JPH01117860A - 安息香酸アミド誘導体 - Google Patents
安息香酸アミド誘導体Info
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- JPH01117860A JPH01117860A JP27636987A JP27636987A JPH01117860A JP H01117860 A JPH01117860 A JP H01117860A JP 27636987 A JP27636987 A JP 27636987A JP 27636987 A JP27636987 A JP 27636987A JP H01117860 A JPH01117860 A JP H01117860A
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、消化管機能亢進作用を存する新規で任用な安
息香酸アミド誘導体に関する。
息香酸アミド誘導体に関する。
従来の技術
4−アミノ−5−クロロ−N−[(2−ジエチルアミノ
)エチル]−2−メトキシベンズアミド[−船名 メト
クロプラミド;例えばMerck Indeに。
)エチル]−2−メトキシベンズアミド[−船名 メト
クロプラミド;例えばMerck Indeに。
第10版、 GO+9 (+983)参照]が1960
年代の半ばに制吐剤あるいは消化管機能亢進剤として開
発されて以来、種々の置換安息香酸アミド誘導体が合成
され、その薬理学的性質が研究されてきた(例えば特公
昭44−23498号、特開昭52−31041号、同
52−83304号、同52−83737号など参照)
。しかしながら、本発明者らの知る限りにおいて、後記
一般式(I)で表される安息香酸アミド誘導体は文献未
記峨の新規化合物である。
年代の半ばに制吐剤あるいは消化管機能亢進剤として開
発されて以来、種々の置換安息香酸アミド誘導体が合成
され、その薬理学的性質が研究されてきた(例えば特公
昭44−23498号、特開昭52−31041号、同
52−83304号、同52−83737号など参照)
。しかしながら、本発明者らの知る限りにおいて、後記
一般式(I)で表される安息香酸アミド誘導体は文献未
記峨の新規化合物である。
本発明の目的
本発明は、優れた消化管機゛能冗進作用を有する安息香
酸アミド誘導体を提供するものである。
酸アミド誘導体を提供するものである。
本発明の構成及び効果
本発明によれば、一般式(I)
口1
[式中、RIは低級アルキル基又は非置換もしくは置換
アリール(低級)アルキル基を意味し、R2はヒドロキ
シ基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ンクロアル
キルオキシ基又は置換基を有するアルコキシ基(該置換
基はハロゲン原子、ヒドロキシ基又はオキソ基である)
を意味し%R3はアミ7基、ジ置換アミン基又はアシル
アミノ基を意味し、R4はハロゲン原子を意味するか、
あるいはR3とR4が一緒になって−Nil−N=N−
を形成してもよ<、R5は水素原子又は低級アルキル基
を意味し、Xは単結合又は低級アルキレン基を意味し、
Yは単結合、 −Ci+2− 。
アリール(低級)アルキル基を意味し、R2はヒドロキ
シ基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ンクロアル
キルオキシ基又は置換基を有するアルコキシ基(該置換
基はハロゲン原子、ヒドロキシ基又はオキソ基である)
を意味し%R3はアミ7基、ジ置換アミン基又はアシル
アミノ基を意味し、R4はハロゲン原子を意味するか、
あるいはR3とR4が一緒になって−Nil−N=N−
を形成してもよ<、R5は水素原子又は低級アルキル基
を意味し、Xは単結合又は低級アルキレン基を意味し、
Yは単結合、 −Ci+2− 。
級アルキル基又は非置換もしくは置換アリール(低級)
アルキル基を意味するか、あるいはR1と一緒になって
エチレン基を形成してもよい)を意味し、nは0又は1
を意味し、破線はYが−CH2−でnが0であるときに
場合により存在する二重結合を意味する。但し、(i)
Yが単結合であるとき、nは0を意味し、(目)Yが
一〇−であるとき、nは1を意味し、(+ii) Yが
単結合又は−CH2−であるとき、RIは非置換もしく
は置換アリール(低級)アルキル基を意味し、 (iV
)nが0であるとき、Xは低級アルキレン基を意味する
。] で表される安息香酸アミド誘導体及びその酸付加塩類が
提供さ−れる。
アルキル基を意味するか、あるいはR1と一緒になって
エチレン基を形成してもよい)を意味し、nは0又は1
を意味し、破線はYが−CH2−でnが0であるときに
場合により存在する二重結合を意味する。但し、(i)
Yが単結合であるとき、nは0を意味し、(目)Yが
一〇−であるとき、nは1を意味し、(+ii) Yが
単結合又は−CH2−であるとき、RIは非置換もしく
は置換アリール(低級)アルキル基を意味し、 (iV
)nが0であるとき、Xは低級アルキレン基を意味する
。] で表される安息香酸アミド誘導体及びその酸付加塩類が
提供さ−れる。
式(1)で表される化合物の酸付加塩としては、生理的
に許容される塩類が好ましく、例えば塩酸塩、臭化水素
酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、υノ酸塩等の無am塩
、及びシュウ酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、乳酸塩
、リンゴ酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、安息香酸塩、メ
タンスルホン酸塩等の仔機酸塩が挙げられる。
に許容される塩類が好ましく、例えば塩酸塩、臭化水素
酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、υノ酸塩等の無am塩
、及びシュウ酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、乳酸塩
、リンゴ酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、安息香酸塩、メ
タンスルホン酸塩等の仔機酸塩が挙げられる。
式(I)の化合物は、少なくとも1個の不斉炭素原子を
有するので、数種の立体異性体が存在し得る。これらの
立体異性体、それらの混合物及びラセミ体は本発明の化
合物に包含される。
有するので、数種の立体異性体が存在し得る。これらの
立体異性体、それらの混合物及びラセミ体は本発明の化
合物に包含される。
本明細書における用伍を以下に説明する。
「低級」とは、特にことわらない限り、1〜6個の炭素
原子を意味する。低級アルキル基、低級アルキル部分又
は低級アルキレフ基は、直鎖状でも分枝鎖状でもよい。
原子を意味する。低級アルキル基、低級アルキル部分又
は低級アルキレフ基は、直鎖状でも分枝鎖状でもよい。
「低級アルキル基」の具体例としては、メチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、インブチル、ペン
チル、ヘキシル等が挙げられる。「非置換アリール(低
級)アルキル基」の具体例としては、べ/ジル、1−フ
ェニルエチル、2−フェニルエチル、3−フェニルプロ
ピル、4−フェニルブチル、2−ナフチルメチル等が挙
げられる。「置・換アリール(低級)アルキル基」とは
、アリール部分が1〜3個のハロゲン原子、低級アルキ
ル基、トリフルオロメチル基、低級アルコキシ基、シア
ノ基又はニトロ風で置換されているものを意味し、例え
゛ば2−.3−もしくは4−フルオロベンジル、2−、
31)しくは4−クロ自ベンジル、3−+リフルオ口メ
チルベンジル、2−.3−もしくは4−シアノベンジル
、4−クロロ−2−二トロベンジル等が挙げられる。「
アルコキシ基」とは、炭素原子1〜12のものを意味し
、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポ
キシ、ブトキシ、インブトキシ、 5ec−ブトキシ、
ベアチルオキシ、イソペンチルオキ7、ヘキシルオキシ
、インへキシルオキン、ヘプチルオキシ、オクチルオキ
シ、ノニルオキシ、デシルオキシ、つブテニルオキシ、
ドデシルオキシ等が挙げられるが、炭素原子数1〜7の
ものが特に好ましい。「アルケニルオキシ基」とは、酸
素原子に隣接する炭素原子以外の位置に二重結合を1〜
2個存する、炭素原子数3〜8のものを意味し、例えば
アリルオキシ、2−ブテニルオキシ、3−ブテニルオキ
シ、3−メチル−2−ブテニルオキシ、3−もしくは4
−べブテニルオキシ、4−もしくは5−へキセニルオキ
シ、6−へブテニルオキシ等が挙げられる。「シクロア
ルキルオキシ基」とは、炭素原子数3〜6のものを意味
し、例えばシクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキ
シ等が挙げられる。「置換基を有するアルコキシ基」と
は、任意の位置にハロゲン原子。
、プロピル、イソプロピル、ブチル、インブチル、ペン
チル、ヘキシル等が挙げられる。「非置換アリール(低
級)アルキル基」の具体例としては、べ/ジル、1−フ
ェニルエチル、2−フェニルエチル、3−フェニルプロ
ピル、4−フェニルブチル、2−ナフチルメチル等が挙
げられる。「置・換アリール(低級)アルキル基」とは
、アリール部分が1〜3個のハロゲン原子、低級アルキ
ル基、トリフルオロメチル基、低級アルコキシ基、シア
ノ基又はニトロ風で置換されているものを意味し、例え
゛ば2−.3−もしくは4−フルオロベンジル、2−、
31)しくは4−クロ自ベンジル、3−+リフルオ口メ
チルベンジル、2−.3−もしくは4−シアノベンジル
、4−クロロ−2−二トロベンジル等が挙げられる。「
アルコキシ基」とは、炭素原子1〜12のものを意味し
、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポ
キシ、ブトキシ、インブトキシ、 5ec−ブトキシ、
ベアチルオキシ、イソペンチルオキ7、ヘキシルオキシ
、インへキシルオキン、ヘプチルオキシ、オクチルオキ
シ、ノニルオキシ、デシルオキシ、つブテニルオキシ、
ドデシルオキシ等が挙げられるが、炭素原子数1〜7の
