが必要であった。
ヒドを反応せしめることによりバラヒドロキシメチルフ
ェノール類を合成する方法は公知であった。しかし、こ
の反応におけるバラヒドロキシメチルフェノール類の生
成の選択率は50%程度であシ、大量のオルソヒドロキ
シメチルフェノール類が生成する。従って、この方法で
バラヒドロキシメチルフェノール類を得るためには、大
量の原料が必要であると同時に9分離に多くのエネルギ
ーが必要であった。
本発明は、アルカリの存在下にフェノール類とホルムア
ルデヒドを反応させるにあたり、ンクロデキストリンあ
るいはシクロデキストリンの水酸基水素をヒドロキシプ
ロピル基またはヒドロキシエチル基で置換した化合物、
あるいはまた、シクロデキストリンあるいはシクロデキ
ストリンの水酸基水素をヒドロキシプロピル基またはヒ
ドロキノエチル基で置換した化合物をヒドロキシプロペ
ニル基で架橋した化合物を添加することにより。
ルデヒドを反応させるにあたり、ンクロデキストリンあ
るいはシクロデキストリンの水酸基水素をヒドロキシプ
ロピル基またはヒドロキシエチル基で置換した化合物、
あるいはまた、シクロデキストリンあるいはシクロデキ
ストリンの水酸基水素をヒドロキシプロピル基またはヒ
ドロキノエチル基で置換した化合物をヒドロキシプロペ
ニル基で架橋した化合物を添加することにより。
目的物であるパラヒドロキシメチルフェノール類の収率
および選択性を顕著に向上させ、省原料と分離操作の簡
素化を実現したものである。
および選択性を顕著に向上させ、省原料と分離操作の簡
素化を実現したものである。
すなわち9本発明者らは、フェノール類と水酸化す)
IJウムまたは水酸化カリウムの水溶液に。
IJウムまたは水酸化カリウムの水溶液に。
シクロデキストリンまたはシクロデキストリンの水酸基
水素をヒドロキシプロピル基またはヒドロキシエチル基
で置換した化合物、あるいはまた。
水素をヒドロキシプロピル基またはヒドロキシエチル基
で置換した化合物、あるいはまた。
これらをヒドロキシプロペニル基で架橋した化合物を加
え、ここにホルムアルデヒドを加えて反応させることに
よシパラヒドロキシメチルフェノール類を高収率、高選
択性で合成することに成功した。
え、ここにホルムアルデヒドを加えて反応させることに
よシパラヒドロキシメチルフェノール類を高収率、高選
択性で合成することに成功した。
、明細書に記載するフェノール類とは、たとえば。
フェノール、2位置換フェノール、3位置換フェノール
、3位、5位二置換フェノール、および2位、5位二置
換フェノールなどである。ここに。
、3位、5位二置換フェノール、および2位、5位二置
換フェノールなどである。ここに。
フェノール類の置換基は、たとえば、炭素数1〜6の飽
和ならびに不飽和の炭化水素基、アリール基、水酸基、
カルボキシル基、スルホン酸基、およびハロゲンなどで
ある。
和ならびに不飽和の炭化水素基、アリール基、水酸基、
カルボキシル基、スルホン酸基、およびハロゲンなどで
ある。
シクロデキストリンとしては、α−9β−9およびr−
シクロデキストリンのいずれも用いることが出来る。シ
クロデキストリンの水酸基水素をヒドロキシプロピル基
またはヒドロキシエチル基で置換した化合物は、公知の
方法、たとえば、シクロデキストリンと、それぞれプロ
ピレンオキシド、エチレンオキシドと反応させる方法に
よシ得られる。ここで、シクロデキストリン1分子あた
りのヒドロキシプロピル基またはヒドロキシエチル基の
数は1〜24.好ましくは5〜12である。
シクロデキストリンのいずれも用いることが出来る。シ
クロデキストリンの水酸基水素をヒドロキシプロピル基
またはヒドロキシエチル基で置換した化合物は、公知の
方法、たとえば、シクロデキストリンと、それぞれプロ
ピレンオキシド、エチレンオキシドと反応させる方法に
よシ得られる。ここで、シクロデキストリン1分子あた
りのヒドロキシプロピル基またはヒドロキシエチル基の
数は1〜24.好ましくは5〜12である。
明細書に記載する。シクロデキストリンあるいはシクロ
デキストリンの水酸基水素をヒドロキシプロピル基また
はヒドロキシエチル基で置換した化合物をヒドロキシプ
ロペニル基で架橋した化合物は、たとえば、シクロデキ
ストリン、あるいは。
デキストリンの水酸基水素をヒドロキシプロピル基また
はヒドロキシエチル基で置換した化合物をヒドロキシプ
ロペニル基で架橋した化合物は、たとえば、シクロデキ
ストリン、あるいは。
シクロデキストリンの水酸基水素をヒドロキシプロピル
基またはヒドロキシエチル基で置換した化合物とエビク
ロロヒドリンまたはエビブロモヒドリンとをアルカリ水
溶液中で反応することによシ得られる。これらの化合物
は、また、シクロデキストリンとエビクロロヒドリンま
たはエビブロモヒドリンとをアルカリ水溶液中で反応さ
せてシクロデキストリンをヒドロキシプロペニル基で架
橋した化合物を製造した後、これを、プロピレンオキシ
