JPH01113347A - 光学活性化合物および液晶 - Google Patents

光学活性化合物および液晶

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JPH01113347A
JPH01113347A JP62272353A JP27235387A JPH01113347A JP H01113347 A JPH01113347 A JP H01113347A JP 62272353 A JP62272353 A JP 62272353A JP 27235387 A JP27235387 A JP 27235387A JP H01113347 A JPH01113347 A JP H01113347A
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chemical formulas
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JP62272353A
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Masami Yabe
矢部 雅美
Akira Miyata
暁 宮田
Yuzo Sakurai
桜井 雄三
Kosuke Sakamoto
坂本 講輔
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な光学活性物質である光学活性44換−2
−ペンタノールから3導される新規光学活性化合物およ
び液晶に関する。
液晶には、ネマチック液晶、スメクチック液晶、コレス
テリック液晶などがあるが、本発明の光学活性4−置換
−2−ペンタノールから誘導される光学活性化合物はそ
の内スメクチック液晶、特に強誘電性を有し、表示素子
材料として有用なカイラルスメクチックC液晶である。
 また、かかるカイラルスメクチック液晶は、光プリン
ターヘッド、光フーリエ変換素子、ライトバルブ等の光
エレクトロニクス素子にも使用可能である。
〔従来の技術〕
現在広く利用されている液晶表示素子は、ネマチック液
晶組成物を用いたねじれネマチック(TN)方式である
。TN方式の液晶表示素子は、きわめて安価に製造する
ことができるが、近年要求の高まってきた大画面LCD
を実現するためにはしきい特性や応答速度などに重大な
欠点がある。
このため、TN方式に代わる液晶表示素子の研究開発が
現在活発に進められており、アクティブマトリクス方式
、スーパーTN方式などネマチック液晶組成物を使用す
る表示方式と共に、カイラルスメクチックC液晶から成
る強誘電性液晶組成物を使用する強誘電性LCDの高速
応答性が注目されている。
カイラルスメクチックC液晶は、らせん構造を有し、バ
ルク状態では自発分極がキャンセルされているが、その
らせん構造のピッチ長きよりも短いセルギャップの表面
配向処理をした液晶セル中では残留自発分極を示し、外
部電場に対して極めて早い速度(1〜100マイクロ秒
)で応答し、かつメモリー性も示す(N、A、C1ar
kらApp 1.Phys、Let t、、36,89
9(1980)参照)。
カイラルスメクチックC液晶の高速の光スイツチング現
象を利用すれば、従来のねじれネマチック型液晶表示素
子に比べて、表かに高速応答性の液晶表示素子の製作が
可能になり、大画面の液晶表示装置の実用化を図ること
ができる。
このようなカイラルスメクチックC液晶としては、p−
デシルオキシベンジリデン−p“−アミノ−2−メチル
ブチルシンナメート(以下DOBAMBCと略称する)
が最初の例である(R,B。
Meyerら J、de  Physique  3庁
、L−69(1975)参照)。
しかしながら、DOBAMBCはシッフ塩基構造を持つ
ために、水分に対して不安定であり、桂皮酸エステルの
二重結合が光に対して不安定であるという重大な欠点を
有する。 このようなり。
BAMBCの欠点を克服するために、化学的に安定なカ
イラルスメクチックC液晶の合成が試みられ、既に数多
くの化合物が報告されている。
〔発明が解決しようとする問題点3 強誘電性を示すカイラルスメクチック液晶を得るために
は、化合物中に光学活性基を含んでいることが必須であ
る。従来、強誘電性液晶合成のための不斉源としてば2
−メチルブタノールが広く用いられている。2−メチル
ブタノールはその(S)体はエタノール発酵の副産物と
して比較的容易に入手可能であるが、(R)体の合成は
困難であり、官能基が一つしかないため化学的修飾の自
由度も乏しい。2−メチルブタノール自体あるいは化学
修飾した2−メチルブタノールを不斉源とするカイラル
スメクチック液晶では、強誘電性の尺度になる自発分極
の値が小ざく、高性能の強誘電性液晶は得られていない
光学活性基の不斉中心近傍の置換基の効果は、立体的因
子と電子的因子に分けることができる。
強誘電性液晶の外部電場に対する応答速度は自発分極に
比例するので、高速応答のためには自発分極の大きな材
料が望ましい。吉野らは、立体的因子について検討し、
2−メチルブチル基に代えて1−メチルブチル基を使用
すると自発分極が増加することを見出している(Fer
roelectricsX 58.21 (1984)
)。また、大病らは自発分極の増大のためには2−オク
タツールの使用が有用であることを報告している゛(特
開昭60−149547号公報等参照)。これらの光学
活性基を使用すると自発分極は増加するもののカイラル
スメクチック液晶性が乏しくなる傾向がある。
電子的因子に対するアプローチとして、P、Kelle
rらは不斉炭素に直接塩素原子を結合きせることで不斉
炭素の分極を増大させ、カイラルスメクチック液晶の自
発分極を大きくすることが可能であると報告している(
C,R,Acad。
Sc i、Parr is、282.C639、(19
76))。また、桜井らも同様の手法を取り、更に立体
的因子も付加することによりきわめて自発分極の大きな
カイラルスメクチック液晶を得ることができると報告し
ている(特開昭60−218358号公報等参照)。野
手らは不斉炭素にフッ累原子を結合きせることによって
、自発分極の大きなカイラルスメクチック液晶が得られ
ることを報告している(特開昭62−1986a3号公
報参照)。しかし、ハロゲン原子を含む光学活性基は化
学的に不安定であり、長期信頼性が前提となる実用化に
は困難な問題が多く残されている。
C1arkらは2−アルコキシプロパツールを不斉源と
して用いている(米国特許4556727号公報参照)
。2−アルコキシプロパツール分子においては、不斉中
心に酸素原子が結合しているので2−メチルブタノール
に比べれば大きな自発分極を持つ化合物が得られるが、
立体的因子の寄与が小きいために増加の程度はそれほど
顕著ではない。
〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明者ら
は、化学的修飾が容易で自発分極の値が大きく、かつ耐
候性に優れた強誘電性液晶化合物を提供することを目的
として鋭意検討した結果、光学活性4−置換−2−ペン
タノールから誘導される次の一般式(I)で表わされる
光学活性化合物を見出し、本発明に到達した。
(式中、R1は炭素数1〜20の直鎖状アルキル基、R
2は炭素数1〜18の直鎮状アルキル基、炭素数3〜2
0の分岐状アルキル基、シクロヘキシル基、炭素数1〜
10の直鎖状あるいは分岐状アルキル基で4位が置換さ
れたシクロヘキシル基、フェニル基または炭素数1〜1
0の直鎖状あるいは分岐状アルキル基で4位が置換きれ
たフェニル基を示し、Xば単結合、−〇−1−000−
または一〇〇〇−1Yは単結合、−COO−または一0
OC−12は単結合、−〇−または一〇〇〇−を示し、
AおよびBはそれぞれ独立に単結合、舎、−S、(■旨
QΣ、X%、(厄H徳を、(可8Cγ、べrΣ(り)ト
   またμよ  替 を示し、′ば不斉炭素を示す。
Ai:たはBが芳香環を含有する場合、その水素原子の
1個または2個がハロゲン原子で置換されていてもよい
。) 一般式(I)におけるR1は炭素数1〜20の直鎮状ア
ルキル基であり、炭素数4〜16の直鎮状アルキル基が
特に好ましく使用可能である。また、−数式(I)にお
けるR2ば炭素数1〜18の直鎖状アルキル基、炭素1
1.3〜20の分岐状アルキル基、シクロヘキシル基、
4位が炭素数1〜10の直鎖状あるいは分岐状アルキル
基で置換きれたシクロヘキシル基、フェニル基または4
位が炭素数1〜10の直鎖状あるいは分岐状アルキル基
で置換されたフェニル基である。このようなR2の好ま
しい態様としては、直鎖状アルキル基としてメチル基、
エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチ
ル基、n−ヘキシル基、n−へブチル基、n−オクチル
基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、
n−ドデシル基、n−1−リゾシル基、n−テトラデシ
ル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−
ヘプタデシル基、n−オクタデシル基を挙げることがで
きる。分岐状アルキル基としては、1−メチルエチル基
、1−メチルプロピル基、2−メチルプロピル基、1.