ものが特に好ましい。「アルケニルオキシ基」とは、酸
素原子に隣接する炭素原子以外の位置に二重結合を1〜
2個存する、炭素原子数3〜8のものを意味し、例えば
アリルオキシ、2−ブテニルオキシ、3−ブテニルオキ
シ、3−メチル−2−ブテニルオキシ、3−もしくは4
−べブテニルオキシ、4−もしくは5−へキセニルオキ
シ、6−へブテニルオキシ等が挙げられる。「シクロア
ルキルオキシ基」とは、炭素原子数3〜6のものを意味
し、例えばシクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキ
シ等が挙げられる。「置換基を有するアルコキシ基」と
は、任意の位置にハロゲン原子。
ヒドロキシ基又はオキソ基を1個存するアルコキシ基(
好ましくは炭素原子数6以下のもの)を意味するが、置
換基がヒドロキシ基であるとき、このノ又は1位以外の
炭素原子に結合している。具体例としては、2−クロロ
エトキシ、2−ヒドロキシプロポキシ、3−ヒドロキシ
プロポキン、2−オキンプロボキシ、3−オキソブトキ
シ等が挙げられる。「ジ置換アミ7基」の具体例として
は、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルア
ミノ、メチルプロピルアミノ、モルホリノ、1−ピロリ
ジニル、ピペリジノ、4−メチル−1−ピペラジニル等
が挙げられる。「アシルアミ7基」の具体例としては、
アセチルアミノ、プロピオニルアミ/、ブチリルアミ/
、インブチリルアミ7等が挙げられる。「ハロゲン原子
」とは、フッ素。
好ましくは炭素原子数6以下のもの)を意味するが、置
換基がヒドロキシ基であるとき、このノ又は1位以外の
炭素原子に結合している。具体例としては、2−クロロ
エトキシ、2−ヒドロキシプロポキシ、3−ヒドロキシ
プロポキン、2−オキンプロボキシ、3−オキソブトキ
シ等が挙げられる。「ジ置換アミ7基」の具体例として
は、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルア
ミノ、メチルプロピルアミノ、モルホリノ、1−ピロリ
ジニル、ピペリジノ、4−メチル−1−ピペラジニル等
が挙げられる。「アシルアミ7基」の具体例としては、
アセチルアミノ、プロピオニルアミ/、ブチリルアミ/
、インブチリルアミ7等が挙げられる。「ハロゲン原子
」とは、フッ素。
塩素、臭素、ヨウ素を意味する。「低級アルキレフ基」
の具体例としては、メチレン、エチレン。
の具体例としては、メチレン、エチレン。
メヂルメチレ/、トリメチレン、プロピレン、ジメチル
メチレ/、テトラメチレ/、ペンタメチレン、ヘキサメ
チレフ等が挙げられる。
メチレ/、テトラメチレ/、ペンタメチレン、ヘキサメ
チレフ等が挙げられる。
本発明の化合物のうちで好適なものとして、−般式(■
′) (式中、RI′はベンジル基、フルオロベンジル基。
′) (式中、RI′はベンジル基、フルオロベンジル基。
クロロベンジルM、)リフルオロメチルベンジル基又は
シアノベンジル基を意味し、R2′は炭素原子数1〜7
のアルコキシ基、3−ブテニルオキシ基、3−メチル−
2−ブテニルオキシ基。
シアノベンジル基を意味し、R2′は炭素原子数1〜7
のアルコキシ基、3−ブテニルオキシ基、3−メチル−
2−ブテニルオキシ基。
シクロペンチルオキシ基、2−りpロエトキシ基、2−
ヒドロキシプロポキシ基又は2−オキンプロボキシ基を
意味し、R3′はアミ7基、ジメチルアミ7基又は炭素
原子数2〜4のアルカノイルアミ7基を意味し、Rs′
は水素原子又はメチル基を意味する。) で表される化合物及びその生理的に許容される酸付加塩
類が挙げられる。
ヒドロキシプロポキシ基又は2−オキンプロボキシ基を
意味し、R3′はアミ7基、ジメチルアミ7基又は炭素
原子数2〜4のアルカノイルアミ7基を意味し、Rs′
は水素原子又はメチル基を意味する。) で表される化合物及びその生理的に許容される酸付加塩
類が挙げられる。
好適な別の本発明化合物として、一般式(■#)(式中
、R+’、 R2’及びR3′は前掲に同じものを意味
し、Y′は一〇−又は−S−を意味する。)で表される
化合物及びその生理的に許容される酸付加塩類が挙げら
れる。
、R+’、 R2’及びR3′は前掲に同じものを意味
し、Y′は一〇−又は−S−を意味する。)で表される
化合物及びその生理的に許容される酸付加塩類が挙げら
れる。
好適な更に別の本発明化合物として、一般式(式中、R
lZ R1’及びnは前掲に同じものを意味し、R1#
及びRII′は同−又は異なって、炭素原子数1〜4の
アルキル基、べ/ジル基、フルオロベ/ジル基、クロロ
ベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基又はシアノ
ベンジル基を意味し、R2′は炭素原子数1〜7のアル
コキシ基。
lZ R1’及びnは前掲に同じものを意味し、R1#
及びRII′は同−又は異なって、炭素原子数1〜4の
アルキル基、べ/ジル基、フルオロベ/ジル基、クロロ
ベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基又はシアノ
ベンジル基を意味し、R2′は炭素原子数1〜7のアル
コキシ基。
3−ブテニルオキシ基、3−メチル−2−ブテニルオキ
シ基、シクロベ/チルオキシ基、2−クロロエトキシ基
、2−ヒドロキシプロポキシ基又は2−オキソプロポキ
シ基を意味し、X′はnが0のときメチレン基を、nが
1のとき単結合を意味する。) で表される化合物及びその生理的に許容される酸付加塩
類が挙げられる。
シ基、シクロベ/チルオキシ基、2−クロロエトキシ基
、2−ヒドロキシプロポキシ基又は2−オキソプロポキ
シ基を意味し、X′はnが0のときメチレン基を、nが
1のとき単結合を意味する。) で表される化合物及びその生理的に許容される酸付加塩
類が挙げられる。
本発明の化合物は、例えば以下の方法により製造するこ
とができる。
とができる。
一般式(II)
(式中、Rz、 Ra及びR4は前掲に同じものを意味
する。) で表される化合物又はその反応性誘導体と、一般式(I
II) (式中、R+、 Rs、 X、 Y、 n及び破線は
前掲に同じものを意味する。) で表される化合物とを反応させることにより、式(1)
で表される化合物を得ることができる。
する。) で表される化合物又はその反応性誘導体と、一般式(I
II) (式中、R+、 Rs、 X、 Y、 n及び破線は
前掲に同じものを意味する。) で表される化合物とを反応させることにより、式(1)
で表される化合物を得ることができる。
式(11)の化合物の反応性誘導体としては、例えば低
級アルキルエステル、活性エステル、酸無水物、酸ハラ
イド(特に酸クロリド)等を挙げることができる。活性
エステルの具体例としてはp−ニトロフェニルエステル
、^4,5−)リクロ口フェニルエステル、ペンタクロ
ロフェニルエステル、シアノメチルエステル、N−ヒド
ロキシコハク酸イミドエステル、N−ヒドロキシフタル
イミドエステル、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−
2,3−ジカルボキシイミドエステル、N−ヒドロキシ
ピペリジンエステル、8−ヒドロキシキノリンエステル
、2−ヒドロキシフェニルエステル。
級アルキルエステル、活性エステル、酸無水物、酸ハラ
イド(特に酸クロリド)等を挙げることができる。活性
エステルの具体例としてはp−ニトロフェニルエステル
、^4,5−)リクロ口フェニルエステル、ペンタクロ
ロフェニルエステル、シアノメチルエステル、N−ヒド
ロキシコハク酸イミドエステル、N−ヒドロキシフタル
イミドエステル、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−
2,3−ジカルボキシイミドエステル、N−ヒドロキシ
ピペリジンエステル、8−ヒドロキシキノリンエステル
、2−ヒドロキシフェニルエステル。
2−ヒドロキシ−4,5−ジクーロフェニルエステル、
2−ヒドロキシピリジンエステル、2−ピリジルチオー
ルエステル等が挙げられる。酸無水物としては、対称酸
無水物又は混合酸無水物が用いられ、混合酸無水物の具
体例としてはクロル炭酸エチル、クロル炭酸インブチル
のようなりロル炭酸アルキルエステルとの混合酸無水物
、クロル炭酸べエチルのようなりロル炭酸アラルキルエ
ステルとの混合酸無水物、クロル炭酸フェニルのような
りロル炭酸アリールエステルとの混合酸無水物、イソ吉
草酸、ピバリン酸のようなアルカン酸との混合酸無水物
等が挙げられる。
2−ヒドロキシピリジンエステル、2−ピリジルチオー
ルエステル等が挙げられる。酸無水物としては、対称酸
無水物又は混合酸無水物が用いられ、混合酸無水物の具
体例としてはクロル炭酸エチル、クロル炭酸インブチル
のようなりロル炭酸アルキルエステルとの混合酸無水物
、クロル炭酸べエチルのようなりロル炭酸アラルキルエ
ステルとの混合酸無水物、クロル炭酸フェニルのような
りロル炭酸アリールエステルとの混合酸無水物、イソ吉
草酸、ピバリン酸のようなアルカン酸との混合酸無水物
等が挙げられる。
式(■)の化合物を用いる場合には、ジシクロへキシル
カルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミ
/プロピル)カルボジイミド塩酸lu、N+N’−カル
ボニルジイミダゾール、1−エトキシカルボニル−2−
エトキシ−1,2−ジヒドロキノリンのような縮合剤の
存在下に反応させることができる。縮合剤としてジシク
ロへキシルカルボジイミド又は1−エチル−3−(3−
ジメチル7ミノプロビル)カルボジイミド塩酸塩を用い
る場合には、N−ヒドロキシコハク酸イミド、1−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール、3−ヒドロキシ−4−オキ
ソ−3,4−ジヒドロ−1,2,3−ベンゾトリアジン
、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−Z3−ジカルボ
キシイミド等を添加して反応させてもよい。
カルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミ
/プロピル)カルボジイミド塩酸lu、N+N’−カル