ドまたはエチレンオキシドと反応させることによっても
得られる。これらは1反応系に不溶な固体としても、ま
た反応系に可溶な形態でも、いずれも本発明に用いるこ
とが出来る。
基またはヒドロキシエチル基で置換した化合物とエビク
ロロヒドリンまたはエビブロモヒドリンとをアルカリ水
溶液中で反応することによシ得られる。これらの化合物
は、また、シクロデキストリンとエビクロロヒドリンま
たはエビブロモヒドリンとをアルカリ水溶液中で反応さ
せてシクロデキストリンをヒドロキシプロペニル基で架
橋した化合物を製造した後、これを、プロピレンオキシ
ドまたはエチレンオキシドと反応させることによっても
得られる。これらは1反応系に不溶な固体としても、ま
た反応系に可溶な形態でも、いずれも本発明に用いるこ
とが出来る。
実施例1に示すように、β−シクロデキストリン存在下
の反応におけるパラヒドロキシメチルフェノールの収率
(19モル%)は、比較例1に示した。β−シクロデキ
ストリンが不在下の反応における値(3,2%)の約6
倍であり、また選択性(84%)も不在下における値(
63%)よシも大きい。
の反応におけるパラヒドロキシメチルフェノールの収率
(19モル%)は、比較例1に示した。β−シクロデキ
ストリンが不在下の反応における値(3,2%)の約6
倍であり、また選択性(84%)も不在下における値(
63%)よシも大きい。
シクロデキストリン、シクロデキストリンの水酸基水素
をヒドロキシプロピル基またはヒドロキシエチル基で置
換した化合物、あるいは、これらをヒドロキシプロペニ
ル基で架橋した化合物は反応中に変化せず1反応後、そ
のまま再使用が可能である。たとえば、シクロデキスト
リンまたはシクロデキストリンの水酸基水素をヒドロキ
シプロピル基またはヒドロキシエチル基で置換した化合
物を触媒とする場合には9反応後に反応系を酸性にする
と溶解度の減少のためにシクロデキストリン、あるいは
シクロデキストリンの水酸基水素をヒドロキシプロピル
基またはヒドロキシエチル基で置換した化合物が沈澱す
る。この簡便な方法でシクロデキストリン、またはシク
ロデキストリンの水酸基水素をヒドロキシプロピル基ま
たはヒドロキシエチル基で置換した化合物の7〜9割が
回収され9回収物は完全に再使用にたえる。また。
をヒドロキシプロピル基またはヒドロキシエチル基で置
換した化合物、あるいは、これらをヒドロキシプロペニ
ル基で架橋した化合物は反応中に変化せず1反応後、そ
のまま再使用が可能である。たとえば、シクロデキスト
リンまたはシクロデキストリンの水酸基水素をヒドロキ
シプロピル基またはヒドロキシエチル基で置換した化合
物を触媒とする場合には9反応後に反応系を酸性にする
と溶解度の減少のためにシクロデキストリン、あるいは
シクロデキストリンの水酸基水素をヒドロキシプロピル
基またはヒドロキシエチル基で置換した化合物が沈澱す
る。この簡便な方法でシクロデキストリン、またはシク
ロデキストリンの水酸基水素をヒドロキシプロピル基ま
たはヒドロキシエチル基で置換した化合物の7〜9割が
回収され9回収物は完全に再使用にたえる。また。
シクロデキストリン、あるいは、シクロデキストリンの
水酸基水素をヒドロキシプロピル基またはヒドロキシエ
チル基で置換した化合物をヒドロキシプロペニル基で架
橋した化合物を使用する場合には、これが反応系に可溶
な場合には上と同様の方法で回収し再使用することが出
来る。また、これらが反応系に不溶な場合には、ろかあ
るいはデカンテーションにより、さらに簡便に触媒を分
離回収し、再使用することが出来る。
水酸基水素をヒドロキシプロピル基またはヒドロキシエ
チル基で置換した化合物をヒドロキシプロペニル基で架
橋した化合物を使用する場合には、これが反応系に可溶
な場合には上と同様の方法で回収し再使用することが出
来る。また、これらが反応系に不溶な場合には、ろかあ
るいはデカンテーションにより、さらに簡便に触媒を分
離回収し、再使用することが出来る。
次に9本発明を具体的に実施例をあげて説明するが、こ
れにより本発明を制限するものではない。
れにより本発明を制限するものではない。
〔実施例1〕
100m1の0.75規定の水酸化ナトリウム水溶液に
、フェノール0.71 g (7,5mmol :半井
化学薬品株式会社9%級試薬)およびβ−シクロデキス
トリン22.7g(20mmol:半井化学薬品株式会
社、特級試薬)を溶解し、ここに35重量%ホルムアル
デヒド水溶液2.5m1(半井化学薬品株式会社、特級
試薬)を加え、30°Cで20時間反応させた。
、フェノール0.71 g (7,5mmol :半井
化学薬品株式会社9%級試薬)およびβ−シクロデキス
トリン22.7g(20mmol:半井化学薬品株式会
社、特級試薬)を溶解し、ここに35重量%ホルムアル
デヒド水溶液2.5m1(半井化学薬品株式会社、特級
試薬)を加え、30°Cで20時間反応させた。
° その後、生成物を高速液体クロマトグラフィー(日