2−ジメチルプロピル基、1−メチルブチル基、2−メ
チルブチル基、3−メチルブチル基、1.3−ジメチル
ブチル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル
基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、1
.2−ジメチルベンチル基、1.3−ジメチルペンチル
基、1.4−ジメチルペンチル基、1−メチルヘキシル
基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4
−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、1.2−
ジメチルヘキシル基、1.3−ジメチルヘキシル基、1
.4−ジメチルヘキシル基、1−メチルへブチル基、2
−メチルへブチル基、3−メチルへブチル基、4−メチ
ルへブチル基、5−メチルヘプチル基1,6−メチルへ
ブチル基、1.2−ジメチルヘプチル基、1.3−ジメ
チルへブチル基、1.4−ジメチルヘプチル基、1.5
−ジメチルへブチル基、1.6−ジメチルへブチル基、
1−メチルオクチル基、2−メチルオクチル基、3−メ
チルオクチル基、4−メチルオクチル基、5−メチルオ
クチル基、6−メチルオクチル基、7−メチルオクチル
基、1.2ジメチルオクチル基、1.3−ジメチルオク
チル基、1.4−ジメチルオクチル基、1.5−ジメチ
ルオクチル基、1.6−ジメチルオクチル基、1.7−
ジメチルオクチル基などを挙げることができる。直鎖状
アルキル基で4位が置換されたシクロヘキシル基として
は、4−メチルシクロヘキシル基、4−エチルシクロヘ
キシル基、4−n−プロピルシクロヘキシル基、4−n
−ブチルシクロヘキシル基、4−n−ペンチルシクロヘ
キシル基、4−n−へキシルシクロヘキシル基、4−n
−ヘプチルシクロヘキシル基、4−n−オクチルシクロ
ヘキシル基、4−n−ノニルシクロヘキシル基、4−n
−デシルシクロヘキシル基を挙げることができ、分岐状
アルキル基で4位が置換されたシクロヘキシル基として
は、4−(1−メチルプロピル)シクロヘキシル基、4
−(1−メチルブチル)シクロヘキシル基、4−(2−
メチルブチル)シクロヘキシル基、4−(1−メチルペ
ンチル)シクロヘキシル基、4−(2−メチルペンチル
)シクロヘキシル基、4−(3−メチルペンチル)シク
ロヘキシル基、4−(1−メチルヘキシル)シクロヘキ
シル基、4−(2−メチルヘキシル)シクロヘキシル基
、4−(3−メチルヘキシル)シクロヘキシル基、4−
(4−メチルヘキシル)シクロヘキシル基、4−(1−
メチルへブチル)シクロヘキシル基、4−(2−メチル
ヘプチル)シクロヘキシル基、4−(3−メチルへブチ
ル)シクロヘキシル基、4−(4−メチルへブチル)シ
クロヘキシル基、4−(5−メチルへブチル)シクロヘ
キシル基、4−(1−メチルオクチル)シクロヘキシル
基、4−(2−メチルオクチル)シクロヘキシル基、4
−(3−メチルオクチル)シクロヘキシル基、4−(4
−メチルオクチル)シクロヘキシル基、4−(5−メチ
ルオクチル)シクロヘキシル基、4−(6−メチルオク
チル)シクロヘキシル基などを挙げることができる。4
位がアルキル基で置換されたフェニル基の場合も同様の
構造を例示することができる。
分岐したアルキル基で光学異性体が存在する場合には、
ラセミ体と共に光学活性体も好ましく使用可能である。
本発明で使用する光学活性4−置換−2−ペンタノール
の原料である光学活性2.4−ベンタンジオールは泉ら
の方法(Chem、Let t、、1049(1979
))によって、アセチルアセトンを光学活性酒石酸で修
飾したラネーニッケル触媒を用いる不斉水添反応および
それに続く再結晶で光学的に高純度のものが合成できる
。触媒修飾剤となる酒石酸は天然型の(RR)体および
非天然型の(SS)体の両方が入手可能であるので、光
学活性2.4−ベンタンジオールも(2S、4S)体と
(2R,4R)体の両方を合成することが可能であり、
使用目的に応じて選択できる。
本発明の光学活性4−置換−2−ペンタノール(I)は
、2位と4位に近接して不斉中心か存在するために、不
斉中心近傍が立体的に混み合っており立体配座の変化が
起こり難いと考えられる。また、不斉中心が液晶分子の
骨格に近接して存在するという立体的因子と、不斉炭素
に酸素原子が直接結合しているという電子的因子の両方
を兼ね備えているので、該光学活性4−置換−2−ペン
タノールから誘導される、一般式(I)で表わされる光
学活性化合物は、非常に大きな自発分極を持つカイラル
スメクチック液晶となり得る。
一般式CI)で表ねされる光学活性化合物において、液
晶骨格構造を形成するXXY、Z、AおよびBの組み合
わせとして、下記の構造を挙げることができる。
を表わす。
R’−A−Coo−B−R” R’−A−Coo−B−OR” R’−A−Coo−B−COOR′″ R’−A−B−R” R’−A−B−OR” R1−A−B−COOR” R’−A−00C−B−R” R’−A−00C−B−OR” R’−A−00C−B−COOR’″ R’0−A−Coo−B−R1 R’0−A−Coo−B−OR” R’0−A−Coo−B−COOR” R′〇−A−B−R” R’0−A−B−OR” R’0−A−B−COOR” R”0−A−00C−B−R” R’0−A−00C−B−OR” R’0−A−00C−B−COOR” R’C0O−A−Coo−B−R” R’C0O−A−Coo−B−OR” R’C0O−A−Coo−B−COOR”R’C0O−
A−B−R” R’C0O−A−B−OR” R’C0O−A−B−COOR” R’C0O−A−00C−B−R′″ R’C0O−A−00C−B−OR” R’C0O−A−00C−B−COOR”R’0OC−
A−Coo−B−R” R’0OC−A−Coo−B−OR” R’0OC−A−Coo−B−COOR”R”0OC−
A−B−R” R’0OC−A−B−OR” R’0OC−A−B−C○○R′″ R’0OC−A−00C−B−Rt R’0OC−A−00C−B−OR” R’0OC−A−00C−B−COOR”AおよびBは
、それぞれ独立に単結合、Xφ>、−&、−=EH唖>
、+、云可H完凶、(■←fト、(H)、幡バ)、べ阪
咎 弱 または 脅 を示すが、特に好ましい組み 合わせば下記の通りである。
Y=単結合の場合 A=豊、B=−4防 A=((ぎ、B=() A=(Eヴ、B=(ト A=会、B=(ト 酔(窟B=会 A=−OH>、B=−@− A=(Qバ5k 、B=〈〉 A=()、B=−C縁) Y=−CO2−あるいは−00C−の場合A=舎、B=
(奈 A=舎、B=(cバ) A=(沢ぎ、B=合 A=舎、B=l鑵 A=舎、B=% A=(区4、B=−@− A=(刈り、B=−※ 一般式(I)におけるAおよびBが芳香環を含有する場
合、その芳香環の水素原子の1個あるいは2個がハロゲ
ン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては
、フッ素原子、塩素原子および臭素原子が好ましく使用
でき、フッ素原子が特に好ましく使用できる。適当なハ
ロゲン置換芳香環を含有する化合物においては、カイラ
ルスメクチック液晶の自発分極の増大あるいは温度範囲
の拡大などの好ましい効果が得られる。
これらの構造単位を含む光学活性化合物の合成は、当業
者周知の方法によって実施することができるが、特に本
発明者らが新たに見出した光学活性4−置換−2−ペン
タノールから誘導される光学活性部分の主なものの合成
方法を、以下に説明する。
イ)  HO+○R8 光学活性4−置換−2−ペンタノールR”OHを、有機
塩基の存在下で塩化p−トルエンスルホニルと反応させ
てI)−トルエンスルホン酸エステルとした後、ハイド
ロキノンモノベンジルエーテルのアルカリ金属塩と反応
させることにより、B n O+ OR”を得る。この
化合物をパラジウム/炭素などの水素添加触媒の存在下
で水素化分解して、光学活性ハイドロキノンモノエーテ