ボニルジイミダゾール、1−エトキシカルボニル−2−
エトキシ−1,2−ジヒドロキノリンのような縮合剤の
存在下に反応させることができる。縮合剤としてジシク
ロへキシルカルボジイミド又は1−エチル−3−(3−
ジメチル7ミノプロビル)カルボジイミド塩酸塩を用い
る場合には、N−ヒドロキシコハク酸イミド、1−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール、3−ヒドロキシ−4−オキ
ソ−3,4−ジヒドロ−1,2,3−ベンゾトリアジン
、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−Z3−ジカルボ
キシイミド等を添加して反応させてもよい。
式(II)の化合物又はその反応性v#誘導体式(Il
l)の化合物との反応は、溶媒中又は無溶媒下に行われ
る。使用する溶媒は、原料化合物のU類等に従って適宜
選択されるべきであるが、例えばベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素、類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類、塩化メチレン、クロロホルムのようなハロゲン化炭
化水素類、酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール
、水等が挙げられ、これらの溶媒はそれぞれ単独で、あ
るいは2種以上混合して用いられる。本反応は必要に応
じて塩基の存在下に行われ、塩基の具体例としては、重
炭酸ナトリウム+ffr炭酸カリウムのような重炭酸ア
ルカリ、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸ア
ルカリあるいはトリエチルアミン、トリブチルアミ/l
ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン
のような「機塩基が挙げられるが、式(Ill)の化合
物の過剰■で兼ねることもできる。反応温度は用いる原
料化合物のa類等により異なるが、通常約−30℃ない
し約200℃、好ましくは約〜lO℃ないし約150℃
である。
l)の化合物との反応は、溶媒中又は無溶媒下に行われ
る。使用する溶媒は、原料化合物のU類等に従って適宜
選択されるべきであるが、例えばベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素、類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類、塩化メチレン、クロロホルムのようなハロゲン化炭
化水素類、酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール
、水等が挙げられ、これらの溶媒はそれぞれ単独で、あ
るいは2種以上混合して用いられる。本反応は必要に応
じて塩基の存在下に行われ、塩基の具体例としては、重
炭酸ナトリウム+ffr炭酸カリウムのような重炭酸ア
ルカリ、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸ア
ルカリあるいはトリエチルアミン、トリブチルアミ/l
ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン
のような「機塩基が挙げられるが、式(Ill)の化合
物の過剰■で兼ねることもできる。反応温度は用いる原
料化合物のa類等により異なるが、通常約−30℃ない
し約200℃、好ましくは約〜lO℃ないし約150℃
である。
上記製法により生成する化合物は、クロマトグラフィー
、再結晶、再沈殿等の常法により単層。
、再結晶、再沈殿等の常法により単層。
精製される。
式(I)の化合物は、原料化合物の選定1反応・処理条
件等により、遊離塩基又は酸付加塩の形で得られる。酸
付加塩は、常法、例えば炭酸アルカリ、水酸化アルカリ
のような塩基で処理することにより、遊離塩基に変える
ことができる。一方、遊離塩基は、常法に従って各種の
酸と処理することにより酸付加塩に埠(ことができる。
件等により、遊離塩基又は酸付加塩の形で得られる。酸
付加塩は、常法、例えば炭酸アルカリ、水酸化アルカリ
のような塩基で処理することにより、遊離塩基に変える
ことができる。一方、遊離塩基は、常法に従って各種の
酸と処理することにより酸付加塩に埠(ことができる。
以下に、本発明の代表的化合物並びに市販の消化管機能
亢進剤であるメトクロプラミド塩酸塩1永和物について
の薬理試験の結果を示し、本発明の化合物の薬理作用を
説明する。
亢進剤であるメトクロプラミド塩酸塩1永和物について
の薬理試験の結果を示し、本発明の化合物の薬理作用を
説明する。
試験例1 胃排出能冗進作用
本試験は、Scarpignatoらの方法[^rch
、 !nt。
、 !nt。
Pharmacodyn、、 240.288〜294
(+980)参照]に準じて行った。ウィスター系雄
性ラット(体frl130〜150g)を18時間絶食
した後、フェノールレッドを0.05%の割合で含有す
る1、5Xメチルセルロース溶液1.5■1を経口投与
した。投与15分後に胃を摘出し、胃内に残存するフェ
ノールレッド量を測、定した。なお、試験化合物は0.
5%トラガ/ト溶液に演解又はF!濁し、フェノールレ
ッド投与の60分前に経口投与した。胃内残存フェノー
ルレッド量に基づいて胃排出率を算出し、更に対照群の
胃排出率と比較して亢進率を求めた。使用した動物数は
対照・群及びメトクロプロマミド塩酸塩l水和物投与群
についでは5匹、それ以外は4匹である。
(+980)参照]に準じて行った。ウィスター系雄
性ラット(体frl130〜150g)を18時間絶食
した後、フェノールレッドを0.05%の割合で含有す
る1、5Xメチルセルロース溶液1.5■1を経口投与
した。投与15分後に胃を摘出し、胃内に残存するフェ
ノールレッド量を測、定した。なお、試験化合物は0.
5%トラガ/ト溶液に演解又はF!濁し、フェノールレ
ッド投与の60分前に経口投与した。胃内残存フェノー
ルレッド量に基づいて胃排出率を算出し、更に対照群の
胃排出率と比較して亢進率を求めた。使用した動物数は
対照・群及びメトクロプロマミド塩酸塩l水和物投与群
についでは5匹、それ以外は4匹である。
結果を表1に示す。
表 1 胃排出能冗進作用
0) 実施例1の化合物を意味する(以下同じ)。
上記試験結果から明らかなように、式(I)の化合物及
びその生理的に許容される酸付加塩類は、優れた消化管
機能亢進作用を有するので、制吐剤あるいは消化管機能
亢進剤として、急・慢性胃炎。
びその生理的に許容される酸付加塩類は、優れた消化管
機能亢進作用を有するので、制吐剤あるいは消化管機能
亢進剤として、急・慢性胃炎。
胃・十二指腸in瘍、胃神軽症、胃下垂などの疾患にお
ける食欲不振、悪心、嘔吐、腹部膨膚感等の治療及び予
防に、また食道・胆道系疾患2便秘症の治療及び予防に
用いることができる。更にまた、シスプラチンのような
抗癌剤投与時の悪心、嘔吐の治療及び予防にも用いるこ
とができる。その投与経路としては、経口投与、非経口
投与あるいは直腸内投与のいずれでもよい。投与量は、
化合物の81類、投与方法、患者の症状・年令等により
異なるが、通常0.001〜20* /ks 7日、好
ましくは0.004〜5■/hg/日である1式(■)
°の化合物又はその塩は通常、製剤用担体と混合して調
製した製剤の形で投与される。製剤用担体としては、製
剤分野において常用され、かつ式(りの化合物又はその
塩と反応しない物質が用いられる。具体的には、例えば
乳糖、ブドウ糖、マンニット、シクロデキストリ/lデ
7ブン、白糖、結晶セルロース、ゼラヂン、アラビアゴ
ム、ヒドロ牛ジプロピルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロース。
ける食欲不振、悪心、嘔吐、腹部膨膚感等の治療及び予
防に、また食道・胆道系疾患2便秘症の治療及び予防に
用いることができる。更にまた、シスプラチンのような
抗癌剤投与時の悪心、嘔吐の治療及び予防にも用いるこ
とができる。その投与経路としては、経口投与、非経口
投与あるいは直腸内投与のいずれでもよい。投与量は、
化合物の81類、投与方法、患者の症状・年令等により
異なるが、通常0.001〜20* /ks 7日、好
ましくは0.004〜5■/hg/日である1式(■)
°の化合物又はその塩は通常、製剤用担体と混合して調
製した製剤の形で投与される。製剤用担体としては、製
剤分野において常用され、かつ式(りの化合物又はその
塩と反応しない物質が用いられる。具体的には、例えば
乳糖、ブドウ糖、マンニット、シクロデキストリ/lデ
7ブン、白糖、結晶セルロース、ゼラヂン、アラビアゴ
ム、ヒドロ牛ジプロピルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロース。
軽質無水ケイ酸、ステアリン酸マグネシウム、タルク、
トラガント、酸化チタン、ソルビタン脂肪酸エステル、
植物油、水等が挙げられる。剤型としては、錠剤、カプ
セル剤、顆粒剤、細粒剤、散剤、シロップ剤、懸濁剤、
注射剤、串刺等が挙げられる。これらの製剤は常法に従
って調製される。
トラガント、酸化チタン、ソルビタン脂肪酸エステル、
植物油、水等が挙げられる。剤型としては、錠剤、カプ
セル剤、顆粒剤、細粒剤、散剤、シロップ剤、懸濁剤、
注射剤、串刺等が挙げられる。これらの製剤は常法に従
って調製される。
これらの製剤はまた、治療上価値ある他の成分を含存し
ていてもよい、。
ていてもよい、。
本発明を更に具体的に説明するために、以下に参考例及
び実施例を挙げるが、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。なお、化合物の同定は元素分析値、マ
ス・スペクトル、 IRスペクトル、NMRスペクト
ル等により行った。
び実施例を挙げるが、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。なお、化合物の同定は元素分析値、マ
ス・スペクトル、 IRスペクトル、NMRスペクト
ル等により行った。
参考例1
4−ベンジル−2−エトキシカルボニル−5,6−シヒ
ドロー1.4−チアジンの製造:水素化ナトリウム8.