本分光株式会社製、 Finepak SIL C
BSカラム、カラム長10 cm ;溶離液、2:1
水−エタノール混合溶媒)で分析したところ、生成物中
のバラヒドロキシメチルフェノールはl、 4 mmo
1であり、オルトヒドロキシメチルフェノールは0、
24 mmo ! であった。すなわち、パラヒドロキ
シメチルフェノールの収率は19モモル係あり。
本分光株式会社製、 Finepak SIL C
BSカラム、カラム長10 cm ;溶離液、2:1
水−エタノール混合溶媒)で分析したところ、生成物中
のバラヒドロキシメチルフェノールはl、 4 mmo
1であり、オルトヒドロキシメチルフェノールは0、
24 mmo ! であった。すなわち、パラヒドロキ
シメチルフェノールの収率は19モモル係あり。
選択性は85%であった。
〔実施例2〕
100m1の0.75規定の水酸化ナトリウム水溶液に
、フェノール0.71 g (7,5mmol)および
α−シクロデキストリン20.9g(20mmol)を
溶解し、ここに35重量%ホルムアルデヒド水溶液2.
5mlを加え、30℃で20時間反応させた。
、フェノール0.71 g (7,5mmol)および
α−シクロデキストリン20.9g(20mmol)を
溶解し、ここに35重量%ホルムアルデヒド水溶液2.
5mlを加え、30℃で20時間反応させた。
その後、生成物を高速液体クロマトグラフィーで分析し
たところ、生成物中のバラヒドロキシメチルフェノール
は1.2 mmo lであり、オルトヒドロキシメチル
フェノールは0.46 mmo l であった。
たところ、生成物中のバラヒドロキシメチルフェノール
は1.2 mmo lであり、オルトヒドロキシメチル
フェノールは0.46 mmo l であった。
すなわち、パラヒドロキシメチルフェノールの収率は1
6モモル係あり9選択性は72チであった。
6モモル係あり9選択性は72チであった。
〔実施例3〕
50gのβ−シクロデキストリンを50%水酸化ナトリ
ウム水溶iff180ml に溶解し、磁気攪拌器で攪
拌しつつ、エビクロロヒドリン(東京化成工業株式会社
製、特級試薬)lQml を滴下し。
ウム水溶iff180ml に溶解し、磁気攪拌器で攪
拌しつつ、エビクロロヒドリン(東京化成工業株式会社
製、特級試薬)lQml を滴下し。
50°Cで40分反応させた。生成物をアセトン。
水で十分に洗浄した後、60°Cで12時間真空乾燥し
た。これが触媒である。
た。これが触媒である。
上記の方法で調製した触媒20g、フェノール0.71
g (7,5mmol )+ および35重量%ホル
ムアルデヒド水溶液2.5ml を100m1の0.7
5規定の水酸化ナトリウム溶液に加え、30℃で20時
間反応させた。
g (7,5mmol )+ および35重量%ホル
ムアルデヒド水溶液2.5ml を100m1の0.7
5規定の水酸化ナトリウム溶液に加え、30℃で20時
間反応させた。
その後、生成物を高速液体クロマトグラフィーで分析し
たところ、生成物中のバラヒドロキシメチルフェノール
は1. Q mmo lであり、オルトヒドロキシメチ
ルフェノールは0.19mmol であった。
たところ、生成物中のバラヒドロキシメチルフェノール
は1. Q mmo lであり、オルトヒドロキシメチ
ルフェノールは0.19mmol であった。
すなわチ、ハラヒドロキシメチルフェノールの収率は1
3モル係であり9選択性は84%であった。
3モル係であり9選択性は84%であった。
〔実施例4〕
1mlの0.75規定の水酸化ナトリウム溶液に。
フェノール0.7mgおよび水酸基水素をヒドロキシプ
ロピル基で置換しだβ−シクロデキストリン(平均置換
度5.8)500mg を溶解し・ ここに35重量
%ホルムアルデヒド水溶液o、2m1(半井化学薬品株
式会社、特級試薬)を加え、4℃で20時間反応さ、せ
だ。
ロピル基で置換しだβ−シクロデキストリン(平均置換
度5.8)500mg を溶解し・ ここに35重量
%ホルムアルデヒド水溶液o、2m1(半井化学薬品株
式会社、特級試薬)を加え、4℃で20時間反応さ、せ
だ。
その後、生成物を高速液体クロマトグラフィーで分析し
たところ、パラヒドロキシメチルフェノールの収率は3
.5モル係であり9選択性は93%であった。
たところ、パラヒドロキシメチルフェノールの収率は3
.5モル係であり9選択性は93%であった。
〔比較例1〕
100m1 の0.75規定の水酸化ナトリウム水溶
液に、フェノール0.71 g (7,5mmol)を
溶解し、ここに35重量係ホルムアルデヒド水溶液2、
5 m lを加え、30℃で20時間反応させた。
液に、フェノール0.71 g (7,5mmol)を
溶解し、ここに35重量係ホルムアルデヒド水溶液2、
5 m lを加え、30℃で20時間反応させた。
その後、生成物を高速液体クロマトグラフィーで分析し
たところ、生成物中のバラヒドロキシメチルフェノール