ルHO+OR8を得る。
口) HO−o−o−ORx 光学活性4−置換−2−ペンタノールR”OHを、有機
塩基の存在下で塩化p−トルエンスルホニルと反応させ
てp−トルエンスルホン酸エステルとした後、4.4“
−ジヒドロキシビフェニルのアルカリ金属塩と反応させ
る。反応生成物を再結晶およびカラムクロマトグラフィ
ーで精製して、目的とするHoRg)−(グーOR”を
得る。
ハ)  NoべφXC00R8 光学活性4−置換−2−ペンタノールR′″○Hを、有
機塩基の存在下でp−アセトキシ安息香酸の酸塩化物と
反応させてエステルにした後、ベンジルアミンを用いて
脱アセチル化してp−ヒドロキシ安息香酸光学活性エス
テルHO−@−COOR”を得る。
二)  HOべ答’)−R8 光学活性4−置換−2−ペンタノールを対応する臭化物
R”Brに変換し、グリニヤー試薬BnO(巨)MgB
rと反応きせて5no(φ”)−R′を合成し、イ)と
同様に水素化分解することによってHOべ亜刈R″を得
る。
本発明の光学活性化合物(i)は、構造成分としてアゾ
メチン基、アゾ基、アゾキシ基、エチニル基など、水分
や光に対して不安定な官能基を持たず、安定なエステル
構造およびエーテル構造のみから成り立っているので、
非常に優れた耐候性を有すると共に、光学活性部分の置
換基R2および液晶骨格構造の化学的修飾を最適化する
ことにより100nC/am’以上と非常に大きな自発
分極値を持つことができるので外部電場に対して高速で
反転可能である。光学活性部分の置換基R2の化学的修
飾により、低温かつ広い温度範囲でカイラルスメクチッ
ク液晶となる化合物を与えることも可能である。また、
かかる化合物は他の液晶性化合物との相互溶解性がよい
ため、液晶組成物の1成分として用いれば、液晶組成物
のカイラルスメクチックC相の液晶温度範囲の拡張や特
性向上に効果的である。単独ではスメクチックCM品と
ならない化合物も、カイラルスメクチックCFi品組成
物の1成分として好ましく使用可能である。
本発明の光学活性化合物(I)は、TN方式あるいはス
ーパーTN方式の液晶表示素子において必要なねじれ構
造を与えるための添加成分として使用することも可能で
ある。
〔実施例〕
以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定きれるものではない。
実施例中の液晶相の同定において、Ctよ結晶、■は液
体、Chはコレステリック液晶、SmAuスメクチック
八液晶、SmC”仁よりイラルスメクチックC液晶、S
mXは未同定のスメクチック液晶を表わす。
実施例1 (IR,3S)−p−n−ドデシルオキシ安息香酸4−
(4’−(1−メチル−3−プロポキシブトキシ))ピ
フェニルエステル(−数式(1)においてR’ ” C
1□H2s、R’ = Cx Hs、X=−O−1Y=
(2S、4S)−4−プロポキシ−2−ペンタノール1
4g(95,7ミリモル)と乾燥ピリジン31m1(3
83ミリモル)を乾燥した200m1フラスコに入れ、
水浴下で塩化4−トルエンスルホニル18.2 g (
95,7ミリモル)を数回に分けて添加した。添加終了
後室温で一夜攪拌し、反応生成物を3N塩酸150m1
に加えてジエチルエーテル250m1で抽出した。エー
テル層をIN塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。
硫酸マグネシウムをろ別した後にろ液を濃縮して、粗製
の(IS、3S) −p−トルエンスルホン酸1〜メチ
ル−3−プロポキシブチル、エステル23゜5gji!
得た。
次に、4.4°−ジヒドロキシピフェニル9.46g(
50,8ミリモル)とエタノール100m1および30
%水酸化カリウム水溶’e 15 gを300m1フラ
スコに入れ、80℃に加熱した後に粗製の(is、3S
) −p−1−ルエンスルホン酸1−メチルー3−プロ
ポキシブチルエステル23゜5gをエタノール40m1
に溶解した溶液を滴下し、80℃で5時間加熱攪拌した
。反応混合物を室温まで放冷した後、析出した結晶をろ
別しろ液を濃縮した。濃縮したろ液にベンゼン100m
1および酢酸エチル100m1を加えてよく攪拌した後
にろ別し、ろ液を3N塩酸次いで飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを
ろ別し、ろ液を濃縮して粗製の(IR,3S)−4−ヒ
ドロキシ−4’−(1−メチル−3−プロポキシブトキ
シ)ピフェニルを得た。
これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して
(IR,3S)−4−ヒドロキシ−4°−(1−メチル
−3−プロポキシブトキシ)ピフェニル4.5g(14
,3ミリモル)を得た。
p−n−ドデシルオキシ安息香酸708mg(2,31
ミリモル)に塩化チオニル6.2ml (85ミリモル
)を加え、2時間加熱還流した後、過剰の塩化チオニル
を留去して対応する酸塩化物を得た。
次に、(IR,3S)−4−ヒドロキシ−4゛−(1−
メチル−3−プロポキシブトキシ)ピフエニル800m
g(2,54ミリモル)と乾燥トリエチルアミン4.8
4m1 (34,7ミリモル)の混合物中にp−n−ド
デシルオキシ安息香酸塩化物をベンゼン7mlに溶解し
た溶液を水冷下で滴下した後、70℃で2時間攪拌した
。室温まで放冷し3N塩酸20m1を加えて、酢酸エチ
ル50m1で抽出し有機層をIN塩酸および飽和食塩水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸
マグネシウムをろ別した後、溶媒を留去し粗製の生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーおよびエタノー
ルからの再結晶によって精製し、(IR,3S)−p−
n−ドデシルオキシ安息香酸4−(4°−(1−メチル
−3−プロポキシブトキシ))ビフェニルエステル93
0mg(1,54ミリモル)を得た。
出発原料として使用した(2S、4S)−4−プロポキ
シ−2−ペンタノールは、下記の方法によって合成した
11のフラスコに(2S、4S)−ベンタンジオール2
8.3 g (0,27モル)、プロピオンアルデヒド
83.6ml (1,44モル)および乾燥ベンゼン3
00m1を入れ、攪拌下でp−トルエンスルホン酸54
8mg(2,88ミリモル)を添加した。
20分間攪拌を続けた後モレキュラーシーブ4A20g
を加え、更に5分間攪拌した。固体をろ別し、ろ液から
溶媒を留去した後に減圧蒸留することによって、(4S
、6S)−2−エチル−4,6−シメチルー1.3−ジ
オキサン(bp50〜51℃/14mmHg)20.7
g(144ミリモル)を得た。
塩化アルミニウム52.4g(393ミリモル)を11
のフラスコに入れて0℃に冷却した後、乾燥ジエチルエ
ーテル110m1を加えて30分間攪拌した。水素化リ
チウムアルミニウム3.62g(955ミリモル)と乾
燥ジエチルエーテル110m1の懸濁液を添加して、3
0分間攪拌を継続した後、乾燥ジエチルエーテル40m
1に溶解した(4S、6S)−2−エチル−4,6−ジ
メチル=1.3−ジオキサン20.5g(142ミリモ
ル)を滴下した。滴下終了後昇温し20分間還流して、
反応を完結させな。室温に冷却した後に水2.7ml、
10%希硫酸230m1および水80m1を順次添加し
た。エーテル層を分離した後、水層をエーテルで2回抽
出しエーテル層を集めて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液次いで飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。硫酸マグネシウムをろ別しエーテルを留去して
粗生成物を得、これを減圧蒸留して(2S、4S)−4
−プロポキシ−2−ペンタノール(bp61.5〜62
.5℃/3mmHg)19.3g(132ミリ・モル)
を得た。
得られた(IR,3S)−p−n−ドデシルオキシ安息