1 gの無水テトラヒドロフラフ33011jj濁液中
に室温下、5yntheS+s、 088〜090 (
+984)に記αの方法に従って合成した、2−エトキ
シカルボニル− 4−チアジン32.1gを滴下する。室温で30分撹拌
した後、水冷しながら臭化ベンジル31.7gを滴下す
る。反応液を室温に戻して3時間撹拌した後、テトラヒ
ドロフランを留去する,残渣を酢酸エチルに溶解し、水
洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を留去
する。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーに
付し、クロロホルムで溶出・精製して目的物49gを得
る。
ドロー1.4−チアジンの製造:水素化ナトリウム8.
1 gの無水テトラヒドロフラフ33011jj濁液中
に室温下、5yntheS+s、 088〜090 (
+984)に記αの方法に従って合成した、2−エトキ
シカルボニル− 4−チアジン32.1gを滴下する。室温で30分撹拌
した後、水冷しながら臭化ベンジル31.7gを滴下す
る。反応液を室温に戻して3時間撹拌した後、テトラヒ
ドロフランを留去する,残渣を酢酸エチルに溶解し、水
洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を留去
する。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーに
付し、クロロホルムで溶出・精製して目的物49gを得
る。
参考例2
4−ベンジル−2−ヒドロキシメチル−1,4−チオモ
ルホリンの製造: 水素化アルミニウムリチウム7、2gを無水テトラヒド
ロフラ:/200mlに懸濁し、水冷下4ーベンジルー
2ーエトキシカルボニル−5,6−ジヒドロ−1,4−
チアジン25gの無水テトラヒドロフラン50−1溶液
を滴下する。滴下終了後、室温で18時間撹拌した後、
氷玲しながら酢酸エチル、続いて水。
ルホリンの製造: 水素化アルミニウムリチウム7、2gを無水テトラヒド
ロフラ:/200mlに懸濁し、水冷下4ーベンジルー
2ーエトキシカルボニル−5,6−ジヒドロ−1,4−
チアジン25gの無水テトラヒドロフラン50−1溶液
を滴下する。滴下終了後、室温で18時間撹拌した後、
氷玲しながら酢酸エチル、続いて水。
水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出する
。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥したのち溶媒を留去する。残渣をシリカゲルのカ
ラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノ
ール(50:1)で溶出・精製して目的物5.8gを得
る。
。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥したのち溶媒を留去する。残渣をシリカゲルのカ
ラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノ
ール(50:1)で溶出・精製して目的物5.8gを得
る。
参考例3
4−ベンジル−2−クロロメチル−1,4−チオモルホ
リンの製造: 4−ベアジル−2−ヒドロキシメチル−1.4−チオモ
ルホリン10.0gをクロロホルム100■1に溶解し
、水冷しながら塩化チオニルI1gを加え、20分加熱
還流する。溶媒を留去し、残渣を飽和重炭酸す)リウム
水溶液で中和し、クロロホルムで抽出する。有機層を水
洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を留去
する。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーに
付し、ヘキサン−クロロホルム(1 : 1)で溶出・
精製して目的物0.8 gを得る。
リンの製造: 4−ベアジル−2−ヒドロキシメチル−1.4−チオモ
ルホリン10.0gをクロロホルム100■1に溶解し
、水冷しながら塩化チオニルI1gを加え、20分加熱
還流する。溶媒を留去し、残渣を飽和重炭酸す)リウム
水溶液で中和し、クロロホルムで抽出する。有機層を水
洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を留去
する。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーに
付し、ヘキサン−クロロホルム(1 : 1)で溶出・
精製して目的物0.8 gを得る。
参考例4
2−アセチルアミノメチル−4−べ/ジルー1。
4−チオモルホリンの製造:
i) 4−ベンジル−2−クロロメチル−1,4ーチ
オモルホリン6.8gをアセトニトリル1001に溶解
し、ナトリウムアジド3.7gを加えたのち2時間加熱
還流する。冷浸、溶媒を留去し、残渣をクロロホルムに
溶解する。クロロホルム溶液を水洗し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥したのち濃縮して、2−アジドメチル−4
−ベンジル−1.4−チオモルホリフ7、0gtl−得
る。
オモルホリン6.8gをアセトニトリル1001に溶解
し、ナトリウムアジド3.7gを加えたのち2時間加熱
還流する。冷浸、溶媒を留去し、残渣をクロロホルムに
溶解する。クロロホルム溶液を水洗し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥したのち濃縮して、2−アジドメチル−4
−ベンジル−1.4−チオモルホリフ7、0gtl−得
る。
ii)上J己アジドメチル体7.0gをトルエン701
に溶解し、水冷下70%水素化ビス(2−メトキシエト
キシ)アルミニウムナトリウム18gを少しずつ加える
。水冷下2.5時間撹拌したのち反応液を氷水中にあけ
、48%水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルム
で抽出する。育vA層を水洗し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥したのち無水酢a15.7gを加え、室温で3時
間撹拌する.反応液を48%水酸化ナトリウム水溶液、
次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥したのち溶媒を留去する。残渣をシリカゲルのカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール
(20:1)で溶出・精製して目的物5.8gを得る。
に溶解し、水冷下70%水素化ビス(2−メトキシエト
キシ)アルミニウムナトリウム18gを少しずつ加える
。水冷下2.5時間撹拌したのち反応液を氷水中にあけ
、48%水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルム
で抽出する。育vA層を水洗し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥したのち無水酢a15.7gを加え、室温で3時
間撹拌する.反応液を48%水酸化ナトリウム水溶液、
次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥したのち溶媒を留去する。残渣をシリカゲルのカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール
(20:1)で溶出・精製して目的物5.8gを得る。
参考例5
3−アミノメチル−1−ベンジルピペリジンの製造:
水素化リチウムアルミニウム4.0gの無水Tトラヒド
ロフラ’20011!!濁液中に、1−ベンジル−3−
力ルバモイルビベリジン11.4gの無水テトラヒドロ
フラノ200■I溶液を少しずつ滴下する。
ロフラ’20011!!濁液中に、1−ベンジル−3−
力ルバモイルビベリジン11.4gの無水テトラヒドロ
フラノ200■I溶液を少しずつ滴下する。
l4下終了後、4.5時間撹拌しながら加熱還流する。
室温まで戻した後、反応液に希水酸化ナトリウム水溶液
を注意深く加えて過剰の水素化リチウムアルミニウムを
分解する。不溶物を濾去し、溶媒を留去したのちクロロ
ホルムで抽出する。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去
して油状の目的物8.0gを得る。
を注意深く加えて過剰の水素化リチウムアルミニウムを
分解する。不溶物を濾去し、溶媒を留去したのちクロロ
ホルムで抽出する。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去
して油状の目的物8.0gを得る。
参考例6
3−アミノメチル−1−ベンジル−1,ス5,6−チト
ラヒドロピリジンの製造: ■)3−アセチルアミノメチル−1−ベンジルピリジニ
ウム クロリド10.Ogをメタノール301と水80
1の混液に加え、水冷下撹拌しながら水素化ホウ素ナト
リウム6.3gを少しずつ加える。還元剤を加え終わっ
た後、室温で18時間撹拌する。
ラヒドロピリジンの製造: ■)3−アセチルアミノメチル−1−ベンジルピリジニ
ウム クロリド10.Ogをメタノール301と水80
1の混液に加え、水冷下撹拌しながら水素化ホウ素ナト
リウム6.3gを少しずつ加える。還元剤を加え終わっ
た後、室温で18時間撹拌する。
反応液に希塩酸を少しずつ加えて過剰の水素化ホウ素ナ
トリウームを分解した後、希水酸化ナトリウム水溶液で
アルカリ性とし、クロロホルムで抽出する。を機層を水
洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を留去
する。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーに
付し、クロロホルム−メタノール(50:1)で6出・
精製して、油状の3−アセチルアミノメチル−1−ベン
ジル−1、2,5,G−テトラヒドロピリジン5.0g
を得る。
トリウームを分解した後、希水酸化ナトリウム水溶液で
アルカリ性とし、クロロホルムで抽出する。を機層を水
洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を留去
する。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーに
付し、クロロホルム−メタノール(50:1)で6出・
精製して、油状の3−アセチルアミノメチル−1−ベン
ジル−1、2,5,G−テトラヒドロピリジン5.0g
を得る。
■)上記テトラヒドロピリジン体5.0gに10%塩#
75m1を加え、撹拌しながら5時間加熱還流する。冷
浸、反応液を20%水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ
性とし、クロロホルムで抽出する。有機層を水洗し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して油状