は0.24mmol でアシ、オルトヒドロキシメチル
フェノールは0.14mmol であった。すなわち、
バラヒドロキシメチルフェノールの収率は3,2モルチ
であり9選択性は63%であった0 (特許出願人 小宮山 真)
たところ、生成物中のバラヒドロキシメチルフェノール
は0.24mmol でアシ、オルトヒドロキシメチル
フェノールは0.14mmol であった。すなわち、
バラヒドロキシメチルフェノールの収率は3,2モルチ
であり9選択性は63%であった0 (特許出願人 小宮山 真)
Claims (1)
- 水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムの存在下に、フ
ェノール類に対してホルムアルデヒドを反応させるにあ
たり、シクロデキストリンあるいはシクロデキストリン
の水酸基水素をヒドロキシプロピル基またはヒドロキシ
エチル基で置換した化合物、あるいはまた、シクロデキ
ストリンあるいはシクロデキストリンの水酸基水素をヒ
ドロキシプロピル基またはヒドロキシエチル基で置換し
た化合物をヒドロキシプロペニル基で架橋した化合物を
触媒として用いることにより、パラヒドロキシメチルフ
ェノール類を高選択的に製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62265085A JPH01106833A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | パラヒドロキシメチルフェノール類の合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62265085A JPH01106833A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | パラヒドロキシメチルフェノール類の合成法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01106833A true JPH01106833A (ja) | 1989-04-24 |
Family
ID=17412390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62265085A Pending JPH01106833A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | パラヒドロキシメチルフェノール類の合成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01106833A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991018858A1 (fr) * | 1990-05-25 | 1991-12-12 | Mitsubishi Petrochemical Company Limited | Procede de para-methylolation d'un compose phenolique |
| JPH05501126A (ja) * | 1990-03-27 | 1993-03-04 | コンゾルテイウム フユール エレクトロケミツシエ インヅストリー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | シクロデキストリン重合体の製造法 |
-
1987
- 1987-10-20 JP JP62265085A patent/JPH01106833A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05501126A (ja) * | 1990-03-27 | 1993-03-04 | コンゾルテイウム フユール エレクトロケミツシエ インヅストリー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | シクロデキストリン重合体の製造法 |
| US5360899A (en) * | 1990-03-27 | 1994-11-01 | Consortium fur Elektrochemische Industries GmbH | Cyclodextrin polymers and process for their preparation |
| WO1991018858A1 (fr) * | 1990-05-25 | 1991-12-12 | Mitsubishi Petrochemical Company Limited | Procede de para-methylolation d'un compose phenolique |
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