香酸4−(4°−(1−メチル−3−プロポキシブトキ
シ))ビフェニルエステルの赤外吸収スペクトルを第1
図に示す。また、この化合物の’HNMR(CDC13
、TMS内部標準)のδ(ppm)は下記の通りである
0.7〜2.4(36H,−CHl−および−G Hz
 )3.2〜3.8(m、3H,−OCHおよび一0C
H2−) 4.0(t12H,Ph0CHz−) 4.3〜4.9(ril 1H,Ph0CH−)6.8
〜7.7.8.05〜8.2(12H,ベンゼン環) この化合物の元素分析の結果は下記の通りであり、理論
値とよく一致した。 理論値(Cz*Hs40、として
)   C77,70% 8 9.03%分析値 C7
7,8% H9,1% 以上の分析データより、この化合物を(IR13S)−
p−n−ドデシルオキシ安息香酸4−(4°−(1−メ
チル−3−プロポキシブトキシ))ビフェニルエステル
と同定した。
この化合物の液晶相転移温度を第1表に示すが、広い温
度範囲でSmC”相を有していた。
この化合物をポリイミドを塗布しラビング処理したIT
Oガラスで構成した厚ざ10ミクロンの液晶セルに封入
し、三角波法(ピーク高ざ±20■、5Hz)で自発分
極Psの値を測定した。53℃におけるPsの値は34
nC/am”であった。
実施例2 (IR,3S) −p−n−オクチルオキシ安息香酸4
−(4°−(1−メチル−3−プロポキシブトキシ))
ビフェニルエステル(−数式(I)においテR’ = 
Ca HI 7、R2= C2Hs、X=−O−1Y=
−p−n−ドデシルオキシ安息香酸の代わりにp−n−
オクチルオキシ安息香酸を使用した以外は実施例1と全
く同様にして、(IR,3S)−p−n−オクチルオキ
シ安息香酸4−(4’−D−メチル−3−プロポキシブ
トキシ))ビフェニルエステルを合成した。
この化合物の液晶相転移温度を第1表に示す。
実施例3〜6 実施例1におけるp−n−ドデシルオキシ安息香酸を6
−n−アルコキシ−3−ピリジンカルボン酸に変更した
以外は実施例1と全く同様にして下記の化合物を合成し
た。
実施例3 (IR,3S)−6−n−A、キシルオキシ
−3−ピリジンカルボン酸4−(4°−(1−メチル−
3−プロポキシブトキシ))ビフェニルエステル(−数
式(I)においてR’ ” CG Ht i、R″−=
Cx Hs、X=−O−1Y=−COO−12=−0−
1A=会、B=n ) 実施例4(IR13S)−6−n−オクチルオキシ−3
−ピリジンカルボン酸4−(4°−(1−メチル−3−
プロポキシブトキシ))ビフェニルエステル(−数式(
I)においてR””CeH+□、R′L=C2Hs、X
=−O−1Y=−COO−12=−〇−1A=舎、B=
(バ)) 実施例5 (IR,3S、)−6−n−デシルオキシ−
3−ピリジンカルボン酸4−(4’−(1−メチル−3
−プロポキシブトキシ))ビフェニルエステル(−数式
(I)においてR’=Cl0H21、R2=CユH6、
X=−O−1Y=−COO−12=−0−1A=実施例
6 (IR,3S)−6−n−ドデシルオキシ−3−ピ
リジンカルボン酸4−(4°−(1−メチル−3−プロ
ポキシブトキシ))ビフェニルエステル(−数式CI)
においてR1=C+zHzs、R’=C=Hs、X=−
O−1Y=−COO−12=−0−1A=<ト、B=づ
H)) これらの化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトル
および’HNMRスペクトルによって行った。これらの
化合物の液晶相転移温度を第1表に示す。
実施例7 (IR,3S)−p−n−ドデシルオキシ安息香酸4−
(4°−(1−メチル−3−ペンチルオキシブトキシ)
)ビフェニルエステル(−数式(I)においてR’=C
tthHts、R′L= C4Hり、X=−O−1実施
例1における(2S、4S)−4−プロポキシ−2−ペ
ンタノールを(2S14S)−4−ペンチルオキシ−2
−ペンタノールに変更した以外は、実施例1と全く同様
にして(IR13S)−p−n−ドデシルオキシ安息香
酸4−(4’−(1−メチル−3−ペンチルオキシブト
キシ))ビフェニルエステルを合成した。また、(2S
、4S)−4−ペンチルオキシ−2−ペンタノールは、
(2S。
4S)−ベンタンジオールとバレルアルデヒドを原料と
して、実施例1におけるの全く同様にして合成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び’HNMRスペクトルによって行った。
また、この化合物の液晶相転移温度は下記の通りであり
、比較的低温域にSmC”相を有していた。
実施例8 (IR,3S)−6−n−ヘキシルオキシ−3−ピリジ
ンカルボン酸4−(4°−(1−メチル−3−ペンチル
オキシブトキシ))ビフェニルエステル(−数式(I)
においてR’ =CG HI 3、R’ = CaHs
、X=−O−1Y=−COO−12=−0−1A=量、
B=−@−@−> 実施例3における(2S、4S)−4−プロポキシ−2
−ペンタノールを(2S、4S)−4−ペンチルオキシ
−2−ペンタノールに変更した以外は、実施例3と全く
同様にして(IR,3S)−6−n−へキシルオキシ−
3−ピリジンカルボン酸4−(4°−(1−メチル−3
−ペンチルオキシブトキシ))ビフェニルエステルを合
成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び”HNMRスペクトルによって行った。
また、この化合物の融点は23℃であり、モノトロビッ
クなch相およびSmA相を示した。
実施例9 (IR,3S)−4−n−ドデシルオキシ−4゜−ビフ
ェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−プロポキシブ
トキシ)フェニルエステル(−数式%式% −ルを出発原料として実施例1におけるのと同様の方法
で(Is、3S) −p−トルエンスルホン酸1−メチ
ル−3−プロポキシブチルエステルを合成した。
次に、ハイドロキノンモノベンジルエーテル4゜5g(
22,3ミリモル)、エタノール30mおよび30%水
酸化ナトリウム水溶液2.4gの混合物を70℃に加熱
して溶解し、これに先に合成した(Is、3S)−p−
トルエンスルホン酸1−メチル−3−ブaボキシブチル
エステル6.7g(22,3ミリモル)をエタノール5
mlに溶解した溶液を滴下し、5時間加熱還流した。室
温まで放冷した後に溶媒を留去し、3N塩酸20m1を
加えて酢酸エチル100m1で抽出した。分離した有機
層をIN塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。硫酸マグネシウムをろ別し溶媒を留去して得られた
粗製の生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製して、(IR,3S)−4−ベンジルオキシフェニ
ル−(1−メチル−3−プロポキシ)ブチルエーテル3
.29g(10,0ミリモルンをt専た。
1i)(IR13S)−p−(1−メチル−3−プロポ
キシブトキシ)フェノールの合成 i)で得られた(IR,3S)−4−ベンジルオキシフ
ェニル−(1−メチル−3−プロポキシ)ブチルエーテ
ル3.21 g (9,77ミリモル)をエタノール3
0m1に溶解し、5%パラジウム炭素触媒640mgを
加え、室温で水素添加反応を行った。
触媒をろ別し溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製して(IR,3S)−p−(1−
メチル−3−ブロボキシブトキシノフェノール1.92
g(8,1ミリモル)を得た。
1ii)(IR,3S)−4−n−ドデシルオキシ−4
゛−ビフェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−プロ
ポキシブトキシ)フェニルエステルの合成 4−n−トチ゛シルオキシー4゛−ビフェニルカルボン
酸765mg(2,0ミ1ノモル)に塩化チオニル5.