の目的物3.8gを得る。
75m1を加え、撹拌しながら5時間加熱還流する。冷
浸、反応液を20%水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ
性とし、クロロホルムで抽出する。有機層を水洗し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して油状
の目的物3.8gを得る。
これを常法によりマレイン酸で処理して目的物のシマレ
イン酸塩を得る。融点155〜157℃(エタノールか
ら再結晶) 参考例7 2−アジドメチル−1,4−ジエチルピペラジンの製造
: 11elv、 Chin、^cta、 45.2383
〜2402 (19G2)に記載の方法に従って合成し
た、1,4−ジエチル−2−ヒドロキシメチルピペラジ
ン27gをクロロホルム270■1に溶解し、水冷上塩
化チオニル27gを加えた後、撹拌しながら30分加熱
還流する。冷浸、溶媒を留去し、飽和重炭酸ナトリウム
水溶液で中和したのちクロロホルムで抽出する。有機層
を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を
留去して、2−クロロメチル−1,4−ジエチルピペラ
ジンを得る。これをアセトニトリル270■1に溶解し
、ナトリウムアジド20gを加え、撹拌しながら2時間
加熱還流する。冷浸、溶媒を留去し、残渣をクロロホル
ムに溶解する。クロロホルム溶液を水洗し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して油状の目的物
15gを得る。
イン酸塩を得る。融点155〜157℃(エタノールか
ら再結晶) 参考例7 2−アジドメチル−1,4−ジエチルピペラジンの製造
: 11elv、 Chin、^cta、 45.2383
〜2402 (19G2)に記載の方法に従って合成し
た、1,4−ジエチル−2−ヒドロキシメチルピペラジ
ン27gをクロロホルム270■1に溶解し、水冷上塩
化チオニル27gを加えた後、撹拌しながら30分加熱
還流する。冷浸、溶媒を留去し、飽和重炭酸ナトリウム
水溶液で中和したのちクロロホルムで抽出する。有機層
を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を
留去して、2−クロロメチル−1,4−ジエチルピペラ
ジンを得る。これをアセトニトリル270■1に溶解し
、ナトリウムアジド20gを加え、撹拌しながら2時間
加熱還流する。冷浸、溶媒を留去し、残渣をクロロホル
ムに溶解する。クロロホルム溶液を水洗し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して油状の目的物
15gを得る。
参考例8
2−アミノメチル−1,4−ジエチルピペラジンの製造
: 2−アジドメチル−1,4−ジエチルピペラジン15g
をトルエン150■Iに溶解し、水冷下70%水素化ビ
ス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム3
4gを少しずつ加える。水冷しながら5時間撹拌後、反
応液を氷水中にあけ、48%水酸化ナトリウム水溶液を
加えたのち有機層を分離する。
: 2−アジドメチル−1,4−ジエチルピペラジン15g
をトルエン150■Iに溶解し、水冷下70%水素化ビ
ス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム3
4gを少しずつ加える。水冷しながら5時間撹拌後、反
応液を氷水中にあけ、48%水酸化ナトリウム水溶液を
加えたのち有機層を分離する。
存a届を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち
溶媒を留去して油状の目的物11gを得る。
溶媒を留去して油状の目的物11gを得る。
参考例9
6−アセチルアミノ−4−ベンジル−ヘキサヒドロ−1
,4−チアゼピンの製造: +) J、 Med、 Pharm、 C
hew、、 2. 553〜5G2 (1960)
に記αの方法に従って合成した、3−エトキシカルボニ
ル−1,4−チオモルホリン18.0gをメチルエチル
ケトン1701に溶解し、臭化ベンジル17.8gと炭
酸カリウム11.0.gを加え、撹拌しながら1.5時
間加0還流する。不溶物を濾去しd液を濃縮し、残渣に
酢酸エチルを加える。この溶液を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥したのち溶媒を留去する。残渣をシリカ
ゲルのカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−ク
ロロホルム(1: 1)で溶出・精製して4−ベンジル
−3−エトキシカルボニル−1,4−チオモルホリン2
0.5gを得る。
,4−チアゼピンの製造: +) J、 Med、 Pharm、 C
hew、、 2. 553〜5G2 (1960)
に記αの方法に従って合成した、3−エトキシカルボニ
ル−1,4−チオモルホリン18.0gをメチルエチル
ケトン1701に溶解し、臭化ベンジル17.8gと炭
酸カリウム11.0.gを加え、撹拌しながら1.5時
間加0還流する。不溶物を濾去しd液を濃縮し、残渣に
酢酸エチルを加える。この溶液を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥したのち溶媒を留去する。残渣をシリカ
ゲルのカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−ク
ロロホルム(1: 1)で溶出・精製して4−ベンジル
−3−エトキシカルボニル−1,4−チオモルホリン2
0.5gを得る。
it)上3己ベンジル体20.5gをトルエフ200m
1に溶解し、水冷下70%水素化ビス(2−メトキシエ
トキシ)アルミニウムナトリウム44.0gを少しずつ
加え、室墨に戻して一夜撹拌する。反応液を氷水中にあ
け、48%水酸化ナトリウム水溶液を加え、トルエンで
抽出する。WaSを水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥したのち溶媒を留去する。残渣をシリカゲルのカラム
クロマトグラフィーに付し、クロ四ホルムーメタノール
(50:1)で溶出・精製して4−ベンジル−3−ヒド
ロキシメチル−!、4−チオモルホリン13.9gを得
る。
1に溶解し、水冷下70%水素化ビス(2−メトキシエ
トキシ)アルミニウムナトリウム44.0gを少しずつ
加え、室墨に戻して一夜撹拌する。反応液を氷水中にあ
け、48%水酸化ナトリウム水溶液を加え、トルエンで
抽出する。WaSを水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥したのち溶媒を留去する。残渣をシリカゲルのカラム
クロマトグラフィーに付し、クロ四ホルムーメタノール
(50:1)で溶出・精製して4−ベンジル−3−ヒド
ロキシメチル−!、4−チオモルホリン13.9gを得
る。
目i)上記ヒドロキシメチル体13.9gをクロロホル
ム150■1に溶解し、水冷下、塩化チオニル14gを
加える。20分加熱還流した後、溶媒を留去し、残渣を
飽和重炭酸ナトリウム水溶液で中和し、クロロホルムで
抽出する。育機居を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥したのち溶媒を留去する。
ム150■1に溶解し、水冷下、塩化チオニル14gを
加える。20分加熱還流した後、溶媒を留去し、残渣を
飽和重炭酸ナトリウム水溶液で中和し、クロロホルムで
抽出する。育機居を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥したのち溶媒を留去する。
残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーに付シ、
ヘキサン−クロロホルム(1: 1)で溶出・精製して
、4−ベンジル−3−クロロメチル−1゜4−チオモル
ホリン14.6gを得る。
ヘキサン−クロロホルム(1: 1)で溶出・精製して
、4−ベンジル−3−クロロメチル−1゜4−チオモル
ホリン14.6gを得る。
+V)上記クロロメチル体8.0gをアセトニトリル8
01に溶解し、ナトリウムアジド4.3gを加え、1j
2r′P、シながら2時間加熱還流する。溶媒を留去し
、残渣に酢酸エチルを加え、水洗し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥したのち溶媒を留去する。残渣にトルエン5
01を加え、水冷下、70%水素化ビス(2−メトキシ
エトキシ)アルミニウムナトリウム9.8gを少しずつ
加えたのち3時間撹拌する。反応液を氷水中にあけ、4
8%水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽
出する。有vA層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後無水酢酸4.9gを加え、室温で1時間撹拌す
る0反応液を48%水酸化ナトリウム水溶液、次いで水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を
留去する。
01に溶解し、ナトリウムアジド4.3gを加え、1j
2r′P、シながら2時間加熱還流する。溶媒を留去し
、残渣に酢酸エチルを加え、水洗し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥したのち溶媒を留去する。残渣にトルエン5
01を加え、水冷下、70%水素化ビス(2−メトキシ
エトキシ)アルミニウムナトリウム9.8gを少しずつ
加えたのち3時間撹拌する。反応液を氷水中にあけ、4
8%水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽
出する。有vA層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後無水酢酸4.9gを加え、室温で1時間撹拌す
る0反応液を48%水酸化ナトリウム水溶液、次いで水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を
留去する。
残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーに付し、
クロロホルム−メタノール(40:1)で溶出・精製し
て、目的物2.6gと3−アセチルアミノメチル−4−
べ/ジルー1,4−チオモルホリフ3.1gを得る。
クロロホルム−メタノール(40:1)で溶出・精製し
て、目的物2.6gと3−アセチルアミノメチル−4−
べ/ジルー1,4−チオモルホリフ3.1gを得る。
参考例10
6−アセチルアミノ−4−ベンジル−ヘキサヒドロ−1
,4−オキサゼピンの製造: J、 Chew、 Soc、、 Perkin Tra
ns、 I 、 547〜551(1987)に記Uの
方法に従って合成した、4−ベンジル−3−クロロメチ