4ml (74ミリモル)を加え、2時間加熱還流した
後、過剰の塩化チオニルを留去して対応する酸塩化物を
得た。
次に、(IR,3S)−p−(1−メチル−3−プロポ
キシブトキシ)フェノール500mg(2゜1ミリモル
)と乾燥トリエチルアミン4.2m1(30ミリモル)
の混合物中に、上記の4−n−トチ゛シルオキシー4゛
−ビフェニルカルボン酸塩化物をベンゼン7mlに溶解
した(8液を水冷下で滴下した後、70℃で2時間攪拌
した。室温まで放冷し3N塩酸20 m lを加えて、
酢酸エチル50m1で抽出し有機層をIN塩酸および飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。
硫酸マグネシウムをろ別した後、溶媒を留去し粗製の生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフf−およびエタ
ノールからの再結晶によって精製し、(IR,3S) 
 p−n−ドデシルオキシ−4′−ビフェニルカルボン
酸p−(1−メチル−3−プロポキシブトキシ)フェニ
ルエステル450mg(0,75ミリモル)を得た。
この化合物の赤外吸収スペクトルを第2図に示す。また
、この化合物の’HNMRスペクトル(CD Cl ]
、TMS内部標4)のδ(ppm)は下記の通りであっ
た。
0.7〜2.2(36H,−CL−および−C)(3)
3、:2−3.7(m、3H,−〇CH−および一0C
H2−) 4.0(t、2H,Ph0CH2−) 4.3〜4.8(m、LH,PhOCH−)6.8〜7
.7.8.1〜8.3(12H,ベンゼン環) この化合物の元素分析の結果は一向己の通りであり、理
論値とよく一致した。 理論値(C]9Hs405とし
て)   C77,70% 8 9.03%分析値 C
77,6%  8 9.2%以上の分析データからこの
化合物を(IR13S)−4−n−ドデシルオキシ−4
°−ビフェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−プロ
ポキシブトキシ)フェニルエステルと同定した。
この化合物の液晶相転移温度は下記の通りであり、広い
温度範囲でSmC’″相を有していた。
70’      97’      106’C−一
→SmC”−一→SmA  −一→ ■実施例10 (IR,3S)−4−n−オクチルオキシ−4゛−ビフ
ェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−プロポキシブ
トキシ)フェニルエステル(−数式%式% 実施例9における4−n−ドデシルオキシ−4゜−ビフ
ェニルカルボン酸を4−n−オクチルオキシ−4°−ビ
フェニルカルボン酸に変更した以外已よ実施例9と全く
同様にして、(IR,3S)−4−n−オクチルオキシ
−4゛−ビフェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−
プロポキシブトキシ)フェニルエステルを合成した。
この化合物の液晶相転移温度は下記の通りであった。
65@89’      121’ (:、 −)SmC’″−)SmA−〉■実施例11 (IR13S)−4−n−オクチルオキシ−4゛−ビフ
ェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−へキシルオキ
シブトキシ)フェニルエステル(−数式(I)において
R’ ” Ca Hl 7、R” = Cs H1+、
X=−〇−1Y=−COO−1z=−o−1A=−@−
@−1B=−@−) 実施例1oにおける(2S、4S)−4−プロポキシ−
2−ペンタノールを(2S、4S)−4−へキシルオキ
シ−2−ペンタノールに変更した以外は実施例10と全
く同様にして、(IR,3S)−4−n−才クチルオキ
シ−4゛−ビフェニルカルボン酸p−(1−メチル−3
−ヘキシルオキシブトキシ)フェニルエステルを合成し
た。また、(2S。
4S)−4−へキシルオキシ−2−ペンタノールは、(
2S、4S)−ベンタンジオールとヘキサナールを原料
として、実施例1におけるのと全く同様にして合成した
この化合物の液晶相転移温度は下記の通りであり、比較
的低温域でSmC”相を有していた。
12°    48°    72°    107゜
C→SmX−+SmC”→SmA→工 実施例12 (IR,3S)−p−n−ドデシルオキシ安息香酸p’
−(1−メチル−3−プロポキシブトキシ)フェニルエ
ステル(−数式(I)においてR’ = CI!H2s
、R2= Cx Hs、X=−O−1Y=−COO−1
z=−o−1A=会、B=((訓) (2S、4S)−4−プロポキシ−2−ペンタノールか
ら合成した(IR,3S)−p−(1−メチル−3−プ
ロポキシブトキシ)フェノールをp −n−ドデシルオ
キシ安息香酸塩化物と反応させることによって、(IR
13S)−p−n−ドデシルオキシ安息香ap’−(1
−メチル−3−プロポキシブトキシ)フェニルエステル
を合成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び’HNMRスペクトルによって行った。
また、この化合物の融点は14℃であり、モノトロピッ
クなSmC”相を示した。
実施例13 (Is、3S)−4−n−ドデシルオキシ−4゜−ビフ
ェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−プロポキシブ
トキシカルボニル)フェニルエステル(−数式(1)に
おいてR1=C+!Hzs、R”=C:R5、X=−O
−1Y=−COO−1z=−coo−1A=(斌伽、B
 =−@−) i)(Is、3S)−4−アセトキシ安息香酸1−メチ
ル−3−プロポキシブチルエステルの合成4−アセトキ
シ安息香酸4.49g(24,9ミリモル)に塩化チオ
ニル50m1(685ミリモル)を加えて2時間加熱還
流した後、過剰の塩化チオニルを留去して対応する酸塩
化物を得た。
次に、(2S、4S)−4−ブコボキシー2−ペンタノ
ール4g(27,4ミリモル)と乾燥トリエチルアミン
45m1 (324ミリモル)の混合物中の先に合成し
た酸塩化物をベンゼン40m1に溶解した溶液を水冷下
で滴下した後、70℃で2時間加熱攪拌した。室温まで
放冷し3N塩酸130m1を加えて、酢酸エチル200
m1で抽出した。
分離した有機層をIN塩酸、飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを
ろ別し溶媒を留去して得られた粗製の生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製して、(Is、3S
)−4−アセトキシ安息香酸1−メチル−3−プロポキ
シブチルエステル4.46g(22,5ミリモル)を得
た。
1i)(Is、3S) −4−ヒドロキシ安忍香酸1−
メチル−3−プロポキシブチルエステルの合成 i)で得られた(Is、3S)−4−アセトキシ安息香
酸1−メチル−3−プロポキシブチルエステル4.46
g(22,5ミリモル)、ベンジルアミン3.2ml 
(28,9ミリモル)およびジエチルエーテル56m1
の混合物を室温で6時間攪拌した後、3N塩酸20m1
を加えてジエチルエーテル150m1で抽出した。分離
した有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。
硫酸マグネシウムをろ別し溶媒を留去した後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製して(Is、3S)
−4−ヒドロキシ安息香酸1−メチル−3−プロポキシ
ブチルエステル3.59g(13,5ミリモル)を得た
1ii)(IS、3S)−4−n−ドデシルオキシ−4
゛−ビフェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−プロ
ポキシブトキシカルボニル)フェニルエステルの合成 4−n−ドデシルオキシ−4°−ビフェニルカルボン酸
574mg(1,5ミリモル)に塩化チオニル5.0m
l (68,5ミリモル)を加え、2時間加熱還流した
後、過剰の塩化チオニルを留去して、対応する酸塩化物
を得た。
次に、ii)で得られた(IR,3S)−4−ヒドロキ
シ安息香酸1−メチル−3−プロポキシブチルエステル
450mg(1,69ミリモル)と乾燥トリエチルアミ
ン7ml (51ミリモル)の混合物中に上記の4−n
−ドデシルオキシ−4”−ビフェニルカルボン酸塩化物
をベンゼン6mlに溶解した溶液を水冷下で滴下した後
、70℃で2時間攪拌した。室温まで放冷し3N塩酸2
0m1を加えて、酢酸エチル50m1で抽出し有機層を
IN塩酸および飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ別した後、