ルモルホリン5.1 gをアセトニトリル501に溶解
し、ナトリウムアジド3.Ogを加え、撹拌しな、がら
3時間加熱還流する。溶媒を留去し、残渣にクロロホル
ムを加え、水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したの
ち溶媒を留去する。残渣にトルエン501を加え、水冷
下、70%水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミ
ニウムナトリウム11.5gを少しずつ加えたのち水冷
下に3時間撹拌する0反応液にエタノール、次いで氷水
と48%水酸化ナトリウム水溶液を加える。トルエン層
を分離し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥したのち溶媒を留去する。
,4−オキサゼピンの製造: J、 Chew、 Soc、、 Perkin Tra
ns、 I 、 547〜551(1987)に記Uの
方法に従って合成した、4−ベンジル−3−クロロメチ
ルモルホリン5.1 gをアセトニトリル501に溶解
し、ナトリウムアジド3.Ogを加え、撹拌しな、がら
3時間加熱還流する。溶媒を留去し、残渣にクロロホル
ムを加え、水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したの
ち溶媒を留去する。残渣にトルエン501を加え、水冷
下、70%水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミ
ニウムナトリウム11.5gを少しずつ加えたのち水冷
下に3時間撹拌する0反応液にエタノール、次いで氷水
と48%水酸化ナトリウム水溶液を加える。トルエン層
を分離し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥したのち溶媒を留去する。
残渣をクロロホルム5011に溶解し、無水酢酸番、O
gを加え、室温で14時間撹拌する。反応液に氷水と4
8%水酸化ナトリウム水溶液を加えてui丑し、を機巧
を分離する。これを飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥したのち溶媒を留去する。残渣を中圧シ
リカゲルカラムクロマトクラフィーに付し、酢酸エチル
−ヘキサン(5:1)で溶出・精製して、目的物1.2
gと3−アセチルアミノメチル−4−ベンジルモルホリ
ン2.8gを得る。
gを加え、室温で14時間撹拌する。反応液に氷水と4
8%水酸化ナトリウム水溶液を加えてui丑し、を機巧
を分離する。これを飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥したのち溶媒を留去する。残渣を中圧シ
リカゲルカラムクロマトクラフィーに付し、酢酸エチル
−ヘキサン(5:1)で溶出・精製して、目的物1.2
gと3−アセチルアミノメチル−4−ベンジルモルホリ
ン2.8gを得る。
参考例11
2−7セチルアミノメチルー1,4−ジベンジル゛ ピ
ペラジン及び6−アセチルアミノ−1,4−ジベンジル
−へキサヒドロ−1,4−ジアゼピンの製造:11el
v、 Chil、 ^cta、 45. 2
3113〜2402 (1902) に 3己社の
方法に従って合成した、2−クロロメチル−1,4−ジ
ベンジルピペラジy7.5gをアセトニトリル751に
溶解し、ナトリウムアジド3.1 gを加え、撹拌しな
がら3時間加熱還流する。冷浸、不溶物を濾去し濾液を
濃縮する。残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗し、無水硫
酸マグネシウムを乾燥した後、溶媒を留去して油状物6
.8gを得る。これをトールエン701に溶解し、水冷
下撹拌しながら70%水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)アルミニウムナトリウム12.5 gを少しずつ加
える。室温で1時間撹拌した後、エタノールと48%水
fi 化ナトリウム水rB液を加える。トルエン層を分
子liシ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥したのち溶媒を留去する。残渣をクロロホルム5
01に溶解し、無水酢酸↓、4gを加えて室温で8時間
撹拌する。反応液を20%水酸化ナトリウム水、i8液
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
留去して油状物6.5gを得る。これを中圧シリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−へ牛サ
ン(5:1)で溶出・精製して、6−アセヂルアミノー
1.4−ジベンジル−へキサヒドロ−1,4−ジアゼピ
ン1.3gと2−アセチルアミノメチル−1,4−ジベ
ンジルピペラジン3.5gを得る。
ペラジン及び6−アセチルアミノ−1,4−ジベンジル
−へキサヒドロ−1,4−ジアゼピンの製造:11el
v、 Chil、 ^cta、 45. 2
3113〜2402 (1902) に 3己社の
方法に従って合成した、2−クロロメチル−1,4−ジ
ベンジルピペラジy7.5gをアセトニトリル751に
溶解し、ナトリウムアジド3.1 gを加え、撹拌しな
がら3時間加熱還流する。冷浸、不溶物を濾去し濾液を
濃縮する。残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗し、無水硫
酸マグネシウムを乾燥した後、溶媒を留去して油状物6
.8gを得る。これをトールエン701に溶解し、水冷
下撹拌しながら70%水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)アルミニウムナトリウム12.5 gを少しずつ加
える。室温で1時間撹拌した後、エタノールと48%水
fi 化ナトリウム水rB液を加える。トルエン層を分
子liシ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥したのち溶媒を留去する。残渣をクロロホルム5
01に溶解し、無水酢酸↓、4gを加えて室温で8時間
撹拌する。反応液を20%水酸化ナトリウム水、i8液
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
留去して油状物6.5gを得る。これを中圧シリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−へ牛サ
ン(5:1)で溶出・精製して、6−アセヂルアミノー
1.4−ジベンジル−へキサヒドロ−1,4−ジアゼピ
ン1.3gと2−アセチルアミノメチル−1,4−ジベ
ンジルピペラジン3.5gを得る。
実施例1
4−アミノ−N−[(4−ベンジル−1,4−チオモル
ホリン−2−イル)メチル]−5−クロロー2−エトキ
シベンズアミドの製造: 2−アセチルアミノメチル−4−ベンジル−1゜4−チ
オモルホリン3.6gを10%塩酸361に溶解し、4
時間加熱還流する。冷暖、48%水酸化ナトリウム水溶
液でアルカリ性とし、クロロホルムで抽出する。有機層
を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
留去して油状物2.5gを得る。これを塩化メチレン3
0−1に溶解し、4−アミノ−5−クロロ−2−エトキ
シ安息香ff12.4gとl−エチル−3−(3−ジメ
チルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩2.2gを
加え、室温で2時間撹拌する。反応液を水洗し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を留去する。残渣を
メタノールから再結晶して目的物の1/4水和物2.8
gを得る。融点133〜135℃実施例2 4−アミノ−N−[(4−ベンジル−1,4−チオモル
ホリ/−2−イル)メチル]−5−クロロー2−メトキ
ンベンズアミドの製造: 実施例1における4−アミノ−5−クロロ−2−エトキ
シ安息香酸の代りに4−アミノ−5−クロロ−2−メト
キシ安息香酸を用い、実施例1と同様に反応・処理して
目的物の1/4水和物を得る。
ホリン−2−イル)メチル]−5−クロロー2−エトキ
シベンズアミドの製造: 2−アセチルアミノメチル−4−ベンジル−1゜4−チ
オモルホリン3.6gを10%塩酸361に溶解し、4
時間加熱還流する。冷暖、48%水酸化ナトリウム水溶
液でアルカリ性とし、クロロホルムで抽出する。有機層
を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
留去して油状物2.5gを得る。これを塩化メチレン3
0−1に溶解し、4−アミノ−5−クロロ−2−エトキ
シ安息香ff12.4gとl−エチル−3−(3−ジメ
チルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩2.2gを
加え、室温で2時間撹拌する。反応液を水洗し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を留去する。残渣を
メタノールから再結晶して目的物の1/4水和物2.8
gを得る。融点133〜135℃実施例2 4−アミノ−N−[(4−ベンジル−1,4−チオモル
ホリ/−2−イル)メチル]−5−クロロー2−メトキ
ンベンズアミドの製造: 実施例1における4−アミノ−5−クロロ−2−エトキ
シ安息香酸の代りに4−アミノ−5−クロロ−2−メト
キシ安息香酸を用い、実施例1と同様に反応・処理して
目的物の1/4水和物を得る。
a点132〜134℃(メタノール−ジエチルエーテル
から再結晶) 実施例3 4−アミノ−N−(4−ベンジル−ヘキサヒドロ−1,
4−チアゼピン−6−イル)−5−クロロ−2−エトキ
シベンズアミドの製造: 実施例1における2−アセチルアミ/メチル−4−ベン
ジル−1,4−チオモルホリンの代りに6−アセチルア
ミノ−4−ベンジル−ヘキサヒドロ−1,4−チアゼピ
ンを用い、実施例1と同様に反応・処理して目的物を得
る。これを常法によりフマル酸で処理して目的物の37
2フマル酸塩・1/2水和物を得る。融点92〜95℃
(酢酸エチルから再結晶) 実施例4 4−アミノ−5−クロロ−N−(1,4−ジベンジル−
へキサヒドロ−1,4−ジアゼピン−6−イル)−2−
エトキシベンズアミドの製造:実施例1における2−ア
セチルアミノメチル−4−ベンジル−1,4−チオモル
ホリンの代りに6−アセチルアミノ−1,4−ジベンジ
ル−へキサヒドロ−1,4−ジアゼピンを用い、実施例
1と同様に反応・処理して目的物の172水和物を得る
。
から再結晶) 実施例3 4−アミノ−N−(4−ベンジル−ヘキサヒドロ−1,
4−チアゼピン−6−イル)−5−クロロ−2−エトキ
シベンズアミドの製造: 実施例1における2−アセチルアミ/メチル−4−ベン
ジル−1,4−チオモルホリンの代りに6−アセチルア
ミノ−4−ベンジル−ヘキサヒドロ−1,4−チアゼピ
ンを用い、実施例1と同様に反応・処理して目的物を得
る。これを常法によりフマル酸で処理して目的物の37
2フマル酸塩・1/2水和物を得る。融点92〜95℃
(酢酸エチルから再結晶) 実施例4 4−アミノ−5−クロロ−N−(1,4−ジベンジル−
へキサヒドロ−1,4−ジアゼピン−6−イル)−2−
エトキシベンズアミドの製造:実施例1における2−ア
セチルアミノメチル−4−ベンジル−1,4−チオモル
ホリンの代りに6−アセチルアミノ−1,4−ジベンジ
ル−へキサヒドロ−1,4−ジアゼピンを用い、実施例
1と同様に反応・処理して目的物の172水和物を得る
。
融点135〜137℃(エタノールから再結晶)実施例
5 4−アミノ−N−(4−ベンジル−ヘキサヒドロ−1,
4−オキサゼピン−6−イル)−5−クロロ−2−エト
キシベンズアミドの製造:実施例1における2−アセチ
ルアミノメチル−4−ベンジル−1,4−チオモルホリ
ンの代りに6−アセチルアミノ−4−ベンジル−ヘキサ
ヒドロ−1,4−オキサゼピ/を用い、実施例1と同様
に反応・処理して目的物を得る。これを常法によりフマ
ル酸で処理して目的物のフマル酸塩を得る。
5 4−アミノ−N−(4−ベンジル−ヘキサヒドロ−1,
4−オキサゼピン−6−イル)−5−クロロ−2−エト
キシベンズアミドの製造:実施例1における2−アセチ
ルアミノメチル−4−ベンジル−1,4−チオモルホリ
ンの代りに6−アセチルアミノ−4−ベンジル−ヘキサ
ヒドロ−1,4−オキサゼピ/を用い、実施例1と同様
に反応・処理して目的物を得る。これを常法によりフマ
ル酸で処理して目的物のフマル酸塩を得る。
融点137〜138℃(エタノールから再結晶)実施例
6 5− [N−(4−ベンジル−へキサヒドロ−1゜4−
チアゼピン−6−イル)]]カルバモイルー6−メドキ
シーIH−ベンゾトリアゾールの製造:実施例1におけ
る2−アセチルアミノメチル−4−ベンジル−1,4−
チオモルホリンと4−7ミノー5−クロロ−2−エトキ
シ安息香酸の代りにそれぞれ、6−アセチルアミノ−4
−ベンジル−ヘキサヒドロ−1,4−チアゼピンと5−
カルボキシ−6−メドキシー1 )1−ベンゾトリアゾ
ールを用い、実施例1と同様に反応・処理して目的物を
得る。これを常法によりフマル酸で処理して目的物の3
12フマル酸塩・1 /4 EtOH−1/4水和物を
得る。融点165〜108℃(エタノールから再結晶) 実施例7 4−アミノ−N−[(1−ベンジル−3−ピペリジル)
メチルコー5−クロロー2−エトキシベ/ズアミドの製
造: 3−アミノメチル−1−ベンジルピペリジン2.4gの
塩化メチレノ501溶液に、4−アミノ−5−クロロ−
2−エトキシ安息香酸2.5g、次いで1−エチル−3
−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸
塩2.3gを加え、室温で4ri1間撹拌する0反応液
を水、水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を留
去する。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー
に付し、クロロホルム−メタノール(9: 1) テ溶
出・精製する。得られる油吠の目的物3.0gをエタノ
ールに溶解し、シュウ酸のエタノール溶液を加えて室温
で放置すると目的物の3/2シユウ酸塩・3/4 〜水
和物が得られる。融点103〜105℃(エタノールか
ら再結晶) 実施例8 4−アミノ−5−クロロ−N−[(1,4−ジエチル−
2−ピペラジニル)メチル]−2−エトキシベンズアミ
ドの製造: 実施例7における3−アミノメチル−1−ベンジルピペ
リジンの代りに2−アミノメチル−1,4−ジエチルビ
ベラジンを用い、実施例7と同様に反応・処理して目的
物を得る。これを常法によりフマル酸で処理して目的物
のフマル酸塩を得る。
6 5− [N−(4−ベンジル−へキサヒドロ−1゜4−
チアゼピン−6−イル)]]カルバモイルー6−メドキ
シーIH−ベンゾトリアゾールの製造:実施例1におけ
る2−アセチルアミノメチル−4−ベンジル−1,4−
チオモルホリンと4−7ミノー5−クロロ−2−エトキ
シ安息香酸の代りにそれぞれ、6−アセチルアミノ−4
−ベンジル−ヘキサヒドロ−1,4−チアゼピンと5−
カルボキシ−6−メドキシー1 )1−ベンゾトリアゾ
ールを用い、実施例1と同様に反応・処理して目的物を
得る。これを常法によりフマル酸で処理して目的物の3
12フマル酸塩・1 /4 EtOH−1/4水和物を
得る。融点165〜108℃(エタノールから再結晶) 実施例7 4−アミノ−N−[(1−ベンジル−3−ピペリジル)
メチルコー5−クロロー2−エトキシベ/ズアミドの製
造: 3−アミノメチル−1−ベンジルピペリジン2.4gの
塩化メチレノ501溶液に、4−アミノ−5−クロロ−
2−エトキシ安息香酸2.5g、次いで1−エチル−3
−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸
塩2.3gを加え、室温で4ri1間撹拌する0反応液
を水、水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒を留
去する。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー
に付し、クロロホルム−メタノール(9: 1) テ溶
出・精製する。得られる油吠の目的物3.0gをエタノ
ールに溶解し、シュウ酸のエタノール溶液を加えて室温
で放置すると目的物の3/2シユウ酸塩・3/4 〜水
和物が得られる。融点103〜105℃(エタノールか
ら再結晶) 実施例8 4−アミノ−5−クロロ−N−[(1,4−ジエチル−
2−ピペラジニル)メチル]−2−エトキシベンズアミ
ドの製造: 実施例7における3−アミノメチル−1−ベンジルピペ
リジンの代りに2−アミノメチル−1,4−ジエチルビ
ベラジンを用い、実施例7と同様に反応・処理して目的
物を得る。これを常法によりフマル酸で処理して目的物
のフマル酸塩を得る。
融点208〜210℃(メタノールから再結晶)実施例
9 4−アミノ−N−[(1−ベンジル−4−メチル−2−
ピペラジニル)メチル]−5−クロロー2−エトキシベ
/ズアミドの製造: 実施例7における3−アミノメチル−1−べ/ジルピペ
リジンの代りに2−アミノメチル−1−ベンジル−4−
メチルピペラジンを用い、実施例7と同様に反応・処理
して目的物を得る。
9 4−アミノ−N−[(1−ベンジル−4−メチル−2−
ピペラジニル)メチル]−5−クロロー2−エトキシベ
/ズアミドの製造: 実施例7における3−アミノメチル−1−べ/ジルピペ
リジンの代りに2−アミノメチル−1−ベンジル−4−
メチルピペラジンを用い、実施例7と同様に反応・処理
して目的物を得る。
融点199〜201’C(エタノールから再結晶)実施
例10 4−アミノ−5−りC’0−N−[(1,4−ジベ/ジ
ル−2−ピペラジニル)メチル]−2−メトキシベンズ
アミドの製造: 実施例7における3−アミノメチル−1−ベンジルピペ
リジンと4−アミノ−5−クロロ−2−エトキシ安息香
酸の代りにそれぞれ、2−アミノメチル−1,4−ジベ
ンジルピペラジンと4−アミノ−5−クロロ−2−メト
キシ安息香酸を用い、実施例7と同様に反応・処理して
目的物のシュウ酸塩・1水和物を得る。融点103〜1
10℃(エタノール−ジエチルエーテルから再結晶)実
施例11 4−アミノ−5−クロロ−N−[(1,4−ジベンジル
−2−ピペラジニル)メチル]−2−エトキシベンズア
ミドの製造: 実施例7における3−アミノメチル−1−ベンジルピペ
リジンの代りに2−アミノメチル−1,4−ジベンジル
ピペラジ/を用い、実施例7と同様に反応・処理して目
的物のシュウ酸塩・1水和物を得る。 融点98〜10
2℃(エタノール−ジエチルエーテルから再結晶) 実施例12 4−アミノ−N−[(1−ベンジル−3−ピペリジル)
メチル]−5−クロロー2−メトキシベンズアミドの製
造: 実施例7における4−アミノ−5−クロロ−2−エトキ
シ安息香酸の代りに4−アミノ−5−クロロ−2−メト
キシ安息香酸を用い、実施例7と同様に反応・処理して
目的物の3/2シユウ酸塩・1水和物を得る。融点10
4〜107℃(エタノールから再結晶) 実施例13 4−アミノ−N−[(1−ベンジル−1,2,5,8−
テトラヒドロピリジン−3−イル)メチル]−5−クロ
ロー2−エトキシベンズアミドの製造:実施例7におけ
る3−アミノメチル−1−ベンジルピペリジンの代りに
3−アミノメチル−1−ベンジル−1,2,5,8−テ
トラヒドロピリジンを用い、実施例7と同様に反応・処
理して目的物を得る。融点+44− +47°C(エタ
ノール−トルエンから再結晶) 実施例14 4−アミノ−N−[(1−ベンジル−1,、2,5,6
−テトラヒドロピリジン−3−イル)メチル]−5−ク
ロロー2−メトキシベンズアミドの製造:実施例7にお
ける3−アミ/メチル−1−べ/ジルピペリジンと4−
アミノ−5−クロロ−2−エトキシ安息香酸の代りにそ
れぞれ、3−アミノメチル−1−ベンジル−1,2,5
,6−テトラヒドロピリジンと4−アミノ−5−クロロ
−2−メトキシ安息香酸を用い、実施例7と同様に反応
・処理して目的物を得る。融点147〜150℃(エタ
ノール−トルエンから再結晶) 実施例15〜19 対応する原料化合物を用い、実施例7と同様に反応・処
理して表2に示す化合物を得る。
例10 4−アミノ−5−りC’0−N−[(1,4−ジベ/ジ
ル−2−ピペラジニル)メチル]−2−メトキシベンズ
アミドの製造: 実施例7における3−アミノメチル−1−ベンジルピペ
リジンと4−アミノ−5−クロロ−2−エトキシ安息香
酸の代りにそれぞれ、2−アミノメチル−1,4−ジベ
ンジルピペラジンと4−アミノ−5−クロロ−2−メト
キシ安息香酸を用い、実施例7と同様に反応・処理して
目的物のシュウ酸塩・1水和物を得る。融点103〜1
10℃(エタノール−ジエチルエーテルから再結晶)実
施例11 4−アミノ−5−クロロ−N−[(1,4−ジベンジル
−2−ピペラジニル)メチル]−2−エトキシベンズア
ミドの製造: 実施例7における3−アミノメチル−1−ベンジルピペ
リジンの代りに2−アミノメチル−1,4−ジベンジル
ピペラジ/を用い、実施例7と同様に反応・処理して目
的物のシュウ酸塩・1水和物を得る。 融点98〜10
2℃(エタノール−ジエチルエーテルから再結晶) 実施例12 4−アミノ−N−[(1−ベンジル−3−ピペリジル)
メチル]−5−クロロー2−メトキシベンズアミドの製
造: 実施例7における4−アミノ−5−クロロ−2−エトキ
シ安息香酸の代りに4−アミノ−5−クロロ−2−メト
キシ安息香酸を用い、実施例7と同様に反応・処理して
目的物の3/2シユウ酸塩・1水和物を得る。融点10
4〜107℃(エタノールから再結晶) 実施例13 4−アミノ−N−[(1−ベンジル−1,2,5,8−
テトラヒドロピリジン−3−イル)メチル]−5−クロ
ロー2−エトキシベンズアミドの製造:実施例7におけ
る3−アミノメチル−1−ベンジルピペリジンの代りに
3−アミノメチル−1−ベンジル−1,2,5,8−テ