溶媒を留去し粗製の生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーおよびエタノールからの再結晶によって精製
し、(Is、3S)−4−n−トチ゛シルオキシー4°
−ビフェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−プロポ
キシブトキシカルボニル)フェニルエステル710mg
(1,13ミリモル)を得た。
この化合物の赤外吸収スペクトルを第3図に示す。また
、この化合物の’HNMRスペクトル(CD C13、
TMS内部標準)は下記の通りであった。
0.7〜2.0(36H1−CHz−および−CR2)
3.2〜3.7(m、3H,−OCHおよび一0CH2
−) 3.95(t、2H,Ph0CHi) 5.1〜5.6(m、LH,−COOCH−)6.85
〜7.7.8.0〜8.25(12H,ベンゼン環) この化合物の元素分析の結果は下記の通りであり、理論
値とよく一致した。 理論値(C4oH9406として
)   C76,16% H8,63%分析値 C76
,1% H8,8% 以上の分析データからこの化合物を(Is、3S)−4
−n−ドデシルオキシ−4゛−ビフェニルカルボン酸p
−(1−メチル−3−プロポキシブトキシカルボニル)
フェニルエステルと同定した。
この化合物の液晶相転移温度は下記の通りであり、広い
温度範囲でSmC”相を有していた。
66’      102°     113゜C−+
SmC″−−→SmA  −−→ I三角波法で測定し
た自発分極PsO値は、57℃において134nC/a
m2であった。
実施例14 (Is、3S)−4−n−オクチルオキシ−4゛−ビフ
ェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−プロポキシブ
トキシカルボニル)フェニルエステル(一般式(I)に
おいてR’ = Ca Hl 7、R” = CtH9
、X=−O−1Y=−COO−1z=−coo−1A=
((防(ト、B=−4防) 4−n−トチ゛シルオキシー4゛−ビフェニルカルボン
酸の代わりに4−n−オクチルオキシ−4−ビフェニル
カルボン酸を使用した以外は実施例13と全く同様にし
て、(I S、 3S)−4−n −オクチルオキシ−
4“−ビフェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−プ
ロポキシブトキシカルボニル)フェニルエステルを合成
した。
この化合物の液晶相転移温度りよ下記の通りであり、広
い温度範囲でSmC”相を有していた。
実施例15 (IS、3S)−4−n−デシル−4“−とフェニルカ
ルボン酸p−(1−メチル−3−プロポキシブトキシカ
ルボニル)フェニルエステル(−数式%式% 単結合、Y=−COO−1z=−coo−1A=((ラ
ベ互ト、B=会) 4−n−トチ゛シルオキシー4°−ビフェニルカルボン
酸の代わりに4−n−デシル−4°−ビフェニルカルボ
ン酸を使用した以外己よ実施例13と全く可様にして、
(IS、3S) −4−n−デシル−4゛−ビフェニル
カルボン酸p−(1−メチル−3−プロポキシブトキシ
カルボニル)フェニルエステルを合成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び’HNMRスペクトルによって行った。
この化合物の液晶相転移温度は下記の通りであり、低温
かつ広い温度範囲でSmC”相を有していた。
実施例16 (Is、3S)4−n−ドデシル−4′−とフェニルカ
ルボン酸p−(1−メチル−3−プロポキシブトキシカ
ルボニル)フェニルエステル(−数式%式% ルボン酸の代わりに4−n−ドデシル−4゛−ビフェニ
ルカルボン酸を使用した以外は実施例13と全く同様に
して、(IS、3S)−4−n−ドデシル−4゛−ビフ
ェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−プロポキシブ
トキシカルボニル)フェニルエステルを合成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
びIHNMRスペクトルによって行った。
この化合物の液晶相転移温度は下記の通りであり、低温
かつ広い温度範囲でSmC’″相を有していた。
この化合物の自発分極Psを三角波法で測定したところ
、26℃において114nC/cm’であった。また、
厚き2ミクロンのセルを用いて外部電場に対する応答速
度を測定した。26℃において±20V、IHzの矩形
波を印加したところ、明瞭なスイッチングが認められ、
応答時間は55マイクロ秒であった。
実施例17 (IS、3S)  p−n−ドデシルオキシ安息香酸p
’−(L−メチル−3−プロポキシブトキシカルボニル
)フェニルエステル(一般式(I)においてR’ ” 
Cl□H25、R2=C,i(S、X=−〇−1Y−−
coo−1z=−coo−1A=合、B =C)4−n
−トチ°シルオキシー4−−ビフェニルカルボン酸の代
わりにp−n−ドデシルオキシ安息香酸を使用する以外
は実施例13と全く同様にして、(Is、3S)  p
−n−ドデシルオキシ安息香酸p−(1−メチル−3−
プロポキシブトキシカルボニル)フェニルエステルを合
成した。
この化合物の融点は22℃であり、モノトロピックなS
mX相を有していた。
実施例18 (IS、3S) −4−n−ドデシルオキシ−4“−ビ
フェニルカルボン酸1−メチル−3−プロポキシブチル
エステル(−数式(I)においてR1=C1□Hzs、
R” = C2Hs、X=−O−1Y=単結合、z=−
coo−1A =−@−、B = −@−)4−n−ド
デシルオキシ−4゛−ビフェニルカルボン酸を酸塩化物
に変換した後、(2S、4S)−4−プロポキシ−2−
ペンタノールでエステル化することによって、(IS、
3S)−4−n−ドデシルオキシ−4゛−ビフェニルカ
ルボン酸1−メチル−3−プロポキシブチルエステルを
合成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び’HNMRスペクトルによって行った。
この化合物の融点は30℃であり、液晶性は示ざなかっ
た。
実施例19 (IR,3S)−4−n−オクチルオキシ−3−フルオ
ロ安息香酸4−(4’−(1−メチル−3−プロポキシ
ブトキシ))ピフェニルエステル(−数式(1)におい
てR’ = Ca Hs 7、R’ = C2Hs、B
=(欧ト) ′  実施例1におけるp−n−ドデシルオキシ安息香
酸を4−n−才クチルオキシ−3−フルオロ安息香酸に
変更した以外は実施例1と全く同様にして、(IR,3
S)−4−n−オクチルオキシ−3−フルオロ安息香酸
4−(4’−(1−メチル−3−プロポキシブトキシ)
)ビフェニルエステルを合成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び’HNMRスペクトルによって行った。
この化合物の融点は71℃であり、モノトロピックなコ
レステリック相を示した。
実施例20 (IR13S)−4−n−才クチルオキシ−3=フルオ
ロ−4゛−ビフェニルカルボン酸p−(1−メチル−3
−プロポキシブトキシ)フェニルエステル(−数式(1
)においてR’ ” Ce H工7、R2=実施例9に
おける4−n−ドデシルオキシ−4゛−ビフェニルカル
ボン酸の代わりに4−n−才クチルオキシ−3−フルオ
ロ−4′−ビフェニルカルボン酸を使用した以外は実施
例9と全く同様にして、(IR,3S)−4−n−オク
チルオキシ−3−フルオロ−4゛−ビフェニルカルボン
酸p−(1−メチル−3−プロポキシブトキシ)フェニ
ルエステルを合成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び’HNMRスペクトルによって行った。
この化合物の液晶相転移温度は下記の通りであり、非常
に広い温度範囲でSmC”相を有していた。
一50″t67”       83’C−一→SmC
”−−→SmA  −一→ I”−50℃は」!1定装
置の下限温度であり、この温度においてもSmC”状態
を示した。従って、正確な融点は不明である。
この化合物の自発分極Psを三角波法で測定した所、2
5℃において79nC/cm’であった。
また、実施例16と同様の方法で測定した応答時間は、
25℃において260マイクロ秒であった。
実施例21 (IR,3S)−4−n−オクチルオキシ−3−フルオ
ロ−4゛−ビフェニルカルボンap−(1−メチル−3
−へキシルオキシブトキシ)フェニルエステル(−数式
(I)においてR’ ” Ce H1゜、実施例20に
おける(2S、4S)−4−プロポキシ−2−ペンタノ
ールの代わりに(2S、4S)−4−へキシルオキシ−
2−ペンタノールを使用した以外は実施例20と全く同
様にして、(IR13S)−4−n−オクチルオキシ−
3−フルオロ−4°−ビフェニルカルボン酸p−(1−
メチル−3−へキシルオキシブトキシ)フェニルエステ
ルを合成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び’HNMRスペクトルによって行った。
この化合物の液晶相転移温度は下記の通りであリ、低温
かつ非常に広い温度範囲でS m C”相を有していた
−50”     48’      73゜C−→S
mC”−→SmA  −→■ ”−50℃は測定装置の下限温度であり、この温度にお
いてもSmC”状態を示した。従って、正確な融点は不
明である。
この化合物の自発分極Psを三角波法で測定した所、2
5℃において49nC/cm2であった。
また、実施例16と同様の方法で測定した応答時間は、
25℃において220マイクロ秒であった。
実施例22 (IR,3S)−4−n−オクチルオキシ−3−フルオ
ロ−4゛−ビフェニルカルボン酸p−(1−メチル−3
−エトキシブトキシ)フェニルエステル(一般式(I)
においてR’=CeH+7、R’=C実施例2oにおけ
る(2S、4S)−4−プロポキシ−2−ペンタノール
の代わりに(2S、4S)−4−二トキシ−2−ペンタ
ノールを使用した以外は実施例20と全く同様にして、
(IR,3S)−4−n−オクチルオキシ−3−フルオ
ロ−4゜−ビフェニルカルボン酸p−(1−メチル−3
−エトキシブトキシ)フェニルエステルを合成した。
また、(2S、4S)−4−エトキシ−2−ペンタノー
ルは、(2S、4S)−ベンタンジオールとアセトアル
デヒドを原料として、実施例1におけるのと全く同様に
して合成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び’HNMRスペクトルによって行った。
この化合物の液晶相転移温度は下記の通りであり、低温
かつ非常に広い温度範囲でSmC’″相を有していた。
−50”     65’      84”C−一→
SmCll−→SmA  −一→■り−50℃は測定装
置の下限温度であり、この温度においてもSmC”状態
を示した。従って、正確な融点は不明である。
実施例23 (IS、3S) −4−n−オクチルオキシ−3−フル
オロ−4°−ビフェニルカルボン酸p−(1−メチル−
3−プロポキシブトキシカルボニル)フェニルエステル
(一般式(I)においてR” =Cs実施例13におけ
る4−n−デシルオキシ−4゜−ビフェニルカルボン酸
の代わりに4−n−オクチルオキシ−3−フルオロ−4
°−ビフェニルカルボン酸を使用した以外は実施例13
と全く同様にして、(Is、3S)−4−n−才クチル
オキシ−3−フルオロ−4°−ビフェニルカルボン酸p
−(1−メチル−3−プロポキシブトキシカルボニル)
フェニルエステルを合成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び’HNMRスペクトルによって行った。
この化合物の液晶相転移温度は下記の通りであり、非常
に広い温度範囲でSmC”相を有していた。
44°     84’      107@C−一→
SmC”−−→SmA  −−→■実施例24 (Is、3S)−4−(5−へブチル−2−ピリミジル
)安息香酸1−メチル−3−プロポキシブチルエステル
(一般式(I)においてR’ =C7H□5、R’=C
tHs、X=単結合、Y=単結合、Z=−C4−(5−
へブチル−2−ピリミジル)安息香酸を酸塩化物に変換
した後、(2S、4S)−4−プロポキシ−2−ペンタ
ノールでエステル化することにより(Is、3S)−4
−(5−へブチル−2−ピリミジル)安息香酸1−メチ
ル−3−プロポキシブチルエステルを合成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び’HNMRスペクトルによって行った。
この化合物の融点は46℃であり、液晶性は示きなかっ
た。
実施例25 (IR,3S)−5−n−才クチル−2−(4−(1−
メチル−3−プロポキシブトキシ)フェニル)ピリミジ
ン(一般式(I)においてR” ” Ce H17、R
’ ” Cz H1、X=単結合、Y=単結合、Z=5
−オクチル−2−(p−ヒドロキシフェニル)ピリミジ
ン1.08g(3,81ミリモル)をエタノール10m
1に溶解し、30%水酸化ナトリウム水溶液1.3gを
加えた後、(Is、3S)−p−トルエンスルホン酸1
−メチル−3−プロポキシブチルエステル1.26g(
4,19ミリモル)をエタノール3mlに1g贋した溶
液を滴下した。4時間加熱遍流した後、室温まで放冷し
溶媒を留去した。3N塩酸10m1を加えた後、酢酸エ
チル50m1で抽出し、有機層をIN塩酸、次いで飽和
食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後
、溶媒を留去し得られた粗製の生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製することによって、目的物
である(IR13S)−5−オクチル−2−(4−(1
−メチル−3−プロポキシブトキシ)フェニル)ピリミ
ジン120mg(0゜29ミリモル)を得た。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び’HNMRスペクトルによって行った。
この化合物は室温で液体状態であり、−80’Cまで冷
却しても結晶化しなかったが、液晶性は認められなかっ
た。
実施例26 6−(p−n−ドデシルオキシフェニル)−3−ピリジ
ンカルボン酸p’−(1−メチル−3−へキシルオキシ
ブトキシカルボニル)フェニルエステル(−数式(I)
においてR””C+zH2s、R”=Cs H1r、X
=−O−1Y=−COO−12=−0−1A=(8)、
B、=−o−) 実施例11における4−n−ドデシルオキシ−4゛−ビ
フェニルカルボン酸を6−(p−n−ドデシルオキシフ
ェニル)−3−ピリジンカルボン酸に変更した以外は実
施例11と全く同様にして、6−(p−n−ドデシルオ
キシフェニル)−3−ピリジンカルボン酸p’−(1−
メチル−3−へキシルオキシブトキシカルボニル)フェ
ニルエステルを合成した。
この化合物の同定は元素分析、赤外吸収スペクトルおよ
び’HNMRスペクトルによって行った。
この化合物の液晶相転移温度は下記の通りであり、Sm
C”相を有していた。
実施例27(液晶組成物) 実施例25の化合物である(IR,3S)−5−n−オ
クチル−2−(4−(1−メチル−3−プロポキシブト
キシ)フェニル)ピリミジン10重量%、2−(4−オ
クチルオキシフェニル)−5−オクチルピリミジン49
重量%および2−(4−オクチルオキシフェニル)−5
−デシルピリミジン41重量%から成る液晶組成物を調
製した。この液晶組成物は下記の液晶相転移温度を示し
、室温域においてSmC”相を有していた。
10’      39°     61゜C−−→S
mC” −一→SmA  −一→ I(IR,3S)−
5−n−オクチル−2−(4−(1−メチル−3−プロ
ポキシブトキシ)フェニル)ピリミジン単独ではSmC
”液晶とはならないが、SmC相を有する2−(4−オ
クチルオキシフェニル)−5−オクチルピリミジンおよ
び2− (4−オクチルオキシフェニル)−5−デシル
ピリミジンと混合することによって、広い温度範囲でS
mC8相となる混合物を得ることができた。
実施例28(液晶組成物) 実施例15の化合物である(IS、3S)−4−n−デ
シル−4°−ビフェニルカルボン酸p −(1−メチル
−3−プロポキシブトキシカルボニル)フェニルエステ
ル40重量%、実施例17の化合物である(IS、3S
)  p−n−ドデシルオキシ安息香酸p−(1−メチ
ル−3−プロポキシブトキシカルボニル)フェニルエス
テル40重量%および実施例23の化合物である(IR
,3S)−4−n−才クチルオキシ−3−フルオロ−4
′−ビフェニルカルボン酸p−(1−メチル−3−プロ
ポキシブトキシカルボニル)フェニルエステル20重量
%から成る液晶組成物を調製した。この液晶組成物は下
記の液晶相転移温度を示し、室温域を含むきわめて広い
温度範囲でS m C’″相を有していた。
t)50℃は測定装置の下限温度であり、この温度にお
いてもSmC”状態を示した。従って、正確な融点は不
明である。
〔発明の効果〕
本発明によれば、光学活性4−置換−2−ペンタノール
から誘導される新規な光学活性化合物を与えることがで
きる。かかる光学活性化合物は、液晶特に強誘電性液晶
として優れた性能を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例1の化合物である(IR13S)−p