トラヒドロピリジンを用い、実施例7と同様に反応・処
理して目的物を得る。融点+44− +47°C(エタ
ノール−トルエンから再結晶) 実施例14 4−アミノ−N−[(1−ベンジル−1,、2,5,6
−テトラヒドロピリジン−3−イル)メチル]−5−ク
ロロー2−メトキシベンズアミドの製造:実施例7にお
ける3−アミ/メチル−1−べ/ジルピペリジンと4−
アミノ−5−クロロ−2−エトキシ安息香酸の代りにそ
れぞれ、3−アミノメチル−1−ベンジル−1,2,5
,6−テトラヒドロピリジンと4−アミノ−5−クロロ
−2−メトキシ安息香酸を用い、実施例7と同様に反応
・処理して目的物を得る。融点147〜150℃(エタ
ノール−トルエンから再結晶) 実施例15〜19 対応する原料化合物を用い、実施例7と同様に反応・処
理して表2に示す化合物を得る。
表2において記載の簡略化のために以下の略号を使用す
る。
る。
Me :メチル基
Et:エチル基
Ph:フェニル基
A :エタノール
IP :イソプロビルアルコール
M :メタノール
(以下余白)
表2
H2Ph
′) R4の立体配!(相対)ニドランス1) マス・
スベク) ルm/ z : 415 (M” )”’)
R4の立体配二(相対)、シス実施例20 4−アミノ−N −[(4−ベンジル−1,4−チオモ
ルホリ/−1−オキシド−2−イル)メチル]−5−ク
ロロー2−エトキシベンズアミドの製造=4−アミノ−
N−[(4−べ/ジルー1,4−チオモルホリンー2−
イル)メチル]−5−クロロー2−エトキンベ/ズアミ
ド1.1 gを塩化メチレン201に溶解し、食塩−水
で冷却しながら、m−クロ口過安息香110.02gを
加え、1時間撹拌する。
スベク) ルm/ z : 415 (M” )”’)
R4の立体配二(相対)、シス実施例20 4−アミノ−N −[(4−ベンジル−1,4−チオモ
ルホリ/−1−オキシド−2−イル)メチル]−5−ク
ロロー2−エトキシベンズアミドの製造=4−アミノ−
N−[(4−べ/ジルー1,4−チオモルホリンー2−
イル)メチル]−5−クロロー2−エトキンベ/ズアミ
ド1.1 gを塩化メチレン201に溶解し、食塩−水
で冷却しながら、m−クロ口過安息香110.02gを
加え、1時間撹拌する。
反応液に飽和重炭酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホ
ルムで抽出する。打機層を水洗し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥したのち溶媒を留去する。
ルムで抽出する。打機層を水洗し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥したのち溶媒を留去する。
残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーに付し、
クロロホルム−メタノール(20:1)で溶出・精製し
、得られる油状物をイソプロピルアルコールから再結晶
して目的物0.3gを得る。
クロロホルム−メタノール(20:1)で溶出・精製し
、得られる油状物をイソプロピルアルコールから再結晶
して目的物0.3gを得る。
融点193〜195℃
実施例21
4−アミノ−N−[(4−ベンジル−1,4−チオモル
ホリン−1,1−ジオキシド−2−イル)メヂル]−5
−クロロー2−エトキシベンズアミドの製造: 4−アミノ−N −[(4−ベンジル−1,4−チオモ
ルホリン−2−イル)メチルゴー5−クロI′j−2−
エトキシベンズアミド0.5gを塩化メチレン10■I
に溶解し、水冷下m−クロロ過安息香酸0.45gを加
え、室温に戻し17時間撹拌する。反応液に飽和重炭酸
ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出する。有
機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶
媒を留去する。残渣をアセトン−エタノールから再結晶
して目的物0.4gを得る。融点193〜198℃ 特許出願人 大日本製薬株式会社 代 理 人 小 島 −兄弟1頁の続き
ホリン−1,1−ジオキシド−2−イル)メヂル]−5
−クロロー2−エトキシベンズアミドの製造: 4−アミノ−N −[(4−ベンジル−1,4−チオモ
ルホリン−2−イル)メチルゴー5−クロI′j−2−
エトキシベンズアミド0.5gを塩化メチレン10■I
に溶解し、水冷下m−クロロ過安息香酸0.45gを加
え、室温に戻し17時間撹拌する。反応液に飽和重炭酸
ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出する。有
機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶
媒を留去する。残渣をアセトン−エタノールから再結晶
して目的物0.4gを得る。融点193〜198℃ 特許出願人 大日本製薬株式会社 代 理 人 小 島 −兄弟1頁の続き
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1はアルキル基又は非置換もしくは置換ア
リール(低級)アルキル基を意味し、R_2はヒドロキ
シ基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基,シクロアル
キルオキシ基又は置換基を有するアルコキシ基(該置換
基はハロゲン原子、ヒドロキシ基又はオキソ基である)
を意味し、R_3はアミノ基、ジ置換アミノ基又はアシ
ルアミノ基を意味し、R^4はハロゲン原子を意味する
か、あるいはR_3とR_4が一緒になって−NH−N
=N−を形成してもよく、R_5は水素原子又は低級ア
ルキル基を意味し、Xは単結合又は低級アルキレン基を
意味し、Yは単結合、−CH_2−、−O−、−S−、
▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります
▼(R_6は低級アルキル基又は非置換もしくは置換ア
リール(低級)アルキル基を意味するか、あるいはR_
1と一緒になってエチレン基を形成してもよい)を意味
し、nは0又は1を意味し、破線はYが−CH_2−で
nが0であるときに場合により存在する二重結合を意味
する。但し、(i)Yが単結合であるとき、nは0を意
味し、(ii)Yが−O−であるとき、nは1を意味し
、(iii)Yが単結合又は−CH_2−であるとき、
R_1は非置換もしくは置換アリール(低級)アルキル
基を意味し、(iv)nが0であるとき、Xは低級アル
キレン基を意味する。] で表される安息香酸アミド誘導体及びその酸付加塩類。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27636987A JPH01117860A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 安息香酸アミド誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27636987A JPH01117860A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 安息香酸アミド誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01117860A true JPH01117860A (ja) | 1989-05-10 |
Family
ID=17568472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27636987A Pending JPH01117860A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 安息香酸アミド誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01117860A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998007710A1 (en) * | 1996-08-23 | 1998-02-26 | Neurosearch A/S | Disubstituted morpholine, oxazepine or thiazepine derivatives, their preparation and their use as dopamine d4 receptor antagonists |
| EP0873990A4 (ja) * | 1995-09-22 | 1998-12-02 | ||
| US6166015A (en) * | 1998-11-20 | 2000-12-26 | Syntex (U.S.A.) Inc. | Pyrrolidine derivatives-CCR-3 receptor antagonists |
-
1987
- 1987-10-30 JP JP27636987A patent/JPH01117860A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0873990A4 (ja) * | 1995-09-22 | 1998-12-02 | ||
| WO1998007710A1 (en) * | 1996-08-23 | 1998-02-26 | Neurosearch A/S | Disubstituted morpholine, oxazepine or thiazepine derivatives, their preparation and their use as dopamine d4 receptor antagonists |
| US6207662B1 (en) | 1996-08-23 | 2001-03-27 | Neurosearch A/S | Disubstituted morpholine, oxazepine or thiazepine derivatives, their preparation and their use as dopamine D4 receptor antagonists |
| US6479491B1 (en) | 1996-08-23 | 2002-11-12 | Neurosearch A/S | Disubstituted morpholine, oxazepine or thiazepine derivatives, their preparation and their use as dopamine d4 receptor antagonists |
| US6166015A (en) * | 1998-11-20 | 2000-12-26 | Syntex (U.S.A.) Inc. | Pyrrolidine derivatives-CCR-3 receptor antagonists |
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