−n−ドデシルオキシ安息香酸4−(4゜−(1−メチ
ル−3−プロポキシブトキシ))ビフェニルエステルの
赤外吸収スペクトルであり、第2図は、実施例9の化合
物である(IR13S)−4−n−ドデシルオキシ−4
′−ビフェニルカルボンmp−(1−メチル−3−プロ
ポキシブトキシ)フェニルエステルの赤外吸収スペクト
ルであり、第3図は、実施例13の化合物である(Is
、3S)=4−n−ドデシルオキシ−4°−ビフェニル
カルボン酸p−(1−メチル−3−プロポキシブトキシ
カルボニル)フェニルエステルの赤外吸収スペクトルで
ある。 特7[出願大東し株式会社 四明管

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は炭素数1〜20の直鎖状アルキル基、
    R^2は炭素数1〜18の直鎖状アルキル基、炭素数3
    〜20の分岐状アルキル基、シクロヘキシル基、炭素数
    1〜10の直鎖状あるいは分岐状アルキル基で4位が置
    換されたシクロヘキシル基、フェニル基または炭素数1
    〜10の直鎖状あるいは分岐状アルキル基で4位が置換
    されたフェニル基を示し、Xは単結合、−O−、−CO
    O−または−OOC−、Yは単結合、−COO−または
    −OOC−、Zは単結合、−O−または−COO−を示
    し、AおよびBはそれぞれ独立に単結合、▲数式、化学
    式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
    す▼▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
    式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
    す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化
    学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があり
    ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
    化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
    ります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ を示し、^xは不斉炭素を示す。 AまたはBが芳香環を含有する場合、その水素原子の1
    個または2個がハロゲン原子で置換されていてもよい。 ) で表わされる光学活性化合物。
  2. (2)次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は炭素数1〜20の直鎖状アルキル基、
    R^2は炭素数1〜18の直鎖状アルキル基、炭素数3
    〜20の分岐状アルキル基、シクロヘキシル基、炭素数
    1〜10の直鎖状あるいは分岐状アルキル基で4位が置
    換されたシクロヘキシル基、フェニル基または炭素数1
    〜10の直鎖状あるいは分岐状アルキル基で4位が置換
    されたフェニル基を示し、Xは単結合、−O−、−CO
    O−または−OOC−、Yは単結合、−COO−または
    −OOC−、Zは単結合、−O−または−COO−を示
    し、AおよびBはそれぞれ独立に単結合、▲数式、化学
    式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
    す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化
    学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があり
    ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
    化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
    ります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
    、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等が
    あります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ を示し、^xは不斉炭素を示す。 AまたはBが芳香環を含有する場合、その水素原子の1
    個または2個がハロゲン原子で置換されていてもよい。 ) で表わされる光学活性化合物からなる液晶。
  3. (3)次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は炭素数1〜20の直鎖状アルキル基、
    R^2は炭素数1〜18の直鎖状アルキル基、炭素数3
    〜20の分岐状アルキル基、シクロヘキシル基、炭素数
    1〜10の直鎖状あるいは分岐状アルキル基で4位が置
    換されたシクロヘキシル基、フェニル基または炭素数1
    〜10の直鎖状あるいは分岐状アルキル基で4位が置換
    されたフェニル基を示し、Xは単結合、−O−、−CO
    O−または−OOC−、Yは単結合、−COO−または
    −OOC−、Zは単結合、−O−または−COO−を示
    し、AおよびBはそれぞれ独立に単結合、▲数式、化学
    式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
    す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化
    学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があり
    ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
    化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
    ります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
    、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等が
    あります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ を示し、^*は不斉炭素を示す。 AまたはBが芳香環を含有する場合、その水素原子の1
    個または2個がハロゲン原子で置換されていてもよい。 ) で表わされる光学活性化合物を少なくとも1種含有する
    液晶組成物。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01242542A (ja) * 1988-03-25 1989-09-27 Adeka Argus Chem Co Ltd 光学活性化合物
JPH02104562A (ja) * 1988-10-13 1990-04-17 Adeka Argus Chem Co Ltd 光学活性ビフェニル化合物および該化合物含有液晶組成物
US5948551A (en) * 1994-07-01 1999-09-07 Hoechst Aktiengesellschaft Use of conjugated compounds containing pyrimidine groups as electroluminescence materials

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01242542A (ja) * 1988-03-25 1989-09-27 Adeka Argus Chem Co Ltd 光学活性化合物
JPH02104562A (ja) * 1988-10-13 1990-04-17 Adeka Argus Chem Co Ltd 光学活性ビフェニル化合物および該化合物含有液晶組成物
US5948551A (en) * 1994-07-01 1999-09-07 Hoechst Aktiengesellschaft Use of conjugated compounds containing pyrimidine groups as electroluminescence materials

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